KR19990057361A - 공중합체 수지와 이의 제조방법 및 이 수지를 이용한 포토레지스트 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 KrF 또는 ArF등의 원자외선에 사용되는 감광막용의 공중합체 수지와 이의 제조방법 및 이 수지를 함유하는 포토레지스트에 관한 것이다. 본 발명에 따른 공중합체 수지는 노르보넨-말레익안하이드라이드 공중합체 구조에 모노-메틸 시스-5-노르보넨-엔도-2,3-디카르복실레이트 단위체를 도입함으로써 통상의 라디칼 중합으로 중합이 용이하며 193㎚ 파장에서 투명성이 높고 에칭내성이 증가할 뿐만 아니라 공중합체 수지 합성시 발생되는 악취문제를 해결할 수 있고 분자구조상 수지 구성비를 용이하게 조절할 수 있어 대량생산이 가능하다.

Description

공중합체 수지와 이의 제조방법 및 이 수지를 이용한 포토레지스트
본 발명은 KrF 또는 ArF등의 자외선 감광막용의 공중합체 수지와 이의 제조방법 및 이 수지를 이용한 포토레지스트에 관한 것이다. 더욱 구체적으로, 본 발명은 노르보넨-말레익안하이드라이드 공중합체 구조에 모노-메틸 시스-5-노르보넨-엔도-2,3-디카르복실레이트 단위체를 도입함으로써 1G, 4G DRAM에의 적용이 예상되는 KrF(248 nm) 혹은 ArF(193nm) 광원을 이용하는 리소그래피공정(lithography)에 사용될 수 있는 감광막수지, 그의 제조방법 및 이 수지를 함유하는 포토레지스트에 관한 것이다.
일반적으로 ArF용 공중합체 수지는 193㎚ 파장에서의 낮은 광흡수도, 에칭내성, 접착성등이 요구되고 있으며 또한 2.38 w% 테트라메틸암모늄하이드록시드(TMAH) 수용액으로 현상이 가능해야 하지만, 이러한 모든 성질을 만족하는 공중합체 수지를 합성하기는 매우 어렵다. 현재까지 많은 연구방향은 193㎚ 파장에서 투명성을 높이고 에칭내성을 증가시키기 위한 수지로서 노볼락계열의 수지탐색에 집중되어 왔다. 이에 따라 벨 연구소(Bell Lab.)는 주쇄에 지방족환형단위체(alicyclic unit)를 도입하여 에칭내성을 향상시키고자 시도하였다. 예를들어, 주쇄가 노보란(norboran), 아크릴레이트(acrylate) 및 말레익안하이드라이드(maleic anhydride)로 치환된 구조를 갖는 하기 화학식 1의 공중합체수지가 제안되엇다.
그러나, 상기 화학식 1의 공중합체 수지는 지방족환형올레핀기를 중합시키기 위해 사용되는 말레익안하이드라이드 부분(A부분)이 ArF 광인 193nm파장의 광을 흡수하지 않으면서 지방족환형단위체인 노르보넨과 중합이 가능한 유일한 물질이지만, 비노광시에도 2.38% TMAH 수용액에 매우 잘 용해되어 실제 감광막 패터닝시 패턴의 상부가 둥글게 형성되는 탑 로스(top loss)현상이 발생되어 ArF용 수지로의 사용이 불가능하다는 문제점이 있었다.
따라서 용해억제를 위해서는 t-부틸이 치환된 y부분을 매우 증가시켜야 하는데, 그렇게 되면 상대적으로 하단층(substrate)과의 접착력 및 감도를 증가시켜 주는 z부분(카르복실레이트부분)이 감소하여 실제적인 패터닝시 포토레지스트가 웨이퍼로부터 떨어져 나와 패턴 형성이 불가능하게 되는 단점이 유발된다.
따라서 본 발명자들은 이러한 단점을 해소하기 위한 시도로서 하기 화학식2로 표시되는 5-노르보넨-2-카르복실산 단량체를 주요구성분으로 함유하는 말레익안하이드라이드계 공중합체 수지를 개발하여 특허출원한 바 있다(1997. 6. 21.자 출원된 대한민국 특허출원 제 97-26807호 참조).
