KR101051398B1 - 블랙 레지스트용 감광성 수지조성물 및 이것을 이용하여형성된 차광막 - Google Patents

블랙 레지스트용 감광성 수지조성물 및 이것을 이용하여형성된 차광막 Download PDF

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Families Citing this family (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW200625002A (en) * 2005-01-12 2006-07-16 Chi Mei Corp Photosensitive resin composition for color filter
JP2006251495A (ja) * 2005-03-11 2006-09-21 Adeka Corp アルカリ現像性感光性樹脂組成物
JP4508924B2 (ja) * 2005-03-29 2010-07-21 新日鐵化学株式会社 感光性樹脂組成物及びそれを用いたカラーフィルター
JP5044893B2 (ja) * 2005-03-31 2012-10-10 凸版印刷株式会社 カラーフィルタ
JP5070682B2 (ja) * 2005-04-08 2012-11-14 大日本印刷株式会社 Ips用カラーフィルタ
JP2007071994A (ja) * 2005-09-05 2007-03-22 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 黒色感光性樹脂組成物
KR100655047B1 (ko) * 2005-12-30 2006-12-06 제일모직주식회사 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 블랙매트릭스
KR100740550B1 (ko) * 2006-02-10 2007-07-18 주식회사 코오롱 수지 블랙 매트릭스용 감광성 수지 조성물
JP5073342B2 (ja) * 2006-03-31 2012-11-14 新日鐵化学株式会社 感光性樹脂組成物及びそれを用いたカラーフィルター
JP4745110B2 (ja) * 2006-04-19 2011-08-10 東京応化工業株式会社 感光性組成物及びこの感光性組成物により形成されたカラーフィルタ
JP4949809B2 (ja) * 2006-11-14 2012-06-13 東京応化工業株式会社 着色感光性樹脂組成物
JP4890314B2 (ja) * 2007-03-29 2012-03-07 新日鐵化学株式会社 ブラックレジスト用感光性樹脂組成物
JP5270113B2 (ja) * 2007-06-06 2013-08-21 新日鉄住金化学株式会社 ブラックレジスト用感光性樹脂組成物及びこれを用いた遮光膜並びにカラーフィルター
WO2008153000A1 (ja) * 2007-06-11 2008-12-18 Mitsubishi Chemical Corporation カラーフィルタ用感光性着色樹脂組成物、カラーフィルタ、液晶表示装置及び有機elディスプレイ
KR101237613B1 (ko) * 2008-02-18 2013-02-26 주식회사 엘지화학 안정성이 개선된 알칼리 가용성 에폭시 수지 조성물 및이를 포함하는 감광성 수지 조성물
JP5180765B2 (ja) * 2008-10-02 2013-04-10 新日鉄住金化学株式会社 アルカリ現像感光性樹脂組成物及びこれを用いて形成した表示素子隔壁並びに表示素子
KR101225955B1 (ko) 2008-12-22 2013-01-24 제일모직주식회사 잉크젯용 수지 조성물
KR101068622B1 (ko) * 2009-12-22 2011-09-28 주식회사 엘지화학 기판접착력이 향상된 고차광성 블랙매트릭스 조성물
KR101445906B1 (ko) * 2011-02-01 2014-10-01 주식회사 엘지화학 알칼리 가용성 수지 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물
JP2013134263A (ja) * 2011-12-22 2013-07-08 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd ブラックカラムスペーサ用感光性樹脂組成物、ブラックカラムスペーサ、表示装置、及びブラックカラムスペーサの形成方法
JP2014209172A (ja) * 2013-03-25 2014-11-06 太陽インキ製造株式会社 感光性樹脂組成物、その硬化被膜およびプリント配線板
JP6307237B2 (ja) * 2013-09-30 2018-04-04 新日鉄住金化学株式会社 黒色感光性樹脂組成物及びその硬化膜、並びに当該硬化膜を有するカラーフィルター及びタッチパネル
JP6708367B2 (ja) * 2014-03-31 2020-06-10 日鉄ケミカル&マテリアル株式会社 遮光膜用感光性樹脂組成物、これを硬化した遮光膜及びカラーフィルター
JP5916939B2 (ja) * 2015-12-24 2016-05-11 東京応化工業株式会社 ブラックカラムスペーサの形成方法
CN110546180A (zh) 2017-05-19 2019-12-06 长濑化成株式会社 碱溶性树脂
KR102565582B1 (ko) * 2017-06-12 2023-08-11 롬엔드하스전자재료코리아유한회사 착색 감광성 수지 조성물 및 이로부터 제조된 차광성 스페이서

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002040225A (ja) * 2000-07-27 2002-02-06 Jsr Corp カラー液晶表示装置用感放射線性組成物およびカラー液晶表示装置
JP2002121258A (ja) * 2000-08-10 2002-04-23 Dainippon Ink & Chem Inc エネルギー線硬化型樹脂の製造方法およびレジスト用エネルギー線硬化型樹脂組成物
JP2002206014A (ja) * 2001-01-09 2002-07-26 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 光重合性組成物および該組成物を用いたカラーフィルタの製造方法
JP2003066597A (ja) * 2001-08-29 2003-03-05 Sumitomo Chem Co Ltd ブラックマトリックスを形成するための黒色感光性樹脂組成物

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002040225A (ja) * 2000-07-27 2002-02-06 Jsr Corp カラー液晶表示装置用感放射線性組成物およびカラー液晶表示装置
JP2002121258A (ja) * 2000-08-10 2002-04-23 Dainippon Ink & Chem Inc エネルギー線硬化型樹脂の製造方法およびレジスト用エネルギー線硬化型樹脂組成物
JP2002206014A (ja) * 2001-01-09 2002-07-26 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 光重合性組成物および該組成物を用いたカラーフィルタの製造方法
JP2003066597A (ja) * 2001-08-29 2003-03-05 Sumitomo Chem Co Ltd ブラックマトリックスを形成するための黒色感光性樹脂組成物

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