KR101633958B1 - 서스펜션 용련로의 사용 방법, 서스펜션 용련로 및 정광 버너 - Google Patents

서스펜션 용련로의 사용 방법, 서스펜션 용련로 및 정광 버너 Download PDF

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뻬떼르 브외르끄룬드
까를레 뻴또니에미
까를레 ?또니에미
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라우리 피 뻬소넨
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Abstract

본 발명은 서스펜션 용련로의 사용 방법, 서스펜션 용련로 및 정광 버너 (4) 에 관한 것이다. 정광 버너 (4) 는 제 1 가스 (5) 를 반응 샤프트 (2) 로 이송하기 위한 제 1 가스 공급 기기 (12) 및 제 2 가스 (16) 를 반응 샤프트 (2) 로 이송하기 위한 제 2 가스 공급 기기 (18) 를 포함한다. 제 1 가스 공급 기기 (12) 는 이송 파이프 (7) 의 입구 (8) 와 동심으로 배치된 제 1 환형 배출구 (14) 를 포함하여서, 제 1 환형 배출구 (14) 는 이송 파이프 (7) 를 둘러싼다. 제 2 가스 공급 기기 (18) 는 이송 파이프 (7) 의 입구 (8) 와 동심으로 배치된 제 2 환형 배출구 (17) 를 포함하여서, 제 2 환형 배출구 (17) 는 이송 파이프 (7) 의 배출구 (14) 를 둘러싼다.

Description

서스펜션 용련로의 사용 방법, 서스펜션 용련로 및 정광 버너 {METHOD OF USING A SUSPENSION SMELTING FURNACE, A SUSPENSION SMELTING FURNACE, AND A CONCENTRATE BURNER}
본 발명의 목적은 청구항 1 의 전제부에 따른 서스펜션 용련로의 사용 방법이다.
본 발명의 다른 목적은 청구항 17 의 전제부에 따른 서스펜션 용련로이다.
본 발명의 다른 목적은 청구항 31 의 전제부에 따른 정광 버너이다.
본 발명은 또한 다른 종류의 서스펜션 용련로의 프로세스 문제점을 해결하고 그리고/또는 프로세스 효과를 개선하기 위한 방법, 서스펜션 용련로, 및 정광 버너의 다양한 용도에 관한 것이다.
본 발명은 자용로 (flash smelting furnace) 와 같은 서스펜션 용련로에서 실시하는 방법, 및 자용로와 같은 서스펜션 용련로에 관한 것이다.
자용로는 3 개의 주요 부분, 즉 반응 샤프트, 하부 노 및 상승 샤프트를 포함한다. 자용 프로세스에서, 황화 농축물, 슬래그 형성제 및 그 밖의 분말 성분을 포함하는 분말 고형물은 반응 샤프트의 상부에서 정광 버너에 의하여 반응 가스와 혼합된다. 반응 가스는 공기, 산소 또는 산소 농후 공기일 수 있다. 정광 버너는 미립자 고형물을 반응 샤프트로 이송하기 위한 이송 파이프를 포함하고, 이송 파이프의 입구 (mouth) 는 반응 샤프트에서 개방된다. 정광 버너는 확산 기기를 더 포함하는데, 확산 기기는 이송 파이프 내부에서 동심으로 배치되고 반응 샤프트 내부에서 이송 파이프의 입구로부터 멀리 연장되고, 확산 기기 주위에서 유동하는 미세 고형물로 확산 가스를 향하게 하기 위한 확산 가스 홀을 포함한다. 정광 버너는 반응 가스를 반응 샤프트로 이송하기 위한 가스 공급 기기를 더 포함하고, 가스 공급 기기는 가운데에 이송 파이프로부터 배출되고 확산 가스에 의해 옆으로 향하는 미세 고형물과 상기 환형 배출구에서 배출되는 반응 가스를 혼합하기 위해 이송 파이프를 동심으로 둘러싸는 환형 배출구를 통하여 반응 샤프트에서 개방된다.
자용 방법은, 미세 고형물이 정광 버너의 이송 파이프의 입구를 통하여 반응 샤프트로 이송되는 스테이지를 포함한다. 자용 방법은, 확산 기기 주위에 유동하는 미세 고형물로 확산 가스를 향하게 하기 위해 정광 버너의 확산 기기의 확산 가스 홀을 통하여 반응 샤프트로 확산 가스가 이송되는 스테이지, 및 가운데에 이송 파이프로부터 배출되고 확산 가스에 의하여 옆으로 향하는 미세 고형물과 반응 가스를 혼합하기 위해 정광 버너의 가스 공급 기기의 환형 배출구를 통하여 반응 샤프트로 반응 가스가 이송되는 스테이지를 더 포함한다.
대개의 경우에, 반응 샤프트로 이송되는 혼합물의 성분, 분말 고형물과 반응 가스가 상호 반응할 때, 혼합물 자체로부터 용련에 필요한 에너지를 얻는다. 하지만, 상호 반응시 충분한 에너지 및 충분한 용련을 하지 못하여, 용련용 에너지를 발생시키기 위해서 연료 가스를 또한 반응 샤프로 이송할 것을 요구하는 원료들이 있다.
공개 US 5,362,032 호는 정광 버너를 제공한다.
본 발명의 목적은 자용 프로세스와 같은 서스펜션 용련 프로세스의 다양한 문제점을 해결하기 위해 사용될 수 있고 그리고/또는 자용 프로세스와 같은 서스펜션 용련 프로세스를 향상시키기 위해 사용될 수 있는 서스펜션 용련로의 사용 방법, 서스펜션 용련로, 및 정광 버너를 제공하는 것이다.
본 발명의 목적은 독립항 1 에 따른 서스펜션 용련로의 사용 방법에 의해 달성된다.
본 발명에 따른 방법의 바람직한 실시형태는 종속항 2 내지 16 에서 개시된다.
본 발명의 다른 목적은 독립항 17 에 따른 서스펜션 용련로이다.
본 발명에 따른 서스펜션 용련로의 바람직한 실시형태는 종속항 18 내지 30 에서 개시된다.
본 발명의 다른 목적은 독립항 31 의 정광 버너이다.
본 발명에 따른 정광 버너의 바람직한 실시형태는 종속항 32 내지 44 에서 개시된다.
본 발명의 목적은 또한 청구항 45 내지 51 에 개시된 방법, 서스펜션 용련로, 및 정광 버너의 용도를 포함한다.
본 발명에 따른 서스펜션 용련로의 사용 방법은, 이 방법이 제 1 가스를 서스펜션 용련 샤프트의 반응 샤프트로 이송하기 위한 제 1 가스 공급 기기, 및 제 2 가스를 서스펜션 용련로의 반응 샤프트로 이송하기 위한 제 2 가스 공급 기기를 포함하고, 제 1 가스 공급 기기는 서스펜션 용련로의 반응 샤프트에서 개방되고 이송 파이프의 입구와 동심으로 배치되는 제 1 환형 배출구를 포함하여서, 제 1 환형 배출구가 이송 파이프를 둘러싸고, 제 2 가스 공급 기기는 서스펜션 용련로의 반응 샤프트에서 개방되고 이송 파이프의 입구와 동심으로 배치되는 제 2 환형 배출구를 포함하여서, 제 2 환형 배출구가 이송 파이프를 둘러싸는 정광 버너를 이용한다는 사실을 기초로 한다.
대응하여, 본 발명에 따른 서스펜션 용련로는 제 1 가스를 서스펜션 용련 샤프트의 반응 샤프트로 이송하기 위한 제 1 가스 공급 기기, 및 제 2 가스를 서스펜션 용련 샤프트의 반응 샤프트로 이송하기 위한 제 2 가스 공급 기기를 포함하고, 제 1 가스 공급 기기는 서스펜션 용련로의 반응 샤프트에서 개방되고 이송 파이프의 입구와 동심으로 배치되는 제 1 환형 배출구를 포함하여서, 제 1 환형 배출구가 이송 파이프를 둘러싸고, 제 2 가스 공급 기기는 서스펜션 용련로의 반응 샤프트에서 개방되고 이송 파이프의 입구와 동심으로 배치되는 제 2 환형 배출구를 포함하여서, 제 2 환형 배출구가 이송 파이프를 둘러싸는 정광 버너를 포함한다.
본 발명에 따른 해결법은 제 1 가스를 서스펜션 용련로의 반응 샤프트로 이송하기 위한 전술한 제 1 가스 공급 기기, 및 제 2 가스를 서스펜션 용련로의 반응 샤프트로 이송하기 위한 전술한 제 2 가스 공급 기기를 포함하는 정광 버너를 이용하므로, 본 발명에 따른 방법에서, 정광 버너의 다른 지점에 다른 가스를 이송하기 위해 하나의 동일한 정광 버너를 사용할 수 있고 또한 다른 종류의 프로세스 문제점을 해결하기 위해서 그리고/또는 서스펜션 용련로의 서스펜션 용련 활성도를 높이기 위해서 가스에 다양한 물질, 유체 및/또는 유체 혼합물을 혼합할 수 있다. 부가적으로 또는 대안적으로, 유속, 유동 패턴 및/또는 유량과 같은 제 1 가스 및 제 2 가스의 유동을 상호 독립적으로 제어할 수 있게 된다.
아래에서, 발명의 바람직한 실시형태가 첨부 도면을 참조하여 자세히 설명된다.
도 1 은 본 발명에 따른 서스펜션 용련로의 일 바람직한 실시형태를 보여준다.
도 2 는 본 발명에 따른 서스펜션 용련로에서 사용될 수 있는 정광 버너를 보여준다.
도 3 은 본 발명에 따른 서스펜션 용련로와 방법의 제 3 실시형태에서 사용될 수 있는 제 2 정광 버너를 보여준다.
도 4 는 본 발명에 따른 서스펜션 용련로와 방법의 제 4 실시형태에서 사용될 수 있는 제 3 정광 버너를 보여준다.
