KR100488256B1 - 적층부내의 수직 전기적 상호접속부 - Google Patents

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페르-에릭 노르달
한스 구데 구드에센
게이르 아이. 레이스타드
괴란 구스타프손
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띤 필름 일렉트로닉스 에이에스에이
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Abstract

기판에 의해 지지되거나 샌드위치된 자체-지지 구조를 형성하는 적어도 2개의 적층된 층을 갖는 메모리 및/또는 데이터 처리 장치에서, 층은 상기 층 사이 및/또는 기판내 회로소자에 상호접속부를 갖는 메모리 및/또는 처리 회로 소자를 포함하고, 층은 인접층이 장치의 적어도 하나의 에지상에 엇갈린 구조를 형성하도록 배열되고 적어도 하나의 전기적 에지 도체는 하나의 층상의 에지 위로 그리고 동시에 하나의 계단 아래로 지나가도록 제공되며, 상기 적층부 내에 수반되는 층 중 어떤 것에서도 전기적 도체로의 접속을 가능하게 한다. 이런 종류의 장치를 제조하기 위한 방법은 층이 엇갈린 구조를 형성하도록 연속적으로 층을 부가하여 한 번에 하나의 층을 부가하기 위한 단계 및 하나 또는 그 이상의 층 간의 에지 접속기들에 연결하기 위한 적어도 하나의 전기적 콘택 패드를 하나 또는 그 이상의 층들에 제공하는 단계를 포함한다.

Description

적층부내의 수직 전기적 상호접속부 {VERTICAL ELECTRICAL INTERCONNECTIONS IN A STACK}
본 발명은 적층부내에 제공되는 적어도 2개의 적층된 층들을 갖는 메모리 및/또는 데이터 처리 장치에 관한 것으로, 상기 적층부는 자체-지지 구조로 형성되거나 선택적으로 기판상에 제공되며, 상기 적층부는 적어도 한 방향으로 엇갈린 적어도 하나의 구조를 포함하며, 상기 엇갈린 구조의 계단들은 적층부내의 개별층들의 노출된 부분들에 의해 형성되며 각각의 층들의 두께에 해당하는 계단 높이 (h)로 형성된다. 또한 본 발명은 적층부에 제공된 적어도 2개의 층들을 포함하는 메모리 및/또는 데이터 처리 장치의 제조 방법에 관한것으로, 상기 적층부는 자체-지지 구조로 형성되거나 선택적으로 기판상에 제공되며, 상기 적층부는 한 방향으로 엇갈린 적어도 하나의 구조를 포함하며, 상기 엇갈린 구조의 계단들은 적층부내의 개별층들의 노출된 부분들로 형성되며 각각의 층들의 두께에 해당하는 계단 높이(h)로 형성된다.
현대의 전자공학적 마이크로회로들은 전형적으로 일련의 처리 단계들로 실리콘 칩상에 층마다 구축되며, 절연층은 다양한 증착 및 에칭 기술에 의해 패턴화되고 에칭되는, 금속성, 절연성 및 반도체성 재료들을 포함하는 층들을 분리한다. 기판 및 기판 상부의 층에 위치된 부품과 서브회로들 사이에서 전기적 접속부는 하기의 아키텍쳐에 있어 필수적이다. 비아(via)라고 언급되는 이런 접속부는 일반적으로 접속될 부품들을 분리하는 하나 이상의 중간 물질을 관통하는 금속 포스트 또는 와이어 형태이다. 이러한 비아는 층을 구축하는 공정 동안 형성되거나 또는 층을 지나는 채널을 형성하고(예를 들어, 에칭에 의해), 상기 채널에 금속 플러그를 충전함으로써 이미 존재하는 층을 통해 삽입된다.종래 기술에 따른 실리콘 칩들은 20-30개의 마스킹 단계를 수반할 수 있고, 비아에 직접적으로 또는 간접적으로 접속되는 패턴화된 금속의 층 내부에 리드를 포함하는 개별층의 개수는 통상 3-5개이다. 각각의 비아는 횡단하는 또는 접속되는 각각의 층내에서 그와 연관된 일정량의 중개(real estate)를 요구한다. 비아 자체의 금속 단면 이외에, 비아와 직접 콘택되지 않는 인접한 회로 소자로부터 비아를 절연시키는 버퍼 존(buffer zone)이 비아 주변에 할당되어야 하고, 허용 오차는 패터닝 마스크의 정합 정확도 뿐만 아니라 제조될 수 있는 각각의 층의 패터닝으로 제한된 한정된 정밀도로 이루어진다.S. F. Al-sarawi, D. Abbott 및 P. D. Franzon에 의한, 구성 요소, 패키징, 및 제조 기술에 관한 IEEE 트랜잭션 part B, volume 21, No. 1(1998년 2월)의, "A review of 3-D Packaging Technology" 논문에서는, 대규모 집적에서 목표되는 3차원 패키징 기술에 관한 기술 상태의 조사가 제공된다. 여기에서는 마더 칩(mother chip)의 노출 표면이 적층 계단을 형성하도록, 도터 칩(daughter chip)이 상기 마더 칩 상에 적층되어 제공되는 마더 칩과 도터 칩 각각을 접속하기 위한 본딩 와이어의 사용 뿐만 아니라, 회로 칩 적층부들의 측면상에 제공된 수직 비아와 전류 경로의 사용으로, 집적 회로 칩의 전체 적층부가 상호 전기적으로 접속되는 몇가지 방법이 언급된다. 이 경우에 상기 칩들 상의 콘택점들에 기계적으로 접속된 결합 와이어들이 사용된다.이외에도 노르웨이 특허 제 308 149 호 및 노르웨이 특허 출원 제 19995975 호에서는 적층부내의 개별층들이 실질적으로 유기 재료 박막의 서브층들로 제조되는 메모리 및 데이터 처리 장치가 개시되어 있으며, 개별층들 내의 박막 도체들은 층들의 측면상의 전기적 에지 접속부에 전달된다. 노르웨이 특허 출원 제 19995975 호에서, 층들 사이의 접속부는 박막에 포함되어 필수적인 부분을 형성하는, 동일 재료 내에서 전도성 구조들로서 제조될 비아들에 의해 또한 부가적으로 형성될 수 있고, 이런 형태의 적층부 내의 개별층들은 서로 엇갈려 제공되고 적층부내의 층들은 서로 전기적으로 접속되거나 또는 상기 엇갈린 부분 위에서의 소위 엇갈린 비아들의 사용에 의해 하부 기판에 접속되는 소위 "엇갈린 비아들" 개념을 개시한다. 노르웨이 특허 제 308 149호와 노르웨이 특허 출원 제 19995975 호에서는, 상기 개시된 에지 접속부들이 물리적 및 실용적인 실시예에서 구현될 수 있는 어떠한 지시도 주어지지 않는다.상기 참조된 종래 기술은, 층들과 비아들의 개수가 적절하게 적고, 매우 높은 정밀도 리소그래피가 칩 제조 공정에서 필수적인 부분인, 일반적으로 상기 기술된 실리콘 기판상에 구축되는 장치에 대해 적절하다고 증명된바 있다. 그러나, 비아는 전체 제조 공정에 있어 상당히 복잡한 피쳐를 나타내어, 결과적으로 수율 및 비용에 영향을 미친다. 또한, 완전히 새로운 유형의 장치 아키텍쳐 및 전자 데이터 처리 및 저장 장치들을 제조하는 방법은 큰 상업적 부분들에 대해 심각한 경쟁자들로서 향후 몇 년내에 나타날 것으로 예측된다. 이러한 새로운 아키텍쳐들의 공통되는 피쳐는 매우 많은 층들을 포함하는 조밀한 적층부들 내에 박막 일렉트로닉스가 통합된다는 것이다. 많은 예들에서, 이런 장치들은 얇은 중합체 기판상에서 오픈 릴식(reel-to-reel) 처리와 같은 고용량 기술에 의해 제조될 것이다. 이와 관련하여, 종래의 비아 접속 기술들은 비용 부담이 클 뿐만 아니라 전체적으로 기술면에서 부적절할 것이다.
