KR20040106294A

KR20040106294A - 화장 조성물내의 테르페노이드의 안정화

Info

Publication number: KR20040106294A
Application number: KR10-2004-7014630A
Authority: KR
Inventors: 주디스 린 케르쉬너; 아더 레이 러브; 마이클 제임스 바라트
Original assignee: 유니레버 엔.브이.
Priority date: 2002-03-22
Filing date: 2003-03-13
Publication date: 2004-12-17
Also published as: KR100959717B1; AU2003208708A1; US6858217B2; US20030185867A1; BR0307541B1; BR0307541A; WO2003080011A1; CN1642523B; JP2005526093A; MXPA04008843A; CN1642523A

Abstract

4-치환된 레조르시놀 유도체와 함께 테르페노이드를 함유하는 화장 조성물은 개선된 저장 안정성 및 산화적 안정성을 나타낸다.

Description

화장 조성물내의 테르페노이드의 안정화{STABILIZATION OF TERPENOIDS IN COSMETIC COMPOSITIONS}

테르펜은 천연적으로, 주로 에센셜 오일의 구성성분으로서 식물에 널리 존재한다. 많은 테르펜은 탄화수소이지만, 알콜, 알데히드 또는 케톤과 같은 산소-함유 화합물(테르페노이드)도 발견된다. 그의 구성단위는 탄화수소 이소프렌, 즉 CH₂=C(CH₃)-CH=CH₂(이소프렌 법칙, 왈라치(Wallach) 1887)이다. 따라서 테르펜 탄화수소는 화학식 (C₅H₈)_n을 가지며, 이소프렌 단위의 개수에 따라 다음과 같이 분류된다:

이소프렌 단위의 개수

모노테르펜 2

세스퀴테르펜 3

디테르펜 4

트리테르펜 6

테트라테르펜 8

모노테르펜의 예는 피넨, 네롤, 시트랄, 캄포르, 제라니올, 리모넨이다. 세스퀴테르펜의 예는 네롤리돌, 파르네솔이다. 디테르펜의 예는 비타민 A₁(레티놀)이다. 스쿠알렌은 트리테르펜의 예이고, 카로텐(프로비타민 A₁)은 테트라테르펜이다.

"테르페노이드"라는 용어는, 본 발명에서는, 하나 이상의 C₅H₈탄화수소 단위를 갖고 그의 화학구조내에 하나 이상의 불포화 결합을 갖는 테르펜 및 그의 유도체를 말한다.

테르페노이드는 많은 산업, 특히 수지, 향수, 방향제 등에서 유용한 유기 화합물이다. 테르페노이드는 많은 향수 및 향료의 방향 원료이다. 방향 테르페노이드는 문헌[Arctander, S., Perfume and Flavour Chemicals, Vols. I and II, Allured Pub. Co. (1969)]에 개시되어 있고, 그 예는 암브레그리스 방향 화학물질, 자스몬, 머스크, 피란-유도체 및 산달우드 방향 화학물질을 포함한다.

향수 또는 방향 원료의 혼합물은 표면에 침착되거나 화장 조성물에 첨가되면 강도를 손실하며, 많은 요인에 의해 시간의 경과에 따라 변질될 수 있다는 것이 잘 알려져 있다. 이러한 단점을 최소화하기 위해 많은 시도가 행해졌지만 아직까지 최소한의 성공이 달성되었다. 예를 들면, 가르들릭(Gardlick) 등의 미국특허 제 6,147,037 호는 인간 관리 용품에 향기를 지속적으로 또는 꾸준히 전달하는데 유용한 향기 전달 시스템에 관한 것이다.

향기 강도의 손실 또는 변질의 원인중 하나는 테르펜이 산화적으로 불안정하다는 것이다. 산화적 불안정성도는 불포화도, 또는 유기 화합물내 이중결합 또는 삼중결합의 개수에 따라 달라진다.

산화적 불안정성은 테르페노이드에서 바람직하지 못한 특성이다. 따라서 테르페노이드를 산화에 대해 안정화시키는 성분이 필요하다. 특히, 화학구조내에 하나 이상의 이중결합을 갖는 테르페노이드의 산화를 방지하는 성분이 필요하다.

본 발명은 4-치환된 레조르시놀 유도체에 의해 안정화되는 테르페노이드를 함유하는, 개인 관리 및 개인 세정 제품에 사용하기 위한 화장 조성물에 관한 것이다.

따라서, 첫번째 양태에서, 본 발명은 (a) 불포화 테르페노이드 약 0.000001 내지 약 10%, (b) 4-치환된 레조르시놀 유도체 약 0.000001 내지 약 10%, 및 (c) 비히클 또는 담체를 포함하는 개인 관리 조성물을 제공한다.

적합한 4-치환된 레조르시놀 유도체는 4-선형 알킬 레조르시놀, 4-분지형 알킬 레조르시놀, 4-시클로알킬 레조르시놀 및 이들의 혼합물을 포함한다. 바람직한 레조르시놀 유도체는 4-에틸 레조르시놀, 4-이소프로필 레조르시놀, 4-부틸 레조르시놀, 4-시클로펜틸 레조르시놀, 4-시클로헥실 레조르시놀, 및 이것의 아실화 형태이다.

본 발명의 조성물은 외관이 우수하고, 개선된 저장/산화적 안정성을 갖는다.

본원에서 사용된 "화장 조성물"이란 인간 피부에 국소적으로 도포되는 조성물로서, 리브-온(leave-on) 및 워시-오프(wash-off) 제품을 포함한다.

본원에서 사용된 "피부"란 얼굴, 목, 가슴, 등, 팔, 겨드랑이, 손, 다리 및 두피상의 피부를 포함한다.

본원에서 사용된 "불포화"란 용어는 올레핀 또는 알킨과 같이, 이중결합 또는 삼중결합을 갖는 유기 화합물을 기술할 때 사용된다.

"방향제"란 좋은 향, 냄새, 향취, 또는 향기를 부여하도록 1종, 바람직하게는 2종 이상의 방향 원료가 인위적으로 조합된 것을 말한다.

실시예를 제외하고, 또는 달리 언급이 없는 한, 물질의 양 또는 반응 조건, 물질의 물성 및/또는 용법을 가리키는 본 명세서의 모든 숫자는 "약"이라는 단어에 의해 수식되는 것으로 이해해야 한다. 모든 양은, 달리 언급이 없는 한, 조성물의 중량 기준이다.

