JPH09147512A - 精密基板用カセットの製造方法および精密基板用カセット - Google Patents
精密基板用カセットの製造方法および精密基板用カセットInfo
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Abstract
り高い信頼性をもって自動的に行うことができる精密基
板用カセットを、金型装置等の複雑化を招くことなく安
価に製造することができる製造方法を提供する。 【解決手段】 カセット10を成形する金型装置30に
窒素ガス等のガス供給源と連絡したガス注入モジュール
41を設け、金型装置30のカセット成形用キャビティ
10内に成形用の溶融樹脂を注入中、あるいは、キャビ
ティ10内に溶融樹脂を注入した後で溶融樹脂が完全硬
化する前に、ガス注入モジュール41からガスを注入
し、カセット10の位置決め溝17a,18aが形成さ
れる厚肉のリブ17,18内に空洞29を形成するよう
に構成した。
Description
れて半導体ウェーハ、磁気ディスク用ハードディスク基
板、フォトマスク用石英ガラス板等の精密基板の保管や
運搬等に用いられる精密基板用カセットの製造方法、特
に、精密基板の取出や装着がロボット等の自動機により
機械的に行われる精密基板用カセットの製造方法に関す
る。
る精密基板の運搬や保管等には、図6に示すような構造
の容器が用いられる。同図において、10はカセットで
あり、カセット10は複数のウェーハWを整列保持して
容器本体b内に取出自在に収容される。容器本体bは上
部開口がシール部材cを介して蓋体dにより気密的に被
蓋され、容器本体b内に収容されたカセット10は蓋体
dとの間に介装された抑え部材eにより抑えられる。そ
して、このような容器においては、カセット10からの
ウェーハWの取出や装填をロボット等を有する装着・取
出装置(自動機)を用いてクリーンルーム内で行い、ウ
ェーハWに微小パーティクル等が付着することを防止し
ている。
7から図11に示すような大口径の半導体ウェーハW用
のものが知られる。このカセット10は、PP(ポリプ
ロピレン)、PC(ポリカーボネート)、PBT(ポリ
ブチレンテレフタレート)、PEEK(ポリエーテルエ
ーテルケトン)あるいはPFA(ペルフルオロ アルコ
キシフッ素樹脂)等を用いて射出成形により成形され、
一対の円板部分11,12と該円板部分11,12間に
一体に架設された4つの架橋部分13,14,15,1
6を有する。円板部分11,12にはそれぞれ、外面の
上部周縁に厚肉の上部リブ(補強厚肉部分)17が、外
面の下部周縁に厚肉の下部リブ(補強厚肉部分)18
が、外面の両側部に突条リブ(補強厚肉部分)19が形
成され、また、架橋部分13,14,15,16にはそ
れぞれ内面に断面V字状の収納溝20が形成される。そ
して、円板部分11には、上部リブ17の両側に断面V
字状の位置決め溝17aが、また、下部リブ18中央に
断面V字状の位置決め溝18aが形成される。
12間に複数のウェーハWを各架橋部分13,14,1
5,16の収納溝20に周縁を載置させて支持し、ウェ
ーハWの輸送時等においては上述したように容器本体b
内に収容されて蓋体dにより気密的に封止される。そし
て、このカセット10に装着・取出装置によりウェーハ
Wを装填する場合、また、カセット10から装着・取出
装置によりウェーハWを取り出す場合は、上述した円板
部分11の位置決め溝17a,18aを位置決め部とし
て用い、図11に示すように、これら位置決め溝17
a,18aに装着・取出装置が位置決めピン21を当接
させて位置合わせを行う。
た従来のカセット10にあっては、円板部分11のリブ
17,18が厚肉で射出成形に際しての熱収縮が大きい
ため、図12に示すように、位置決め溝17a,18a
の溝面が凹円弧面状に変形することがある。この結果、
ウェーハWの取出等に際して、装着・取出装置の位置決
めピン21が正しい位置で当接できず、装着・取出装置
によるウェーハWの取出等が不可能となることがあり、
信頼性に欠けるという問題があった。
示すように射出成形時において円板部分11に内面側か
ら金型の一部分22を突き当てて位置決め溝17a,1
8a形成部分を薄肉化、いわゆる、肉ぬすみする方法、
あるいは、図14に示すように位置決め溝17a,18
a形成部分を別個の部材23として成形して円板部分1
1に取り付ける方法が考えられる。ところが、前者の図
13の方法にあっては、金型の部分22がアンダーカッ
トとなるため金型のスライド機構等を設けなければなら
ず、金型構造が複雑化するという新たな問題を生じる。
さらに、この方法では、円板部分11の内面に本来の機
能と関係のない凹部を形成することにもなるため、使用
前等におけるカセットの洗浄に支障を来たし、ウェーハ
Wへの埃等の付着を招くという問題も生じる。
材23成形用の金型を新たに製作しなければならず、さ
