KR102384082B1 - 기판 액 처리 장치 - Google Patents

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야스히로 타카키
신이치 우메노
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타카미 사토
아츠시 아나모토
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도쿄엘렉트론가부시키가이샤
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Abstract

실시 형태의 일태양에 따른 기판 액 처리 장치는 반송부와, 처리부와, 저류부와, 송액 기구를 구비한다. 반송부는 기판을 반송하는 반송 장치가 배치된다. 처리부는, 반송부에 수평 방향으로 인접하고, 처리액을 이용하여 기판을 처리하는 액 처리 유닛이 배치된다. 저류부는 처리액을 저류한다. 송액 기구는 저류부에 저류된 처리액을 액 처리 유닛으로 송출한다. 저류부는 반송부의 바로 아래에 배치된다. 또한, 송액 기구는 처리부의 바로 아래에 배치된다. 기판 액 처리 장치의 공간 절약화를 도모할 수 있다.

Description

기판 액 처리 장치 {SUBSTRATE LIQUID PROCESSING DEVICE}
개시한 실시 형태는 기판 액 처리 장치에 관한 것이다.
종래, 반도체 웨이퍼 또는 글라스 기판 등의 기판에 대하여 세정 처리 등의 정해진 기판 처리를 실시하는 기판 액 처리 장치가 알려져 있다. 또한, 기판 액 처리 장치에 있어서는, 처리액을 이용하여 기판을 처리하는 액 처리 유닛이 배치되는 처리부를 구비하고, 이러한 처리부의 아래에 처리액을 저류하는 저류부와, 저류부 내의 처리액을 액 처리 유닛으로 송출하는 송액(送液) 기구가 배치되어 있다(예를 들면 특허 문헌 1 참조).
그러나, 상술한 기판 액 처리 장치에 있어서는, 저류부와 송액 기구가 처리부의 아래의 동일한 장소에 배치되어 있기 때문에, 처리부의 아래에 비교적 큰 배치 스페이스가 필요하였다. 그 때문에, 상술한 기판 액 처리 장치에는 공간 절약화를 도모한다는 점에서 가일층의 개선의 여지가 있었다.
일본특허공개공보 2008-034490호
실시 형태의 일태양은, 공간 절약화를 도모할 수 있는 기판 액 처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
실시 형태의 일태양에 따른 기판 액 처리 장치는 반송부와, 처리부와, 저류부와, 송액 기구를 구비한다. 반송부는 기판을 반송하는 반송 장치가 배치된다. 처리부는, 상기 반송부에 수평 방향으로 인접하고, 처리액을 이용하여 상기 기판을 처리하는 액 처리 유닛이 배치된다. 저류부는 상기 처리액을 저류한다. 송액 기구는 상기 저류부에 저류된 상기 처리액을 상기 액 처리 유닛으로 송출한다. 상기 저류부는 상기 반송부의 바로 아래에 배치된다. 또한, 상기 송액 기구는 상기 처리부의 바로 아래에 배치된다.
도 1은 제 1 실시 형태에 따른 기판 처리 시스템의 개략 구성을 나타내는 도이다.
도 2는 기판 처리 시스템의 처리액 공급계의 개략 구성을 나타내는 도이다.
도 3은 기판 액 처리 장치의 구성예를 나타내는 도이다.
도 4는 처리 스테이션을 Y-Z 평면으로 절단하였을 때의 종단면도이다.
도 5는 도 4의 V-V선 단면도이다.
도 6은 처리 스테이션을 X-Z 평면으로 절단하였을 때의 종단면도이다.
도 7은 제 1 실시 형태의 변형예에 따른 기판 액 처리 장치를 설명하기 위한 도이다.
도 8은 히터로부터 처리 유닛까지의 액 배관을 모식적으로 나타내는 측면도이다.
도 9는 제 2 실시 형태에 따른 기판 액 처리 장치를 설명하기 위한 도이다.
도 10은 제 2 실시 형태의 변형예에 따른 기판 액 처리 장치를 설명하기 위한 도이다.
도 11은 제 3 실시 형태에 따른 처리 유닛의 개략 구성을 나타내는 도이다.
도 12는 제 4 실시 형태에 따른 처리액 공급계의 개략 구성을 나타내는 도이다.
이하, 첨부 도면을 참조하여 본원이 개시하는 기판 액 처리 장치의 실시 형태를 상세하게 설명한다. 또한, 이하에 나타내는 실시 형태에 의해 이 발명이 한정되는 것은 아니다.
(제 1 실시 형태)
도 1은 본 실시 형태에 따른 기판 처리 시스템의 개략 구성을 나타내는 도면이다. 이하에서는, 위치 관계를 명확하게 하기 위하여, 서로 직교하는 X축, Y축 및 Z축을 규정하고, Z축 정방향을 연직 상향 방향으로 한다.
도 1에 나타내는 바와 같이, 기판 처리 시스템(1)은 반입반출 스테이션(2)과 처리 스테이션(3)을 구비한다. 반입반출 스테이션(2)과 처리 스테이션(3)은 인접하여 마련된다.
반입반출 스테이션(2)은 캐리어 배치부(11)와 반송부(12)를 구비한다. 캐리어 배치부(11)에는 복수 매의 기판, 본 실시 형태에서는 반도체 웨이퍼(이하 웨이퍼(W))를 수평 상태로 수용하는 복수의 캐리어(C)가 배치된다.
반송부(12)는 캐리어 배치부(11)에 인접하여 마련되고, 내부에 기판 반송 장치(13)와 전달부(14)를 구비한다. 기판 반송 장치(13)는 웨이퍼(W)를 유지하는 웨이퍼 유지 기구를 구비한다. 또한, 기판 반송 장치(13)는 수평 방향 및 연직 방향으로의 이동 및 연직축을 중심으로 하는 선회가 가능하고, 웨이퍼 유지 기구를 이용하여 캐리어(C)와 전달부(14) 사이에서 웨이퍼(W)의 반송을 행한다.
처리 스테이션(3)은 반송부(12)에 인접하여 마련된다. 처리 스테이션(3)은 반송부(15)와 복수의 처리 유닛(16)을 구비한다. 복수의 처리 유닛(16)은 반송부(15)의 양측에 배열되어 마련된다.
반송부(15)는 내부에 기판 반송 장치(17)를 구비한다. 기판 반송 장치(17)는 웨이퍼(W)를 유지하는 웨이퍼 유지 기구를 구비한다. 또한, 기판 반송 장치(17)는 수평 방향 및 연직 방향으로의 이동 그리고 연직축을 중심으로 하는 선회가 가능하고, 웨이퍼 유지 기구를 이용하여 전달부(14)와 처리 유닛(16) 사이에서 웨이퍼(W)의 반송을 행한다.
처리 유닛(16)은, 기판 반송 장치(17)에 의해 반송되는 웨이퍼(W)에 대하여 정해진 기판 처리를 행한다.
또한, 기판 처리 시스템(1)은 제어 장치(4)를 구비한다. 제어 장치(4)는 예를 들면 컴퓨터이며, 제어부(18)와 기억부(19)를 구비한다. 기억부(19)에는 기판 처리 시스템(1)에 있어서 실행되는 각종 처리를 제어하는 프로그램이 저장된다. 제어부(18)는 기억부(19)에 기억된 프로그램을 읽어내어 실행함으로써 기판 처리 시스템(1)의 동작을 제어한다.
또한, 이러한 프로그램은 컴퓨터에 의해 판독 가능한 기억 매체에 기록되어 있던 것으로서, 그 기억 매체로부터 제어 장치(4)의 기억부(19)에 인스톨된 것이어도 된다. 컴퓨터에 의해 판독 가능한 기억 매체로서는, 예를 들면 하드 디스크(HD), 플렉시블 디스크(FD), 컴팩트 디스크(CD), 마그넷 옵티컬 디스크(MO), 메모리 카드 등이 있다.
상기한 바와 같이 구성된 기판 처리 시스템(1)에서는, 우선 반입반출 스테이션(2)의 기판 반송 장치(13)가, 캐리어 배치부(11)에 배치된 캐리어(C)로부터 웨이퍼(W)를 취출하고, 취출된 웨이퍼(W)를 전달부(14)에 배치한다. 전달부(14)에 배치된 웨이퍼(W)는, 처리 스테이션(3)의 기판 반송 장치(17)에 의해 전달부(14)로부터 취출되어, 처리 유닛(16)에 반입된다.
처리 유닛(16)에 반입된 웨이퍼(W)는 처리 유닛(16)에 의해 처리된 후, 기판 반송 장치(17)에 의해 처리 유닛(16)으로부터 반출되어, 전달부(14)에 배치된다. 그리고, 전달부(14)에 배치된 처리가 끝난 웨이퍼(W)는 기판 반송 장치(13)에 의해 캐리어 배치부(11)의 캐리어(C)에 복귀된다.
이어서, 처리 유닛(16)으로 처리액을 공급하는 액 처리 장치를 포함하는 처리액 공급계에 대하여 도 2를 참조하여 설명한다. 도 2는 기판 처리 시스템(1)의 처리액 공급계의 개략 구성을 나타내는 도이다.
도 2에 나타내는 바와 같이, 액 처리 장치는 기판에 대하여 액 처리를 행하는 복수의 처리 유닛(액 처리 유닛)(16)과, 처리 유닛(16)에 처리액을 공급하는 처리 유체 공급원(70)을 가지고 있다.