의심할 여지를 피하기 위해서, "포함하는"이라는 단어는, 포함하지만 반드시 그것으로 이루어지거나 구성될 필요는 없음을 뜻한다. 달리 말하자면, 열거된 단계 또는 선택사항이 전부일 필요는 없다 .

본 발명의 발명자들은, 본 발명에 이르러, 4-치환된 레조르시놀 유도체가 불포화 테르페노이드의 산화를 억제한다는 것을 발견하게 되었다. 바람직하게는, 본 발명에 따르면, 4-치환된 레조르시놀은 화장 조성물에 첨가된 불포화 테르페노이드를 안정화시키는데 사용된다.

레조르시놀 유도체는 공지된 화합물이며, 이를 용이하게 제조하려면, 예를 들면 포화 카르복실산과 레조르시놀을 염화아연의 존재하에서 축합시키고, 이렇게 얻어진 축합물을 징크 아말감/염산으로써 환원시키는 방법(문헌[Lille.J.Bitter, LA.Peiner V, Tr.Nauch-Issled. Inst. slantsev 1969, No.18, 127]), 또는 레조르시놀과 상응하는 알킬 알콜을 200 내지 400℃의 고온에서 알루미나 촉매의 존재하에서 반응시키는 방법(영국특허 제 1,581,428 호)을 사용한다.

본 발명의 조성물은 일반적으로 불포화 테르페노이드 약 0.000001 내지 약 50%, 및 4-치환된 레조르시놀 약 0.000001 내지 약 50%를 함유한다. 본 발명의 조성물의 특별한 장점은 테르페노이드가 4-치환된 레조르시놀에 의해 산화에 대해 안정화될 수 있다는 점이다.

테르페노이드는, 본 발명에서는, 하나 이상의 C₅H₈탄화수소 단위를 갖고, 그 화학구조내에 하나 이상의 불포화 결합을 갖는 테르펜 및 그의 유도체이다. 방향 테르페노이드는 바우어 K(Bauer, K.) 등의 문헌[Common Fragrance and Flavor Materials, VCH Publishers(1990)]에 기술되어 있다.

본 발명의 화장 조성물에 첨가될 수 있는 테르페노이드는 비고리형 테르페노이드, 고리형 테르페노이드, 및 테르페노이드와 구조적으로 관련있는 지환족 화합물의 세 군으로 분류된다.

이러한 각각의 세 군에 속하는 테르펜 유도체는 알콜, 에테르, 알데히드, 아세탈, 산, 케톤, 에스테르, 및 질소 또는 황과 같은 헤테로원자를 함유하는 테르펜 화합물을 포함한다.

본 발명의 화장 조성물에 첨가될 수 있는 테르페노이드의 예는 하기 표에 명시되어 있다.

비고리형 테르페노이드

탄화수소
미르센
오시멘
베타-파르네센
알콜
디히드로미르세놀	(2,6-디메틸-7-옥텐-2-올)
제라니올	(3,7-디메틸-트란스-2,6-옥타디엔-1-올)
네롤	(3,7-디메틸-시스-2,6-옥타디엔-1-올)
리날룰	(3,7-디메틸-1,6-옥타디엔-3-올)
미르세놀	(2-메틸-6-메틸렌-7-옥텐-2-올)
라반둘롤
시트로넬롤	(3,7-디메틸-6-옥텐-1-올)
트란스-트란스-파르네솔	(3,7,11-트리메틸-2,6,10-도데카트리엔-1-올)
트란스-네롤리돌	(3,7,11-트리메틸-1,6,10-도데카트리엔-3-올)
알데히드 및 아세탈
시트랄	(3,7-디메틸-2,6-옥타디엔-1-알)
시트랄 디에틸 아세탈	(3,7-디메틸-2,6-옥타디엔-1-알디에틸 아세탈)
시트로넬랄	(3,7-디메틸-6-옥텐-1-알)
시트로넬릴옥시아세트알데히드
2,6,10-트리메틸-9-운데케날
케톤
타게톤
솔라논
제라닐아세톤	(6,10-디메틸-5,9-운데카디엔-2-온)
산 및 에스테르
시스-제란산
시트로넬산
제라닐 에스테르	예: 제라닐 포르메이트, 제라닐 아세테이트, 제라닐 프로피오네이트, 제라닐 이소부티레이트, 제라닐 이소발레레이트
네릴 에스테르	예: 네릴 아세테이트
리날릴 에스테르	예: 리날릴 포르메이트, 리날릴 아세테이트, 리날릴 프로피오네이트, 리날릴 부티레이트, 리날릴 이소부티레이트
라반둘릴 에스테르	예: 라벤둘릴 아세테이트
시트로넬릴 에스테르	예: 시트로넬릴 포르메이트, 시트로넬릴 아세테이트, 시트로넬릴 프로피오네이트, 시트로넬릴 이소부티레이트, 시트로넬릴 이소발레레이트, 시트로넬릴 티글레이트
질소-함유 불포화 테르펜 유도체
시스-제란산 니트릴
시트로넬산 니트릴

고리형 테르페노이드

탄화수소
리모넨	(1,8-p-멘타디엔)
알파-테르피넨
감마-테르피넨	(1,4-p-멘타디엔)
테르피놀렌
알파-펠란드렌	(1,5-p-멘타디엔)
베타-펠란드렌
알파-피넨	(2-피넨)
베타-피넨	(2(10)-피넨)
캄펜
3-카렌
카리오필렌
(+)-발렌센
투좁센
알파-세드렌
베타-세드렌
론지폴렌
알콜 및 에테르
(+)-네오이소-이소풀레골
이소풀레골	(8-p-멘텐-3-올)
알파-테르피네올	(1-p-멘텐-8-올)
베타-테르피네올
감마-테르피네올
델타-테르피네올
1-테르피넨-4-올	(1-p-멘텐-4-올)
알데히드 및 케톤
카르본	(1,8-p-멘타디엔-6-온)
알파-이오논	(C₁₃H₂₀O)
베타-이오논	(C₁₃H₂₀O)
감마-이오논	(C₁₃H₂₀O)
알파-, 베타-, 감마-이론	(C₁₄H₂₂O)
알파-, 베타-, 감마-n-메틸이오논	(C₁₄H₂₂O)
알파-, 베타-, 감마-이소메틸이오논	(C₁₄H₂₂O)
알릴이오논	(C₁₆H₂₄O)
슈도이오논
n-메틸슈도이오논
이소메틸슈도이오논
다마스콘	1-(2,6,6-트리메틸시클로헥세닐)-2-부텐-1-온
베타-다마스콘	1-(2,6,6-트리메틸-1,3-시클로하디에닐)-2-부텐-1-온
누트카톤	5,6-디메틸-8-이소프로페닐비시클로[4.4.0]-1-데켄-3-온
세드릴 메틸 케톤	(C₁₇H₂₆O)
에스테르
알파-테르피닐 아세테이트	(1-p-멘탄-8-일 아세테이트)
노필 아세테이트	(-)-2-(6,6-디메틸비시클로[3.1.1]헵트-2-엔-2-일)에틸 아세테이트
쿠시밀 아세테이트