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도 1a는 본 발명에 따른 제 1 일반적 장치의 측면도,도 1b는 도 1a 장치의 제 1 실시예의 평면도,도 1c는 도 1a 장치의 제 2 실시예의 평면도,도 2a는 도 1a 장치의 제 3 실시예의 평면도,도 3은 도 1a 장치의 제 4 실시예의 평면도,도 4a 내지 도 4c는 기판 사용없이 도 1a 장치와 유사한 실시예,도 4d는 양 측면들로부터의 액서스 가능성을 갖는 도 4a 실시예의 변형 측면도,도 5a 내지 도 5e는 도 1a에 도시된 형태의 장치를 형성하기 위한 제조 단계의 제 1 예,도 6a 내지 도 6d는 도 1a에 도시된 형태의 장치를 형성하기 위한 제조 단계의 제 2 예,도 7은 본 발명에 따른 제 2 일반적 장치의 측면도,도 8a 내지 도 8e는 도 7에 도시된 형태의 장치를 형성하기 위한 제조 단계의 예,도 9a는 도 1a 장치상에 전기적 에지 접속부 패터닝시 기하학적 관계도,도 9b는 도 7의 장치상에 전기적 에지 접속부 패터닝시 기하학적 관계도,도 10은 종래 기술에 따른 패시브 매트릭스-어드레스가능 장치(passive matrix-addressable device)의 전극의 개략적 설계도,도 11a 내지 도 11m은 본 발명에 따른 장치에 기초한 적층된 매트릭스-어드레스가능 메모리 장치를 형성하기 위한 제조 단계의 예이다.
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본 발명의 주목적은 서로 부분적으로 또는 완전히 중첩하는 2개 이상의 판 또는 막 형태의 기능적인 부분들을 포함하는 적층부를 결합하는 메모리 및/또는 처리 장치에서, 전기적 상호 접속부들이 층들 사이 및/또는 층들과 하부 기판들 사이에 형성될 수 있게 하는, 방법과 기술적인 해결책들을 제공하는 것이다.또한 본 발명의 목적은 판 또는 막 형태의 기능적인 부분들의 개수가 통상 5-10개를 초과하도록 커지는 경우에 수행될 수 있는 방법 및 기술적인 해결책들을 제공하는 것이다.또한 본 발명의 목적은 판 또는 막 형태의 기능적인 부분들이 제조되고, 장치들이 고용량 저비용 기술에 의해 조립되는 경우에 수행될 수 있는 방법 및 기술적인 해결책들을 제공하는 것이다.상기 언급된 목적들과 그 이상의 특징들 및 장점들은, 각각의 층내의 메모리 및/또는 처리 회로들과 전기적으로 접속된 엇갈린 구조내의 각 계단상에 하나 이상의 콘택 패드가 제공되고, 계단상에 전기적 전도성 구조 형태로 각각의 층내의 계단 및 각각의 층내의 계단 사이의 에지 상에 하나 이상의 전기적 에지 접속부가 제공되어 층의 표면상에 증착되고, 상기 전기적 접속부는 층내의 하나 이상의 콘택 패드와 콘택되며, 각각의 층 사이 및 층과 선택적 기판상에 제공된 콘택 패드 사이에 전기적 접속부를 제공하는 것을 특징으로 하는 장치를 갖는 본 발명에 따라 구현된다.본 발명에 따른 장치는, 하나 이상의 층에 있는 2개 이상의 콘택 패드가 개별 층에서의 계단 상에 제공되는 전기적 전도성 구조에 의해 상호 접속되는 것을 장점으로 여긴다. 또한 본 발명에 따른 장치는, 적층부내에 적어도 3개의 연속하는 층에 있는 콘택 패드 사이 또는 적층부 및 이들 층중 하나에 인접한 선택적인 기판 내에 있는 적어도 두개의 인접한 층에서 적어도 두개의 인접한 층에 있는 콘택 패드 사이에 연속적인 전류 경로로서 전기적 에지 접속부가 제공되고/제공되거나 적층부내의 두개의 인접한 층 사이 또는 선택적 기판과 상기 기판에 인접한 층 사이에 패치(patched) 전류 경로로 전기적 에지 접속부가 제공된다는 것을 장점으로 여긴다.바람직하게, 본 발명에 따른 장치는 층들이 상이한 면적을 갖도록, 적어도 일부를 계단형 피라미드 구조로 형성한다.본 발명에 따른 장치의 바람직한 실시예에 있어서, 계단이 적층부내의 개별 층에 있는 상부 표면의 노출된 표면을 형성하는 적어도 하나의 엇갈린 부분과 계단이 적층부내의 개별 층에 있는 하부 표면의 노출된 부분을 형성하는 적어도 하나의 엇갈린 부분을 엇갈린 구조가 포함할 수 있도록, 적층부내 개별층이 상호 배치되며, 각각의 경우에서 각각의 계단상에 있는 하나 이상의 콘택 패드는 층의 맞은편 표면에 개별적으로 제공되는 전도성 구조로 전기적으로 접속된다.본 발명에 따른 장치의 또다른 바람직한 실시예에서, 적층부는 기판 상에 제공되며, 상기 적층부는 기판으로부터의 거리에 따라 각각의 층 면적이 증가되도록 반전된 계단 피라미드형 구조의 적어도 일부를 형성하고, 상부층은 하부 층의 에지상 위로 지지되어 기판에 위치되고, 상부층은 하나 이상의 엇갈린 부분을 형성하여, 층의 엇갈린 부분의 계단수는 그아래에 배치된 층의 수와 대응되며, 바람직하게 하나 이상의 콘택 패드가 기판에 제공되며 층은 기판에 위치된다.마지막으로, 본 발명에 따른 장치는 계단 사이의 각각의 층의 측면 에지가 둥글거나 경사진 표면을 형성한다는 것을 장점으로 간주한다.상기 언급된 목적 및 또다른 특징 및 장점은, 개별 연속 계단의 적층부에 각각의 층을 부가하는 단계, 적층부가 한 방향으로 적어도 하나의 엇갈린 구조를 형성하도록 적층부내의 각각의 연속하는 층에 이전의 인접한 층을 기준으로 상이한 또는 인접한 층과 변위된 관계의 상이한 면적을 제공하는 단계 - 엇갈린 구조에서의 계단은 제공된 층의 노출된 부분에 의해 형성됨 - , 하나 이상의 전류 경로 및 하나 이상의 콘택 패드가 각각의 층상에 형성되도록 각각의 층내의 계단 상에 전도성 물질의 구조를 증착하는 단계, 및 2개 이상의 층상의 콘택 패드 사이 및/또는 콘택 패드 또는 하나 이상의 층 및 기판 사이에 전기적 에지 접속부가 형성되는 연속적인 및/또는 패치(patched) 전기적 전도성 구조를 증착하는 단계에 의해 특징화되는, 본 발명의 방법에 따라 구현된다.본 발명에 따른 방법에서는, 적층부가 계단 피라미드 구조의 적어도 일부를 형성하는 층 증착, 또는 적층부가 반전된 계단 피라미드 구조의 적어도 일부를 형성하는 층 증착과 같은 증착 단계가 장점인 것으로 간주되며, 각각의 상부층은 하부층의 에지 상에 증착되며 기판에 위치되어, 상부층은 하나 이상의 엇갈린 부분을 형성하며, 층내의 각각의 엇갈린 부분내의 계단의 개수는 그 아래에 위치된 층들의 개수와 대응된다.최후 언급된 경우에서 하나 이상의 콘택 패드들은 바람직하게는 기판에 제공되며 층들은 기판에 위치된다.마지막으로, 본 발명에 따른 방법에 있어, 리소그래피, 건식 에칭, 잉크제트 프린팅, 실크 프린팅, 소프트 리소그래피, 전기분해, 정전 증착 또는 인슈트 전환중 선택된 하나의 공정으로 전기적 에지 접속부를 형성하는 것이 바람직한 것으로 간주된다.다음에서 본 발명은 실시예들에 대한 논의와 첨부된 도면들을 참조하여 보다 상세히 설명될 것이다.