처리 유체 공급원(70)은 처리액을 저류하는 탱크(102)와, 탱크(102)로부터 나와 탱크(102)로 되돌아가는 순환 라인(104)을 가지고 있다. 순환 라인(104)에는 펌프(106)가 마련되어 있다. 펌프(106)는 탱크(102)로부터 나와 순환 라인(104)을 지나 탱크(102)로 되돌아가는 순환류를 형성한다. 펌프(106)의 하류측에 있어서 순환 라인(104)에는 처리액에 포함되는 파티클 등의 오염 물질을 제거하는 필터(108)가 마련되어 있다. 필요에 따라 순환 라인(104)에 보조 기기류(예를 들면 히터 등)를 추가로 마련해도 된다.
순환 라인(104)에 설정된 접속 영역(110)에 1 개 또는 복수의 분기 라인(112)이 접속되어 있다. 각 분기 라인(112)은 순환 라인(104)을 흐르는 처리액을 대응하는 처리 유닛(16)에 공급한다. 각 분기 라인(112)에는 필요에 따라 유량 제어 밸브 등의 유량 조정 기구, 필터 등을 마련할 수 있다.
액 처리 장치는 탱크(102)에 처리액 또는 처리액 구성 성분을 보충하는 탱크 액 보충부(116)를 가지고 있다. 탱크(102)에는 탱크(102) 내의 처리액을 폐기하기 위한 드레인부(118)가 마련되어 있다.
이어서, 상술한 액 처리 장치(이하, '기판 액 처리 장치(100)'라고 기재함)의 구성에 대하여 도 3을 참조하면서 보다 상세하게 설명한다. 도 3은 제 1 실시 형태에 따른 기판 액 처리 장치(100)의 구성예를 나타내는 도이다.
도 3에 나타내는 바와 같이, 기판 액 처리 장치(100)는 제 1 처리액 공급계(121a)와, 제 2 처리액 공급계(121b)를 구비한다. 또한, 도 3에 나타내는 각 구성 요소 중, 제 1 처리액 공급계(121a)의 것에는 부호의 말미에 'a'를, 제 2 처리액 공급계(121b)의 것에는 부호의 말미에 'b'를 부여하였다. 또한, 상기에서는 기판 액 처리 장치(100)가 구비하는 처리액 공급계를 2 개로 하였지만, 이에 한정되지 않고, 예를 들면 1 개 혹은 3 개 이상이어도 된다.
이하에서는 제 1 처리액 공급계(121a)에 대하여 설명한다. 또한, 제 1 처리액 공급계(121a)에 있어서의 처리액의 흐름 등은, 제 2 처리액 공급계(121b)의 그것과 대략 동일하다. 따라서, 이하의 설명은 제 2 처리액 공급계(121b)에도 대체로 타당하다. 또한, 기판 액 처리 장치(100)는 다른 탱크(102)를 가지는 다른 제 1, 제 2 처리액 공급계(121a, 121b)의 세트를 구비하는데, 하기의 설명은 이 다른 세트에도 대체로 타당하다.
기판 액 처리 장치(100)에 있어서, 탱크("저류부"의 일례)(102)에는 상기한 순환 라인(104a)이 접속된다. 순환 라인(104a)에는, 상류측으로부터 차례로 펌프("송액 기구"의 일례)(106a), 필터(108a) 및 히터(109a)가 개재 삽입된다.
펌프(106a)는 탱크(102)에 저류된 처리액을 복수의 처리 유닛("액 처리 유닛"의 일례)(16Ua, 16La)으로 송출한다. 또한, 처리액으로서는, 예를 들면 SC1(암모니아, 과산화 수소 및 물의 혼합액), HF(불산) 또는 IPA(이소프로필알코올) 등을 이용할 수 있지만, 이들에 한정되지 않는다.
상기한 펌프(106a)로서는, 예를 들면 에어 구동의 벨로우즈 펌프를 이용할 수 있다. 펌프(106a)가 벨로우즈 펌프인 경우, 펌프(106a)에는 에어 공급원(130)이 에어 배관(131a)을 개재하여 접속된다. 에어 배관(131a)에는, 펌프(106a)로의 에어 공급량을 제어하는 제어 밸브(132a)가 개재 삽입된다. 따라서, 펌프(106a)는 제어 밸브(132a)의 개폐에 따라 에어가 에어 공급원(130)으로부터 에어 배관(131a)을 통하여 공급됨으로써 구동된다.
또한, 상기의 설명에서는 펌프(106a)가 벨로우즈 펌프였지만, 이에 한정되지 않고, 예를 들면 다이어프램 펌프 또는 플런저 펌프 등 그 밖의 종류의 펌프여도 된다.
필터(108a)는 상술한 바와 같이 처리액 내의 오염 물질을 제거한다. 또한, 히터(109a)는 통과하는 처리액을 정해진 온도까지 승온시킨다. 또한, 히터(109a)는 처리액의 종류에 따라서는 제거할 수 있다.
도 4는 처리 스테이션(3)을 Y-Z 평면으로 절단하였을 때의 종단면도이다. 도 4에 나타내는 바와 같이, 상기한 복수의 처리 유닛(16Ua, 16La)은 상하 2 단으로 적층된다. 여기서는, 상단에 배치되는 처리 유닛(16)을 '처리 유닛(16Ua)'이라고 기재하고, 하단에 배치되는 처리 유닛(16)을 '처리 유닛(16La)'이라고 기재하는 경우가 있다.
또한, 본 실시 형태에서는 처리 유닛(16)이 상하 2 단으로 적층되는 경우의 예를 나타내지만, 처리 유닛(16)의 적층수는 2 단에 한정되지 않는다. 또한, 처리 유닛(16)의 대수도 도시한 것에 한정되지 않는다. 또한, 도 3에서는 도시의 간소화를 위하여 복수의 처리 유닛(16Ua, 16La)을 4 개만 나타내고, 다른 것은 생략하였다.
이어서, 상기한 바와 같이 구성된 기판 액 처리 장치(100)에 있어서, 복수의 처리 유닛(16Ua, 16La, 16Ub, 16Lb), 탱크(102) 및 펌프(106a, 106b) 등이 배치되는 위치에 대하여 설명한다.
복수의 처리 유닛(16Ua, 16La, 16Ub, 16Lb)은, 도 1에 나타내는 바와 같이, 반송부(15)를 따라 배치된다. 상세하게는, 반송부(15)는 기판 반송 장치(17)가 배치되는 반송실(15a)(도 4 참조)이 X축을 따라 연장되도록 형성된다.
그리고, 도 1에 있어서, 반송부(15)에 대하여 Y축 부방향측(지면 하방측)에 위치하고, 또한 X축을 따라 배치되는 복수의 처리 유닛(16)이 제 1 처리액 공급계(121a)에 있어서의 처리 유닛(16Ua)에 상당한다. 또한, 도 1에서는 하단의 처리 유닛(16La)은 상단의 처리 유닛(16Ua)에 가려 보이지 않는다.
한편, 반송부(15)에 대하여 Y축 정방향측(지면 상방측)에 위치하고, 또한 X축을 따라 배치되는 복수의 처리 유닛(16)이 제 2 처리액 공급계(121b)에 있어서의 처리 유닛(16Ub)에 상당한다. 또한, 도 1에서는 하단의 처리 유닛(16Lb)도 상단의 처리 유닛(16Ub)에 가려 보이지 않는다.
이하에서는, 기판 액 처리 장치(100)에 있어서, 제 1 처리액 공급계(121a)의 처리 유닛(16Ua, 16La)이 배치되는 부분을 '제 1 처리부(20a)'라고 기재하는 경우가 있다(도 4 참조). 또한, 기판 액 처리 장치(100)에 있어서, 제 2 처리액 공급계(121b)의 처리 유닛(16Ub, 16Lb)이 배치되는 부분을 '제 2 처리부(20b)'라고 기재하는 경우가 있다(도 4 참조).
도 4에 나타내는 바와 같이, 제 1 처리부(20a) 및 제 2 처리부(20b)는 반송부(15)에 수평 방향으로 인접하여 배치된다. 또한, 제 1 처리부(20a) 및 제 2 처리부(20b)는 반송부(15)를 사이에 두고 대향하는 위치에 병렬로 마련된다. 그리고, 제 1 처리부(20a) 및 제 2 처리부(20b)에는 반송부(15)의 기판 반송 장치(17)에 의해 웨이퍼(W)가 반송된다.
기판 액 처리 장치(100)는 제 1, 제 2 처리부(20a, 20b), 반송부(15), 탱크(102) 및 펌프(106a, 106b) 등 수용하는 수용부(30)를 구비한다. 수용부(30)는, 예를 들면 내부가 복수의 방으로 구획된 하우징 또는 케이싱이다.
그런데, 종래의 기판 액 처리 장치에 있어서는, 예를 들면, 탱크 및 펌프가 모두 처리부의 아래의 동일한 장소에 배치되어 있었다. 그 때문에, 처리부의 아래에 비교적 큰 배치 스페이스가 필요해져, 기판 액 처리 장치가 대형화될 우려가 있었다. 따라서, 종래의 기판 액 처리 장치에는 공간 절약화를 도모한다는 점에서 가일층의 개선의 여지가 있었다.
그래서, 본 실시 형태에 따른 기판 액 처리 장치(100)에서는 공간 절약화를 도모할 수 있고, 또한 설치 면적을 작게 할 수 있는 구성으로 하였다. 이하, 그 구성에 대하여 상세하게 설명한다.
도 4에 나타내는 바와 같이, 제 1, 제 2 처리부(20a, 20b) 및 반송부(15)는 수용부(30)의 Z축 방향에 있어서의 상부에 배치된다. 그리고, 수용부(30)에 있어서, 제 1, 제 2 처리부(20a, 20b) 및 반송부(15)의 하방에는 공간(140)이 형성된다.
