JP2002270670A

JP2002270670A - 真空処理装置

Info

Publication number: JP2002270670A
Application number: JP2001392175A
Authority: JP
Inventors: Tatsuya Nakagome; 達也中込; Takashi Tozawa; 孝戸澤; Koji Suzuki; 鈴木　　孝治; Yasumasa Ishihara; 保正石原; Minoru Aoyanagi; 稔青柳
Original assignee: Tokyo Electron Ltd
Current assignee: Tokyo Electron Ltd
Priority date: 2001-12-25
Filing date: 2001-12-25
Publication date: 2002-09-20

Abstract

(57)【要約】【目的】真空処理室やカセット室の配置のレイアウト
の自由度が大きく、スペース効率の高い真空処理装置を
提供すること。また搬送手段の駆動時のパーティクルの
飛散を抑えること。【構成】減圧雰囲気とされる搬送室２内に、各々独立
して水平方向に回動される例えば３本の搬送アーム５１
〜５３を備えた多関節アームよりなる搬送手段５を設け
ることにより、搬送室２を直方体形状とし、その周囲に
真空処理室４Ａ〜４Ｃやカセット室３Ａ、３Ｂを配置す
ることができる。この場合、搬送室２の一辺に例えば２
個の真空処理室４Ａ、４Ｂを気密に接続し、また前記一
辺に対向する他辺に真空処理室４Ｃ、４Ｄを気密に接続
する構成とすることが好ましい。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、真空処理装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】半導体を製造するための真空処理装置の
中には、エッチング、成膜処理、アッシング、及びスパ
ッタリングなど種々の装置があり、また装置のタイプと
しても枚葉式及びバッチ式のものがある。この種の半導
体製造装置は、半導体の高集積化、高スループット化に
対応するため種々の工夫、改良がなされ、例えば枚葉式
の真空処理装置については、複数の真空処理室を共通の
搬送室に接続し、共通の入出力ポートから各真空処理室
に搬送する装置も知られている。

【０００３】図６はこのような装置を示す図であり、進
退自在及び回転自在な搬送アーム１１を備えた搬送室１
２に複数の真空処理室１３及びカセット室１４を、搬送
アーム１１の回転中心に対して放射状に接続して真空処
理装置が構成され、半導体ウエハ（以下ウエハという）
を例えば２５枚収納したウエハカセット１０をカセット
室１４内に搬入し、この中を減圧した後搬送アーム１１
によりウエハカセット１０内のウエハを順次真空処理室
１３内に搬送し、例えば各真空処理室１３内で並行して
ウエハの処理を行うようにしている。

【０００４】このような装置では、真空処理室とロード
ロック室とを１対１で接続する場合に比べて、複数の真
空処理室に対して搬送アームを共通化しているので構成
上有利であり、また各真空処理室で異なる処理を行うよ
うに構成し、１枚のウエハについて連続処理を行えば、
スループットが向上できるなどの利点もある。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ところで搬送アームが
直線に沿って進退する構成であるため、各真空処理室及
びカセット室を搬送アームの回転中心に対して放射状に
配列しなければならないが、周方向に配列される各室間
にはスペースがあるといっても、このスペースは現実に
はデッドスペースであって、他の装置を配置することは
できず、従って装置全体の実際上の占有空間は非常に広
いものであり、高価なクリーンルーム内で使用すること
からすれば、搬送アームの共通化を図っている割にはス
ペース的にはあまり大きなメリットがなかった。

【０００６】また搬送アームは回転する構造であるた
め、搬送室の底部に回転軸の軸受けが必要となり、搬送
アームの駆動時にこの軸受けからパーティクルが発生し
やすくなるが、デバイスの微細化に伴い、こうしたパー
ティクルの除去対策も必要である。

【０００７】本発明は、このような事情のもとになされ
たものであり、その目的は、真空処理室や容器載置室の
配置のレイアウトの自由度が大きく、スペース効率の高
い真空処理装置を提供することにある。

