JP2008034490A - 液処理装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】複数の処理ユニットを有する液処理装置において、さらなる省スペース化を行うことができ、処理ユニット間で均一な処理を行うことができること。
【解決手段】ウエハＷに処理液を供給して液処理を行う複数の液処理ユニット２２が水平に配置されたユニット室２１ｂと、ユニット室２１ｂの複数の液処理ユニット２２へ供給する処理液を貯留する処理液貯留部２１ｈと、処理液貯留部２１ｈから各液処理ユニット２２へ処理液を導く処理液配管群７０を有する配管ボックス２１ｆと、ユニット室２１ｂ、処理液貯留部２１ｈ、および配管ボックス２１ｆを収容する共通の筐体２１とを具備し、配管ボックス２１ｆの処理液配管群７０は、ユニット室２１ｂの下方に水平に配置された水平配管７０ａ〜７０ｃを有し、この水平配管７０ａ〜７０ｃから各液処理ユニット２２へ処理液を導くように構成され、処理液貯留部２１ｈは、配管ボックス２１ｆの下方に設けられている。
【選択図】 図２

Description

本発明は、例えば半導体ウエハ等の基板に対して洗浄処理等の液処理を行う液処理装置に関する。
半導体デバイスの製造プロセスやフラットパネルディスプレー（ＦＰＤ）の製造プロセスにおいては、被処理基板である半導体ウエハやガラス基板に処理液を供給して液処理を行うプロセスが多用されている。このようなプロセスとしては、例えば、基板に付着したパーティクルやコンタミネーション等を除去する洗浄処理等を挙げることができる。
このような液処理装置としては、半導体ウエハ等の基板をスピンチャックに保持し、基板を回転させた状態でウエハの表面または表裏面に処理液を供給して処理を行う枚葉式の複数の処理ユニットと、これら処理ユニットへの搬入出を行う搬送装置とを備えたものが用いられており、装置のフットプリントの増加を抑制しつつより高いスループットを実現するために、上記処理ユニットを多段に積層したレイアウトが多用されている（例えば特許文献１）。
このような液処理装置においては、処理液（薬液）供給ユニットを供給する処理液供給ユニットを処理液毎に設け、各処理液毎に循環供給を行っている。
しかしながら、このように複数の処理ユニットを積層する場合には、処理液を循環供給する配管の這い回しの際、上下の起伏が生じ、配管の配置が複雑となって配管が占有するスペースが大きなものとなってしまい、さらなる省スペースが望まれている。また、処理ユニットから集合排気・集合排液までの距離が処理ユニット毎に異なったものとなり、均一な処理が行い難い場合が生じる。
特開２００５−９３７６９号公報
本発明はかかる事情に鑑みてなされたものであって、複数の処理ユニットを有する液処理装置において、さらなる省スペース化を行うことができ、処理ユニット間で均一な処理を行うことができる液処理装置を提供することを目的とする。
上記課題を解決するため、本発明の第１の観点では、基板に処理液を供給して液処理を行う複数の液処理ユニットが水平に配置された液処理部と、前記液処理部の前記複数の液処理ユニットへ供給する処理液を貯留する処理液貯留部と、前記処理液貯留部から前記複数の液処理ユニットへ処理液を導く配管を有する配管ユニットと、前記液処理部、前記処理液貯留部、および前記配管ユニットを収容する共通の筐体とを具備し、前記配管ユニットの前記配管は、前記液処理部の下方に水平に配置された水平配管を有し、この水平配管から前記各液処理ユニットへ処理液を導くように構成され、前記処理液貯留部は、前記配管ユニットの下方に設けられていることを特徴とする液処理装置を提供する。
本発明の第２の観点では、水平に配置され、基板に処理液を供給して液処理を行う複数の液処理ユニットを搬送路の両側に配し、前記搬送路を移動する搬送機構により前記複数の液処理ユニットに基板を搬送するように構成された液処理部と、前記液処理部の前記複数の液処理ユニットへ供給する処理液を貯留する処理液貯留部と、前記処理液貯留部から前記複数の液処理ユニットへ処理液を導く配管が設けられた配管ユニットと、前記液処理部、前記処理液貯留部、および前記配管ユニットを収容する共通の筐体とを具備し、前記配管ユニットの前記配管は、前記搬送路の両側の液処理ユニットの下方にそれぞれ水平に配置された水平配管を有し、この水平配管から前記各液処理ユニットへ処理液を導くように構成され、これら水平配管は配管接続されて環状配管を構成し、この環状配管は前記処理液貯留部の処理液を循環可能に設けられ、前記処理液貯留部は、前記配管ユニットの下方に設けられていることを特徴とする液処理装置を提供する。