도 5는 도 4의 V-V선 단면도이다. 또한, 도 4 및 도 5에서는, 상기한 공간(140) 중 제 1 처리부(20a)의 하방에 위치하는 공간을 부호 120a를 부여한 파선으로 나타내었다. 마찬가지로, 도 4 및 도 5에서는, 공간(140) 중 제 2 처리부(20b)의 하방에 위치하는 공간을 부호 120b를 부여한 파선으로, 반송부(15)의 하방에 위치하는 공간을 부호 115를 부여한 파선으로 나타내었다.
도 4, 5에 나타내는 바와 같이, 탱크(102)는 반송부(15)의 바로 아래에 배치되는, 즉, 공간(115)에 배치된다. 또한, 도 4, 5에 나타내는 예에서는 탱크(102)의 전체가 수용부(30)의 공간(115) 내에 수용되도록 하였지만, 이에 한정되지 않고, 예를 들면 탱크(102)의 일부분이 공간(115)으로부터 튀어 나와 있어도 된다.
또한, 펌프(106a, 106b)는 제 1, 제 2 처리부(20a, 20b)의 바로 아래에 배치된다. 상세하게는, 펌프(106a)는 제 1 처리부(20a)의 바로 아래에 배치되는, 즉, 공간(120a)에 배치된다. 한편, 펌프(106b)는 제 2 처리부(20b)의 바로 아래에 배치되는, 즉, 공간(120b)에 배치된다.
이하에서는, 제 1 처리부(20a)의 바로 아래의 펌프(106a)를 '제 1 펌프(106a)'("제 1 송액 기구"의 일례), 제 2 처리부(20b)의 바로 아래의 펌프(106b)를 '제 2 펌프(106b)'("제 2 송액 기구"의 일례)라고 기재하는 경우가 있다.
이와 같이, 기판 액 처리 장치(100)에 있어서는, 탱크(102)가 반송부(15)의 바로 아래에, 제 1 펌프(106a)가 제 1 처리부(20a)의 바로 아래에, 제 2 펌프(106b)가 제 2 처리부(20b)의 바로 아래에 배치됨으로써, 수용부(30)의 공간(140)을 유효하게 이용할 수 있다.
이에 의해, 예를 들면 가령 탱크(102) 및 제 1, 제 2 펌프(106a, 106b)가 제 1 처리부(20a)의 아래의 동일한 장소에 배치되는 경우에 비하여, 제 1 처리부(20a)의 아래의 공간(120a)을 작게 설정하는 것이 가능해지고, 따라서 기판 액 처리 장치(100)에 있어서의 공간 절약화를 도모할 수 있다. 또한, 기판 액 처리 장치(100)의 공간 절약화에 수반되어 설치 면적도 작게 할 수 있다.
또한, 처리 유닛(16Ua, 16La)으로 처리액을 공급하는 제 1 펌프(106a)가 처리 유닛(16Ua, 16La)을 가지는 제 1 처리부(20a)의 바로 아래에 배치되도록 하였다. 마찬가지로, 처리 유닛(16Ub, 16Lb)으로 처리액을 공급하는 제 2 펌프(106b)가 처리 유닛(16Ub, 16Lb)을 가지는 제 2 처리부(20b)의 바로 아래에 배치되도록 하였다.
이에 의해, 제 1 펌프(106a)로부터 처리 유닛(16Ua, 16La)까지의 순환 라인(104a)(도 3 참조)의 거리 및 제 2 펌프(106b)로부터 처리 유닛(16Ub, 16Lb)까지의 순환 라인(104b)(도 3 참조)의 거리를 단축할 수 있다. 또한, 각 순환 라인(104a, 104b)의 단축에 의해 각 처리 유닛(16Ua, 16La, 16Ub, 16Lb)으로 처리액을 효율적으로 공급할 수 있고, 또한 기판 액 처리 장치(100)를 보다 공간 절약화할 수 있다.
또한, 도 5에 나타내는 바와 같이, 기판 액 처리 장치(100)는 탱크(102)를 2 개 구비하고, 2 개의 탱크(102)에는 각각 대응하는 제 1, 제 2 펌프(106a, 106b)가 접속된다.
도 5에 나타내는 기판 액 처리 장치(100)의 예에서는, 탱크(102)와 당해 탱크(102)에 대응하는 제 1, 제 2 펌프(106a, 106b)를 포함하는 기기군(즉, 기기의 조합)이 복수 세트(여기서는 2 세트) 있다. 또한, 도 5에서는 일방의 기기군을 부호 141α로, 타방의 기기군을 부호 141β로 나타내었다. 또한, 이러한 기기군(141α, 141β)에는 탱크(102) 등에 대응하는 필터(108a, 108b) 및 히터(109a, 109b) 등이 포함되어 있어도 된다.
그리고, 수용부(30)에 있어서는 기기군(141α)과 기기군(141β)의 사이에 구획벽(31, 31)이 형성된다. 이러한 구획벽(31, 31)은, 수용부(30)의 저면으로부터 제 1, 제 2 처리부(20a, 20b) 및 반송부(15)의 저면에 이르기까지 형성된다. 이에 의해, 수용부(30)의 공간(140)은 구획벽(31, 31)에 의해 공간(140α)과 공간(140β)으로 나뉜다.
이와 같이, 기판 액 처리 장치(100)에 있어서는, 기기군(141α)과 기기군(141β)이 서로 분리된 상태로 수용부(30)에 수용된다. 이에 의해, 도시는 생략하지만, 예를 들면 기판 액 처리 장치(100)에 있어서, 기기군(141α)이 배치되는 공간(140α), 기기군(141β)이 배치되는 공간(140β)마다 배기 및 온도 조절 등의 공조 관리를 행하는 것이 가능해져, 기판 처리의 품질 향상을 도모할 수 있다. 또한, 상기한 2 개의 탱크(102)에 저류되는 처리액은 동일한 종류여도 서로 상이한 종류여도 된다. 또한, 탱크(102)의 수는 2 개에 한정되지 않는다.
제 1, 제 2 펌프(106a, 106b)는 각각 탱크(102)에 접속된다. 즉, 기판 액 처리 장치(100)에 있어서는, 1 개의 탱크(102)를 제 1, 제 2 펌프(106a, 106b)에서 공용시킬 수 있다.
또한, 상술한 바와 같이, 제 1 처리부(20a) 및 제 2 처리부(20b)는 반송부(15)를 사이에 두고 대향하는 위치에 마련되는 점으로부터, 탱크(102)는 제 1, 제 2 펌프(106a, 106b)의 사이에 배치되게 된다.
이에 의해, 순환 라인(104a)의 탱크(102)로부터 제 1 펌프(106a)까지의 제 1 액 배관(104a1)(도 3 참조)의 길이 및 순환 라인(104b)의 탱크(102)로부터 제 2 펌프(106b)까지의 제 2 액 배관(104b1)(도 3 참조)의 길이를 단축할 수 있다. 또한, 각 액 배관(104a1, 104b1)의 단축에 의해 제 1, 제 2 펌프(106a, 106b)로 처리액을 효율적으로 공급할 수 있고, 또한 기판 액 처리 장치(100)의 가일층의 공간 절약화를 도모할 수 있다.
여기서, 상기한 제 1 액 배관(104a1)의 길이는 제 2 액 배관(104b1)의 길이와 동일한 것이 바람직하다. 이에 의해, 기판 액 처리 장치(100)에 있어서는 처리 유닛(16Ua, 16La, 16Ub, 16Lb)에 대하여 균일한 처리를 행하는 것이 가능해진다.
즉, 예를 들면 가령 제 1 액 배관(104a1) 및 제 2 액 배관(104b1)의 길이가 크게 상이한 경우, 각 액 배관(104a1, 104b1)에 있어서의 압력 손실도 상이하게 된다. 그 때문에, 처리 유닛(16Ua, 16La)으로 공급되는 처리액과 처리 유닛(16Ub, 16Lb)으로 공급되는 처리액의 사이에서 유량 등에 차이가 생겨, 처리 유닛(16Ua, 16La, 16Ub, 16Lb)에 대하여 균일한 처리를 행하는 것이 어려워진다.
그런데, 본 실시 형태에 따른 기판 액 처리 장치(100)에서는 제 1, 제 2 액 배관(104a1, 104b1)의 길이를 동일하게 하였으므로, 제 1, 제 2 액 배관(104a1, 104b1)의 압력 손실도 대략 동일하게 맞출 수 있다. 이에 의해, 처리 유닛(16Ua, 16La)과 처리 유닛(16Ub, 16Lb)에 대하여 균일한 처리를 행하는 것이 가능해진다.
또한, 상기한 제 1, 제 2 액 배관(104a1, 104b1)의 길이가 '동일'이란, 완전히 동일한 것을 필요로 하지 않고, 예를 들면, 제 1, 제 2 액 배관(104a1, 104b1)의 설계상의 길이의 차가 양 배관에 있어서의 압력 손실의 차를 발생시키지 않을 정도로 작거나, 혹은 제 1, 제 2 액 배관(104a1, 104b1)의 실제의 길이의 차가 배관의 제조 시 또는 설치 작업 시에 있어서의 오차의 범위 내라고 생각될 정도로 작은 것이라면, 양 배관의 길이가 '동일'하다고 간주해도 된다. 또한, 제 1, 제 2 액 배관(104a1, 104b1)의 길이 이외에도 관 직경 또는 관재의 종류 등을 조정하여 제 1, 제 2 액 배관(104a1, 104b1)의 압력 손실을 대략 동일하게 맞추도록 해도 된다.
