KR101061913B1 - 액 처리 시스템 - Google Patents

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사토시 가네코
마사미 아키모토
다카유키 도시마
노리히로 이토
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도쿄엘렉트론가부시키가이샤
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Abstract

액 처리 시스템은 기판(W)에 처리액을 공급하여 액 처리를 행하는 복수의 액 처리 유닛(22)이 수평으로 배치된 액 처리부(21b)와, 액 처리부의 복수의 액 처리 유닛으로 공급하는 처리액을 저장하는 처리액 저장부(21h)와, 처리액 저장부로부터 복수의 액 처리 유닛으로 처리액을 유도하는 공급 배관을 갖는 배관 유닛(21f)과, 액 처리부, 처리액 저장부 및 배관 유닛을 수용하는 공통의 케이스(21)를 구비한다. 처리액 저장부, 배관 유닛 및 액 처리부는 아래쪽에서부터 이러한 순서로 배치되며, 배관 유닛의 공급 배관은 복수의 액 처리 유닛의 배열 방향을 따라 수평으로 연장되는 수평 배관부(70a)를 가지며, 수평 배관부로부터 액 처리 유닛으로 처리액이 각각 도입된다.

Description

액 처리 시스템{LIQUID TREATMENT SYSTEM}
본 발명은, 예컨대 반도체 웨이퍼 등의 기판에 대하여 소정의 액 처리 예컨대 세정 처리를 행하는 액 처리 시스템에 관한 것이다.
반도체 디바이스의 제조 프로세스나 플랫 패널 디스플레이(FPD)의 제조 프로세스에 있어서는, 피처리 기판인 반도체 웨이퍼나 유리 기판에 처리액을 공급하여 액 처리를 행하는 프로세스가 다용되고 있다. 이러한 프로세스로서는, 예컨대 기판에 부착된 미립자나 오염물 등을 제거하는 세정 처리, 포토리소그래피 공정에 있어서의 포토레지스트액이나 현상액의 도포 처리 등을 들 수 있다.
이러한 액 처리 시스템으로서는 매엽식(枚葉式)의 복수의 처리 유닛과, 이들 처리 유닛으로의 반입 및 반출을 행하는 반송 장치를 구비한 것이 이용되고 있다. 각 처리 유닛은 반도체 웨이퍼 등의 기판을 스핀 척에 유지하고, 기판을 회전시킨 상태에서 웨이퍼의 표면 또는 표리면에 처리액을 공급하여 처리를 행한다. 시스템의 풋프린트의 증가를 억제하면서 보다 높은 스루풋을 실현하기 위해서 상기 처리 유닛을 다단으로 적층한 레이아웃이 다용되고 있다(예컨대, 일본 특허 공개 제2005-93769호 공보).
이러한 액 처리 시스템에 있어서는, 처리액(약액)을 공급하는 처리액 공급 유닛을 처리액마다 마련하고, 처리액마다 순환 공급을 행하고 있다. 그러나, 이와 같이 복수의 처리 유닛을 적층하는 경우에는, 처리액을 순환 공급하는 배관을 설치할 때, 상하의 기복이 생긴다. 이 때문에, 배관의 배치가 복잡해져서 배관이 점유하는 공간이 커지게 된다. 또한, 처리 유닛으로부터 집합 배기 및 집합 배액(排液)까지의 거리가 처리 유닛마다 달라지게 되어 균일한 처리를 행하기 어려운 경우가 발생한다.
본 발명의 목적은 복수의 처리 유닛을 갖는 액 처리 시스템에 있어서, 한층 더 공간 절약화를 행할 수 있는 액 처리 시스템을 제공하는 것에 있다.
본 발명의 다른 목적은 복수의 처리 유닛을 갖는 액 처리 시스템에 있어서, 처리 유닛 사이에서 균일한 처리를 행할 수 있는 액 처리 시스템을 제공하는 것에 있다.
본 발명의 제1 시점은 액 처리 시스템으로서, 기판에 처리액을 공급하여 액 처리를 행하는 복수의 액 처리 유닛이 수평으로 배치된 액 처리부와, 상기 액 처리부의 상기 복수의 액 처리 유닛으로 공급하는 처리액을 저장하는 처리액 저장부와, 상기 처리액 저장부로부터 상기 복수의 액 처리 유닛으로 처리액을 유도하는 공급 배관을 갖는 배관 유닛을 구비하고, 상기 처리액 저장부, 상기 배관 유닛 및 상기 액 처리부는 아래쪽에서부터 이러한 순서로 공통의 케이스 내에 배치되며, 상기 배관 유닛의 상기 공급 배관은 상기 복수의 액 처리 유닛의 배열 방향을 따라 수평으로 연장되는 수평 배관부를 가지며, 상기 수평 배관부로부터 상기 액 처리 유닛으로 처리액이 각각 도입된다.
상기 제1 시점에 있어서, 상기 액 처리 유닛은 각각 밸브가 설치된 개별 기립 배관부에 의해 상기 수평 배관부에 각각 접속될 수 있다. 상기 배관 유닛은 상기 액 처리 유닛으로부터 각각 배출된 처리액을 배액하는 배액 배관의 수평 배관부를 더 가질 수 있고, 이것은 상기 공급 배관의 상기 수평 배관부와 평행하게 연장될 수 있다. 이 경우, 상기 배액 배관을 흐르는 처리액의 적어도 일부를 재이용하기 위해서 회수하는 회수 기구를 더 구비할 수 있다. 상기 배관 유닛은 상기 액 처리 유닛으로부터 각각 배출된 배기를 시스템 밖으로 유도하는 배기 배관의 수평 배관부를 더 가질 수 있고, 이것은 상기 공급 배관의 상기 수평 배관부와 평행하게 연장될 수 있다.
상기 배관 유닛은 수평으로 배치된 박스를 가지며, 그 안에 상기 수평 배관부가 연장될 수 있다. 이 경우, 상기 박스 내를 배기하는 배기관을 더 구비할 수 있다. 상기 액 처리부는 상기 복수의 액 처리 유닛의 구동계가 일괄적으로 배치된 구동 영역을 가질 수 있다. 이 경우, 상기 구동 영역 내를 배기하는 배기관을 더 구비할 수 있다. 상기 액 처리부에 인접하여 설치되고, 기판을 복수 장 수납하는 기판 수납 용기를 적재할 수 있도록 구성된 기판 반입 및 반출부를 더 구비할 수 있으며, 상기 기판 반입 및 반출부는 상기 기판 수납 용기 내의 기판을 상기 액 처 리부로 반입하고, 상기 액 처리부에서의 처리 후의 기판을 상기 기판 수납 용기로 반출한다.