테르펜과 구조적으로 관련있는 지환족 화합물

알콜
5-(2,2,3-트리메틸-3-시클로펜텐-1-일)-3-메틸펜탄-2-올
알데히드
2,4-디메틸-3-시클로헥센 카르복스알데히드
4-(4-메틸-3-펜텐-1-일)-3-시클로헥센 카르복스알데히드
4-(4-히드록시-4-메틸펜틸)-3-시클로헥센 카르복스알데히드
케톤
시베톤
디히드로자스몬	(3-메틸-2-펜틸-2-시클로펜텐-1-온)
시스-자스몬	3-메틸-2-(2-시스-펜텐-1-일)-2-시클로펜텐-1-온
5-시클로헥사데켄-1-온
2,3,8,8-테트라메틸-1,2,3,4,5,6,7,8-옥타히드로-2-나프탈레닐 메틸 케톤
3-메틸-2-시클로펜텐-2-올-1-온
에스테르
4,7-메타노-3a,4,5,6,7,7a-헥사히드로-5(또는 6)-인데닐 아세테이트
알릴 3-시클로헥실프로피오네이트
메틸 디히드로자스모네이트 메틸 (3-옥소-2-펜틸시클로펜틸) 아세테이트

바람직하게는, 화장 조성물내 테르페노이드의 양은 약 0.000001 내지 약 10 중량%, 더욱 바람직하게는 약 0.00001 내지 약 5 중량%, 가장 바람직하게는 약 0.0001 내지 약 2 중량%이다.

전술된 바와 같이, 향기 강도의 손실 또는 변질의 원인중 하나는 불포화 테르펜이 산화적으로 불안정하다는 것이다.

유효 성분으로서 하기 화학식 I의 4-치환된 레조르시놀 유도체를 포함하는 산화방지제를 사용함으로써, 본 발명의 조성물의 안정성을 달성한다.

R₁및 R₂는 각각 독립적으로 수소 원자, -CO-R(아실기), -COO-R 또는 CONHR이고, 후자의 세 기는 각각 하기 화학식 A로 나타내어진다.

상기 식에서, R은 포화 또는 불포화, 선형, 분지형 또는 고리형 C₁-C₁₈탄화수소이다. 바람직한 실시양태에서, R₁와 R₂중 하나 또는 둘 다는 수소이다. 보다 바람직한 실시양태에서는, R₁과 R₂둘 다가 수소이다.

R₃는 (1) 포화 또는 불포화, 선형, 분지형 또는 고리형 C₁-C₁₈탄화수소, 바람직하게는 C₂-C₁₂탄화수소, 또는 (2) 하기 화학식 II의 기(X와 n은 나중에 정의될 것임)이다.

상기 화학식 I에서, R₃로서 나타내어지고 탄소 원자를 바람직하게는 2 내지 12개 갖는 선형 또는 분지형 기는 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기, 노닐기, 데실기, 운데실기 및 도데실기를 포함할 수 있다. 이러한 선형 알킬기의 하나 이상의 수소 원자는 메틸기 또는 에틸기로 치환될 수 있다.치환된 알킬기의 구체적인 예는 이소프로필기, 이소부틸기, 이소아밀기 또는 2-메틸헥실기 등을 포함한다. 바람직한 알킬기는 R₃가 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 펜틸, 헥실, 헵틸 또는 옥틸 기인 것이다. 가장 바람직한 알킬 레조르시놀은 R₃가 에틸, 이소프로필, 부틸 또는 헥실 기인 것이다.

R₃가 상기 화학식 II로서 나타내어지는 화학식 I의 레조르시놀 유도체의 경우, 레조르시놀 유도체는 본원에서는 4-시클로알킬 레조르시놀이며, 이것은 하기 화학식 III로 나타내어진다.

상기 화학식 III 뿐만 아니라 전술된 화학식 II에서,

X는 수소; OR¹(여기서 R¹은 수소, (C₁-C₆)알킬 또는 아릴-(C₁-C₆)알킬이다); OCOR²(여기서 R²는 (C₁-C₆)알킬, 아릴-(C₁-C₆)알킬 또는 페닐이다); 할로겐; (C₁-C₆)알킬; 아릴-(C₁-C₆)알킬 또는 아릴-(C₁-C₆)알킬; 또는 NHR¹(여기서 R¹은 위에서 정의된 바와 같다)이고,

n은 구조가 5, 6, 7 또는 8원 고리가 되게 하는 0 내지 3이고,

점선은 그 위치에서의 임의적 이중결합을 나타낸다.

4-시클로알킬 레조르시놀의 보다 구체적인 실시양태의 예는 (a) 점선상의 두 탄소 원자가 단일결합에 의해 연결된 화학식 III의 화합물; (b) n이 1인 화학식 III의 화합물; (c) X가 수소인 화학식 III의 화합물; (d) X가 수소, 메틸 또는 에틸인 화학식 III의 화합물; (e) n이 0인 화학식 III의 화합물; (f) n이 2인 화학식 III의 화합물; 및 (g) X가 벤질옥시인 화학식 III의 화합물을 포함한다.

화학식 III의 바람직한 화합물은 4-시클로펜틸레조르시놀, 4-시클로헥실 레조르시놀, 4-시클로헵틸 레조르시놀, 및 4-시클로옥틸 레조르시놀이다. 화학식 III의 가장 바람직한 화합물은 4-시클로헥실레조르시놀 및 4-시클로펜틸레조르시놀이다.

불포화 테르페노이드의 산화를 억제하는데 효과적인 4-치환된 레조르시놀 유도체의 양은 실험에 의해 결정될 수 있다. 불포화 테르페노이드와 4-치환된 레조르시놀 유도체는 조성물내에 1:10000 내지 10000:1, 바람직하게는 1:1000 내지 1:5000, 더욱 바람직하게는 1:1 내지 1:1000의 테르펜:레조르시놀의 중량비로서 존재한다.