도 5에 나타내는 바와 같이, 수용부(30)에 있어서, 상기한 구획벽(31, 31)의 사이에는 4 개의 공간(142α, 142α, 142β, 142β)을 형성하는 구획벽(32)이 마련된다. 그리고, 각 공간 중, 제 1 펌프(106a)에 근접하는 쪽의 공간(142α, 142α)에 제 1 펌프(106a)용의 제어 밸브(132a)가 제 2 펌프(106b)에 근접하는 쪽의 공간(142β, 142β)에 제 2 펌프(106b)용의 제어 밸브(132b)가 각각 배치된다.
또한, 제 1 펌프(106a)용의 제어 밸브(132a)는 제 1 처리부(20a)의 바로 아래에 배치되고, 제 2 펌프(106b)용의 제어 밸브(132b)는 제 2 처리부(20b)의 바로 아래에 배치된다.
이에 의해, 제어 밸브(132a)로부터 제 1 펌프(106a)까지의 에어 배관(131a)의 길이 및 제어 밸브(132b)로부터 제 2 펌프(106b)까지의 에어 배관(131b)의 길이를 단축할 수 있다. 또한, 각 에어 배관(131a, 131b)의 단축에 의해 에어를 효율적으로 제 1, 제 2 펌프(106a, 106b)로 공급할 수 있고, 또한 기판 액 처리 장치(100)의 공간 절약화를 한층 더 도모할 수 있다.
수용부(30)의 X축 정방향 단부의 근방에는 공간(143)을 형성하는 구획벽(33)이 마련된다. 이러한 공간(143)에는, 에어 공급원(130)으로부터의 에어 배관(131a, 131b) 및 도시하지 않은 N2 가스 공급원으로부터의 가스 배관 등 다양한 배관이 배치된다.
그리고, 에어 배관(131a, 131b)은, 예를 들면 탱크(102)의 하방의 배관 스페이스(도시 생략)를 통과한 후, 제어 밸브(132a, 132b)를 개재하여 제 1, 제 2 펌프(106a, 106b)에 접속된다.
여기서, 상기한 에어 배관(131a)의 길이는 에어 배관(131b)의 길이와 동일한 것이 바람직하다. 또한, 보다 바람직하게는, 제어 밸브(132a)로부터 제 1 펌프(106a)까지의 길이가 제어 밸브(132b)로부터 제 2 펌프(106b)까지의 길이와 동일하게 된다. 이에 의해, 기판 액 처리 장치(100)에 있어서는 처리 유닛(16Ua, 16La, 16Ub, 16Lb)에 대하여 균일한 처리를 행하는 것이 가능해진다.
즉, 예를 들면 가령 에어 배관(131a, 131b)의 길이가 크게 상이한 경우, 각 에어 배관(131a, 131b)에 있어서의 압력 손실도 상이하게 된다. 그 때문에, 제 1, 제 2 펌프(106a, 106b)가 벨로우즈 펌프인 경우 제 1, 제 2 펌프(106a, 106b)와의 사이에서 토출 유량 등에 차이가 생겨, 처리 유닛(16Ua, 16La, 16Ub, 16Lb)에 대하여 균일한 처리를 행하는 것이 어려워진다. 또한, 제 1, 제 2 펌프(106a, 106b)는 상술한 바와 같이 다이어프램 펌프 또는 플런저 펌프 등이어도 되지만, 그 경우라도 에어 배관(131a, 131b)의 길이가 크게 상이하면, 각 처리 유닛에 대하여 균일한 처리를 행하는 것이 어려워진다.
본 실시 형태에 따른 기판 액 처리 장치(100)에서는 에어 배관(131a, 131b)의 길이를 동일하게 하였으므로, 에어 배관(131a, 131b)의 압력 손실도 대략 동일하게 맞출 수 있다. 이에 의해, 처리 유닛(16Ua, 16La)과 처리 유닛(16Ub, 16Lb)에 대하여 균일한 처리를 행하는 것이 가능해진다.
또한, 상기한 에어 배관(131a, 131b)의 길이가 '동일'이란, 제 1, 제 2 액 배관(104a1, 104b1)의 길이와 마찬가지로 완전하게 동일한 것을 필요로 하지 않는다. 즉, 에어 배관(131a, 131b)의 길이의 차가 허용 범위 내이면, 길이가 '동일'하다고 간주해도 된다. 또한, 에어 배관(131a, 131b)의 길이 이외에도 관 직경 또는 관재의 종류 등을 조정하여 에어 배관(131a, 131b)의 압력 손실을 대략 동일하게 맞추도록 해도 된다.
도 6은 처리 스테이션(3)을 X-Z 평면으로 절단하였을 때의 종단면도이다. 또한, 도 6에 있어서는 도시의 간략화를 위하여, 각각이 탱크(102) 및 제 1, 제 2 펌프(106a, 106b) 등을 포함하는 기기군(141α, 141β)을 합쳐 하나의 블록으로 나타내도록 하였다.
도 6에 나타내는 바와 같이, 기기군(141α)으로부터 연장되는 순환 라인(104a)은 기기군(141α)이 배치되는 공간(140α)을 통과한 후, 인접하는 기기군(141β)이 배치되는 공간(140β)을 통과하고, 그 후, 처리 유닛(16Ua, 16La, 16Ub, 16Lb)을 지나 기기군(141α)으로 되돌아가도록 배치된다. 또한, 도 6에 있어서, 처리 유닛(16Ub, 16Lb)은 처리 유닛(16Ua, 16La)에 가려 보이지 않는다.
한편, 기기군(141β)으로부터 연장되는 순환 라인(104b)은 기기군(141β)이 배치되는 공간(140β)을 통과한 후, 처리 유닛(16Ua, 16La, 16Ub, 16Lb)으로 연장되고, 그 후, 인접하는 기기군(141α)이 배치되는 공간(140α)을 통과하여 기기군(141β)으로 되돌아가도록 배치된다.
이와 같이, 본 실시 형태에 따른 기판 액 처리 장치(100)에서는 순환 라인(104a, 104b)이 모두, 인접하는 기기군(141α, 141β)의 공간(140α, 140β)을 통과하도록 하였다. 이에 의해, 수용부(30)의 공간(140α, 140β)을 유효하게 이용할 수 있고, 따라서 기판 액 처리 장치(100)에 있어서의 공간 절약화를 한층 더 도모할 수 있다.
또한, 공간(140β)을 통과할 때의 순환 라인(104a)에는, 예를 들면, 보호관의 내부를 통과시키거나 이음매를 이용하지 않도록 하는 등, 기기군(141β)의 처리액 등으로부터의 영향을 방지하는 적절한 방법이 취해지는 것이 바람직하다. 또한, 공간(140α)을 통과할 때의 순환 라인(104b)에 대해서도 동일한 방법이 취해지는 것이 바람직하다.
상술한 바와 같이, 제 1 실시 형태에 따른 기판 액 처리 장치(100)는 반송부(15)와, 제 1, 제 2 처리부(처리부의 일례)(20a, 20b)와, 탱크(102)와, 제 1, 제 2 펌프(106a, 106b)를 구비한다. 반송부(15)에는 웨이퍼(W)를 반송하는 기판 반송 장치(17)가 배치된다. 제 1, 제 2 처리부(20a, 20b)는 반송부(15)에 수평 방향으로 인접하고, 처리액을 이용하여 웨이퍼(W)를 처리하는 액 처리 유닛(16)이 배치된다. 탱크(102)는 탱크 액 보충부(116)로부터의 처리액을 저류한다. 제 1, 제 2 펌프(106a, 106b)는 탱크(102)에 저류된 처리액을 액 처리 유닛(16)으로 송출한다. 탱크(102)는 반송부(15)의 바로 아래에 배치된다. 제 1, 제 2 펌프(106a, 106b)는 제 1, 제 2 처리부(20a, 20b)의 바로 아래에 배치된다. 이에 의해, 기판 액 처리 장치(100)에 있어서의 공간 절약화를 도모할 수 있다.
(제 1 실시 형태의 변형예)
이어서, 제 1 실시 형태의 변형예(이하 '제 1 변형예'라고 함)에 대하여 설명한다. 도 7은 제 1 변형예에 따른 기판 액 처리 장치(100)를 설명하기 위한 도이다.
도 7에 나타내는 바와 같이, 제 1 변형예에 있어서는 제 1 액 배관(104a1) 및 제 1 펌프("제 1 송액 기구"의 일례)(106a)와, 제 2 액 배관(104b1) 및 제 2 펌프("제 2 송액 기구"의 일례)(106b)가 평면에서 볼 때 점대칭이 되도록 배치된다.
도 7의 좌측에 배치되는 기기군(141α)을 예로 들어 상세하게 설명하면, 탱크(102)에는 제 1 처리부(20a)의 하방의 공간(120a) 내에 있어서 상류측으로부터 차례로 제 1 액 배관(104a1), 제 1 펌프(106a), 필터(108a) 및 히터(109a)가 접속된다. 또한, 탱크(102)에는 제 2 처리부(20b)의 하방의 공간(120b) 내에 있어서 제 2 펌프(106b), 필터(108b) 및 히터(109b)가 접속된다.
그리고, 제 1 변형예에서는, 상기한 제 1 액 배관(104a1) 및 제 1 펌프(106a)와 제 2 액 배관(104b1) 및 제 2 펌프(106b)는, 반송부(15)의 하방의 공간(115)에 위치되는 점(150α)을 대칭점으로 하여 평면에서 볼 때 점대칭이 되도록 배치된다.
또한, 도 7의 우측에 배치되는 기기군(141β)에 대해서도 상기한 기기군(141α)과 동일한 배치이다. 즉, 제 1 액 배관(104a1) 및 제 1 펌프(106a)와 제 2 액 배관(104b1) 및 제 2 펌프(106b)는, 공간(115)에 위치되는 점(150β)을 대칭점으로 하여 평면에서 볼 때 점대칭이 되도록 배치된다.