상기 제1 시점에 있어서, 상기 액 처리 시스템은 상기 복수의 액 처리 유닛이 서로 평행하게 배치된 제1 및 제2 열의 액 처리 유닛을 구비하고, 상기 수평 배관부는 상기 제1 및 제2 열의 액 처리 유닛의 각각의 배열 방향을 따라 연장되는 제1 및 제2 수평 배관부를 구비하며, 상기 제1 및 제2 수평 배관부는 접속 배관부에 의해 접속되고, 상기 처리액은 상기 처리액 저장부로부터, 상기 제1 수평 배관부, 상기 접속 배관부 및 상기 제2 수평 배관부의 순으로 흐르도록 구성할 수 있다.
이 경우, 상기 제1 수평 배관부, 상기 접속 배관부 및 상기 제2 수평 배관부는 상기 처리액 저장부에 대하여 처리액을 순환시키는 순환로를 형성할 수 있다. 상기 제1 및 제2 열의 액 처리 유닛은 반송로의 양측에 배치되고, 상기 액 처리 시스템은 상기 반송로를 따라 이동하여 상기 제1 및 제2 열의 액 처리 유닛으로 기판을 반송하는 반송 기구를 더 구비할 수 있다. 상기 접속 배관부는 상기 반송로의 하측을 통과할 수 있다. 상기 반송로를 구획하는 영역의 저부는 상기 배관 유닛을 배치하는 영역의 저부보다도 하측에 위치할 수 있는 상기 반송로에 청정 공기를 공급하는 팬 필터 유닛을 더 구비하고, 상기 액 처리 유닛은 상기 청정 공기를 상기 반송로로부터 받아들이는 도입부를 각각 구비할 수 있다.
본 발명의 제2 시점은 액 처리 시스템으로서, 기판에 처리액을 공급하여 액 처리를 행하는 복수의 액 처리 유닛이 수평으로 배치된 액 처리부와, 상기 복수의 액 처리 유닛이 반송로의 양측에 배치된 제1 및 제2 열의 액 처리 유닛을 구비하는 것과, 상기 반송로를 따라 이동하여 상기 제1 및 제2 열의 액 처리 유닛으로 기판을 반송하는 반송 기구와, 상기 액 처리부의 상기 복수의 액 처리 유닛으로 공급하는 처리액을 저장하는 처리액 저장부와, 상기 처리액 저장부로부터 상기 복수의 액 처리 유닛으로 처리액을 유도하는 공급 배관을 갖는 배관 유닛을 구비하고, 상기 처리액 저장부, 상기 배관 유닛 및 상기 액 처리부는 아래쪽에서부터 이러한 순서로 공통의 케이스 내에 배치되며, 상기 배관 유닛의 상기 공급 배관은 상기 제1 및 제2 열의 액 처리 유닛의 각각의 배열 방향을 따라 수평으로 연장되는 제1 및 제2 수평 배관부를 가지며, 상기 제1 및 제2 수평 배관부는 접속 배관부에 의해 접속되고, 상기 처리액은 상기 처리액 저장부로부터 상기 제1 수평 배관부, 상기 접속 배관부 및 상기 제2 수평 배관부의 순으로 흘러 상기 제1 및 제2 수평 배관부로부터 상기 액 처리 유닛으로 처리액이 각각 도입될 수 있다.
본 발명에 따르면, 케이스 내에 복수의 액 처리 유닛을 수평으로 배치하여 유닛실을 구성하고, 그 아래쪽에 배관 박스를 배치하며, 배관 박스의 아래쪽에 약액 공급 유닛을 더 배치한다. 또한, 배관 박스 내에 있어서 처리액 배관군을 수평으로 배치하여 처리액 배관군의 각 처리액 배관으로부터 각 액 처리 유닛으로 처리액을 유도한다. 이에 따라, 배관의 기복을 극력 억제하여 소형화할 수 있어 공간 절약화를 도모할 수 있는 동시에, 액 처리 유닛 사이에서 균일한 처리를 행할 수 있다. 또한, 각 액 처리 유닛으로부터 배출된 처리액을 배액하기 위한 배액 배관군 및 각 액 처리 유닛으로부터의 배기를 시스템 밖으로 유도하는 배기 배관군도 배관 박스 내에 수평으로 배치한다. 이에 따라, 배관 공간을 더 줄일 수 있다.
본 발명의 추가 목적 및 이점은 이하의 상세한 설명에 기술되는데, 그 일부는 그 설명으로부터 명백하거나 본 발명의 실시를 통해 알 수 있다. 본 발명의 목적 및 이점은 특히 이하에 언급한 구성 및 조합에 의해 실현 및 달성될 수 있다.
본 명세서에 통합되어 그 일부를 구성하는 첨부 도면은 본 발명의 실시형태를 예시하며, 전술한 전반적인 설명 및 후술하는 실시형태의 상세한 설명과 함께 본 발명의 원리를 설명하는 역할을 한다.
이하에, 본 발명의 실시 형태에 대해서 도면을 참조하여 설명한다. 또한, 이하의 설명에 있어서, 대략 동일한 기능 및 구성을 갖는 구성 요소에 대해서는 동일 부호를 붙이고, 중복 설명은 필요한 경우에만 행한다. 여기서는, 본 발명을 반도체 웨이퍼(이하, 단순히 웨이퍼라고 기재함)의 표리면 세정을 행하는 액 처리 시스템에 적용한 경우에 대해서 나타낸다.
도 1은 본 발명의 일 실시 형태에 따른 액 처리 시스템의 개략 구성을 도시한 평면도이다. 도 2는 도 1의 II-II선을 따라 취한 정면측의 단면도이다. 도 3은 도 1의 III-III선을 따라 취한 측면측의 단면도이다.
이 액 처리 시스템(100)은 서로 인접하여 설치된 반입 및 반출 스테이션(기판 반입 및 반출부)(1)과 처리 스테이션(액 처리부)(2)을 구비한다. 반입 및 반출 스테이션(1)은 복수의 웨이퍼(W)를 수용하는 웨이퍼 캐리어(C)를 적재하고, 웨이 퍼(W)의 반입 및 반출을 행한다. 처리 스테이션(2)은 웨이퍼(W)에 세정 처리를 행하도록 구성된다.