레조르시놀 유도체의 양은 화장 조성물의 총량의 약 0.00001 내지 약 10%, 바람직하게는 약 0.001 내지 약 7%, 가장 바람직하게는 약 0.01 내지 약 5%이다.

본 발명의 화장 조성물은 개인 관리 및 개인 세정 제품, 예를 들면 로션, 비누, 방취제 등에 사용될 수 있다. 본 발명의 조성물을 구성하는 테르피노이드 화합물 및 안정화제는 개인 관리 조성물에 첨가되는 경우 다른 유용한 기능을 가질 수 있다.

바람직한 개인 관리 조성물은 임의적이지만 바람직하게는 피부개선제를 포함하는, 인간 피부에 도포하기에 적합한 것이다. 적합한 피부 개선제는 노화방지제, 주름감소제, 피부미백제, 여드름방지제 및 피지감소제를 포함한다. 그 예는 알파-히드록시산 및 에스테르, 베타-히드록시산 및 에스테르, 폴리히드록시산 및 에스테르, 코즈산 및 에스테르, 페룰산 및 페룰레이트 유도체, 바닐산 및 에스테르, 디오산(예를 들면 세박산 및 아졸레산) 및 에스테르, 레티놀, 레티날, 레티닐 에스테르, 히드로퀴논, t-부틸 히드로퀴논, 뽕나무 추출물, 감초 추출물, 및 전술된 4-치환된 레조르시놀 유도체 외의 레조르시놀 유도체를 포함한다(이렇게 해서 산화적 테르페노이드 안정성을 제공하는 기능 뿐만 아니라, 여드름, 피부 미백 또는 모발 치유와 같은 피부 개선 기능을 하기도 함).

화장품학적으로 허용가능한 비히클은, 조성물이 피부에 도포될 때 피부 개선 성분의 분배를 용이하게 하기 위해, 조성물내 피부 개선 성분을 위한 희석제, 분산제 또는 담체로서 작용할 수 있다.

비히클은 수성이거나, 무수물 또는 유화액일 수 있다. 바람직하게는 조성물은 수성이거나 유화액이며, 특히는 유중수적형 유화액 또는 수중유적형 유화액, 바람직하게는 수중유적형 유화액이다. 물이 존재하는 경우, 물은 5 내지 99 중량%, 바람직하게는 20 내지 70 중량%, 가장 바람직하게는 40 내지 70 중량%일 수 있는양으로 존재할 것이다.

물 외에도, 비교적 휘발성인 용매도 본 발명의 조성물내에서 담체로서 작용할 수 있다. 가장 바람직한 것은 1가 C₁-C₃알칸올이다. 이는 에틸 알콜, 메틸 알콜 및 이소프로필 알콜을 포함한다. 1가 알칸올의 양은 1 내지 70 중량%, 바람직하게는 10 내지 50 중량%, 가장 바람직하게는 15 내지 40 중량%일 수 있다.

연화제 물질은 화장품학적으로 허용가능한 담체로서 작용할 수 있다. 이것은 실리콘유 및 합성 에스테르 형태일 수 있다. 연화제의 양은 0.1 내지 50 중량%, 바람직하게는 1 내지 20 중량%일 수 있다.

실리콘유는 휘발성 및 비휘발성으로 분류될 수 있다. 본원에서 사용된 "휘발성"이라는 용어는 상온(25℃)에서 측정가능한 증기압을 갖는 물질을 말한다. 휘발성 실리콘유는 바람직하게는, 규소 원자를 3 내지 9개, 바람직하게는 4 내지 5개 함유하는 고리형 또는 선형 폴리디메틸실록산 중에서 선택된다. 선형 휘발성 실리콘 물질은 일반적으로 25℃에서 약 5 센티스토크 미만의 점도를 갖는 반면에, 고리형 물질은 전형적으로 약 10 센티스토크 미만의 점도를 갖는다. 연화제 물질로서 유용한 비휘발성 실리콘유는 폴리알킬 실록산, 폴리알킬아릴 실록산 및 폴리에테르 실록산 공중합체를 포함한다. 본원에서 유용한, 본질적으로 비휘발성인 폴리알킬 실록산은 예를 들면 25℃에서 약 5 내지 약 25,000,000 센티스토크의 점도를 갖는 폴리디메틸 실록산을 포함한다. 본 발명의 조성물에서 유용한, 바람직한 비휘발성 연화제는, 25℃에서 약 10 내지 약 400 센티스토크의 점도를 갖는 폴리디메틸 실록산이다.

적합한 에스테르 연화제는, (1) 탄소 원자를 10 내지 20개 갖는 지방산의 알케닐 또는 알킬 에스테르, 예를 들면 이소아라키딜 네오펜타노에이트, 이소노닐 이소나노노에이트, 올레일 미리스테이트, 올레일 스테아레이트 및 올레일 올레에이트; (2) 에테르-에스테르, 예를 들면 에톡실화 지방 알콜의 지방산 에스테르; (3) 다가 알콜 에스테르, 예를 들면 에틸렌 글리콜 모노- 및 디-지방산 에스테르, 디에틸렌 글리콜 모노- 및 디-지방산 에스테르, 폴리에틸렌 글리콜(200 내지 6000) 모노- 및 디-지방산 에스테르, 프로필렌 글리콜 모노- 및 디-지방산 에스테르, 폴리프로필렌 글리콜 2000 모노올레에이트, 폴리프로필렌 글리콜 2000 모노스테아레이트, 에톡실화 프로필렌 글리콜 모노스테아레이트, 글리세릴 모노- 및 디-지방산 에스테르, 폴리글리세롤 폴리-지방 에스테르, 에톡실화 글리세릴 모노스테아레이트, 1,3-부틸렌 글리콜 모노스테아레이트, 1,3-부틸렌 글리콜 디스테아레이트, 폴리옥시에틸렌 폴리올 지방산 에스테르, 소르비탄 지방산 에스테르, 및 폴리옥시에틸렌 소르비탄 지방산 에스테르; (4) 왁스 에스테르, 예를 들면 밀랍, 경랍, 미리스틸 미리스테이트, 스테아릴 스테아레이트 및 아라키딜 베헤네이트; 및 (5) 스테롤 에스테르, 예를 들면 콜레스테롤 지방산 에스테르이다.