도 5 는 본 발명에 따른 서스펜션 용련로와 방법의 제 5 실시형태에서 사용될 수 있는 제 4 정광 버너를 보여준다.
도 6 은 본 발명에 따른 서스펜션 용련로와 방법의 제 5 실시형태에서 사용될 수 있는 제 5 정광 버너를 보여준다.
도 7 은 본 발명에 따른 서스펜션 용련로와 방법의 제 5 실시형태에서 사용될 수 있는 제 6 정광 버너를 보여준다.
도 8 은 본 발명에 따른 서스펜션 용련로의 제 2 바람직한 실시형태를 보여준다.
먼저, 본 발명의 목적은 서스펜션 용련로 (1) 의 사용 방법이다.
도 1 에 도시된 서스펜션 용련로 (1) 는 반응 샤프트 (2), 상승 샤프트 (3) 및 하부 노 (20) 를 포함한다.
방법은 반응 샤프트 (2) 로 미립자 고형물 (6) 을 이송하기 위한 이송 파이프 (7) 를 포함하는 미세 고형물 공급 기기 (27) 를 포함하고, 이송 파이프의 입구 (8) 는 반응 샤프트 (2) 에서 개방되는 정광 버너 (4) 를 이용한다. 미세 고형물은 예를 들어 니켈 또는 구리 농축물, 슬래그 형성제 및/또는 플라이 애시 (fly ash) 를 포함할 수 있다.
방법은 이송 파이프 (7) 내부에서 동심으로 배치되고 반응 샤프트 (2) 내부에서 이송 파이프의 입구 (8) 로부터 멀리 연장되는 확산 기기 (9) 를 더 포함하는 정광 버너 (4) 를 이용한다. 확산 기기 (9) 는 확산 기기 (9) 주위의 확산 가스 (11) 를 확산 기기 (9) 주위에 유동하는 미세 고형물 (6) 로 향하게 하기 위한 확산 가스구 (10) 를 포함한다.
방법은 제 1 가스 (5) 를 반응 샤프트 (2) 로 이송하기 위해 제 1 가스 공급 기기 (12) 를 더 포함하는 정광 버너 (4) 를 이용한다. 제 1 가스 공급 기기 (12) 는, 가운데에 이송 파이프 (7) 로부터 배출되고 확산 가스 (11) 에 의해 옆으로 향하는 미세 고형물 (6) 과 제 1 환형 배출구 (14) 로부터 배출되는 제 1 가스 (5) 를 혼합하기 위해 동심으로 이송 파이프 (7) 를 둘러싸는 상기 제 1 환형 배출구 (14) 를 통하여 반응 샤프트 (2) 에서 개방된다.
방법은 반응 샤프트 (2) 로 제 2 가스 (16) 를 이송하기 위한 제 2 가스 공급 기기 (18) 를 더 포함하고, 정광 버너의 제 1 가스 공급 기기 (12) 의 제 1 환형 배출구 (14) 와 동심이고 서스펜션 용련로의 반응 샤프트 (2) 에서 개방되는 제 2 환형 배출구 (17) 를 포함하는 정광 버너 (4) 를 이용한다.
방법은 미세 고형물 (6) 이 정광 버너의 이송 파이프의 입구 (8) 를 통하여 반응 샤프트 (2) 로 이송되는 스테이지를 포함한다.
방법은 확산 가스 (11) 를 확산 기기 (9) 주위에 유동하는 미세 고형물 (6) 로 향하게 하기 위해 정광 버너의 확산 기기 (9) 의 확산 가스구 (10) 를 통하여 확산 가스 (11) 가 반응 샤프트 (2) 로 이송되는 스테이지를 포함한다.
방법은 가운데에 이송 파이프 (7) 의 입구 (8) 에서 배출되고 확산 가스 (11) 에 의해 옆으로 향하는 미세 고형물 (6) 과 제 1 가스 (5) 를 혼합하기 위해 제 1 가스 (5) 가 정광 버너의 제 1 가스 공급 기기 (12) 의 제 1 환형 배출구 (14) 를 통하여 반응 샤프트 (2) 로 이송되는 스테이지를 포함한다.
방법은 제 2 가스 (16) 가 제 2 가스 공급 기기 (18) 의 제 2 환형 배출구 (17) 를 통하여 반응 샤프트 (2) 로 이송되는 스테이지를 포함한다. 방법은 제 2 가스 공급 기기 (18) 의 제 2 환형 배출구 (17) 를 통하여 제 2 가스 (16) 를 이송하기 전에 농축물 입자 (22) 가 제 2 가스 (16) 에 첨가되는 스테이지를 포함할 수도 있다.
방법은 제 1 가스 공급 기기 (12) 의 제 1 환형 배출구 (14) 를 통하여 반응 샤프트 (2) 로 제 1 가스 (5) 를 이송하기 전에 분사함으로써 액체 냉각제 (25) 가 제 1 가스 (5) 에 첨가되는 스테이지를 포함할 수도 있다.
방법은 제 2 가스 공급 기기 (18) 의 제 2 환형 배출구 (17) 를 통하여 반응 샤프트 (2) 로 제 2 가스 (16) 를 이송하기 전에 분사함으로써 액체 냉각제 (25) 가 제 2 가스 (16) 에 첨가되는 스테이지를 포함할 수도 있다.
방법은 제 1 가스 공급 기기 (12) 의 제 1 환형 배출구 (14) 를 통하여 제 1 가스 (5) 를 이송하기 전에 제 1 가스 (5) 의 회전 (spin) 을 일으키는 스테이지를 포함할 수도 있다.
방법은 제 2 가스 공급 기기 (18) 의 제 2 환형 배출구 (17) 를 통하여 제 2 가스 (16) 를 이송하기 전에 제 2 가스 (16) 의 회전을 일으키는 스테이지를 포함할 수도 있다.
방법에서, 제 1 가스 (5) 와 제 2 가스 (16) 는 다른 조성을 가질 수도 있다.
방법에서, 도 8 에 도시된 대로, 제 1 가스 공급 기기 (12) 는 제 1 공급원 (28) 으로부터 공급받는 것이 바람직하지만 필수적이지는 않고 제 2 가스 공급 기기 (18) 는 제 1 공급원 (28) 과 분리된 제 2 공급원 (29) 으로부터 공급받는 것이 바람직하지만 필수적이지는 않다.
방법에서, 도 6 에 도시된 대로, 제 1 환형 배출구 (14) 와 이송 파이프의 입구 (8) 사이에 위치한 제 2 환형 배출구 (17) 를 가지는 제 2 가스 공급 기기 (18) 를 포함하는 이러한 정광 버너 (4) 가 사용될 수도 있다.
방법에서, 도 2 내지 도 6 에 도시된 대로, 제 1 환형 배출구 (14) 를 둘러싸는 제 2 환형 배출구 (17) 를 가지는 제 2 가스 공급 기기 (18) 를 포함하는 이러한 정광 버너 (4) 가 사용될 수도 있다.
방법에서, 도 7 에 도시된 대로, 제 2 환형 배출구 (17) 가 미세 고형물 공급 기기 (27) 의 이송 파이프 (7) 내부에 위치한 제 2 가스 공급 기기 (18) 를 포함하는 이러한 정광 버너 (4) 가 사용될 수도 있다.
방법에서, 도 7 에 도시된 대로, 제 2 환형 배출구 (17) 가 미세 고형물 공급 기기 (27) 의 이송 파이프 (7) 내부에 위치하고 제 2 환형 배출구 (17) 가 확산 기기 (9) 를 둘러싸고 확산 기기 (9) 에 의해 한정되는 제 2 가스 공급 기기 (18) 를 포함하는 이러한 정광 버너 (4) 가 사용될 수도 있다.
발명의 다른 목적은 반응 샤프트 (2), 통풍관 (uptake) (3), 하부 노 (20) 및 정광 버너 (4) 를 포함하는 서스펜션 용련로 (1) 이다.
서스펜션 용련로의 정광 버너 (4) 는 미세 고형물 (6) 을 반응 샤프트 (2) 로 이송하기 위한 이송 파이프 (7) 를 포함하고, 이송 파이프의 입구 (8) 는 반응 샤프트 (2) 에서 개방되는 미세 고형물 공급 기기 (27) 를 포함한다. 미세 고형물은 예를 들어 니켈 또는 구리 농축물, 슬래그 형성제 및/또는 플라이 애시를 포함할 수 있다.
서스펜션 용련로의 정광 버너 (4) 는, 이송 파이프 (7) 내부에 동심으로 배치되고 반응 샤프트 (2) 내부에서 이송 파이프의 입구 (8) 로부터 멀리 연장되는 확산 기기 (9) 를 포함한다. 확산 기기 (9) 는 확산 기기 (9) 주위의 확산 가스 (11) 를 확산 기기 (9) 주위에 유동하는 미세 고형물 (6) 로 향하게 하기 위한 확산 가스구 (10) 를 포함한다.
서스펜션 용련로의 정광 버너 (4) 는 제 1 가스 (5) 를 반응 샤프트 (2) 로 이송하기 위한 제 1 가스 공급 기기 (12) 를 더 포함한다. 제 1 가스 공급 기기 (12) 는, 가운데에 이송 파이프 (7) 로부터 배출되고 확산 가스 (11) 에 의하여 옆으로 향하는 미세 고형물 (6) 과 상기 제 1 환형 배출구 (14) 로부터 배출되는 제 1 가스 (5) 를 혼합하기 위해, 동심으로 이송 파이프 (7) 를 둘러싸는 제 1 환형 배출구 (14) 를 통하여 반응 샤프트 (2) 에서 개방된다.