【０００８】本発明の他の目的は、減圧雰囲気とされる
搬送室内の搬送手段の駆動時におけるパーティクルの飛
散を抑えることのできる真空処理装置を提供することに
ある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、減圧
雰囲気とされる気密構造の搬送室と、この搬送室に搬出
入口を介して気密に接続された予備真空室と、前記搬送
室に搬出入口を介して気密に接続された複数の真空処理
室と、前記搬送室内に設けられると共に各々独立して水
平方向に回動される少なくとも３本の搬送アームを備
え、前記予備真空室及び真空処理室間で被処理体を搬送
するための搬送手段と、を有してなることを特徴とす
る。

【００１０】

【作用】請求項１の発明によれば、搬送アームによる被
処理体の搬送経路をアームのストローク範囲であれば自
由に選択できる。従って真空処理室の搬出入口や予備真
空室例えば容器載置室の搬出入口の向きと搬送アームと
の位置関係の自由度が大きいので、例えば搬送室の一辺
に沿って真空処理室の搬出入口を横に並べることもで
き、スペース効率を高めることができる。

【００１１】請求項４の発明によれば、搬送手段の駆動
モータを大気側とは気密に区画されたケース部内に収納
しているため回動軸の軸受け部に磁性流体シールが不要
になる。そして搬送手段として多関節アームを用いる場
合、請求項５の発明のように関節部の軸受け部の内部を
吸引路及びケース部内を介して、また回動軸の軸受け部
をケース部内を介して真空排気することにより軸受け部
からのパーティクルの発生を防止でき、請求項６の発明
のようにラビリンスシールを形成したり、請求項７の発
明のように不活性ガスを連続させればパーティクルの飛
散をより確実に防止できる。

【００１２】

【実施例】図１及び図２は、夫々本発明の実施例の全体
構成を示す一部破断斜視図及び平面図である。図中２は
搬送室であり、この搬送室２は、直方体形状に形成され
た気密構造のチャンバよりなる。この搬送室２には、一
方の長辺に沿って２個のウエハの搬出入口３１、３１が
側壁に形成されており、ウエハカセットＣが載置される
気密構造の２個のカセット室３Ａ、３Ｂが夫々前記搬出
入口３１、３１を介して搬送室２に気密に接続されてい
る。

【００１３】前記ウエハカセット（以下単にカセットと
いう。）Ｃは、２５枚のウエハを収納する容器であり、
カセット室３Ａ、３Ｂは、この実施例では容器載置部に
相当する。カセット室３Ａ、３Ｂの上部には、カセット
Ｃを取り入れ、取り出しできるように前後に開閉自在な
蓋部３２が形成されると共に、内部には図３に示すよう
に、カセットＣを間欠的に昇降させるための昇降機構３
３が設けられ、また底部には排気管３４が接続されてい
る。この排気管３４はバルブＶ１を介して真空ポンプ３
４ａ例えばドライポンプに接続されている。

【００１４】更に前記搬送室２には、他方の長辺に沿っ
て２個のウエハの搬出入口４１、４１が側壁に形成され
ており、これら搬出入口４１、４１を介して２個の真空
処理室、例えばマグネットを用いたプラズマエッチング
を行うための真空処理室４Ａ、４Ｂが搬送室２に気密に
接続されている。またこの例では、搬送室２の短辺側に
も真空処理室４Ｃが搬出入口４１を介して気密に接続さ
れている。なおカセット室３Ａ、３Ｂの各搬出入口３
１、及び真空処理室４Ａ〜４Ｃの各搬出入口には、ゲー
トバルブＧ（符号共通）が設けられている。

【００１５】前記真空処理室４Ａ（４Ｂ、４Ｃ）には、
図３に示すようにサセプタを兼用する下部電極４２、上
部電極４３が設けられると共に処理ガス供給管４４及び
排気管４５が接続されている。上部電極４３の上方に
は、マグネット収納用の筐体４６が真空処理室とは分割
されて設けられており、この中には真空処理室４Ａ（４
Ｂ、４Ｃ）内に磁場を形成するマグネット４７及び磁場
漏洩防止用のマグネット４８がモータ４９で回転される
ように配設されている。