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본 발명에 따른 장치의 실시예를 설명하고 개시하기에 앞서, 본 발명의 배경 기술에 대한 간단한 설명이 제공된다.무기물, 저중합체 또는 중합체를 사용하는 박막 기초 액티브 회로소자가 통상 전자공학의 주류가 됨에 따라, "스마트(smart)"층, 즉 개별 처리 능력을 구비한 층을 갖는 적층 장치가 보편화될 것이다. 또한 적층 개념 고유의 가능성을 강화시키는 것에 부가하여, 이는 버스형태의 에지 접속부가 전체적으로 적층부에 대해 분포되고 의도된 층에 의해 선택적으로 포착되는 메세지를 보유하고 있음을 의미한다. 한편 본 발명의 상호접속의 개념은 디코딩 회로소자 없이 판 또는 층을 포함하는 적층부를 수반할 수 있는데, 이 경우에 이들 판에 전용 에지 접속부가 제공될 수 있다. 후자의 극단적인 경우 모든 층들은 "덤프(dumb)"되며 다른 경우 각각의 층은 케이블-접속 위치에서 지지 기판 또는 회로소자 상에서 회로 소자를 구동시키기 위한 전용 전기적 접속부를 갖는다. 이후에, 본 발명에 따른 방법의 적절한 선택은 당업자에게 자명하기 때문에, 개별층의 가능한 전자 성능의 상이한 면은 더 이상 자세히 다루어지지 않을 것이다.본 발명에 따른 일반적 장치의 보다 상세한 설명은, 본 발명에 따른 방법의 바람직한 실시예의 제조 단계 설명 및 그와 관련된 실시예에 개시되며, 이들은 본 발명에 따른 장치의 실시예를 구현하는데 사용될 수 있다.특히 도 1a는 본 발명에 따른 제 1 장치의 측면도이다. 상기 장치는 계단 피라미드 구조로 도시된다. 상기 장치는 개별적으로 제공되나, 상호 인접한 판 또는 막 형태의 층이 기판 상에 제공된 적층된 기능 유니트를 포함한다. 주어진 층의 상부 표면 상의 회로는 층의 노출된 에지 면적상의 콘택 패드와 전기적으로 접속된다. 도 1의 측면도에는 4개의 층(L1-L4)이 도시되며 이들은 함께 적층부(1)를 형성한다. 측면도에 도시된 바와 같이, 오른 측면상의 층(L1-L4)은 엇갈린 구조를 형성하며 이위에 전기적 에지 접속부(3)가 제공되며 층(L4)의 상부 표면으로부터 기판(2) 상의 콘택 패드(5)로 하향 연장된다. 전기적 에지 접속부(3)는 각각의 층(L)의 상부 표면상에 제공되는 전기적 도체들과 콘택되어 접속되며 이는 특별히 점선이 아닌 두꺼운 라인으로 표시되며 이는 도 1a로부터 명백하다.도 1b는 도 1a 장치의 제 1 실시예를 도시하며, 적층부(1) 내의 층(L1-L4)은 한방향, 즉, 오른쪽을 향해 엇갈리는 것을 볼 수 있다. 다음 각각의 층(L1-L4) 상에는 도면에서 강조된 콘택 패드(4)가 제공되고, 전기적 에지 접속부(3)가 콘택 패드(4)와 콘택되고 기판(2)상의 콘택 패드(5)와 전기적으로 층(L1-L4)을 접속하도록 제공된다. 층(L1-L3) 내의 콘택 패드는 엇갈린 구조에서 계단을 형성하는 노출된 부분에 제공된다. 도 1b는 회로 영역을 표시하는 직사각형 사선(hatched) 영역이 상부층에 도시된다. 상세히 도시되지 않지만, 회로영역은 물리적 개별 부품 및 네트워크 또는 하나 이상의 네트워크에 접속된 회로를 포함할 수 있으며, 도 1b 실시예의 경우, 기판에 두개의 접속 경로(3)가 제공된다. 도 1b 및 부가적인 도면들에서, 상부층내의 사선 영역은 다른 하부 층들 내의 대응하는 회로 영역들과 등가란 점을 인식해야 한다.도 1c에서는, 층(L1-L4)을 갖는 적층부(1)가 2개의 상호 직교하는 방향으로 엇갈린 도 1e 장치의 또다른 실시예의 평면도가 도시되는데, 이는 접속 목적을 위해 사용될 수 있는 보다큰 노출 계단 영역을 제공한다. 또한 본 실시예는 콘택 패드(4), 노출 부분 및 기판상의 콘택 패드(5)의 선택적 및 더욱 분산된 위치를 허용한다. 동시에, 모든 층내의 콘택 패드(4)와 콘택되며 부가적으로 기판상의 콘택 패드(5)와 콘택되는 2개의 에지 접속부(3) 사이에 양호한 분리가 달성되고, 에지 접속부는 각각 2개의 엇갈림 방향에 제공된다.도 2는 도 1 장치의 제 3 실시예를 도시되었지만, 도시되는 바와 같이 적층부(1) 내의 개별층(L1-L4)에 대한 에지는 계단 영역에서 둥글고 부호 6으로 표시된 에지 접속부가 모든 층에 의해 형성된 계단상에서 기판(2)으로 하향 때 연장되는 장점을 제공한다. 만약 계단이 직각이 아니고 둥근 형태라면, 도 2의 실시예는 전기적 에지 접속부 내의 단절(rupture) 위험을 감소시킬 것이다. 도 1a 내지 도 1c의 실시예 경우와 같이, 에지 접속부가 날카로운 에지 위에서 연장될 때, 증착된 얇은 전도성 층으로서 형성된 에지 접속부에서는 임의의 단절 위험이 언제나 존재할 것이다. 도 2 실시예의 변형에서, 계단은 둥근 형태일 필요는 없지만, 상기 개별 계단들 사이에는 단계적인 경사로 형성될 수 있다.도 3은 도 1a 장치의 제 4 실시예를 도시하는데, 이는 도 1c 실시예와 전체적으로 유사하다. 또한 여기서 적층부(1)는 도 1c의 실시예에 대응되게 2개의 콘택 패드(5)가 제공된 기판(2) 상에 제공되는 4개의 층(L1-L4)을 포함한다. 그러나, 에지 접속부(3)중 단지 하나만이 최상부층(L4)으로부터 기판상의 콘택 패드(5)로 연속적인 접속부로 제공되며 동시에 노출된 부분, 즉, 도시된 것처럼 층(L1-L4)내의 계단상의 모든 콘택 패드(4)와 콘택된다. 적층 구조(1)에서 하부 오른쪽에 도시된 것처럼 층내의 각각의 계단에는 몇개의 콘택 패드(4)가 제공된다. 