반입 및 반출 스테이션(1)은 캐리어 적재부(11)와, 웨이퍼(W)의 반송을 행하는 반송부(12)와, 웨이퍼(W)의 전달을 행하는 전달부(13)를 갖는다. 캐리어 적재부(11)는 복수의 웨이퍼(W)를 수평 상태에서 수용하는 웨이퍼 캐리어(C)를 적재한다. 반송부(12) 및 전달부(13)는 케이스(14)에 수용된다.
캐리어 적재부(11)는 4개의 웨이퍼 캐리어(C)를 적재할 수 있다. 적재된 웨이퍼(C)는 케이스(14)의 수직 벽부에 밀착된 상태가 되고, 대기에 접촉되는 일없이 그 안의 웨이퍼(W)를 반송부(12)로 반입할 수 있게 된다.
케이스(14)는 반송부(12)와 전달부(13)를 수직으로 구획하는 구획 부재(14a)를 갖는다. 반송부(12)는 반송 기구(15)와, 그 위쪽에 설치된 세정 공기의 다운 플로를 공급하는 팬 필터 유닛(FFU)(16)을 갖는다. 반송 기구(15)는 웨이퍼(W)를 유지하는 웨이퍼 유지 아암(13)과 이것을 구동하는 기구를 갖는다. 즉, 웨이퍼 유지 아암(15a)은 전후로 이동 가능하면서 웨이퍼 캐리어(C)의 배열 방향인 X 방향으로 연장되는 수평 가이드(17)(도 1 참조)를 따라 이동 가능하다. 웨이퍼 유지 아암(152)은, 또한, 수직 방향으로 설치된 수직 가이드(18)(도 2 참조)를 따라 이동 가능하면서 수평면 내에서 회전 가능하다. 이 반송 기구(15)에 의해 웨이퍼 캐리어(C)와 전달부(13) 사이에서 웨이퍼(W)가 반송된다.
전달부(13)는 전달 스테이지(19)와, 그 위에 설치된 웨이퍼(W)를 적재할 수 있는 적재부를 복수 구비한 전달 선반(20)을 갖는다. 이 전달 선반(20)을 통해 처 리 스테이션(2) 사이에서 웨이퍼(W)의 전달이 행해진다.
처리 스테이션(2)은 직방체 형상으로 된 케이스(21)를 갖는다. 케이스(21) 내에는 그 중앙 상부에 웨이퍼 캐리어(C)의 배열 방향인 X 방향으로 직교하는 Y 방향을 따라 연장되는 반송로를 구성하는 반송실(21a)이 형성된다. 반송실(21a)의 양측에 2개의 유닛실(21b, 21c)이 설치된다. 유닛실(21b, 21c)에는 각각 반송실(21a)을 따라 6개씩 합계 12개의 액 처리 유닛(22)이 수평으로 배열된다.
케이스(21) 내의 유닛실(21b, 21c) 아래에는 각각 각 액 처리 유잇(22)의 구동계를 수용한 구동 영역(21d, 21e)이 설치된다. 이들 구동 영역(21d, 21e) 아래에는 각각 배관을 수용한 배관 박스(21f, 21g)가 설치된다. 또한, 배관 박스(21f, 21g) 아래에는 각각 처리액 저장부로서의 약액 공급 유닛(21h, 21i)이 설치된다. 한편, 반송실(21a)의 아래쪽은 배기를 위한 배기 공간(21j)이 설치된다.
반송실(21a)의 위쪽에는 팬 필터 유닛(FFU)(23)이 설치되고, 반송실(21a)로 청정 공기의 다운 플로를 공급한다. 반송실(21a)의 내부에는 반송 기구(24)가 설치된다. 반송 기구(24)는 웨이퍼(W)를 유지하는 웨이퍼 유지 아암(24a)과 이것을 구동하는 기구를 갖는다. 즉, 웨이퍼 유지 아암(24a)은 전후로 이동 가능하면서 반송실(21a)에 설치된 수평 가이드(25)(도 1 참조)를 따라 Y 방향으로 이동 가능하다. 웨이퍼 유지 아암(24a)은, 또한, 수직 방향으로 설치된 수직 가이드(26)(도 3 참조)를 따라 이동 가능하면서 수평면 내에서 회전 가능하다. 이 반송 기구(24)에 의해 각 액 처리 유닛(22)에 대한 웨이퍼(W)의 반입 및 반출을 행한다.
또한, 전달 스테이지(19)는 캐리어 적재부(11)보다도 높은 위치에 설치되고, 액 처리 유닛(22)은 전달 스테이지(19)보다도 높은 위치에 설치된다.
배관 박스(21f, 21g)에는 처리액 배관군(70), 배액 배관군(71) 및 배기 배관군(72)이 수평으로 배치된다. 처리액 배관군(70)은, 예컨대 암모니아수와 과산화수소를 혼합하여 형성된 암모니아과수(SC1)를 공급하는 SC1 배관(70a), 희불산(DHF)을 공급하는 DHF 배관(70b), 순수를 공급하는 순수 배관(70c)을 갖는다. 또한, 배액 배관군(71)은, 예컨대 산을 배액하기 위한 산 배액 배관(71a), 알칼리를 배액하기 위한 알칼리 배액 배관(71b), 산을 회수하는 산 회수 배관(71c), 알칼리를 회수하는 알칼리 회수 배관(71d)을 갖는다. 배기 배관군(72)은, 예컨대 산을 배기하기 위한 산 배기 배관(72a), 알칼리를 배기하기 위한 알칼리 배기 배관(72b)을 갖는다.
약액 공급 유닛(21h, 21i)의 반입 및 반출 스테이션(1)측의 단부에는 도 2에 도시된 바와 같이 제1 수직 배관 영역(27a)이 설치된다. 반대측의 단부에는 제2 수직 배관 영역(27b)이 설치된다.
액 처리 유닛(22)은 도 4에 확대하여 도시한 바와 같이, 베이스 플레이트(41)와, 웨이퍼(W)를 회전 가능하게 유지하는 웨이퍼 유지부(42)를 갖는다. 이 웨이퍼 유지부(42)는 회전 모터(43)에 의해 회전된다. 웨이퍼 유지부(42)에 유지된 웨이퍼(W)를 둘러싸면서 웨이퍼 유지부(42)와 함께 회전하도록 회전컵(44)이 설치된다. 액 처리 유닛(22)은 웨이퍼(W)의 표면에 처리액을 공급하는 표면 처리액 공급 노즐(45)과, 웨이퍼(W)의 이면에 처리액을 공급하는 이면 처리액 공급 노즐(46)을 더 갖는다. 또한, 회전컵(44)의 주연부에 배기 및 배액부(47)가 설치된다. 또 한, 배기 및 배액부(47)의 주위 및 웨이퍼(W)의 위쪽을 덮도록 케이싱(48)이 설치된다. 케이싱(48)의 상부에는 팬 필터 유닛(FFU)(23)으로부터의 기류를 도입하는 기류 도입부(49)가 설치되고, 웨이퍼 유지부(42)에 유지된 웨이퍼(W)에 청정 공기의 다운 플로가 공급된다. 이 기류 도입부(49)에는 도 3에 도시한 바와 같이 반송실(21a)로 연결되는 개구(49a)가 형성되고, 이 개구(49a)로부터 기류가 도입된다.
