KR100342807B1

KR100342807B1 - 청정실, 청정 이송 방법 및 청정 이송 장치

Info

Publication number: KR100342807B1
Application number: KR1020000023050A
Authority: KR
Inventors: 미야지마도시히꼬; 오까베쯔또무
Original assignee: 사토 히로시; 티디케이가부시기가이샤
Priority date: 1999-04-30
Filing date: 2000-04-29
Publication date: 2002-07-02
Also published as: KR20010049306A; US6641349B1; TW498479B; US6796763B2; US20040035493A1

Abstract

청정실(clean box)은 그 일 면에 개구를 가진 청정실 본체(clean box body)와 개구를 폐쇄하는 리드 부재로 구성된다. 리드 부재가 청정실 본체에 장착되는 상태에서 청정실 본체와 리드 부재와의 사이가 밀봉되는 흡인 공간을 형성하기 위해 리드 부재 또는 청정실 본체의 어느 하나에 개구를 둘러싸도록 환형 홈이 형성된다. 또한, 흡입/배기 포트가 외부로부터 진공 배기/해제를 위해 설치된다.

Description

청정실, 청정 이송 방법 및 청정 이송 장치 {CLEAN BOX, CLEAN TRANSFER METHOD AND SYSTEM}

본 발명은 청정 분위기 하에서 피처리되는 반도체 제조 공정에서의 반도체 웨이퍼, 전자 부품 관련 제품, 광 디스크 또는 그와 같은 류의 다양한 물품을 이송하는 것에 관한 것으로서, 특히 어떠한 오염 물질도있지 아니하는 청정한 상태에서 다양한 처리 장치(processing devices) 사이에서 물품을 이송할 수 있도록 만드는 청정실(clean box), 청정 이송 방법(clean transfer method) 및 청정실을 사용하는 청정 이송 장치(clean transfer system)에 관한 것이다.

근래, 반도체 장치 제조 공정과 같은 고 수준의 청정 환경을 필요로하는 제조 공정에서는, 공장 전체를 청정 룸 상태로 만들지 않고 단지 제품 주변 환경만을 청정 상태 하에서 유지시키는 최소-환경(mini-environment) 또는 국부적 청정 공간(local clean space)과 같은 방법을 이용하고 있다. 단순한 상태에서, 이러한 사실은 제조 공정에서의 각각의 처리 장치의 실내 만을 청정 환경 하에서 유지시키고 그리고, 피처리되는 물품의 이송 및 증착이 청정 상태가 지켜지는 실내를 소유한 용기(청정실로 언급)를 사용하여 각각의 처리 장치(청정 장치) 사이에서 수행되는 것을 의미하는 것이다.

본 발명의 실시예를 설명하는 도1을 참고로, 일 예의 반도체 제조 공정에서의 상기 국부적 청정 공간 장치를 기술한다. 도1은 청정실(40)이 국부적 청정 공간으로서 반도체 웨이퍼 처리 장치(10)(예, 청정 장치)에 설치된 상태를 나타내는 도면이다.

반도체 웨이퍼 처리 장치(10)는 장치 본체(30)와 적재 포트(load port)(20)로 구성되며, 상기 적재 포트(20)는 장치의 외측부로부터 장치 안으로 장치 본체(30)에 의해 처리되어지는 물품인 반도체 웨이퍼를 적재하는 것이다. 도1은 직선(A)의 우측에 적재 포트 및 좌측에 장치 본체(30)를 나타내고 있다. 상기 적재 포트(20)와 장치 본체(30)는 함께 반도체 웨이퍼 처리 장치(10) 내에 국부적 청정 공간을 만드는 것이다.

상기 국부적 청정 공간 장치에서는, 다른 처리 장치 사이에서 청정 상태를 유지하면서 반도체 웨이퍼를 이송하는데, 청정이 지켜지는 실내를 가진 용기로서 청정실(clean box)을 사용하는 것이다. 도1은 저부 개방형 청정실(40)이 적재 포트(20)에 설치된 상태를 나타낸 도면이다. 청정실(40)은 적재 포트(20)상에 설치된다. 청정실(40)은 청정실 본체(41)와 리드(lid)(42)로 구성된다. 리드(42)는 하방향으로 이동되고 그리고 실내에 웨이퍼는 청정실(40)이 적재 포트(20)에 위치한 상태에서 처리 장치에 적재되도록 꺼내어진다.

종래 청정실에서는, 청정실 본체에 대한 리드의 정착이 기계적 잠금 기구(mechanical lock mechanism)에 의해 수행되었다. 예를 들면, 금속으로 제조된 가동성 클로부(claw) 그리고, 가동성 클로부가 리드의 외부 둘레로부터 미리 정해진 량으로 돌출하는 결합 위치와 가동성 클로부가 리드의 외부 둘레로부터 철수되는 결합해제 위치 사이에서 가동성 클로부를 작동시키는 로타리 캠 부재로 구성되고 리드 부재에 설치된 잠금 기구가 사용되었다. 리드가 청정실 본체에 고정되는 경우에는, 로타리 캠 부재가 회전되어서 가동성 클로부가 결합 위치로 이동되며 그리고 가동성 클로부는 상기 지점에서 청정실 본체에 형성된 구멍에 결합되어서 리드가 청정실 본체와 결합하도록 하는 것이다. 청정실의 상기 잠금 기구는, 상술된 캠 부재가 적재 포트에 청정실이 설치된 상태에서 적재 포트에 설치되는 개방/폐쇄 장치에 의한 회전을 발생하도록 작동하여서, 청정실 본체로/청정실 본체로부터 리드가 잠금/해제 동작을 수행하는 것이다.

청정실의 실내 청정이 유지되도록, 외측부에 대하여 기밀한 상태를 유지시킬 필요가 있다. 따라서, 리드와 청정실 본체 사이에 계면을 밀봉하는 O-링과 같은 밀봉 수단이 제공된다. 그런데, 종래 청정실에 사용되어져 왔던 상술된 기계적 잠금 기구는 최대로 수 뉴우톤(Newton)만의 압력을 전할 수 있어서 O-링이 충분하게 변형하지 않는다. 이러한 이유로, 먼지 또는 다른 임의적인 유기성 또는 무기성 물질이 실내로 유입되는 것을 막는다는 것이 불가능하여서 청정 공간을 유지할 수가 없다.

또한, 처리 공정 대기 기간중에 반도체 웨이퍼의 자연적 산화를 방지하기 위해서, 일부 경우에서는 청정실 내에 실내 공기가 불활성 가스 및 질소(N₂)와 같은 비-산화성 가스로 대체된다. 그런데, 종래 기계적 리드 잠금 결합 기구에서는 밀봉력이 작아서, 비-산화성 가스(non-oxidizing gas)의 대체 상태를 유지하는 것이불가능하였다.

본 발명의 목적은 기계적 잠금 기구와 대비하여 밀봉 성능이 매우 우수한 저부 이동형 청정실(bottom removal type clean box) 및 상기 청정실을 사용하는 이송 방법 및 이송 장치를 제공하는 것이다.

상기 목적에 의거, 본 발명의 제 1 태양에 따르는 청정실은 저부에 개구를 갖춘 청정실 본체와, 상기 개구를 폐쇄하는 리드 부재와, 상기 리드 부재가 상기 청정실 본체에 장착된 상태에서, 상기 청정실 본체와 리드 부재의 사이에 밀봉된 흡인 공간을 형성하도록 상기 청정실 본체 또는 상기 리드 부재의 측부들 중 적어도 하나에 상기 개구를 둘러싸도록 형성된 환형 홈과, 외부로부터 상기 환형 홈의 진공 배기/해제를 허용하는 흡입/배기 포트를 포함하는 구조를 구비한다.

상술된 환형 홈은 청정실 본체 측부 또는 리드 부재 측부 또는 그 양 측부의 어느 하나에 형성될 수 있는 것이다. 임의적인 경우에서는, 실질적으로 본 발명을 적용하기 위해서 양호하게, 플랜지 형태로 청정실 본체의 개구의 둘레를 형성하고 그리고 환형 홈은 청정실 본체의 플랜지와 대면하는 리드 부재의 일 부분에 또는 플랜지에 형성되는 것이다. O-링과 같은 밀봉 부재를 홈을 따라 제공하는 밀봉작업이 이행된다. 또한, 후술되는 본 발명의 다른 면에 따르는 청정실도 환형 홈에 대해서는 동일한 구조를 갖는 것이다.

청정실 본체로부터 이격되어 리드 부재가 낙하되는 것을 방지하는 기계적 래치(mechanical latch)가 양호하게 제공된 상기 청정실에서는, 만일 진공 흡인이 청정실의 이송 중에 임의적인 이유로 인하여 손상을 받는다 하더라도, 리드 부재의 낙하에 대한 걱정은 없는 것이다. 양호하게는, 기계적 래치는 외측부로부터 래치를 개방/폐쇄 하는 기구를 가진다.

또한, 상술된 바와 같이, 만일 반도체 웨이퍼가 공기 중에 노출되면, 산화 피막이 자연적으로 성장하게 된다. 이러한 사실은 불필요한 것이다. 이러한 현상을 방지하기 위해서, 청정실 내에 가스는 질화 또는 불활성 가스와 같은 비-산화성 가스로 대체된다. 이러한 사실에 의거, 청정실의 실내 내에 가스 대체를 목적으로 가스의 방출 또는 도입을 허용하는 밸브가 본 발명에 따르는 청정실에 제공된다.

양호하게는, 청정실의 실내에 가스를 대체하는 밸브는, 외부로 청정실에 가스를 방출하는 밸브 본체를 가진 가스 유출 밸브와, 청정실의 실내로 비-산화성 가스를 유입하는 밸브체를 가진 가스 유입 밸브로 구성된다.

본 발명에 따르는 청정실의 양호한 모드에서는, 청정실 본체의 동일한 단일측 면에, 가스 대체용 밸브(가스 유입 밸브 및 가스 유출 밸브)와 환형 홈 흡입/배기 포트가 설치된다. 따라서, 청정실에 가스 대체용의 다양한 장비 및 상술된 환형 홈의 진공 방출용으로 접근 방향이 청정실을 수용하는 반도체 웨이퍼 처리 장치와 같은 청정 장치의 적재 포트에 제공되어서, 적재 포트의 구조를 단순하게 할 수 있는 것이다. 예를 들어, 상술된 다양한 장비는 일 조작에 의해 청정실에 상기 유닛의 접근을 허용하는 단일 유닛으로 형성될 수 있는 것이다.

본 발명의 제 1 태양에 따르는 청정실이 이용된 청정 이송 장치는 이하에 기술되는 바와 같이 구성된다. 즉, 청정 이송 장치는, 저부에 개구를 갖춘 청정실본체와, 상기 개구를 폐쇄하는 리드 부재와, 상기 리드 부재가 상기 청정실 본체에 장착된 상태에서 상기 청정실 본체와 리드 부재의 사이에 밀봉된 흡인 공간을 형성하도록 상기 청정실 본체과 상기 리드 부재 중의 적어도 하나에 상기 개구를 둘러싸도록 형성된 환형 홈 및 외부로부터 상기 환형 홈의 진공 배기/해제를 허용하는 흡입/배기 포트를 포함하는 청정실과, 청정 환경하에 유지되는 실내를 갖고 청정실의 리드 부재를 개방/폐쇄하는 청정실 리드 개방/폐쇄 기구를 갖는 청정 장치의 적재 포트를 포함하고, 상기 적재 포트측에서 상기 리드 부재가 하향 대면한 채 상기 리드 부재와 상기 청정실 리드 개방/폐쇄 기구가 서로 대면하여 정렬되도록 상기 청정실이 배치되고, 상기 적재 포트는 청정실의 상기 흡입/배기 포트를 통하여 상기 흡인 공간을 진공 배기/해제하는 수단을 구비하는 것을 특징으로 한다.

청정 이송 장치의 양호한 모드에서는, 상술된 청정실에 청정실의 실내에 가스 대체를 허용하는 밸브가 설치된다.

양호하게는, 청정실의 실내에 가스를 대체하는 밸브는, 외부로 청정실에 가스를 방출하는 밸브체를 가진 가스 유출 밸브와, 청정실의 실내로 비-산화 가스를 도입하는 밸브체를 가진 가스 유입 밸브로 구성된다. 이러한 경우에 적재 포트에는, 가스 유출 밸브와 협력하는 가스 방출 장치와 가스 유입 밸브와 협력하는 가스 대체용 장비가 설치된다.

이러한 경우에, 양호하게는 가스 대체용 밸브(가스 유입 밸브 및 가스 유출 밸브)와 환형 홈 흡입/배기 포트가 청정실 본체의 동일한 단일 측면에 설치되고 그리고, 밸브와 협력하는 청정실에서 가스 대체용의 상술된 환형 홈 또는 다양한 장비의 진공 배기/해제용 수단이 단일 유닛으로 구성되어 단일 조작으로 청정실에 접근될 수 있는 것이다.