여기서, 각각의 계단 상에는 콘택 패드(4)가 제공되며 이는 도시된 것처럼 짧은 에지 접속부(3) 상에 상호간 두개 이상의 층 사이에 독립적인 접속부를 제공하는 가능성 및 개별층 사이와 층(L1)에 대해 도시된 것처럼 층내에 상호 전기적 접속부의 패칭(patching) 가능성이 제공되며, 기판(2) 상의 콘택 패드(5)에 대한 추가적인 에지 접속부(3)를 부가하는 것이 가능하다.본 발명에 따라 3, 4, 5 등의 엇갈림 방향을 갖는 다각형 피라미드로서 적층부(1)를 형성하는 것이 가능하지만, 이는 도 1b 및 도 1c에 도시된 바와같이 실시예 원리의 직접적인 연장일 뿐 이에 대해 여기서 더 자세히는 설명되지 않는 것이라는 점을 당업자는 인식할 것이다.도 4a 내지 도 4c는 층 사이의 및 층 상에 라인으로 개략적으로 도시된 전기적 에지 접속부(3)를 갖는 본 발명에 따른 제 1 장치의 실시예를 도시한다. 이는 적층부(1)가 기판 상에 제공되지 않지만, 층(L)은 자체-지지 구조라는 점에서 도 1a 장치와 구별된다. 따라서 도 4a는 측면도는 도 1a의 측면도와 유사하지만 기판이 없는 실시예를 도시한다. 적층부(1)는 5개의 자체-지지층(L1-L5)을 포함하고 적층부내의 모든 계단상는 콘택 패드(4)가 제공되며 층(L1-L4) 각각에 대하여 에지 접속부(3)가 콘택 패드(4)와 접속된다. 도 4b는 규칙적인 계단 피라미드 또는 선택적으로 다각형 계단 피라미드로서 구현된 자체-지지 장치를 도시한다. 오른편에서 층(L1-L4)상의 콘택 패드(4)를 경유하는 에지 접속부(3)는 콘택 패드(4)가 L1 및 L3의 노출된 부분상에만 제공되는 것으로 도시된 왼쪽에서 도 4b에 도시된 것처럼 패칭(patching) 뿐만 아니라 몇개의 전류 경로의 사용으로 모든층(L1-L5) 사이에 연속적인 접속부를 형성한다. 이런 방식으로, 적층부(1)내의 두개 이상의 층 사이에 전기적 접속부를 형성하는 것이 용이하며 이들은 인접할 필요가 없다. 대응적으로 도 4c는 다시 계단 피라미드 구조로서 적층부(1)를 도시되었지만, 적어도 2개의 엇갈림 방향의 에지 접속부(3)를 갖는다. 도 4에서, 에지 접속부는 각각의 측면상에 정반대로 제공되며 콘택 패드(4)는 6개의 층(L1-L6)을 갖는 것으로 도시된 것처럼 구조의 각각의 계단상에 제공된다.본 발명에 따른 제 1 장치는 도 4d에 도시된 것처럼, 특히 2개의 측면 콘택팅 방법으로 구현될 수 있다. 5개의 층(L1-L5) 각각의 양쪽 표면을 노출시키는 개별 계단 영역을 형성하기 위해, 이들은 동일한 연장부를 가질 수 있는 상호 엇갈린 계단형이다. 따라서, 각각의 계단상에 콘택 패드(4) 및 에지 접속부(3)를 갖는 각각의 층(L)의 양쪽 표면, 즉, 층의 노출된 부분은, 계단의 한쪽 측면상의 상기 부분들이 상반되는 측면의 대응 부분을 기준으로 반전된 계단 구조를 형성하여 각각의 층(L)의 맞은편 표면으로의 액서스를 허용함에 따라, 콘택된다. 이외에, 에지 접속부(3) 및 콘택 패드의 설계는 도 4d에 도시된 것처럼 장치의 양쪽 측면상에서 동일하다.일반적으로, 도 1-4에 도시된 실시예에서 에지 접속부(3)는 특히 콘택을 목적으로 에지 영역을 사용함으로써 각각의 개별 층에 형성될 수 있고, 에지 영역은 적층부(1)내의 각각의 층의 노출된 부분에 형성되며 이들 노출된 부분은 상기 설명된 것처럼, 하나 이상의 방향으로 엇갈린 엇갈림 구조로서 적층부를 구현시킴으로써 형성된다. 물론 계단은 콘택이 이루어지는 경우 노출된다.일반적으로, 적층부(1) 자체 내의 각각의 층(L)은 전기적 도체, 액티브 회로 및 예를 들어 데이터 저장을 목적으로 하는 메모리 물질과 같은 기능 물질을 포함하는 서브층의 샌드위치로서 형성될 수 있다. 각각의 층이 이러한 서브층의 샌드위치로서 바람직하게 박막 기술로 구축되는 경우, 개별 서브층은 특정한 기능 목적, 예를 들어, 콘택 및 전도 기능을 달성하기 위해 구현되거나 예를 들어 박막 기술로 형성된 액티브 회로를 포함할 수 있거나 또는 예를 들어 데이터 저장 목적을 위해 메모리 물질과 같은 기능 물질로 전체 구성될 수 있다. 상세한 설명이 없어도, 각각의 개별층이 적층부내에 장착되기 이전에 지지막상에 제조되거나 또는 적층부 자체 표면상에서 증착 프로세스 또는 일련의 프로세스에 의해 형성될 수 있다는 것을 당업자는 알것이다. 각각의 경우에 있어, 각각의 서브층은 예비제조 및 적층 추가 프로세스 동안 노출되는 힘과 관련하여 지지층의 지지 능력에 의해 부여되는 하한의 두께를 갖는다. 추가적인 프로세스를 사용함으로써, 단일층의 두께는 보다 작아질 수 있고, 서브층들은 기본적으로 단층으로 증착될 수 있다.본 발명에 따른 장치에서 에지 접속부가 구현되는 방법을 이하 상세히 설명한다. 특히 도 1-3에 도시된 실시예에서, 에지 접속부는 단일 전극 증착 또는 증착 동작의 시퀀스에 의해 형성될 수 있고, 이는 이하 상세히 설명된다. 후자의 경우, 각각의 증착 동작은 전체 에지 높이의 단지 작은 부분만 즉, 에지 구조에서 하나의 계단만이 조절된다(negotiated)는 것을 의미하고 다수의 계단에 대한 에지 접속부의 연속성은 순차적으로 증착되는 전극의 중첩에 의해 달성된다.높은 정밀도를 갖는 에지 접속부를 형성하는 기술로는 습식 에칭 또는 건식 에칭을 기초로한 리소그래피 방법 및 입자 밀링, 소프트 리소그래피와 같은 높은 정밀도의 스탬핑, 및 전기 분해가 포함된다. 높은 해상도를 제공하는 이들 기술은 각각의 개별 계단의 높이 또는 단일 제조 단계로 전기적으로 접속될 수 있는 계단의 수를 제한하는 초점심도(depth of field)가 제한된다는데 공통점이 있다. 이런 경우, 예를 들어 전력 공급 라인, 버스 라인 등을 형성하는 공통 도체의 간단한 적용이 사용될 수 있다.