탄소 원자를 10 내지 30개 갖는 지방산도 본 발명의 조성물을 위한 화장품학적으로 허용가능한 담체로서 포함될 수 있다. 이러한 범주의 예는 펠라르곤산, 라우르산, 미리스트산, 팔미트산, 스테아르산, 이소스테아르산, 히드록시스테아르산, 올레산, 리놀레산, 리시놀레산, 아라키드산, 베헨산 및 에룩산이다.

다가 알콜형 습윤제도 본 발명의 조성물에 화장품학적으로 허용가능한 담체로서 사용될 수 있다. 습윤제는 연화제의 효과를 증가시키고, 피부 건조를 감소시키고, 피부 촉감을 개선하는 것을 돕는다. 전형적인 다가 알콜은 글리세롤, 폴리알킬렌 글리콜, 더욱 바람직하게는 알킬렌 폴리올 및 그의 유도체, 예를 들면 프로필렌 글리콜, 디프로필렌 글리콜, 폴리프로필렌 글리콜, 폴리에틸렌 글리콜 및 그의 유도체, 소르비톨, 히드록시프로필 소르비톨, 헥실렌 글리콜, 1,3-부틸렌 글리콜, 1,2,6-헥산트리올, 에톡실화 글리세롤, 프로폭실화 글리세롤 및 그의 혼합물을 포함한다. 습윤제의 양은 조성물의 0.5 내지 30 중량%, 바람직하게는 1 내지 15 중량%일 수 있다.

증점제도 본 발명에 따르는 조성물의 화장품학적으로 허용가능한 담체의 일부로서 사용될 수 있다. 전형적인 증점제는 가교된 아크릴레이트(예를 들면 카르보폴(Carbopol) 982), 소수성으로 개질된 아크릴레이트(예를 들면 카르보폴 1382), 셀룰로스 유도체 및 천연 고무를 포함한다. 유용한 셀룰로스 유도체는 소디움 카르복시메틸셀룰로스, 히드록시프로필 메틸셀룰로스, 히드록시프로필 셀룰로스, 히드록시에틸 셀룰로스, 에틸 셀룰로스 및 히드록시메틸 셀룰로스이다. 본 발명에 적합한 천연 고무는 구아, 잔탄, 스클레로티움, 카라기난, 펙틴 및 이러한 고무들의 조합을 포함한다. 증점제의 양은 0.0001 내지 5 중량%, 통상적으로는 0.001 내지 1 중량%, 가장 바람직하게는 0.01 내지 0.5 중량%일 수 있다.

물, 용매, 실리콘, 에스테르, 지방산, 습윤제 및/또는 증점제는 공동으로, 전형적으로는 1 내지 99.9 중량%, 바람직하게는 80 내지 99 중량%의 양으로 화장품학적으로 허용가능한 담체를 구성할 것이다.

오일 또는 유성 물질이 유화제와 함께 존재함으로써, 유중수적형 유화액 또는 수중유적형 유화액을 제공할 수 있는데, 이는 사용된 유화제의 평균 친수성-친유성 비(HLB)에 많이 의존한다.

계면활성제도 본 발명의 화장 조성물에 존재할 수 있다. 리브-온 제품의 경우, 계면활성제의 총 농도는 조성물의 0.1 내지 40 중량%, 바람직하게는 1 내지 20 중량%, 가장 바람직하게는 1 내지 5 중량%일 것이다. 클렌저 및 비누와 같은 워시-오프 제품의 경우, 계면활성제의 총 농도는 약 1 내지 약 90%일 것이다. 계면활성제는 음이온성, 비이온성, 양이온성 및 양쪽성 계면활성제로 이루어진 군에서 선택될 수 있다.

특히 바람직한 비이온성 계면활성제는 소수기 1몰당 2 내지 100 몰의 에틸렌 옥사이드 또는 프로필렌 옥사이드와 축합된 C₁₀-C₂₀지방 알콜 또는 산 소수기를 갖는 것; 알킬렌 옥사이드 2 내지 20몰과 축합된 C₂-C₁₀알킬 페놀; 에틸렌 글리콜의 모노- 및 디-지방산 에스테르; 지방산 모노글리세리드; 소르비탄, 모노- 및 디-C₈-C₂₀지방산; 블록 공중합체(에틸렌 옥사이드/프로필렌 옥사이드); 및 폴리옥시에틸렌 소르비탄 및 이들의 조합이다. 알킬 폴리글리코시드 및 사카라이드 지방 아미드(예를 들면 메틸 글루콘아미드)도 적합한 비이온성 계면활성제이다.

바람직한 음이온성 계면활성제는 비누, 알킬 에테르 술페이트 및 술포네이트, 알킬 술페이트 및 술포네이트, 알킬벤젠 술포네이트, 알킬 및 디알킬 술포숙시네이트, C₈-C₂₀아실 이세티오네이트, 아실 글루타메이트, C₈-C₂₀알킬 에테르 포스페이트 및 이들의 조합을 포함한다.

본 발명의 화장 조성물은 임의적으로 발포성(lathering) 계면활성제를 함유한다. "발포성 계면활성제"란 물과 혼합되고 기계적으로 교반되면 기포 또는 거품을 발생시키는 계면활성제를 뜻한다. 바람직하게는 발포성 계면활성제는 순해야 하는데, 이는 이것이 충분한 세정 또는 세척 효과를 제공해야 하지만, 피부를 지나치게 건조하게 해서는 안 되며, 그러면서도 전술된 발포 기준을 만족시켜야 한다는 것을 뜻한다. 본 발명의 화장 조성물은 발포성 계면활성제를 약 0.01 내지 약 50%의 농도로 함유할 수 있다.

통상적으로 사용되는 화장 기재(base)에 자외선 흡수제, 자외선 확산제, 전형적으로는 미분된 산화티탄, 다양한 기타 가소제, 탄성중합체, 칼라민, 안료, 산화방지제, 킬레이트제 및 향료가 첨가될 수 있다.

기타 부가적인 보조 성분들도 본 발명의 화장 조성물에 첨가될 수 있다. 이러한 성분들은 착색제, 불투명화제 및 향료를 포함할 수 있다. 이러한 기타 부가적인 보조 성분들의 양은 조성물의 0.001 내지 20 중량%일 수 있다.

다음의 구체적인 실시예는 본 발명을 추가로 설명하지만, 본 발명을 실시예로만 한정하지는 않는다. 모든 실시예에서, 테르페노이드는 알드리치 케미칼즈(Aldrich Chemicals)에서 구입된 것이었다.