본 발명의 제 2 태양에 따르는 청정실은, 일면에 개구를 갖는 청정실 본체와, 상기 개구를 폐쇄하는 리드 부재와, 상기 리드 부재가 청정실 본체에 장착되는 상태 하에서 리브 부재와 청정실 본체의 사이에서 밀봉되는 흡인 공간을 형성하도록 청정실 본체와 리드 부재의 적어도 하나에 개구를 둘러싸도록 형성된 환형 홈과, 상기 리드 부재에 형성되고, 외부로부터 상기 환형 홈의 진공 배기/해제를 허용하는 흡입/배기 포트를 포함하는 구조를 구비한다.

따라서, 환형 홈을 진공 방출하도록 흡인 공간이 형성되게 청정실 본체와 리드 부재 사이에 환형 홈을 제공하여서, 리드 부재가 환형 홈과 외부 사이에 압력차로 청정실 본체에 강력하게 흡수되는 것이다. 따라서, 기계적 잠금 기구과 대비되는 균일하고 강력한 힘으로 리드 부재와 청정실 본체 사이에 계면을 공기 기밀하게 밀봉시킬 수 있는 것이다. 또한, 진공 배기/해제 용 환형 홈 흡입/배기 포트가 리드 부재 측에 제공되어서, 반도체 처리 장치와 같은 청정 장치의 적재 포트에 청정실을 설정할 시에, 충분하게 ,적재 포트와 청정실 사이에 정렬 배치가 리드 측에 표면 위에서만 수행되는 것이다.

이러한 청정실에서는 청정실 본체와 리드 부재 사이에 진공 흡인이 환형 홈의 흡인 공간에 공기를 외부로부터 배기하여서 생성되는 것이다. 이것은, 통로를 개방/폐쇄하는 밸브 기구과 리드 부재를 통하여 지나가는 통로가 개방되는 외부로부터 외부(외부와 대면하는 리드 부재의 면)로 환형 홈의 진공 배기/해제용 흡입/배기 포트를 구성할 수 있는 것이다. 적재 포트 측에는 밸브를 개방/폐쇄 하는 기구가 제공된다.

또한, 본 발명의 이러한 제 2 태양에 따라서, 상술된 발명의 제 1 태양에서와 동일한 방식으로, 청정실 내에 가스의 대체를 허용하는 밸브가 제공될 수 있다. 양호하게, 리드 부재에는 상기 밸브가 제공될 수 있는 것이다.

양호하게는, 상기 밸브는 청정실의 실내로 비-산화성 가스를 유입시키는 밸브를 포함하는 가스 유입 밸브와 외부로 청정실에 가스를 방출하는 밸브를 포함하는 가스 유출 밸브로 구성된다.

또한 리드 부재에도 밸브가 설치된다. 그래서, 만일 적재 포트와 청정실의 리드 측 사이에 정렬 배치만을 수행하면, 적재 포트의 측부에 밸브와 협력하는 작업을 하는 가스 대체 장치와 밸브 사이에 정렬도 달성되는 것이다. 이러한 경우에, 청정실의 실내로부터/로 가스의 유입/방출을 수행하는 기구가 청정실 리드 개방/폐쇄 기구과 일체적으로 제공될 수 있는 것이다.

청정 이송 장치가 본 발명의 제 2 태양에 따르는 청정실을 사용하여 구성되는 경우에는, 모든 다양한 적재 포트의 기구가 일 방향으로부터(예를 들어, 리드 부재의 측부로부터) 청정실에 접근할 수 있는 것이다. 이러한 경우에서는, 청정실의 가스 대체용 기구(만일 청정실이 가스 대체 밸브를 가진다면) 그리고 청정실의 리드 개방/페쇄 기구(환형 홈의 진공 배기/해제 를 수행하는 기구 구비)가, 하나의 단일 엘리베이터 기구에 양쪽에 제공되어서, 구조가 단순하게 된다. 또한, 이러한 청정실을 사용하는 청정 이송 장치에서는, 적재 포트와 청정실 리드 부재 간에 정렬 배치를 수행하는 수단이 양호하게 제공된다. 예를 들어, 청정실의 리드 부재에 핀과 결합되는 구멍 및 적재 포트에 제공된 복수 위치 설정 핀의 조합체와 같은 정렬 배치 수단을 구성할 수 있는 것이다.

본 발명에 따르는 청정 이송 방법은 본 발명에 따르는 청정실을 사용하는 것이다. 즉, 청정실은, 저부에 개구를 갖춘 청정실 본체와, 상기 개구를 폐쇄하는 리드 부재와, 상기 리드 부재가 상기 청정실 본체에 장착된 상태에서 상기 청정실 본체와 리드 부재의 사이에 밀봉된 흡인 공간을 형성하도록 상기 청정실 본체와 상기 리드 부재의 적어도 하나에 상기 개구를 둘러싸도록 형성된 환형 홈과, 외부로부터 상기 환형 홈의 진공 배기/해제를 허용하는 흡입/배기 포트를 포함하고, 청정 이송 방법은, 청정 환경 하에서 유지되는 실내를 갖고 청정실의 리드 부재를 개방/폐쇄하는 청정실 리드 개방/폐쇄 기구를 갖는 청정 장치의 적재 포트측에 상기 리드 부재가 하향 대면한 채 상기 리드 부재와 상기 청정실 리드 개방/폐쇄 기구가 서로 대면하기 위해 정렬하도록 상기 적재 포트에 환형 홈을 진공 방출하여 흡인되는 청정실을 배치하는 단계와, 상기 리드 부재를 개방하도록 적재 포트에 제공된 진공을 해제하는 기구에 의해 흡입/배기 포트를 통해 흡인 공간에서의 진공을 해제하는 단계와, 청정실 내에서 피이송 물품을 픽업하여 청정 기구로 물품을 이동시키는 단계를 포함한다.

또한, 청정 기구에서 처리되어진 이송된 물품이 청정실의 실내로 복귀된 후에, 청정실의 리드 부재가 상술된 청정실 리드 개방/폐쇄 기구에 의해 폐쇄된다. 다음, 리드 부재와 청정실 본체가 서로 흡인되도록 적재 포트에 제공된 진공 배기기구에 의해 상술된 흡입/배기 기구를 통하여 상술된 흡인 공간이 흡출된다. 양호하게는, 일 유닛에 진공 배기 기구과 진공 해제용 기구가 형성된다.

본 발명에 따르는 청정 이송 방법에서는, 청정실이 기계적 래치(machanical latch)를 가진 경우에, 청정실 리드 개방/폐쇄 기구가 흡인 공간에 진공을 해제시키기 전에 기계적 래치를 해제하는 것이다. 또한, 청정 장치에서 처리되어진 피이송 물품이 청정실의 실내로 복귀된 후에, 상술된 흡인 공간이 흡출(evacuate)되어져 리드 부재와 청정실 본체를 함께 흡인하는 것이다. 그 후, 기계적 래치가 이행된다.

상술된 청정 이송 방법에서는, 청정실이 그 실내에서 가스 대체를 허용하는 밸브를 구비하고 그리고 청정실에 가스가 비-산화성 가스로 대체되는 경우에, 청정 장치에서 처리되어진 이송된 물품이 청정실의 실내로 복귀하고, 청정실의 리드 부재가 폐쇄되고, 그리고 상술된 흡인 공간이 배기되어져 리드 부재와 청정실 본체를 함께 흡인하는 것이다. 그 후, 청정실의 실내에 가스의 대체가 밸브를 통하여 이행된다.

본 발명의 다른 태양에 따르는 청정 이송 방법에서는, 저부에 개구를 갖춘 청정실 본체와, 상기 개구를 폐쇄하는 리드 부재와, 상기 리드 부재가 상기 청정실 본체에 장착된 상태에서 상기 청정실 본체와 리드 부재의 사이에 밀봉된 흡인 공간을 형성하도록 상기 청정실 본체와 상기 리드 부재의 적어도 하나에 상기 개구를 둘러싸도록 형성된 환형 홈과, 상기 리드 부재에 형성되고 외부로부터 상기 환형 홈의 진공 배기/해제를 허용하는 흡입/배기 포트를 포함하는 청정실을 특징으로 하고, 이 청정실을 사용하는 청정 이송 방법은, 청정 환경 하에서 유지되는 실내를 갖고 청정실의 리드 부재를 개방/폐쇄하는 청정실 리드 개방/폐쇄 기구를 갖는 청정 장치의 적재 포트측에 상기 리드 부재갸 하향 대면한채 상기 리드 부재와 상기 청정실 리드 개방/폐쇄 기구가 서로 대면하여 정렬되도록 상기 적재 포트에 상기 환형 홈을 진공 방출하여 흡인되는 청정실을 배치하는 단계와, 상기 리드 부재를 개방하도록 청정실의 리드 부재에 제공된 상기 흡입/배기 포트를 통해 적재 포트에 청정실 리드 개방/폐쇄 기구에 의해 흡인 공간의 진공을 해제하는 단계와, 청정실 내에서 피이송 물품을 픽업하여 청정 장치로 물품을 이동시키는 단계를 포함한다.

또한, 이러한 청정 이송 방법에서는, 청정 기구에서 처리되어진 피이송 물품이 청정실의 실내로 복귀되고, 청정실의 리드 부재가 상술된 청정실 리드 개방/폐쇄 기구에 의해 폐쇄되고 그리고, 리드 부재와 청정실 본체가 함께 흡인되도록 상술된 흡인 공간이 상술된 흡입/배기 기구를 통하여 배기되거나 또는 흡출되는 것이다.

청정실이 기계적 래치(machanical latch)를 가진 경우에, 청정실 리드 개방/폐쇄 기구가 흡인 공간에 진공을 해제하기 전에 기계적 래치를 해제하는 것이다. 또한, 청정 기구에서 처리되어진 피이송 물품이 청정실의 실내로 복귀된 후에, 상술된 흡인 공간이 흡출되어서 리드 부재와 청정실 본체를 함께 흡인하는 것이다. 그 후, 기계적 래치가 이행된다.

또한, 이러한 청정 이송 방법에서는, 청정실이 그 실내에서 가스 대체를 허용하는 밸브를 구비하고 그리고 청정실에 가스가 비-산화성 가스로 대체되는 경우에, 청정 장치에서 처리되어진 이송된 물품이 청정실의 실내로 복귀하고, 청정실의 리드 부재가 폐쇄되고, 그리고 상술된 흡인 공간이 상술된 흡입/배기 기구를 통하여 방출되어져 리드 부재와 청정실 본체를 함께 흡인한다. 그 후, 청정실의 실내에 가스가 밸브를 통하여 대체 된다.

도1 내지 도6은 본 발명에 따르는 청정실을 사용하는 청정 장치의 제 1실시예에 따르는 반도체 처리 장치를 나타내는 도면으로서,

도1은 전체 반도체 처리 장치를 개략적으로 나타낸 도면,

도2a는 청정실이 그 위에 놓이는 적재 포트 테이블을 나타낸 측면도,

도2b는 가스 유닛이 청정실과 접하는 조작 위치에 있는 상태를 나타내는, 도2a와 유사한 측면도,

도3은 청정실의 평면도,

도4는 청정실의 각 포트 및 가스 유닛 측에 다양한 관련 기구를 나타내는 측면도,

도5는 청정실의 리드의 래치 기구의 저면도 및

도6은 적재 포트의 래치 개방/폐쇄 기구의 측면도이다.

도7 내지 도14는 본 발명에 따르는 청정실을 사용하는 청정 장치의 제 2실시예에 따른 반도체 처리 장치를 나타내는 도면으로서,

도7은 전체 반도체 처리 장치를 개략적으로 나타낸 도면,

도8은 도7의 청정실을 상세하게 나타낸 측면도,

도9는 청정실의 저부 면을 나타내는 도면,

도10은 청정실의 리드의 진공 포트와 관련 진공 기구를 부분 단면으로 하여 나타낸 측면도,

도11은 도10의 11-11선을 따라 절취된 사시도,

도12는 청정실의 리드의 가스 유입 포트와 관련 가스 공급 기구를 부분 단면으로 나타낸 측면도,

도13은 청정실의 리드의 래치 기구를 나타내는 저면도 및

도14는 적재 포트의 래치 개방/폐쇄 기구를 나타내는 측면도이다.