도 5a 내지 도 5e는 본 발명에 따른 장치를 형성하는 적층부내에 에지 접속부를 형성하는 제조 단계들의 제 1 실시예를 도시한다. 특히, 도 5a는 적층부(1) 자체를 형성하는 층(L) 증착 이전의 기판(2)을 도시한다. 회로 영역(CS)은 기판 내에 또는 기판 상에 제공되고 그 자체로서 회로를 형성할 수 있으며 이 회로 영역은 또한 기판의 콘택 패드(5)와 접속된다. 도 5b에 도시된 다음 제조 단계에서, 절연층(IL1)이 제공되고 그의 명칭은 적층부 내의 제 1 층(L1)과 접속된다는 것을 나타낸다. 층(L1)에 절연층(IL1)에 대한 회로 영역(CL1)이 제공되고 절연층(IL1)상에 제공된 콘택 패드(4)와 접속된다. 도 5c는 층(L2 )에 대해 결과층(L1 및 L2)이 엇갈린 구조를 형성하도록 제공되고 설계된 절연층(IL2)과의 동일한 제조 단계를 도시한다. 또한 절연층(IL2) 상에서는 회로 영역에 접속된 회로 영역(CL2)와 콘택 패드(4)가 제공된다. 다음 도 5d는 적층부내의 제 3 층(L3)에 대해 대응하는 회로 영역(CL3) 및 그와 연결된 콘택 패드(4)를 갖는 제 3 절연층(IL3)의 증착을 나타낸다. 도 5a-5d에 도시된 실시예는 각각의 콘택 패드(4)와 접속되는 각각의 절연층(IL1-IL3)과 회로 영역(CL1-CL3)으로 이루어진 층(L1-L3)이 형성되는 방법을 도시한다. 최종 제조 단계에서는 연속적인 전류 경로 또는 전도성 경로(3)가 제공되고 각각의 층에 있는 모든 콘택 패드(4)와 기판 상에 콘택 패드(5)를 상호 접속하는 에지 접속부를 형성한다.단일 동작으로 에지 접속부(3)를 증착하는 대신에, 이들은 계단형으로 증착될 수 있으며, 이는 개별층과 관련되며 도 5와 대응되게 형성된 서브층을 나타내나, 에지 접속부(3)의 계단형 증착을 나타내는 도 6을 참조로 설명될 것이다. 도 6a는 회로 영역(CS)과 콘택 패드(5)를 갖는 기판(2)을 도시하는 반면, 도 6b는 적층부 내에 제 1 층(L1)에 대해 제공된 절연층(IL1)과 회로 영역(CL1)을 갖는 기판(2)을 도시한다. 절연층(IL1) 상의 에지상에 에지 접속부(3)가 증착되며, 이들 에지 접속부는 회로 영역(CL1)과 기판(2)상의 콘택 패드(5) 사이에 콘택을 형성한다. 도 6c에서 다른 절연층(IL2)은, 콘택 패드(4)가 도 6b에서 증착된 에지 접속부(3)상에 형성되도록, 절연층(IL2)의 에지상에서 하부 절연층(IL1) 상의 에지 접속부(3)로 하향 연장되는 에지 접속부(3) 및 회로 영역(CL2)을 갖도록 증착된다. 프로세스는 절연층(IL3), 회로 영역(CL3) 및 콘택 패드(4)와의 추가적 에지 접속부(3)를 갖는 제 3 층(L3)에 대해 도 6d에서 반복된다. 이는 도 6d에 도시된 것처럼 실시예가 적층부내의 최상부층으로부터 중간층내의 콘택 패드(4) 상에서 기판에 있는 콘택 패드(5)로 하향하는, 연속적이나 계단형으로 증착된 에지 접속부(3)를 구현하는 결과를 산출한다. 또한 이는 각각의 에지 접속부(3) 자체에 대한 증착 및 콘택 동작이 계단형으로 처리되며 적층부의 임의의 원하는 높이가 조절될 수 있다(negotiated)는 것을 의미한다. 포토리소그래피 기술에 기초한 증착 공정으로 얻어지는 초점 심도가 실제 계단 높이로 조절되는 것만이 요구되어 개별 계단의 높이는 원칙적으로 에지 접속부(3)를 제조하기 위한 고 해상도의 리소그래피로 달성되는 실제의 제한된 초점심도에 정확하게 대응될 수 있다.도 7에서는 본 발명에 따른 다른 장치가 도시된다. 이 장치는 또한 계단 형태의 피라미드로서 구현되지만, 뒤집혀져 있어 반전된 계단 피라미드라 불린다. 도 1의 장치와 유사하게, 도 7의 장치는 장치 내의 기능 유니트로 적층부(1)를 형성하는 층(L1-L4)을 포함한다. 기판(2) 상에 제공된 상기 층(L)을 갖는 적층부(1)와 "반전된 계단 피라미드" 개념은 최소 영역을 갖지만, 각각의 층 영역은 기판으로부터의 거리에 따라 증가하는 적층부(1) 내의 제 1 층(L1)이라는 사실에 기초한다. 상부에 있는 또다른 층은 그를 넘어 하부 층의 에지상으로 연장되고, 적층부(1)의 각각의 개별층(L)은 기판(2)에 직접 위치되어 있는 부분을 얻게된다. 층(L) 각각에 대해, 도 7에 도시된 것처럼 기판상에 하나 이상의 콘택 패드(5)가 제공되며, 이들은 기판과 상기 층내의 기능 유니트의 회로 영역을 접속하는 각각의 층(L)에 있는 에지 접속부(3)와 콘택된다. 에지 접속부(3)는 개별층(L)에 형성된 계단의 에지 상에서 기판(2)으로 하향 연장된다. 도 7의 장치에서, 기판이 실리콘 칩으로 형성되는 경우 예를 들어 개별층이 기판(2)에 제공된 드라이버 및 제어 회로에 직접적인 접속부를 갖는 것이 달성된다.이제 도 7에 도시된 것처럼 반전된 계단 피라미드를 형성하는 적층부(1)가 어떻게 제조되는지 설명할 것이다. 도 8a에서, 기판(2)은 콘택 패드(5)를 갖는 것으로 도시된다. 제 1 절연층(IL1)에는 도 8b에 도시된 것처럼 기판(2)상에 제공되고 도 8c에 도시된 것처럼 기판(2) 상의 콘택 패드(5)와 접속되는 에지 접속부(3)를 통해 두개의 전극(EL1)이 제공된다. 절연층(I1)상에는 회로 영역이 형성될 수 있으며 전극(EL1)을 통해 하부층과 콘택되는 기능 유니트는 상세히 도시되지 않는다. 도 8d는 제 1 절연층(IL1) 상에 절연층(IL2)을 제공함으로써 다음층이 어떻게 형성되는지를 나타내나, 상기 제 1 절연층을 지나 연장되고 에지 위로 및 층(IL2)의 일부가 기판상의 콘택 패드(5)에의 모든 경로를 적어도 연장하는 기판으로 하향하는 계단을 형성한다. 