【００１６】前記搬送室２内には、前記カセット室３
Ａ、３Ｂ及び真空処理室４Ａ〜４Ｃ間でウエハＷを搬送
するための搬送手段５が設けられている。前記搬送手段
５は、各々独立して水平方向に回動される３本の搬送ア
ーム５１、５２、５３を備えた多関節アームよりなり、
下段の搬送アーム５１は、図４に示すように搬送室の下
部に設けられた駆動部６より伸びる回動軸６１に取り付
けられている。搬送室２の底面部には、搬送アーム５１
の取り付け用の穴が形成されており、この穴を覆うよう
にフランジ部６２が前記底面部に対して着脱自在に設け
られている。

【００１７】前記フランジ部６２の中央部には下方側に
伸びる円筒部６３が形成され、この円筒部６３の内壁と
回動軸６１との間には、軸受け部６４が介装されてい
る。また前記フランジ部６２の下方側には、気密構造の
円筒状のケース部６５が取り付けられ、ケース部６５内
の空間は大気側と気密に区画されている。

【００１８】前記駆動部６は、前記３本の搬送アーム５
１〜５３に対応して３個の駆動モータを備えており、ま
た前記回動軸６１の内部には、上段及び中段の搬送アー
ム５２、５３を夫々独立して駆動するための回動軸（図
示せず）が設けられている。そして上段及び中段の搬送
アーム５２、５３の間には、上段の搬送アーム５３を回
動させる回動軸５３ａ及び軸受け部５３ｂが設けられる
と共に、中段及び下段の搬送アーム５１、５２の間に
は、上段の搬送アーム５３用の回動軸（図示せず）を内
蔵した、中段の搬送アーム５２を回動させる回動軸５２
ａ及び軸受け部５２ｂが設けられている。中段及び下段
の搬送アーム５１、５２の内部には、駆動部６の駆動に
より上段及び中段の搬送アーム５２、５３が独立して駆
動されるようにベルトやプーリなどの伝達機構が組み込
まれていると共に、関節部の軸受け部５２ｂ、５３ｂで
発生したパーティクルを吸引するための吸引路（点線で
示す）５４が形成され、この吸引路５４は、前記回動軸
６１内を通ってケース部６５の内部空間に開口してい
る。

【００１９】前記ケース部６５には、排気管３６が接続
され、この排気管３６は、バルブＶ２を介して前記真空
ポンプ３５例えばターボ分子ポンプに接続されている。
従ってバルブＶ２を開くと、ケース部６５の内部空間が
真空排気され、これにより各軸受け部６４、５２ｂ、５
３ｂで発生したパーティクルがケース部６５の内部空間
を介して排気管３６内に排出されることとなる。更に前
記軸受け部６４と搬送室２内との間にはラビリンス（迷
路）シールが形成されている。即ち回動軸６４と円筒部
６３とは、これらの間の間隙が入り込んだ形状となるよ
うに構成されている。

【００２０】前記上段の搬送アーム５３のウエハ保持部
には、例えばウエハを安定して保持できる３個所の位置
に、摩擦によりパーティクルの発生しにくい材質例えば
フッ素樹脂よりなる突起部５５が設けられており、この
ように構成すればウエハを搬送アーム５３に保持したと
きにウエハの位置ずれを防止でき、ウエハ自身のダメー
ジもない。

【００２１】前記搬送室２には排気管２１が接続されて
おり、この排気管２１はバルブＶ３を介して前記真空ポ
ンプ３５に接続されている。また前記搬送室２内には、
ウエハを一時的に載置するための昇降自在なバッファス
テージ２２と、ウエハのオリエンテーションフラット
（以下「オリフラ」という。）の向き及び中心位置を合
わせるための位置合わせ機構７とが配置されている（図
１及び図２参照）。この位置合わせ機構７は、Ｘ、Ｙ、
Ｚ及びθ方向に移動可能な回転ステージ７１、及びウエ
ハの周縁部を光学的に検出する発受光部７２などを備え
ている。