웨이퍼 유지부(42)는 수평으로 설치되어 원판 형상으로 된 회전 플레이트(51)를 갖는다. 회전 플레이트(51)는 중앙에 원형의 구멍(51a)을 가지며, 그 이면의 구멍(51a)의 주위 부분에 아래쪽으로 수직으로 연장되는 원통 형상 회전축(52)이 접속된다. 이면 처리액 공급 노즐(46)을 구비한 승강 부재(53)가 구멍(52a) 및 구멍(51a) 내를 승강 가능하게 설치된다. 회전 플레이트(51)에는 웨이퍼(W)의 외선을 유지하는 3개(1개만 도시)의 유지 부재(54)가 설치된다.
회전축(52)은 2개의 베어링(55a)을 갖는 베어링 부재(55)를 통해 베이스 플레이트(41)에 회전 가능하게 지지된다. 회전축(52)과 모터(43)의 축에 끼워 넣어진 풀리(58)에는 벨트(57)가 감겨져 모터(43)의 회전 구동이 회전축(52)에 전달된다.
승강 부재(53)의 상단부에는 웨이퍼 지지핀(65)을 갖는 웨이퍼 지지대(64)가 설치된다. 또한, 승강 부재(53)의 하단에는 접속 부재(66)를 통해 실린더 기구(67)가 접속된다. 이 실린더 기구(67)에 의해 승강 부재(53)를 승강시킴으로써 웨이퍼(W)를 승강시켜 웨이퍼(W)의 로딩 및 언로딩이 행해진다.
표면 처리액 공급 노즐(45)은 노즐 아암(62)에 유지된다. 도시하지 않은 구동 기구에 의해 노즐 아암(62)을 이동시킴으로써, 표면 처리액 공급 노즐(45)을 웨 이퍼(W) 위쪽의 처리액 공급 위치와 후퇴 위치 사이에서 이동시킬 수 있게 된다. 표면 처리액 공급 노즐(45)로부터 웨이퍼(W)의 표면에 처리액이 공급된다. 이면 처리액 공급 노즐(46)은 승강 부재(53)의 내부 중심에 수직으로 설치된다. 이면 처리액 공급 노즐(46)로부터 웨이퍼(W)의 표면에 처리액이 공급된다. 표면 처리 공급 노즐(45) 및 이면 처리 공급 노즐(46)에는 수직 배관(68)을 통해 처리액이 공급된다. 수직 배관(68)은 상기 배관 박스(21f 또는 21g) 내에 수평으로 설치된 상기 처리액 배관군(70)을 구성하는 3개의 배관(70a∼70c)에 각각 밸브(80a∼80c)를 통해 접속된다.
회전컵(44)은 회전 플레이트(51)와 함께 회전되어, 웨이퍼(W)로부터 비산된 처리액이 웨이퍼(W)로 되돌아가는 것이 억제되며, 처리액은 아래쪽으로 유도된다. 회전컵(44)과 회전 플레이트(51) 사이에는 웨이퍼(W)와 거의 동일한 높이의 위치에 판 형상으로 된 안내 부재(87)가 개재된다. 안내 부재(87)는 그 표리면이 웨이퍼(W)의 표리면과 대략 연속하도록 설치되고, 웨이퍼(W)로부터 비산된 처리액이 난류화하는 것을 방지하여 미스트의 비산을 억제하는 기능을 갖는다.
배기 및 배액부(47)는 주로 회전 플레이트(51)와 회전컵(44)으로 둘러싸여진 공간으로부터 배출되는 기체 및 액체를 회수하기 위한 것이다. 배기 및 배액부(47)는 회전컵(44)으로부터 배출된 처리액을 받는 환상으로 된 배액컵(91)과, 배액컵(91)의 외측에 배액컵(91)을 둘러싸도록 설치된 환상으로 된 배기컵(92)을 구비한다. 배액컵(91)은 회전컵(44)으로부터 유도된 처리액을 받는 메인부(91a)와 유지 부재(54)로부터 적하하는 처리액을 받는 서브부(91b)를 갖는다. 이들 메인부(91a) 와 서브부(91b) 사이는 난기류를 막기 위한 수직벽(93)으로 구획되어 있다.
배액컵(91)의 저부의 최외측 부분에는 배액관(94)이 접속된다. 배액관(94)에는 배액 전환부(83)가 접속되고, 처리액의 종류에 따라 분별할 수 있게 된다. 배액 전환부(83)로부터는 산 배액을 배출하기 위한 산 배출관(84a), 알칼리를 배출하기 위한 알칼리 배출관(84b), 산을 회수하기 위한 산 회수관(84c), 알칼리를 회수하기 위한 알칼리 회수관(84d)이 수직 아래쪽으로 연장된다. 이들은 각각 배액 배관군(71)의 산 배액 배관(71a), 알칼리 배액 배관(71b), 산 회수 배관(71c), 알칼리 회수 배관(71d)에 접속된다. 산 배출관(84a), 알칼리 배출관(84b), 산 회수관(84c), 알칼리 회수관(84d)에는 각각 밸브(85a, 85b, 85c, 85d)가 설치된다.
배기컵(92)은 회전컵(44)과의 사이의 환상으로 된 간극으로부터 회전컵(44) 내 및 그 주위의 주로 가스 성분을 받아들여 배기한다. 또한, 배기컵(92)의 하부에는 산을 배기하는 산 배기관(95a), 알칼리를 배기하는 알칼리 배기관(95b)이 접속된다. 이들 산 배기관(95a), 알칼리 배기관(95b)은 각각 배기 배관군(72)의 산 배기 배관(72a), 알칼리 배기 배관(72b)에 접속된다. 산 배기관(95a), 알칼리 배기관(95b)에는 각각 밸브(86a, 86b)가 설치된다.
