JPH11274271A - 基板処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 排気手段をより小型化して省電力で省スペー
スの基板処理装置を提供する。 【解決手段】 薬液からのヒュームが拡散してくる各処
理部側の第２基板搬送エリア１８，１９をそれぞれ分離
部材としての搬送エリア外郭部材２１でそれぞれ覆うと
共に、各搬送エリア外郭部材２１の開口２２から薬液の
ヒュームが外側の第１基板搬送エリア２０内に拡散し難
いように、水洗槽１３，１４にそれぞれ対応した位置に
のみ開口２２を設けて、できる限り小さな開口２２とし
たため、排気手段２３の排気能力を大幅に小さくして
も、各搬送エリア外郭部材２１の外側の第１基板搬送エ
リア２０へのヒュームの拡散が防止可能であることか
ら、排気手段２３がより小型化可能で省電力で省スペー
ス、しかも、より静音の基板処理装置とすることができ
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハや液
晶表示パネル用ガラス基板などの薄板状の基板に所定の
処理を行う基板処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、半導体ウエハや液晶表示パネル用
ガラス基板などを用いた精密電子基板の製造プロセスに
おいては、基板を処理液に浸漬して種々の表面処理を施
している。このような表面処理においては、エッチング
液などの薬液を貯留した薬液槽とリンス液である純水を
貯留した水洗槽とを有し、薬液槽さらに水洗槽に順次基
板を浸漬して、薬液槽にて基板に薬液処理を施した後
に、さらに、水洗槽にて基板に付着した薬液やパーティ
クルを洗い流すリンス処理を施している。

【０００３】図５は、従来の基板処理装置における要部
の概略構成を示す模式図である。

【０００４】図５において、基板処理装置５１は、複数
の基板を一括して処理する装置であって、カセットに所
定枚数がセットされた基板を装置外部との間で受渡しを
する搬出入部（図示せず）と、この搬出入部（図示せ
ず）から基板を受け取って搬送すると共に搬出入部（図
示せず）に基板を受渡す搬送部５２と、この搬送部５２
から基板を受け取って基板に所定の処理を施すと共に、
その処理後の基板を搬送部５２に受け渡す各処理ユニッ
ト５３とを有している。

【０００５】この搬送部５２は、上下の各搬送路にそれ
ぞれ配設され各処理ユニット５３の配設方向（Ｘ方向）
にそれぞれ移動する２つの搬送ロボット５２ａ，５２ｂ
を備えている。これらの搬送ロボット５２ａ，５２ｂは
それぞれ、各処理ユニット５３の配設方向（Ｘ方向）と
図５の紙面に直交する方向（図７のＹ方向）に伸びる軸
部材５４ａ（図６）を介して取り付けられた保持板５４
をそれぞれ一対有し、これらの一対の保持板５４の内側
の保持用溝（図示せず）で、起立姿勢の複数の基板５５
がＹ方向に並べられた状態でそれらの両側端面を両側か
らそれぞれ挾み込んで各保持用溝で受けて保持するよう
になっている。

【０００６】また、各処理ユニット５３は、エッチィン
グ液などの薬液を貯留した薬液槽５６と、この薬液槽５
６による処理済みの基板５５に付いた薬液やパーティク
ルなどを水洗する水洗槽５７と、薬液を貯留した薬液槽
５８と、この薬液槽５８による処理済みの基板５５に付
いた薬液やパーティクルなどを水洗する水洗槽５９と、
この水洗槽５９で水洗処理された基板５５を乾燥する乾
燥槽６０とを有している。これらの薬液槽５６、水洗槽
５７、薬液槽５８さらに水洗槽５９にわたって複数の基
板５５を一括して順次浸漬させることにより基板５５に
薬液処理や水洗処理などの一連の各種処理が施され、さ
らにその処理後の基板５５を乾燥させるようになってい
る。

【０００７】さらに、これらの薬液槽５６，５８および
水洗槽５７，５９の各処理槽にはそれぞれリフタ装置６
１が配設されており、各リフタ装置６１はそれぞれ複数
の基板５５を載置可能であると共に処理槽内と基板受渡
位置の間で上下移動自在に構成されている。また、これ
らの薬液槽５６，５８および水洗槽５７，５９の各処理
槽にはそれぞれ外郭部材６２がそれぞれ配設されてお
り、これらの外郭部材６２と乾燥槽６０の上面部にはそ
れぞれ、各処理槽の上部開放口に対向するように基板導
入口を開閉自在な開閉扉６３が配設されている。これら
の開閉扉６３はそれぞれ通常は閉じており、リフタ装置
６１の処理槽内への下降に連動して両側に開くように構
成されていると共に、処理槽内からの上昇に連動して両
側に開くように構成されている。

【０００８】これらの各外郭部材６２の適所にはそれぞ
れ排気ダクト６４が開口しており、その排気ダクト６４
は流量調整バルブ６５を介して排気ポンプ６６に連通さ
れている。これらの排気ダクト６４、流量調整バルブ６
５および排気ポンプ６６によって排気手段が構成されて
おり、この排気手段による外郭部材６２内の排気によっ
て、外郭部材６２の基板導入口の開閉扉６３が開いて
も、この基板導入口から外部空気が流入することで、こ
の基板導入口を介して薬液槽５６，５８からのヒューム
（酸やアルカリなどが混ざった雰囲気）の外部への拡散
を防止するようになっている。

【０００９】さらに、図６に示すように、リフタ装置６
１と例えば搬送ロボット５２ｂとは、並んで配設（図６
の紙面に垂直な図５のＸ方向）された複数の処理槽をそ
れらの幅方向に両側から挾んで対向した状態で配設され
ている。また同様に、リフタ装置６１と例えば搬送ロボ
ット５２ａについても、並んで配設（図６の紙面に垂直
な図５のＸ方向）された複数の処理槽をそれらの幅方向
に両側から挾んで対向した状態で配設されている。

【００１０】上記構成により、まず、搬送ロボット５２
ｂは、搬出入部（図示せず）から基板を受け取って各処
理ユニット５３の薬液槽５６の上方の基板受渡位置まで
その配設方向（Ｘ方向）に沿って搬送する。このとき、
図６に示すように、搬送ロボット５２ｂの一対の保持板
５４は、それらの内側の複数の保持用溝で、起立姿勢の
複数の基板５５の両側端面を両側からそれぞれ挾み込ん
で受けて保持している。これに対して、薬液槽５６のリ
フタ装置６１が上昇してきて、その下方部に設けられた
３つの保持アーム６１ａ上側の複数の各保持溝で、搬送
ロボット５２ｂに保持されている複数の基板を下方から
受ける。その後、搬送ロボット５２ｂの一対の保持板５
４をそれぞれ実線で示すような垂直方向になるように回
動させて、搬送ロボット５２ｂの複数の基板５５への保
持を解除し、リフタ装置６１への複数の基板５５の受渡
しを完了する。

【００１１】次に、リフタ装置６１は複数の基板を３つ
の保持アーム６１ａ上側の複数の各保持溝で保持した状
態で薬液槽５６内に向けて下降する。この下降に連動し
て外郭部材６２の開閉扉６３が仮想線のように両側に起
立して開き、薬液槽５６の上部開放口から複数の基板５
５を保持した保持アーム６１ａをその薬液中に浸漬させ
て所定時間放置することで複数の基板５５に所定の薬液
処理を施す。このとき、開閉扉６３は閉じられており、
この薬液槽５６は外郭部材６２で略密閉されている。ま
た、外郭部材６２内は排気ポンプ６６によって排気ダク
ト６４を介して排気されている。

