KR100355644B1 - 웨이퍼 카세트 및 그 제조 방법 - Google Patents

웨이퍼 카세트 및 그 제조 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR100355644B1
KR100355644B1 KR1019960057339A KR19960057339A KR100355644B1 KR 100355644 B1 KR100355644 B1 KR 100355644B1 KR 1019960057339 A KR1019960057339 A KR 1019960057339A KR 19960057339 A KR19960057339 A KR 19960057339A KR 100355644 B1 KR100355644 B1 KR 100355644B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
wafer cassette
rear wall
cavity
gas
wafer
Prior art date
Application number
KR1019960057339A
Other languages
English (en)
Other versions
KR970030622A (ko
Inventor
게이지 고구레
Original Assignee
신에쯔 한도타이 가부시키가이샤
신에츠 포리마 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 신에쯔 한도타이 가부시키가이샤, 신에츠 포리마 가부시키가이샤 filed Critical 신에쯔 한도타이 가부시키가이샤
Publication of KR970030622A publication Critical patent/KR970030622A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100355644B1 publication Critical patent/KR100355644B1/ko

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C45/00Injection moulding, i.e. forcing the required volume of moulding material through a nozzle into a closed mould; Apparatus therefor
    • B29C45/17Component parts, details or accessories; Auxiliary operations
    • B29C45/1703Introducing an auxiliary fluid into the mould
    • B29C45/1704Introducing an auxiliary fluid into the mould the fluid being introduced into the interior of the injected material which is still in a molten state, e.g. for producing hollow articles
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/68Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C45/00Injection moulding, i.e. forcing the required volume of moulding material through a nozzle into a closed mould; Apparatus therefor
    • B29C45/17Component parts, details or accessories; Auxiliary operations
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/673Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
    • H01L21/6735Closed carriers

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Packaging Frangible Articles (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Packaging For Recording Disks (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Abstract

본 발명은 정렬되어 있는 단결정 실리콘 웨이퍼를 고정하기 위한 웨이퍼 카세트 (cassette) 의 제조를 위한 사출성형 방법에서의 개선을 제안하고 있다. 그런 웨이퍼 카세트는 보강립과 같은 몇 개의 두꺼운 벽으로된 부분을 지니고 있으며, 이것의 각각에는 웨이퍼를 장착하고 취출하기 위한 자동 기계의 정확한 배치를 위하여 위치설정홈이 설치되어 있는데, 종래 기술의 카세트에 있는 그런 두꺼운 벽으로 된 부분은 열적 수축이 가해지거나 몰딩 (molding) 에 의해 성형 함몰(molding sink) 이 발생하여 위치설정홈의 변형을 발생시켜 자동 기계의 신뢰할 수 있는 배치를 방해한다. 본 발명의 개선은 기체를 금속 몰드의 공동에 도입해서 위치설정홈 뒤에 중공을 형성함으로써 두꺼운 벽두께에 의한 열적 수축 혹은 성형 함몰을 피하는 기체-조력 방법을 수행함으로서 실행될 수 있다.