이 출원에서 제안된 말레익안하이드라이드계 공중합체 수지를 이용한 포토레지스트는 접착력 및 감도가 높고 해상력이 우수한 구조의 고분자수지이지만, 주요 구성분중의 하나인 5-노르보넨-2-카르복실산이 합성시 매우 심한 악취를 발생할 우려가 있으므로 실제 생산시 문제점을 안고 있다. 따라서 악취문제를 해결함과 동시에 우수한 해상력을 지닌 새로운 타입의 상을 개발해야할 필요성이 대두되고 있는 실정이다.
본발명자들은 상술한 종래기술의 문제점을 해결하기 위하여 수 많은 연구와 실험을 거듭한 결과, 노르보넨-말레익안하이드라이드 공중합체 구조에서 5-노르보넨-2-카르복실산 대신에 모노-메틸 시스-5-노르보넨-엔도-2,3-디카르복실레이트 단위체를 도입함으로써 악취문제를 해결하고 레지스트 감도의 저하없이 우수한 접착력 및 해상력(0.13㎛)을 지니며 감광막수지 합성시 구성성분비의 조절이 용이하여 대량생산이 가능하다는 놀라운 사실을 밝혀내고 본 발명을 완성하게 되었다.
본 발명은 모노-메틸 시스-5-노르보넨-엔도-2,3-디카르복실레이트 단위체를 함유함을 특징으로 하는 하기 화학식 3으로 표시되는 감광막용의 공중합체 수지에 관한 것이다.
상기식에서,
R은 t-부틸, 하이드로피라닐, 하이드로푸라닐 또는 에톡시에틸을 나타내며,
x : y : z의 비는 (0.1∼99%) : (0.1∼99%) : (0.1∼99%)이다.
바람직하게, 본 발명에 따른 공중합체 수지는 하기 반응식 4 내지 7로 표시되는 노르보넨-말레익안하이드라이드 공중합체 수지를 포함한다.
상기식에서,
R, x, y 및 z는 상기 정의한 바와같다.
본 발명에 따른 상기 화학식 1의 공중합체 수지는 하기 화학식 8의 노르보넨유도체, 하기 화학식 9의 2-하이드록시에틸-5-노르보넨-2-카르복실레이트, 하기 화학식 10의 말레익안하이드라이드 및 하기 화학식 11의 모노-메틸-시스-5-노르보넨-엔도-2,3-디카르복실레이트를 라디칼개시제의 존재하에 중합시켜 제조할 수 있다.
상기식에서,
R은 t-부틸, 하이드로피라닐, 하이드로푸라닐 또는 에톡시에틸을 나타낸다.
본 발명에 따른 공중합체 수지의 제조에 있어서 상기 화학식 8의 노르보넨유도체는 터셔리부틸-5-노르보넨-2-카르복실레이트, 2-히드로피라닐-5-노르보넨-2-카르복실레이트, 히드로푸라닐-5-노르보넨-2-카르복실레이트 또는 2-에톡시에틸-5-노르보넨-2-카르복실레이트를 사용하는 것이 바람직하다.,
본 발명에 따른 공중합체 수지는 벌크중합 또는 용액중합 등 통상의 중합방법에 따라 제조할 수 있다. 여기서 사용되는 용매는 시클로헥사논, 메틸에틸케톤, 벤젠, 톨루엔, 디옥산, 디메틸포름아미드 등의 단독용매 또는 이들의 혼합용매를 사용할 수 있다. 중합개시제로는 벤조일퍼옥사이드, 2,2'-아조비스이소부티로니트릴(AIBN), 아세틸퍼옥사이드, 라우릴퍼옥사이드, t-부틸퍼아세테이트, 디-t-부틸퍼옥시드 등을 사용할 수 있다.
본 발명에 따른 공중합체 수지의 제조에 있어서 중합반응 조건은 일반적인 라디칼 중합온도 및 압력을 반응물의 특성에 따라 조절하여 사용할 수 있으며, 60 ∼ 200 ℃의 온도에서 50 ∼ 200 기압에서 수행하는 것이 바람직하다.
본 발명에 따라 제조된 노르보넨-말레익안하이드라이드 공중합체 수지는 분자량 3,000 ∼ 100,000을 가지며, 리소그래피공정(lithography)에 유용하게 사용할 수 있다.