도면의 주요부분에 대한 부호의 설명

10, 210: 반도체 웨이퍼 처리장치 20, 220: 적재 포트(load port)

30, 230: 장치 본체 32, 232: 팬 흡입 송풍기

37, 237: 개구 40, 240: 청정실(clean box)

41, 241: 청정실 본체(clean box body) 42, 242: 리드(lid)

43, 243: 캐리어(carrier) 46, 226: 환형 홈

50: 가스 유닛 55, 56, 255, 256: 가스 포트

57, 257: 진공 포트 60, 260, 265, 279: 통로

61, 71, 261, 271: 밸브체(valve body) 67, 267: 후크 아암

70: 밸브 조립체 77: 실린더 핀

103, 104: 래치 부재(latch member) 105: 캠 핀

106, 107: 안내 부재 222: 엘리베이터

225: O-링 262: 스프링

266: 작동기(에어 실린더) 277: 실린더 핀

본 발명의 실시예를 이하에 첨부 도면을 참고로 기술한다.

도1은 본 발명의 제 1실시예에 따르는 청정실을 구비하는 반도체 제조장치의 국부적 청정 공간 장치를 개략적으로 나타낸 도면이다.

도1에서, 반도체 웨이퍼 처리 장치(10)는 처리 장치 안으로 청정실(40) 내에 반도체 웨이퍼를 적재하는 적재 포트(20)와 장치 본체(30)로 구성된다. 도1에서 선(A)은 적재 포트(20)와 장치 본체(30) 사이에 계면을 지칭한다. 일반적으로, 장치 본체(30)에 탈착식으로 장착되는 분리 장치(discrete device)로서 적재 포트(20)가 형성된다. 그런데, 상기 적재 포트는 장치 본체와 일체적으로 형성될 수 있는 것이다. 개구(37)를 통하여 장치 본체와 적재 포트 사이에 반도체 웨이퍼를 전달 및 수용하기 위하여, 도1에서 선(A)에 점선으로 나타낸 부분에 형성된 개구(37)를 통해 적재 포트와 장치 본체(30)가 연통되는 것이다.

적재 포트(20)의 공간과 장치 본체(30) 내에 공간이 상술된 개구(37)를 통하여 서로 연통하여서, 양쪽을 구비하는 전체 실내가 국부적 청정 공간을 구성하는 것이다. 공간 청정을 지키기 위해서, 필터를 가진 팬 흡입 송풍기(fan intake blower device)(32)가 반도체 웨이퍼 처리 장치(10)의 상부 부분에 제공된다. 팬흡입 송풍기(32)에 의해 장치 내에서 하류 공기 흐름이 발생하여서, 반도체 웨이퍼 처리 장치(10) 내에 공간의 청정이 지켜진다. 하류 공기 흐름은 장치의 저부로부터 외부로 방출된다.

도1에서, 본 발명에 따르는 청정실(40)은 적재 포트(20)의 정상 면의 테이블(21)에 설정된다. 청정실(40)은, 본체의 저부의 개구를 커버하는 리드(42)와 그 저부에서 개방되는 박스형태 청정실 본체(41)로 이루어진 밀봉 타입 용기 이다. 후술되는 바와 같이, 청정실(40)이 적재 포트(20)의 테이블(21)에 놓여지고 그리고 청정실(40) 내에 웨이퍼(W)가 유입되어 이동되면, 테이블(21)과 청정실 본체(41)와의 사이에 계면이 테이블(21)에 형성된 환형 홈을 사용하는 진공 흡인에 의해 밀봉되어서 외부에 대한 청정 공간이 유지되는 것이다.

청정실(40)은 다른 장치 사이에서 웨이퍼를 이송하고 웨이퍼를 일시적으로 증착하는데 사용되는 용기이다. 청정실(40)은 리드(42)에 고착된 캐리어(43)를 구비하는 것이다. 캐리어(43)는 등간격으로 평행하게 복수 웨이퍼를 수용하는 랙(rack) 타입 구조체 이다.

청정실(40)은 공장에서 오버헤드 이송(overhead transfer:OHT) 장치와 같은 이송수단으로 이송되어서, 적재 포트(20)의 테이블(21)에 설정된다. 일부 경우에서는, 청정실의 이송이 조작자에 의해 바로 수동적으로 실행될 수도있다.

도2a 및 2b 그리고 도3을 참고로 청정실(40)을 보다 상세하게 이하에 기술한다. 도2a 및 2b는 적재 포트(20)의 가스 대체 유닛(50)의 상부 부분과 적재 포트(20)에 장착된 청정실(40)을 부분적으로 단면으로 하여 나타낸 측면도이고 그리고 도3은 청정실(40)을 나타내는 상부 평면도이다.

청정실 본체(41)는 대략 사각형상으로 이루어진 용기이다. 2개 스테이지 플랜지 부분, 예를 들면 제 1플랜지 부분(41a)과 제 2플랜지 부분(41b)이 청정실 본체(41)의 둘레 주위에 주어진다. 청정실 본체(41)의 제 1플랜지 부분(41a)과 대향하는 청정실(40)의 리드(42)의 정상 면의 둘레에는 홈(46)이 설치된다. 상기 홈(46)은 청정실(40)의 제 1플랜지 부분(41a)과 대면하는 리드(42)의 둘레를 에워 싸도록 형성된 환형 홈이다. 공지된 방식으로 환형상 형태로 리드의 둘레를 에워싸도록 리드(42)에 환형 홈(46)의 내측부 및 외측부에는, 환형 홈을 밀봉하는 O-링이 장착된다.

본 발명에 따르는 청정실(40)에서는, 환형 홈(46)이 진공 배기되어서 진공 흡인에 의해 리드(42)와 청정실 본체(41)와의 사이에 계면을 공기-기밀적으로 밀봉하는 것이다. 즉, 밀봉력이 환형 홈(46) 내에 진공 압력과 외부 대기압 사이에 압력차로 보장될 수 있는 것이다. 환형 홈(46)의 진공 배기는, 청정실 본체(41)의 측면에 제공된 흡입/배기 포트인 진공 포트(57)(도3에 도시)를 통해 실행된다. 진공 배기에 대해서는 상세하게 후술된다.

설명을 명료하게 하기 위할 목적으로 명세서에 사용된 용어인 '진공 배기(vacuum exhaust)', '진공 흡인(vacuum suction)' 또는 간단하게 '진공(vacuum)'으로 사용되었지만 물론 이들 용어가 완전한 진공을 의미하는 것은 아니며 압력이 대기압 보다 낮은 상태를 의미하는 것임에 주의한다.

비-산화 가스(질소 가스, 불활성 가스 또는 그와 같은 류의 가스)에 의해 청정실의 실내에 가스를 대체하는 가스 포트(55, 56)는 청정실 본체(41)의 측 표면에 동일한 수준으로 병렬 배치된다. 그 하나가 가스를 유입시키기 위한 가스 흡입 포트(55)이고 그리고 다른 하나가 가스를 방출시키는 배기 포트(56)이다.

상기 청정실(40)은, 반도체 웨이퍼(W) 또는 그와 같은 류의 피이송 물품이 캐리어(43) 위에 놓여져, 환형 홈(46)의 흡인으로 청정실 내에서 밀봉 상태로 질소와 같은 비-산화성 청정 가스를 밀봉하는 중에 물품을 이송 저장할 수 있는 것이다.

청정실(40)이 적재 포트(20)에 설정되는 경우에는, 적재 포트(20)와 청정실(40)의 리드(42)가 서로 정렬 배치되도록 청정실(40)이 위치하게 된다. 엘리베이터(22)는 그 정상부에 위치하고 청정실(40)의 리드를 개방/폐쇄하는 기구(23)의 일부 부분이다. 엘리베이터(22)는 리드 개방/폐쇄 기구(23)와 함께 상승 및 하강할 수 있는 테이블이다. 엘리베이터(22)의 정상 면에는 청정실(40)의 리드(42)의 진공 흡인을 이행하는 기구(도시 않음)가 제공된다. 후술되는 바로서, 리드(42)는 하방향으로 개방되고, 리드(42)에 제공된 캐리어는 적재 포트(20)에 도입되고 그리고 캐리어(43)에 놓여진 웨이퍼는 반도체 처리 장치 본체로 이동된다. 상기 이송에 대해서는 상세하게 후술된다.

적재 포트 테이블(21)의 정상 면상에 미리 정해진 위치에 배치된 청정실(40)의 제 2플랜지 부분(41b)과 대면하는 지점에는 밀봉 홈(26)이 설치된다. 밀봉 홈(26)은 환형상으로 엘리베이터(22)를 둘러 싼다. O-링(25)은 밀봉 홈(26)의 밀봉성능을 유지시키기 위하여 밀봉 홈(26)의 양측부에 장착된다. 밀봉 홈(26)은 배기 수단(도시 않음)에 접속된다. 밀봉 홈(26)은 진공 배기되어, 청정실(40)이 적재 포트 테이블(22)에 설정될 시에 청정실 본체(41)(제 2플랜지 부분(41b))와 적재 포트 테이블(21)과의 사이에 계면을 밀봉하는 것이다. 반도체 웨이퍼 처리 장치(10)의 실내와 청정실(40)의 실내를 함께 구비하는 장치는 밀봉 홈(26)이 있는 밀봉에 의해 외부에 대하여 밀봉되어져, 상기 장치가 국부적 청정 공간에서 유지될 수 있게 하는 것이다.

상술된 바와 같이, 청정실의 실내에 가스 대체용의 가스 배기 포트(56)와 가스 유입 포트(55)와 환형 홈(46)의 흡입/배기 용의 진공 포트(57)가, 청정실 본체(41)의 측면에 제공된다. 다른 한편에서는, 테이블(21)(적재 포트 테이블)에, 청정실 본체(41)의 각각의 포트와 협력하는 가스 방출 기구(52), 가스 공급 기구(51) 및, 진공 배기/해제 기구(53)(이후에 '진공 기구'라 함)을 가진 가스 유닛(50)이 설치된다.

적재 포트 테이블(21)에 제공된 슬라이더 기구(29)에는 가스 유닛(50)이 설치된다. 가스 유닛(50)은, 적재 포트 테이블(21)에 청정실(40)에서 이격된 대기 위치(도2a)와 슬라이더 기구(29)에 의해 청정실(40)의 각 포트(55, 56, 57)와 접촉하는 작동 위치와의 사이에서 작동하는 것이다.

가스 유닛(50)이 작동 위치에 있으면, 청정실(40)의 가스 유출 포트(56), 가스 유입 포트(55) 및 진공 포트(57)가, 각각 가스 유닛(50)의 가스 방출 기구(52), 가스 공급 기구(51), 및 진공 기구(53)으로 밀접하게 정렬 배치되는 것이다.

진공 포트와 진공 포트(57)와 협력 동작하는 진공 기구를, 도2b의 주요 부분을 확대 도시한 도4를 참조하여 이하에 보다 상세하게 기술한다.

도4에 도시한 바와 같이, 청정실(42)의 측면에 설치된 진공 포트(57)는 환형 홈(46)의 진공 배기(또는 흡출(evacuation))를 이행하는 밸브 기구를 구비하는 것이다. 밸브 기구는 도면의 좌우 방향으로 이동 가능하게 설치된 밸브체(61)를 구비하는 것이다. 밸브체(61)는, 환형 홈(46)과 연통하는 통로(60)의 단부 개구(60a)을 폐쇄하는 폐쇄 동작 플랜지 부분(61a), 그 대향측에 배치된 결합 플랜지 부분(61c) 및, 양쪽 플랜지 부분이 서로 접속하는 원통형 축 부분(61b)으로 구성된다. 폐쇄동작 플랜지 부분(61a)의 우측에(통로(60)에 대면하는 면에 대한 반대측) 표면은 코일 스프링(62)에 의해 도4의 좌측 방향으로 편향된다. 즉, 일반적으로, 밸브 본체(61)가 통로(60)의 단부 개구(61a)을 폐쇄하여 폐쇄동작 플랜지 부분(61a)에 의해 통로(60)를 공기-기밀하게 밀봉하는 방향으로 밸브 본체(61)가 압압된다. 밀봉 성질을 지키기 위하여 O-링(63)이 개구(60a)을 둘러 싸도록 폐쇄동작 플랜지 부분(61a)은 좌측 면에 제공된다.

가스 유닛이 작동 위치로 이동되면, 가스 유닛(50)의 진공 기구(53)과 청정실(40)의 진공 포트(57)가 서로 접하여 정렬 배치된다. 진공 포트와 진공 기구(53)사이에 계면은 O-링(68)으로 밀봉된다.

적재 포트(20)에 가스 유닛(50)의 진공 기구(53)은 상술된 밸브체(61)에 의해 통로(60)의 폐쇄를 해제하는 작동기(에어 실린더)(66)를 구비하는 것이다. 작동기(66)의 원통형 부분(66a)은 도4의 좌우측 방향으로 선형적으로 이동 가능한 것이고 그리고 축을 중심으로 선회운동 가능한 것이다. 원통형 부분(66a)의 상부 부분에는 후크 아암(67)이 제공된다. 청정실(40)이 적재 포트 테이블(21)에 설정되면, 후크 아암(67)이 도4에서 실선으로 나타낸 바와 같이 리드(42)의 진공 포트(57) 안으로 도입된다.