Description

웨이퍼 카세트 및 그 제조 방법
본 발명은 반도체 단결정 실리콘 웨이퍼와 같은 정밀 기판용 홀딩 카세트 (holding cassette) 와 그 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명의 방법은 반도체 실리콘 웨이퍼, 자기기록매체용 하드디스크 기판, 포토리소그라피(photolithography) 에서의 포토마스크의 용융 실리카 유리판 등과 같은 다양한 종류의 정밀 기판을 보관과 운송시에 고정하기 위한 카세트를 제조하기 위한 사출성형 방법이다. 특히, 본 발명은 자동 기계에 의해서 기판을 장착하고 취출(取出)하기에 적당한 정밀 기판을 고정하기 위한 카세트의 제조 방법을 제공한다.
통상적으로 진동 및 충격에 의한 기계적 손상과 먼지 입자가 쌓이는 것에 의한 오염으로부터 기판 재료 (이하 간단히 웨이퍼라고 언급함) 를 보호하기 위하여, 반도체 실리콘 웨이퍼와 같은 다양한 종류의 정밀 기판은 보관과 운송시에 첨부된 도면의 도 6 에 도시된 것과 같은, 박스 콘테이너 (box container) (이하 웨이퍼 캐리어로 언급함) 안에 넣어진다. 여러 부분으로 분리된 웨이퍼 캐리어의 사시도인 도 6 에 도시된 것처럼, 다수의 웨이퍼 (W) 는 인접한 웨이퍼 사이에 좁은 간격을 유지하면서 평행한 배열로 웨이퍼 카세트 (10) 상에 고정되어 있으며, 웨이퍼 (W) 를 잡고 있는 웨이퍼 카세트 (10) 는 자유롭게 떼어낼 수 있는 방식으로 웨이퍼 캐리어의 박스 바닥에 놓여져 있다. 덮개 (d) 는 박스 바닥 (b) 과 덮개 (d)의 개방된 외변에 맞는 고무 가스킷 (rubber gasket) 과 같은 탄성 밀봉 부재 (c)를 사이에 둔 박스 바닥 (b) 에 장착되어서 웨이퍼 캐리어의 밀폐 밀봉을 보장한다. 웨이퍼 (W) 혹은 웨이퍼 카세트 (10) 는 탄성적으로 웨이퍼 (W) 의 상부 외변과 접촉하는 웨이퍼 압력 부재 (e) 에 의해서 제자리에 배치된다. 웨이퍼 카세트 (10) 에 웨이퍼 (W) 를 장착하는 작업과 웨이퍼 카세트 (10) 로부터 웨이퍼 (W) 를 취출하는 작업은, 웨이퍼 (W) 에 미소 먼지 입자가 쌓이는 것을 막기 위하여, 일반적으로 부유하는 먼지 입자가 가능한 한 전혀 없는 청정실에서 수행된다.
전형적인 웨이퍼 카세트는 각각 사시도, 평면도, 정면도, 도 8 의 화살표 X-X 에 의해 지시된 방향을 따라 절단된 단면도 및 도 9 의 화살표 XI-XI 에 의해 지시된 방향으로 절단된 부분 단면도를 보여주는 도 7, 8, 9, 10 및 11 에 도시된 것처럼, 큰 직경의 반도체 실리콘 웨이퍼용이다. 웨이퍼 카세트 (10) 는 플리프로필렌 (polypropylene) 수지 (PP), 폴리카보네이트 (polycarbonate) 수지 (PC), 폴리부틸렌 테레프탈레이트 (polybutylene terephthalate) 수지 (PBT), 폴리에테르-에테르 케톤 (polyether-ether ketone) 수지 (PEEK), 펄플루오로알콕시 플루오로카본 (perfluoroalkoxy fluorocarbon) 수지 (PFA) 등과 같은 열가소성플라스틱 수지로 만들어지며 사출성형 방법에 의해 일체로 성형된다. 웨이퍼 카세트 (10)의 주부분은 4 개의 접속 브릿지 (bridge) (13, 14, 15, 16) 와 함께 일체로 연결된 한 쌍의 마주보는 원판 (11, 12) 으로 구성된다. 상기 원판 (11, 12) 에는 각각 보강을 위하여 원판의 상부 외변을 따라 있는 후벽부 (17), 원판의 하부 외변을 따라 있는 후벽부 (18), 및 상기 원판 (11 또는 12) 의 측부 외변에 가까이 있는 한 쌍의 수직 립 (19,19) 이 설치되어 있다. 브릿지 (13, 14, 15, 16) 의 각각에는 실리콘 웨이퍼 (W) 의 외변을 수용할 수 있도록 각각이 V 형의 단면을 갖는 수직으로 뻗어 있는 다수의 평행홈 (groove) (20) 이 내부로 향한 표면에 설치되어 있다. 원판 (11 또는 12) 에 있는 상부의 후벽부 (17) 에는 V 형의 단면을 갖는 위치설정홈 (17A) 이 각 끝단에 설치되어 있다. 하부의 후벽부 (18) 에도 또한 그 중심부에 V 형 단면을 갖는 수직으로 뻗어 있는 위치설정홈 (18A) 이 설치되어 있다.