らに、成形した部材23を円板部分11に組み付けなけ
ればならず、イニシャルコストの増大、工数の増大が避
けられず、製品コストも増大するという新たな問題を生
じる。この発明は、上記各問題に鑑みてなされたもの
で、精密基板の取出等がロボット等の自動機により高い
信頼性をもって自動的に行うことができる精密基板用カ
セットを、金型装置等の複雑化を招くことなく安価に製
造することができる製造方法を提供することを目的とす
る。
め、請求項1記載の発明は、複数の精密基板を整列状態
で保持する整列保持部、補強厚肉部分および該補強厚肉
部分に形成された位置決め部を有し、該位置決め部によ
り位置合わせされる自動機により前記整列保持部への精
密基板の装填と取出が行われる精密基板用カセットの製
造方法において、金型キャビティ内に成形用の溶融樹脂
を射出中、または射出終了後の溶融樹脂が完全硬化する
前に前記金型キャビティ内にガスを注入するガス注入成
形法により、前記補強厚肉部分および前記位置決め部を
中空構造に成形するように構成した。
シスト成形法等を採用することで達成され、ガスとして
空気あるいは窒素ガス等の不活性ガスが用いられる。ガ
スアシスト成形法には高圧ガスを射出成形機のノズルか
ら注入する形式と金型内に組み込んだモジュールを介し
てガスを注入する形式とが知られるが、いずれの形式も
本発明に適用することができ、その形式は任意に選択で
きる。また、ガス注入の制御方法には圧力を一定にする
方法と流量(体積)を一定にする方法とがあるが、これ
ら制御方法も任意に選択することができる。
ティ壁面に接触する溶融樹脂が硬化を開始した時に行う
ことが望ましく、この時にガスの注入を行うことで相当
の肉厚が確保される。また、ガスの注入は、注入モジュ
ールを用いて厚肉部分に直接に注入することが望まし
い。
基板を整列状態で保持する整列保持部、補強厚肉部分お
よび該補強厚肉部分に形成された位置決め部を有し、該
位置決め部により位置合わせされる自動機により前記整
列保持部への精密基板の装填と取出が行われる精密基板
用カセットにおいて、前記補強厚肉部分および前記位置
決め部を中空構造とした。
融樹脂を注入する際中、あるいは、注入後で溶融樹脂が
硬化する前に、キャビティ内へガスを注入することでガ
スが補強厚肉部分や位置決め部の形成部分に選択的に流
入して空洞を形成し、補強厚肉部分や位置決め部の中空
構造が達成される。したがって、成形の際の収縮が少な
く、位置決め部の変形も小さく、装着・取出装置による
ウェーハの取出も正確に行える。そして、洗浄の障害と
なる凹部等をカセットに新たに形成することもないため
ウェーハへの埃等の付着も防止でき、また、別部品を与
付ける等の対策も不要であるため、新たな金型の製作も
必要なく、また、組付け工数の増大も防止でき、製造コ
ストを低減することができる。
面を参照して説明する。図1から図5はこの発明の一の
実施の形態にかかる精密基板用カセットの製造方法を表
し、図1が製造工程を示す金型装置の断面図、図2、図
3および図4がその製造過程を時系列的に示す一部拡大
図、図5がカセットの部分断面図(前述した図8のB−
B矢視断面に相当)である。なお、この実施の形態にか
かるカセットは前述した図6から図10に示すカセット
と基本的な構成が同一であるため、このカセットと同一
の部分には同一の番号を付して説明を省略する。
うに、カセット10は位置決め溝18aが形成された円
板部分11の各リブ17,18,19に空洞29が形成
される。この空洞29は、後述するように、ガスアシス
ト成形法により成形される。ただし、図5は下部リブ1
8を代表して表す。なお、図示と詳細な説明は省略する
が、このカセット10は下部リブ18等の他の厚肉部分
にも空洞が形成されている。
うな金型装置30を用いてガスアシスト成形法により製
造される。図1において、31は図示しない装置基体に
固定された固定側取付板、32は装置基体に昇降機構等
によって昇降駆動可能に取り付けられた可動側取付板で
あり、固定側取付板31には固定側型板33が固定さ
れ、また、可動側取付板32にはスペ−サブロック34
を介して昇降型板35が取り付けられ、この昇降型板3
5にスライド型板36がスライド可能に支持される。
した昇降型板35およびスライド型板36とともにカセ
ット10成形用のキャビティ(便宜上、番号10を付
す)を画成し、このキャビティ10に臨んでスプル−ブ
ッシュ37が貫設される。なお、この実施の形態におけ
るキャビティ10は、カセット10を逆向きに形成する
もので、カセット10と天地が逆の同一形状を有する。
供給源と連絡したスプル−37aが形成され、このスプ
ルー37aが図示しないランナ等を介してキャビティ1
0に連通する。このスプルーブッシュ37外周と固定側
型板33との間にはノズル管41aを有するガス注入モ
ジュール41が介設され、このノズル管41aの先端が