또한, 도 7에 나타내는 예에서는, 상기한 점(150α, 150β)은 공간(115) 중 탱크(102)의 중심점과 동일한 위치로 하였지만, 이것은 어디까지나 예시이며 한정되는 것은 아니다.
이에 의해, 기판 액 처리 장치(100)에 있어서 부품의 공유화를 도모할 수 있다. 즉, 예를 들면, 제 1 펌프(106a)와 제 2 펌프(106b)에서 탱크(102)에 대한 흡입구의 위치(방향)를 동일하게 할 수 있다. 또한, 예를 들면, 제 1 액 배관(104a1)과 제 2 액 배관(104b1)에서 길이를 동일하게 할 수도 있다.
또한, 제 1 액 배관(104a1), 제 1 펌프(106a), 필터(108a) 및 히터(109a)가 고정되는 부품과, 제 2 액 배관(104b1), 제 2 펌프(106b), 필터(108b) 및 히터(109b)가 고정되는 부품의 사이에서 동일한 사양의 부품을 이용할 수 있다. 따라서, 기판 액 처리 장치(100)에 있어서 부품의 공유화를 도모할 수 있고, 또한 저비용화도 가능해진다.
또한, 예를 들면 제 1, 제 2 펌프(106a, 106b)에 대하여 원하는 사양이 바뀐 경우, 각 펌프(106a, 106b)에 대하여 각각 설계 변경을 행하게 된다. 이러한 경우라도, 상기와 같은 배치로 함으로써, 예를 들면 일방의 펌프에서 행한 설계 변경을 타방의 펌프에도 적용하는 것이 가능해진다. 이에 의해, 기판 액 처리 장치(100)에 있어서 사양이 바뀐 경우라도 조기에 설계 변경을 행할 수 있어, 신속하게 대응하는 것이 가능해진다.
그런데, 제 1, 제 2 액 배관(104a1, 104b1) 등이 상기한 바와 같이 점대칭이 되도록 배치된 경우, 예를 들면, 기기군(141α)에 있어서, 히터(109a)의 출구는 수용부(30)의 단부 부근에 위치되는 한편, 히터(109b)의 출구는 수용부(30)의 중앙부 부근에 위치된다. 그 때문에, 히터(109a)로부터 처리 유닛(16Ua, 16La)까지의 액 배관의 길이와 히터(109b)로부터 처리 유닛(16Ub, 16Lb)까지의 액 배관의 길이가 상이한 경우가 있다. 이러한 경우에 대하여 도 8을 참조하여 상세하게 설명한다.
도 8은 히터(109a, 109b)로부터 처리 유닛(16Ua, 16La, 16Ub, 16Lb)까지의 액 배관을 모식적으로 나타내는 측면도이다. 도 8에 나타내는 바와 같이, 순환 라인(104a)의 히터(109a)로부터 처리 유닛(16Ua, 16La)까지의 액 배관의 길이는 정해진 거리 A 만큼, 순환 라인(104b)의 히터(109b)로부터 처리 유닛(16Ub, 16Lb)까지의 액 배관의 길이보다 길어지는 경우가 있다.
그 때문에, 가령 히터(109a, 109b)에 의해 승온되는 처리액의 정해진 온도를 동일한 값으로 한 경우, 처리 유닛(16Ua, 16La, 16Ub, 16Lb)에 도달한 시점의 처리액의 온도가 순환 라인(104a)과 순환 라인(104b)에서 상이할 우려가 있었다. 구체적으로는, 액 배관이 긴 순환 라인(104a)의 처리액의 온도가 순환 라인(104b)의 처리액의 온도보다 낮아져 버릴 우려가 있었다.
그래서, 제 1 변형예에서는, 순환 라인(104a, 104b)에 있어서 처리 유닛(16Ua, 16La, 16Ub, 16Lb)까지의 액 배관의 길이가 동일 또는 대략 동일해지는 위치에, 처리액의 온도를 검출하는 온도 검출부(160a, 160b)를 각각 마련하도록 하였다.
상기한 온도 검출부(160a, 160b)는 검출된 처리액의 온도를 나타내는 신호를 제어 장치(4)에 출력한다. 그리고, 제어 장치(4)는 검출된 처리액의 온도에 기초하여 히터(109a, 109b)를 제어한다. 상세하게는, 제어 장치(4)는 온도 검출부(160a)에 의해 검출되는 처리액의 온도와 온도 검출부(160b)에 의해 검출되는 처리액의 온도가 동일해지도록 히터(109a, 109b)를 제어한다.
이에 의해, 제 1 변형예에 따른 기판 액 처리 장치(100)에 있어서는, 처리 유닛(16Ua, 16La, 16Ub, 16Lb)에 도달한 시점의 처리액의 온도가 순환 라인(104a)과 순환 라인(104b)에서 동일해지고, 따라서 균일한 처리를 행하는 것이 가능해진다.
(제 2 실시 형태)
이어서, 제 2 실시 형태에 따른 기판 액 처리 장치(100)에 대하여 설명한다. 상기한 제 1 실시 형태에서는 1 개의 탱크(102)에 대하여 제 1 및 제 2 펌프(106a, 106b)가 접속되도록 하였지만, 제 2 실시 형태에서는 1 개의 탱크에 대하여 1 개만의 펌프가 개별적으로 접속되도록 하였다.
도 9는 제 2 실시 형태에 따른 기판 액 처리 장치(100)를 설명하기 위한 도이며, 처리 스테이션(3)을 X-Y 평면으로 절단하였을 때의 횡단면도이다. 또한, 이하에 있어서는, 제 1 실시 형태와 공통의 구성에 대해서는 동일한 부호를 부여하여 설명을 생략한다.
도 9에 나타내는 바와 같이, 제 2 실시 형태에 따른 기판 액 처리 장치(100)는 제 1 탱크(102a)와 제 2 탱크(102b)를 구비한다. 또한, 제 1 탱크(102a)는 제 1 저류부의 일례이고, 제 2 탱크(102b)는 제 2 저류부의 일례이다.
또한, 제 1 및 제 2 탱크(102a, 102b)는 모두 반송부(15)의 바로 아래에 배치되는, 즉, 공간(115) 내에 배치된다. 또한, 제 1 탱크(102a)에는 제 1 펌프(106a)가 접속되는 한편, 제 2 탱크(102b)에는 제 2 펌프(106b)가 접속된다.
또한, 제 1 펌프(106a)가 제 1 및 제 2 처리부(20a, 20b) 중 일방의 처리부의 바로 아래에 배치된 경우, 제 2 펌프(106b)는 제 1, 제 2 처리부(20a, 20b) 중 타방의 처리부의 바로 아래에 배치되도록 한다.
구체적으로는, 제 1 처리부(20a)의 바로 아래(공간(120a))에 제 1 펌프(106a)가 배치된 경우, 제 2 처리부(20b)의 바로 아래(공간(120b))에 제 2 펌프(106b)가 배치되는 것이 바람직하다. 또한, 제 2 처리부(20b)의 바로 아래(공간(120b))에 제 1 펌프(106a)가 배치된 경우, 제 1 처리부(20a)의 바로 아래(공간(120a))에 제 2 펌프(106b)가 배치되는 것이 바람직하다.
이와 같이, 제 1 및 제 2 탱크(102a, 102b)가 제 1 및 제 2 펌프(106a, 106b)의 사이에 배치됨으로써, 환언하면, 반송부(15)의 바로 아래에 배치됨으로써, 기판 액 처리 장치(100)의 공간 절약화를 도모할 수 있다.
또한, 제 1 및 제 2 탱크(102a, 102b)에 저류되는 처리액은 동일한 종류여도 서로 상이한 종류여도 된다.
여기서, 제 1 및 제 2 탱크(102a, 102b)에 저류되는 처리액이 서로 상이한 경우, 도 9에 나타내는 바와 같이, 제 1 처리부(20a)의 바로 아래(공간(120a)) 및 제 2 처리부(20b)의 바로 아래(공간(120b))에 각각 제 1 펌프(106a) 및 제 2 펌프(106b)가 1 개씩 배치되도록 한다.
이에 의해, 제 1 처리부(20a)의 처리 유닛(16Ua, 16La) 및 제 2 처리부(20b)의 처리 유닛(16Ub, 16Lb)에 대하여, 각 처리부의 근방에 배치된 제 1, 제 2 펌프(106a, 106b)로부터 상이한 종류의 처리액을 공급시킬 수 있다.
구체적으로는, 제 1 처리부(20a)의 처리 유닛(16Ua, 16La)에는, 도 9에서 좌측의 제 1 탱크(102a)로부터 제 1 펌프(106a)를 경유하여 처리액이 공급되고, 또한 도 9에서 우측의 제 2 탱크(102b)로부터 제 2 펌프(106b)를 경유하여 처리액이 공급된다. 또한, 제 2 처리부(20b)의 처리 유닛(16Ub, 16Lb)에는, 도 9에서 우측의 제 1 탱크(102a)로부터 제 1 펌프(106a)를 경유하여 처리액이 공급되고, 또한 도 9에서 좌측의 제 2 탱크(102b)로부터 제 2 펌프(106b)를 경유하여 처리액이 공급된다.
또한, 각 탱크(102a, 102b)로부터 각 펌프(106a, 106b)까지의 제 1, 제 2 액 배관(104a1, 104b1)에 있어서는, 도 9에서 좌우에 있는 제 1 펌프(106a)끼리 및 도 9에서 좌우에 있는 제 2 펌프(106b)끼리에서 길이가 동일한 것이 바람직하다. 이에 의해, 기판 액 처리 장치(100)에 있어서는 처리 유닛(16Ua, 16La, 16Ub, 16Lb)에 대하여 균일한 처리를 행하는 것이 가능해진다.