상기의 웨이퍼 카세트 (10) 에서, 상기 웨이퍼들 (W) 은 각각 외변의 브릿지(13, 14, 15, 16) 내의 한 세트의 평행홈 (20) 안으로 삽입되어 그 위에서지지된다. 그리하여, 상기 웨이퍼 (W) 를 고정하는 상기 웨이퍼 카세트 (10) 는 보관과 운송시에 웨이퍼 (W) 의 안정성과 청정성을 보증하기 위하여 웨이퍼 캐리어의 바닥박스로 삽입되고, 그들 사이에 탄성 밀봉 부재 (c) 를 중간에 두고 덮개 (d) 를 장착함으로써 밀폐되도록 밀봉한다. 웨이퍼 (W) 가 장착-취출 기계의 사용에 의하여 웨이퍼 카세트 (10) 로부터 장착되고 취출될 때, 상기 기계는 그들의 배치핀(21) 중 하나의 끝을 도 11 에서 도시된 것처럼 주요한 지점으로써 작용하는 후벽부 (17, 18) 의 위치설정홈 (17A, 18A) 의 바닥과 접촉시킴으로써 적절한 위치에 고정된다.
상기 종래의 웨이퍼 카세트 (10) 는 장착-취출 기계의 작동의 신뢰성과 관련하여 해결되어야할 몇 가지 문제점을 지니고 있다. 예를 들어, 측부 원판 (11)상의 하부 후벽부 (18) 와 상부 후벽부 (17) 의 두꺼운 두께 때문에 상기 부분들은 사출성형에서 큰 열적 수축이 나타나는 것을 피할 수 없으며, 그래서 이것은 때때로 도 12 에 도시된 것처럼, 위치설정홈 (17A, 18A) 각각의 홈 표면에 정확히 V 형이 아니라 요면으로 굽어져 있는 단면을 구비하여 장착-취출 기계의 배치핀 (21)이 위치설정홈 (17A, 18A) 과 적절하게 접촉하는 것을 방해하고 결과적으로 상기 기계의 작동을 못하게 하는 경우가 있다.
후벽부 (17, 18) 의 두꺼운 두께로 인한 상기의 문제점의 해결책으로써, 도 13 에 도시된 것처럼, 사출성형에서의 금속 몰드의 한 부분 (22) 이 원판 (11) 의 내부면에 적용되어 위치설정홈 (17A, 18A) 에서의 벽의 두께를 감소시키는 방법이제안되었다. 또한 도 14 에 도시된 것처럼, 각 위치설정홈 (17A, 18A) 은 원판(11) 에 접착 결합되어 있는 M 형상의 단면을 갖는 개별 성형부재 (23) 로써 형성된다.
도 13 을 참조하여 기재된 상술된 상기 방법은 또 다른 문제점을 지니고 있는데, 그것은 금속 몰드의 부분 (22)이 언더컷을 형성하기 때문에, 금속 몰드에는 복잡한 슬라이딩 기구가 제공되어 금속 주형의 비용이 필연적으로 증가된다는 것이다. 또한, 원판 (11) 의 안쪽으로 향한 표면이 원판 (11) 성능에 본질적인 역할을 하지 않는 위치설정홈 (17A,18A) 에 공동 혹은 요면을 가져서, 웨이퍼 카세트(10) 의 세정 처리의 효율을 상당히 감소시키고 결과적으로 먼지 입자가 쌓여 웨이퍼 캐리어의 청정에 문제를 발생시킨다.
도 14 를 참조하여 기재된 상기 후자의 방법 또한 문제점을 지니고 있는데, 그것은, 말할 필요도 없듯이, 부가적인 금속 몰드가 개별 성형부재 (23) 의 성형을 위하여 준비되어야만 하고, 그런 후 개별 성형부재 (23) 는 원판 (11) 에 결합되어 그 제품의 비용은 부가적 금속 몰드를 위한 초기 투자비와 결합 작업을 위한 노동비로 인하여 상당히 증가된다.
종래 기술에서의 상술된 문제점에 관하여 완성된 본 발명의 목적은 금속 몰드 및 다른 장비를 위한 부가적인 투자와 부가적인 노동비를 필요로 하지 않는 자동 기계의 사용에 의해서 카세트로부터 웨이퍼 재료를 확실하게 장착하고 취출하기에 적당한 웨이퍼 카세트를 제조하기 위한 개선된 저렴한 방법을 제공하는 것이다.
도 1 은 실시예에서 웨이퍼 카세트의 제조를 위한 본 발명의 방법을 실행하기 위한 금속 몰드의 개략적인 단면도이다.
도 2 는 몰딩의 초기 단계에서의 도 1 에 도시된 금속 몰드의 확대 부분 단면도이다.
도 3 은 도 2 의 다음 단계에서의 동일한 금속 몰드의 확대 단면도이다.
도 4 는 도 3 의 다음 단계에서의 동일한 금속 몰드의 확대 단면도이다.
도 5 는 기계의 배치핀을 갖는 위치설정홈에서 본 발명에 따라서 제조된 웨이퍼 카세트의 확대 부분 단면도이다.
도 6 은 여러 부분으로 분리된 종래의 방법에 의해서 제조된 웨이퍼 카세트를 사용한 웨이퍼 캐리어의 사시도이다.
도 7 은 종래의 웨이퍼 카세트의 사시도이다.
도 8 은 도 7 에 도시된 웨이퍼 카세트의 평면도이다.
도 9 는 도 7 에 도시된 웨이퍼 카세트의 정면도이다.
도 10 은 도 8 의 화살표 X-X 에 의해 지시된 방향을 따라서 절단된 웨이퍼 카세트의 단면도이다.
도 11 은 도 9 의 화살표 XI-XI 에 의해 지시된 방향을 따라서 절단된 웨이퍼 카세트의 부분 단면도이다.