후크 아암(67)은 작동기(66)에 의해 피봇식으로 선형적 이동되어서, 후크 아암(67)의 선단부가 축선 방향으로 도4에서 2점 쇄선으로 나타낸 바와 같이 밸브 본체(61)의 결합 플랜지 부분(61c)과 포개질 수 있는 것이다. 이러한 상태에서는, 후크 아암(67)이 우측 방향으로 이동하도록 작동기(66)가 직선 운동으로 동작하면, 후크 아암(67)이 결합 플랜지(61c)와 결합되고, 전체적으로 밸브체(61)는 스프링(62)의 팽창력에 대한 우측 방향으로 동작한다. 따라서, 페쇄동작 플랜지(61a)에 의한 통로(60)의 단부 개구(60a)의 폐쇄가 해제 되어서, 환형 홈(46)이 통로(60)를 통하여 공간(S1)과 연통하는 것이다. 이러한 상태에서는, 환형 홈(46)이 공간(S1)과 연통하는 파이프(65)를 통해 흡출할 수 있으며 또는 역으로, 가스가 진공상태 하에서 유지되어 진공을 해제하는 환형 홈(46) 안으로 도입될 수 있는 것이다.

진공 포트(57)와 진공 배기 수단의 구조는 상술된 바와 같다. 그런데, 실질적인 문제로서, 청정실(40)은 흡출되는 통로(60)와 환형 홈(46)을 가진 적재 포트(20)에 설정되는 것이다. 따라서, 밸브체(61)의 폐쇄동작 플랜지(61a)가 내부와 외부 사이에 압력차, 예를 들면 통로(60) 측에 공간과 공간(S1) 사이에 압력차에 의해, 통로(60) 측에서 강력하게 압력을 받게 된다. 그래서, 개구(60a)을 개방하도록 후크 아암(67)에 의해 밸브체(61)를 이동하기가 곤란한 것이다.

따라서, 청정실(40)의 리드가 개방되는 경우에는, 다음의 단계를 취하게 된다. 먼저, 폐쇄동작 플랜지(61a)의 내부와 외부 사이에 압력차가 없어지거나 또는 억압되도록 통로(65)를 통하여 공간(S1)이 흡출된다. 따라서, 상술된 순차적 단계에 따라서 후크 아암(67)에 의해 밸브 본체(61)(폐쇄동작 플랜지(61a))에 의한 통로(60)의 폐쇄를 해제할 수 있는 것이다. 통로(60)의 폐쇄가 해제되어진 후에, 통로(60)는 대기로 해방되거나 또는 공기가 통로(60) 안으로 도입되어서, 공간(S1), 통로(60) 및 환형 홈(46)이 대기압과 동일하게 된다. 따라서, 리드(42)와 청정실 본체(41) 사이에 진공 흡인 밀봉이 해제되어서 리드(42)를 개방할 수 있게 만드는 것이다.

역으로, 청정실 본체(41)와 리드(42)를 흡인하도록 환형 홈(46)을 진공 배기하는 공정을 이하에 기술한다. 먼저, 폐쇄동작 플랜지(61a)가 개방된 상태 하에서, 통로(65)는 진공원에 접속되어서 환형 홈(46)이 통로(60)와 공간(S1)을 통하여 흡출된다 이어서, 작동기(66)가 상술된 단계의 순서에 대하여 반대 순서로 결합 플랜지(61c)와 후크 아암(67) 간에 결합을 해제하도록 작동된다. 따라서, 밸브 본체(61)는 스프링(62)의 힘에 의해 좌측 방향으로 이동되어서 통로(60)의 개구(60a)을 폐쇄한다. 그 후, 대기로 통로(65)가 개방된다. 따라서, 통로(60)에 측부가 진공 상태 하에서 유지되고, 그리고 공간(S1)이 대기압으로 유지되어서, 폐쇄 플랜지(61)가 내부 및 외부 사이에 압력차로 통로(60)를 견고하게 폐쇄하는 것이다.

청정실(40)의 실내 내에 가스를 대체하는 기구를 도4를 참고로 이하에 기술한다.

간략하게 상술된 바와 같이, 가스 유입 포트(55)와 가스 유출 포트(56)는 청정실(40)에 대한 가스의 도입 및 방출을 위한 청정실 본체(41)의 측면에 병렬 배치된다. 적재 포트에 가스 방출 기구(52) 및 관련 가스 공급 기구(51) 및 가스 포트(55)를 이하에 보다 상세하게 기술한다. 가스 유입 포트(55)와 가스 유출 포트(56) 및, 가스 공급 기구(51)과 가스 방출 기구(52)은 각각 동일한 구조를 갖는다. 그 차이는 가스의 흐름 방향에만 있다. 여기서, 유입측에 가스 유입 포트와 가스 공급 기구(51)을 예를 들어 설명한다.

도4에 도시된 바와 같이, 가스 유입 포트(55)는 나사(78)에 의해 청정실 본체(41)에 고착된 밸브 조립체(70)를 구비한다. 밸브체(71)는 밸브 조립체(70) 내에 도4의 좌우측 방향으로 이동 가능하도록 설치된다. 밸브체(71)는 그 둘레에 배치된 2개 코일 스프링(72a, 72b)에 의해서 도4의 우측 방향으로 편향되는 것이다. 정상적으로, 이러한 편향 상태 하에서, 밸브체(71)의 단부 면(71a)의 둘레 부분은 밸브 조립체의 내면(70a)과 접촉하여서 밸브 조립체의 외부 개구(70b)을 페쇄한다. 이러한 폐쇄부의 밀봉 성질을 유지시키기 위하여 밸브체의 단부 면(71a)의 둘레 부분에는 O-링이 설치된다. 필터(73)는 밸브 조립체의, 청정실의 측부에 개구에 장착된다. 따라서, 외부로부터 청정실로 오염 물질이 유입되는 것이 방지된다.

가스 유닛(50)이 작동 상태에 위치된 상태에서, 가스 유입 포트(55)와 가스 공급 기구(51)은 서로 접하여 정렬 배치되는 것이다. 가스 유입 포트(55)와 가스 공급 기구(51) 사이에 계면은 O-링(75)에 의해서 밀봉된다.

가스 공급 기구(51)은 가스 유입 포트(55)의 밸브 조립체(70)를 개방하는 에어 실린더(76)를 가진다. 에어 실린더(76)는 공압(pneumatic pressure)에 의해서 도4의 좌우측 방향으로 이동 가능한 실린더 핀(77)을 구비한다. 실린더 핀(77)은 밸브 조립체(70)의 밸브체(71)와 정렬 배치된다.

질소 가스와 같은 비-산화성 가스가 청정실에 도입되는 경우에는, 에어 실린더가 작동되고 그리고, 실린더 핀(77)이 좌측 방향으로 이동되어서, 코일 스프링(72a, 72b)의 편향력에 대하여 밸브체(71)를 가압하여서 밸브 조립체(70)의 단부 개구(70b)을 개방한다. 다음, 가스원에 접속된 통로(79)를 통하여 가스가 공급된다.

가스 유출측에 가스 방출 기구(52)과 가스 유출 포트(56)의 구조는, 가스가 유입측에 통로(79)를 통하여 도입되는 것을 제외하고는 상술된 가스 유입 포트(55)와 가스 공급 기구(51)과 동일하며, 이러한 사실에 비해서 가스는 유출측에서 밖으로의 유출(방출)이 발생하도록 한다. 이러한 사실에 따르는 설명은 생략한다.

가스 유입 포트와 가스 유출 포트로 이루어진 밸브 조립체는 동시적으로 가스 방출 기구(52)과 가스 공급 기구(51)에 의해서 개방된 상태가 지켜지고 그리고 비-산화성 가스가 가스 공급 기구(51)의 통로로부터 공급되어서 청정실(40)의 실내에 가스가 정화되고 비-산화성 가스에 의해 대체된다.

청정실 본체(41)로부터 분리되어 리드가 낙하되는 것을 방지하기 위해서 청정실 리드(42)에 기계적 래치가 제공된다. 이러한 기구는 청정실 또는 그와 같은 장소의 이송 중에 임의적인 이유로 인하여 환형 홈(46)에 의한 리드(42)와 청정실 본체(41)와의 사이에 진공 흡인이 실패하는 장소인 경우에 리드(42)가 분리되어 낙하하는 것을 방지한다. 이러한 래치 기구는 도5를 참고로 설명된다.

상기 래치 기구는 리드(42)의 중심에 대하여 회전 가능하게 배치된 원형 로터리 캠 평판(101)을 구비하는 것이다. 로터리 캠 평판에는 2개의 캠 홈(101a, 101b)이 형성된다. 또한, 래치 기구는 슬라이드 타입 래치 부재(103, 104)를 구비한다. 래치 부재(103, 104)는 각각 안내 부재(106, 107)에 의해 안내를 받으면서 도면에서 보았을 때 상하로 활주이동 될 수 있는 것이다. 캠 핀(105, 106)은 각각 래치 부재(103, 104)에 삽입되고 그리고 캠 핀(105, 106)은 각각 로터리 캠 평판(101)의 캠 홈(101a, 101b)과 결합한다.

도5에 도시된 바와 같이, 각각의 캠 홈(101a, 101b)은 로터리 캠 평판(101)의 중심으로부터의 거리가 원주 둘레 위치에 따라서 변화하도록 형성된다. 캠 형태에 따라서, 로터리 캠 평판(101)이 도5에 도시된 위치에 배치되도록 반시계방향으로 완전하게 회전되면, 각각의 래치 부재(103, 104)가 최외측 위치에서 활주되어서, 각각의 선단부 부분(103a, 103b)이 리드(42)의 둘레로부터 돌출된다. 리드가 청정실 본체(41)에 장착되는 경우에는, 돌출된 선단부 부분(103a, 104a)이 청정실 본체(41)에 제공된 탭(도시 않음)의 내측과 포개져서 청정실 본체(42)에 리드가 걸려진다. 역으로, 로터리 캠 평판(101)이 시계방향으로 완전하게 회전되면, 래치 부재(103, 104)는 도면에서 2점 쇄선과 점선으로 나타낸 바와 같이 최내측 위치에서 활주된다. 이때, 래치 부재의 선단부(103a, 104a)는 리드의 둘레로부터 철회되어, 이들이 청정실의 탭과 협력하지 않는 상태로 유지된다.

래치 기구가 비상시에 리드로부터 분리되어 낙하되는 것을 방지하는데 간단하게 사용됨에 주목한다. 즉, 실질적인 문제로서, 리드(42)와 청정실 본체는 환형 홈(46)의 가스 방출로 서로 강력하게 흡인되고 그리고 리드는 래치 기구에 의해서 거의 유지되지 않는 것이다. 따라서, 탭과 래치 부재(103, 104) 간에 협력 동작은 비-접촉 협동 동작이다. 즉, 리드(42)가 흡인되는 상태 하에서, 선단부(103a, 104a)가 이하에서 알 수 있는 바와 같이 탭에 포개지기에 충분하다. 만일 상기 비-접촉 협력 동작이 취해지면, 상기 기구용으로 적절하게, 래치 기구가 작동될 시에 탭과 래치 부재(103, 104) 사이에 마찰적 접촉이 없으며 그리고, 오염성 입자가 발생하지 않는다.

캠 평판(101)을 구동식으로 회전하는 래치 구동부(109)는 로터리 캠 평판(101)의 중앙에 설치되고, 원주둘레 홀(101c)은 래치 구동부(109)에 형성된다.

청정실(40)이 적재 포트 테이블(21)에 미리 정해진 지점에 설정되면 상술된 래치 구동부(109)와 정렬 배치된 적재 포트(20)의 리드 개방/폐쇄 기구(23)의 엘리베이터(22)에는 래치 개방/폐쇄 기구(120)이 제공된다. 도6은 이러한 사실을 나타낸 도면이다. 래치 개방/폐쇄 기구(12)은 공기 압력으로 로터리 부재(122)를 구동식으로 회전하는 공기 작동기(121)와 축선(A)을 중심으로 회전 가능하게 있는 로터리 부재(122)를 구비한다. 2개 핀(123)은 로터리 부재의 상부 부분에서 돌출되는 것이다. 청정실(40)이 미리 정해진 위치에 설정되면, 상기 핀(123)은 래치 구동부(109)의 원주 둘레 홀(101c)과 결합한다. 이러한 상태에서, 공기 작동기가 작동되고 그리고 로터리 부재가 회전되어서 리드(42)의 래치가 결합 및 해제가 가능하도록 래치 구동부를 통하여 로터리 캠 평판(101)이 회전되는 것이다.