또한, 제어 밸브(132a, 132b)는 대응하는 제 1, 제 2 펌프(106a, 106b)의 근처가 되는 위치에 배치되는 것으로 한다.
도 9에 나타내는 기판 액 처리 장치(100)의 예에서는, 제 1 탱크(102a) 및 제 1 탱크(102a)에 대응하는 제 1 펌프(106a)를 포함하는 제 1 기기군을 부호 241α로 나타내었다. 마찬가지로, 도 9에서는, 제 2 탱크(102b) 및 제 2 탱크(102b)에 대응하는 제 2 펌프(106b)를 포함하는 제 2 기기군을 부호 241β로 나타내었다.
그리고, 수용부(30)에 있어서는 제 1 기기군(241α)과 제 2 기기군(241β)의 사이에 구획벽(34)이 형성된다. 이에 의해, 수용부(30)의 공간(240)은 구획벽(34)에 의해 공간(240α)과 공간(240β)으로 나뉜다. 이러한 공간(240α) 및 공간(240β)은, 예를 들면 평면에서 볼 때 대략 L자 형상이 되도록 형성된다.
또한, 수용부(30)에 있어서 제 1 기기군(241α)의 제 1 탱크(102a)는 반송부(15)의 바로 아래의 공간(115) 내이고, 또한, 평면에서 볼 때 대략 L자 형상의 공간(240α) 내에 수용된다. 또한, 수용부(30)에 있어서 제 2 기기군(241β)의 제 2 탱크(102b)는 공간(115) 내이고, 또한, 평면에서 볼 때 대략 L자 형상의 공간(240β) 내에 수용된다.
이와 같이, 기판 액 처리 장치(100)에 있어서는, 제 1 기기군(241α)과 제 2 기기군(241β)이 서로 분리된 상태로 수용부(30)에 수용된다. 이에 의해, 예를 들면 기판 액 처리 장치(100)에 있어서, 제 1 기기군(241α)이 있는 공간(240α)과 제 2 기기군(241β)이 있는 공간(240β)을 서로 독립하여 배기 및 온도 조절 등의 공조 관리를 행하는 것이 가능해져, 기판 처리의 품질 향상을 도모할 수 있다.
이와 같이, 제 2 실시 형태에 있어서도 제 1 및 제 2 탱크(102a, 102b)는 모두 반송부(15)의 바로 아래에 배치되는 점으로부터, 기판 액 처리 장치(100)에 있어서의 공간 절약화를 도모할 수 있다. 또한, 잔여의 효과는 제 1 실시 형태와 동일하므로 설명을 생략한다.
(제 2 실시 형태의 변형예)
이어서, 제 2 실시 형태의 변형예(이하 '제 2 변형예'라고 함)에 대하여 설명한다. 도 10은 제 2 변형예에 따른 기판 액 처리 장치(100)를 설명하기 위한 도이다.
도 10에 나타내는 바와 같이, 제 2 변형예에 있어서는, 제 1 액 배관(104a1) 및 제 1 펌프(106a)와 제 2 액 배관(104b1) 및 제 2 펌프(106b)는, 제 1 변형예와 마찬가지로 반송부(15)의 하방의 공간(115)에 위치되는 점(250α, 250β)을 대칭점으로 하여 평면에서 볼 때 점대칭이 되도록 배치된다.
또한, 제 2 변형예에 있어서는, 대응하는 제 1 기기군(241α)과 제 2 기기군(241β)을 가지는 조합을 그룹(261, 262)으로 한 경우, 그룹(261)과 그룹(262)은 평면에서 볼 때 점대칭이 되도록 배치된다.
또한, 이하에서는 이해의 편의를 위하여, 도 10의 좌측에 배치되는 제 1 및 제 2 기기군(241α, 241β)을 가지는 그룹(261)을 '제 1 그룹(261)', 우측의 제 1 및 제 2 기기군(241α, 241β)을 가지는 그룹(262)을 '제 2 그룹(262)'이라고 기재하는 경우가 있다. 또한, 여기서는 제 1 기기군(241α)에는 제 1 탱크(102a), 제 1 액 배관(104a1), 제 1 펌프(106a), 필터(108a) 및 히터(109a)가 포함되는 것으로 한다. 마찬가지로, 제 2 기기군(241β)에는 제 2 탱크(102b), 제 2 액 배관(104b1), 제 2 펌프(106b), 필터(108b) 및 히터(109b)가 포함되는 것으로 한다.
제 2 변형예에 따른 기판 액 처리 장치(100)에 대하여 상세하게 설명하면, 상기한 제 1 그룹(261)을 구성하는 제 1 및 제 2 기기군(241α, 241β)과 제 2 그룹(262)을 구성하는 제 1 및 제 2 기기군(241α, 241β)은 반송부(15)의 하방의 공간(115)에 위치되는 점(251)을 대칭점으로 하여 평면에서 볼 때 점대칭이 되도록 배치된다.
또한, 도 10에 나타내는 예에서는, 상기한 점(251)은 인접하는 탱크(102a)의 사이에 위치되지만, 이것은 예시이며 한정되는 것은 아니다. 또한, 점(250α, 250β)은 공간(115) 중 탱크(102a, 102b)의 사이에 위치되지만, 이들도 예시이며 한정되는 것은 아니다. 또한, 도 10에서는 그룹(261, 262)이 2 개 있는 예를 나타내었지만, 3 개 이상이어도 된다.
이와 같이, 제 2 변형예에 있어서는 제 1 기기군(241α)과 제 2 기기군(241β)을 가지는 그룹(261, 262)이 복수 있고, 복수의 그룹(261, 262)은 평면에서 볼 때 점대칭이 되도록 배치된다.
이에 의해, 제 2 변형예에 따른 기판 액 처리 장치(100)에 있어서, 부품의 공유화를 도모할 수 있다. 즉, 예를 들면, 제 1 및 제 2 그룹(261, 262)에 있어서, 제 1 펌프(106a)와 제 2 펌프(106b)에서 탱크(102a, 102b)에 대한 흡입구의 위치(방향)를 동일하게 할 수 있다. 또한, 예를 들면, 제 1 액 배관(104a1)과 제 2 액 배관(104b1)에서 길이를 동일하게 할 수도 있다.
이 점으로부터, 제 1 그룹(261)과 제 2 그룹(262)의 사이에서 동일한 사양의 부품 및 액 배관을 이용할 수 있다. 따라서, 기판 액 처리 장치(100)에 있어서 부품의 공유화를 도모할 수 있고, 또한 저비용화도 가능해진다. 또한, 잔여의 효과는 제 1 변형예 등과 동일하기 때문에 설명을 생략한다.
그런데, 기판 액 처리 장치(100)는 웨이퍼(W)(도 1 참조)의 사이즈 또는 웨이퍼(W)에 대한 처리의 내용 등에 의해 전체의 크기가 대형화되는 경우가 있다. 대형화된 기판 액 처리 장치(100)에 있어서는, 예를 들면, 설치 작업자에 의해 웨이퍼(W)의 생산 공장까지 반송되어 설치될 때의 '반송성' 및 '설치 용이성'을 향상시키기 위하여 분할 가능하게 구성되는 것이 바람직하다.
예를 들면, 도 10에 나타내는 예에서는, 수용부(30)는 제 1 수용부(30a)와 제 2 수용부(30b)로 분할 가능하게 구성된다. 또한, 도 10에 있어서는 제 1 수용부(30a) 및 제 2 수용부(30b)의 배치를 명확하게 도시하기 위하여, 제 1 수용부(30a)를 일점 쇄선으로, 제 2 수용부(30b)를 이점 쇄선으로 둘러싸서 나타내었다.
제 1 수용부(30a)에는 제 1 처리부(20a)(도 4 참조), 반송부(15)(도 4 참조), 제 1 처리부(20a)의 바로 아래에 배치된 제 1, 제 2 펌프(106a, 106b), 반송부(15)의 바로 아래에 배치된 제 1, 제 2 탱크(102a, 102b) 등이 수용된다. 또한, 제 2 수용부(30b)에는 제 2 처리부(20b)(도 4 참조), 제 2 처리부(20b)의 바로 아래에 배치된 제 1, 제 2 펌프(106a, 106b) 등이 수용된다.
또한, 분할된 제 1, 제 2 수용부(30a, 30b)에 있어서는, 각각 수용될 기기가 미리 장치되어 있는 것으로 하고, 제 1 수용부(30a)와 제 2 수용부(30b)의 경계에 걸치는 액 배관은 접속되어 있지 않은 상태로 된다.
또한, 도 10에서는, 상기한 제 1 수용부(30a)와 제 2 수용부(30b)의 경계에 걸치는 액 배관의 부위를 파선의 폐곡선(271, 272)으로 나타내고, 이하 '연결 부위(271, 272)'라고 기재한다.
그리고, 예를 들면, 제 1 수용부(30a)와 제 2 수용부(30b)는 분할된 상태로 생산 공장에 반입된 후, 서로 접속된다. 또한, 반송부(15)와 제 2 처리부(20b)가 접속되고, 또한 연결 부위(271, 272)의 액 배관이 연결됨으로써, 기판 액 처리 장치(100)의 설치가 완료된다.
이와 같이, 제 1, 제 2 처리부(20a, 20b)와 반송부(15)는 제 1 처리부(20a)와 반송부(15)가 수용되는 부분(제 1 수용부(30a))과 제 2 처리부(20b)가 수용되는 부분(제 2 수용부(30b))의 사이에서 분할 가능한 수용부(30)에 수용된다.