다시 도 8에서 도시된 것처럼 전극(EL2)은 제 2 층내에 회로 영역 및 기능 유니트를 에지 접속부(3) 상에서 기판 내의 콘택 패드(5)로 하향하는 콘택을 통해 기판과 접속하도록 제공된다. 도 8f는 전극(EL2)을 마스크하는 또다른 절연층(IL3) 증착으로 프로세스가 반복되는 방법을 나타내며 도 8g에 도시된 바와 같이 기판(2) 상의 콘택 패드(5)에 콘택되는 전극 세트(EL3)가 제공된다. 따라서, 도 8a 내지 도 8g에서 도시된 것처럼 적층부는 3개가 적층된 층들로 달성되지만, 상기 층들은 도 1a의 장치와 반대로 반전된 계단 피라미드로서 제공된다, 즉, 각 층의 면적은 기판(2)으로부터의 적층부내의 내의 거리에 따라 증가한다. 도 8a 내지 도 8g에서 도시된 바와 같이 구현되는 도 7의 장치는 적층된 구조(1) 내의 기판(2)과 상부 층(L) 사이에 개별적 액서스를 제공한다는 것을 알 수 있다. 이런 방식으로 도 8a 내지 8g에 도시된 방법은 도 5 및 도 6에 도시된 방법들과 대조를 이룬다.적층부내에서 전극, 전류 경로, 에지 접속부 등을 패터닝하는 포토리소그래피 기술을 사용함으로써, 비교적 작은 초점심도는 시간상 소수의 단계로 패터닝될 수 있어 적층부내에 층의 수가 많을 경우, 이는 포토리소그래피 동작이 수차례 반복되어야 한다는 것을 의미하며, 장치 제조는 보다 복잡하고 부가적으로 작지 않은 비용 증가를 야기시킨다. 동작의 수가 적층부내의 계단 수와 적층된 층의 수에 따라 증가하는 것을 방지하기 위해, 콘택 및 전류 경로의 포토리소그래픽 패터닝에 대한 선택적 방법은 그 결과가 각각의 층에 대한 단지 하나의 동작만이 있도록 사용될 수 있는 반면, 적층부내의 모든 계단은 조절될 수 있다(negotitated). 이는 도 1a 상의 장치에 대해 도 9a에서 도시된다. 기판상에 제공된 도시되지 않은 적층부(1)는 경사가 선형적이 되도록, 측면상에서 엇갈린다. 따라서, 필요한 초점심도는 적층부(1)내의 층(L)중 하나의 최대 높이(hMAX) 이하 및 대략 그와 같을 수 있다. 적층부내의 모든 층이 동일한 계단 높이를 갖고, 도 9a에서와 같이 층(L2)이 다른 층들보다 훨씬 작은 높이를 갖는 것은 필요하지 않다. 오른편으로의 평행한 점선 경사선 사이의 간격으로 도시된 요구되는 초점 심도는 적층부의 전체 높이 위로 연장한다. 바람직하게, 광선(ray) 방향은 계단의 경사선에 직교할 수 있다. 도 7에서 도시된 장치에 대해 대응하는 상황은 도 9b에서 도시되었고, 필요한 초점심도는 h보다 작거나 같다 것을 알수 있고, 여기서 h는 콘택 패드가 제공되는 기판 상에 위치되는 적층부내의 계단(L1-L4)중 하나의 높이이다. 에지 접속부는 예를 들어, 도면에 점선으로 도시된 것처럼 경사선상에 직교하는 광선(ray) 방향에 있게 함으로써 단지 하나의 포토리소그래피 동작으로 상부에서 하부로 패터닝될 수 있다.도 1a 또는 도 7의 장치에서 각각의 개별층(L)은 도 10에 도시된 것처럼 패시브 매트릭스-어드레스가능 장치로 구현될 수 있다. 이는 서로 평행한 스트립 전극(W)을 포함하는 제 1 전극 세트(Ew) 및 마찬가지로 스트립 전극(B)을 포함하는 또다른 전극 세트(EB)을 포함하나, 전극 세트(En)내의 전극과 직교하게 제공된다. 예를 들어 메모리 매체 또는 발광 매체와 같은 기능 물질은 각각 전극 세트(EB, EW)와 샌드위치되어 제공된다. 도 10에 도시된 것처럼 아키텍쳐는 패시브 매트릭스-어드레스가능 강유전체 메모리 장치를 구현하는데 사용될 수 있으며, 여기서 메모리 매체는 강유전체 메모리 물질의 경우, 예를 들어 무기 또는 유기 물질이고, 유기 물질인 경우 특히 중합체 또는 공중합체가 바람직하다. 이런 형태의 메모리에서 개별 메모리 셀은 워드라인을 구현하는 전극(W)과 메모리 장치내의 비트라인을 구현하는 전극(B) 사이의 교차점에 형성된다. 상기 전극 배열이 적어도 하나의 전극 세트내의 전극이 투명 물질로 구현되는 디스플레이에 사용되는 경우, 픽셀은 대응되게 전극 세트(EW, EB) 사이에 샌드위치되고 각각의 세트내의 전극 사이의 교차점에 제공되는 발광 물질로 형성된다. 상기 언급된 형태의 메모리 장치에서 제공된 메모리 셀은 상기 셀에서 교차되는 워드라인 전극(W)과 비트라인 전극(B)을 활성화시킴으로써 기록, 판독 및 제거될 수 있다. 도 10에서, 이를테면 모든 워드라인(WB)이 활성화될 수 있어 도시된 것처럼 사선의 비트라인 전극(B)과 교차점에서 모들 셀이 어드레스될 수 있다. 도 10에 도시된 것처럼 배열에서 워드라인과 비트라인 사이에 샌드위치되는 메모리 물질의 층을 포함하는 메모리 매트릭스는 각각의 방향으로 수백 내지 수천개의 전극을 포함하고 거시적인 간격(밀리미터 내지 센티미터)에 걸쳐 측방으로 연장된다. 전극층 및 메모리 매체를 형성하는 층으로 이루어진 각각의 개별층의 두께는 1 ㎛ 이하의 크기일 것이다. 이러한 매트릭스는 본 발명에 따르는 장치를 적층하여 적층부를 형성하며 매트릭스를 형성하는 각각의 단일층이 적층부내에 다른층으로부터의 혼선 및 간섭에 대해 전기적으로 절연되는 모놀리식 구조를 얻게되어, 고용량 메모리 셀 밀도가 달성된다.대형 패시브 매트릭스의 고밀도 적층부에서, 적절한 드라이버 및 제어 회로와 접속되는 장치내의 라인의 수는 상당히 크다. 적층부내의 층이 지지 기판 상에 또는 지지 기판내에 위치된 스위칭, 멀티플렉싱, 검출 및 프로세싱을 위한 모든 회로와 전혀 반응이 없다면(passive), 적층부 및 기판의 개별층들 사이의 직접적인 전기적 접속부의 개수는 전체 매트릭스 라인의 수, 즉, 장치내의 워드 및 비트라인의 수와 유사해지며, 이러한 장치의 제조와 관련된 문제점은 매우 중요시될 것이다.