上記第２の観点において、前記両側の水平配管は、前記搬送路の下側を通って設けられた配管により接続されるように構成することができる。また、前記搬送路に清浄空気を供給するファン・フィルター・ユニットをさらに具備し、その清浄空気を前記液処理ユニットへ導くように構成することができる。
上記第１の観点または第２の観点において、前記配管ユニットは、前記各液処理ユニットから排出された処理液を排液する、水平に設けられた排液配管をさらに有する構成とすることができる。また、前記排液配管を流れる処理液の少なくとも一部を再利用するために回収する回収機構をさらに具備する構成とすることができる。さらに、前記配管ユニットは、前記各液処理ユニットからの排気を装置外に導く、水平に設けられた排気配管をさらに有する構成とすることができる。さらにまた、前記配管ユニットは水平に配置されたケーシングを有し、その中に前記水平配管が延在するように構成することができ、この場合に、前記ケーシング内を排気する排気管をさらに具備するようにすることができる。さらにまた、前記液処理部は、前記複数の液処理ユニットの駆動系が一括して配置された駆動エリアを有する構成とすることができ、この場合に、前記駆動エリア内を排気する排気管をさらに具備するようにすることができる。さらにまた、基板を複数枚収納する基板収納容器を載置可能に構成され、前記基板収納容器内の基板を前記液処理部へ搬入し、前記液処理部での処理後の基板を前記基板収納容器に搬出する基板搬入出部を前記液処理部に隣接して設けた構成とすることができる。
本発明によれば、複数の液処理ユニットを水平に配置して液処理部を構成し、処理液貯留部から複数の液処理ユニットへ処理液を導く配管として水平配管を有する配管ユニットを液処理部の下方に配置するとともに、この水平配管から前記各液処理ユニットへ処理液を導くように構成し、かつ処理液貯留部を前記配管ユニットの下方に設けたので、配管の起伏を極力抑えてコンパクト化することができ、省スペース化を図ることができるとともに、液処理ユニット間で均一な処理を行うことができる。
また、複数の液処理ユニットを搬送路の両側に配し、前記搬送路を走行する搬送機構により前記複数の液処理ユニットに基板を搬送するように液処理部を構成し、処理液貯留部から複数の液処理ユニットへ処理液を導く配管が設けられた配管ユニットを、前記搬送路の両側の液処理ユニットの下方にそれぞれ水平に配置された水平配管を有するとともにこの水平配管から前記各液処理ユニットへ処理液を導くように構成し、これら水平配管は配管接続されて環状配管を構成し、この環状配管を処理液貯留部の処理液を循環可能に設けたので、同様に、省スペース化と液処理ユニット間での均一な処理を実現することができる。
以下、添付図面を参照しつつ本発明の実施形態について詳細に説明する。ここでは、本発明を半導体ウエハ（以下、単にウエハと記す）の表裏面洗浄を行う液処理装置に適用した場合について示す。
図１は本発明の一実施形態に係る液処理装置の概略構成を示す平面図、図２は図１のＡ−Ａ線に沿った正面側の断面図、図３は図１のＢ−Ｂ線に沿った側面側の断面図である。
この液処理装置１００は、複数のウエハＷを収容するウエハキャリアＣを載置し、ウエハＷの搬入・搬出を行う搬入出ステーション（基板搬入出部）１と、ウエハＷに洗浄処理を施すための処理ステーション（液処理部）２とを備えており、これらは隣接して設けられている。
搬入出ステーション１は、複数のウエハＷを水平状態で収容するウエハキャリアＣを載置するキャリア載置部１１と、ウエハＷの搬送を行う搬送部１２と、ウエハＷの受け渡しを行う受け渡し部１３と、搬送部１２および受け渡し部１３が収容される筐体１４とを有している。
キャリア載置部１１は４個のウエハキャリアＣが載置可能であり、載置されたウエハキャリアＣは筐体１４の垂直壁部に密着された状態とされ、大気に触れることなくその中のウエハＷが搬送部１２に搬入可能となっている。