【００１２】さらに、リフタ装置６１は、所定時間後、
薬液処理後の複数の基板５５を上昇させ、それに連動す
るように開閉扉６３が仮想線のように両側に起立して開
き、薬液槽５６の上部開放口から複数の基板５５を保持
した保持アーム６１ａを薬液槽５６の上方の基板受渡位
置まで上昇させる。その基板受渡位置では、搬送ロボッ
ト５２ｂが一対の保持板５４をそれぞれ垂直方向にした
状態で待機しており、複数の基板５５を保持した保持ア
ーム６１ａを基板受渡位置に到着させた後に、一対の保
持板５４の下部側をそれぞれ内側に回動させて、複数の
基板５５の両側端面を両側からそれぞれ挾み込んで一対
の保持板５４の各保持用溝で受けて保持する。

【００１３】さらに、リフタ装置６１を保持アーム６１
ａと共に下方に退避させて一対の保持板５４に基板５５
を移し代えた後に、搬送ロボット５２ｂは複数の基板５
５を、薬液槽５６の隣に位置している水洗槽５７の上方
の基板受渡位置までその配設方向（Ｘ方向）に沿って搬
送する。このとき、搬送ロボット５２ｂの一対の保持板
５４はそれぞれ、それらの内側の複数の保持用溝で、起
立姿勢の複数の基板５５の両側端面を両側からそれぞれ
挾み込んで受けて保持している。これに対して、水洗槽
５７のリフタ装置６１が上昇してきて、その下方部に設
けられた３つの保持アーム６１ａの上側の複数の各保持
溝で、搬送ロボット５２ｂに保持されている複数の基板
５５を下方から受ける。その後、搬送ロボット５２ｂの
一対の保持板５４をその長手方向が垂直方向になるよう
にそれぞれ回動させて、搬送ロボット５２ｂの複数の基
板５５への保持を解除し、水洗槽５７のリフタ装置６１
への複数の基板５５の受渡しが完了する。

【００１４】さらに、水洗槽５７のリフタ装置６１は複
数の基板５５を３つの保持アーム６１ａ上側の複数の各
保持溝で保持した状態で水洗槽５７内に向けて下降す
る。これと同時に、基板５５の受渡し後の空状態の搬送
ロボット５２ｂは、搬出入部（図示せず）との基板受渡
位置までその配設方向（Ｘ方向）に沿って移動し、その
搬出入部から複数の基板５５の受渡しに備える。

【００１５】このリフタ装置６１の下降に連動して外郭
部材６２の開閉扉６３が開き、水洗槽５７の上部開放口
から複数の基板５５を保持した保持アーム６１ａをその
純水中に浸漬させて複数の基板５５を水洗処理する。こ
の水洗処理時には、その開閉扉６３は閉じられており、
この水洗槽５７の外郭部材６２内が密閉されている。

【００１６】さらに、リフタ装置６１は、所定時間後、
水洗処理後の複数の基板５５を上昇させ、それに連動す
るように開閉扉６３が開き、水洗槽５７の上部開放口か
ら複数の基板５５を保持した保持アーム６１ａを水洗槽
５７の上方の搬送ロボット５２ａ用の上側の基板受渡位
置まで上昇させる。その基板受渡位置では、搬送ロボッ
ト５２ａが一対の保持板５４の長手方向を垂直方向にし
た状態で待機しており、複数の基板５５を保持した保持
アーム６１ａをその基板受渡位置に到着させた後に、一
対の保持板５４の下部側をそれぞれ内側に回動させて、
複数の基板５５の両側端面を両側からそれぞれ挾み込ん
で各保持用溝で受けて保持することで、複数の基板５５
の受渡しを行う。

【００１７】その後、搬送ロボット５２ａは、乾燥槽６
０へ複数の基板５５を搬送して乾燥槽６０で複数の基板
５５に乾燥処理を施す。また、搬送ロボット５２ｂは、
各処理槽のリフタ装置６１との複数の基板５５の受渡し
を行いつつ、以上と同様の動作を繰り返して薬液槽５６
さらに水洗槽５７による一連の処理を行うように複数の
基板５５を搬送する。

【００１８】さらに、乾燥処理後の複数の基板５５を乾
燥槽６０のリフタ装置６１から受け取った搬送ロボット
５２ａは、搬出入部（図示せず）との基板受渡位置まで
その配設方向（Ｘ方向）に沿って複数の処理済みの複数
の基板５５を搬送して、搬出入部に複数の処理済みの複
数の基板５５を受け渡す。

【００１９】

【発明が解決しようとする課題】ところが、上記従来の
構成では、各処理槽に対してリフタ装置６１が複数の基
板５５を載置した状態で上昇または下降するときに、そ
れに連動して外郭部材６２の基板導入口の開閉扉６３が
開くが、このとき、基板導入口を介して薬液槽５６，５
８からのヒュームが、搬送ロボット５２ａ，５２ｂとリ
フタ装置６１との受渡位置を含む基板搬送ラインにまで
拡散しないように、薬液槽５６，５８および水洗槽５
７，５９をそれぞれ覆う各外郭部材６２内の雰囲気をそ
れぞれ、基板導入口からヒュームが拡散しない程度の風
速で空気が内部に入り込んでくるように排気する排気手
段を設けている。この排気手段の排気能力は、かなり多
量の排気量／時間が必要となって多くの駆動電力を必要
とすると共に、排気手段自体も大型化して嵩ばるという
問題を有していた。

【００２０】因みに、ヒュームが基板搬送ラインにまで
拡散してしまうと、ヒュームによって水洗処理後の綺麗
な基板も汚れ、これがデバイスのロット不良を引き起こ
すと共に、ヒュームによる腐食によって機械構造系の部
品不良を引き起こしたり、クリーンルーム内の清浄な空
気を汚したりしてしまう。

【００２１】本発明は、上記従来の問題を解決するもの
で、排気手段をより小型化して省電力で省スペースの基
板処理装置を提供することを目的とする。

【００２２】

【課題を解決するための手段】本発明の基板処理装置
は、一または複数の基板に対して所定の処理を行う基板
処理装置において、所定方向に配列された複数の処理部
と、複数の処理部の少なくとも２つの処理部間で基板を
搬送させるために、複数の処理部の上方に設置された搬
送路と、搬送路において、複数の処理部の少なくとも２
つの処理部間で基板を搬送させる搬送手段と、搬送路の
空間とその上方の位置との間で雰囲気を分離するため
に、搬送路の上方に配設され、かつ上方の位置と搬送路
との間における搬送手段の移動を許容するための開口が
形成された分離部材と、搬送路内の雰囲気を排気する排
気手段とを備えたことを特徴とするものである。