따라서, 반송부(15)와 제 1 처리부(20a)가 제 1 수용부(30a)에 수용된 상태에서 일체적으로 반송되기 때문에, 예를 들면 생산 공장에 기판 액 처리 장치(100)를 설치할 때, 설치 작업자는 반송부(15)의 위치 조정을 제 2 처리부(20b)에 대해서만 행하면 된다. 이에 의해, 기판 액 처리 장치(100)에 있어서의 조정 시간을 단축할 수 있다.
또한, 수용부(30)의 구성은 상기에 한정되는 것은 아니며, 예를 들면, 제 1 수용부(30a)에 제 1 처리부(20a)가 수용되고, 제 2 수용부(30b)에 반송부(15)와 제 2 처리부(20b)가 수용되도록 분할해도 된다.
또한, 제 2 변형예에 있어서는, 상기한 바와 같이 제 1, 제 2 그룹(261, 262)의 제 1, 제 2 액 배관(104a1, 104b1) 등이 점대칭이 되도록 배치된다. 그 때문에, 도 10에 나타내는 바와 같이, 연결 부위(271, 272)의 일부(여기서는 연결 부위(272))가 기판 액 처리 장치(100)의 중심부 부근에 위치되는 경우가 있다.
그래서, 제 2 변형예에 있어서는 수용부(30)의 연결 부위(272) 부근의 부분을 추가로 분할 가능하게 구성하도록 하였다. 이에 의해, 기판 액 처리 장치(100)의 설치 용이성이 저하하는 것을 억제할 수 있다.
구체적으로 설명하면, 제 2 수용부(30b)는 슬라이드 수용부(30b1)를 구비한다. 슬라이드 수용부(30b1)는 제 2 수용부(30b) 중 설치 작업자가 액세스하기 어려운 연결 부위(272) 부근, 예를 들면 제 1, 제 2 그룹(261, 262)의 사이에 위치된다.
그리고, 슬라이드 수용부(30b1)는 제 2 수용부(30b)에 대하여 Y축 정방향으로 슬라이드하여 인출됨으로써 분할된다. 또한, 인출된 상태의 슬라이드 수용부(30b1)를 도 10에 가상선(이점 쇄선)으로 나타내었다. 슬라이드 수용부(30b1)를 용이하게 슬라이드시키기 위하여, 예를 들면, 슬라이드 수용부(30b1)와 제 2 수용부(30b) 또는 바닥면의 사이에 롤러 등의 회전체를 개재 삽입할 수 있다.
이와 같이, 슬라이드 수용부(30b1)가 인출됨으로써, 연결 부위(272) 부근에는 액 배관을 연결하기 위한 작업 공간이 생긴다. 이에 의해, 설치 작업자는 연결 부위(272)에 용이하게 액세스할 수 있고, 액 배관을 연결할 수 있다, 즉, 기판 액 처리 장치(100)의 설치 용이성이 저하되는 것을 억제할 수 있다.
또한, 상기에서는 슬라이드 수용부(30b1)가 Y축 방향으로 슬라이드하여 제 2 수용부(30b)와 분할되도록 구성하였지만, 이에 한정하지 않고, 예를 들면 Z축 방향으로 슬라이드하는 방식 또는 그 밖의 방식으로 분할되도록 해도 된다.
또한, 상기에서는 제 2 수용부(30b)가 슬라이드 수용부(30b1)를 구비하도록 하였지만, 이에 한정되지 않고, 제 1 수용부(30a)가 슬라이드 수용부를 구비하도록 구성해도 된다. 또한, 상기한 수용부(30)를 제 1, 제 2 수용부(30a, 30b), 슬라이드 수용부(30b1)로 분할하는 구성은 제 1, 제 2 실시 형태 또는 제 1 변형예에도 적용 가능하다.
(제 3 실시 형태)
이어서, 제 3 실시 형태에 따른 기판 액 처리 장치(100)에 대하여 설명한다. 우선, 처리 유닛(16)의 개략 구성에 대하여 도 11을 참조하여 설명한다. 도 11은 처리 유닛(16)의 개략 구성을 나타내는 도이다.
도 11에 나타내는 바와 같이, 처리 유닛(16)은 챔버(300)와, 기판 유지 기구(310)와, 제 1 처리액 공급부(320)와, 회수 컵(330)과, 제 2 처리액 공급부(340)를 구비한다.
챔버(300)는 기판 유지 기구(310)와, 제 1 처리액 공급부(320)와, 회수 컵(330)과, 제 2 처리액 공급부(340)를 수용한다. 챔버(300)의 천장부에는 FFU(Fan Filter Unit)(301)가 마련된다. FFU(301)는 챔버(300) 내에 다운 플로우를 형성한다.
기판 유지 기구(310)는 유지부(311)와, 지주부(312)와, 구동부(313)를 구비한다. 유지부(311)는 웨이퍼(W)를 수평으로 유지한다. 지주부(312)는 연직 방향으로 연장되는 부재이며, 기단부가 구동부(313)에 의해 회전 가능하게 지지되고, 선단부에 있어서 유지부(311)를 수평으로 지지한다. 구동부(313)는 지주부(312)를 연직축 둘레로 회전시킨다. 이러한 기판 유지 기구(310)는 구동부(313)를 이용하여 지주부(312)를 회전시킴으로써 지주부(312)에 지지된 유지부(311)를 회전시키고, 이에 의해, 유지부(311)에 유지된 웨이퍼(W)를 회전시킨다.
제 1 처리액 공급부(320)는 웨이퍼(W)에 대하여 처리액을 공급한다. 제 1 처리액 공급부(320)는, 예를 들면 상기한 탱크(102) 등의 처리액 공급원에 접속된다.
회수 컵(330)은 유지부(311)를 둘러싸도록 배치되고, 유지부(311)의 회전에 의해 웨이퍼(W)로부터 비산하는 처리액을 포집한다. 회수 컵(330)의 바닥부에는 배액구(331)가 형성되어 있고, 회수 컵(330)에 의해 포집된 처리액은 이러한 배액구(331)로부터 처리 유닛(16)의 외부 등으로 배출된다. 또한, 회수 컵(330)의 바닥부에는 FFU(301)로부터 공급되는 기체를 처리 유닛(16)의 외부로 배출하는 배기구(332)가 형성된다.
제 2 처리액 공급부(340)는 웨이퍼(W)에 대하여 제 2 처리액을 공급한다. 제 2 처리액으로서는, 예를 들면 DIW(순수)를 이용할 수 있다. 이하에서는 제 2 처리액이 DIW인 경우를 예로 들어 설명하지만, 이에 한정되지 않고, 그 밖의 종류의 처리액이어도 된다.
제 2 처리액 공급부(340)는 회수 컵(330)의 주위의 적절한 위치에 마련되는 토출부(341)를 구비한다. 토출부(341)는 일단이 DIW 공급원(342)에 접속되는 한편, 타단에는 토출구(341a)가 마련된다. 토출구(341a)는 회수 컵(330)의 상부의 개구로부터 웨이퍼(W)를 향하는 장소에 배치되고, DIW 공급원(342)으로부터 공급된 DIW를 토출한다.
그런데, 웨이퍼(W)는 제 1 처리액 공급부(320)로부터의 처리액에 의해 기판 처리가 실시되는데, 기판 처리의 종류에 따라서는 처리액이 복수종에 이르는 경우가 있다. 그와 같은 경우에 있어서는, 예를 들면 웨이퍼(W)로 현재 공급하고 있는 처리액으로부터 다음 처리에 이용되는 처리액으로 전환할 때에, 전환에 필요로 하는 시간만큼 웨이퍼(W)에 처리액이 공급되지 않게 된다.
그래서, 처리 유닛(16)에서는 처리액 전환의 타이밍에서 제 2 처리액 공급부(340)로부터 DIW를 웨이퍼(W)로 공급하여, 웨이퍼(W)의 액 끊김, 건조를 방지하도록 하고 있다.
그러나, 종래의 처리 유닛에 있어서는, DIW의 웨이퍼(W)로의 공급 개시 시, 제 2 처리액 공급부로부터의 DIW의 토출량을 점차 증가시키도록 하고 있었기 때문에, DIW의 궤적은, 도 11에 나타내는 화살표 'a', 화살표 'b', 화살표 'c'의 순이 되었다. 따라서, 예를 들면, DIW가 화살표 'b'의 상태에 있는 경우, 회수 컵(330)의 외주면에 튀어버려 바람직하지 않았다.
그래서, 제 3 실시 형태에서는 DIW 공급원(342)으로부터 토출구(341a)까지의 사이에 흡인부(343)를 마련하도록 하였다. 흡인부(343)로서는, 예를 들면 석백 밸브를 이용할 수 있지만, 이에 한정되지 않는다.
상기한 바와 같이 구성함으로써, 예를 들면, DIW를 웨이퍼(W)로 공급하는 타이밍에서, 흡인부(343)에 의해 DIW를 일단 되돌리고 나서 토출시키도록 할 수 있다. 이에 의해, 토출구(341a)에 있어서의 DIW의 유속(초속)을 증가시킬 수 있는 점으로부터, DIW는 토출 직후에 화살표 'c'의 상태가 되고, 따라서 회수 컵(330)의 외주면 등 불필요한 부위에 DIW가 튀는 것을 방지할 수 있다.
(제 4 실시 형태)
이어서, 제 4 실시 형태에 따른 기판 액 처리 장치(100)에 대하여 설명한다. 도 12는 처리액 공급계의 개략 구성을 나타내는 도이다.