이하에 본원의 실시예에 따르는 청정 이송 장치에서 청정실(40)에 의한 반도체 웨이퍼 처리 장치(10)로의 전달 및 반도체 웨이퍼의 이송이 어떠하게 실행되는지를 기술한다. 본 실시예에서는 이송되어져 있는 청정실(40)의 리드가 흡인되고 환형 홈(46)의 진공 배기에 의해 청정실 본체에 대해 밀봉되며, 그리고 청정실의 실내는 대기압으로 대체로 유지되는 비-산화성 성질을 가진 대체 가스로 충진되는 것임에 주의 한다.

적재 포트의 엘리베이터에 제공된 위치설정 핀(도시 않음)과 청정실의 저부의 리드(42)에 형성된 위치설정 홀(도시 않음)이 서로 결합되도록, OHT와 같은 이송 장치 또는 인력으로 다른 장소로부터 또는 다른 처리 장치로부터 이송되어져 있는 청정실(40)이 적재 포트(20)에 설정된다.

동반되는 공정은 반도체 웨이퍼 처리 장치(10)의 컴퓨터 제어에 따라서 자동적으로 실행된다. 동반되는 공정의 각 단계에 대해서는 상술되었다.

청정실이 미리 정해진 위치에 설정되면, 청정실 본체(41)의 제 2플랜지 부분(41b)과 대면하는 적재 포트 테이블(21)의 정상 면에 환형 홈(26)이 적절한 수단(도시 않음)에 의해 흡인을 받게되어서 청정실 본체(41)와 적재 포트 테이블이 공기-기밀적으로 밀봉된다. 따라서, 반도체 웨이퍼 처리 장치(10)와 청정실(40)의 실내로 구성된 장치는 외부에 대하여 공기-기밀적으로 밀봉되어서 청정 공간으로 상기 장치를 유지하는 것이다.

동시에, 엘리베이터(22)의 정상 면에 대해 클램핑되도록 적절한 수단(도시 않음)을 사용하여 적재 포트의 엘리베이터(22)의 정상 면에 의해서 청정실리드(42)가 흡인된다. 다르게는, 리드가 기계적 수단에 의해 클램프 될 수 있는 것이다.

이어서 순차적으로, 청정실 리드(42)의 기계적 래치가 청정실 개방/폐쇄 기구(23)의 래치 개방/폐쇄 기구(120)에 의해 해방된다.

순차적으로, 적재 포트의 슬라이더 기구(29)이 작동되어서 가스 유닛(50)이 청정실의 각각의 포트와 접하는 작동 위치로 이동된다.

순차적으로, 청정실 리드(42)의 환형 홈(46)이 상술된 단계의 순서로 대기압으로 해방되거나 또는 가스가 리드(42)와 청정실 본체(41) 사이에 진공 흡인을 해제하도록 가스 유닛(50)의 진공 기구(53)에 의해 그 안으로 도입된다.

상술된 2개 공정은 청정실 본체로부터 리드(42)가 원격지게 이동시킬 수 있는 것이다.

다음, 엘리베이터(22)에 흡인되어져 있는 청정실의 리드(42)가 리드에 고착된 웨이퍼 캐리어(43)와 함께 하방향으로 이동하도록 엘리베이터(22)가 하강된다. 그 결과, 청정실(40)의 리드(42)가 개방되어 도1에 나타낸 위치로 이동된다.

여기서, 장치 본체(30)의 이송 로봇(31)이 그 선회 아암(31b)으로 적재 포트(20)와 장치 본체(30)와의 사이에 개구(37)를 통하여 캐리어(43)로부터 하나씩 웨이퍼(W)를 픽업 한다. 이송 로봇은 엘리베이터(31a)에 의해 상승 또는 하강 되는 것이다. 높이를 변경하여 캐리어(43) 내에 순서로 웨이퍼를 픽업 할 수가 있다.

선회 아암(31b)의 선회 동작과 엘리베이터(31a)의 수직 운동에 따라서, 이송로봇(31)이 캐리어로부터 픽업 되어져 있는 웨이퍼(W)를 반도체 웨이퍼 처리 장치(10)의 스테이지(35)에 놓여지게 한다.

반도체 처리 장치에 의해 스테이지(35)에서 처리되어져 있는 웨이퍼(W)가 회복되어 이송 로봇(31)에 의해 상술된 바와 반대 순서로 캐리어(43)에 놓여진다.

필요한 수의 웨이퍼(W) 또는 캐리어(43) 내에 모든 웨이퍼가 처리되어 졌으면, 적재 포트(20)의 엘리베이터(22)가 미리 정해진 최상부 위치, 예를 들면 리드(42)가 청정실 본체(41)를 다시 폐쇄하는 미리 정해진 위치까지 상승된다.

리드(42)의 환형 홈(46)은 가스 유닛의 진공 기구(53)에 의해 진공 배기되어서, 청정실 본체(41)와 리드(42) 사이에 공기-기밀 밀봉을 수행하는 것이다.

순차적으로, 리드(42)의 래치 구동부(109)가 래치 개방/폐쇄 기구(120)에의해 구동되어 래치(103, 104)를 유효하게 만든다. 래치는 청정실의 밀봉 동작 후에 이행 됨으로, 미립자가 래치 이행 시에 관련 기구의 마찰에 의해 발생되더라도, 상기 미립자가 청정실 안으로 도입될 수 없는 것이다.

순차적으로, 가스 유닛의 가스 방출 기구(52)과 가스 공급 기구(51)이 작동되어서, 청정실의 실내가 질소와 같은 비-신화성 가스로 대체된다. 반도체 처리 장치의 실내가 비-산화성 가스 환경 하에서 유지되는 경우에는, 상기 가스 대체 공정이 필요하재 않음에 주의 한다.

순차적으로, 청정실의 제 2플랜지 부분(41b)과 적재 포트 테이블(21)과의 사이에 진공 흡인과 엘리베이터(22)에 의한 리드(42)의 흡인이 해제된다. 따라서, 청정실(40)은 다음 공정 기구 또는 저장 장소로 이동된다.

상술된 실시예에서는, 리드(41)의 측부에 리드(42)와 청정실 본체(41)와의 사이에 공기-기밀 밀봉이 이행되는 환형 홈(46)이 제공된다. 물론, 청정실 본체의 측부에 리드와 대면하는 면이 있는 제 1플랜지(41a)에 제공될 수도있다.

본 발명의 제 2실시예를 이하에 기술한다.

도7은 본 발명의 청정 장치의 실시예에 따르는 청정실을 구비하는 반도체 제조 장치의 국부적 청정 공간 장치를 개략적으로 나타낸 도면이다.

도7에서, 반도체 웨이퍼 처리 장치(210)는 처리 장치(procesing device) 안으로 청정실(240) 내에 반도체 웨이퍼를 적재하는 적재 포트(220)와 장치 본체(230)로 구성된 것이다. 적재 포트(220)와 장치 본체(230) 사이에 계면은 도7에서 선(A)으로 나타내었다. 일반적으로, 장치 본체(230)에 탈착식으로 장착된 분리 장치로서 적재 포트(220)가 형성된다. 그런데, 적재 포트는 장치 본체와 일체적으로 형성될 수도있다. 장치 본체(230)는 개구(237)을 통하여 장치 본체와 적재 포트와의 사이에서 반도체 웨이퍼를 전달 및 수용하는 도7의 선(A)에 점선으로 나타낸 부분에 형성되는 개구(237)을 통하여 적재 포트(220)와 연통하는 것이다.

적재 포트(220)의 공간과 장치 본체(230) 내에 공간은 상술된 개구(237)을 통하여 서로 연통하여서 양쪽을 구비하는 장치(210)의 전체 실내를 국부적 청정 공간으로 구성하는 것이다. 청정 공간을 지키기 위해서, 필터를 가진 팬 흡입 송풍기(232)가 반도체 웨이퍼 처리 장치(210)의 상부 부분에 제공된다. 하류 공기 흐름이 팬 흡입 송풍기(232)에 의해 장치 내에서 발생되어서, 반도체 웨이퍼 처리 장치(210) 내에 공간이 청정하게 유지되는 것이다. 하류 공기 흐름은 장치의 저부로부터 외부로 방출된다.

도7에서, 본 발명에 따르는 청정실(40)이 적재 포트(220)의 정상 면의 테이블(221)에 설정된다. 청정실(240)은 본체의 저부의 개구를 커버하는 리드(242)와 그 저부에서 개방되는 박스형상 청정실 본체(241)로 구성된 밀봉 타입 용기 이다. 후술되는 바와 같이, 청정실(240)이 적재 포트(220)의 테이블(221)에 놓여지고 청정실(240) 내에 웨이퍼(W)가 유입되어 이동되면, 테이블(221)과 청정실 본체(241) 사이에 계면은 테이블(221)에 형성된 환형 홈(도8에서 도면번호 '226'으로 지칭)을 사용하는 진공 흡인에 의해 밀봉되어서, 외부에 대한 청정 공간을 유지하는 것이다.

청정실(240)은 웨이퍼의 일시적 증착(temporary deposit)과 다른 장치 사이에서의 웨이퍼의 이송을 위해 사용되는 용기 이다. 청정실(240)은 리드(242)에 고착된 캐리어(243)를 구비하는 것이다. 캐리어(243)는 등간격으로 평행하게 복수 웨이퍼를 수용하는 랙 타입 구조체 이다.

적재 포트(220)는 캐리어(243)와 함께 하방향으로 리드(242)를 이동시키고 청정실(240)의 리드(242)를 개방/폐쇄 하는 엘리베이터 타입 청정실 개방/폐쇄 기구(223)을 구비하여 캐리어 내에서 웨이퍼를 픽업할 수 있게 한다. 일층 상세하게 후술되는 바로서, 청정실 개방/폐쇄 기구(223)도가스에 의해 청정실 내에 실내를 대체하기 위한 기구도구비한다. 청정실(240)은 공장에 OHT(overhead transfer)장치과같은 이송 수단에 의해 이송되어, 적재 포트(220)의 테이블(221)에 설정된다. 일부 경우에서는, 청정실의 이송이 조작자에 의해 직접 수동식으로 실행될 수도있다.

도8 및 도9를 참고로 청정실(240)을 보다 상세하게 이하에 기술한다. 도8은 적재 포트(220)의 청정실 개방/폐쇄 기구(223)의 정상부 부분과 적재 포트(220)에 장착된 청정실(240)을 부분적으로 단면으로 하여 나타낸 측면도이고 그리고 도9는 청정실(240)의 저부 면을 나타낸 도면이다.

청정실 본체(241)는 대략 사각형상으로 이루어진 용기이다. 2개 스테이지 플랜지 부분, 예를 들면 제 1플랜지 부분(241a)과 제 2플랜지 부분(241b)이 청정실 본체(241)의 둘레 주위에 주어진다. 청정실 본체(241)의 제 1플랜지 부분(241a)과 대향하는 청정실(240)의 정상 면의 둘레에는 홈(246)이 설치된다. 상기 홈(246)은 청정실(240)의 제 1플랜지 부분(241a)과 대면하는 리드(242)의 둘레를 에워 싸도록 형성된 환형 홈(246)이다. 공지된 방식으로 환형상 형태로 리드의 둘레를 에워싸도록 리드(242)에 환형 홈(246)의 내측부 및 외측부에도, 환형 홈(246)을 밀봉하는 O-링이 장착된다.

본 발명에 따르는 청정실(240)에서는, 환형 홈(246)이 진공 배기되어서 진공 흡인에 의해 리드(242)와 청정실 본체(241)와의 사이에 계면을 공기-기밀적으로 밀봉하는 것이다. 즉, 밀봉력이 환형 홈(246) 내에 진공 압력과 외부 대기압 사이에 압력차로 보장될 수 있는 것이다. 환형 홈(246)의 진공 배기는, 리드(242)의 저부 면(예를 들면 외부 면)에 제공된 흡입/배기 포트인 진공 포트(257)(도10에 도시)를 통해 실행된다. 진공 배기에 대해서는 상세하게 후술된다.

비-산화 가스(질소 가스, 불활성 가스 또는 그와 같은 류의 가스)에 의해 청정실의 실내에 가스 대체를 위해서 리드(242)에는 가스 포트(255, 256)가 제공된다. 그 하나는 가스를 도입시키기 위한 가스 유입 포트(255)이고 그리고 다른 하나는 가스를 방출시키는 유출 포트(256)이다. 리드(242)는 부가적으로 기계적 래치(103, 104)를 구비하여서 래치를 구동시키기 위한 래치 구동부(109)와 청정실 본체(241)의 탭(110)과 협력 동작하는 청정실 본체로부터 리드가 분리되어 낙하되는 것을 방지한다. 기계적 래치와 관련된 다양한 기구는 제 1실시예와 관련하여 기술된 바와 동일하다.