【００２３】この構成により、薬液等からのヒュームが
拡散してくる搬送路を分離部材で覆うと共に、その分離
部材の開口から薬液のヒュームが外側に拡散し難いよう
に、一の処理部に対応した位置にのみ開口を設けて、で
きる限り小さな開口としたので、排気手段の排気能力が
大幅に小さくなっても、分離部材の外側へのヒュームの
拡散が防止可能であることから、排気手段がより小型化
可能で省電力で省スペース、しかも、より静音の基板処
理装置となる。したがって、より排気能力の小さな排気
手段で、ヒュームを分離部材外部に拡散させず、従来の
ように水洗処理後の綺麗な基板が汚染されるようなこと
もなく、デバイスのロット不良を引き起したり、ヒュー
ムによる腐食によって機械構造系の部品不良を引き起こ
したり、クリーンルーム内の清浄な空気を汚したりする
不都合も解消される。

【００２４】また、好ましくは、本発明の基板処理装置
において、分離部材の基板搬送用の開口に対して開閉可
能なシャッタ手段を備える。

【００２５】この構成により、基板搬送用の開口が分離
部材に必要となるが、この分離部材の開口を開閉するシ
ャッタ手段を設ければ、排気能力がより小さい排気手段
で、薬液から出たヒュームの分離部材外部への拡散が防
止可能となる。

【００２６】さらに、好ましくは、本発明の基板処理装
置における複数の処理部は、基板に対して薬液処理を行
う薬液処理部と、基板に対して水洗処理を行う水洗処理
部とを含み、分離部材の基板搬送用の開口は、分離部材
における、水洗処理部の上方に対応した位置に形成され
る。

【００２７】この構成により、薬液の付いた基板が基板
処理エリアから外側に取り出される薬液処理部の上方位
置が最もヒューム濃度が濃く、そのヒューム濃度の濃い
位置から離れた水洗処理部の上方の分離部材に開口があ
れば、薬液から出たヒュームが外側に拡散されにくく、
排気能力のより小さい排気手段で済むことになる。

【００２８】さらに、好ましくは、本発明の基板処理装
置における排気手段は、処理部のうち薬液処理部の近傍
にその排気口を設ける。

【００２９】この構成により、薬液処理部の上方位置が
最もヒューム濃度が濃く、薬液処理部の近傍に排気口を
設けるようにすれば、排気手段で排気口からヒューム濃
度の濃い雰囲気を効率よく排気することが可能となっ
て、排気能力のより小さい排気手段でも、よりヒューム
濃度を希薄にすることが可能となる。

【００３０】さらに、好ましくは、本発明の基板処理装
置における排気手段は、分離部材の基板搬送用の開口に
対して開閉可能なシャッタ手段の開位置と閉位置に応じ
て高排気出力と低排気出力に切り換え制御を行う制御手
段を備える。

【００３１】この構成により、分離部材の開口がシャッ
タ手段によって開いているときには高排気出力で搬送路
内のヒュームを排気し、分離部材の開口がシャッタ手段
によって閉じているときには低排気出力で搬送路内のヒ
ュームを排気するように切り換え可能にしたので、シャ
ッタ手段の閉時には、省電力で小駆動音（静音）とする
ことが可能になると共に、シャッタ手段の開時にはヒュ
ームの分離部材外部への拡散が大幅に抑制され得る。

【００３２】

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る基板処理装置
の実施形態について図面を参照して説明するが、本発明
は以下に示す実施形態に限定されるものではない。

【００３３】図１は本発明の一実施形態の基板処理装置
の概略要部構成を示す斜視図であり、図２は図１の基板
処理装置のＡＡ断面部分を背面から見た概略要部構成図
である。

【００３４】図１において、基板処理装置１は、ウエハ
などの複数の基板２を一括して処理する装置であって、
カセット３に所定枚数がセットされた基板２を装置外部
との間で受渡しをする搬出入部４と、この搬出入部４か
ら処理前の基板２を受け取って搬送し、基板２に所定の
処理を施すと共に、処理済みの基板２を搬送して搬出入
部４に受渡す基板処理ユニット５とを有している。

【００３５】この搬出入部４は、搬入された（または搬
出直前の）複数の基板２をカセット３にセットした状態
で一時的に並べて載置しておくカセット載置台６と、カ
セット３の両上端つば部分３ａを下方からそれぞれ受け
て保持する片持ち状に２本突き出たカセット保持アーム
７が、このカセット載置台６のカセット並び方向に移動
自在であると共に、カセット保持アーム７でカセット３
を取り込んで保持したりカセット３を載置したりするた
めに上下方向に昇降自在で、かつその上下方向に平行な
軸（カセット保持アーム７の取付部材を支持する支持
軸）を中心に回動自在に構成されている移載ロボット８
と、この移載ロボット８によってカセット載置台６から
載置されたカセット３内の複数の基板２だけを突き上げ
て搬送機構９に受け渡す突上部１０と、移載ロボット８
によって突上部１０から載置された空のカセット３を洗
浄するカセット洗浄部１１とを有している。この移載ロ
ボット８は、カセット載置台６から突上部１０の所定位
置にカセット３を搬送して載置し、突上部１０でカセッ
ト３から複数の基板２だけを突き上げて搬送機構９に受
け渡した後の空のカセット３をカセット洗浄部１１に移
送すると共に、カセット洗浄部１１で洗浄処理された空
のカセット３を、処理済みの複数の基板２が搬送機構９
から突上部１０に受け渡されてカセット３内に回収され
るべく、再び突上部１０の位置決めされた所定位置に移
送して待機させるようになっている。

【００３６】また、基板処理ユニット５には、図２に示
すように、複数の処理槽１２〜１５をそれぞれ覆う各槽
外郭部材１６内（処理部内）の複数の基板処理エリア１
７と、これらの複数の基板処理エリア１７の上方に設け
られ各基板処理エリア１７間を搬送する第２搬送路を有
する２つの第２基板搬送エリア１８，１９と、これらの
第２基板搬送エリア１８，１９に対してそれぞれ基板２
を搬送する第１搬送路を有する第１基板搬送エリア２０
と、これらの第２基板搬送エリア１８，１９と第１基板
搬送エリア２０の間をそれぞれ仕切って分離する各分離
部材（雰囲気遮断部材）としての各搬送エリア外郭部材
２１とが配設されている。この搬送エリア外郭部材２１
の、一の処理槽（本実施形態では水洗槽）の上部開放口
に対応（対向）した上方位置には、第２基板搬送エリア
１８と第１基板搬送エリア２０との間および、第２基板
搬送エリア１９と第１基板搬送エリア２０との間を複数
の基板２が搬送可能な各開口２２がそれぞれ設けられて
いる。また、各基板処理エリア１７内および第２基板搬
送エリア１８，１９内の雰囲気を共に排気する排気手段
２３が設けられている。このように、搬送エリア外郭部
材２１によって仕切られた外側のクリーンな第１基板搬
送エリア２０と、複数の基板２の薬液からの出し入れで
ヒュームが拡散する搬送エリア外郭部材２１の内側の第
２基板搬送エリア１８，１９と、実際に複数の基板２を
処理する基板処理エリア１７との３つのエリアに分ける
と共に、基板処理エリア１７内および第２基板搬送エリ
ア１８，１９内の雰囲気を排気手段２３で排気すること
で、基板搬送ラインである第１基板搬送エリア２０への
ヒュームの拡散をより確実に防止するようになってい
る。