서스펜션 용련로의 정광 버너 (4) 는 제 2 가스 (16) 를 반응 샤프트 (2) 로 이송하기 위한 제 2 가스 공급 기기 (18) 를 더 포함한다. 제 2 가스 공급 기기 (18) 는 제 2 환형 배출구 (17) 를 포함하고, 제 2 환형 배출구는 정광 버너의 제 1 가스 공급 기기 (12) 의 제 1 환형 배출구 (14) 와 동심을 이루고 제 2 가스 (16) 를 반응 샤프트 (2) 로 이송하기 위해 서스펜션 용련로 (1) 의 반응 샤프트 (2) 에서 개방된다. 발명의 다른 목적은 미립자 고형물 (6) 과 가스를 서스펜션 용련로 (1) 의 반응 샤프트 (2) 로 이송하기 위한 정광 버너 (4) 이다.
정광 버너 (4) 는 미립자 고형물 (6) 을 반응 샤프트 (2) 로 이송하기 위한 이송 파이프 (7) 를 포함하는 미세 고형물 공급 기기 (27) 를 포함한다.
정광 버너 (4) 는 또한 확산 기기 (9) 를 포함하고, 확산 기기는 이송 파이프 (7) 내부에 동심으로 배치되고 이송 파이프의 입구 (8) 로부터 멀리 연장되고, 확산 기기 (9) 주위의 확산 가스 (11) 를 확산 기기 (9) 주위에 유동하는 미세 고형물 (6) 로 향하게 하기 위한 확산 가스 홀 (10) 을 포함한다.
정광 버너 (4) 는 또한 제 1 가스 (5) 를 반응 샤프트 (2) 로 이송하기 위한 제 1 가스 공급 기기 (12) 를 포함하고, 제 1 가스 공급 기기 (12) 는 가운데에 이송 파이프 (7) 로부터 배출되고 확산 가스 (11) 에 의하여 옆으로 향하는 미세 고형물 (6) 과 상기 제 1 환형 배출구 (14) 로부터 배출되는 제 1 가스 (5) 를 혼합하기 위해 이송 파이프 (7) 를 동심으로 둘러싸는 제 1 환형 배출구 (14) 를 통하여 개방된다.
정광 버너 (4) 는 또한 제 2 가스 (16) 를 반응 샤프트 (2) 로 이송하기 위한 제 2 가스 공급 기기 (18) 를 포함하고, 제 2 가스 공급 기기 (18) 는 제 2 가스 (16) 를 반응 샤프트 (2) 로 이송하기 위해 정광 버너의 제 1 가스 공급 기기 (12) 의 제 1 환형 배출구 (14) 와 동심을 이루는 제 2 환형 배출구 (17) 를 포함한다.
정광 버너는 제 2 가스 공급 기기 (18) 의 제 2 환형 배출구 (17) 를 통하여 반응 샤프트 (2) 로 제 2 가스 (16) 를 이송하기 전에 농축물 입자와 제 2 가스 (16) 를 혼합하기 위해 농축물 입자용 이송 수단 (24) 을 포함할 수도 있다.
정광 버너는 제 1 가스 공급 기기 (12) 의 제 1 환형 배출구 (14) 를 통하여 반응 샤프트 (2) 로 제 1 가스 (5) 를 이송하기 전에 분사함으로써 액체 냉각제 (25) 를 제 1 가스 (5) 와 혼합하기 위해 액체 냉각제용 이송기 (23) 를 포함할 수도 있다.
정광 버너는 제 2 가스 공급 기기 (18) 의 제 2 환형 배출구 (17) 를 통하여 반응 샤프트 (2) 로 제 2 가스 (16) 를 이송하기 전에 분사함으로써 액체 냉각제 (25) 를 제 2 가스 (16) 와 혼합하기 위해 액체 냉각제용 이송기 (23) 를 포함할 수도 있다.
정광 버너는 제 1 가스 공급 기기 (12) 의 제 1 환형 배출구 (14) 를 통하여 반응 샤프트 (2) 로 제 1 가스 (5) 를 이송하기 전에 제 1 가스 (5) 를 회전시키기 위한 회전 수단 (19) 을 포함할 수도 있다.
정광 버너는 제 2 가스 공급 기기 (18) 의 제 2 환형 배출구 (17) 를 통하여 반응 샤프트 (2) 로 제 2 가스 (16) 를 이송하기 전에 제 2 가스 (16) 를 회전시키기 위한 회전 수단 (19) 을 포함할 수도 있다.
정광 버너는 제 1 공급원 (28) 을 제 1 가스 공급 기기 (12) 에 연결하기 위한 제 1 연결 수단 (30), 및 제 2 공급원 (29) 을 제 2 가스 공급 기기 (18) 에 연결하기 위한 제 2 연결 수단 (31) 을 포함할 수도 있고, 제 2 공급원 (29) 은 제 1 공급원 (28) 과 분리되어 있다.
도 6 에 도시된 대로, 정광 버너는 제 1 환형 배출구 (14) 와 이송 파이프의 입구 (8) 사이에 위치한 제 2 환형 배출구 (17) 를 가지는 제 2 가스 공급 기기 (18) 를 포함할 수도 있다.
도 2 내지 도 5 에 도시된 대로, 정광 버너는 제 1 환형 배출구 (14) 를 둘러싸는 제 2 환형 배출구 (17) 를 가지는 제 2 가스 공급 기기 (18) 를 포함할 수도 있다.
도 7 에 도시된 대로, 정광 버너는 미세 고형물 공급 기기 (27) 의 이송 파이프 (7) 의 내부에 위치한 제 2 환형 배출구 (17) 를 가지는 제 2 가스 공급 기기 (18) 를 포함할 수도 있다.
도 7 에 도시된 대로, 정광 버너는 제 2 환형 배출구 (17) 가 확산 기기 (9) 를 둘러싸고 확산 기기 (9) 에 의해 한정되도록 미세 고형물 공급 기기 (27) 의 이송 파이프 (7) 내부에 위치한 제 2 환형 배출구 (17) 를 가지는 제 2 가스 공급 기기 (18) 를 포함할 수도 있다.
본 발명에 따른 방법, 서스펜션 용련로 및 정광 버너는 다른 종류의 서스펜션 용련로의 프로세스 문제점을 해결하기 위해 그리고/또는 서스펜션 용련 프로세스를 향상시키기 위해 사용될 수 있다. 아래에서, 7 가지 다른 프로세스 문제점과 7 가지 다른 실시형태로 해결법이 개시된다.
제 1 실시형태: 질소 산화물의 발생 감소
방법의 제 1 실시형태, 서스펜션 용련로의 제 1 실시형태 및 정광 버너의 제 1 실시형태는 서스펜션 용련 프로세스에서 발생되는 질소 산화물의 감소와 관련된다.
질소 산화물 또는 NOx 배출물은 모든 종류의 연소 프로세스에서 문제점을 나타내고, 황산 플랜트에서 산성 생성물에서 용해할 때, 예를 들어 종이 표백시 종이에 적색 마크를 유발한다는 점에서 자용시 문제가 된다. 질소 산화물을 생성하기 위한 주요 생성 메커니즘은 소위 열적 NOx 반응시 질소와 산소의 결합과 관련있다. 농축물 입자가 점화될 때, 충분한 산소가 존재하고 입자가 냉각 요소에 의해 둘러싸여 있지 않다면 농축물 입자는 즉시 2000 ℃ 를 초과하는 최고 온도에 도달할 수도 있다.
방법의 제 1 실시형태는 제 1 가스 (5) 로서 공업용 산소 (O2) 를 이용하고 공업용 산소는 정광 버너 (4) 의 제 1 가스 공급 기기 (12) 의 제 1 환형 배출구 (14) 를 통하여 서스펜션 용련로 (1) 의 반응 샤프트 (2) 로 이송된다.
대응하여, 서스펜션 용련로의 제 1 실시형태에서, 정광 버너 (4) 의 제 1 가스 공급 기기 (12) 는 제 1 가스 (5) 로서 공업용 산소를 제 1 환형 배출구 (14) 를 통하여 서스펜션 용련로 (1) 의 반응 샤프트 (2) 로 이송하기에 적합하다.
대안적으로, 방법의 제 1 실시형태는 제 1 가스 (5) 로서 공기를 이용할 수 있고, 정광 버너 (4) 의 제 1 가스 공급 기기 (12) 의 제 1 환형 배출구 (14) 를 통하여 서스펜션 용련로 (1) 의 반응 샤프트 (2) 로 공기를 이송한다.
대응하여, 서스펜션 용련로와 정광 버너의 제 1 실시형태의 이 대안에서, 정광 버너 (4) 의 제 1 가스 공급 기기 (12) 는 제 1 환형 배출구 (14) 를 통하여 서스펜션 용련로 (1) 의 반응 샤프트 (2) 로 제 1 가스 (5) 로서 공기를 이송하기에 적합하다.
방법, 서스펜션 용련로, 및 정광 버너의 제 1 실시형태는, 최고온 발화 구역 (hottest fire area) 에 질소 (N2) 가 제공되지 않아서 이런 점에서 질소 산화물 즉 NOx 의 발생이 방지된다는 사실을 기초로 한다. 실제로, 이것은 순 공업용 산소가 정광 버너 (4) 의 제 1 가스 공급 기기 (12) 의 내부 배출구, 즉 제 1 환형 배출구 (14) 를 통하여 이송되어서, 연료 가스에 관하여 최고온 구간에서 질소가 발견되지 않음을 의미할 수도 있다. 입자가 점화될 때, 그것의 연소온도는 열적 NOx 의 발생이 매우 강해지기에 충분히 높은 레벨로 점화한 후에 더 이상 상승하지 않을 것이다. 그런 경우에, 산소는 완전 연소하기 위해서 또는 원하는 레벨로 연소시키기 위해서 최외측 배출구 (17) 를 통하여 자유롭게 이동될 수 있다. 대안적으로, 점화 후 연소 온도는 공기 내 질소와 같은 불활성, 열 에너지 소비 가스를 사용함으로써 또는 제 2 가스로 액체 또는 용액 (예, 물, 산, 암모니아) 을 분사함으로써 제어될 수 있다.