상술된 청정실(240)은 캐리어(243) 위에 반도체 웨이퍼(W) 또는 그와 같은 류의 피이송 물품을 유지시키며, 환형 홈(246)의 흡인으로 청정실 내에서 밀봉 상태로 질소와 같은 비-산화성 청정 가스를 밀봉하면서 물품을 이송 저장하는 것이다.

청정실(240)과 적재 포트(220) 간에 관계에 대하여 설명한다. 도8에 도시된 바와 같이 반도체 웨이퍼 처리 장치에 청정실에 의해 이송되는 반도체 웨이퍼와 같은 피이송 물품이 적재되는 경우에는, 청정실(240)이 적재 포트(220)의 테이블(221)에 설정된다. 청정실의 리드(242)와 적재 포트의 엘리베이터(222)가 서로 정렬 배치되도록, 청정실 저부의 위치설정 홀(254a, 254b, 254c)(도9에 도시)은, 적재 포트의 청정실 개방/폐쇄 기구의 상부 부분의 엘리베이터(222)의 정상 면에 제공된 위치설정 핀(도시 않음)과 결합된다. 엘리베이터(222)는 엘리베이터 타입 청정실 개방/폐쇄 기구(223)의 최상부 면에 장착되고 그리고 도시 않은 기구에 의해 청정실 개방/폐쇄 기구(223)과 함께 상하 방향으로 이동할 수 있는 것이다.

환형 홈(226)를 밀봉하는 2개 환형상 O-링(225)과 엘리베이터(222)의 주변 둘레에 환형 홈(226)은, 배치된 상태 하에서 적재 포트 테이블(221)의 정상 면에 청정실 본체(241)의 제 2플랜지 부분(241b)과 대면하는 위치에 설치된다. 홈(226)은 적재 포트 테이블(221)과 청정실 본체(241)와의 사이에 계면을 공기-기밀하게 밀봉하도록 흡출된다. 테이블(221)과 엘리베이터(222) 사이에 계면과의 밀봉을 위해서 엘리베이터(222)에도O-링(227)이 제공된다. 이러한 사실은 청정실이 사용되지 않을 시에 외부 공간에 대한 반도체 처리 장치(210)의 내부 청정 공간을 밀봉시킬 목적으로 이행되는 것이다.

진공 배기/해제 기구(이후 '진공 기구'로 언급됨)(253)은 청정실 개방/폐쇄 기구(223)의 엘리베이터(222)에 상술된 위치 상태 하에서 리드(242)의 진공 포트(257)와 정렬되는 위치에 배치된다. 동일한 방식으로, 가스 방출 기구(252)과 가스 공급 기구(251)이 각각 가스 유출 포트(256)와 정렬되는 위치에 그리고 가스 유입 포트(255)와 정렬되는 위치에 제공된다.

도10을 참고로 하여서 리드(242)에 제공된 진공 포트(257)를 설명한다. 도10은 진공 포트 부분에 관련된 적재 포트의 청정실 개방/폐쇄 기구(223)의 측에 진공 기구(253)과 리드의 진공 포트 부분(257)을 부분 단면으로 하여서 나타낸 측면도이다. 도10에 도시된 바와 같이, 환형 홈(246)의 진공 배기를 수행하는 리드(242)의 실내에는 밸브 기구가 제공된다. 밸브 기구는 상하방향으로 이동 가능하게 설치되는 밸브 본체(261)를 구비하는 것이다. 밸브 본체(261)는, 환형 홈(246)과 연통하는 통로(260)를 폐쇄하는 폐쇄동작 플랜지 부분(261a), 그에 대향위치된 결합 플랜지 부분(261c) 및 2개 부분이 서로 접속되는 원통형 축 부분(261b)으로 구성된다. 폐쇄동작 플랜지 부분(261a)의 저부 면(통로(260)와 대면하는 면에 대향 위치된 면)이 코일 스프링(262)에 의해 상방향으로 편향된다. 즉, 밸브 본체(261)는 통로(260)를 폐쇄하는 방향으로 압력을 받게된다. 통로(260)는 폐쇄동작 플랜지 부분(261a)에 의해 공기 기밀적으로 밀봉된다. 공기-기밀 상태를 유지하기 위해서, 폐쇄동작 플랜지 부분(261a)의 정상 면에는 O-링(263)이 제공된다.

적재 포트(220)의 측에 청정실 개방/폐쇄 기구(223)에 진공 기구(253)은 상술된 밸브 본체(261)에 의한 통로(260)의 폐쇄를 해제하는 작동기(에어 실린더)(266)를 구비 한다. 작동기(266)의 원통형 부분(266a)은 공기 압력으로 상하로 선형적으로 이동되고 축을 중심으로 피봇식으로 동작될 수 있는 것이다. 원통형 부분(266a)의 상부 부분에는 후크 아암(267)이 제공된다. 청정실(240)이 적재 포트 테이블(221)에 놓여지면, 도10에서 실선으로 나타낸 바와 같이 리드(242)의 진공 포트(257) 안으로 후크 아암(267)이 도입된다. 이러한 상태에서의 후크 아암의 위치는, 도10의 V-V선으로부터 보았을때 사시도로서 나타낸 바와 같고 또한 도11에 실선으로도나타내었다.

밸브 본체(261)의 결합 플랜지 부분(261c)과 후크 아암의 단부가 축선 방향으로 서로 중첩되도록, 도10 및 도11에서 2점 쇄선과 실선으로 나타낸 위치로 후크 아암(267)이 피봇적으로 동작하도록 작동기(266)가 동작한다. 이러한 상태 하에서는, 작동기(266)가 선형 방향으로 동작되고 후크 아암(267)이 하방향으로 견인될때, 후크 아암(267)이 결합 플랜지(261c)와 결합되고 그리고 전체적으로 밸브 본체(261)가 스프링(262)의 팽창력에 대하여 하방향으로 견인된다. 따라서, 폐쇄동작 플랜지(261a)에 의한 통로(260)의 폐쇄가 해제되어서, 환형 홈(246)이 통로(260)를 통하여 공간(S1)과 연통하는 것이다. 따라서, 공간(S1)과 연통하는 통로(265)에 의한 환형 홈(246)을 흡출 가능하여서, 흡출되어져 있는 환형 홈(246) 안으로 가스를 도입하여 진공부를 역으로 해방시키는 것이다.

리드(242)에 밀봉부를 부여하고 엘리베이터(222)의 정상부 면에 진공 기구(253)을 둘러싸도록 O-링(268)을 설치함에 주의 한다.

진공 방출수단 및 진공 포트(257)의 구조는 상술된 바와 같이 이루어진 것이다. 실질적으로, 청정실의 리드(242)는 환형 홈(246)과 통로(260)가 흡출되는 상태하에서 적재 포트에 배치되는 것이다. 따라서, 밸브 본체(261)의 폐쇄동작 플랜지(261a)가 내측과 외측 사이에 압력차, 예를 들면 공간(S1)과 통로(260)의 측에 공간과의 사이에 압력차로 통로(260)에 대항하여 강력하게 밀려진다. 그래서, 후크 아암(267)에 의해 하방향으로 밸브 본체(261)를 견인하기에 곤란한 것이다.

따라서, 청정실(240)의 리드(242)가 개방되는 지점인 경우에서는 다음의 공정이 수행된다. 먼저, 폐쇄동작 플랜지(261a)의 외측과 내측 사이에 압력차가 통로(265)를 통하여 공간(S1)을 흡출하여 제거되거나 또는 억압된다. 따라서, 상술된 단계 순서로 후크 아암에 의한 밸브 본체(261)(폐쇄동작 플랜지(261a))에 의해 통로(260)의 폐쇄가 해방될 수 있는 것이다. 통로의 폐쇄가 해방되어진 후에, 통로(260)는 대기압에 놓여지거나 또는 가스가 해방통로(265)를 통하여 그 안으로 도입되어서, 공간(S1), 통로(260) 및 환형 홈(246)에 압력이 대기압과 동일하게 된다. 따라서, 청정실 본체(241)와 리드(242) 사이에 진공 흡인 밀봉이 해제되어서 리드(242)를 개방시킬 수 있는 것이다.

역으로, 환형 홈(246)을 흡출하여 청정실 본체(241)와 리드(242)를 흡인하는 공정은 다음과 같다. 먼저, 폐쇄동작 플랜지(261a)가 개방되는 상태 하에서, 통로(265)는 진공원과 접속되고 그리고 환형 홈(246)은 공간(S1)과 통로(260)를 통하여 배기되는 진공으로 있다. 이어서, 작동기(266)가 작동되어서 결합 플랜지(261c)와 후크 아암 사이에 결합이 상술된 바와 반대 단계의 순서로 해제된다. 따라서, 밸브 본체(261)가 스프링(262)의 힘에 의하여 상방향으로 이동되어서, 페쇄동작 플랜지(261a)는 통로(260)를 폐쇄한다. 그 후, 통로(265)는 대기압으로 놓여진다. 따라서, 통로(260)의 측이 진공 압력 하에서 유지되고 그리고 공간(S1)이 대기압 하에서 유지되어서, 폐쇄 플랜지(261)가 견고하게 내측과 외측 사이에 압력차로 통로(260)를 폐쇄하는 것이다.

청정실(240)에 가스를 대체하는 기구를 설명한다. 상술된 바와 같이, 가스 유출 포트(256)와 가스 유입 포트(255)가 청정실(240)에 대하여 가스를 방출 및 도입시키기 위하여 리드(242)에 부가적으로 정렬 배치된다. 적재 포트에 가스 방출 기구(252)과 관련 가스 공급 기구(251) 및 가스 포트(255, 256)를 보다 구체적으로 설명한다. 가스 유입 포트(255) 및 가스 유출 포트(256), 그리고 가스 공급 기구(251)과 가스 방출 기구(252)은 동일한 구조를 각각 가지는 것이다. 그 차이는 가스의 흐름 방향에만 있다. 여기서, 유입측에 가스 유입 포트(255)와 가스 공급 기구(251)을 간략하게 예를 들어 설명한다.

도12는 적재 포트의 청정실 개방/폐쇄 기구(223)의 관련 가스 공급 기구(251) 및 리드의 가스 유입 포트(255)를 부분 단면으로 하여 측면도로 나타낸 도면이다. 가스 유입 포트는 나사(278)로 리드(242)에 고정되는 밸브 조립체(270)를 구비하는 것이다. 밸브 본체(271)는 밸브 조립체(270) 내에서 상하로 이동가능하게 설치된다. 밸브 본체(271)는 밸브 본체(271) 둘레에 배치된 2개 코일 스프링(272a, 272b)에 의해 하방향으로 편향된다. 즉, 이러한 편향 상태 하에서는, 밸브 본체(271)의 저부 면(271a)의 둘레 부분이 밸브 조립체의 하부 개구(270b)을 폐쇄하도록 밸브 조립체의 내부 면(270a)과 접하는 것이다. 이러한 폐쇄부의 밀봉성을 지키기 위하여 밸브 본체의 하부 면(271a)의 둘레 부분에는 O-링(274)이 제공된다. 밸브 조립체의 상부 측에 개구에는 필터(273)가 장착된다. 따라서, 외부로부터 청정실로 오염 물질이 인입되는 것이 방지된다.

청정실(240)이 적재 포트 테이블(221)에 놓여 있는 상태 하에서, 가스 유입 포트(255)와 가스 공급 기구(251)이 서로 면 정렬 배치된다. 가스 공급 기구(251)은 가스 유입 포트(255)의 밸브 조립체(270)를 개방시키는 에어 실린더(276)를 구비하는 것이다. 에어 실린더(276)은 공압으로 상하 이동되는 실린더 핀(277)을 구비하는 것이다. 실린더 핀(277)은 밸브 조립체(270)의 밸브 본체(271)에 정렬 배치된다.

질소 가스와 같은 비-산화성 가스가 청정실 안으로 인입되는 경우에서는, 에어 실린더가 작동되고, 실린더 핀(277)이 코일 스프링(272a, 272b)의 편향력에 대하여 밸브 본체(271)를 밀어서 밸브 조립체(270)의 하부 부분 개구(270b)을 개방하도록 상방향으로 이동된다. 다음, 가스가 가스원에 접속된 통로(279)와 공간(S2)을 통하여 공급된다.

가스 방출 기구(252)과 가스 유출 포트(256)의 구조는, 가스가 유입측에 통로(279)를 통하여 도입되는 것을 제외하고는 가스 공급 기구(251)과 가스 유입 포트(255)의 상술된 구조와 동일하며, 여기서 가스는 유출 측에서 유동 흡출(방출)되는 것이며, 그 상세한 설명은 하지 아니 한다.