筐体１４は、搬送部１２と受け渡し部１３とを垂直に仕切る仕切り部材１４ａを有している。搬送部１２は、搬送機構１５と、その上方に設けられた清浄空気のダウンフローを供給するファン・フィルター・ユニット（ＦＦＵ）１６とを有している。搬送機構１５は、ウエハＷを保持するウエハ保持アーム１５ａを有しており、さらに、このウエハ保持アーム１５ａを前後に移動させる機構、ウエハキャリアＣの配列方向であるＸ方向に延在する水平ガイド１７（図１参照）に沿って移動させる機構、垂直方向に設けられた垂直ガイド１８（図２参照）に沿って移動させる機構、水平面内で回転させる機構を有している。この搬送機構１５により、ウエハキャリアＣと受け渡し部１３との間でウエハＷが搬送される。
受け渡し部１３は、受け渡しステージ１９と、その上に設けられたウエハＷを載置可能な載置部を複数備えた受け渡し棚２０とを有しており、この受け渡し棚２０を介して処理ステーション２との間でウエハＷの受け渡しが行われるようになっている。
処理ステーション２は直方体状をなす筐体２１を有し、筐体２１内には、その中央上部にウエハキャリアＣの配列方向であるＸ方向に直交するＹ方向に沿って延びる搬送路を構成する搬送室２１ａと、搬送室２１ａの両側に設けられた２つのユニット室２１ｂ，２１ｃとを有している。ユニット室２１ｂ，２１ｃにはそれぞれ搬送室２１ａに沿って６個ずつ合計１２個の液処理ユニット２２が水平に配列されている。
筐体２１内のユニット室２１ｂ，２１ｃの下には、それぞれ各液処理ユニット２２の駆動系を収容した駆動エリア２１ｄ，２１ｅが設けられ、さらに、これら駆動エリア２１ｄ，２１ｅの下には、それぞれ配管を収容した配管ボックス２１ｆ、２１ｇが設けられている。また、配管ボックス２１ｆ，２１ｇの下には、それぞれ処理液貯留部としての薬液供給ユニット２１ｈ，２１ｉが設けられている。一方、搬送室２１ａの下方は排気のための排気空間２１ｊが設けられている。
搬送室２１ａの上方には、ファン・フィルター・ユニット（ＦＦＵ）２３が設けられ、搬送室２１ａに清浄空気のダウンフローを供給するようになっている。搬送室２１ａの内部には搬送機構２４が設けられている。搬送機構２４は、ウエハＷを保持するウエハ保持アーム２４ａを有しており、このウエハ保持アーム２４ａを前後に移動させる機構、搬送室２１ａに設けられた水平ガイド２５（図１参照）に沿ってＹ方向に移動させる機構、垂直方向に設けられた垂直ガイド２６（図３参照）に沿って移動させる機構、水平面内で回転させる機構を有している。この搬送機構２４により、各液処理ユニット２２に対するウエハＷの搬入出を行うようになっている。
なお、受け渡しステージ１９はキャリア載置部１１よりも高い位置に設けられ、液処理ユニット２２は受け渡しステージ１９よりも高い位置に設けられている。
配管ボックス２１ｆ，２１ｇには、処理液配管群７０、排液配管群７１および排気配管群７２が水平に配置されている。処理液配管群７０は、例えば、アンモニア水と過酸化水素を混合して形成されたアンモニア過水（ＳＣ１）を供給するＳＣ１配管７０ａ、希フッ酸（ＤＨＦ）を供給するＤＨＦ配管７０ｂ、純水を供給する純水配管７０ｃを有している。また、排液配管群７１は、例えば、酸を排液するための酸排液配管７１ａ、アルカリを排液するためのアルカリ排液配管７１ｂ、酸を回収する酸回収配管７１ｃ、アルカリを回収するアルカリ回収配管７１ｄを有している。さらに排気配管群７２は、例えば、酸を排気するための酸排気配管７２ａ、アルカリを排気するためのアルカリ排気配管７２ｂを有している。
薬液供給ユニット２１ｈ，２１ｉの搬入出ステーション１側の端部には、図２に示すように、第１垂直配管エリア２７ａが設けられており、反対側の端部には第２垂直配管エリア２７ｂが設けられている。
液処理ユニット２２は、図４に拡大して示すように、ベースプレート４１と、ウエハＷを回転可能に保持するウエハ保持部４２と、このウエハ保持部４２を回転させる回転モータ４３と、ウエハ保持部４２に保持されたウエハＷを囲繞するように設けられ、ウエハ保持部４２とともに回転する回転カップ４４と、ウエハＷの表面に処理液を供給する表面処理液供給ノズル４５と、ウエハＷの裏面に処理液を供給する裏面処理液供給ノズル４６と、回転カップ４４の周縁部に設けられた排気・排液部４７とを有している。また、排気・排液部４７の周囲およびウエハＷの上方を覆うようにケーシング４８が設けられている。ケーシング４８の上部にはファン・フィルター・ユニット（ＦＦＵ）２３からの気流を導入する気流導入部４９が設けられており、ウエハ保持部４２に保持されたウエハＷに清浄空気のダウンフローが供給されるようになっている。この気流導入部４９には、図３に示すように、搬送室２１ａに繋がる開口４９ａが形成されており、この開口４９ａから気流が導入される。