도 12 는 종래 기술의 웨이퍼 카세트에서의 문제점을 도시하기 위한 도 11과 비슷한 웨이퍼 카세트의 부분 단면도이다.
도 13 은 종래 기술의 웨이퍼 카세트에서의 다른 문제점을 도시하기 위한 도 11 과 비슷한 웨이퍼 카세트의 부분 단면도이다.
도 14 는 종래 기술의 웨이퍼 카세트에서의 또다른 문제점을 도시하기 위한 도 11 과 비슷한 웨이퍼 카세트의 부분 단면도이다.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *
10 : 웨이퍼 카세트 11, 12 : 원판
17, 18 : 후벽부(厚壁部) 19 : 수직 립
17A, 18A : 위치설정홈 29 : 중공의 공동
33 : 고정-측부 리테이너판 35 : 수직 가동 리테이너판
36 : 슬라이딩형 리테이너판 41 : 기체 직접 주입 모듈
본 발명은, 정렬되어 있는 다수의 웨이퍼 재료를 수용하기 위한 평행한 홈,3 mm 이상의 두께를 갖는 후벽부 및 후벽부의 각각에 형성된 위치설정홈을 갖는 웨이퍼 카세트 제조를 위한 웨이퍼 카세트용 공동을 갖는 금속 몰드에 용융 수지를 주입하는 사출성형 방법으로서, 상기 위치설정홈이 웨이퍼 카세트로부터 웨이퍼 재료를 장착하고 취출하기 위한 자동 기계의 정확한 배치에 기여하는 사출성형법을 제공하며, 상기 방법은 사출성형용 금속 몰드의 공동으로 용융 수지를 주입하는 동안 혹은 상기 금속 몰드의 공동 안에 주입된 용융 수지가 완전히 경화되기 전에, 기체를 금속 몰드의 공동 안으로 불어넣는 기체-송풍 사출성형 방법에 의해 3 mm이하의 벽 두께를 갖는 얇은 벽으로 된 중공 구조 형태의 위치설정홈과 후벽부를 성형하는 것을 특징으로 한다.
상술의 개선된 방법에서의 바람직한 실시예는 기체-송풍 사출성형에서 기체송풍은 사출성형 기계의 노즐 (nozzle) 혹은 금속 몰드에 장착된 기체-직접 주입모듈 (module) 을 통하여 금속 몰드 안으로 기체를 직접 불어넣음으로써 수행된다.
또한 본 발명은 다수의 웨이퍼 재료를 정렬하여 수용하기 위한 평행홈, 3 mm이상의 두께를 갖는 후벽부 및 후벽부 각각에 형성된 위치설정홈을 구비하며, 상기 위치설정홈은 웨이퍼 카세트로부터 웨이퍼 재료를 장착 및 취출하기 위한 자동 기계의 정확한 배치에 기여하며, 상기 위치설정홈을 갖는 상기 후벽부는 중공 구조를 갖는 개선된 웨이퍼 카세트를 제공한다.
상술된 것처럼, 본 발명에 따른 개선은 소위 기체-조력 방법 등으로 불릴 수 있는 기체-송풍 사출성형을 수행함으로써 실행된다. 기체 송풍을 위한 기체는 공기 혹은 질소와 같은 비활성 기체일 수 있다. 공지된 것처럼, 기체-조력 방법에서 금속 몰드의 공동에 기체를 도입하는 것은 사출성형 기계의 기체 노즐 혹은 금속 몰드에 장착된 기체-직접 주입모듈을 통하여 압축된 기체를 도입함으로써 수행된다. 본 발명의 방법은 이 점에 있어서는 한정되지 않는다. 또한, 본 발명의 방법은 가압된 기체의 기체 압력을 제어함으로써 혹은 기체 도입의 용적이나 송풍율을 제어함으로써 실행될 수 있는 기체 도입을 위한 제어 방법에 있어서도 한정되지 않는다.
본 발명의 방법의 바람직한 실시예에서 기체 송풍은 공동의 벽표면에 접촉되어 있는 수지층의 상당한 두께를 유지하기 위하여 공동의 벽표면과 접촉되어 있는 용융 수지의 초기 경화의 순간에 실행된다. 기체는 또한 기체-직접 주입 모듈의 사용에 의해서 두꺼운 벽으로 된 부분으로 직접 불어넣어진다.
상술된 방법에서 본 발명을 실행함으로써, 다수의 웨이퍼 재료를 정렬하여 고정하기 위한 평행홈, 후벽부 및 후벽부 각각에 형성된 위치설정홈을 구비하는 웨이퍼 카세트가 얻어지며, 상기 위치설정홈은 웨이퍼 카세트로부터 웨이퍼 재료의 장착 및 취출을 위한 자동 기계의 정확한 배치에 기여하며, 상기 후벽부와 상기 위치설정홈은 각각 중공의 구조를 갖고 있다.
용융 수지를 공동으로 주입하는 동안 혹은 용융 수지 주입이 완성된 직후이면서 공동 안에 용융 수지가 경화되기 전에 기체를 금속 몰드의 공동으로 도입하는 본 발명의 방법에 있어서, 상기 기체는 중공의 공동을 형성하기 위하여 위치설정홈을 갖는 후벽부의 성형을 위한 부분으로 선택적으로 흐르게 하여서 후벽부 혹은 위치설정홈에 중공 구조를 형성한다. 따라서, 성형된 수지의 수축이 작고, 위치설정홈이 정확한 구성을 갖도록 성형될 수 있어서, 자동 장착-취출 기계를 사용함으로써 웨이퍼 카세트로부터 웨이퍼를 장착하고 취출하는 것이 매우 부드럽고 정확하게 실행될 수 있게 된다. 또한, 웨이퍼 카세트의 세정 작업을 방해할 수도 있는 부가적인 요면이 웨이퍼 카세트에 형성될 필요가 없어서, 웨이퍼 카세트는 쉽게 먼지 없는 조건으로 유지될 수 있다. 또한, 결합 작업을 위한 많은 작업 비용을 들여 웨이퍼 카세트에 결합되어야만 하는 별도의 성형 부재의 제조를 위하여 어떤 부가적인 금속 몰드도 필요없다.