가스 유출 포트와 가스 유입 포트가 있는 밸브 조립체는 가스 방출 기구(252)과 가스 공급 기구(251)에 의해 개방된 상태가 양쪽에서 동시적으로 유지되고, 그리고 비-산화성 가스는 청정실(240)의 실내에 가스가 정화되어 비-산화 가스로 대체되도록 가스 공급 기구(251)의 통로(279)로부터 공급을 받게 된다.

청정실 본체(241)로부터 분리되어 리드(241)가 낙하되는 것을 방지하기 위하여 청정실 리드(242)에는 기계적 래치가 제공된다. 이러한 기구는 청정실의 이송 중에 임의적인 이유로 인하여 환형 홈(246)에 의해 리드(242)와 청정실 본체(241)와의 사이에 진공 흡인이 강하되는 경우에 리드(242)가 분리되어 낙하되는 것을 방지하는 것이다. 도13은 래치 기구를 나타낸 도면이며, 도14는 래치 기구를 개방/폐쇄 하기 위하여 적재 포트에 제공되는 래치 개방/폐쇄 기구를 나타내는 도면이다. 래치 기구 및 래치 개방/폐쇄 기구는 제 1실시예의 것과 동일하므로, 동일한 도면 부호를 동일 부분을 지칭하는데 사용하였으며, 그 설명은 생략한다.

본 실시예에 따르는 청정 이송 장치에 청정실(240)에 의해 반도체 웨이퍼의이송 및 반도체 웨이퍼 처리 장치(210)로의 전달이 이행되는 것을 이하에 기술한다. 본 실시예에서는, 이송되어져 있는 청정실(240)의 리드가 흡인되어 환형 홈(246)의 진공 배기로 청정실 본체에 공기-기밀하게 밀봉되며, 그리고 청정실의 실내에는 대기압으로 유지되는 비-산화성을 가진 대체 가스가 충진된다.

OHT와 같은 인력 또는 이송 장치에 의해 다른 장소로부터 또는 다른 처리 장치로부터 이송되어져 있는 청정실(240)이 적재 포트(220)에 놓여져, 적재 포트의 엘리베이터에 제공된 위치설정 핀 및 청정실의 저부의 리드(242)에 형성된 위치설정 핀(254a, 254b, 254c)이 서로 결합된다.

다음의 공정은 반도체 웨이퍼 처리 장치(210)의 컴퓨터 제어에 따라서 자동적으로 수행되며, 그 상세한 설명은 상술된 바와 같다.

청정실이 미리 정해진 위치에 설정되면, 청정실 본체(241)의 제 2플랜지 부분(241b)과 대면하는 적재 포트 테이블(221)의 정상부 면에 환형 홈(226)이 적절한 수단(도시 않음)에 의해 흡출되어서 청정실 본체(241)와 적재 포트 테이블을 공기-기밀하게 밀봉한다. 따라서, 반도체 웨이퍼 처리 장치(210)와 청정실(240)의 실내로 구성된 장치가 외측에 대항하여 공기-기밀하게 밀봉되어서 청정 공간으로서 이러한 장치를 유지하는 것이다.

동시에, 청정실 리드(242)는 엘리베이터(222)의 정상 면에 클램프 되도록 적절한 수단(도시 않음)을 사용하여 적재 포트의 엘리베이터(222)의 정상부 면에 의해 흡인(예를 들면, 진공 흡인을 통해서) 된다. 다르게는, 리드가 기계적 수단에 의해 클램프 될 수 있다.

순차적으로, 청정실 리드(242)의 기계적 래치가 청정실 개방/폐쇄 기구(223)의 래치 개방/폐쇄 기구(120)에 의해 해방된다.

순차적으로, 청정실 리드((242)의 환형 홈(246)은 상술된 단계의 순서로 대기압에 놓여지거나 또는 가스가 청정실 개방/폐쇄 기구(223)의 진공 기구(253)에 의해 그 안으로 도입되어서 청정실 본체(241)와 리드(242) 사이에 진공 흡인을 해제한다.

상술된 2개 공정이 청정실 본체로부터 이격되어서 리드(242)를 이동시킬 수 있게 하는 것이다.

다음, 엘리베이터(222)가 하강되어서 엘리베이터(222)에 흡인되어져 있는 청정실의 리드(242)가 리드에 고착되어져 있는 웨이퍼 캐리어(243)와 함께 도7에 도시된 위치로 하방향으로 이동된다 그 결과, 청정실(240)의 리드(242)가 개방되어 도7에 도시된 위치로 이동된다.

여기서, 장치 본체(230)의 이송 로봇(231)이 그 선회 아암(231b)에 의해 적재 포트(220)와 장치 본체(230)와의 사이에 개구(237)을 통하여 캐리어(230)로부터 하나씩 웨이퍼(W)를 픽업한다. 이송 로봇은 엘리베이터(231a)에 의해 상승 또는 하강될 수 있는 것이다. 높이를 변경하여서 캐리어(243) 내에서 순차적으로 웨이퍼를 픽업할 수 있는 것이다.

선회 아암(231b)의 선회 동작과 엘리베이터(231a)의 수직 이동에 따라서, 이송 로봇(231)은 캐리어로부터 픽업되어져 있는 웨이퍼(W)를 반도체 웨이퍼 처리 장치(210)의 스테이지(235)에 놓여지도록 한다.

반도체 처리 장치에 의해 스테이지(235)에서 처리되어져 있는 웨이퍼(W)가 복귀하여서 이송 로봇(231)에 의해 상술된 바와 같은 순서로 대향측에 캐리어(243)에 놓여진다.

캐리어(243) 내에 웨이퍼 모두 또는 필요한 수의 웨이퍼(W)가 소유되어져 있으면, 적재 포트(220)의 엘리베이터(222)가 미리 정해진 최상측 위치, 예를 들면 청정실 본체(241)를 리드(242)가 다시 폐쇄하는 미리 정해진 위치까지 상승된다.

리드(242)의 환형 홈(246)은 적재 포트의 진공 기구(253)에 의해 배기되는 진공으로 청정실 본체(241)와 리드(242)와의 사이에 공기-기밀 밀봉을 수행한다.

순차적으로, 리드(242)의 래치 구동부(109)가 래치 개방/폐쇄 기구(120)에 의해 구동되어서 유효하게 리드의 래치(103, 104)를 만든다. 청정실을 밀봉 작업된 후에 래치가 이행됨으로, 미립자가 래치 이행시에 관련 기구과의 마찰로 발생되더라도, 미립자는 청정실 내로 도입되지 않는다.

순차적으로, 적재 포트의 가스 방출 기구(252)과 가스 공급 기구(251)이 작동되어서 청정실의 실내가 질소와 같은 비-산화성 가스로 대체되는 것이다. 반도체 처리 장치의 실내가 비-산화성 가스 공기 하에서 유지되는 경우에는, 이러한 가스 변환 공정이 필요하지 않음에 주의 한다.

순차적으로, 청정실의 제 2플랜지 부분(241b)과 적재 포트 테이블(221)과의 사이에 진공 흡인과 엘리베이터(222)에 의한 리드(242)의 흡인이 해방된다. 따라서, 청정실(240)이 다음 처리 장치 또는 저장 장소로 이동될 수 있는 것이다.

상술된 실시예에서는 리드(241)의 측에 리드(242)와 청정실 본체(241) 사이에 공기-기밀 밀봉을 수행하는 환형 홈(246)이 설치된다. 물론, 청정실 본체의 측에 리드와 대면하는 면이 있는 제 1플랜지(241a)에 제공할 수도있다. 이러한 경우에 리드 측에, 청정실에 리드가 장착된 상태 하에서 청정실 본체의 측에 환형 홈과 연통하는 통로(260)가 제공되기에 충분하다.

제 1실시예와 제 2실시예에 따르는 상술된 청정실에서는, 리드의 진공 흡인에 의해 기계적 록크보다 더 큰 수 십배의 밀봉힘을 획득할 수 있는 것이다. 이건 발명자는 본 발명에 따르는 청정실을 사용하여 시험을 이행하였다. 여기서, 질소 가스로 대체된 실내를 가진 청정실에서 산소 농도는 167시간에 1,000ppm 으로 유지되어짐을 발견하였다. 따라서, 웨이퍼의 산화막의 증가를 완전하게 억압할 수 있는 것이다.

또한, 미립자 오염물이 효과적으로 억압되어짐도발견하였다.

반도체 제조 공정에서 반도체 웨이퍼 처리 장치와 관련하여 본 발명에 따르는 청정실 및 청정이송 방법에 대해서는 상술되었다. 그러나 본 발명은 그에 한정되는 것은 아니며, 청정 환경에 이송되는 다양한 종류의 물품의 다른 이송에도적용할 수 있는 것이다.

본 발명에 따르는 청정실에서는, 환형 홈이 청정실 본체와 리드 부재의 하나에서 개방되는 청정실을 둘러싸도록 형성되고 그리고 리드 부재가 진공 흡인을 수행하도록 흡출되어서, 종래 기계적 록크의 밀봉힘 보다 수십배 더 큰 밀봉힘을 획득할 수 있는 것이다. 청정실의 실내가 비-산화성 가스에 의해 대체되는 경우에는, 가스 누설이 없으며 장기간 용으로 유효한 밀봉을 획득할 수 있는 것이다. 또한, 미립자가 유입되는 것을 효과적으로 방지할 수도있는 것이다.

또한, 흡인용의 환형 홈용 흡입/배기 포트가 본 발명의 제 2 태양에 따르는 리드 부재에 제공됨으로, 청정실의 리드 부재가 청정 장치의 적재 포트에 의해 개방 폐쇄되는 경우에, 일 방향으로만, 예를 들면 리드를 향하는 방향으로 청정 장치를 접근하기에 충분한 것이다. 이러한 사실은 장치 구성을 편리하게 하는 것이다. 또한, 청정실이 적재 포트에 배치되는 경우에는 청정실의 일 면만을 위하여 위치 설정하기에 충분하여서 매우 단순하고 편리하게 이루어지는 것이다.

더우기, 본 발명의 일 실시예에 따르는 청정실로서, 청정실의 실내에 가스를 대체하기 위하여 가스를 도입 또는 방출을 허용하는 밸브 수단이 리드 부재에 주어진다. 또한 밸브 수단은 리드 부재에 제공되어서, 밸브로의 접근이 적재 포트 측으로부터 리드 측에만 수행될 수 있도록 리드 부재에 제공된다. 충분하게, 청정실의 위치설정 및 정렬배치는 상술된 바와 동일한 방식으로 일 면에서만 수행된다.

또한, 본 발명에 따르는 청정실로서, 흡입/배기 포트 또는 밸브 수단이 리드 부재의 측부에 제공되어서, 청정실 본체 본체의 측부에 구조가 간단하게 되는 것이다. 즉, 청정실 본체의 측부가 일체적으로 형성되어 청정실이 거의 손상을 받지 아니 하는 것이다.