【００３７】つまり、本実施形態では、上記複数の処理
槽１２〜１５は、エッチィング液などの薬液を貯留した
薬液槽１２と、この薬液槽１２による処理済みの基板２
に付いた薬液やパーティクルなどを洗い流す水洗槽１３
と、薬液を貯留した薬液槽１４と、この薬液槽１４によ
る処理済みの基板２に付いた薬液やパーティクルなどを
洗い流す水洗槽１５とで構成されている。搬送エリア外
郭部材２１の一方は、薬液槽１２を覆った槽外郭部材１
６と、水洗槽１３を覆った槽外郭部材１６とを覆うと共
に、それらの各槽外郭部材１６の間（各処理部間）を基
板搬送可能な第２基板搬送エリア１８をも覆うように構
成されている。また、搬送エリア外郭部材２１の他方
は、薬液槽１４を覆った槽外郭部材１６と、水洗槽１５
を覆った槽外郭部材１６とを覆うと共に、それらの各槽
外郭部材１６間を基板搬送可能な第２基板搬送エリア１
９をも覆うように構成されている。さらに、薬液槽１
２，１４および水洗槽１３，１５の各上部開放口にそれ
ぞれ対応（対向）した各槽外郭部材１６の上面にはそれ
ぞれ、複数の基板２を内部に導入可能な各基板導入口２
４がそれぞれ配設されている。これらの各基板導入口２
４のうち、水洗槽１３，１５側の各基板導入口２４にそ
れぞれ対応（対向）する上方の各搬送エリア外郭部材２
１の上面だけに、複数の基板２を内部に導入可能な各開
口２２がそれぞれ設けられている。一方、薬液槽１２，
１４の各上部開放口にそれぞれ対向するようにその各上
方に基板導入口２４をそれぞれ配設し、さらにその上方
の各搬送エリア外郭部材２１にそれぞれ開口をそれぞれ
設けていない。これは、搬送エリア外郭部材２１でエリ
ア間を仕切るだけではなく、第２基板搬送エリア１８，
１９と第１基板搬送エリア２０との連通面積（開口面
積）をより小さくして第１基板搬送エリア２０へのヒュ
ームの拡散を抑制すると共に、排気手段２３によって第
１基板搬送エリア２０へのヒュームの拡散を防止する程
度に、基板処理エリア１７内および第２基板搬送エリア
１８，１９内の雰囲気を排気することから、その排気量
を従来とは大幅に削減可能にするためである。

【００３８】また、この水洗槽１５の隣側には、水洗槽
１５で水洗処理された基板２を乾燥する乾燥槽２５が配
設されている。薬液槽１２、水洗槽１３等で複数の基板
２を一括して順次各処理槽に浸漬させることにより、複
数の基板２に薬液処理や水洗処理などの一連の各種処理
が施され、その処理後の複数の基板２を乾燥槽２５で乾
燥させるようになっている。この乾燥槽２５は、所定温
度の乾燥用温風（ヒータなどで昇温されていてもよい）
が供給される構成であってもよいし、ＩＰＡ（イソプロ
ピルアルコール）による減圧乾燥などであってもよい。

【００３９】さらに、各開口２２をそれぞれスライドし
て開閉する板状の開口部開閉扉２６と、この開口部開閉
扉２６を基板搬送に応じて開閉駆動させる開口部開閉駆
動手段（図示せず）とが搬送エリア外郭部材２１の上面
部に配設されている。これらの開口部開閉扉２６と開口
部開閉駆動手段によってシャッタ手段が構成されてお
り、基板搬送用の開口２２に対して開閉可能である。ま
た、各槽外郭部材１６の基板導入口２４をそれぞれ開閉
する各導入口開閉扉２７と、これらの各導入口開閉扉２
７を基板搬送に応じて開閉駆動させる導入口開閉駆動手
段（図示せず）とが各槽外郭部材１６の上面部に配設さ
れている。これらの各槽外郭部材１６に各導入口開閉扉
２７をそれぞれ設けているのは、単にヒュームの拡散防
止のためだけではなく液中に含まれている揮発成分の蒸
発をできるだけ抑えるためである。また、各開口部開閉
扉２６を設けているのは、高クリーン度が要求される第
１基板搬送エリア２０側に第２基板搬送エリア１８，１
９側からヒュームが拡散するのをできるだけ防止するた
めである。この観点から、これらの各開口部開閉扉２６
および各導入口開閉扉２７は、複数の基板２の物流時以
外には閉じている。さらに、乾燥槽２５の上面にも基板
導入口を開閉する各導入口開閉扉２８が配設されてい
る。

【００４０】本実施形態では、この開口部開閉扉２６は
搬送エリア外郭部材２１の上面に沿って所定距離だけス
ライドして水平移動することで開口２２を開閉するよう
になっており、導入口開閉扉２７は両開き状に両側で回
動駆動して基板導入口２４を開閉するようになってい
る。これらの開口部開閉駆動手段および導入口開閉駆動
手段は例えばエアーシリンダ（図示せず）などで構成さ
れていてもよい。この場合、開口部開閉扉２６にエアー
シリンダのロッド先端が取り付けられてロッドの所定ス
トロークの伸縮によって開口２２を開閉する。また、導
入口開閉扉２７は２枚の扉で構成され、それぞれの扉に
対して、アーム一端がそれぞれ固定され、アーム中央部
でそれぞれ回動自在に軸支されたアーム（図示せず）の
他端にエアーシリンダのロッド先端が取り付けられてロ
ッドの所定ストロークの伸縮によって導入口開閉扉２７
をアーム（図示せず）を介して両開き状に両側で回動駆
動させて基板導入口２４を開閉するようになっている。
このように、導入口開閉扉２７を両開き用にしてそれぞ
れの扉を開閉する場合、それぞれの扉の駆動用にはエア
ーシリンダを２台設けるようにしてもよい。

【００４１】さらに、搬送機構９は搬送ロボットで構成
されており、複数の処理槽１２〜１５の配設方向（Ｘ方
向）に移動可能で複数の基板２を保持可能な一対の保持
板２９を有している。この一対の保持板２９はそれぞ
れ、図２の紙面に直交する方向（図３のＹ方向）に伸び
る各軸部材３０（図３）にそれぞれ固定されており、こ
れらの各軸部材３０の軸芯をそれぞれ回動中心として互
いに逆方向に回動自在に搬送機構本体９ａに連結されて
いる。また、この一対の保持板２９にはそれぞれ、その
対向した各内側に複数の基板２を所定間隔を空けてそれ
ぞれ起立（垂直）姿勢で保持可能な保持用溝（図示せ
ず）が複数形成されている。一対の保持板２９の下端部
を互いに内側に接近させて、複数の基板２をＹ方向に並
べた状態でそれらの両側端面を両側からそれぞれ挾み込
んで各保持用溝で受けて保持する。

【００４２】さらに、これらの薬液槽１２および水洗槽
１３と、薬液槽１４および水洗槽１５のそれぞれに、複
数の基板２を搬送する各リフタ装置３１がそれぞれ配設
されている。図３に示すように、これらの各リフタ装置
３１は、基板保持用溝３２ａが複数形成され複数の基板
２を下方から各基板保持用溝３２ａでそれぞれ受けて起
立姿勢で保持する３本の保持アーム３２と、この３本の
保持アーム３２が下端部分でＬ字状に接続された可動保
持板３３と、この可動保持板３３の上端部分裏面に固定
され上下移動および水平動可能な可動部材３４と、この
可動部材３４を上下動および水平動させる駆動手段（図
示せず）とがそれぞれ配設されている。また、乾燥槽２
５にも、複数の基板２を搬送する各リフタ装置３５が配
設されており、このリフタ装置３５はリフタ装置３１と
同様の構成をしている。