방법, 서스펜션 용련로, 및 정광 버너의 제 1 실시형태는 최고온 발화 구역의 온도가 감소된다는 사실을 기초로 하므로; 주요 NOx 발생 메커니즘, 소위 열적 NOx 의 발생이 방지된다. 실제로, 이것은 예를 들어 순 공업용 산소가 정광 버너 (4) 의 제 1 가스 공급 기기 (12) 의 제 1 환형 배출구 (14) 를 통하여 서스펜션 용련로 (1) 의 반응 샤프트 (2) 로 이송되고 제 2 가스 (16) 가 정광 버너 (4) 의 제 2 가스 공급 기기 (18) 의 제 2 환형 배출구 (17) 를 통하여 서스펜션 용련로 (1) 의 반응 샤프트 (2) 로 이송되고 제 2 가스는 공기, 산소 농후 공기 또는 산소일 수 있고 제 2 가스와 흡열 분해 액체, 즉 증발할 때 에너지를 소비하는 액체가 혼합될 수 있음을 의미할 수 있다. 제 2 환형 배출구 (17) 는 최고 온도를 제어하고, 화염이 감소한다. 이 방법과 서스펜션 용련의 제 1 실시형태는 또한 질소 산화물의 발생을 줄이기 위한 방법과 서스펜션 용련로의 용도에 관한 것이다.
이 방법의 용도의 제 1 실시형태는 질소 산화물의 발생을 감소시키는 방법을 이용하여서, 제 1 가스 (5) 로서 공업용 산소가 서스펜션 용련로 (1) 의 정광 버너 (4) 의 제 1 가스 공급 기기 (12) 의 제 1 환형 배출구 (14) 를 통하여 서스펜션 용련로 (1) 의 반응 샤프트 (4) 로 이송된다.
이 방법의 용도의 제 1 실시형태는 대안적으로 질소 산화물의 발생을 감소시키는 방법을 이용하여서, 제 1 가스 (5) 로서 공기가 서스펜션 용련로 (1) 의 정광 버너 (4) 의 제 1 가스 공급 기기 (12) 의 제 1 환형 배출구 (14) 를 통하여 서스펜션 용련로 (1) 의 반응 샤프트 (4) 로 이송된다.
이 서스펜션 용련로와 정광 버너의 용도의 제 1 실시형태는 질소 산화물의 발생을 감소시키기 위해 서스펜션 용련로를 사용하여서, 서스펜션 용련로 (1) 의 정광 버너 (4) 는 제 1 가스 (5) 로서 공업용 산소를 제 1 가스 공급 기기 (12) 의 제 1 환형 배출구 (14) 를 통하여 서스펜션 용련로 (1) 의 반응 샤프트 (2) 로 이송하기에 적합하다.
이 서스펜션 용련로와 정광 버너의 용도의 제 1 실시형태는 대안적으로 질소 산화물의 발생을 감소시키기 위해 서스펜션 용련로를 이용할 수 있어서, 서스펜션 용련로 (1) 의 정광 버너 (4) 는 제 1 가스 (5) 로서 공기를 제 1 가스 공급 기기 (12) 의 제 1 환형 배출구 (14) 를 통하여 서스펜션 용련로 (1) 의 반응 샤프트 (2) 로 이송하기에 적합하다.
제 2 실시형태: 농축물의 점화 개선
방법의 제 2 실시형태, 서스펜션 용련로의 제 2 실시형태, 및 정광 버너의 제 2 실시형태는 농축물의 점화 개선에 관한 것이다.
자용 프로세스를 위해, 서스펜션 용련로 (1) 의 반응 샤프트 (2) 로 이송되는 미세 고형물과 같은 농축물은 정광 버너 (4) 의 확산 기기 (9) 의 확산 가스구 (10) 의 레벨에 도달한 후 워밍업되어 (warm up) 가능한 한 신속히 점화된다면 바람직하다.
방법의 제 1 실시형태는 제 1 가스 (5) 로서 공업용 산소를 이용하고, 공업용 산소는 정광 버너 (4) 의 제 1 가스 공급 기기 (12) 의 제 1 환형 배출구 (14) 를 통하여 서스펜션 용련로 (1) 의 반응 샤프트 (2) 로 이송된다.
대응하여, 서스펜션 용련로 (1) 와 정광 버너의 제 2 실시형태에서, 정광 버너 (4) 의 제 1 가스 공급부 (12) 는 제 1 가스 (5) 로서 공업용 산소를 제 1 환형 배출구 (14) 를 통하여 서스펜션 용련로 (1) 의 반응 샤프트 (2) 로 이송하기에 적합하다.
이 방법과 서스펜션 용련로의 제 2 실시형태는 또한 반응 샤프트 (2) 에서 농축물의 점화를 개선하기 위해 방법, 서스펜션 용련로 및 정광 버너의 용도에 관한 것이다. 이 방법과 서스펜션 용련로는 제 1 가스 (5) 로서 공업용 산소를 제 1 환형 배출구 (15) 를 통하여 이송함으로써 반응 샤프트 (2) 내 농축물의 점화를 개선하기 위해 사용될 수 있다.
방법, 서스펜션 용련로 및 정광 버너의 제 2 실시형태에서, 산소 잠재성 (우세 가스에서 산소 부분) 은 산소가 농축물 입자의 기공 안으로 보다 효과적으로 확산되도록 정광 버너 (4) 의 이송 파이프 (7) 의 입구 (8) 근처에서 증가된다. 실제로, 이것은 순 공업용 산소가 정광 버너 (4) 의 제 1 가스 공급 기기 (12) 의 제 1 환형 배출구 (14) 를 통하여 서스펜션 용련로 (1) 의 반응 샤프트 (4) 로 이송되어서, 더 이른 점화를 가능하게 한다는 것을 의미한다.
방법, 서스펜션 용련로 및 정광 버너의 제 2 실시형태는, 미세 고형물 (6) 이 효과적으로 산소와 혼합되어 신속히 점화하도록 유동 형성 (예, 난류) 면에서 유리한 방법을 사용함으로써 순 공업용 산소가 제 1 환형 배출구 (14) 를 통하여 이송된다는 사실을 기초로 한다. 하지만, 연소에 필요한 모든 산소는 반드시 제 1 환형 배출구 (14) 를 통하여 이송될 필요는 없고 단지 효과적인 점화를 위해 필요한 것이므로, 연소에 필요한 나머지 산소는 제 2 환형 배출구 (17) 를 통하여 이동할 수 있다.
제 3 실시형태: 서스펜션 용련로로 다른 크기의 입자 이송
방법의 제 3 실시형태, 서스펜션 용련로의 제 3 실시형태, 및 정광 버너의 제 3 실시형태는 서스펜션 용련로의 반응 샤프트로 다른 크기의 입자 이송에 관한 것이다.
현재 정광 버너는 농축물 입자와 산소를 고루 잘 섞인 균일 혼합물로 혼합하는 것은 비교적 잘 수행하지만, 다른 입자 크기의 농축물 입자간 연소 요건이 고려되지 않는다. 따라서, 가장 작은 입자들이 더 잘 산화되고 더 큰 입자들은 더 적게 산화되어서; 전체 최종 결과, 즉 슬래그 화학물질에 대해 최종결과 제어가 처리된다.
방법의 제 3 실시형태에서, 제 2 가스 공급 기기 (18) 의 제 2 환형 배출구 (17) 를 통하여 서스펜션 용련로 (1) 의 반응 샤프트 (2) 로 제 2 가스 (16) 를 이송하기 전에 농축물 입자가 제 2 가스 (16) 에 첨가된다. 이 방법의 제 3 실시형태에서, 스크린 (21) 이 농축물을 작은 농축물 입자를 포함하는 분획물과 큰 농축물 입자를 포함하는 분획물로 나누기 위해 사용될 수도 있다.
서스펜션 용련로와 정광 버너의 제 3 실시형태는, 제 2 가스 공급 기기 (18) 의 제 2 환형 배출구 (17) 를 통하여 서스펜션 용련로 (1) 의 반응 샤프트 (2) 로 제 2 가스 (16) 를 이송하기 전에 농축물 입자와 제 2 가스 (16) 를 혼합하기 위해 농축물 입자의 이송 부재 (24) 를 포함한다.
서스펜션 용련로 (1) 안으로 이송하기 전에, 미세 고형물은 통상적으로 소위 건조기 (미도시) 로 통과시킴으로써 여분의 습기가 건조된다. 통상적으로, 이러한 건조기 다음에, 미세 고형물의 유동을 두 부분, 스크린을 통과하는 보다 미세한 분획물, 즉 통과물, 및 스크린을 통과하지 못하는 물질, 즉 비통과물로 나누는 스크린 (미도시) 이 있다. 이 해결법의 제 3 실시형태에서, 이런 비통과물은 더 큰 스크린 메시 (mesh) 를 가지는 스크린 (21) 에 의해 다시 가려낼 수 있고, 통과물에 의하여, 다른 크기 분배를 가지는 두 농축물 유동, 미세 분획물 및 조대 분획물이 제공된다. 미세 분획물은 정광 버너로부터 이송 재료 (6) 로서 이동되고 조대 분획물 (22) 은 제 2 가스 (16) 와 혼합되고 외부 가스 채널 (17) 을 통하여 이송된다. 따라서, 입자의 산화도는 포괄적으로 더 양호하게 제어될 수 있다. 이러한 해결법은 도 3 에 나타나 있다.