이와 같이, 처리액이 회전컵(44)을 통하여 배액컵(91)으로 유도되고, 기체 성분은 배기컵(92)으로 유도된다. 배액컵(91)으로부터의 배액과 배기컵(92)으로부터의 배기가 독립적으로 행해지기 때문에, 배액과 배기를 분리한 상태에서 유도할 수 있게 된다. 또한, 배액컵(91)으로부터 미스트가 누출되어도 배기컵(92)이 그 주위를 둘러싸고 있기 때문에 신속하게 배출되어 미스트가 외부로 누출되는 것을 확 실하게 방지할 수 있다. 그 때문에, 웨이퍼(W) 주변부와 배액컵(91) 및 배기컵(92)과의 간극을 작게 할 수 있어 액 처리 유닛(22)을 소형화할 수 있다.
약액 공급 유닛(21h)은 반입 및 반출 스테이션(1)측에 설치된 예컨대 암모니아수와 과산화수소를 혼합한 암모니아과수(SC1)를 저장하는 제1 약액 탱크(101)를 갖는다(도 2 참조). 약액 공급 유닛(21h)은, 또한, 제1 약액 탱크(101)에 인접한 제1 회수 탱크(102)를 갖는다(도 2 참조).
도 2에 도시된 바와 같이, 제1 약액 탱크(101)의 측벽 하부에는 그 안에서 약액을 송출하기 위한 송출관(103)이 접속된다. 제1 약액 탱크(101)의 측벽 상부에는 약액을 복귀시키기 위한 복귀관(104)이 접속된다. 송출관(103)에는 펌프(103a)가 설치되는 동시에, 약액 공급 유닛(21h) 내의 제1 수직 배관 영역(27a)으로부터 연장되는 접속관(105)이 접속된다. 이 접속관(105)은 배관 박스(21f) 내에 수평으로 배치된 처리액 배관군(70)의 SC1 배관(70a)의 일단측에 접속된다. 또한, 복귀관(104)에는 제1 수직 배관 영역(27a)으로부터 연장되는 크로스 배관(106)이 접속된다. 한편, SC1 배관(70a)의 타단측에는 크로스 배관(107)이 접속된다. 이 크로스 배관(107)은 제2 수직 배관 영역(27b) 내에서 아래쪽으로 연장되어 있다.
이들 크로스 배관(106, 107)을 포함하는 약액 공급 경로에 대해서 상기 도 2, 도 3 및 처리 스테이션(2)의 모식적 사시도인 도 5에 기초하여 설명한다. 크로스 배관(107)은 약액 공급 유닛(21h)의 제2 수직 배관 영역(27b)에서 아래쪽으로 연장된다. 다음에, 배관(107)은 제2 수직 배관 영역(27b)의 하부로부터 수평으로 배기 공간(21j)을 통과하여 약액 공급 유닛(21i)의 제2 수직 배관 영역(27b)으로 연장된다. 다음에, 배관(107)은 약액 공급 유닛(21i)의 제2 수직 배관 영역(27b)에서 상승하여 배관 박스(21g) 내의 SC1 배관(70a)에 접속된다. 한편, 크로스 배관(106)은 약액 공급 유닛(21h)의 제1 수직 배관 영역(27a)에서 아래쪽으로 연장된다. 다음에, 배관(106)은 제1 수직 배관 영역(27a)의 하부로부터 수평으로 배기 공간(21J)을 통과하여 약액 공급 유닛(21i)의 제1 수직 배관 영역(27a)으로 연장된다. 다음에, 배관(106)은 약액 공급 유닛(21i)의 제1 수직 배관 영역(27a)에서 상승하여 배관 박스(21g) 내의 SC1 배관(70a)에 접속된다.
즉, 제1 약액 탱크(101)의 SC1은 송출관(103) 및 접속관(105)을 경유하여 배관 박스(21f) 내의 SC1 배관(70a)에 도달한다. 다음에, SC1은 이 배관 박스(21f) 내의 SC1 배관(70a)에서 통류(通流)되면서 유닛실(21b) 내의 각 처리액 유닛(22)으로 공급된다. 또한, SC1은 크로스 배관(107)을 통과하여 배관 박스(21g) 내의 SC1 배관(70a)에 도달한다. 다음에, SC1은 이 배관 박스(21g) 내의 SC1 배관(70a)에서 통류되면서 유닛실(21c) 내의 각 처리액 유닛(22)으로 공급된다. 또한, SC1은 크로스 배관(106) 및 복귀관(104)을 경유하여 제1 약액 탱크(101)로 되돌아간다. 이와 같이 하여 제1 약액 탱크(101)로부터의 SC1의 순환 경로가 구성된다.
한편, 제1 회수 탱크(102))에는 도 2에 도시된 바와 같이 처리를 마친 약액을 회수하기 위한 배관(108)이 접속된다. 이 배관(108)은 제2 수직 배관 영역(27b)에서 수직으로 연장되고, 배액 배관군(71)의 알칼리 회수 배관(71d)에 접속된다. 이에 따라, 액 처리 유닛(22)으로부터 배출된 알칼리 배액을 회수한다.
제1 회수 탱크(102)와 제1 약액 탱크(101)는 접속 배관(109)에 의해 접속된 다. 접속 배관(109)에는 펌프(110)가 설치되어, 제1 회수 탱크(102)로 회수된 약액을 정화 처리한 후, 제1 약액 탱크(101)로 되돌릴 수 있게 된다.
제1 약액 탱크(101)의 상부에는 약액 공급 배관(111)이 접속되고, 이 약액 공급 배관(111)에는 혼합기(112)가 접속된다. 혼합기(112)에는 순수 배관(113), 암모니아 배관(114) 및 과산화수소 배관(115)이 접속된다. 혼합기(112)에서 순수와 암모니아와 과산화수소가 혼합되어 암모니아과수가 제1 약액 탱크(101)에 공급된다. 순수 배관(113)에는 유량 컨트롤러(LFC)(116a) 및 밸브(116b)가 설치된다. 암모니아 배관(114)에는 유량 컨트롤러(LFC)(117a) 및 밸브(117b)가 설치된다. 과산화수소 배관(115)에는 유량 컨트롤러(LFC)(118a) 및 밸브(118b)가 설치된다.