Claims

저부에 개구를 갖춘 청정실 본체와,

상기 개구를 폐쇄하는 리드 부재와,

상기 리드 부재가 상기 청정실 본체에 장착된 상태에서, 상기 청정실 본체와 리드 부재의 사이에 밀봉된 흡인 공간을 형성하도록 상기 청정실 본체 또는 상기 리드 부재 중 적어도 하나의 측부에 상기 개구를 둘러싸도록 형성된 환형 홈과,

외부로부터 상기 환형 홈의 진공 배기/해제를 허용하는 흡입/배기 포트를 포함하는 것을 특징으로 하는 청정실.
제1항에 있어서, 청정실의 실내에 가스 대체를 위해 가스의 유입 및 방출을 허용하는 리드 부재에 제공된 밸브를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 청정실.
제1항에 있어서, 상기 청정실 본체로부터 이격되어 상기 리드 부재가 상기 청정실 본체로부터 낙하되는 것을 방지하는 기계적 래치를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 청정실.
제3항에 있어서, 상기 기계적 래치는 상기 리드 부재 측에서 외부로부터 래치를 개방/폐쇄하는 기구를 구비하는 것을 특징으로 하는 청정실.
제2항에 있어서, 상기 흡입/배기 포트와 상기 밸브는 청정실 본체의 동일 측 면에 함께 제공되는 것을 특징으로 하는 청정실.
저부에 개구를 갖춘 청정실 본체와, 상기 개구를 폐쇄하는 리드 부재와, 상기 리드 부재가 상기 청정실 본체에 장착된 상태에서 상기 청정실 본체와 리드 부재의 사이에 밀봉된 흡인 공간을 형성하도록 상기 청정실 본체와 상기 리드 부재의 적어도 하나에 상기 개구를 둘러싸도록 형성된 환형 홈과, 외부로부터 상기 환형 홈의 진공 배기/해제를 허용하는 흡입/배기 포트를 포함하는 청정실을 사용하는 청정 이송 방법은,

청정 환경 하에서 유지되는 실내를 갖고 청정실의 리드 부재를 개방/폐쇄하는 청정실 리드 개방/폐쇄 기구를 갖는 청정 장치의 적재 포트측에 상기 리드 부재가 하향 대면한 채 상기 리드 부재와 상기 청정실 리드 개방/폐쇄 기구가 서로 대면하여 정렬하도록 상기 적재 포트에 환형 홈을 진공 방출하여 흡인되는 청정실을 배치하는 단계와;

상기 리드 부재를 개방하도록 적재 포트에 제공된 진공을 해제하는 기구에 의해 흡입/배기 포트를 통해 흡인 공간에서의 진공을 해제하는 단계 및;

청정실 내에서 피이송 물품을 픽업하여 청정 장치로 물품을 이동시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 청정 이송 방법.
제6항에 있어서, 청정 장치에서 처리를 받게되는 피이송 물품이 청정실에 재복귀된 후에, 상기 청정실 리드 개방/폐쇄 기구에 의해 상기 청정실의 리드 부재를 폐쇄하는 단계와,

리드 부재와 청정실 본체를 함께 흡인하도록 적재 포트에 제공된 가스 배기 기구를 통하여 흡인 공간을 흡출하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 청정 이송 방법.
제6항에 있어서, 상기 청정실은 청정실 실내에서 가스가 대체되도록 밸브를 구비하고, 상기 방법은, 청정 장치에서 처리를 받게되는 피이송 물품을 청정실로 재복귀하는 단계와, 청정실의 리드 부재를 폐쇄하는 단계와, 상기 리드 부재와 청정실 본체를 함께 흡인하도록 상기 가스 방출 기구를 통하여 흡인 공간이 흡출된 후에 밸브를 통하여 청정실의 실내의 공간에서 가스의 대체를 수행하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 청정 이송 방법.
제6항에 있어서, 상기 청정실은 상기 청정실 본체로부터 이격하여 리드 부재가 낙하하는 것을 방지하는 기계적 래치를 구비하고, 상기 청정실 리드 개방/폐쇄 기구는 흡인 공간의 진공 해제 전에 상기 기계적 래치를 해제하는 것을 특징으로 하는 청정 이송 방법.
제9항에 있어서, 상기 기계적 래치는, 청정 장치에서 처리를 받게되는 피이송 물품이 청정실에 재복귀된 후에, 리드 부재와 청정실 본체가 함께 흡인되도록흡인 공간이 흡출된 후에 이행되는 것을 특징으로 하는 청정 이송 방법.
저부에 개구를 갖춘 청정실 본체와, 상기 개구를 폐쇄하는 리드 부재와, 상기 리드 부재가 상기 청정실 본체에 장착된 상태에서 상기 청정실 본체와 리드 부재의 사이에 밀봉된 흡인 공간을 형성하도록 상기 청정실 본체과 상기 리드 부재 중의 적어도 하나에 상기 개구를 둘러싸도록 형성된 환형 홈 및 외부로부터 상기 환형 홈의 진공 배기/해제를 허용하는 흡입/배기 포트를 포함하는 청정실과,

청정 환경하에 유지되는 실내를 갖고 청정실의 리드 부재를 개방/폐쇄하는 청정실 리드 개방/폐쇄 기구를 갖는 청정 장치의 적재 포트를 포함하고,

상기 적재 포트측에서 상기 리드 부재가 하향한 채 상기 리드 부재와 상기 청정실 리드 개방/폐쇄 기구가 서로 대면하여 정렬되도록 상기 청정실이 배치되고,

상기 적재 포트는 청정실의 상기 흡입/배기 포트를 통하여 상기 흡인 공간을 진공 배기/해제하는 장치를 구비하는 것을 특징으로 하는 청정 이송 장치.
제11항에 있어서, 상기 청정실은 청정실 안에서의 가스를 대체하기 위해 가스를 유입 및 방출하는 밸브 장치를 구비하는 것을 특징으로 하는 청정 이송 장치.
제12항에 있어서, 상기 밸브 장치는 청정실의 실내 안으로 비-산화성 가스를 유입하는 가스 유입 밸브와 외부로 청정실 내에서의 가스를 방출하는 가스 유출 밸브를 포함하는 것을 특징으로 하는 청정 이송 장치.
제12항에 있어서, 상기 적재 포트는 상기 밸브 장치와 협동하여 청정실의 실내에 가스를 대체하는 수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 청정 이송 장치.
제13항에 있어서, 상기 적재 포트는 가스 유입 밸브와 협동하는 가스 공급 장치와 가스 유출 밸브와 협동하는 가스 방출 장치를 구비하는 것을 특징으로 하는 청정 이송 장치.
제14항에 있어서, 상기 흡입/배기 포트와 상기 밸브 장치는 청정실 본체의 동일한 단일 측면에 제공되고, 청정실이 단일 작동에 의해 접근되도록 청정실의 실내에 진공 배기/해제용 장치와 가스 대체용 장치가 단일 유닛으로서 구성되는 것을 특징으로 하는 청정 이송 장치.
일면에 개구를 갖는 청정실 본체와,

상기 개구를 폐쇄하는 리드 부재와,

상기 리드 부재가 청정실 본체에 장착되는 상태 하에서 리브 부재와 청정실 본체의 사이에서 밀봉되는 흡인 공간을 형성하도록 청정실 본체와 리드 부재의 적어도 하나에 상기 개구를 둘러싸도록 형성된 환형 홈과,

상기 리드 부재에 형성되고, 외부로부터 상기 환형 홈의 진공 배기/해제를 허용하는 흡입/배기 포트를 포함하는 것을 특징으로 하는 청정실.
제17항에 있어서, 청정실의 실내에 가스 대체를 위해 가스의 유입 및 방출을 허용하고, 리드 부재에 제공된 밸브 장치를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 청정실.
제17항에 있어서, 상기 청정실 본체로부터 이격하여 상기 리드 부재가 낙하되는 것을 방지하는 기계적 래치를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 청정실.
제19항에 있어서, 상기 기계적 래치는 리드 부재측에서 외부로부터 상기 래치를 개방/폐쇄하는 기구를 구비하는 것을 특징으로 하는 청정실.
저부에 개구를 갖춘 청정실 본체와, 상기 개구를 폐쇄하는 리드 부재와, 상기 리드 부재가 상기 청정실 본체에 장착된 상태에서 상기 청정실 본체와 리드 부재의 사이에 밀봉된 흡인 공간을 형성하도록 상기 청정실 본체와 상기 리드 부재의 적어도 하나에 상기 개구를 둘러싸도록 형성된 환형 홈과, 상기 리드 부재에 형성되고 외부로부터 상기 환형 홈의 진공 배기/해제를 허용하는 흡입/배기 포트를 포함하는 청정실을 사용하는 청정 이송 방법은,

청정 환경 하에서 유지되는 실내를 갖고 청정실의 리드 부재를 개방/폐쇄하는 청정실 리드 개방/폐쇄 기구를 갖는 청정 장치의 적재 포트측에 상기 리드 부재갸 하향 대면한채 상기 리드 부재와 상기 청정실 리드 개방/폐쇄 기구가 서로 대면하여 정렬되도록 상기 적재 포트에 상기 환형 홈을 진공 방출하여 흡인되는 청정실을 배치하는 단계와,

리드 부재를 개방하도록 청정실의 리드 부재에 제공된 상기 흡입/배기 포트를 통해 적재 포트에 청정실 리드 개방/폐쇄 기구에 의해 흡인 공간의 진공을 해제하는 단계와,

청정실 내에서 피이송 물품을 픽업하여 청정 장치로 물품을 이동시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 청정 이송 방법.
제21항에 있어서, 상기 청정 장치에서 처리를 받는 피이송 물품이 청정실에 재복귀된 후에, 상기 청정실 리드 개방/폐쇄 기구에 의해 상기 청정실의 리드 부재를 폐쇄하는 단계와,

상기 리드 부재와 청정실 본체를 함께 흡인하도록 상기 흡입/배기 기구를 통하여 흡인 공간을 흡출하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 청정 이송 방법.
제21항에 있어서, 상기 청정실은 청정실 실내에서 가스가 대체되도록 밸브를 구비하고, 상기 방법은, 청정 장치에서 처리를 받게되는 피이송 물품을 청정실로 재복귀하는 단계와, 청정실의 리드 부재를 폐쇄하는 단계와, 상기 리드 부재와 청정실 본체가 함께 흡인되도록 상기 흡입/배기 기구를 통하여 상기 흡인 공간이 흡출된 후에 밸브를 통하여 청정실의 실내에 가스 대체를 수행하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 청정 이송 방법.
제21항에 있어서, 상기 청정실은 상기 청정실 본체로부터 이격하여 리드 부재가 낙하하는 것을 방지하는 기계적 래치를 구비하고, 상기 청정실 리드 개방/폐쇄 기구는 흡인 공간의 진공 해제 전에 상기 기계적 래치를 해제하는 것을 특징으로 하는 청정 이송 방법.
제24항에 있어서, 상기 기계적 래치는, 상기 청정 장치에서 처리를 받게 되는 피이송 물품이 청정실에 재복귀된 후에, 흡인 공간이 방출되고 상기 리드 부재와 청정실 본체가 함께 흡인된 후에 이행되는 것을 특징으로 하는 청정 이송 방법.
일면에 개구를 갖는 청정실 본체와, 상기 개구를 폐쇄하는 리드 부재와, 상기 리드 부재가 청정실 본체에 장착되는 상태 하에서 리브 부재와 청정실 본체의 사이에서 밀봉되는 흡인 공간을 형성하도록 청정실 본체와 리드 부재의 적어도 하나에 개구를 둘러싸도록 형성된 환형 홈과, 상기 리드 부재에 형성되고, 외부로부터 상기 환형 홈의 진공 배기/해제를 허용하는 흡입/배기 포트를 포함하는 청정실과,

청정 환경하에서 유지된 실내를 갖고 청정실의 리드 부재를 개방/페쇄 하는 청정실 리드 개방/폐쇄 기구를 갖는 청정 장치의 적재 포트를 포함하고,

상기 리드 부재가 하향 대면한 채 적재 포트측에 상기 리드 부재와 청정실리드 개방/폐쇄 기구가 서로 대면하여 정렬되도록 상기 청정실이 배치되고,

상기 적재 포트의 청정실 리드 개방/폐쇄 기구는 상기 청정실의 리드 부재에 형성된 흡입/배기 포트를 통하여 상기 흡인 공간의 진공을 해제하고, 상기 리드 부재를 개방하고, 청정실의 실내에서 피이송 물품을 픽업하는 것을 특징으로 하는 청정 이송 장치.
제26항에 있어서, 청정 장치에서 처리를 받게 되는 피이송 물품이 청정실의 실내 안으로 재복귀된 후에 상기 청정실 리드 개방/폐쇄 기구가 상기 청정실의 리드 부재를 폐쇄하고, 상기 리드 부재와 청정실 본체는 흡입/배기 기구를 통하여 흡인 공간을 흡출하여 함께 흡인되는 것을 특징으로 하는 청정 이송 장치.
제26항에 있어서, 상기 청정실은 청정실의 실내에서 가스의 대체를 허용하는 밸브를 구비하고, 상기 적재 포트는 상기 밸브를 통하여 청정실에 가스를 대체하는 가스 대체 장치를 더 포함하며,

상기 청정실 리드 개방/폐쇄 기구는 청정 장치에서 처리를 받게 되는 피이송 물품을 청정실로 재복귀시키고, 청정실의 리드 부재를 폐쇄하고, 청정실의 실내의 공간에서의 가스의 대체는, 상기 리드 부재와 청정실 본체가 함께 흡인되도록 상기 흡입/배기 기구를 통하여 흡인 공간이 흡출된 후에 밸브를 통해 대체되는 것을 특징으로 하는 청정 이송 장치.
제26항에 있어서, 상기 청정실은 상기 청정실 본체로부터 이격하여 리드 부재가 낙하하는 것을 방지하는 기계적 래치를 구비하고, 상기 청정실 리드 개방/폐쇄 기구는 리드 부재측으로부터 래치를 개방/폐쇄하는 래치 개방/폐쇄 기구를 더 포함하고, 기계적 래치는 상기 래치 개방/폐쇄 기구에의해 흡인 공간의 진공을 해제하기 전에 해제되는 것을 특징으로 하는 청정 이송 장치.
제29항에 있어서, 상기 래치 개방/폐쇄 기구는, 청정 장치에서 처리를 받게되는 피이송 물품이 청정실로 재복귀된 후에, 흡인 공간이 흡출되어 리드 부재와 청정실이 함께 흡인된 후에 기계적 래치를 이행하는 것을 특징으로 청정 이송 장치.