이 방법, 서스펜션 용련로 및 정광 버너의 제 3 실시형태는 또한 서스펜션 용련로 (1) 의 반응 샤프트 (2) 로 제 1 농축물 입자 분획물과 제 2 농축물 입자 분획물을 이송하기 위한 방법 및 서스펜션 용련로의 용도에 관한 것이고, 제 1 농축물 입자 분획물은 제 2 농축물 입자 분획물보다 더 작은 농축물 입자를 함유한다. 이 제 3 실시형태는, 제 1 농축물 입자 분획물이 이송 파이프 (7) 의 입구 (8) 를 통하여 반응 샤프트 (2) 로 이송되고 제 2 가스 (16) 와 혼합된 제 2 농축물 입자 분획물이 제 2 가스 공급 기기 (18) 의 제 2 환형 배출구 (17) 를 통하여 반응 샤프트 (2) 로 이송되도록 서스펜션 용련로를 이용한다.
정광 버너는 제 1 환형 배출구와 제 2 환형 배출구를 포함하므로, 다른 이송 속도 및 산소 농축도 (enrichment) 가 사용될 수 있어서 농축물 입자의 산화도 차이를 상쇄할 수 있다.
제 4 실시형태: 서스펜션 용련로의 반응 샤프트의 온도 제어
방법의 제 4 실시형태, 서스펜션 용련로의 제 4 실시형태 및 정광 버너의 제 4 실시형태는 서스펜션 용련로의 반응 샤프트의 온도 제어에 관한 것이다.
방법의 제 4 실시형태에서, 제 1 가스 공급 기기 (12) 의 제 1 환형 배출구 (14) 를 통하여 서스펜션 용련로 (1) 의 반응 샤프트 (2) 로 제 1 가스 (5) 를 이송하기 전에 분사함으로써 액체 냉각제 (25) 가 제 1 가스 (5) 에 첨가된다. 대안적으로 또는 부가적으로, 이 방법의 제 4 실시형태에서, 제 2 가스 공급 기기 (18) 의 제 2 환형 배출구 (17) 를 통하여 제 2 가스 (16) 를 이송하기 전에 분사함으로써 액체 냉각제 (25) 가 제 2 가스 (16) 에 첨가될 수 있다.
서스펜션 용련로 (1) 와 정광 버너의 제 4 실시형태에서, 정광 버너 (4) 는 제 1 가스 공급 기기 (12) 의 제 1 환형 배출구 (14) 를 통하여 서스펜션 용련로 (1) 의 반응 샤프트 (2) 로 제 1 가스 (5) 를 이송하기 전에 분사함으로써 액체 냉각제 (25) 와 제 1 가스 (5) 를 혼합하기 위해 액체 냉각제용 이송기 (23) 를 포함한다. 대안적으로 또는 부가적으로, 이 서스펜션 용련로 (1) 의 제 4 실시형태에서, 정광 버너 (4) 는 제 2 가스 공급 기기 (18) 의 제 2 환형 배출구 (17) 를 통하여 서스펜션 용련로 (1) 의 반응 샤프트 (2) 로 제 2 가스 (16) 를 이송하기 전에 분사함으로써 액체 냉각제 (25) 와 제 2 가스 (16) 를 혼합하기 위해 액체 냉각제용 이송기 (23) 를 포함할 수 있다. 이러한 정광 버너 (4) 는 도 3 에 나타나 있다.
이 방법, 서스펜션 용련로 및 정광 버너의 제 4 실시형태에서, 제 1 가스 (5) 로 분사되는 액체 냉각제 (25) 의 양은, 실제 서스펜션 용련 프로세스로부터 증발 및/또는 가능하다면 확산시 액체 냉각제 (25) 가 취한 열 에너지 양에 관해 제어하기 위해 사용될 수 있다.
이 방법, 서스펜션 용련로 및 정광 버너의 제 4 실시형태는 또한 서스펜션 용련로의 반응 샤프트 온도를 제어하기 위한 방법 및 서스펜션 용련로의 용도에 관한 것이다.
이 방법의 용도의 제 4 실시형태는 제 2 환형 배출구를 통하여 서스펜션 용련로의 반응 샤프트로 분사함으로써 액체 냉각제 (25) 가 이송되도록 서스펜션 용련로를 이용한다.
이 서스펜션 용련로와 정광 버너의 용도의 제 4 실시형태는 제 2 환형 배출구를 통하여 서스펜션 용련로의 반응 샤프트로 분사함으로써 액체 냉각제 (25) 가 이송되도록 서스펜션 용련로를 이용한다.
방법, 서스펜션 용련로 및 정광 버너의 제 4 실시형태는 또한 반응 샤프트를 냉각하기 위한 정광 버너를 이용하는데, 이것은 종래의 모델과 비교했을 때 완전히 신규한 사상이다. 다시 말해서, 방법과 서스펜션 용련로의 제 4 실시형태에서, 액체 형태의 흡열 물질인 액체 냉각제 (25) 는 정광 버너를 통하여 서스펜션 용련로의 반응 샤프트로 이송된다. 액체 냉각제 (25) 는 예를 들어 다음 중 적어도 하나: 물, 강 황산 또는 약 황산과 같은 산 및 구리 술페이트 용액과 같은 다른 금속염 용액을 포함할 수도 있다.
제 5 실시형태: 잔류 산소 발생 방지
방법의 제 5 실시형태, 서스펜션 용련로의 제 5 실시형태, 및 정광 버너의 제 5 실시형태는 잔류 산소의 발생 방지에 관한 것이다.
여분의 산소, 즉 보일러의 전방부에서 소위 잔류 산소는 특정 온도 범위에서 S02 를 S03 로 산화시키는데 이것은 산 플랜트에서 세척되어, 바람직하지 못한 세척 산 (wash acid) 으로 변한다.
방법의 제 5 실시형태에서, 제 1 가스 (5) 는 제 1 가스 공급 기기 (12) 의 제 1 환형 배출구 (14) 를 통하여 서스펜션 용련로 (1) 의 반응 샤프트 (2) 로 제 1 가스 (5) 를 이송하기 전에 회전하게 된다.
서스펜션 용련로와 정광 버너의 제 5 실시형태에서, 정광 버너는 제 1 가스 공급 기기 (12) 의 제 1 환형 배출구 (14) 를 통하여 서스펜션 용련로 (1) 의 반응 샤프트 (2) 로 제 1 가스 (5) 를 이송하기 전에 제 1 가스 (5) 를 회전시키기 위한 회전 수단 (19) 을 포함한다. 이러한 정광 버너 (4) 는 도 5 에 나타나 있다.
서스펜션 용련로와 정광 버너의 제 5 실시형태에서, 정광 버너 (4) 는 바람직하지만 필수적이지는 않은 파이프 (26) 를 포함하는데, 이 파이프는 수직 방향으로 조절 가능하고 서스펜션 용련로 (1) 의 반응 샤프트 (2) 로 이송하기 전에 제 1 가스 (5) 와 농축물 입자를 예비 혼합할 수 있도록 한다. 이러한 정광 버너 (4) 는 도 5 에 나타나 있다.
방법의 제 5 실시형태에서, 대안적으로 또는 부가적으로, 제 2 가스 공급 기기 (18) 의 제 2 환형 배출구 (17) 를 통하여 서스펜션 용련로 (1) 의 반응 샤프트 (2) 로 제 2 가스 (16) 를 이송하기 전에 제 2 가스 (16) 가 회전하도록 할 수 있다.
대응하여, 서스펜션 용련로와 정광 버너의 제 5 실시형태에서, 정광 버너는 제 2 가스 공급 기기 (18) 의 제 2 환형 배출구 (17) 를 통하여 서스펜션 용련로 (1) 의 반응 샤프트 (2) 로 제 2 가스 (16) 를 이송하기 전에 제 2 가스를 회전시키기 위한 회전 수단을 포함할 수 있다.
이 방법, 서스펜션 용련로 및 정광 버너의 제 5 실시형태는 또한 서스펜션 용련로의 반응 샤프트 (2) 에서 잔류 산소를 감소시키기 위한 방법 및 서스펜션 용련로의 용도에 관한 것이다.
이 방법의 용도의 제 5 실시형태에서, 제 1 가스 공급 기기 (12) 의 제 1 환형 배출구 (14) 를 통하여 서스펜션 용련로 (1) 의 반응 샤프트 (2) 로 제 1 가스 (5) 를 이송하기 전에 제 1 가스를 회전시키도록 서스펜션 용련로가 사용된다.
이 서스펜션 용련로와 정광 버너의 용도의 제 5 실시형태에서, 제 1 가스 공급 기기 (12) 의 제 1 환형 배출구 (14) 를 통하여 서스펜션 용련로 (1) 의 반응 샤프트 (2) 로 제 1 가스 (5) 를 이송하기 전에 제 1 가스를 회전시키도록 서스펜션 용련로가 사용된다.
방법, 서스펜션 용련로 및 정광 버너의 제 5 실시형태는, 내부 배출구, 즉 정광 버너 (4) 의 제 1 가스 공급 기기 (12) 의 제 1 환형 배출구 (14) 를 통하여 유입되는 제 1 가스 (5) 를 회전시킴으로써 농축물과 산소의 혼합이 향상된다는 사실을 기초로 한다. 이렇게 발생된 난류는 샤프트에서 농축물 입자의 체류 시간을 증가시키고 농축물 입자와 산소와 혼합을 향상시킨다. 이런 인자들은 함께 입자들이 그것으로 이송된 산소를 보다 효과적으로 소비하도록 한다.
제 6 실시형태: 플라이 애시와 버너 부산물 양의 감소
방법의 제 6 실시형태, 서스펜션 용련로의 제 6 실시형태, 및 정광 버너의 제 6 실시형태는 플라이 애시와 버너 부산물의 양의 감소에 관한 것이다.