약액 공급 유닛(21i)은 반입 및 반출 스테이션(1)측에 설치된, 예컨대 희불산(DHF)을 저장하는 제2 약액 탱크(121)(도 3 참조)를 갖는다. 약액 공급 유닛(21i)은, 또한, 제2 약액 탱크(121)에 인접한 제2 회수 탱크(도시하지 않음)를 갖는다. 이 제2 약액 탱크(121)의 DHF도 제1 약액 탱크(101)로부터의 SC1과 마찬가지로 배관 박스(21f, 21g) 내의 DHF 배관(70)과 크로스 배관 등에 의해 순환 공급할 수 있게 된다. 또한, 제2 회수 탱크로의 DHF의 회수는 산 회수 배관(71c) 및 배관(122)(도 2 참조)을 통과하여 제1 회수 탱크(102)로의 SC1의 회수와 마찬가지로 행해진다.
또한, 이들 약액 세정 이외에 순수에 의한 린스 및 건조가 행해진다. 그 때에는 순수는 도시하지 않은 순수 공급원으로부터 순수 배관(70c)을 통해 공급된다. 또한, 도시하고 있지는 않지만, N2 가스 등의 건조 가스도 노즐(45, 46)로부터 공급할 수 있게 된다.
배관 박스(21f, 21g)에 설치된 배액 배관군(71) 중, 산 배액 배관(71a), 알칼리 배액 배관(71b)에는 각각 드레인 배관(123)(도 2에서는 1라인만 도시)이 접속된다. 이 드레인 배관(123)은 제1 수직 배관 영역(27a)을 통과하여 아래쪽으로 연장된다. 그리고, 이들 산 배액 배관(71a), 알칼리 배액 배관(71b)으로부터의 배액은 드레인 배관(123)을 통과하여 드레인으로서 바닥밑 공장 배관으로 폐기된다.
도 6은 도 1의 액 처리 시스템(100)의 급기 및 배기계를 설명하기 위한 측면측의 단면도이다.
상기 FFU(23)는 청정 공기를 반송실(21a) 내에 공급하고, 그 일부가 반송실(21a)로부터 유닛실(21b, 21c) 및 액 처리 유닛(22)의 기류 도입부(49)로 유도된다. 유닛실(21b, 21c)로 유도된 청정 공기는 추가로 구동 영역(21d, 21e)으로 유도된다. 구동 영역(21d, 21e)에는 배기관(73)이 접속된다. 유닛실(21b, 21c)에서 발생한 미립자 및 구동 영역(21d, 21e)의 주로 구동계로부터 발생한 미립자 등은 이 배기관(73)을 통해 강제 배기할 수 있게 된다.
또한, 기류 도입부(49)로부터 도입된 청정 공기는 전술한 바와 같이 액 처리 유닛(22) 내의 웨이퍼(W)에 공급된다. 또한, 이것도 전술한 바와 같이, 액 처리 유닛(22)의 배기컵(92)으로부터는 배관 박스(21f, 21g)에 설치된 배기 배관군(72)의 산 배기 배관(72a), 알칼리 배기 배관(72b)으로, 산 배기, 알칼리 배기가 각각 공 급된다. 배관 박스(21f, 21g)에는 그 안을 배기하기 위한 배기관(74)이 접속된다. 또한, 배기 공간(21j)의 저부에는 반송실(21a)에서 흘러온 기류를 배기하기 위한 2개의 배기관(75, 76)과, 반송 기구(24)의 내부를 통과해 온 기류를 배기하는 반송 구동계 배기관(77)이 접속된다.
도 2에 도시한 바와 같이, 배기 배관군(72), 배기관(73, 74, 75, 76), 반송 구동계 배기관(77)은 케이스(21)의 측면으로부터 외부로 연장되고, 아래쪽을 향해 더 연장되어 바닥밑 공장 배관에 접속된다.
이와 같이 구성되는 액 처리 시스템(100)에 있어서는, 우선, 반입 및 반출 스테이션(1)의 캐리어 적재부(11)에 적재된 캐리어(C)로부터 반송 기구(15)에 의해 1장의 웨이퍼(W)를 꺼내어 전달 스테이지(19) 상의 전달 선반(20)의 적재부에 적재하는 동작을 반복하여 행한다. 전달 선반(20)의 적재부에 적재된 웨이퍼(W)는 처리 스테이션(2)의 반송 기구(24)에 의해 순차적으로 반송되어 어느 한쪽의 액 처리 유닛(22)으로 반입된다.
액 처리 유닛(22)에 있어서는, 유지 부재(54)에 의해 웨이퍼(W)를 척킹하고, 모터(43)에 의해 웨이퍼 유지부(42)를 회전컵(44) 및 웨이퍼(W)와 함께 회수시킨다. 이것과 함께, 표면 처리액 공급 노즐(45) 및 이면 처리액 공급 노즐(46)로부터 처리액을 공급하여 웨이퍼(W)의 표리면 세정을 행한다. 이 때의 처리액으로서는 세정 약액, 예컨대, SC1, DHF 중 어느 하나 또는 양쪽을 이용한다. SC1로 세정할 때에는 제1 약액 탱크(101)로부터 송출관(103), 접속관(105), 배관 박스(21f) 내의 SC1 배관(70a), 크로스 배관(107), 배관 박스(21g) 내의 SC1 배관(70a), 크로스 배 관(106), 복귀관(104)을 경유하여 제1 약액 탱크(101)로 되돌아가도록 SC1을 순환시키면서, SC1 배관(70a)으로부터 각 액 처리 유닛(22)에 SC1을 공급한다. 또한, DHF로 세정할 때에는 제2 약액 탱크(121)로부터 배관 박스(21f, 21g) 내의 DHF 배관(70b)을 포함하는 배관군에 의해 마찬가지로 순환시키면서, DHF 배관(70b)으로부터 각 액 처리 유닛(22)에 DHF를 공급한다. 그리고, 이러한 세정 처리 후, 순수 배관(70c)으로부터 각 처리 유닛(22)에 순수를 공급하여 순수 린스를 행하고, 그 후, 필요에 따라 N2 건조를 행하여 세정 처리를 종료한다.
이러한 세정 처리일 때에는 사용된 처리액이 배액컵(91)으로부터 배액 배관군(71)에 도달하여 산 및 알칼리는 일부 회수되고, 다른 것은 폐기된다. 또한, 처리에 따라 발생한 기체 성분이 배기컵(92)으로부터 배기 배관군(72)에 도달하여 배기된다.
이와 같이 하여 액 처리를 행한 후, 반송 기구(24)에 의해 액 처리 유닛(22)으로부터 웨이퍼(W)를 반출하고, 전달 스테이지(19)의 전달 선반(20)에 적재한다. 이들 웨이퍼(W)는 전달 선반(20)으로부터 반송 기구(15)에 의해 카세트(C)로 복귀된다.