【００２２】また前記搬送室２内には、図１及び図２に
示すように不活性ガス例えば窒素ガスを供給するための
不活性ガス供給管２３が前記下段の搬送アーム５１の回
動中心付近の上方位置まで延び出して配管されており、
この不活性ガス供給管２３の先端部には，例えば焼結金
属よりなる不活性ガス供給部２４が形成されている。前
記不活性ガス供給管２３の基端側は例えば窒素ガス供給
源２５に接続されている。

【００２３】次に上述実施例の作用について述べる。先
ずゲートバルブＧを閉じて搬送室２及び真空処理室４Ａ
〜４Ｃ内を夫々真空排気する。搬送室２内の真空排気初
期時（粗引き時）には、バルブＶ２を開いて真空ポンプ
３５により排気管３６を介してケース部６５内を真空排
気すると共に、不活性ガス供給管２３より不活性ガス供
給部２４を介して不活性ガス例えば窒素ガスを搬送室２
内に供給する。これにより搬送室２内の気体が排気管２
１からの経路に加えて、回転軸６１の軸受け部６４→ケ
ース部６５→排気管３６の経路、及び搬送手段５の関節
部の軸受け部５２ｂ、５３ｂ→吸引路５４→ケース部６
５→排気管３６の経路で排気される。そして搬送室２内
がある程度減圧された後バルブＶ２を閉じ、その後は排
気管２１を通じて例えば５０〜９００ｍＴｏｒｒの真空
度まで減圧する。

【００２４】一方カセット室３Ａ、３Ｂの蓋３２を開
き、被処理体であるウエハＷを２５枚収納した容器とし
てのカセットＣをウエハＷが水平になる姿勢で例えば一
方のカセット室３Ａ（搬入用カセット室３Ａ）内の昇降
機構３３上に例えばオペレータにより載置すると共に、
他方のカセット室３Ｂ（搬出用カセット室３Ｂ）内に空
のカセットＣを載置し、蓋３２を閉じてカセット室３
Ａ、３Ｂ内を搬送室２内と同じ程度の真空度まで真空排
気した後、カセット室３Ａ、３ＢのゲートバルブＧを開
く。次いで搬送手段５の搬送アーム５１が搬出入口３１
を介してカセット室３ＡのカセットＣ内に進入し、ウエ
ハＷを受け取る。この場合昇降機構３３を間欠的に降下
させてカセットＣから１枚づつウエハＷから搬出され、
ウエハＷは、搬送アーム５３の先端部の保持部の３つの
突起部５４により保持される。

【００２５】搬送アーム５３はカセットＣから受け取っ
たウエハＷを位置合わせ機構７の回転ステージ７１上に
載置して、例えば発受光部７２によりウエハＷの周縁を
検出し、その結果にもとづき回転ステージ７１を動かし
てウエハＷのオリフラの向き及び中心の位置合わせを行
う。続いてこのウエハＷを搬送手段５により搬出入口４
１を介して例えば真空処理室４Ａ内に搬入する。真空処
理室４Ａ内では、サセプタ４２に組み合わされた図示し
ない昇降ピンの昇降動作を介してウエハがサセプタ４２
上に載置され、サセプタ４２及び上部電極４３間の高周
波電力とマグネット４７の磁場とのエネルギーにより得
られたプラズマによってエッチングされる。

【００２６】カセットＣ内のウエハＷは、上述のような
搬送工程により例えば各真空処理室３Ａ〜３Ｃに分配さ
れ、並行して真空処理、例えばプラズマエッチングが行
われる。処理済みのウエハＷは搬送手段５により例えば
他方のカセット室３ＢのカセットＣ内に受け渡される
が、次に処理されるべきウエハＷは、真空処理室３Ａ〜
３Ｃで処理が行われている間に位置合わせを行ってバッ
ファステージ２２上で待機している。

【００２７】そして搬送手段５が駆動されている間はバ
ルブＶ２を開いてケース部６５内を真空排気して既述の
ように軸受け部６４、５２ｂ、５３ｂより吸引すると共
に不活性ガス供給部２４より例えば窒素ガスを搬送室２
内に供給する。この不活性ガス供給部２４は搬送手段５
の回転軸６１の上方付近にあるため、前記窒素ガスは主
として軸受け部６４、５２ｂ、５３ｂより既述の経路で
ケース部６５内に流れ込む。