실시예 1

본 발명의 범위에 속하는 화장 조성물들을 제조하였다.

하기 표에 명시된 기본 배합물을 만들기 위해, 상 A 성분을 교반하면서 70 내지 85℃로 가열하였다. 상 B 성분을 별도의 용기에서 교반하면서 70 내지 85℃로 가열하였다. 이어서 상 A와 상 B를 70 내지 85℃로 유지하면서, 상 A를 상 B에 첨가하였다. 이 혼합물을 70 내지 85℃에서 15분 이상 동안 교반한 후, 냉각시켰다. 상 C 성분을 50℃에서 첨가한 후, 상 D 성분을 40℃에서 첨가하였다.

기본 배합물을 하기 표 4에 명시하였다.

성분	a(중량%)	b(중량%)	상
이소스테아릴 팔미테이트	6.00	6.00	A
C₁₂-C₁₅알킬 옥타노에이트	3.00	3.00	A
PEG-100 스테아레이트	2.00	2.00	A
글리세릴 히드록시스테아레이트	1.50	1.50	A
스테아릴 알콜	1.50	1.50	A
스테아르산	3.00	4.00	A
TEA, 99%	1.20	1.20	B
디메티콘	1.00	1.00	A
소르비탄 모노스테아레이트	1.00	1.00	A
마그네슘 알루미늄 실리케이트	0.60	0.60	B
비타민 E 아세테이트	0.10	0.10	A
콜레스테롤	0.50	0.50	A
시메티콘	0.01	0.01	B
잔탄 고무	0.20	0.20	B
히드록시에틸셀룰로스	0.50	0.50	B
프로필파라벤	0.10	0.10	A
디소디움 EDTA	0.05	0.05	B
(테르페노이드 외의)방향 성분	0.50	0.50	D
니아시나미드	0.05	0.05	C
BHT	0.10	0.10	C
4-에틸 레조르시놀	0.05	2.00	C
산탈랄(테르페노이드)	0.0005	0.001	D
메틸 파라벤	0.15	0.15	B
물	BAL	BAL	B
합계	100.00	100.00	B

실시예 2

본 발명의 범위에 속하는 추가의 화장 조성물을 제조하였다.

	중량%	상
물, DI	BAL	A
디소디움 EDTA	0.05	A
마그네슘 알루미늄 실리케이트	0.6	A
메틸 파라벤	0.15	A
시메티콘	0.01	A
부틸렌 글리콜 1,3	3.0	A
히드록시에틸셀룰로스	0.5	A
글리세린, USP	2.0	A
잔탄 고무	0.2	A
트리에탄올아민	1.2	B
스테아르산	3.0	B
프로필 파라벤 NF	0.1	B
글리세릴 히드록시스테아레이트	1.5	B
스테아릴 알콜	1.5	B
이소스테아릴 팔미테이트	6.0	B
C₁₂-C₁₅알콜 옥타노에이트	3.0	B
디메티콘	1.0	B
콜레스테롤 NF	0.5	B
소르비탄 스테아레이트	1.0	B
비-테르페노이드 방향 성분	1.0	B
토코페릴 아세테이트	0.1	B
PEG-100 스테아레이트	2.0	B
소디움 스테아로일 락틸레이트	0.5	B
히드록시카프릴산	0.1	C
4-시클로헥실 레조르시놀	10.0	C
리날룰	0.001	D
BHT	0.10	C
니아시나미드	0.05	C
알파-비스아볼롤	0.2	C

실시예 2의 조성물을 다음과 같이 제조하였다.

1. 상 A를 혼합하면서 80℃로 가열하였다.

2. 상 B를 별도의 용기에서 혼합하면서 75℃로 가열하였다.

3. 상 B를 상 A에 첨가하고, 혼합하면서 가열하여 15분 동안 70 내지 80℃로 유지하고, 이어서 불을 끄고 다시 15분 동안 계속 혼합하였다.

4. 50℃에서 상 C를 첨가하고 10분 동안 혼합하였다.

5. 40℃에서 상 D를 첨가하고 10분 동안 혼합하였다.

실시예 3 내지 10

본 발명의 범위에 속하는 일련의 추가의 조성물을 실시예 1의 방법으로 제조하고, 하기 표에 열거해 놓았다.

성분	상	실시예(중량%)
성분	상	3산 비누 기본 배합물	4	5	6	7	8	9	10
스테아르산	A	17.9	17.9	17.9	17.9	17.9	17.9	17.9	17.9
소디움 세테아릴 술페이트	A		2.2		1	1.5	2	3	2
미르즈(Myrj) 59	A			2	2	2	2	2	1
프로필파라벤	A	0.1	0.1	0.1	0.1	0.1	0.1	0.1	0.1
디소디움 EDTA	A	0.05	0.05	0.05	0.05	0.05	0.05	0.05	0.05
스판(Span) 60	A			2	2	2	2	2	1
BHT	C	0.10	0.10	0.10	0.10	0.10	0.10	0.10	0.10
4-부틸 레조르시놀	C	0.05	0.05	2.0	2.0	3.5	3.5	5.0	10.0
리모넨과 리날룰의 혼합물	D	0.001	0.001	0.01	0.01	0.5	0.5	0.001	0.01
KOH, 22%	B	2.20
글리세린	B	1	1	1	1	1	1	1	1
메틸파라벤	B	0.15	0.15	0.15	0.15	0.15	0.15	0.15	0.15
물	B	BAL	BAL	BAL	BAL	BAL	BAL	BAL	BAL

실시예 11

저장시 테르페노이드의 손실 및 분해를 방지하는 레조르시놀의 효과를 결정하기 위해서, 전형적인 방향제의 테르페노이드 성분의 안정성을, 4-치환된 레조르시놀 유도체를 함유하는 개인 관리 배합물에서 시험하였다. BHT(표준 산화방지제), 치환되지 않은 레조르시놀, 4-에틸 레조르시놀 및 4-헥실 레조르시놀을 함유하는 표준 피부 관리 로션에서, 두 테르페노이드 성분인 리모넨 및 리날룰을 방향제의 일부로서 배합하였다. 전형적인 소비자 제품 저장 조건(40℃에서 5개월 및 실온[RT]의 일광에서 5개월)에서 저장시, 시간 경과에 따른 각 테르페노이드분자의 손실을 결정하기 위해서, 이러한 방향 성분의 안정성을 GC/HS 분석법으로 측정하였다. "산화방지제"를 함유하지 않는 표준 배합물내의 리모넨과 리날룰의 손실을, BHT, 치환되지 않은 레조르시놀 및 4-치환된 레조르시놀 유도체를 함유하는 배합물내의 물질의 손실과 직접 비교하였다. 배합물이 표 7에 명시되어 있으며, 안정성 데이타가 표 8에 명시되어 있다.