방법의 제 6 실시형태에서, 제 2 가스 (16) 는 10 ~ 200 m/s 의 유속으로 제 2 가스 공급 기기 (18) 의 제 2 환형 배출구 (17) 를 통하여 서스펜션 용련로 (1) 의 반응 샤프트 (2) 로 이송된다. 서스펜션 용련로의 제 6 실시형태에서, 서스펜션 용련로 (1) 의 정광 버너 (4) 는 10 ~ 200 m/s 의 속도로 제 2 가스 공급 기기 (18) 의 제 2 환형 배출구 (17) 를 통하여 서스펜션 용련로 (1) 의 반응 샤프트 (2) 로 제 2 가스 (16) 를 이송하는 수단을 포함한다. 10 ~ 50 m/s 의 저속은 정광 버너 (4) 근처에 리턴 유동의 접근을 방지하려고 사용되어, 리턴 유동에 의해 옮겨진 리턴 유동 분진이 정광 버너 (4) 근처에 부착될 수 없다. 50 ~ 200 m/s 의 고속은 다시 일반적으로 전술한 대로 분진이 서스펜션으로부터 이동하는 것을 방지한다.
이 방법, 서스펜션 용련로와 정광 버너의 제 6 실시형태는 또한 서스펜션 용련로의 반응 샤프트에서 플라이 애시와 버너 부산물의 양을 감소시키기 위한 방법 및 서스펜션 용련로의 용도에 관한 것이다.
이 방법의 용도의 제 6 실시형태에서, 제 2 가스 (16) 는 10 ~ 200 m/s 의 속도로 제 2 가스 공급 기기 (18) 의 제 2 환형 배출구 (17) 를 통하여 서스펜션 용련로 (1) 의 반응 샤프트 (2) 로 이송된다.
이 서스펜션 용련로와 정광 버너의 용도의 제 6 실시형태에서, 정광 버너 (4) 는 10 ~ 200 m/s 의 속도로 제 2 가스 공급 기기 (18) 의 제 2 환형 배출구 (17) 를 통하여 서스펜션 용련로 (1) 의 반응 샤프트 (2) 로 제 2 가스 (16) 를 이송하기에 적합하다.
다시 말해서, 방법, 서스펜션 용련로와 정광 버너의 제 6 실시형태에서, 가스는 서스펜션의 가운데에 배기 가스 유동으로 소위 플라이 애시의 형태로 입자들이 이동하는 것을 방지하기에 충분히 빠른 유속으로 외부 배출구를 통하여 이동된다. 동시에, 이동한 이 입자들의 리턴 유동으로 정광 버너 (4) 로 되돌아가는 것이 방지되어서, 정광 버너 (4) 또는 그것의 바로 근처에서 부산물의 발생이 방지된다.
제 7 실시형태: 산소와 미립자 고형물의 혼합 향상
방법의 제 7 실시형태, 서스펜션 용련로의 제 7 실시형태, 및 정광 버너의 제 7 실시형태는 산소와 미립자 고형물의 혼합 향상에 관한 것이다.
방법의 제 7 실시형태에서, 미세 고형물 공급 기기 (27) 의 이송 파이프 (7) 내부에 위치한 제 2 환형 배출구 (17) 를 가지는 제 2 가스 공급 기기 (18) 를 포함하는 이러한 정광 버너 (4) 가 사용되고 산소, 공업용 산소, 또는 산소 농후 공기가 제 2 가스 (16) 로서 사용된다.
방법의 제 7 실시형태에서, 미세 고형물 공급 기기 (27) 의 이송 파이프 (7) 내부에 위치한 제 2 환형 배출구 (17) 를 가지는 제 2 가스 공급 기기 (18) 를 포함하는 이러한 정광 버너 (4) 가 사용되는 것이 바람직하고 여기에서 제 2 환형 배출구 (17) 는 확산 기기 (9) 를 둘러싸고 확산 기기 (9) 에 의해 한정되고 산소, 공업용 산소, 또는 산소 농후 공기가 제 2 가스 (16) 로서 사용된다. 이러한 정광 버너 (4) 는 도 7 에 나타나 있다.
서스펜션 용련로와 정광 버너의 제 7 실시형태에서, 정광 버너 (4) 는 미세 고형물 공급 기기 (27) 의 이송 파이프 (7) 내부에 위치한 제 2 환형 배출구 (17) 를 가지는 제 2 가스 공급 기기 (18) 를 포함한다. 이 제 7 실시형태에서 제 2 환형 배출구 (17) 가 확산 기기 (9) 를 둘러싸는 것이 바람직하지만 필수적이지는 않고 확산 기기 (9) 에 의해 한정된다.
제 2 환형 배출구 (17) 를 통하여 제 2 가스 (16) 로서 산소 또는 산소 농후 공기를 이송함으로써, 산소와 미립자 고형물 (6) 이 반응 샤프트로 이송되기 전에 산소는 이미 미립자 고형물 (6) 과 혼합하게 되어서, 점화가 신속하게 발생하도록 한다.
이 제 7 실시형태에 의해 또한 더욱 안정적인 화염이 달성되는데, 이것은 산소와 미립자 고형물의 양호한 혼합 결과이다.
제 7 실시형태로 달성되는 다른 장점은, 프로세싱된 서스펜션 용련에서, 보통 반응 샤프트 (2) 의 가운데에 산소가 부족한데, 이 제 7 실시형태에서 제안된 대로 미세 고형물 공급 기기 (27) 의 이송 파이프 (7) 내부에 위치한 제 2 환형 배출구 (17) 를 가지는 제 2 가스 공급 기기 (18) 를 배치함으로써 그리고 이 제 2 환형 배출구 (17) 를 통하여 산소 또는 산소 농후 공기를 이송함으로써, 반응 샤프트 (2) 의 가운데에 산소 양이 상승될 수 있다는 것이다.
개선된 기술로, 발명의 기본 사상이 다양한 방식으로 실시될 수 있음은 본 기술분야의 당업자들에게 분명하다. 따라서, 발명과 그것의 실시형태는 전술한 실시예에 제한되지 않고, 청구항의 범위 내에서 변경할 수도 있다.

Claims (53)

  1. 반응 샤프트 (2) 를 포함하는 서스펜션 용련로 (1) 의 사용 방법으로서,
    미립자 고형물 (6) 을 반응 샤프트 (2) 로 이송하기 위한 이송 파이프 (7) 를 구비하고, 이송 파이프의 입구 (8) 는 반응 샤프트 (2) 에서 개방되는 미세 고형물 공급 기기 (27);
    이송 파이프 (7) 내부에 동심으로 배치되고 반응 샤프트 (2) 내부에 이송 파이프의 입구 (8) 로부터 연장되는 확산 기기로서, 확산 기기 (9) 주위의 확산 가스 (11) 를 확산 기기 (9) 주위에 유동하는 미세 고형물 (6) 로 향하게 하기 위한 확산 가스 홀 (10) 을 포함하는 확산 기기 (9); 및
    제 1 환형 배출구 (14) 에서 배출되는 제 1 가스 (5) 와, 가운데에 이송 파이프 (7) 로부터 배출되고 확산 가스 (11) 에 의하여 옆으로 향하는 미세 고형물 (6) 을 혼합하기 위해, 이송 파이프 (7) 를 동심으로 둘러싸는 상기 제 1 환형 배출구 (14) 를 통하여 반응 샤프트 (2) 에서 개방되고, 제 1 가스 (5) 를 반응 샤프트 (2) 로 이송하기 위한 제 1 가스 공급 기기 (12) 를 포함하는 정광 버너 (4) 를 사용하는 단계;
    정광 버너의 이송 파이프의 입구 (8) 를 통하여 반응 샤프트 (2) 로 미세 고형물 (6) 을 이송하는 단계;
    확산 기기 (9) 주위에 유동하는 미세 고형물 (6) 로 확산 가스 (11) 를 향하게 하기 위해 정광 버너의 확산 기기 (9) 의 확산 가스구 (10) 를 통하여 반응 샤프트 (2) 로 확산 가스 (11) 를 이송하는 단계; 및
    제 1 가스 (5) 와, 가운데에 이송 파이프 (7) 로부터 배출되고 확산 가스 (11) 에 의하여 옆으로 향하는 미세 고형물 (6) 을 혼합하기 위해, 정광 버너의 제 1 가스 공급 기기 (12) 의 제 1 환형 배출구 (14) 를 통하여 반응 샤프트 (2) 로 제 1 가스 (5) 를 이송하는 단계를 포함하는, 서스펜션 용련로 (1) 의 사용 방법에 있어서,
    상기 방법은 정광 버너의 제 1 가스 공급 기기 (12) 의 제 1 환형 배출구 (14) 와 동심을 이루고 서스펜션 용련로의 반응 샤프트 (2) 에서 개방되는 제 2 환형 배출구 (17) 를 포함하는 제 2 가스 공급 기기 (18) 를 포함하는 정광 버너 (4) 를 이용하고,
    제 2 가스 (16) 는 제 2 가스 공급 기기 (18) 의 제 2 환형 배출구 (17) 를 통하여 반응 샤프트 (2) 로 이송되며,
    상기 제 1 가스 (5) 및 제 2 가스 (16) 는 상이한 조성을 가지고,
    반응 샤프트 (2) 로 제 1 가스 공급 기기 (12) 의 제 1 환형 배출구 (14) 를 통하여 제 1 가스 (5) 를 이송하기 전에 제 1 가스 (5) 를 회전시키는 것을 특징으로 하는 서스펜션 용련로의 사용 방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 가스 (5) 로서 공업용 산소가 사용되는 것을 특징으로 하는 서스펜션 용련로의 사용 방법.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 가스 (5) 로서 공기가 사용되는 것을 특징으로 하는 서스펜션 용련로의 사용 방법.
  4. 제 1 항에 있어서,
    반응 샤프트 (2) 로 제 2 가스 공급 기기 (18) 의 제 2 환형 배출구 (17) 를 통하여 제 2 가스 (16) 를 이송하기 전에 농축물 입자 (22) 가 제 2 가스 (16) 에 첨가되는 것을 특징으로 하는 서스펜션 용련로의 사용 방법.
  5. 제 1 항에 있어서,
    반응 샤프트 (2) 로 제 1 가스 공급 기기 (12) 의 제 1 환형 배출구 (14) 를 통하여 제 1 가스 (5) 를 이송하기 전에 분사함으로써 액체 냉각제 (25) 가 제 1 가스 (5) 에 첨가되는 것을 특징으로 하는 서스펜션 용련로의 사용 방법.