하기, 본 발명의 몇 가지의 실시예가 첨부된 도면에 의해 종 더 상세하게 설명될 것이다.
첨부된 도 1 내지 5 는 본 발명의 실시예로써 웨이퍼 카세트의 본 발명의 제조 방법의 도시를 목적으로 주어지는데, 도 1 은 상기 과정의 첫 단계에서의 본 발명의 방법을 실행하기 위한 금속 몰드의 단면도이며, 도 2, 3 및 4 는 각각 상기 과정의 연속적인 단계 중의 한 상태를 나타내는 금속 몰드의 확대 부분 단면도이며, 도 5 는 도 11 과 비슷하게 제조된 웨이퍼 카세트의 부분 단면도이다. 부가적으로, 본 발명의 방법에 의해 제조된 웨이퍼 카세트는 도 7 내지 10 에 도시된 종래의 웨이퍼 카세트와 일반적으로 동일한 구조를 갖는다.
확대 부분 단면도에 의해서 도 5 에 도시된 것처럼, 웨이퍼 카세트의 위치설정홈 (18A) 은 후에 설명될 기체-조력 성형 방법에 의해서 형성된 중공의 공동(29, 29) 을 갖는 원판 (11) 상에 종래의 웨이퍼 카세트에서 증가된 두께를 갖는 하부의 후벽부 (18) 를 형성함으로써 제공된다. 상기 설명은 또한 종래의 웨이퍼 카세트에서는 두꺼운 벽으로 형성되어 있으나 본 발명에서는 중공의 공동을 갖도륵 형성되어 있는 상부 및 측면의 두꺼운 보강 립 (17, 19) 에도 적용될 수 있다.
본 발명의 웨이퍼 카세트 (10) 는 단면도에 의해서 도 1 에 도시된 금속 몰드 어셈블리 (30)를 사용하여 성형되는데, 상기 어셈블리에서 고정-측부 장착판 (31) 은 상기 금속 몰드 어셈블리 (30) 를 성형기계의 바닥 (도시되지 않음) 에 고정하는데 기여하며, 가동 측부 장착판 (32)은 승강기구 등에 의해서 상승과 하강을 할 수 있는 방식으로 기계의 바닥에 결합된다. 고정-측부 리테이너판 (33)은 고정-측부 장착판 (31) 에 결합되며 수직 가동 리테이너판 (35) 은 스페이서(spacer) 블록 (34) 을 사이에 두고 가동 측부 장착판 (32) 에 결합되며, 수직 가동 리테이너판 (35) 은 슬라이딩 방식으로 슬라이딩 리테이너판 (36) 을 지지한다.
금속 몰드 어셈블리 (30) 가 닫히면, 고정-측부 리테이너판 (33) 은 상기 수직 가동 리테이너판 (35) 및 슬라이딩 리테이너판 (36) 과 함께 웨이퍼 카세트의 성형을 위한 공동 (도면에서 10 으로 도면부호가 붙혀짐) 을 형성하며 탕도(湯道)부시 (bush) (37) 는 공동 (10) 에 나타나도륵 설치된다. 도 1 에 있는 공동(10) 은 거꾸로 배치된 웨이퍼 카세트를 성형하기 위하여 설계되었다.
탕도 (37A) 는 외부의 용융 수지 공급기 (도면에는 도시되지 않았음) 와 소통하도록 탕도 부시 (37) 내에 형성되고 탕도 (37A) 는 또한 러너 (runner) 등(도면에는 도시되지 않았음)을 통하여 공동 (10) 과 소통한다. 관 모양의 노즐(41A) 을 갖는 기체-직접 주사 모듈 (41) 은 탕도 부시 (37) 의 외부 표면과 고정-측부 리테이너판 (33) 사이에 끼움으로써 설치된다. 튜브 노즐 (41A) 은 하부의 후벽부(18) 에 대응하는 위치 혹은 다시 말하면, 증가된 단면적을 갖는 부분이 있는 공동 (10) 의 단부에서 개방되어 있다.
기체-직접 주입 모듈 (41) 은 차례로 고정-측부 장착판 (31) 과 고정- 측부리테이너판 (33) 사이의 공간을 통과한 후, 질소 기체 등의 고압 기체원 (도시되지 않았음) 과 소통하는 기체 공급기 튜브 (38) 에 연결된다. 후에 설명되는 바와 같이, 기체-직접 주입 모듈 (41) 은 공동 (10) 으로 용융 수지를 주입하는 동안 혹은 용융 수지의 주입을 완성한 후 공동 (10) 안의 용융 수지가 경화되기 전에 관 모양의 노즐 (41A) 을 통하여 질소와 같은 기체의 일정량을 공동 (10) 으로 배출한다.