ウエハ保持部４２は、水平に設けられ中央に円形の孔５１ａを有する円板状をなす回転プレート５１と、その裏面の孔５１ａの周囲部分に接続され、下方鉛直に延びる円筒状の回転軸５２とを有している。そして、裏面処理液供給ノズル４６を備えた昇降部材５３が孔５２ａおよび孔５１ａ内を昇降可能に設けられている。回転プレート５１には、ウエハＷの外縁を保持する３つ（１つのみ図示）の保持部材５４が設けられている。
回転軸５２は、２つのベアリング５５ａを有する軸受け部材５５を介してベースプレート４１に回転可能に支持されている。回転軸５２とモータ４３の軸に嵌め込まれたプーリー５８にはベルト５７が巻き掛けられており、モータ４３の回転駆動が回転軸５２に伝達される。
昇降部材５３の上端部にはウエハ支持ピン６５を有するウエハ支持台６４が設けられている。また、昇降部材５３の下端には接続部材６６を介してシリンダ機構６７が接続されており、このシリンダ機構６７によって昇降部材５３を昇降させることにより、ウエハＷを昇降させてウエハＷのローディングおよびアンローディングが行われる。
表面処理液供給ノズル４５はノズルアーム６２に保持されており、図示しない駆動機構によりノズルアーム６２を移動させることにより、表面処理液供給ノズル４５をウエハＷの上方の処理液供給位置と退避位置との間で移動可能となっており、この表面処理液供給ノズル４５からウエハＷの表面に処理液が供給されるようになっている。裏面処理液供給ノズル４６は昇降部材５３の内部の中心に垂直に設けられており、この裏面処理液供給ノズル４６からウエハＷの裏面に処理液が供給されるようになっている。表面処理液供給ノズル４５および裏面処理液供給ノズル４６には、垂直配管６８を介して処理液が供給されるようになっている。垂直配管６８は、上記配管ボックス２１ｆまたは２１ｇ内に水平に設けられた上記処理液配管群７０を構成する３本の配管７０ａ〜７０ｃにそれぞれバルブ８０ａ〜８０ｃを介して接続されている。
回転カップ４４は、回転プレート５１とともに回転され、ウエハＷから飛散した処理液がウエハＷに戻ることが抑制され、処理液は下方に導かれる。回転カップ４４と回転プレート５１との間にはウエハＷとほぼ同じ高さの位置に板状をなす案内部材８７が介在されている。案内部材８７は、その表裏面がウエハＷの表裏面と略連続するように設けられており、ウエハＷから飛散した処理液が乱流化するのを防止してミストの飛散を抑制する機能を有する。
排気・排液部４７は、主に回転プレート５１と回転カップ４４に囲繞された空間から排出される気体および液体を回収するためのものであり、回転カップ４４から排出された処理液を受ける環状をなす排液カップ９１と、排液カップ９１の外側に、排液カップ９１を囲繞するように設けられた環状をなす排気カップ９２とを備えている。排液カップ９１は、回転カップ４４から導かれた処理液を受ける主部９１ａと保持部材５４から滴下する処理液を受ける副部９１ｂとを有し、これら主部９１ａと副部９１ｂとの間は、気流の乱れを防ぐための垂直壁９３で仕切られている。
排液カップ９１の底部の最外側部分には排液管９４が接続されている。排液管９４には排液切替部８３が接続されており、処理液の種類に応じて分別可能となっている。排液切替部８３からは、酸排液を排出するための酸排出管８４ａ、アルカリを排出するためのアルカリ排出管８４ｂ、酸を回収するための酸回収管８４ｃ、アルカリを回収するためのアルカリ回収管８４ｄが垂直下方に延び、それぞれ排液配管群７１の酸排液配管７１ａ、アルカリ排液配管７１ｂ、酸回収配管７１ｃ、アルカリ回収配管７１ｄに接続されている。酸排出管８４ａ、アルカリ排出管８４ｂ、酸回収管８４ｃ、アルカリ回収管８４ｄには、それぞれバルブ８５ａ，８５ｂ，８５ｃ，８５ｄが設けられている。
排気カップ９２は、回転カップ４４との間の環状をなす隙間から回転カップ４４内およびその周囲の主にガス成分を取り込んで排気するようになっている。また、排気カップ９２の下部には、酸を排気する酸排気管９５ａ、アルカリを排気するアルカリ排気管９５ｂが接続されている。これら酸排気管９５ａ、アルカリ排気管９５ｂは、それぞれ排気配管群７２の酸排気配管７２ａ、アルカリ排気配管７２ｂに接続されている。酸排気管９５ａ、アルカリ排気管９５ｂには、それぞれバルブ８６ａ，８６ｂが設けられている。