キャビティ10内に開口する。このノズル管41aは、
キャビティ10のカセット10の厚肉部分である下部リ
ブ18を形成する部分、換言すれば、断面積が大きな部
分に開口する。
接続し、このガス管38が固定側取付板31と固定側型
板33との間を経て図外の窒素ガス等の高圧ガス供給源
と連絡される。このガス注入モジュール41は、後述す
るように、溶融樹脂のキャビティ10への射出中、ある
いは、射出終了後の溶融樹脂が硬化する前に窒素等のガ
スを噴射してノズル管41aからキャビティ10内へガ
スを注入する。
成するコア部35aを有し、また、スライド型板36も
コア36aを有し、これらコア部35aおよびコア36
aが上述した固定側型板33と共働してキャビティ10
を画成する。周知のように、昇降型板35のコア部35
aにはプレート42に立設されたエジェクトピン39が
摺動自在に貫通し、これらエジェクトピン39が図示し
ない駆動機構により駆動され、また、昇降型板35は昇
降駆動され、スライド型板36は図1中左右にスライド
駆動される。
ようにカセット10を成形する。先ず、図1に示すよう
に、固定側型板33、昇降型板35およびスライド型板
36を型閉してキャビティ10を画成し、キャビティ1
0内にスプルー37aからPFA等の溶融樹脂を注入す
る。そして、この溶融樹脂の注入開始後で注入中におい
て、あるいは、溶融樹脂の注入が終了後で溶融樹脂が完
全に硬化する前に、ガス注入モジュ−ル41からガスを
キャビティ10内に注入する。
されたガスは、ノズル孔41aを経てキャビティ10の
カセット10の厚肉の下部リブ18を形成する部分に流
入する。そして、このキャビティ10に流入したガスG
は、図2、図3および図4に点線で示すように、下部リ
ブ18の形成部分からキャビティ10のリブ19の形成
部分とリブ17の形成部分、すなわち、断面積の大きな
部分を順次選択的に流れて上部リブ17に到達し、これ
らリブ17,18等に溝17a,18aの周りで空洞2
9を形成する。したがって、この成形されたカセット1
0を冷却しても熱収縮が少なく、位置決め溝17a,1
8a等の変形が防止される。
は、カセット10をガスアシスト成形法により成形して
厚肉の位置決め溝17a,18aの形成部分に空洞29
を形成するため、熱収縮が少なく、位置決め溝17a,
18aの変形が防止できる。そして、このカセット10
は、前述した図13に示すようなアンダーカットとなる
部分が形成されることもないため、金型の構造が複雑化
することもなく、また、図14に示すように別部品を成
形して組み付ける等の処置も不要であるため、安価に製
造できる。
ィ10内へのガスの注入をキャビティ10の上部である
下部リブ18の形成部分から行うが、キャビティ10の
下部からガスを注入することも可能であり、ガスの注入
部位は任意に選択することができる。また、上述した実
施の形態では、位置決め部として溝17a,18aを例
示するが、穴や突起等を位置決め部として形成するカセ
ットにも本発明を適用することが可能である。
ば、ガスアシスト成形法によりカセットを成形して位置
決め部が形成される補強厚肉部分に空洞を形成するた
め、別個に成形した部品を組み付けて位置決め部を形成
することや肉盗み等を行うことなく、熱収縮に起因した
位置決め部の変形を防止でき、ウェーハ等の精密基板の
装填や基板の取出をロボット等を用いて正確に行うこと
ができるカセットを安価に製造することができる。
セットの製造方法を実施する金型装置の模式断面図であ
る。
を示す断面図である。
を示す断面図である。
面図である。
た容器の分解斜視図である。
と同一矢視の断面図である。
と同一矢視の断面図である。
と同一矢視の断面図である。
Claims (3)
- 【請求項1】 複数の精密基板を整列状態で保持する整
列保持部、補強厚肉部分および該補強厚肉部分に形成さ
れた位置決め部を有し、該位置決め部により位置合わせ
される自動機により前記整列保持部への精密基板の装填
と取出が行われる精密基板用カセットの製造方法におい
て、金型キャビティ内に成形用の溶融樹脂を射出中、ま
たは射出終了後の溶融樹脂が完全硬化する前に前記金型
キャビティ内にガスを注入するガス注入成形法により、
前記補強厚肉部分および前記位置決め部を中空構造に成
形することを特徴とする精密基板用カセットの製造方
法。 - 【請求項2】 前記ガス注入成形法が、金型内に射出成
形機のノズルを介して直接にガスを注入するか、また
は、金型内へ組み込んだモジュールを介して直接に注入
する請求項1記載の精密基板用カセットの製造方法。 - 【請求項3】 複数の精密基板を整列状態で保持する整
列保持部、補強厚肉部分および該補強厚肉部分に形成さ
れた位置決め部を有し、該位置決め部により位置合わせ
される自動機により前記整列保持部への精密基板の装填
と取出が行われる精密基板用カセットにおいて、前記補