도 12에 나타내는 바와 같이, 기판 액 처리 장치(100)는 순환 라인(104)을 구비하고, 이 순환 라인(104)에는 상기한 펌프(106), 필터(108) 및 히터(109)에 추가로 개폐 밸브(400) 및 배압 조정 밸브(401)가 개재 삽입된다.
상세하게는, 순환 라인(104)은 탱크(102)로부터 나온 후에 수평으로 연장되는 제 1 수평부(410)와, 제 1 수평부(410)의 하류측에 접속되어 상방을 향하여 연장되는 상승부(411)와, 상승부(411)의 하류측에 접속되어 수평으로 연장되는 제 2 수평부(412)를 구비한다. 순환 라인(104)은, 추가로 제 2 수평부(412)의 하류측에 접속되어 하방을 향하여 연장되는 하강부(413)와, 하강부(413)의 하류측에 접속되어 수평으로 연장되는 제 3 수평부(414)를 구비하고, 제 3 수평부(414)의 하류측이 탱크(102)에 접속된다. 또한, 상기한 개폐 밸브(400) 및 배압 조정 밸브(401)는 제 3 수평부(414)에 마련된다.
그런데, 기판 액 처리 장치(100)에 있어서는 탱크(102) 및 순환 라인(104)을 흐르는 처리액의 교체를 행하는 경우가 있다. 교체 시에는, 우선 탱크(102) 및 순환 라인(104) 내의 처리액을 드레인부(118)로부터 폐기한다. 이어서, 새로운 처리액을 탱크 액 보충부(116)로부터 탱크(102) 및 순환 라인(104)으로 공급한다.
그러나, 새로운 처리액이 순환 라인(104)의 제 1 수평부(410), 상승부(411) 및 제 2 수평부(412)를 경유하여 하강부(413)의 부분에 도달하면, 하강부(413) 내에서 처리액이 낙하한다. 그 때, 예를 들면 가령 도 12에 가상선으로 나타내는 제 3 수평부(414a)와 같이, 하강부(413)의 하류측과 제 3 수평부(414a)의 상류측이 직접 접속되어 있는 경우, 파선의 원으로 둘러싼 접속 부위(415)에서 처리액은 제 3 수평부(414a)에 부딪쳐 액적 상태가 된다. 이러한 액적 상태의 처리액이 예를 들면 배압 조정 밸브(401)에 공급되면, 처리액과 배압 조정 밸브(401)의 밸브체의 사이에서 마찰이 생겨 정전기가 발생하여, 배압 조정 밸브(401)에 있어서 바람직하지 않다.
따라서, 제 4 실시 형태에서는 하강부(413)의 하류측과 제 3 수평부(414)의 상류측의 사이에 액 고임부(416)를 마련하도록 하였다. 이에 의해, 새로운 처리액은 액 고임부(416)에 일단 고인 후에 배압 조정 밸브(401)로 흘러나가는 점으로부터, 액적 상태의 처리액이 배압 조정 밸브(401)에 공급되는 경우는 없기 때문에 배압 조정 밸브(401)에 정전기가 생기는 것을 방지할 수 있다.
또한, 상기에서는 순환 라인(104)에 액 고임부(416)를 마련하도록 하였지만, 이에 한정되는 것은 아니다. 즉, 예를 들면, 순환 라인(104)에 새로운 처리액을 공급하기 위한 새로운 액 공급 라인에 있어서, 스톱 밸브의 상류측에 액 고임부를 마련하도록 해도 된다. 이에 의해, 액적 상태가 아닌 새로운 액이 액 고임부로부터 스톱 밸브에 공급되게 되어, 스톱 밸브에 있어서의 유량 조정을 적절히 행할 수 있다.
또한, 상술한 제 1 실시 형태에서는 1 개의 탱크(102)에 대하여 2 개의 펌프(106a, 106b)가 접속되고, 제 2 실시 형태에서는 1 개의 제 1 탱크(102a)에 대하여 1 개의 제 1 펌프(106a)를 접속하도록 하였지만, 이들을 적절히 조합해도 된다.
또한, 상기에서는 반송부(15)에 배치되는 기판 반송 장치(17)를 1 대로 하였지만, 이에 한정되지 않고, 2 대 이상이어도 된다.
새로운 효과 또는 변형예는 당업자에 의해 용이하게 도출할 수 있다. 이 때문에, 본 발명의 보다 광범위한 태양은, 이상과 같이 나타내고 또한 기술한 특정의 상세 및 대표적인 실시 형태에 한정되는 것은 아니다. 따라서, 첨부한 특허청구의 범위 및 그 균등물에 의해 정의되는 총괄적인 발명의 개념의 정신 또는 범위로부터 일탈하지 않고, 다양한 변경이 가능하다.

Claims (10)

  1. 기판을 반송하는 반송 장치가 배치되는 반송부와,
    상기 반송부에 수평 방향으로 인접하고, 처리액을 이용하여 상기 기판을 처리하는 액 처리 유닛이 배치되는 처리부와,
    상기 처리액을 저류하는 저류부와,
    상기 저류부에 저류된 상기 처리액을 상기 액 처리 유닛으로 송출하는 송액 기구
    를 구비하고,
    상기 저류부는,
    상기 반송부의 바로 아래에 배치되고,
    상기 송액 기구는,
    상기 처리부의 바로 아래에 배치되는 것
    을 특징으로 하는 기판 액 처리 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 저류부 및 상기 저류부에 대응하는 상기 송액 기구를 포함하는 기기군이 복수 세트 있고, 상기 복수 세트의 기기군은 서로 분리된 상태로 수용부에 수용되는 것
    을 특징으로 하는 기판 액 처리 장치.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 처리부는,
    상기 반송 장치에 의해 상기 기판이 반송되는 제 1 처리부와 제 2 처리부를 구비하고,
    상기 송액 기구는,
    상기 제 1 처리부의 바로 아래에 배치되고, 상기 저류부에 접속되는 제 1 송액 기구와,
    상기 제 2 처리부의 바로 아래에 배치되고, 상기 저류부에 접속되는 제 2 송액 기구
    를 구비하는 것을 특징으로 하는 기판 액 처리 장치.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 제 1 처리부와 상기 제 2 처리부는 상기 반송부를 사이에 두고 대향하는 위치에 마련되는 것
    을 특징으로 하는 기판 액 처리 장치.
  5. 제 3 항에 있어서,
    상기 저류부와 상기 제 1 송액 기구를 접속하는 제 1 액 배관과,
    상기 저류부와 상기 제 2 송액 기구를 접속하는 제 2 액 배관
    을 구비하고,
    상기 제 1 액 배관의 길이가 상기 제 2 액 배관의 길이와 동일한 것
    을 특징으로 하는 기판 액 처리 장치.
  6. 제 3 항에 있어서,
    상기 저류부와 상기 제 1 송액 기구를 접속하는 제 1 액 배관과,
    상기 저류부와 상기 제 2 송액 기구를 접속하는 제 2 액 배관
    을 구비하고,
    상기 제 1 액 배관 및 상기 제 1 송액 기구와 상기 제 2 액 배관 및 상기 제 2 송액 기구는 평면에서 볼 때 점대칭이 되도록 배치되는 것
    을 특징으로 하는 기판 액 처리 장치.
  7. 제 3 항에 있어서,
    상기 제 1 송액 기구 및 상기 제 2 송액 기구는,
    에어 공급부로부터 에어 배관을 통하여 공급되는 에어에 의해 구동되는 펌프를 구비하고, 또한
    상기 에어 공급부와 상기 제 1 송액 기구의 펌프를 접속하는 상기 에어 배관의 길이가 상기 에어 공급부와 상기 제 2 송액 기구의 펌프를 접속하는 상기 에어 배관의 길이와 동일한 것
    을 특징으로 하는 기판 액 처리 장치.
  8. 제 1 항에 있어서,
    상기 저류부는,
    제 1 저류부와 제 2 저류부를 구비하고,
    상기 처리부는,
    상기 반송부를 사이에 두고 대향하는 위치에 마련되는 제 1 처리부와 제 2 처리부를 구비하고,
    상기 송액 기구는,
    상기 제 1 처리부의 바로 아래에 배치되고, 상기 제 1 저류부에 접속되는 제 1 송액 기구와,
    상기 제 2 처리부의 바로 아래에 배치되고, 상기 제 2 저류부에 접속되는 제 2 송액 기구
    를 구비하는 것을 특징으로 하는 기판 액 처리 장치.
  9. 제 8 항에 있어서,
    상기 제 1 저류부와 상기 제 1 송액 기구를 접속하는 제 1 액 배관과,
    상기 제 2 저류부와 상기 제 2 송액 기구를 접속하는 제 2 액 배관
    을 구비하고,
    상기 제 1 액 배관 및 상기 제 1 송액 기구를 포함하는 제 1 기기군과 상기 제 2 액 배관 및 상기 제 2 송액 기구를 포함하는 제 2 기기군을 가지는 그룹이 복수 있고, 복수의 상기 그룹은 평면에서 볼 때 점대칭이 되도록 배치되는 것
    을 특징으로 하는 기판 액 처리 장치.
  10. 제 1 항에 있어서,
    상기 처리부는,
    상기 반송부를 사이에 두고 대향하는 위치에 마련되는 제 1 처리부와 제 2 처리부를 구비하고,
    상기 제 1, 제 2 처리부와 상기 반송부는,
    상기 제 1 처리부와 상기 반송부가 수용되는 부분과 상기 제 2 처리부가 수용되는 부분의 사이에서 분할 가능한 수용부에 수용되는 것
    을 특징으로 하는 기판 액 처리 장치.
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