【００４３】これらの各リフタ装置３１，３５の駆動手
段（図示せず）は、レールなどの案内部材（図示せず）
に沿って可動部材３４をレールなどの案内部材（図示せ
ず）に沿って上下方向に移動させる垂直駆動ユニットを
有しており、例えばワイヤやベルトなどを駆動するプー
リやロールなどをモータで回転駆動させてワイヤやベル
トなどに取り付けられた可動部材３４を上下動させるよ
うにしてもよい。また、ピニオンおよびラックをモータ
で駆動させて可動部材３４を上下動させるようにしても
よく、ボールねじとモータによって可動部材３４を上下
動させるようにしてもよく、種々の駆動系が考えられ
る。さらに、この各リフタ装置３１の駆動手段（図示せ
ず）は、レールなどの案内部材（図示せず）に沿って可
動部材３４を上記垂直駆動ユニットと共に水平方向に移
動させる水平駆動ユニットを有しており、上記と同様に
ボールねじなど種々の駆動系が考えられる。

【００４４】各リフタ装置３１の処理槽内への下降に連
動して導入口開閉扉２７が開くように構成されていると
共に、処理槽内からの上昇に連動して導入口開閉扉２７
が開くように構成されている。また、各リフタ装置３１
の第２基板搬送エリア１８内または第２基板搬送エリア
１９内への下降に連動して開口部開閉扉２６が開くよう
に構成されていると共に、第２基板搬送エリア１８内ま
たは第２基板搬送エリア１９内からの上昇に連動して開
口部開閉扉２６が開くように構成されている。さらに、
リフタ装置３５の乾燥槽２５内への下降に連動して導入
口開閉扉２８が開くように構成されていると共に、乾燥
槽２５内からの上昇に連動して導入口開閉扉２８が開く
ように構成されている。つまり、これらの開口部開閉扉
２６および導入口開閉扉２７，２８はそれぞれ複数の基
板２の通過時のみ開き、他は閉じているようになってい
る。

【００４５】さらに、各槽外郭部材１６の上部側壁（図
２の処理槽開放口の高さ位置）にはそれぞれ各排気ダク
ト３７の排気口が処理槽幅方向に渡って長方形状にそれ
ぞれ開口しており、それらの排気ダクト３７の排気口は
流量調整バルブ３８を介して排気ポンプ３９に連通され
ている。また、各第２基板搬送エリア１８，１９をそれ
ぞれ覆っている各搬送エリア外郭部材２１の側壁部には
それぞれ、各排気ダクト３７の排気口がリフタ装置３１
の幅方向に渡って長方形状にそれぞれ開口しており、そ
れらの排気ダクト３７の排気口も流量調整バルブ３８を
介して排気ポンプ３９に連通されている。これらの各搬
送エリア外郭部材２１の排気口は、薬液槽１２，１４の
上方近傍位置であって各第２基板搬送エリア１８の最も
奥側の側壁に配設されている。これらの排気ダクト３
７、流量調整バルブ３８および排気ポンプ３９によって
排気手段２３が構成されており、各槽外郭部材１６内
（基板処理エリア１７）および各搬送エリア外郭部材２
１内（第２基板搬送エリア１８内）の適所に設けられた
この排気手段２３による排気口からの排気によって、各
搬送エリア外郭部材２１の開口部開閉扉２６が開いた
り、各外郭部材１６の基板導入口開閉扉２７が開いて
も、この開口２２や基板導入口２４から外部の空気が流
入することで、この開口２２や基板導入口２４を介して
薬液槽１２，１４や、薬液の付いた複数の基板２からの
ヒューム（酸やアルカリなどが混ざった雰囲気）の外部
への拡散が防止されるようになっている。

【００４６】また、排気手段２３は、分離部材としての
各搬送エリア外郭部材２１の基板搬送用の開口２２に対
して開閉可能なシャッタ手段を構成する開口部開閉扉２
６が開位置と閉位置に応じて排気ポンプ３９の出力を高
排気出力と低排気出力に切り換え制御を行う制御手段
（図示せず）を有するようにしてもよい。つまり、この
制御手段は、シャッタ手段が開口２２を閉じている場合
には、それをリミットスイッチ（図示せず）などで検出
させて排気ポンプ３９の出力を低排気出力とするように
制御して省電力化し、基板搬送時などシャッタ手段が開
口２２を開けている場合には、それをリミットスイッチ
などで検出させて排気ポンプ３９の出力を高排気出力と
するように制御してヒュームがクリーンな第１基板搬送
エリア側に拡散しないように構成することもできる。

【００４７】さらに、図３〜図５に示すように、これら
のリフタ装置３１と搬送機構９とは、並んで配設された
複数の処理槽１２〜１５，２５に対して同一側にそれぞ
れ配設されている。この場合に、これらのリフタ装置３
１と搬送機構９とはそれぞれ基板保持部分（保持板２９
や３本の保持アーム３２）が前方（搬送方向に直交する
方向）に突き出た片持ち構造をしている。

【００４８】さらに、各搬送エリア外郭部材２１の上方
の第１基板搬送エリア２０を覆う更なるヒューム拡散防
止用の搬送エリア外郭部材４０が設けられており、搬送
エリア外郭部材４０内において複数の処理槽１２〜１
５，２５の配列された方向（Ｘ方向）に複数の基板２を
搬送させるための基板搬送ライン（第１搬送路）の空間
部分を構成している。この搬送エリア外郭部材４０の側
壁には、搬送機構９の一対の保持板２９と共にそれに保
持された複数の基板２の移動を許容するための開口４１
が形成されており、この開口４１を開閉するための開閉
扉４２がには、その搬送エリア外郭部材４０の側壁に沿
ってスライド自在に構成されている。この開閉扉４２
は、通常は閉状態であり、搬送機構９の開口４１に対す
る通過時にのみ開状態となるように開閉駆動手段（図示
せず）で開閉駆動されるようになっている。この開閉駆
動手段は、例えば扉開閉用のシリンダと、搬送機構９を
検出する検出手段と、この検出手段で搬送機構９を検出
したときにシリンダを駆動させるように切り換える電磁
弁とを有している。

【００４９】上記構成により、以下、その動作を説明す
る。

【００５０】まず、搬送機構９は、搬出入部（図示せ
ず）から基板２を受け取って第１の処理ユニットのある
第１基板搬送エリア１８の開口２２の上方の基板受渡位
置まで第１基板搬送エリア２０内の搬送路をその搬送路
方向（Ｘ方向）に沿って搬送する。この基板受渡位置に
おいて、図２に示すように、搬送機構９の一対の保持板
２９はそれぞれ、それらの内側の複数の保持用溝で、起
立姿勢の複数の基板２の両側端面を両側からそれぞれ挾
み込んで受けて保持している。これに対して、リフタ装
置３１がその基板受渡位置まで上昇してきて、その下方
部に設けられた３つの保持アーム３２の上側の複数の各
保持溝で、搬送機構９に保持されている複数の基板２を
下方から受ける。その後、搬送機構９の一対の保持板２
９をそれぞれ垂直方向になるようにそれぞれ回動させ
て、搬送機構９による複数の基板２への保持を解除し、
リフタ装置３１の３つの保持アーム３２上への複数の基
板２の受渡しを完了する。