전술한 바와 같이, 본 실시 형태에 따르면, 케이스(21) 내에 복수의 액 처리 유닛(22)을 수평으로 배치하여 유닛실(21b, 21c)을 구성하고, 그 아래쪽에 배관 박스(21f, 21g)를 배치하며, 배관 박스(21f, 21g)의 아래쪽에 약액 공급 유닛(21h, 21i)을 더 배치한다. 또한, 배관 박스(21f, 21g) 내에 있어서 처리액 배관군(70)을 수평으로 배치하여 처리액 배관군(70)의 각 처리액 배관으로부터 각 액 처리 유닛(22)으로 처리액을 유도한다. 이에 따라, 배관의 기복을 극력 억제하여 소형화할 수 있어 공간 절약화를 도모할 수 있는 동시에, 액 처리 유닛(22) 사이에서 균일한 처리를 행할 수 있다. 또한, 각 액 처리 유닛(22)으로부터 배출된 처리액을 배액하기 위한 배액 배관군(71) 및 각 액 처리 유닛(22)으로부터의 배기를 시스템 밖으로 유도하는 배기 배관군(72)도 배관 박스(21f, 21g) 내에 수평으로 배치한다. 이에 따라, 배관 공간을 더 줄일 수 있다.
반송실(21a)에서 이격되어 있는 유닛실(21b, 21c) 아래에 각각 설치된 배관 박스(21f, 21g)에 처리액 배관군(70)을 수평으로 배치한다. 처리액 배관군(70)의 SC1 배관(70a), DHF 배관(70b) 등을 각각 크로스 배관 등을 접속함으로써 환상 배관으로 한다. 이 환상 배관 내를 순환시키면서 이 배관으로부터 각 액 처리 유닛(22)으로 SC1, DHF 등의 처리액을 공급한다. 이에 따라, 배관의 배치가 복잡해지는 것을 막을 수 있어 배관 구성이 매우 단순해져서 배관 공간을 현저히 줄일 수 있다.
또한, 배관이 배관 박스(21f, 21g)에 집중되고, 게다가, 소형화되기 때문에, 배기관을 마련하여 일괄 배기한다고 하는 간단한 방법을 채용할 수 있다. 이에 따라, 배관 부분을 일괄적으로 배기하여 효율적인 미립자 대책을 실현할 수 있다.
게다가, 팬 필터 유닛(FFU)(23)으로부터 반송실(21a) 내에 청정 공기의 다운 플로를 공급하여 배기하기 때문에, 반송실(21a)을 청정하게 유지할 수 있다. 또한, 그 청정 공기를 유닛실(21b, 21c)로 유도하여 구동 영역(21d, 21e)으로부터 배기한 다. 또한, 그 청정 공기를 액 처리 유닛으로도 유도하여 다운 플로를 형성한다. 이에 따라, 액 처리 유닛(22)의 내부 및 그 주위도 청정 분위기로 하여 미립자의 영향을 배제할 수 있다.
게다가, 배관 공간이 작아짐으로써, 배액을 회수하는 회수 탱크도 시스템 내에 배치할 수 있다. 이에 따라, 배액 회수를 가능하게 한 구성임에도 불구하고, 매우 소형의 시스템이 된다.
또한, 본 발명은 상기 실시 형태에 한정되지 않고 다양하게 변형할 수 있다. 예컨대, 처리액으로서 SC1, DHF를 이용한 예를 나타내었지만, 이것에 한정되지 않는다. 또한, 액 처리 유닛의 구성도 상기와 같은 것에 한정되지 않고, 예컨대, 표면 세정만 또는 이면 세정만이어도 좋다. 또한, 액 처리에 대해서는 세정 처리에 한정되지 않고, 레지스트액 도포 처리나 그 후의 현상 처리 등의 다른 액 처리라도 상관없다. 또한, 상기 실시 형태에서는 피처리 기판으로서 반도체 웨이퍼를 이용한 경우에 대해서 나타내었지만, 액정 표시 장치(LCD)용 유리 기판으로 대표되는 플랫 패널 디스플레이(FPD)용 기판 등의 다른 기판에도 적용할 수 있다.
당업자라면 추가 이점 및 변형을 쉽게 알 것이다. 따라서, 본 발명은 광의의 관점에서 본 명세서에 도시 및 설명된 특정한 상세 설명과 대표적인 실시형태로 제한되지 않는다. 따라서, 첨부된 청구범위 및 그 등가물에 의해 한정되는 바와 같이 본 발명의 전반적인 개념의 사상 또는 범위로부터 벗어남이 없이 다양한 변형이 이루어질 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시 형태에 따른 액 처리 시스템의 개략 구성을 도시한 평면도.
도 2는 도 1의 II-II선을 따라 취한 정면측의 단면도.
도 3은 도 1의 III-III선을 따라 취한 측면측의 단면도.
도 4는 도 1의 액 처리 시스템에 탑재된 액 처리 유닛의 개략 구성을 도시한 단면도.
도 5는 처리액인 SC1을 순환시키는 환상 배관의 배치 상태를 도시한 개략도.
도 6은 도 1의 액 처리 시스템의 급기 및 배기계를 설명하기 위한 측면측의 단면도.

Claims (20)

  1. 기판(W)에 처리액을 공급하여 액 처리를 행하는 복수의 액 처리 유닛(22)이 수평으로 배치된 액 처리부(21b)와,
    상기 액 처리부의 상기 복수의 액 처리 유닛으로 공급하는 처리액을 저장하는 처리액 저장부(21h)와,
    상기 처리액 저장부로부터 상기 복수의 액 처리 유닛으로 처리액을 유도하는 공급 배관과, 수평으로 배치된 박스를 갖는 배관 유닛(21f)을 구비하고,
    상기 처리액 저장부, 상기 배관 유닛 및 상기 액 처리부는 아래쪽에서부터 이러한 순서로 공통의 케이스(21) 내에 배치되며,
    상기 배관 유닛의 상기 공급 배관은, 상기 복수의 액 처리 유닛의 배열 방향을 따라 상기 박스 안에서 수평으로 연장되는 수평 배관부(70a)를 가지며,
    상기 수평 배관부로부터 상기 액 처리 유닛으로 처리액이 각각 도입되고,
    상기 배관 유닛에는 상기 박스 내를 배기하는 배기관(74)이 구비되어 있는 것인 액 처리 시스템.
  2. 제1항에 있어서, 상기 액 처리 유닛(22)은 각각 밸브(80a)가 설치된 개별 배관부에 의해 상기 수평 배관부(70a)에 각각 접속되는 것인 액 처리 시스템.