공동 (10) 의 일 부분을 형성하는 수직 가동 리테이너판 (35) 은 코어 (35A)를 지니며 슬라이딩형 리테이너판 (36) 은 코어 (36A) 를 갖는다. 상기 코어(35A,36A) 는 상기 고정-측부 리테이너판 (33) 과 함께 공동(10) 을 형성한다. 수직 가동 리테이너판 (35) 의 코어 (35A) 는 판 (42) 상에 위로 서있는 다수의 배출 핀 (39) 에 의해서 자유롭게 미끄러질 수 있는 방식으로 관통되어 있으며 각각은 구동 기구에 의해서 작동된다 (도면에는 도시되지 않음). 수직 가동 리테이너판 (35) 은 상하로 구동되며, 슬라이딩 리테이너판 (36) 은 도 1 의 오른쪽에서 왼쪽으로 왼쪽에서 오른쪽으로 구동된다.
다음은 상기 실시예의 웨이퍼 카세트의 몰딩을 위한 절차에 대한 설명이다. 우선, 도 1 에 도시된 것처럼, 공동 (10) 은 고정-측부 리테이너판 (33), 수직 가동 리테이너판 (35) 및 슬라이딩 리테이너판 (36) 을 클램핑 (clamping) 함으로써 형성되며 PFA 수지 등과 같은 용융 수지는 탕도 (37A) 를 통하여 공동 (10) 으로주입된다. 기체는 용융 수지가 주입되는 동안 혹은 용융 수지의 주입이 끝난 후 공동 (10) 안에 있는 용융 수지가 완전히 경화되기 전에 기체-직접 주입 모듈 (41)을 통하여 공동 (10) 으로 도입된다.
노즐 (41A) 을 통하여 기체-직접 주입 모듈 (41) 로부터 공동 (10) 으로 도입된 기체 (G) 는 공동 (10) 안에 있는 하부의 후벽부 (18) 의 성형을 위한 부분으로 흐르게 되며, 그곳으로부터 기체 (G) 는 점선으로 도 2, 3 및 4 에 도시된 것처럼, 측부의 수직 보강 립 (19) 과 상부 보강 립 (17) 을 성형하기 위하여 공동(10) 부분으로, 혹은 다시 말해서, 후벽부 (17, 18) 에서 위치설정홈 (17A,18A) 주위에 중공의 공동 (29) 을 형성하기 위해 상대적으로 큰 단면적을 연속적으로 갖는 부분으로 선택적으로 흐른다. 성형 함몰에 의한 결함을 피하기 위하여 예를 들어 5mm 이하 혹은 바람직하게는 3 mm 이하의 비교적 얇은 두께의 벽에 의해서 둘러싸인 중공의 공동 (29) 을 형성함으로써, 상기 냉각되어 경화된 웨이퍼 카세트(10) 는 열적 수축을 거의 겪지 않아서 위치설정홈 (17A, 18A) 이 변형되는 것을 방지한다.
본 발명의 실시예에서, 상술된 것처럼, 웨이퍼 카세트 (10) 는 기체-조력 방법을 적용하에 성형되어서 위치설정홈 (17A,18A) 이 형성되어 있는 후벽부에 중공의 공동 (29) 을 형성한다. 따라서, 웨이퍼 카세트 (10) 는 후벽부 조차도 열적 수축 혹은 성형 함몰을 발생시키지 않아서 위치설정홈 (17A,18A) 은 변형이 방지되어 정확한 형태를 유지한다. 이러한 방법으로, 도 13 에 도시된 것처럼 웨이퍼 카세트 (10) 안에 언더컷 (undercut) 이 형성되지 않아서, 사출성형은 언더컷을 위한 복잡한 설계없이 비교적으로 간단한 구조의 금속 몰드 어셈블리를 사용함으로써 수행될수 있다. 또한 본 발명은 도 14 에 도시된 것처럼, 위치설정홈을 위한 부가적인 혹은 별도의 부재를 그 다음의 결합 작업에 요구하지 않는다는 장점을 지니고 있다. 그러므로 본 발명의 방법은 낮은 비용으로 정확하게 성형된 웨이퍼 카세트를 제공할 수 있는 가능성을 제공한다.
본 발명에 대한 상술된 실시예에서, 기체-조력 방법용 기체가 웨이퍼 카세트(10) 의 하부 후벽부 (18) 에 대응하는 그것의 상부 위치에 금속 몰드 어셈블리(30) 의 공동 (10) 으로 공급될 때, 공동 (10) 의 하부 위치에 기체를 특별한 제한없이 도입하는 것은 물론 선택적인 사항이다. 본 발명의 원리의 적용은 위치설정홈 (17A,18A) 에 한정되지 않으며 자동 장착-취출 기계의 배치를 위한 개방 구멍, 돌출부 등과 같은 임의의 다른 두꺼운 벽으로된 부분에도 적용된다.
본 발명에 의하여 제조된 웨이퍼 카세트는 성형된 수지의 수축이 적고 위치설정홈이 정확한 구성을 갖도록 성형될 수 있어서, 자동 장착-취출 기계를 사용함으로써 웨이퍼 카세트로부터 웨이퍼를 장착하고 취출하는 것이 매우 부드럽고 정확하게 실행될 수 있게 된다. 또한, 웨이퍼 카세트의 세정 작업을 방해할 수도 있는 부가적인 요면이 웨이퍼 카세트에 형성될 필요가 없어서 웨이퍼 카세트는 쉽게 먼지 없는 조건으로 유지될 수 있다. 또한, 결합 작업을 위한 많은 작업 비용을 들여 웨이퍼 카세트에 결합되어야만 하는 별도의 성형 부재의 제조를 위하여 어떤 부가적인 금속 몰드도 필요없다.