このように、処理液が回転カップ４４を介して排液カップ９１に導かれ、気体成分は排気カップ９２に導かれ、かつ排液カップ９１からの排液と排気カップ９２からの排気が独立して行われるようになっているので、排液と排気を分離した状態で導くことが可能となる。また、排液カップ９１からミストが漏出しても排気カップ９２がその周囲を囲繞しているので速やかに排出され、ミストが外部に漏出することが確実に防止される。そのため、ウエハＷ周辺部と排液カップ９１および排気カップ９２との隙間を小さくすることができ、液処理ユニット２２を小型化することができる。
薬液供給ユニット２１ｈには、搬入出ステーション１側に設けられた、例えばアンモニア水と過酸化水素を混合したアンモニア過水（ＳＣ１）を貯留する第１薬液タンク１０１とそれに隣接する第１回収タンク１０２とを有している（図２参照）。
図２に示すように、第１薬液タンク１０１の側壁下部にはその中から薬液を送出するための送出管１０３が接続されており、その側壁上部には薬液を返戻するための返戻管１０４が接続されている。送出管１０３には、ポンプ１０３ａが設けられているとともに、薬液供給ユニット２１ｈ内の第１垂直配管エリア２７ａから延びる接続管１０５が接続されており、この接続管１０５は、配管ボックス２１ｆ内に水平に配置された処理液配管群７０のＳＣ１配管７０ａの一端側に接続されている。また、返戻管１０４には第１垂直配管エリア２７ａから延びる渡り配管１０６が接続されている。一方、ＳＣ１配管７０ａの他端側には渡り配管１０７が接続されており、この渡り配管１０７は第２垂直配管エリア２７ｂ内を下方に延びている。
これら渡り配管１０６および１０７を含む薬液供給経路について、上記図２、３および処理ステーション２の模式的斜視図である図５に基づいて説明する。渡り配管１０７は、薬液供給ユニット２１ｈの第２垂直配管エリア２７ｂを下方に延び、第２垂直配管エリア２７ｂの下部から水平に排気空間２１ｊを通って薬液供給ユニット２１ｉの第２垂直配管エリア２７ｂに延び、さらに薬液供給ユニット２１ｉの第２垂直配管エリア２７ｂを上昇して配管ボックス２１ｇ内のＳＣ１配管７０ａに接続される。一方、渡り配管１０６は薬液供給ユニット２１ｈの第１垂直配管エリア２７ａを下方に延び、第１垂直配管エリア２７ａの下部から水平に排気空間２１ｊを通って薬液供給ユニット２１ｉの第１垂直配管エリア２７ａに延び、さらに薬液供給ユニット２１ｉの第１垂直配管エリア２７ａを上昇して配管ボックス２１ｇ内のＳＣ１配管７０ａに接続される。
すなわち、第１薬液タンク１０１のＳＣ１は、送出管１０３および接続管１０５を経て配管ボックス２１ｆ内のＳＣ１配管７０ａに至り、この配管ボックス２１ｆ内のＳＣ１配管７０ａを通流されつつユニット室２１ｂ内の各液処理ユニット２２に供給され、さらに渡り配管１０７を通って配管ボックス２１ｇ内のＳＣ１配管７０ａに至り、この配管ボックス２１ｇ内のＳＣ１配管７０ａを通流されつつユニット室２１ｃ内の各液処理ユニット２２に供給され、渡り配管１０６および返戻管１０４を経て第１薬液タンク１０１に戻るといった循環経路が構成されている。
一方、第１回収タンク１０２には、図２に示すように、処理済みの薬液を回収するための配管１０８が接続されており、この配管１０８は第２垂直配管エリア２７ｂを垂直に延び、排液配管群７１のアルカリ回収配管７１ｄに接続されていて、液処理ユニット２２から排出されたアルカリ排液を回収するようになっている。
第１回収タンク１０２と第１薬液タンク１０１は、接続配管１０９で接続されている。接続配管１０９にはポンプ１１０が設けられており、第１回収タンク１０２に回収された薬液を浄化処理した後、第１薬液タンク１０１に戻すことが可能となっている。
第１薬液タンク１０１の上部には薬液供給配管１１１が接続されており、この薬液供給配管１１１には混合器１１２が接続されている。混合器１１２には、純水配管１１３、アンモニア配管１１４および過酸化水素配管１１５が接続されており、混合器１１２にて純水とアンモニアと過酸化水素が混合されてアンモニア過水が第１薬液タンク１０１に供給されるようになっている。純水配管１１３には流量コントローラ（ＬＦＣ）１１６ａおよびバルブ１１６ｂが設けられ、アンモニア配管１１４には流量コントローラ（ＬＦＣ）１１７ａおよびバルブ１１７ｂが設けられ、過酸化水素配管１１５には流量コントローラ（ＬＦＣ）１１８ａおよびバルブ１１８ｂが設けられている。