상기 설명된 것처럼 개별층이 매트릭스-어드레스가능한 장치이고, 적층부를 형성하는 본 발명에 따른 장치의 바람직한 제조 방법이 개시되어, 이를 테면 용량성(volumetric) 매트릭스-어드레스가능 장치가 달성된다. 이러한 방법은 도 11a-11m을 참조로 단계별로 도시되나, 명료성을 위해, 워드라인의 개수는 2개로 제한되며 비트라인의 수는 3개로 제한되며, 각각의 단일 층내의 각각의 매트릭스-어드레스가능한 장치는 2·3 매트릭스, 다른 말로 많아야 6개의 어드레스가능한 셀과 단지 3개의 층들로 제한된 적층부를 갖는 매트릭스가 된다. 도 11a-11m에 도시된 방법 단계를 사용함으로써, 일련의 제조 단계가 기판에 고밀도의 전기적 접속성을 제공함에 따라 패시브 매트릭스-어드레스가능한 장치의 조밀하게 적층된 매트릭스가 달성될 수 있다. 도시된 실시예에서, 개별층내의 워드라인은 공통 도체로 접속되며 비트라인의 개별 세트는 각각의 층에 제공된다. 순차적인 도 11a-11m에서 IL은 절연 기판을 나타내며, S는 기판을 나타내며, WL은 워드라인을 나타내며 BL은 비트라인을 나타내며, L은 각각의 층(L1, L2, L3)을 나타낸다.도 11a는 적층부 내에 제 1 층이 증착되기 이전에 각각의 층에 제 1 내지 제 3 비트라인 각각에 대한 �普�패드(B1-B3)를 갖는 비트라인 콘택 필드와 모든 층에 각각의 워드라인(WL)에 대해 단지 두개의 콘택 패드(W1, W2)를 갖는 워드라인 콘택 필드를 갖는 기판(S)을 도시하며, 도 11b는 기판(S)과 그위에 제공되는 적층부 사이에 전기적 및 화학적 간섭을 보호하기 위한 제 1 절연층(L1)을 갖는 기판(S)을 나타내며, 도 11c는 적층부내의 제 1 매트릭스-어드레스가능한 장치와 같은 제 1 층으로부터 비트라인이 제공되고 기판 상의 비트라인에 대해 제 1 세트의 콘택 패드와 접속되는 방법을 도시한다. 도 11d에서, 기능 물질의 층(ML1), 이경우 메모리 물질층이 비트라인 상에 제공되어 비트라인과 콘택되는 반면, 도 11e는 워드라인(WL1)이 기판(S)내의 워드라인 콘택과 접속되는 방법을 나타낸다. 도 11f는 적층부내의 제 1 메모리 장치 또는 제 1 층 상에 또다른 절연층(IL2)이 제공되는 것을 도시하며 도 11g는 제 2 층에 대한 비트라인(BL2)이 제공되는 것이 도시된다. 그위에는 다시 제 2 층에 대한 메모리층(ML2)이 제공되어 비트라인(BL2)과 콘택되며 이는 도 11h에 명확히 도시된다. 도 11i에는 워드라인(WL2)이 제공된다. 이들은 워드라인(WL1)과 콘택되어 워드라인에 대한 공통 콘택이 달성된다.도 11j에는 제 3층에 대한 새로운 절연층(IL3)이 제공되는 것이 도시되며 도 11k에는 비트라인(BL3)이 제공되는 것이 도시된다. 도 11l에는 BL3 상에 증착된 제 3 층에 대한 메모리층(ML3)이 도시되며 도 11m에는 각각의 층의 에지상으로 연장되고 하부층상의 워드라인(WL2)에 에지 접속부를 형성하는 워드라인(WL3)이 제공되는 것이 도시된다.도 11a-11m에 도시된 것처럼 방법 단계는 본 발명에 따른 장치와 완전히 대응되는 적층된 패시브 매트릭스-어드레스가능한 메모리 장치를 구현한다. 물론 패시브 매트릭스-어드레스가능한 메모리 장치는 다수의 층을 포함하며 각각의 층에 적어도 수 천개의 워드라인 및 비트라인을 포함하할 수 있기 때문에, 도 11a-11m에 도시된 실시예에서 워드라인 및 비트라인의 제한은 본 발명을 구현하는 장치에 실제적으로 대응하는 것이 아님을 인식해야 한다. 이를 테면, 8,000 x 8,000 매트릭스, 즉, 64,000,000 매트릭스-어드레스가능한 메모리 셀로서 2차원 메모리 장치를 실현하는 것이 가능하다는 것이 밝혀진 바 있는데, 이는 물론 다수의 셀을 적층함으로써, 높은 저장 용량과 높은 저장 밀도를 갖는 본 발명에 따른 용량성 장치가 달성되도록 적층부내에 다수의 층에 비례하게 증하된다.도 11a-11m에 도시된 것처럼 개별층에서, 실제 몇개의 처리 사용으로 제조 변경이 가능하다. 이를 테면 도 5a-5e에 도시된 단계와 유사한 방법을 사용함으로써 워드라인이 단일 단계에서 형성될 수 있고 이에 따라, 예를 들어 도 11k에 도시된 것처럼 비트라인들의 설비는 단일 제조 단계에서 다수의 층을 제어하는 하는 것(negotiated)을 필요하게 할 것이다. 만약 이것이 문제시된다면, 도 9a에 도시된 기하학구조에 기초한 선택적인 패터닝을 사용하나, 상기 에지 접속부가 도 6a-6d에서 도시된 제조 단계들과 유사한 하부 계단의 패칭으로 연속적으로 형성될 수 있다.본 발명의 원리들과 선행 기술에 따른 관통(through-going) 비아들을 조합할 수 있지만, 상기 두 가지를 질적으로 구별하는 어떤 본질적인 특징들이 지적될 수 있다.- 본 발명에서는, 층간(intra-layer) 패칭은 물론 적층부 내의 수직 접속성은 적층부내의 층이 형성된 후의 제조 동작들에서 달성될 수 있는데, 이는 제조 전략(재료 호환 가능성 문제; 포스트 적층(post stacking)과 같은 장치들의 주문 제조)을 선택할 때 증가된 유연성을 제공한다.- 본 발명에서는, 적층부내의 층들을 지나는 접속 채널을 개방하기 위한 에칭, 드릴링 또는 유사한 동작이 요구되지 않는다.본 발명은 중합체에 기초하는 장치의 오픈 릴식(reel-to-reel) 제조와 같은 저비용, 고용량 동작들에서 적층된 장치들의 대량 제조를 향한 실제의 루트를 제공한다.