본 발명에 따른 공중합체 수지는 통상의 포토레지스트 조성물의 제조방법에 따라 유기용매에 통상적인 광산발생제와 혼합하여 포토레지스트용액을 제조함으로써 프지티브 미세화상 형성에 사용할 수 있다. 반도체소자의 감광막 패턴의 형성공정에 있어서 본 발명의 공중합체 수지의 사용량은 유기용매, 광산발생제 및 리소그래피조건등에 따라 변할 수 있으나, 대체로 포토레지스트의 제조시 사용하는 유기용매에 대해 약 10 ∼ 30 중량% 사용한다.
본 발명에 따른 공중합체 수지를 이용하여 반도체소자의 감광막 패턴을 형성하는 방법을 구체적으로 설명하면 다음과 같다.
본 발명에 따른 공중합체 수지를 시클로헥사논에 10 ∼ 30 중량%로 용해시키고, 광산발생제로서 예를들어 트리페닐설포늄 트리플레이트, 디부틸나프틸설포늄 트리플레이트, 2,6-디메틸페닐설포네이트, 비스(아릴설포닐)-디아조메탄, 옥심설포네이트, 2,1-디아조나프토퀴논-4-설포네이트 등을 감광막수지에 대해 0.1 ∼ 10 중량%로 배합하고 초미세필터로 여과하여 포토레지스트 용액을 제조한다. 그후 실리콘웨이퍼에 스핀도포하여 박막을 제조한 다음 80 ∼ 150 ℃의 오븐 또는 열판에서 1 ∼ 5 분간 소프트 베이크하고, 원자외선 노광장치 또는 엑시머 레이져 노광장치를 이용하여 노광한 후 100 ∼ 200 ℃의 온도에서 10초 ∼ 60분간 노광한 후 베이크한다. 이렇게 노광한 웨이퍼를 2.38% TMAH수용액중에 1 ∼ 30 초간 침지함으로써 포지티브 레지스트 패턴을 얻을 수 있다.
이하, 제조예 및 실시예에 의거하여 본 발명을 구체적으로 설명하지만, 이들로 본 발명의 기술적 범위가 한정되는 것으로 이해해서는 않된다.
제조예 1: 터셔리부틸-5-노르보넨-2-카르복실레이트의 합성,
반응기에 시클로펜타디엔 66g을 넣은 후, 테트라하이드로푸란 용매 500g을 넣고 균일하게 교반한다. 반응혼합물에 t-부틸아크릴레이트 128g을 넣고 -30 ∼ 60 ℃의 온도에서 교반시키면서 10시간 정도 반응시킨다. 반응 완료후 로타리 증류기로 용매를 제거한 다음 감압증류하여 상기 화학식8a의 터셔리부틸-5-노르보넨-2-카르복실레이트 176g을 얻었다. (수율: 90%).
제조예 2: 2-히드록시에틸-5-노르보넨-2-카르복실레이트(화학식9)의 합성
t-부틸아크릴레이트 대신에 2-히드록시에틸아크릴레이트 116g을 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 절차를 수행하여 상기 화학식9의 2-히드록시에틸-5-노르보넨-2-카르복실레이트 155g을 얻었다 (수율: 85%).
제조예 3: 히드로피라닐-5-노르보넨-2-카르복실레이트의 합성
t-부틸아크릴레이트 대신에 2-히드록푸라닐아크릴레이트 156g을 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 절차를 수행하여 상기 화학식8b의 2-히드로푸라닐-5-노르보넨-2-카르복실레이트 186g을 얻었다. (수율: 84%).
제조예 4: 2-히드록시푸라닐-노르보넨-2-카르복실레이트의 합성
t-부틸아크릴레이트 대신에 2-히드록시푸라닐아크릴레이트 144g을 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 절차를 수행하여 상기 화학식8c의 2-히드록시푸라닐-노르보넨-2-카르복실레이트 172g을 얻었다. (수율: 82%).
제조예 5: 에톡시에틸-5-노르보넨-2-카르복실레이트의 합성
t-부틸아크릴레이트 대신에 에톡시에틸아크릴레이트 144g을 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 절차를 수행하여 상기 화학식8d의 에톡시에틸-5-노르보넨-2-카르복실레이트 174g을 얻었다. (수율: 83%).