薬液供給ユニット２１ｉには、搬入出ステーション１側に設けられた、例えば希フッ酸（ＤＨＦ）を貯留する第２薬液タンク１２１（図３参照）とそれに隣接する第２回収タンク（図示せず）とを有している。そして、この第２薬液タンク１２１のＤＨＦも、第１薬液タンク１０１からのＳＣ１と同様にして、配管ボックス２１ｆ，２１ｇ内のＤＨＦ配管７０ｂと渡り配管等とにより循環供給可能となっている。また、第２回収タンクへのＤＨＦの回収は、酸回収配管７１ｃおよび配管１２２（図２参照）を通って第１回収タンク１０２へのＳＣ１の回収と同様に行われる。
なお、これら薬液洗浄以外に、純水によるリンスおよび乾燥が行われるが、その際には、純水は図示しない純水供給源から純水配管７０ｃを通って供給される。また、図示してはいないが、Ｎ２ガス等の乾燥ガスもノズル４５，４６から供給可能となっている。
配管ボックス２１ｆ，２１ｇに設けられた排液配管群７１のうち、酸排液配管７１ａ、アルカリ排液配管７１ｂにはそれぞれドレイン配管１２３（図２では１本のみ図示）が接続されており、このドレイン配管１２３は第１垂直配管エリア２７ａを通って下方に延びている。そして、これら酸排液配管７１ａ、アルカリ排液配管７１ｂからの排液はドレイン配管１２３を通ってドレインとして床下の工場配管に廃棄される。
次に、給・排気系について図６を参照して説明する。
前記ＦＦＵ２３は、清浄空気を搬送室２１ａ内に供給し、その一部が搬送室２１ａからユニット室２１ｂ，２１ｃおよび液処理ユニット２２の気流導入部４９に導かれる。ユニット室２１ｂ，２１ｃに導かれた清浄空気はさらに駆動エリア２１ｄ，２１ｅに導かれる。駆動エリア２１ｄ，２１ｅには、排気管７３が接続されており、ユニット室２１ｂ，２１ｃで発生したパーティクルおよび駆動エリア２１ｄ，２１ｅの主に駆動系から発生したパーティクル等をこの排気管７３を介して強制排気可能となっている。また、気流導入部４９から導入された清浄空気は、上述したように液処理ユニット２２内のウエハＷに供給される。また、これも上述したように、液処理ユニット２２の排気カップ９２からは、配管ボックス２１ｆ，２１ｇに設けられた排気配管群７２の酸排気配管７２ａ、アルカリ排気配管７２ｂへ、酸排気、アルカリ排気がそれぞれ供給される。配管ボックス２１ｆ，２１ｇには、その中を排気するための排気管７４が接続されている。さらに、排気空間２１ｊの底部には、搬送室２１ａを流れてきた気流を排気するための２つの排気管７５，７６と、搬送機構２４の内部を通って来た気流を排気する搬送駆動系排気管７７が接続されている。
図２に示すように、排気配管群７２、排気管７３，７４，７５，７６、搬送駆動系排気管７７は、筐体２１の側面から外部に延出し、さらに下方に向かって延びており、床下の工場配管に接続されている。
このように構成される液処理装置１００においては、まず、搬入出ステーション１のキャリア載置部１１に載置されたキャリアＣから搬送機構１５により１枚のウエハＷを取り出して受け渡しステージ１９上の受け渡し棚２０の載置部に載置し、この動作を連続的に行う。受け渡し棚２０の載置部に載置されたウエハＷは、処理ステーション２の搬送機構２４により順次搬送されて、いずれかの液処理ユニット２２に搬入される。
液処理ユニット２２においては、保持部材５４によりウエハＷをチャッキングし、モータ４３によりウエハ保持部４２を回転カップ４４およびウエハＷとともに回転させながら、表面処理液供給ノズル４５および裏面処理液供給ノズル４６から処理液を供給し、ウエハＷの表裏面洗浄を行う。このときの処理液としては、洗浄薬液、例えば、ＳＣ１、ＤＨＦのいずれかまたは両方を用いる。ＳＣ１で洗浄する際には、第１薬液タンク１０１から送出管１０３、接続管１０５、配管ボックス２１ｆ内のＳＣ１配管７０ａ、渡り配管１０７、配管ボックス２１ｇ内のＳＣ１配管７０ａ、渡り配管１０６、返戻管１０４を経て第１薬液タンク１０１に戻るようにＳＣ１を循環させつつ、ＳＣ１配管７０ａから各液処理ユニット２２にＳＣ１を供給する。また、ＤＨＦで洗浄する際には、第２薬液タンク１２１から配管ボックス２１ｆ，２１ｇ内のＤＨＦ配管７０ｂを含む配管群により同様に循環させつつ、ＤＨＦ配管７０ｂから各液処理ユニット２２にＤＨＦを供給する。そして、このような洗浄処理の後、純水配管７０ｃから各処理ユニット２２に純水を供給して純水リンスを行い、その後、必要に応じてＮ２乾燥を行って洗浄処理を終了する。
このような洗浄処理の際には、使用済みの処理液が排液カップ９１から排液配管群７１に至り、酸およびアルカリは一部回収され、他は廃棄される。また、処理にともなって発生した気体成分が排気カップ９２から排気配管群７２に至り、排気される。