  6. 제 1 항에 있어서,
    반응 샤프트 (2) 로 제 2 가스 공급 기기 (18) 의 제 2 환형 배출구 (17) 를 통하여 제 2 가스 (16) 를 이송하기 전에 분사함으로써 액체 냉각제 (25) 가 제 2 가스 (16) 에 첨가되는 것을 특징으로 하는 서스펜션 용련로의 사용 방법.
  7. 삭제
  8. 제 1 항에 있어서,
    반응 샤프트 (2) 로 제 2 가스 공급 기기 (18) 의 제 2 환형 배출구 (17) 를 통하여 제 2 가스 (16) 를 이송하기 전에 제 2 가스 (16) 를 회전시키는 것을 특징으로 하는 서스펜션 용련로의 사용 방법.
  9. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 2 가스 (16) 는 반응 샤프트 (2) 로 10 ~ 200 m/s 의 속도로 제 2 가스 공급 기기 (18) 의 제 2 환형 배출구 (17) 를 통하여 이송되는 것을 특징으로 하는 서스펜션 용련로의 사용 방법.
  10. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 2 가스 (16) 로서 산소, 공업용 산소, 또는 산소 농후 공기를 사용하는 것을 특징으로 하는 서스펜션 용련로의 사용 방법.
  11. 반응 샤프트 (2), 상승부 (3), 하부 노 (20), 및 정광 버너 (4) 를 포함하는 서스펜션 용련로 (1) 로서,
    상기 정광 버너 (4) 는,
    미립자 고형물 (6) 을 반응 샤프트 (2) 로 이송하기 위한 이송 파이프 (7) 를 구비하고, 이송 파이프의 입구 (8) 는 반응 샤프트 (2) 에서 개방되는 미세 고형물 공급 기기 (27);
    이송 파이프 (7) 내부에 동심으로 배치되고 반응 샤프트 (2) 내부에 이송 파이프의 입구 (8) 로부터 연장되는 확산 기기로서, 확산 기기 (9) 주위의 확산 가스 (11) 를 확산 기기 (9) 주위에 유동하는 미세 고형물 (6) 로 향하게 하기 위한 확산 가스 홀 (10) 을 포함하는 확산 기기 (9); 및
    제 1 환형 배출구 (14) 에서 배출되는 제 1 가스 (5) 와, 가운데에 이송 파이프 (7) 로부터 배출되고 확산 가스 (11) 에 의하여 옆으로 향하는 미세 고형물 (6) 을 혼합하기 위해, 이송 파이프 (7) 를 동심으로 둘러싸는 상기 제 1 환형 배출구 (14) 를 통하여 반응 샤프트 (2) 에서 개방되고, 제 1 가스 (5) 를 반응 샤프트 (2) 로 이송하기 위한 제 1 가스 공급 기기 (12) 를 포함하는 서스펜션 용련로 (1) 에 있어서,
    상기 정광 버너 (4) 는 제 2 가스 (16) 를 반응 샤프트 (2) 로 이송하기 위한 제 2 가스 공급 기기 (18) 를 포함하고, 제 2 가스 공급 기기 (18) 는 정광 버너의 제 1 가스 공급 기기 (12) 의 제 1 환형 배출구 (14) 와 동심을 이루고 반응 샤프트 (2) 로 제 2 가스 (16) 를 이송하기 위해 서스펜션 용련로 (1) 의 반응 샤프트 (2) 에서 개방되는 제 2 환형 배출구 (17) 를 포함하고,
    상기 제 1 가스 공급 기기 (12) 에 공급하기 위한 제 1 가스 공급원 (28) 을 포함하며,
    상기 제 2 가스 공급 기기 (18) 에 공급하기 위한 제 2 가스 공급원 (29) 을 포함하며, 상기 제 2 가스 공급원 (29) 은 제 1 가스 공급원 (28) 과 분리되어 있고,
    상기 제 1 가스 공급 기기 (12) 의 제 1 환형 배출구 (14) 를 통하여 반응 샤프트 (2) 로 제 1 가스 (5) 를 이송하기 전에 제 1 가스 (5) 를 회전시키기 위한 회전 수단 (19) 을 포함하는 것을 특징으로 하는 서스펜션 용련로.
  12. 제 11 항에 있어서,
    상기 제 1 가스 공급 기기 (12) 는 제 1 환형 배출구 (15) 를 통하여 제 1 가스 (5) 로서 공업용 산소를 이송하도록 되어 있는 것을 특징으로 하는 서스펜션 용련로.
  13. 제 11 항에 있어서,
    상기 제 1 가스 공급 기기 (12) 는 제 1 환형 배출구 (14) 를 통하여 제 1 가스 (5) 로서 공기를 이송하하도록 되어 있는 것을 특징으로 하는 서스펜션 용련로.
  14. 제 11 항에 있어서,
    상기 제 2 가스 공급 기기 (18) 의 제 2 환형 배출구 (17) 를 통하여 반응 샤프트 (2) 로 제 2 가스 (16) 를 이송하기 전에 농축물 입자와 제 2 가스 (16) 를 혼합하기 위해 농축물 입자용 이송 수단 (24) 을 포함하는 것을 특징으로 하는 서스펜션 용련로.
  15. 제 11 항에 있어서,
    상기 제 1 가스 공급 기기 (12) 의 제 1 환형 배출구 (14) 를 통하여 반응 샤프트 (2) 로 제 1 가스 (5) 를 이송하기 전에 분사함으로써 액체 냉각제 (25) 와 제 1 가스 (5) 를 혼합하기 위해 액체 냉각제용 이송기 (23) 를 포함하는 것을 특징으로 하는 서스펜션 용련로.
  16. 제 11 항에 있어서,
    상기 제 2 가스 공급 기기 (18) 의 제 2 환형 배출구 (17) 를 통하여 반응 샤프트 (2) 로 제 2 가스 (16) 를 이송하기 전에 분사함으로써 액체 냉각제 (25) 와 제 2 가스 (16) 를 혼합하기 위해 액체 냉각제용 이송기 (23) 를 포함하는 것을 특징으로 하는 서스펜션 용련로.
  17. 삭제
  18. 제 11 항에 있어서,
    상기 제 2 가스 공급 기기 (18) 의 제 2 환형 배출구 (17) 를 통하여 반응 샤프트 (2) 로 제 2 가스 (16) 를 이송하기 전에 제 2 가스 (16) 를 회전시키기 위한 회전 수단 (19) 을 포함하는 것을 특징으로 하는 서스펜션 용련로.
  19. 제 11 항에 있어서,
    10 ~ 200 m/s 의 속도로 제 2 가스 공급 기기 (18) 의 제 2 환형 배출구 (17) 를 통하여 반응 샤프트 (2) 로 제 2 가스 (16) 를 이송하기 위한 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 서스펜션 용련로.
  20. 제 11 항에 있어서,
    상기 정광 버너 (4) 는 미세 고형물 공급 기기 (27) 의 이송 파이프 (7) 내부에 위치한 제 2 환형 배출구 (17) 를 가지는 제 2 가스 공급 기기 (18) 를 포함하는 것을 특징으로 하는 서스펜션 용련로.
  21. 제 20 항에 있어서,
    상기 제 2 환형 배출구 (17) 가 확산 기기 (9) 를 둘러싸고 확산 기기 (9) 에 맞닿아 있는 것을 특징으로 하는 서스펜션 용련로.
  22. 서스펜션 용련로 (1) 의 반응 샤프트 (2) 로 미립자 고형물 (6) 과 가스를 이송하기 위한 정광 버너 (4) 로서,
    미립자 고형물 (6) 을 반응 샤프트 (2) 로 이송하기 위한 이송 파이프 (7) 를 구비하는 미세 고형물 공급 기기 (27);
    이송 파이프 (7) 내부에 동심으로 배치되고 이송 파이프의 입구 (8) 로부터 연장되는 확산 기기로서, 확산 기기 (9) 주위의 확산 가스 (11) 를 확산 기기 (9) 주위에 유동하는 미세 고형물 (6) 로 향하게 하기 위한 확산 가스 홀 (10) 을 구비하는 확산 기기 (9); 및
    제 1 환형 배출구 (14) 에서 배출되는 제 1 가스 (5) 와, 가운데에 이송 파이프 (7) 로부터 배출되고 확산 가스 (11) 에 의하여 옆으로 향하는 미세 고형물 (6) 을 혼합하기 위해, 이송 파이프 (7) 를 동심으로 둘러싸는 상기 제 1 환형 배출구 (14) 를 통하여 개방되고, 제 1 가스 (5) 를 반응 샤프트 (2) 로 이송하기 위한 제 1 가스 공급 기기 (12) 를 포함하는, 정광 버너 (4) 에 있어서,
    상기 정광 버너 (4) 는 제 2 가스 (16) 를 반응 샤프트 (2) 로 이송하기 위한 제 2 가스 공급 기기 (18) 를 포함하고, 제 2 가스 공급 기기 (18) 는 반응 샤프트 (2) 로 제 2 가스 (16) 를 이송하기 위해 정광 버너의 제 1 가스 공급 기기 (12) 의 제 1 환형 배출구 (14) 와 동심을 이루는 제 2 환형 배출구 (17) 를 포함하고,
    제 1 가스 공급원 (28) 을 제 1 가스 공급 기기 (12) 에 연결하기 위한 제 1 연결 수단 (30) 을 포함하고,
    제 2 가스 공급원 (29) 을 제 2 가스 공급 기기 (18) 에 연결하기 위한 제 2 연결 수단 (31) 을 포함하고, 제 2 가스 공급원 (29) 은 제 1 가스 공급원 (28) 과 분리되고,
    상기 제 1 가스 공급 기기 (12) 의 제 1 환형 배출구 (14) 를 통하여 제 1 가스 (5) 를 이송하기 전에 제 1 가스 (5) 를 회전시키기 위한 회전 수단 (19) 을 포함하는 것을 특징으로 하는 정광 버너.