하기 표의 데이타와 관련해서, GC/HS 측정을 게르스텔 MPS2 헤드스페이스 샘플러(Gerstel MPS2 Headspace Sampler)를 사용하여 아질렌트(Agilent) 6890 GC/5973 MS에서 수행하였다. 샘플을 35℃에서 1시간 동안 둔 후, 샘플 위 헤드스페이스 2.50㎖를, 막 두께가 0.25㎛인 30m×0.25㎜ ID의 아질렌트 테크놀로지스 넘버 19091S-433, HP-5MS, 5% 페닐 메틸 실록산 칼럼에 주사하였다. GC 데이타를 두 방향 성분에 대해 피크 면적 카운트로서 기록한다.

하기 표의 배합물을 전술된 실시예 1의 방법에 따라 제조하였다.

피부 로션용 배합물

		#1	#2	#3	#4	#5
원료		중량%	중량%	중량%	중량%	중량%

스테아르산	A	17.90	17.90	17.90	17.90	17.90
세토스테아릴 알콜	A	0.53	0.53	0.53	0.53	0.53
디메티콘(DC200, 350cSt)	A	0.50	0.50	0.50	0.50	0.50
파르솔 MCX	A	1.25	1.25	1.25	1.25	1.25
파르솔 1789	A	0.40	0.40	0.40	0.40	0.40
프로필 파라벤	A	0.10	0.10	0.10	0.10	0.10

물	B	55.88	55.88	55.88	55.88	55.88
글리세린	B	1.00	1.00	1.00	1.00	1.00
EDTA	B	0.04	0.04	0.04	0.04	0.04
메틸 파라벤	B	0.20	0.20	0.20	0.20	0.20
KOH, 22%	B	2.20	2.20	2.20	2.20	2.20

방향제(리모넨 20% 및 리날룰 20%를 함유)	D	1.0	1.0	1.0	1.0	1.0

니아시나미드	C	1.00	1.00	1.00	1.00	1.00
BHT	C	0.10	-	-	-	-
4-에틸 레조르시놀	C	-	3.55	-	-	-
4-헥실 레조르시놀	C	-	-	5.00	-	-
레조르시놀	C	-	-	-	2.84	-
물		100%가 되게 하는 충분량	100%가 되게 하는 충분량	100%가 되게 하는 충분량	100%가 되게 하는 충분량	100%가 되게 하는 충분량

배합물내 리모넨 및 리날룰의 안정성

배합물#		초기 GC/HS	일광에서 5개월 GC/HS	% 손실	%안정화	40℃에서 5개월 GC/HS	%손실	%안정화
5	대조배합물
	리모넨	51812033	36654323	29.2		26830284	48.2
	리날룰	8109405	5054708	37.6		4878857	39.8

	BHT 샘플
	리모넨	38342803	32465677	15.3	48	26286287	31.7	35
	리날룰	6853529	4678449	31.4	16.5	4918953	28.2	29

2	4-에틸 레조르시놀
	리모넨	54736538	54753996	0	100	46790409	12.9	74
	리날룰	3288967	2650924	19.4	49	2292953	30.2	25

3	4-헥실 레조르시놀
	리모넨	40778538	34662250	7.7	84	3381932	18.5	72
	리날룰	2222930	1666185	7.5	80	1466948	10.2	75

4	레조르시놀
	리모넨	45478209	25743642	43.4	0	19260141	57.6	0
	리날룰	6088780	3856563	36.7	3	4286137	29.6	26

상기 표의 데이타를 보고 알 수 있듯이, 4-치환된 레조르시놀은, 테르페노이드 분자를 분해에 대해 안정화시키는데 있어서, BHT만큼 효과적이거나 어떤 경우에는 더 우수하며, 치환되지 않은 레조르시놀은 이러한 방향 성분들을 거의 내지 전혀 안정화시키지 못한다. 대부분의 경우, 산화방지제를 함유하지 않는 "대조" 배합물 또는 치환되지 않은 레조르시놀을 함유하는 대조 배합물은, 4-치환된 레조르시놀을 함유하는 배합물에 비해 리모넨 및/또는 리날룰을 2배나 더 많이 손실한다. 이 결과는 4-치환된 레조르시놀을 첨가하는 것이 테르페노이드 안정성에 분명히 추가적인 이점이 된다는 것을 보여준다.

본원에서 예시되고 기술된 본 발명의 구체적인 형태는 단지 대표적인 것일 뿐이라는 것을 알아야 한다. 본 명세서에서 제시된 것을 포함하나 거기에만 국한되지는 않는 변화를, 예시된 실시양태에, 개시 내용의 명백한 교시에서 벗어나지않게, 적용할 수 있다. 따라서, 본 발명의 완전한 범위를 결정하려면, 다음에 오는 청구의 범위를 참고해야 한다.

Claims

(a) 불포화 테르페노이드 약 0.000001 내지 약 10%, (b) 하기 화학식 I의 4-치환된 레조르시놀 유도체 약 0.000001 내지 약 10%, 및 (c) 화장품학적으로 허용가능한 비히클을 포함하는 개인 관리 조성물:

<화학식 I>

상기 식에서,

R₁및 R₂는 각각 독립적으로 수소 원자, -CO-R, -COO-R 및 CONHR(여기서, R은 C₁-C₁₈탄화수소이다)로 이루어진 군에서 선택되고,

R₃는 C₁-C₁₈탄화수소이거나, 하기 화학식 II로 나타내어진다.