このようにして液処理を行った後、搬送機構２４により液処理ユニット２２からウエハＷを搬出し、受け渡しステージ１９の受け渡し棚２０に載置し、受け渡し棚２０から搬送機構１５によりカセットＣに戻される。
以上のように、本実施形態によれば、複数の液処理ユニット２２を水平に配置してユニット室２１ｂ，２１ｃを構成し、その下方に配管ボックス２１ｆ，２１ｇを配置し、さらに配管ボックス２１ｆ，２１ｇの下方に薬液供給ユニット２１ｈ，２１ｉを筐体２１により一体的に設け、配管ボックス２１ｆ，２１ｇ内において処理液配管群７０を水平に配置して処理液配管群７０の各処理液配管から各液処理ユニット２２へ処理液を導くようにしたので、配管の起伏を極力抑えてコンパクト化することができ、省スペース化を図ることができるとともに、液処理ユニット２２間で均一な処理を行うことができる。また、各液処理ユニット２２から排出された処理液を排液するための排液配管群７１および各液処理ユニット２２からの排気を装置外に導く排気配管群７２も配管ボックス２１ｆ，２１ｇ内に水平に設けたので、配管スペースをさらに小さくすることができる。
また、搬送室２１ａで隔てられているユニット室２１ｂ，２１ｃの下にそれぞれ設けられた配管ボックス２１ｆ，２１ｇに水平に配置された処理液配管群７０のＳＣ１配管７０ａ、ＤＨＦ配管７０ｂ等をそれぞれ渡り配管等を接続することにより環状配管とし、これを循環させながらこの配管から各液処理ユニット２２にＳＣ１，ＤＨＦ等の処理液を供給するようにしたので、配管の配置が複雑になることが回避され、配管構成が極めて単純化され、配管スペースを著しく小さくすることができる。
さらに、配管が配管ボックス２１ｆ，２１ｇに集中され、しかもコンパクト化されているため、排気管を設けて排気するという簡単な手法により、配管部分を一括して排気して効率的なパーティクル対策を実現することができる。
さらにまた、ファン・フィルター・ユニット（ＦＦＵ）２３から搬送室２１ａ内に清浄空気のダウンフローを供給し排気するため、搬送室２１ａを清浄に保つことができるとともに、その清浄空気をユニット室２１ｂ，２１ｃに導いて駆動エリア２１ｄ，２１ｅから排気するとともに、その清浄空気を液処理ユニットにも導いてダウンフローを形成するので、液処理ユニット２２の内部およびその周囲も清浄雰囲気としてパーティクルの影響を排除することができる。
さらにまた、配管スペースが小さくなることにより、排液を回収する回収タンクも装置内に配置することができ、排液回収を可能にした構成にもかかわらず、極めてコンパクトな装置となる。
なお、本発明は上記実施形態に限定されることなく種々変形可能である。例えば、処理液としてＳＣ１、ＤＨＦを用いた例を示したが、これに限るものではない。また、液処理ユニットの構成も上記のようなものに限るものではなく、例えば表面洗浄のみまたは裏面洗浄のみのものであってもよく、さらには洗浄処理に限らず、他の液処理であっても適用可能である。さらに、上記実施形態では被処理基板として半導体ウエハを用いた場合について示したが、液晶表示装置（ＬＣＤ）用のガラス基板に代表されるフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）用の基板等、他の基板に適用可能であることは言うまでもない。
本発明は、半導体ウエハに付着したパーティクルやコンタミネーションを除去するための洗浄装置に特に有効である。
本発明の一実施形態に係る液処理装置の概略構成を示す平面図。 図１のＡ−Ａ線に沿った正面側の断面図。 図１のＢ−Ｂ線に沿った側面側の断面図。 図１の液処理装置に搭載された液処理ユニットの概略構成を示す断面図。 処理液であるＳＣ１を循環させる環状配管の配置状態を示す概略図。 図１の液処理装置の給・排気系を説明するための側面側の断面図。
符号の説明
１；搬入出ステーション
２；処理ステーション
１１；キャリア載置部
１２；搬送部
１３；受け渡し部
１４；筐体
１５；搬送機構
１９；受け渡しステージ
２０；受け渡し棚
２１；筐体
２１ａ；搬送室（搬送路）
２１ｂ，２１ｃ；ユニット室
２１ｄ，２１ｅ；駆動エリア
２１ｆ，２１ｇ；配管ボックス
２１ｈ，２１ｉ；薬液供給ユニット
２１ｊ；排気空間
２２；液処理ユニット
２３；ファン・フィルター・ユニット（ＦＦＵ）
２４；搬送機構
２７ａ；第１垂直配管エリア
２７ｂ；第２垂直配管エリア
４１；ベースプレート
４２；ウエハ保持部
４７；排気・排液部
７０；処理液配管群
７０ａ；ＳＣ１配管
７０ｂ；ＤＨＦ配管