Claims (10)

  1. 벽두께가 3mm 이상이며 하나 이상의 중공 공동을 각각 갖는 후벽부,
    장착/취출 기계에 정확하게 위치설정하기 위해 자동 웨이퍼 장착/취출 기계의 위치설정핀을 접촉 및 정렬시키기 위한 경사면을 가지며 후벽부 각각에 형성된 위치설정홈,
    상기 각각의 V형 위치설정홈에 형성되어 상기 각각의 후벽부보다 작은 공동벽두께를 한정하는 하나 이상의 중공 공동, 및
    다수의 웨이퍼를 정렬하여 수용하기 위한 평행홈
    을 구비하는 웨이퍼 카세트의 제조를 위하여 상기 웨이퍼 카세트용 공동을 갖는 사출성형용 금속 몰드 안으로 용융 수지를 주입하는 사출성형 방법에 있어서,
    금속 몰드의 공동으로 용융 수지를 주입하는 동안 또는 금속 몰드의 공동 안에 주입된 용융 수지가 완전히 경화되기 전에 기체를 상기 금속 몰드의 공동 안으로 불어넣는 기체-송풍 사출성형 방법에 의해서, 상기 위치설정홈을 갖는 후벽부를 얇은 벽으로 된 중공 구조 형태로 성형하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 카세트 제조를 위한 사출성형 방법.
  2. 제 1 항에 있어서, 기체-송풍 사출성형 방법에서의 기체 송풍은 금속 몰드안에 장착된 기체-직접 주입 모듈을 통하여 수행되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 카세트 제조를 위한 사출성형 방법.
  3. 다수의 웨이퍼를 정렬하여 수용하기 위한 평행홈; 및
    벽두께가 3mm 이상인 후벽부를 포함하는 웨이퍼 카세트에 있어서,
    상기 후벽부 각각은 V형 위치설정홈을 구비하고, 이 V형 위치설정홈 각각은 장착/취출 기계를 정확하게 위치시키기 위해 자동 웨이퍼 장착/취출 기계의 위치설정핀을 접촉 및 정렬시키기 위한 경사면을 갖고;
    상기 후벽부 각각은 상기 웨이퍼 카세트와 일체로 형성되며;
    상기 후벽부 각각은 상기 각각의 V형 위치설정홈에 형성된 하나 이상의 중공의 공동을 구비하여 상기 각각의 후벽부보다 얇은 공동 벽두께를 갖는 공동 벽을 한정하며, 상기 하나 이상의 중공의 공동은 상기 V형 위치설정홈 각각에 형성되어 상기 경사면이 사출 성형 수축에 의한 함몰이 없는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 카세트.
  4. 제 3 항에 있어서, 상기 중공의 공동 각각은 고립된 중공의 공동을 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 카세트.
  5. 제4항에 있어서, 상기 후벽부 각각에 있어서, 상기 하나 이상의 중공의 공동은 복수의 중공의 공동을 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 카세트.
  6. 제 5 항에 있어서, 상기 후벽부는 3 개의 V형 위치설정홈을 갖는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 카세트.
  7. 제 4 항에 있어서, 상기 후벽부는 3 개의 V형 위치설정홈을 갖는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 카세트.
  8. 제 3 항에 있어서, 상기 후벽부 각각에 있어서, 상기 하나 이상의 중공의 공동은 복수의 중공의 공동을 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 카세트.
  9. 제 8 항에 있어서, 상기 후벽부는 3 개의 V형 위치설정홈을 갖는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 카세트.
  10. 제 3 항에 있어서, 상기 후벽부는 3 개의 V형 위치설정홈을 갖는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 카세트.
KR1019960057339A 1995-11-27 1996-11-26 웨이퍼 카세트 및 그 제조 방법 KR100355644B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP95-329436 1995-11-27
JP32943695A JP3423512B2 (ja) 1995-11-27 1995-11-27 精密基板用カセットの製造方法および精密基板用カセット