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  1. 적층부(1)에 제공되는 적어도 두개의 적층된 층(L)을 갖는 메모리 및/또는 데이터 처리 장치로서,
    상기 적층부(1)는 자체-지지 구조를 형성하거나 또는 선택적으로 기판(2) 상에 제공되며 적어도 한방향으로 엇갈린 적어도 하나의 구조를 포함하며, 상기 엇갈린 구조의 계단은 상기 적층부(1)내의 개별층(L)의 노출된 부분에 의해 형성되며 각각의 층의 두께에 대응하는 계단 높이(h)를 가지며,
    각각의 층(L)내의 메모리 및/또는 처리 회로와 전기적으로 접속되는 상기 엇갈린 구조내의 각각의 계단상에 하나 이상의 콘택 패드(4)가 제공되며, 계단상에 전기적 전도성 구조 형태로 각각의 층내의 계단 및 각각의 층내의 계단 사이의 에지상에 하나 이상의 전기적 에지 접속부가 제공되어 층의 표면상에 증착되고,
    상기 전기적 접속부(3)는 상기 층(L)내의 하나 이상의 콘택 패드(4)와 콘택되며 각각의 층 사이 및 층과 선택적인 기판(2) 상에 제공된 콘택 패드(5) 사이에 전기적 접속부를 제공하는, 처리 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    하나 이상의 층(L)에 있는 2개 이상의 콘택 패드(4)는 각각의 층에 있는 계단상에 제공된 전기적 전도성 구조에 의해 상호 접속되는 것을 특징으로 하는 처리장치.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 전기적 에지 접속부(3)는 적층부(1)내에 적어도 3개의 연속층(L)에 있는 콘택 패드(4) 사이 또는 상기 적층부(1) 및 이들 층중 하나와 인접한 선택적 기판(2)내에 적어도 2개의 인접한층(L)에 있는 콘택 패드(4) 사이에 연속적인 전류 경로로서 제공되는 것을 특징으로 하는 처리장치.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 전기적 에지 접속부(3)는 상기 적층부(1)내에 있는 2개의 인접한 층(L) 사이 또는 선택적 기판 및 상기 기판에 인접한 층(L1) 사이에 패치 전류 경로로서 제공되는 것을 특징으로 하는 처리장치.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 적층부(1)는 상기 층(L)이 상이한 면적을 갖도록, 계단 피라미드 구조의 적어도 일부를 형성하는 것을 특징으로 하는 처리장치.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 계단이 상기 적층부(1)에 있는 개별층(L) 상부 표면의 노출 부분을 형성하는 적어도 하나의 엇갈린 부분과, 상기 계단이 상기 적층부(1)에 있는 개별층(L) 하부 표면의 노출 부분을 형성하는 적어도 하나의 엇갈린 부분을 상기 엇갈린 구조가 포함할 수 있도록, 상기 적층부(1)내의 개별층(L)이 상호 배치되고, 각각의 경우에서 각각의 계단상에 있는 하나 이상의 콘택 패드(4)는 상기 층(L)의 맞은편 표면에 각각 제공되는 전도성 구조(3)와 전기적으로 접속되는 것을 특징으로 하는 처리장치.
  7. 제 1 항에 있어서
    상기 적층부(1)는 기판(2) 상에 제공되고,
    상기 적층부(1)는, 각각의 층(L) 면적이 상기 기판(2)으로부터의 거리에 따라 증가하도록, 반전된 계단 피라미드형 구조의 적어도 일부를 형성하며,
    상부층이 하부층의 에지 상에서 연장되고 기판(2) 상에 위치되어 - 상기 상부층(L)은 하나 이상의 엇갈린 부분으로 형성됨- , 상기 층의 엇갈린 부분의 계단 수는 그아래에 위치된 층의 수와 대응하는 것을 특징으로 하는 처리장치.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 층(L)이 얹혀있는 상기 기판(2)에 하나 이상의 콘택 패드(5)가 제공되는 것을 특징으로 하는 처리장치.
  9. 제 1 항에 있어서,
    상기 계단 사이의 각각의 층(L)의 측면 에지는 둥글거나 경사진 표면을 형성하는 것을 특징으로 하는 처리장치.
  10. 적층부(1)- 상기 적층부(1)는 자체-지지 구조를 형성하거나 선택적으로 기판상에 제공되며, 한방향으로 엇갈린 적어도 하나의 구조를 포함하며, 상기 엇갈린 구조의 계단은 상기 적층부(1)내의 개별층(L)의 노출된 부분으로 형성되며 각각의 층의 두께에 대응하는 계단 높이(h)를 가짐- 에 제공된 적어도 2개의 층(L)을 포함하는 메모리 및/또는 데이터 처리 장치 제조 방법으로서,
    개별 연속 계단의 상기 적층부에 각각의 층을 부가하는 단계;
    상기 적층부가 한 방향으로 적어도 하나의 엇갈린 구조를 형성하도록, 이전의 인접한 층을 기준으로 상이한 또는 인접한 층과 변위된 관계의 상이한 면적을 제공하는 단계 - 상기 엇갈린 구조에서의 계단은 제공된 층의 노출된 부분에 의해 형성됨 - ;
    하나 이상의 전류 경로 및 하나 이상의 콘택 패드가 각각의 층상에 형성되도록, 각각의 층내의 계단상에 전도성 물질의 구조를 증착하는 단계; 및
    2개 이상의 층상의 콘택 패드 사이 및/또는 콘택 패드 또는 하나 이상의 층 및 기판 사이에 전기적 에지 접속부를 형성하는 연속적인 및/또는 패치(patched) 전기적 전도성 구조를 증착하는 단계 포함하는 처리 장치 제조 방법.
  11. 제 10 항에 있어서,
    상기 적층부가 계단 피라미드 구조의 적어도 일부를 형성하도록 상기 층들을 증착시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 처리 장치 제조 방법.
  12. 제 10 항에 있어서,
    상기 층(L)은 지지 기판(2)상에 제공되고,
    상기 적층부가 반전된 계단 피라미드 구조의 적어도 일부를 형성하도록 상기 층을 증착시키는 단계를 포함하며,
    각각의 상부층은 상기 하부층의 에지상에 증착되고 상기 기판에 위치되어, 상부층은 하나 이상의 엇갈린 부분으로 형성되며, 상기 층에 있는 각각의 엇갈린 부분에서의 계단 수는 그아래에 위치된 층의 개수와 대응되는 것을 특징으로 하는 처리 장치 제조 방법.
  13. 제 12 항에 있어서,
    상기 층들이 위치된 기판에 하나 이상의 콘택 패드를 제공하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 처리 장치 제조 방법.
  14. 제 10 항에 있어서,
    리소그래피, 건식 에칭, 잉크 제트 프린팅, 실크 프린팅, 소프트 리소그래피, 전기분해, 정전 증착 또는 인슈트 전환 중에서 선택된 공정으로 전기적 에지 접속부를 제공하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 처리 장치 제조 방법.
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