強厚肉部分および前記位置決め部を中空構造としたこと
を特徴とする精密基板用カセット。
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TW (1) | TW309467B (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6623582B1 (en) | 1999-11-19 | 2003-09-23 | Bridgestone Corporation | Production of tire carcass |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TW296361B (ja) * | 1995-06-26 | 1997-01-21 | Kakizaki Seisakusho Kk | |
CN100521139C (zh) * | 2005-05-06 | 2009-07-29 | 信越聚合物株式会社 | 基板收纳容器及其制造方法 |
KR100843983B1 (ko) * | 2006-06-19 | 2008-07-07 | (주)에스티아이 | 식각기용 카세트 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3480151A (en) * | 1967-04-05 | 1969-11-25 | Heraeus Schott Quarzschmelze | Supporting rack of quartz |
US4043451A (en) * | 1976-03-18 | 1977-08-23 | Fluoroware, Inc. | Shipping container for silicone semiconductor wafers |
JPS59199477A (ja) * | 1983-04-25 | 1984-11-12 | 住友電気工業株式会社 | ウエハ−ボツクス |
US4718552A (en) * | 1986-12-11 | 1988-01-12 | Fluoroware, Inc. | Disk shipper and transfer tray |
JPH0788025B2 (ja) * | 1987-04-28 | 1995-09-27 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 偏肉補強部構造を有する合成樹脂成形品の製造法 |
US4949848A (en) * | 1988-04-29 | 1990-08-21 | Fluoroware, Inc. | Wafer carrier |
US5154301A (en) * | 1991-09-12 | 1992-10-13 | Fluoroware, Inc. | Wafer carrier |
US5545027A (en) * | 1993-06-02 | 1996-08-13 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Gas-feeding device for injection molding |
JPH0716882A (ja) * | 1993-06-29 | 1995-01-20 | Sharp Corp | 射出成形用金型 |
US5511967A (en) * | 1994-02-14 | 1996-04-30 | Pebra Gmbh Paul Braun | Self-contained gas injector |
US5484278A (en) * | 1994-02-14 | 1996-01-16 | Pebra Gmbh Paul Braun | Blow-out vent valve |
JPH0826380A (ja) * | 1994-05-10 | 1996-01-30 | Toshio Ishikawa | 基板用カセットにおけるサイドレール及び基板用カセット |
TW296361B (ja) * | 1995-06-26 | 1997-01-21 | Kakizaki Seisakusho Kk |
-
1995
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-
1998
- 1998-09-08 US US09/150,823 patent/US6019231A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6623582B1 (en) | 1999-11-19 | 2003-09-23 | Bridgestone Corporation | Production of tire carcass |
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