<화학식 II>

상기 식에서,

X는 수소; OR¹(여기서 R¹은 수소, (C₁-C₆)알킬 또는 아릴-(C₁-C₆)알킬이다);OCOR²(여기서 R²는 (C₁-C₆)알킬, 아릴-(C₁-C₆)알킬 또는 페닐이다); 할로겐; (C₁-C₆)알킬; 아릴-(C₁-C₆)알킬 또는 아릴-(C₁-C₆)알킬; 또는 NHR¹(여기서 R¹은 위에서 정의된 바와 같다)이고,

n은 화학식 II의 구조가 5, 6, 7 또는 8원 고리가 되게 하는 0 내지 3이고,

점선은 임의적 이중결합을 나타낸다.
제 1 항에 있어서, 테르페노이드가 비고리형 테르페노이드, 고리형 테르페노이드, 테르페노이드와 구조적으로 관련있는 지환족 화합물 및 이들의 혼합물 중에서 선택되는 조성물.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 테르페노이드가 테르펜; 알콜, 알데히드, 아세탈, 케톤, 산, 에스테르, 및 질소 또는 황 중에서 선택된 헤테로원자를 함유하는 테르펜 화합물 중에서 선택된 테르펜 유도체; 및 이들의 혼합물을 포함하는 조성물.
제 2 항 또는 제 3 항에 있어서, 비고리형 테르페노이드가 미르센, 오시멘, 베타-파르네센, 디히드로미르세놀, 제라니올, 네롤, 리날룰, 미르세놀, 라반둘롤, 시트로넬롤, 트란스-트란스-파르네솔, 트란스-네롤리돌, 시트랄, 시트랄 디에틸 아세탈, 시트로넬랄, 시트로넬릴옥시아세트알데히드, 2,6,10-트리메틸-9-운데케날, 타게톤, 솔라논, 제라닐아세톤, 시스-제란산, 시트로넬산, 제라닐 포르메이트, 제라닐 아세테이트, 제라닐 프로피오네이트, 제라닐 이소부티레이트, 제라닐 이소발레레이트, 네릴 아세테이트, 리날릴 포르메이트, 리날릴 아세테이트, 리날릴 프로피오네이트, 리날릴 부티레이트, 리날릴 이소부티레이트, 라벤둘릴 아세테이트, 시트로넬릴 포르메이트, 시트로넬릴 아세테이트, 시트로넬릴 프로피오네이트, 시트로넬릴 이소부티레이트, 시트로넬릴 이소발레레이트, 시트로넬릴 티글레이트, 시스-제란산 니트릴, 시트로넬산 니트릴, 및 이들의 혼합물 중에서 선택되는 조성물.
제 2 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, 고리형 테르페노이드가, 리모넨, 알파-테르피넨, 감마-테르피넨, 테르피놀렌, 알파-펠란드렌, 베타-펠란드렌, 알파-피넨, 베타-피넨, 캄펜, 3-카렌, 카리오필렌, (+)-발렌센, 투좁센, 알파-세드렌, 베타-세드렌, 론지폴렌, (+)-네오이소-이소풀레골, 이소풀레골, 알파-테르피네올, 베타-테르피네올, 감마-테르피네올, 델타-테르피네올, 1-테르피넨-4-올, 카르본, 알파-이오논, 베타-이오논, 감마-이오논, 알파-이론, 베타-이론, 감마-이론, 알파-n-메틸이오논, 베타-n-메틸이오논, 감마-n-메틸이오논, 알파-이소메틸이오논, 베타-이소메틸이오논, 감마-이소메틸이오논, 알릴이오논, 슈도이오논, n-메틸슈도이오논, 이소메틸슈도이오논, 다마스콘, 베타-다마스세논, 누트카톤, 세드릴 메틸 케톤, 알파-테르피닐 아세테이트, 노필 아세테이트, 쿠시밀 아세테이트, 및 이들의 혼합물 중에서 선택되는 조성물.
제 2 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서, 테르페노이드와 구조적으로 관련있는 지환족 화합물이, 5-(2,2,3-트리메틸-3-시클로펜텐-1-일)-3-메틸펜탄-2-올, 2,4-디메틸-3-시클로헥센 카르복스알데히드, 4-(4-메틸-3-펜텐-1-일)-3-시클로헥센 카르복스알데히드, 4-(4-히드록시-4-메틸펜틸)-3-시클로헥센 카르복스알데히드, 시베톤, 디히드로자스몬, 시스-자스몬, 5-시클로헥사데켄-1-온, 2,3,8,8-테트라메틸-1,2,3,4,5,6,7,8-옥타히드로-2-나프탈레닐 메틸 케톤, 3-메틸-2-시클로펜텐-2-올-1-온, 4,7-메타노-3a,4,5,6,7,7a-헥사히드로-5(또는 6)-인데닐 아세테이트, 알릴 3-시클로헥실프로피오네이트, 메틸 디히드로자스모네이트 메틸 (3-옥소-2-펜틸시클로펜틸)아세테이트, 및 이들의 혼합물 중에서 선택되는 조성물.
제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서, 4-치환된 레조르시놀 유도체가 불포화 테르페노이드의 산화를 억제하는데 효과적인 양 이상으로 존재하는 조성물.
제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서, 4-치환된 레조르시놀이 4-선형 알킬 레조르시놀, 4-분지형 알킬 레조르시놀, 4-시클로알킬 레조르시놀, 및 이들의 혼합물 중에서 선택되는 조성물.
제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서, 4-치환된 레조르시놀이 4-메틸 레조르시놀, 4-에틸 레조르시놀, 4-프로필 레조르시놀, 4-부틸 레조르시놀, 4-펜틸 레조르시놀, 4-헥실 레조르시놀, 4-헵틸 레조르시놀, 4-옥틸 레조르시놀, 4-노닐 레조르시놀, 4-데실 레조르시놀, 4-시클로펜틸 레조르시놀, 4-시클로헥실 레조르시놀, 4-시클로헵틸 레조르시놀, 4-시클로옥틸 레조르시놀, 및 이들의 혼합물 중에서 선택된 조성물.
제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서, 알파-히드록시산 및 에스테르, 베타-히드록시산 및 에스테르, 폴리히드록시산 및 에스테르, 코즈산 및 에스테르, 페룰산 및 페룰레이트 유도체, 바닐산 및 에스테르, 디오산 및 에스테르, 레티놀, 레티날, 레티닐 에스테르, 히드로퀴논, t-부틸 히드로퀴논, 레조르시놀 유도체 및 이들의 혼합물 중에서 선택된 피부 개선제를 추가로 포함하는 조성물.
(a) 4-치환된 레조르시놀 유도체에 의해 안정화되는 불포화 테르페노이드, (b) 피부 개선제, 및 (c) 화장품학적으로 허용가능한 비히클을 포함하는 화장 조성물로서, 여기서 테르페노이드는 화장 조성물의 약 0.0001 내지 약 5 중량%의 양으로 존재하고, 테르페노이드 대 4-치환된 레조르시놀 유도체의 중량비는 약 10,000:1 내지 약 1:100,000인 화장 조성물.