【００５１】次に、リフタ装置３１は複数の基板２を３
つの保持アーム３２上の複数の各保持溝で保持した状態
で下降し始めると、この下降に連動して搬送エリア外郭
部材２１の開口部開閉扉２６が開き、その開口２２を通
して複数の基板２と共にリフタ装置３１が第２基板搬送
エリア１８内に入る。この第２基板搬送エリア１８内
で、リフタ装置３１は複数の基板２と共に、薬液処理部
の上方位置まで横方向に水平移動した後に、薬液槽１２
のある薬液処理部内に向けて下降し始める。この下降に
連動して槽外郭部材１６の基板導入口開閉扉２７が開
き、その基板導入口２４を通して複数の基板２を保持し
た３つの保持アーム３２が基板処理エリア１７内に入っ
て、さらに、薬液槽１２の上部開放口から基板２を保持
した保持アーム３２をその薬液中に浸漬させ、その状態
で所定時間放置して複数の基板２の表面に所定の薬液処
理を施す。

【００５２】これらの一連の第２基板搬送エリア１８内
の基板搬送時や薬液処理時には、搬送エリア外郭部材２
１の開口２２は開口部開閉扉２６によって閉じられてい
ると共に、この薬液槽１２および水洗槽１３上の各槽外
郭部材１６の基板導入口２４もそれぞれ、その基板処理
エリア１７内への基板導入時以外は各基板導入口開閉扉
２７によってそれぞれ閉じられている。また、排気手段
２３は、常に一定の排気能力で排気するようにしてもよ
いが、この場合には、その開口２２および各基板導入口
２４の開放時（エリア間の基板搬送時）にも外部にヒュ
ーム拡散がないような高排気能力でなければならない。
このため、開口２２および各基板導入口２４の開放時に
高排気出力で排気ポンプ３９を駆動してその内部雰囲気
を排気し、開口２２および各基板導入口２４のうち何れ
か一方の開放時に、中排気出力で排気ポンプ３９を駆動
してその内部雰囲気を排気し、開口２２および基板導入
口２４の閉止時（エリア内基板搬送時および基板処理
時）には低排気出力で排気して排気ポンプ３９を３段階
の省電力駆動としてもよい。また、開口２２および各基
板導入口２４のうち少なくとも何れかの開放時に、高排
気出力で排気ポンプ３９を駆動してその内部雰囲気を排
気し、開口２２および基板導入口２４の閉止時（エリア
内基板搬送時および基板処理時）には低排気出力で排気
して排気ポンプ３９を２段階の省電力駆動としてもよ
い。

【００５３】さらに、所定時間後の薬液処理後、リフタ
装置３１は、基板２を保持した保持アーム３２を上昇さ
せ、それに連動するように開閉扉２７が仮想線で示すよ
うに両側に開き、薬液槽１２の上部開放口から基板導入
口２４を通して基板２を保持した保持アーム３２を薬液
槽１２の上方まで上昇させ、水洗槽１３のある水洗処理
部の上方位置まで横方向に水平移動させる。その後、リ
フタ装置３１は、薬液処理を済ませて基板２の表面に薬
液が付いた複数の基板２を保持アーム３２と共に下降さ
せ、この下降に連動して槽外郭部材１６の基板導入口開
閉扉２７が開き、その基板導入口２４を通して複数の基
板２を保持した保持アーム３２が水洗槽１３の基板処理
エリア１７内に導入される。この基板処理エリア１７内
で、リフタ装置３１は、水洗槽１３の上部開放口から複
数の基板２をその薬液中に浸漬させ、複数の基板２の表
面に付着した薬液を洗い流す水洗処理を行う。

【００５４】これらの一連の第２基板搬送エリア１８内
の基板搬送時や水洗処理時には上記と同様に、搬送エリ
ア外郭部材２１の開口２２は開口部開閉扉２６によって
閉じられていると共に、この薬液槽１２および水洗槽１
３上の各槽外郭部材１６の基板導入口２４もそれぞれ、
各基板処理エリア１７内への基板導入時以外は各基板導
入口開閉扉２７によってそれぞれ閉じられているが、こ
のような場合にも、薬液槽１２からの一連の第２基板搬
送エリア１８内の基板搬送時には、薬液の付いた複数の
基板２からのヒュームを排気するべく、高排気出力で排
気ポンプ３９を駆動してその内部雰囲気を排気するよう
にしてもよい。

【００５５】さらに、所定時間後の水洗処理後、リフタ
装置３１は、基板２を保持した保持アーム３２を上昇さ
せ、それに連動するように開閉扉２７を両側に開き、水
洗槽１３の上部開放口から基板導入口２４を通して基板
２を保持した保持アーム３２を上昇させ、さらに、その
上昇に連動するように開口部開閉扉２６を開き、搬送エ
リア外郭部材２１の開口２２を通して基板２を保持した
保持アーム３２を基板受渡位置まで上昇させる。

【００５６】この搬送エリア外郭部材２１で覆われた第
１の処理ユニットにおける基板受渡位置では、搬送機構
９の一対の保持板２９が垂直方向の姿勢で待機してお
り、基板２を保持した保持アーム３２を一対の保持板２
９の間に到着させた後に、一対の保持板２９の下部側を
それぞれ内側に回動させて、複数の基板２の両側端面を
両側からそれぞれ挾み込んで各保持用溝でそれぞれ受け
て保持する。

【００５７】さらに、リフタ装置３１を保持アーム３２
と共に下方に退避させた後に、搬送機構９の一対の保持
板２９は複数の基板２を保持した状態で、次の第２の処
理ユニットのある第２基板搬送エリア１９の開口２２の
上方の基板受渡位置まで第１基板搬送エリア２０内の搬
送路をその搬送路方向（Ｘ方向）に沿って搬送する。こ
のとき、搬送機構９の一対の保持板２９は、それらの内
側の複数の保持用溝で、起立姿勢の複数の基板２の両側
端面を両側からそれぞれ挾み込んで受けて保持してい
る。これに対して、第２の処理ユニットのリフタ装置３
１が上昇してきて、その下方部に設けられた３つの保持
アーム３２の上側の複数の各保持溝で、一対の保持板２
９に保持されている複数の基板２を下方から受ける。そ
の後、一対の保持板２９をそれぞれ垂直方向になるよう
に回動させて、一対の保持板２９の複数の基板２への保
持を解除し、搬送機構９の一対の保持板２９から第２の
処理ユニットのリフタ装置３１への複数の基板２の受渡
しが完了する。

【００５８】さらに、第２の処理ユニットのリフタ装置
３１に受け渡された複数の基板２は、そのリフタ装置３
１によって第２基板搬送エリア１９内に導入されること
になる。また、一方、空の搬送機構９は、搬出入部に戻
って基板２を受け取り、第１第１の処理ユニットの搬送
エリア外郭部材２１の開口２２の上方の基板受渡位置ま
で複数の基板２を搬送して、第２基板搬送エリア１９内
に導入するべくリフタ装置３１に複数の基板２の受渡し
を行う。