  3. 제1항에 있어서, 상기 배관 유닛(21f)은 상기 액 처리 유닛(22)으로부터 각각 배출된 처리액을 배액하는 배액 배관의 수평 배관부(71a)를 더 가지며, 이 수평 배관부는 상기 공급 배관의 상기 수평 배관부(70a)와 평행하게 연장되는 것인 액 처리 시스템.
  4. 제3항에 있어서, 상기 배액 배관을 흐르는 처리액의 적어도 일부를 재이용하기 위해서 회수하는 회수 기구(102)를 더 구비하는 것인 액 처리 시스템.
  5. 제1항에 있어서, 상기 배관 유닛(21f)은 상기 액 처리 유닛(22)으로부터 각각 배출된 배기를 시스템 밖으로 유도하는 배기 배관의 수평 배관부(72a)를 더 가지며, 이 수평 배관부는 상기 공급 배관(70)의 상기 수평 배관부(70a)와 평행하게 연장되는 것인 액 처리 시스템.
  6. 삭제
  7. 삭제
  8. 제1항에 있어서, 상기 액 처리부(21b)는 상기 복수의 액 처리 유닛(22)의 구동계가 일괄적으로 배치된 구동 영역(21d)을 갖는 것인 액 처리 시스템.
  9. 제8항에 있어서, 상기 구동 영역 내를 배기하는 배기관(73)을 더 구비하는 것인 액 처리 시스템.
  10. 제1항에 있어서, 상기 액 처리부(21b)에 인접하여 설치되고, 기판(W)을 복수 장 수납하는 기판 수납 용기(C)를 적재할 수 있도록 구성된 기판 반입 및 반출부(1)를 더 구비하며, 상기 기판 반입 및 반출부는 상기 기판 수납 용기 내의 기판을 상기 액 처리부로 반입하고, 상기 액 처리부에서의 처리 후의 기판을 상기 기판 수납 용기로 반출하는 것인 액 처리 시스템.
  11. 제1항에 있어서, 상기 복수의 액 처리 유닛(22)은 서로 평행하게 배치된 제1 및 제2 열의 액 처리 유닛(21b, 21c)을 구비하고,
    상기 수평 배관부(70a)는 상기 제1 및 제2 열의 액 처리 유닛의 각각의 배열 방향을 따라 연장되는 제1 및 제2 수평 배관부(70a)를 구비하며,
    상기 제1 및 제2 수평 배관부는 접속 배관부(107)에 의해 접속되고, 상기 처리액은 상기 처리액 저장부(21h)로부터, 상기 제1 수평 배관부, 상기 접속 배관부 및 상기 제2 수평 배관부의 순으로 흐르는 것인 액 처리 시스템.
  12. 제11항에 있어서, 상기 제1 수평 배관부(70a), 상기 접속 배관부(107) 및 상기 제2 수평 배관부(70a)는 상기 처리액 저장부(21h)에 대하여 처리액을 순환시키는 순환로를 형성하는 것인 액 처리 시스템.
  13. 제11항에 있어서, 상기 제1 및 제2 열의 액 처리 유닛(21b, 21c)은 반송로(21a)의 양측에 배치되고, 상기 액 처리 시스템은 상기 반송로를 따라 이동하여 상기 제1 및 제2 열의 액 처리 유닛으로 기판(W)을 반송하는 반송 기구(24)를 더 구비하는 것인 액 처리 시스템.
  14. 제13항에 있어서, 상기 접속 배관부(107)는 상기 반송로(21a)의 하측을 통과하는 것인 액 처리 시스템.
  15. 제14항에 있어서, 상기 반송로(21a)를 구획하는 영역의 저부는 상기 배관 유닛(21f)을 배치하는 영역의 저부보다 하측에 위치하는 것인 액 처리 시스템.
  16. 제13항에 있어서, 상기 반송로(21a)에 청정 공기를 공급하는 팬 필터 유닛(23)을 더 구비하고, 상기 액 처리 유닛(22)은 상기 청정 공기를 상기 반송로로부터 받아들이는 도입부(49)를 각각 구비하는 것인 액 처리 시스템.
  17. 기판(W)에 처리액을 공급하여 액 처리를 행하는 복수의 액 처리 유닛(22)이 수평으로 배치된 액 처리부로서, 상기 복수의 액 처리 유닛은 반송로(21a)의 양측에 배치된 제1 및 제2 열의 액 처리 유닛(21b, 21c)을 구비하는 것인 액 처리부와,
    상기 반송로를 따라 이동하여 상기 제1 및 제2 열의 액 처리 유닛으로 기판을 반송하는 반송 기구(24)와,
    상기 액 처리부의 상기 복수의 액 처리 유닛으로 공급하는 처리액을 저장하는 처리액 저장부(21h, 21i)와,
    상기 처리액 저장부로부터 상기 복수의 액 처리 유닛으로 처리액을 유도하는 공급 배관(70)을 갖는 배관 유닛(21f, 21g)을 구비하고,
    상기 처리액 저장부, 상기 배관 유닛 및 상기 액 처리부는 아래쪽에서부터 이러한 순서로 공통의 케이스(21) 내에 배치되며, 상기 배관 유닛의 상기 공급 배관은 상기 제1 및 제2 열의 액 처리 유닛의 각각의 배열 방향을 따라 수평으로 연장되는 제1 및 제2 수평 배관부(70a)를 가지며, 상기 제1 및 제2 수평 배관부는 접속 배관부(107)에 의해 접속되고, 상기 처리액은 상기 처리액 저장부로부터 상기 제1 수평 배관부, 상기 접속 배관부 및 상기 제2 수평 배관부의 순으로 흘러 상기 제1 및 제2 수평 배관부로부터 상기 액 처리 유닛으로 처리액이 각각 도입되는 것인 액 처리 시스템.
  18. 제17항에 있어서, 상기 제1 수평 배관부(70a), 상기 접속 배관부(107) 및 상기 제2 수평 배관부(70a)는 상기 처리액 저장부(21h)에 대하여 처리액을 순환시키는 순환로를 형성하는 것인 액 처리 시스템.
  19. 제17항에 있어서, 상기 접속 배관부(107)는 상기 반송로(21a)의 하측을 통과하는 것인 액 처리 시스템.
  20. 제19항에 있어서, 상기 반송로(21a)에 청정 공기를 공급하는 팬 필터 유닛(23)을 더 구비하고, 상기 액 처리 유닛(22)은 상기 청정 공기를 상기 반송로로부터 받아들이는 도입부(49)를 각각 구비하는 것인 액 처리 시스템.
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