제조예 6: 모노-메틸 시스-5-노르보넨-엔도-2,3-디카르복실레이트(화학식11)의 합성
반응기에 시클로펜타디엔 66g을 넣은 후, 테트라하이드로푸란 용매 500g과 말레익안하이드라이드 98g을 넣고 균일하게 교반한다. 반응혼합물에 무수에탄올을 500℃g을 넣고 50℃의 온도에서 교반시키면서 8시간 정도 반응시킨다. 반응 완료후 로타리 증류기로 용매를 제거한 다음 감압증류하여 화학식11의 모노-메틸 시스-5-노르보넨-엔도-2,3-디카르복실레이트 156g을 얻었다 (수율: 87%).
실시예 1: 폴리[터셔리부틸-5-노르보넨-2-카르복실레이트/2-히드록시에틸-5-노르보넨-2-카르복실레이트/모노-메틸 시스-5-노르보넨-엔도-2,3-디카르복실레이트/말레익안하이드라이드] 공중합체 수지(화학식4)의 합성
말레익안하이드라이드 1몰, 제조예 1에서 합성한 터셔리부틸-5-노르보넨-2-카르복실레이트 0.5 ∼ 0.9몰, 제조예 2에서 합성한 2-히드록시에틸-5-노르보넨-2-카르복실레이트 0.05 ∼ 0.8몰 및 제조예 6에서 합성한 모노-메틸 시스-5-노르보넨-엔도-2,3-디카르복실레이트 0.01 ∼ 0.5몰을 테트라하이드로푸란 또는 톨루엔에 용해시킨다. 이어서 중합개시제로 2,2'-아조비스이소부티로니트릴(AIBN) 0.5 ∼ 10g을 넣어준 후 질소 또는 아르곤 분위기하에서 65 ∼ 70℃의 온도에서 4 ∼ 24 시간 동안 반응시킨다. 이렇게 하여 생성된 조생성물을 에틸에테르 혹은 헥산으로 침전 건조시켜 분자량 3,000 ∼ 100,000의 표제 공중합체수지(화학식 4)를 얻었다. (수율: 63%). 여기서 합성한 공중합체 수지는 ArF광에 대한 투명성이 높고 에칭내성이 증가되며 2.38 w% TMAH 수용액으로 현상가능하고 접착성이 우수한 것으로 나타났다.
실시예 2: 폴리[히드로피라닐-5-노르보넨-2-카르복실레이트/2-히드록시에틸-5-노르보넨-2-카르복실레이트/모노-메틸 시스-5-노르보넨-엔도-2,3-디카르복실레이트/말레익안하이드라이드] 공중합체 수지(화학식5)의 합성
터셔리부틸-5-노르보넨-2-카르복실레이트 대신에 제조예 3에서 합성한 히드로피라닐-5-노르보넨-2-카르복실레이트를 사용하는 것을 제외하고는 실시예1과 동일한 절차를 수행하여 분자량 3,000 ∼ 100,000의 표제 공중합체수지(화학식 5)를 얻었다. (수율: 68%). 여기서 합성한 공중합체 수지는 보호기가 아세탈기로 변화함에 따라 에칭내성이 저하되지 않으며 감도도 우수한 것으로 나타났다 (감도: 11 nJ/cm2).
실시예 3: 폴리[2-히드록시푸라닐-5-노르보넨-2-카르복실레이트/2-히드록시에틸-5-노르보넨-2-카르복실레이트/모노-메틸 시스-5-노르보넨-엔도-2,3-디카르복실레이트/말레익안하이드라이드] 공중합체수지(화학식6)의 합성
터셔리부틸-5-노르보넨-2-카르복실레이트 대신에 제조예 4에서 합성한 2-히드록시푸라닐-5-노르보넨-2-카르복실레이트를 사용하는 것을 제외하고는 실시예1과 동일한 절차를 수행하여 분자량 4,000 ∼ 100,000의 표제 공중합체수지(화학식 6)를 얻었다. (수율: 64%). 여기서 합성한 공중합체수지는 실시예 2의 수지와 유사한 성질을 갖는 것으로 나타났다.