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR970030622A KR970030622A (ko) 1997-06-26
KR100355644B1 true KR100355644B1 (ko) 2002-12-18

Family

ID=18221358

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019960057339A KR100355644B1 (ko) 1995-11-27 1996-11-26 웨이퍼 카세트 및 그 제조 방법

Country Status (7)

Country Link
US (1) US6019231A (ko)
EP (1) EP0775566B1 (ko)
JP (1) JP3423512B2 (ko)
KR (1) KR100355644B1 (ko)
DE (1) DE69602706T2 (ko)
MY (1) MY118754A (ko)
TW (1) TW309467B (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100843983B1 (ko) * 2006-06-19 2008-07-07 (주)에스티아이 식각기용 카세트

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW296361B (ko) * 1995-06-26 1997-01-21 Kakizaki Seisakusho Kk
JP4315548B2 (ja) 1999-11-19 2009-08-19 株式会社ブリヂストン タイヤカーカスの形成装置および形成方法
WO2006120866A1 (ja) * 2005-05-06 2006-11-16 Shin-Etsu Polymer Co., Ltd. 基板収納容器及びその製造方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63152076A (ja) * 1986-12-11 1988-06-24 フルオロウエア インコーポレーテツド デイスク保持具
EP0289230A2 (en) * 1987-04-28 1988-11-02 Cinpres Limited Method of injection moulding and mouldings produced thereby

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3480151A (en) * 1967-04-05 1969-11-25 Heraeus Schott Quarzschmelze Supporting rack of quartz
US4043451A (en) * 1976-03-18 1977-08-23 Fluoroware, Inc. Shipping container for silicone semiconductor wafers
JPS59199477A (ja) * 1983-04-25 1984-11-12 住友電気工業株式会社 ウエハ−ボツクス
US4949848A (en) * 1988-04-29 1990-08-21 Fluoroware, Inc. Wafer carrier
US5154301A (en) * 1991-09-12 1992-10-13 Fluoroware, Inc. Wafer carrier
US5545027A (en) * 1993-06-02 1996-08-13 Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. Gas-feeding device for injection molding
JPH0716882A (ja) * 1993-06-29 1995-01-20 Sharp Corp 射出成形用金型
US5484278A (en) * 1994-02-14 1996-01-16 Pebra Gmbh Paul Braun Blow-out vent valve
US5511967A (en) * 1994-02-14 1996-04-30 Pebra Gmbh Paul Braun Self-contained gas injector
JPH0826380A (ja) * 1994-05-10 1996-01-30 Toshio Ishikawa 基板用カセットにおけるサイドレール及び基板用カセット
TW296361B (ko) * 1995-06-26 1997-01-21 Kakizaki Seisakusho Kk

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63152076A (ja) * 1986-12-11 1988-06-24 フルオロウエア インコーポレーテツド デイスク保持具
EP0289230A2 (en) * 1987-04-28 1988-11-02 Cinpres Limited Method of injection moulding and mouldings produced thereby

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100843983B1 (ko) * 2006-06-19 2008-07-07 (주)에스티아이 식각기용 카세트

Also Published As

Publication number Publication date
TW309467B (ko) 1997-07-01
EP0775566A1 (en) 1997-05-28
JPH09147512A (ja) 1997-06-06
US6019231A (en) 2000-02-01
KR970030622A (ko) 1997-06-26
EP0775566B1 (en) 1999-06-02
DE69602706D1 (de) 1999-07-08
JP3423512B2 (ja) 2003-07-07
DE69602706T2 (de) 2000-01-13
MY118754A (en) 2005-01-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN100521139C (zh) 基板收纳容器及其制造方法
US6530764B2 (en) Mold for resin-sealing of semiconductor devices
KR100355644B1 (ko) 웨이퍼 카세트 및 그 제조 방법
US20040212121A1 (en) Molding die method
JP3974344B2 (ja) 精密基板収納容器及びその製造方法
US7044726B2 (en) Mold component and mold assembly
US20040117812A1 (en) Mold for manufacturing double-sided disk shaped articles for storing data
JP2002305239A (ja) 基板収納容器及びその製造方法
JP2002219737A (ja) 微細凹凸形状を有する成形品の製造方法及びそれに用いる金型装置
US6280660B1 (en) Method and apparatus for manufacturing optical recording medium
JPS6047429A (ja) 樹脂パッケ−ジの成形金型
JP3853228B2 (ja) 吸着アダプターとその製造方法
KR102342338B1 (ko) 사형주조 적층공법을 위한 중자를 갖는 주형 구조
JP3647774B2 (ja) 貼り合わせディスク製品の製法
JP2001225362A (ja) 成形金型及び成形方法
JPS6268716A (ja) 成形金型
KR20000013176A (ko) 공압을 이용한 패키지 분리핀을 포함하는 성형 금형
JPH05314546A (ja) 光デイスク基板の製造方法
JP2004029216A (ja) 光モジュールの製造方法及びその方法により製造された光モジュール
KR19980087571A (ko) 사출 전사방법 및 그 장치
JPH11254450A (ja) ディスク基板の成形用金型
JPH1187380A (ja) 半導体装置の製造方法と製造装置
JP2002326256A (ja) 光ディスク基板の製造方法及び装置
JPH06151493A (ja) テープキャリアパッケージのモールド方法とそれに用いる搬送キャリア
JPH02165643A (ja) 半導体の樹脂封止用金型

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20120907

Year of fee payment: 11

LAPS Lapse due to unpaid annual fee