７０ｃ；純水配管
７１；排液配管群
７１ａ；酸排液配管
７１ｂ；アルカリ排液配管
７１ｃ；酸回収配管
７１ｄ；アルカリ回収配管
７２；排気配管群
７２ａ；酸排気配管
７２ｂ；アルカリ排気配管
７３，７４，７５，７６；排気管
７７；搬送駆動系排気管
１００；液処理装置
１０１；第１薬液タンク
１０２；第１回収タンク
１０３；送出管
１０４；返戻管
１０５；接続管
１０６，１０７；渡り配管
Ｃ；ウエハキャリア
Ｗ；半導体ウエハ

Claims (12)

  1. 基板に処理液を供給して液処理を行う複数の液処理ユニットが水平に配置された液処理部と、
    前記液処理部の前記複数の液処理ユニットへ供給する処理液を貯留する処理液貯留部と、
    前記処理液貯留部から前記複数の液処理ユニットへ処理液を導く配管を有する配管ユニットと、
    前記液処理部、前記処理液貯留部、および前記配管ユニットを収容する共通の筐体と
    を具備し、
    前記配管ユニットの前記配管は、前記液処理部の下方に水平に配置された水平配管を有し、この水平配管から前記各液処理ユニットへ処理液を導くように構成され、前記処理液貯留部は、前記配管ユニットの下方に設けられていることを特徴とする液処理装置。
  2. 水平に配置され、基板に処理液を供給して液処理を行う複数の液処理ユニットを搬送路の両側に配し、前記搬送路を移動する搬送機構により前記複数の液処理ユニットに基板を搬送するように構成された液処理部と、
    前記液処理部の前記複数の液処理ユニットへ供給する処理液を貯留する処理液貯留部と、
    前記処理液貯留部から前記複数の液処理ユニットへ処理液を導く配管を有する配管ユニットと、
    前記液処理部、前記処理液貯留部、および前記配管ユニットを収容する共通の筐体と
    を具備し、
    前記配管ユニットの前記配管は、前記搬送路の両側の液処理ユニットの下方にそれぞれ水平に配置された水平配管を有し、この水平配管から前記各液処理ユニットへ処理液を導くように構成され、これら水平配管は配管接続されて環状配管を構成し、この環状配管は前記処理液貯留部の処理液を循環可能に設けられ、前記処理液貯留部は、前記配管ユニットの下方に設けられていることを特徴とする液処理装置。
  3. 前記両側の水平配管は、前記搬送路の下側を通って設けられた配管により接続されることを特徴とする請求項２に記載の液処理装置。
  4. 前記搬送路に清浄空気を供給するファン・フィルター・ユニットをさらに具備し、その清浄空気を前記液処理ユニットへ導くことを特徴とする請求項２または請求項３に記載の液処理装置。
  5. 前記配管ユニットは、前記各液処理ユニットから排出された処理液を排液する、水平に設けられた排液配管をさらに有することを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の液処理装置。
  6. 前記排液配管を流れる処理液の少なくとも一部を再利用するために回収する回収機構をさらに具備することを特徴とする請求項５に記載の液処理装置。
  7. 前記配管ユニットは、前記各液処理ユニットからの排気を装置外に導く、水平に設けられた排気配管をさらに有することを特徴とする請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の液処理装置。
  8. 前記配管ユニットは、水平に配置されたケーシングを有し、その中に前記水平配管が延在していることを特徴とする請求項１から請求項７のいずれか１項に記載の液処理装置。
  9. 前記ケーシング内を排気する排気管をさらに具備することを特徴とする請求項８に記載の液処理装置。
  10. 前記液処理部は、前記複数の液処理ユニットの駆動系が一括して配置された駆動エリアを有することを特徴とする請求項１から請求項９のいずれか１項に記載の液処理装置。
  11. 前記駆動エリア内を排気する排気管をさらに具備することを特徴とする請求項１０に記載の液処理装置。
  12. 前記液処理部に隣接して設けられ、基板を複数枚収納する基板収納容器を載置可能に構成され、前記基板収納容器内の基板を前記液処理部へ搬入し、前記液処理部での処理後の基板を前記基板収納容器に搬出する基板搬入出部を具備することを特徴とする請求項１から請求項１１のいずれか１項に記載の液処理装置。
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