【００５９】また、このように、第２基板搬送エリア１
８，１９内にそれぞれ導入された複数の基板２はそれぞ
れ、その後の第１の処理ユニットおよび第２の処理ユニ
ットにおける各基板搬送および扉開閉さらに排気などの
各動作は、上記した第１の処理ユニットにおける薬液処
理および水洗処理のための各動作と同様に行われる。

【００６０】さらに、第２の処理ユニットのリフタ装置
３１は、所定時間後の水洗処理後の複数の基板２を上昇
させ、それに連動するように開閉扉２７が開き、水洗槽
１５の上部開放口からその基板導入口２４を通して基板
２を保持した保持アーム３２を上昇させ、その上昇に連
動するように開口部開閉扉２６を開き、搬送エリア外郭
部材２１の開口２２を通して基板２を保持した保持アー
ム３２を第２の処理ユニットの基板受渡位置まで上昇さ
せる。その基板受渡位置では、搬送機構９が一対の保持
板２９をそれぞれ垂直方向の姿勢で待機しており、基板
２を保持した保持アーム３２を一対の保持板２９の間の
基板受渡位置に到着させた後に、一対の保持板２９の下
端側をそれぞれ内側に回動させて、複数の基板２の両側
端面を両側からそれぞれ挾み込んで各保持用溝で受けて
保持することで基板２の搬送機構９への受渡しを行う。

【００６１】その後、搬送機構９の一対の保持板２９
は、乾燥槽２５のリフタ装置３５に対して第２の処理ユ
ニットの処理が終了した複数の基板２を受け渡す。ま
た、第１の処理ユニットのリフタ装置３１から一対の保
持板２９に対して第１の処理ユニットの処理が終了した
複数の基板２を受け取ってその一対の保持板２９から第
２の処理ユニットのリフタ装置３１に複数の基板２を受
け渡す。さらに、第２の処理ユニットのリフタ装置３１
に受け渡された複数の基板２は第２基板搬送エリア１９
内に導入されると共に、搬送機構９は、搬出入部に戻っ
て基板２を受け取り、第１の処理ユニットの開口２２の
上方の基板受渡位置まで基板２を搬送して、第１の処理
ユニットのリフタ装置３１に複数の基板２の受渡しを行
う。一方、乾燥処理部のリフタ装置３１によって複数の
基板２を保持アーム３２と共に下降させ、その下降に連
動させて開閉扉２８を開いて乾燥槽２５内に複数の基板
２が導入されて乾燥処理が行われる。

【００６２】このようにして、第２基板搬送エリア１
８，１９、乾燥処理部内にそれぞれ導入された複数の基
板２はそれぞれ、第１の処理ユニットおよび第２の処理
ユニット、乾燥処理部における各基板搬送および扉開閉
さらに排気などの各動作が行われる。

【００６３】さらに、リフタ装置３５によって再び、乾
燥槽２５内からその上方の基板受渡位置まで乾燥処理後
の複数の基板２を上昇させて搬送機構９の一対の保持板
２９間に受渡し、その搬送機構９によって乾燥処理後の
複数の基板２を搬出入部（図示せず）との基板受渡位置
まで各処理部の配設方向（Ｘ方向）に沿って複数の処理
済みの基板２を搬送して、搬出入部にその複数の処理済
みの基板２を受け渡す。

【００６４】このように、搬送機構９の一対の保持板２
９は、乾燥槽２５のリフタ装置３５に対して第２の処理
ユニットの処理が終了した複数の基板２を受け渡すと共
に、第１の処理ユニットのリフタ装置３１から第１の処
理ユニットの処理が終了した複数の基板２を受け取って
その一対の保持板２９から第２の処理ユニットのリフタ
装置３１に複数の基板２を受け渡す。さらに、第２の処
理ユニットのリフタ装置３１に受け渡された複数の基板
２は第２基板搬送エリア１９内に導入されると共に、搬
送機構９は、搬出入部に戻って複数の基板２を受け取
り、第１の処理ユニットの開口２２の上方の基板受渡位
置まで基板２を搬送して、第１の処理ユニットのリフタ
装置３１に複数の基板２の受渡しを行う。以上の各動作
が、上記したように順次繰り返されて複数の基板２に対
して所定の処理が行われることになる。

【００６５】以上のように、薬液からのヒュームが拡散
してくる各処理部側の第２基板搬送エリア１８，１９を
それぞれ分離部材としての搬送エリア外郭部材２１でそ
れぞれ覆うと共に、各搬送エリア外郭部材２１の開口２
２から薬液のヒュームが外側の第１基板搬送エリア２０
内に拡散し難いように、水洗槽１３，１４にそれぞれ対
応した位置にのみ開口２２を設けて、できる限り小さな
開口２２としたため、排気手段２３の排気能力を大幅に
小さく（例えば８０パーセント小さく）しても、各搬送
エリア外郭部材２１の外側の第１基板搬送エリア２０へ
のヒュームの拡散が防止可能であることから、排気手段
２３がより小型化可能で省電力で省スペース、しかも、
より静音の基板処理装置とすることができる。

【００６６】また、各搬送エリア外郭部材２１の基板搬
送用の開口２２を開閉するシャッタ手段を設けるように
したため、排気能力がより小さい排気手段２３であって
も、薬液から出たヒュームの各搬送エリア外郭部材２１
の外部（第１基板搬送エリア２０内）への拡散を防止す
ることができる。

【００６７】さらに、薬液の付いた複数の基板２が基板
処理エリア１７から外側に取り出される第２基板搬送エ
リア１８，１９内の薬液処理部の上方位置が最もヒュー
ム濃度が濃く、そのヒューム濃度の濃い位置から離れた
水洗処理部の上方の各搬送エリア外郭部材２１に開口２
２をそれぞれ設けるようにしたため、薬液から出たヒュ
ームが外側の第１基板搬送エリア２０内に拡散されにく
く、排気能力のより小さい排気手段２３で済ませること
ができる。

【００６８】さらに、第２基板搬送エリア１８，１９内
の薬液処理部の上方位置が最もヒューム濃度が濃く、薬
液処理部の近傍に排気手段２３の排気口を設けるように
したため、排気手段２３で排気口からヒューム濃度の濃
い雰囲気を効率よく排気することができて、排気能力の
より小さい排気手段２３でも、よりヒューム濃度を希薄
にすることができる。

【００６９】さらに、搬送エリア外郭部材２１の開口２
２がシャッタ手段によって開いているときには高排気出
力で搬送エリア外郭部材２１内（第２基板搬送エリア１
８，１９）のヒュームを排気し、搬送エリア外郭部材２
１の開口２２がシャッタ手段によって閉じているときに
は低排気出力で搬送エリア外郭部材２１内（第２基板搬
送エリア１８，１９）のヒュームを排気するように切り
換え可能にしたため、シャッタ手段の閉時には、省電力
で小駆動音（静音）とすることができると共に、シャッ
タ手段の開時にはヒュームの搬送エリア外郭部材２１の
外部の第１基板搬送エリア２０内への拡散をさらに抑制
することができる。