실시예 4: 폴리[2-에톡시에틸-5-노르보넨-2-카르복실레이트/2-하이드록시에틸-5-노르보넨-2-카르복실레이트/모노-메틸시스-5-노르보넨-엔도-2,3-디카르복실레이트/말레익안하이드라이드] 공중합체수지(화학식7)의 합성
터셔리부틸-5-노르보넨-2-카르복실레이트 대신에 제조예 5에서 합성한 2-에톡시에틸-5-노르보넨-2-카르복실레이트를 사용하는 것을 제외하고는 실시예1과 동일한 절차를 수행하여 분자량 4,000 ∼ 100,000의 표제 공중합체수지(화학식 7)를 얻었다. (수율: 59%). 여기서 합성한 공중합체 수지는 실시예 1의 수지와 유사한 성질을 나타내지만 콘트라스트(contrast) 측면에서는 양호한 특성을 가진 것으로 나타났다.
실시예 5
실시예1의 공중합체수지(화학식4) 10g을 40g의 3-메톡시메틸프로피오네이트 용매에 녹인 후 광산발생제로서 트리페닐설포늄트리플레이트 또는 디부틸나프틸설포늄 트리플레이트의 약 0.2 ∼ 1g을 넣어준 후 교반시킨다. 이어서 0.10 ㎛필터로 여과하여 포토레지스트 용액을 얻는다. 그 후 웨이퍼의 표면에 레지스트의 두께가 0.4 ∼ 1.2 ㎛가 되도록 스핀 도포하여 박막을 제조한 다음 70 ∼ 150 ℃의 오븐 또는 열판에서 1 ∼ 5분간 소프트 베이크하고 노광장치를 사용하여 250 nm 파장의 광원으로 노광한 후 90 ∼ 160℃`에서 노광후 베이크한다. 그후 상기 노광한 웨이퍼를 현상액으로 0.01 ∼ 5 중량%농도의 TMAH수용액에서 1분 30초간 침지함으로써 초미세 감광막패턴을 얻었다 (해상력 : 0.13 ㎛).
실시예 6
감광막수지로서 실시예 2의 공중합체 수지(화학식 5)를 사용하는 것을 제외하고는 실시예4와 동일한 절차를 수행하여 초미세 감광막패턴을 형성하였다.
실시예 7
감광막수지로서 실시예 2의 공중합체 수지(화학식 6)를 사용하는 것을 제외하고는 실시예4와 동일한 절차를 수행하여 초미세 감광막패턴을 형성하였다.
실시예 8
감광막수지로서 실시예 2의 공중합체 수지(화학식 7)를 사용하는 것을 제외하고는 실시예4와 동일한 절차를 수행하여 감광막패턴을 형성하였다.
상기에서의 감광막을 사용하여 패턴을 형성하면, 013㎛의 미세패턴이 형성된 반도체소자를 형성할 수 있어 소자의 고집적화가 유리하다.
이상 설명한 바와같이, 본발명에 따른 KrF 또는 ArF 감광막 공중합체수지는 고분자구조중에 모노-메틸 시스-5-노르보넨-엔도-2,3-디카르복실레이트 단위체를 도입합으로써 통상의 라디칼 중합으로 중합이 용이하고 193 nm에서 높은 투명성 및 에칭내성을 향상시킬 수 있을 뿐만 아니라 공중합체 수지 합성시 발생되는 악취문제를 해결할 수 있고 분자구조상 수지구성비를 용이하게 조절할 수 있어 공업적으로 대량생산이 가능하다. 따라서 본 발명에 따른 KrF 또는 ArF 공중합체 수지는 리소그래피공정에 유용하게 사용할 수 있다.

Claims (18)

  1. 모노-메틸 시스-5-노르보넨-엔도-2,3-디카르복실레이트 단량체를 함유함을 특징으로 하는 하기 화학식 3으로 표시되는 분자량 3,000 ∼ 100,000의 공중합체 수지.
    상기식에서,
    R은 t-부틸, 하이드로피라닐, 하이드로푸라닐 또는 에톡시에틸을 나타내며,
    x : y : z의 비는 (0.1∼99%) : (0.1∼99%) : (0.1∼99%)이다.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 공중합체가 하기 화학식 4로 표시되는 노르보넨-말레익안하이드라이드 공중합체 수지.
    상기식에서,
    x : y : z의 비는 (0.1∼99%) : (0.1∼99%) : (0.1∼99%)이다.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 공중합체가 하기 화학식 5로 표시되는 노르보넨-말레익안하이드라이드 공중합체 수지.