  23. 제 22 항에 있어서,
    상기 제 1 가스 공급 기기 (12) 는 제 1 환형 배출구 (14) 를 통하여 제 1 가스 (5) 로서 공업용 산소를 이송하도록 되어 있는 것을 특징으로 하는 정광 버너.
  24. 제 22 항에 있어서,
    상기 제 1 가스 공급 기기 (12) 는 제 1 환형 배출구 (14) 를 통하여 제 1 가스 (5) 로서 공기를 이송하도록 되어 있는 것을 특징으로 하는 정광 버너.
  25. 제 22 항에 있어서,
    상기 제 2 가스 공급 기기 (18) 의 제 2 환형 배출구 (17) 를 통하여 제 2 가스 (16) 를 이송하기 전에 농축물 입자와 제 2 가스 (16) 를 혼합하기 위해 농축물 입자용 이송 수단 (24) 을 포함하는 것을 특징으로 하는 정광 버너.
  26. 제 22 항에 있어서,
    상기 제 1 가스 공급 기기 (12) 의 제 1 환형 배출구 (14) 를 통하여 제 1 가스 (5) 를 이송하기 전에 분사함으로써 액체 냉각제 (25) 와 제 1 가스 (5) 를 혼합하기 위해 액체 냉각제용 이송기 (23) 를 포함하는 것을 특징으로 하는 정광 버너.
  27. 제 22 항에 있어서,
    상기 제 2 가스 공급 기기 (18) 의 제 2 환형 배출구 (17) 를 통하여 제 2 가스 (16) 를 이송하기 전에 분사함으로써 액체 냉각제 (25) 와 제 2 가스 (16) 를 혼합하기 위해 액체 냉각제용 이송기 (23) 를 포함하는 것을 특징으로 하는 정광 버너.
  28. 삭제
  29. 제 22 항에 있어서,
    상기 제 2 가스 공급 기기 (18) 의 제 2 환형 배출구 (17) 를 통하여 제 2 가스 (16) 를 이송하기 전에 제 2 가스 (16) 를 회전시키기 위한 회전 수단 (19) 을 포함하는 것을 특징으로 하는 정광 버너.
  30. 제 22 항에 있어서,
    10 ~ 200 m/s 의 속도로 제 2 가스 공급 기기 (18) 의 제 2 환형 배출구 (17) 를 통하여 제 2 가스 (16) 를 이송하기 위한 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 정광 버너.
  31. 제 22 항에 있어서,
    상기 정광 버너 (4) 는 미세 고형물 공급 기기 (27) 의 이송 파이프 (7) 내부에 위치한 제 2 환형 배출구 (17) 를 가지는 제 2 가스 공급 기기 (18) 를 포함하는 것을 특징으로 하는 정광 버너.
  32. 제 31 항에 있어서,
    상기 제 2 환형 배출구 (17) 는 확산 기기 (9) 를 둘러싸고 확산 기기 (9) 에 맞닿아 있는 것을 특징으로 하는 정광 버너.
  33. 제 2 항 또는 제 3 항에 있어서,
    상기 방법은 질소 산화물의 발생을 감소시키는데 사용되는 것을 특징으로 하는 서스펜션 용련로의 사용 방법.
  34. 제 12 항 또는 제 13 항에 있어서,
    상기 서스펜션 용련로는 질소 산화물의 발생을 감소시키는데 사용되는 것을 특징으로 하는 서스펜션 용련로.
  35. 제 23 항 또는 제 24 항에 있어서,
    상기 정광 버너는 질소 산화물의 발생을 감소시키는데 사용되는 것을 특징으로 하는 정광 버너.
  36. 제 2 항에 있어서,
    상기 방법은 반응 샤프트 (2) 에서 농축물의 점화를 향상시키는데 사용되는 것을 특징으로 하는 서스펜션 용련로의 사용 방법.
  37. 제 12 항에 있어서,
    상기 서스펜션 용련로는 반응 샤프트 (2) 에서 농축물의 점화를 향상시키기는데 사용되는 것을 특징으로 하는 서스펜션 용련로.
  38. 제 23 항에 있어서,
    상기 정광 버너는 반응 샤프트 (2) 에서 농축물의 점화를 향상시키기는데 사용되는 것을 특징으로 하는 정광 버너.
  39. 제 4 항에 있어서,
    상기 방법은 제 2 농축물 입자 분획물보다 더 작은 농축물 입자를 함유한 제 1 농축물 입자 분획물과 제 2 농축물 입자 분획물을 서스펜션 용련로 (1) 의 반응 샤프트 (2) 로 이송하는데 사용되고,
    제 2 가스 (16) 와 혼합된 제 1 농축물 입자 분획물을 제 2 가스 공급 기기 (18) 의 제 2 환형 배출구 (17) 를 통하여 반응 샤프트 (2) 로 이송하고, 및
    이송 파이프 (7) 의 입구 (8) 를 통하여 반응 샤프트 (2) 로 제 2 농축물 입자 분획물을 이송하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 서스펜션 용련로의 사용 방법.
  40. 제 14 항에 있어서,
    상기 서스펜션 용련로는 제 2 농축물 입자 분획물보다 더 작은 농축물 입자를 함유한 제 1 농축물 입자 분획물과 제 2 농축물 입자 분획물을 서스펜션 용련로 (1) 의 반응 샤프트 (2) 로 이송하는데 사용되고,
    제 2 가스 (16) 와 혼합된 제 1 농축물 입자 분획물을 제 2 가스 공급 기기 (18) 의 제 2 환형 배출구 (17) 를 통하여 반응 샤프트 (2) 로 이송하고, 및
    이송 파이프 (7) 의 입구 (8) 를 통하여 반응 샤프트 (2) 로 제 2 농축물 입자 분획물을 이송하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 서스펜션 용련로.
  41. 제 25 항에 있어서,
    상기 정광 버너는 제 2 농축물 입자 분획물보다 더 작은 농축물 입자를 함유한 제 1 농축물 입자 분획물과 제 2 농축물 입자 분획물을 서스펜션 용련로 (1) 의 반응 샤프트 (2) 로 이송하는데 사용되고,
    제 2 가스 (16) 와 혼합된 제 1 농축물 입자 분획물을 제 2 가스 공급 기기 (18) 의 제 2 환형 배출구 (17) 를 통하여 반응 샤프트 (2) 로 이송하고, 및
    이송 파이프 (7) 의 입구 (8) 를 통하여 반응 샤프트 (2) 로 제 2 농축물 입자 분획물을 이송하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 정광 버너.
  42. 제 5 항 또는 제 6 항에 있어서,
    상기 방법은 서스펜션 용련로의 반응 샤프트의 온도를 제어하는데 사용되는 것을 특징으로 하는 서스펜션 용련로의 사용 방법.
  43. 제 15 항 또는 제 16 항에 있어서,
    상기 서스펜션 용련로는 상기 서스펜션 용련로의 반응 샤프트의 온도를 제어하는데 사용되는 것을 특징으로 하는 서스펜션 용련로.
  44. 제 26 항 또는 제 27 항에 있어서,
    상기 정광 버너는 서스펜션 용련로의 반응 샤프트의 온도를 제어하는데 사용되는 것을 특징으로 하는 정광 버너.
  45. 제 1 항 또는 제 8 항에 있어서,
    상기 방법은 서스펜션 용련로의 반응 샤프트 (2) 에서 잔류 산소를 감소시키는데 사용되는 것을 특징으로 하는 서스펜션 용련로의 사용 방법.
  46. 제 11 항 또는 제 18 항에 있어서,
    상기 서스펜션 용련로는 상기 서스펜션 용련로의 반응 샤프트 (2) 에서 잔류 산소를 감소시키는데 사용되는 것을 특징으로 하는 서스펜션 용련로.
  47. 제 22 항 또는 제 29 항에 있어서,
    상기 정광 버너는 서스펜션 용련로의 반응 샤프트 (2) 에서 잔류 산소를 감소시키는데 사용되는 것을 것을 특징으로 하는 정광 버너.
  48. 제 9 항에 있어서,
    상기 방법은 서스펜션 용련로의 반응 샤프트에서 플라이 애시와 버너 부산물의 양을 감소시키는데 사용되는 사용되는 것을 특징으로 하는 서스펜션 용련로의 사용 방법.
  49. 제 19 항에 있어서,
    상기 서스펜션 용련로는 상기 서스펜션 용련로의 반응 샤프트에서 플라이 애시와 버너 부산물의 양을 감소시키는데 사용되는 것을 특징으로 하는 서스펜션 용련로.
  50. 제 30 항에 있어서,
    상기 정광 버너는 서스펜션 용련로의 반응 샤프트에서 플라이 애시와 버너 부산물의 양을 감소시키는데 사용되는 것을 것을 특징으로 하는 정광 버너.
  51. 제 10 항에 있어서,
    상기 방법은 산소와 미립자 고형물 (6) 의 혼합을 향상시키는데 사용되고,
    제 2 가스 (16) 로서 산소 또는 산소 농후 공기를 사용하는 것을 특징으로 하는 서스펜션 용련로의 사용 방법.
  52. 제 20 항 또는 제 21 항에 있어서,
    상기 서스펜션 용련로는 산소와 미립자 고형물 (6) 의 혼합을 향상시키는데 사용되고,
    제 2 가스 (16) 로서 산소 또는 산소 농후 공기를 사용하는 것을 특징으로 하는 서스펜션 용련로.
  53. 제 31 항 또는 제 32 항에 있어서,
    상기 정광 버너는 산소와 미립자 고형물 (6) 의 혼합을 향상시키는데 사용되고,
    제 2 가스 (16) 로서 산소 또는 산소 농후 공기를 사용하는 것을 특징으로 하는 정광 버너.
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