【００７０】なお、本実施形態では、基板処理エリア１
７および第２基板搬送エリア１８，１９内の雰囲気を排
気手段２３の排気ダクト３７を介して排気するように構
成し、排気手段２３の排気ポンプ３９の排気出力制御
は、開口２２および各基板導入口２４の開閉に応じて行
うと共に、薬液槽１２，１４から水洗槽１３，１５に至
る一連の第２基板搬送エリア１８，１９内の基板搬送時
に、薬液の付いた複数の基板２からのヒュームを排気す
るべく、排気出力を高めるように行ったが、これに限ら
ず、薬液槽１２，１４と水洗槽１３，１５と第２基板搬
送エリア１８，１９とでそれぞれ異なる排気手段を設
け、それらの排気手段を上記のように排気出力制御して
もよい。この場合に、薬液槽１２，１４と水洗槽１３，
１５の基板処理エリア１７内の排気出力制御ではヒュー
ム自体が異なりそれに応じた排気出力制御（例えばヒュ
ーム濃度が薄ければ排気出力も低出力でよい）とするよ
うに、それぞれ異なる各排気手段を制御することができ
る。また、基板処理エリア１７内や第２基板搬送エリア
１８，１９内の排気出力制御では、開口部開閉扉２６や
基板導入口開閉扉２７が開いたときに最も高い排気出力
とし、その後は、ヒューム拡散がない程度に徐々に出力
低下させるようにし、また、第２基板搬送エリア１８，
１９での排気出力制御で、薬液槽１２，１４から第２基
板搬送エリア１８，１９内に取り出されたときに最も高
い排気出力とし、その後は、ヒューム拡散がない程度に
徐々に出力低下させるように、それぞれ異なる各排気手
段を制御することができる。

【００７１】また、本実施形態では、複数の基板２を一
括して処理するバッチ式の基板処理装置に、各処理部側
の基板搬送エリアを分離部材で覆い、その分離部材に、
できる限り小さな開口を設ける本発明を適応した場合に
ついて説明したが、基板２を一枚づつ処理する枚様式の
基板処理装置にも本発明は適用可能である。

【００７２】

【発明の効果】以上のように本発明の請求項１によれ
ば、薬液等からのヒュームが拡散してくる各処理部側の
基板搬送エリアを分離部材で覆うと共に、その分離部材
の開口から薬液等のヒュームが外側に拡散し難いよう
に、一の処理部に対応した位置にのみ開口を設けて、で
きる限り小さな開口としたため、排気手段の排気能力が
大幅に小さくなっても、分離部材の外側へのヒュームの
拡散が防止可能であることから、排気手段がより小型化
可能で省電力で省スペース、しかも、より静音の基板処
理装置とすることができる。

【００７３】また、本発明の請求項２によれば、分離部
材の基板搬送用の開口を開閉するシャッタ手段を設ける
ようにしたため、排気能力がより小さい排気手段で、薬
液等から出たヒュームの分離部材外部への拡散を防止す
ることができる。

【００７４】さらに、本発明の請求項３によれば、薬液
の付いた基板が基板処理エリアから外側に取り出される
薬液処理部の上方位置が最もヒューム濃度が濃く、その
ヒューム濃度の濃い位置から離れた水洗処理部の上方の
分離部材に開口を設けるようにしたため、薬液から出た
ヒュームが外側に拡散されにくく、排気能力のより小さ
い排気手段で済ませることができる。

【００７５】さらに、本発明の請求項４によれば、薬液
処理部の上方位置が最もヒューム濃度が濃く、薬液処理
部の近傍に排気口を設けるようにしたため、排気手段で
排気口からヒューム濃度の濃い雰囲気を効率よく排気す
ることができて、排気能力のより小さい排気手段でも、
よりヒューム濃度を希薄にすることができる。

【００７６】さらに、本発明の請求項５によれば、分離
部材の開口がシャッタ手段によって開いているときには
高排気出力で分離部材内のヒュームを排気し、分離部材
の開口がシャッタ手段によって閉じているときには低排
気出力で分離部材内のヒュームを排気するように切り換
え可能にしたため、シャッタ手段の閉時には、省電力で
小駆動音（静音）とすることができると共に、シャッタ
手段の開時にはヒュームの分離部材外部への拡散をさら
に抑制することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施形態の基板処理装置の概略要部
構成を示す斜視図である。

【図２】図１の基板処理装置のＡＡ断面部分を背面から
見た概略要部構成図である。

【図３】図２のリフタ装置と搬送機構との基板受渡し状
態の概略構成を示す斜視図である。

【図４】図２のリフタ装置と搬送機構との基板受渡し状
態の概略構成を示す側面図である。

【図５】従来の基板処理装置における要部の概略構成を
示す模式図である。

【図６】図５のリフタ装置と搬送ロボットとの基板受渡
し状態の概略構成を示す側面図である。

【符号の説明】

１ 基板処理装置 ２ 基板 ５ 基板処理ユニット ９ 搬送機構 １２，１４ 薬液槽 １３，１５ 水洗槽 １６ 槽外郭部材 １７ 基板処理エリア １８，１９ 第２基板搬送エリア ２０ 第１基板搬送エリア ２１，４０ 搬送エリア外郭部材 ２２，４１ 開口 ２３ 排気手段 ２４ 基板導入口 ２５ 乾燥槽 ２６ 開口部開閉扉 ２７，２８ 導入口開閉扉 ２９ 保持板 ３１，３５ リフタ装置 ３２ 保持アーム ３７ 排気ダクト ３８ 流量調整バルブ ３９ 排気ポンプ ４２ 開閉扉

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｈ０１Ｌ 21/304 ６４８ Ｈ０１Ｌ 21/304 ６４８Ｂ

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一または複数の基板に対して所定の処理
   を行う基板処理装置において、 所定方向に配列された複数の処理部と、 前記複数の処理部の少なくとも２つの処理部間で基板を
   搬送させるために、前記複数の処理部の上方に設置され
   た搬送路と、 前記搬送路において、前記複数の処理部の少なくとも２
   つの処理部間で基板を搬送させる搬送手段と、 前記搬送路の空間とその上方の位置との間で雰囲気を分
   離するために、前記搬送路の上方に配設され、かつ前記
   上方の位置と前記搬送路との間における前記搬送手段の
   移動を許容するための開口が形成された分離部材と、 前記搬送路内の雰囲気を排気する排気手段と、 を備えたことを特徴とする基板処理装置。
2. 【請求項２】 前記分離部材の基板搬送用の開口に対し
   て開閉可能なシャッタ手段を備えたことを特徴とする請
   求項１に記載の基板処理装置。
3. 【請求項３】 請求項１または２に記載の基板処理装置
   であって、 前記複数の処理部は、基板に対して薬液処理を行う薬液
   処理部と、基板に対して水洗処理を行う水洗処理部とを
   含み、 前記分離部材の基板搬送用の開口は、前記分離部材にお
   ける、前記水洗処理部の上方に対応した位置に形成され
   たことを特徴とする基板処理装置。
4. 【請求項４】 請求項１〜３の何れかに記載の基板処理
   装置であって、 前記排気手段は、前記処理部のうち薬液処理部の近傍に
   その排気口が設けられたことを特徴とする基板処理装
   置。
5. 【請求項５】 請求項１〜４の何れかに記載の基板処理
   装置であって、 前記排気手段は、前記分離部材の基板搬送用の開口に対
   して開閉可能なシャッタ手段の開位置と閉位置に応じて
   高排気出力と低排気出力に切り換え制御を行う制御手段
   を備えたことを特徴とする基板処理装置。