    상기식에서,
    x : y : z의 비는 (0.1∼99%) : (0.1∼99%) : (0.1∼99%)이다.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 공중합체가 하기 화학식 6으로 표시되는 노르보넨-말레익안하이드라이드 공중합체 수지.
    상기식에서,
    x : y : z의 비는 (0.1∼99%) : (0.1∼99%) : (0.1∼99%)이다.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 공중합체가 하기 화학식 7로 표시되는 노르보넨-말레익안하이드라이드 공중합체 수지.
    상기식에서,
    x : y : z의 비는 (0.1∼99%) : (0.1∼99%) : (0.1∼99%)이다.
  6. 하기 화학식 8의 노르보넨유도체, 하기 화학식 9의 2-(2-하이드록시에틸)카르복실일-5-노르보넨, 하기 화학식 10의 말레익안하이드라이드 및 하기 화학식 11의 모노-메틸-시스-5-노르보넨-엔도-2,3-디카르복실레이트를 라디칼개시제의 존재하에 중합시킴을 포함하는 제1항에 정의된 화학식 1의 공중합체 수지의 제조방법.
    상기식에서,
    R은 t-부틸, 하이드로피라닐, 하이드로푸라닐 또는 에톡시에틸을 나타낸다.
  7. 제 6 항에 있어서,
    화학식 8의 노르보넨유도체가 터샤리부틸-5-노르노넨-2-카르복실레이트임을 특징으로 하는 청구항2에 정의된 화학식 4의 노르보넨-말레익안하이드라이드 공중합체 수지의 제조방법.
  8. 제 6 항에 있어서,
    화학식 8의 노르보넨 유도체가 히드로피라닐-5-노르보넨-2-카르복실레이트임을 특징으로 하는 청구항3에 정의된 화학식 5의 노르보넨-말레익안하이드라이드 공중합체 수지의 제조방법.
  9. 제 6 항에 있어서,
    화학식 8의 노르보넨 유도체가 하이드푸라닐-5-노르보넨-2-카르복실레이트임을 특징으로 하는 청구항4에 정의된 화학식 6의 노르보넨-말레익안하이드라이드 공중합체 수지의 제조방법.
  10. 제 6 항에 있어서,
    화학식 8의 노르보넨 유도체가 2-에톡시에틸-5-노르보넨-2-카르복실레이트 임을 특징으로 하는 청구항5에 정의된 화학식 7의 노르보넨-말레익안하이드라이드 공중합체 수지의 제조방법.
  11. 제 6 항에 있어서,
    중합개시제가 벤조일퍼옥사이드, 2,2'-아조비스이소부티로니트릴, 아세틸퍼옥사이드, 라우릴퍼옥사이드, t-부틸퍼아세테이트 또는 디-t-부틸퍼옥사이드인 공중합체수지의 제조방법.
  12. 제 6 항에 있어서,
    중합을 시클로헥사논, 메틸에틸케톤, 벤젠, 톨루엔, 디옥산 및 디메틸포름아미드중에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 용매의 존재하에 수행하는 공중합체수지의 제조방법.
  13. 제 6 항에 있어서,
    중합을 60 ∼ 200 ℃의 온도, 50 ∼ 200 기압, 및 아르곤 또는 질소 분위기하에 수행하는 공중합체의 제조방법.
  14. 제 1 항 내지 제 5 항중 어느 하나에 정의된 노르보넨-말레익안하이드라이드 공중합체 수지, 유기용매 및 광산발생제를 함유하는 포토레지스트.
  15. 제 14항에 있어서, 광산발생제가 트리페닐설포늄 트리플레이트 또는 디부틸나프틸 설포늄 트리플레이트인 포토레지스트.
  16. 제 14 항에 있어서, 상기 공중합체 수지를 용매에 대하여 약 10 ∼ 30 중량% 함유하는 포토레지스트.
  17. 제 14 항에 있어서, 상기 광산발생제를 공중합체 수지에 대해 0.01 ∼ 10 중량% 함유하는 포토레지스트.
  18. 제 1 항 내지 제 5 항중 어느 하나에 정의된 공중합체 수지를 포함하는 포토레지스트를 사용하여 제조된 반도체소자.
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