【００２８】上述の実施例によれば、搬送室２内に、各
々独立して水平に移動自在な３本の搬送アーム５１〜５
３を備えた多関節アームよりなる搬送手段５を設けてい
るため、搬送手段５の水平姿勢のとり得る自由度が大き
く、搬送アーム５１〜５３によるウエハの搬送経路をア
ームのストローク範囲内であれば自由に選択できる。従
って真空処理室４Ａ〜４Ｃの夫々の搬出入口４１及びカ
セット室３Ａ、３Ｂの夫々の搬出入口３１の向きと搬送
手段５との位置関係の自由度が大きいので、搬送室２を
直方体形状に形成し、その一辺に沿って真空処理室４
Ａ、４Ｂの搬出入口４１、４１を並べると共に、カセッ
ト室３Ａ、３Ｂの搬出入口３１、３１を並べることがで
きる。このことは換言すれば、搬送室２の形状、真空処
理室４Ａ〜４Ｃ及びカセット室３Ａ、３Ｂの配置のレイ
アウトの自由度が大きいことであり、四角形の搬送室２
の周りに上述のように真空処理室４Ａ〜４Ｃ及びカセッ
ト室３Ａ、３Ｂを配置することにより、搬送手段の回転
中心に対して放射状に真空処理室やカセット室を放射状
に並べていた場合に比べて、装置の配置スペースが狭く
て済み、複数の真空処理室を組み合わせた装置を高価な
クリーンルーム内に設置するにあたって非常に有効であ
る。更に各室の配置のレイアウトの自由度が大きいこと
から搬送距離を短くすることもできるため、スループッ
トの向上が図れる。

【００２９】また搬送手段５の駆動部６をなす駆動モー
タを大気側とは気密に区画されたケース部６５内に収納
しているので回動軸６１の軸受け部６４として磁性流体
シールなどが不要になる。そして搬送手段５の軸受け部
６４、５２ｂ、５３ｂを掃気し、しかも搬送手段２の上
方近傍から不活性ガスを供給して各軸受け部６４、５２
ｂ、５３ｂの外から内へ気流を形成しかつラビリンスシ
ールを形成しているため、搬送手段５の駆動に伴って軸
受け部から発生したパーティクルの搬送室２内への飛散
を防止することができ、微細パターン化する半導体デバ
イスの製造装置として極めて有効である。なお不活性ガ
スとして用いるガスは窒素ガスに限らずアルゴンガスや
ヘリウムガスなどであってもよい。

【００３０】そしてまた搬送室２内にバッファステージ
２２を設ければ、次のウエハを位置合わせを終えてここ
に待機させておくことができるなど搬送の効率化を図る
ことができ、スループットが向上する。この場合搬送中
のウエハとバッファステージ２２上のウエハとが高さ方
向に干渉しないようにバッファステージ２２を上昇ある
いは下降させるようにすれば、真空処理室からカセット
Ｃへウエハを搬送する搬送路の近くにバッファステージ
２２を設けることができる。なお位置合わせ機構７を２
個用意してこれらをバッファステージとして兼用させる
ようにしてもよい。

【００３１】更にまた本発明では、上述の実施例の配置
のレイアウトに限らず、例えば図５に示すように平面形
状が長方形の搬送室２の相対向する長辺に２個づつ真空
処理室４Ａ〜４Ｄを並べると共に相対向する短辺に１個
づつカセット室３Ａ、３Ｂを並べるなどのレイアウトを
採用することもできる。

【００３２】以上において上述の実施例ではカセット室
３Ａ、３Ｂが請求項１の発明の予備真空室に相当するも
のであるが、この予備真空室としてはカセット室に限ら
ず、１枚だけのウエハを載置するためのロードロック室
や、搬送手段を備えた別の搬送室であってもよい。そし
て真空処理室としてはマグネットを用いたエッチングを
行う処理室に限らず、プラズマＣＶＤ、熱ＣＶＤ、アッ
シング、スパッタリングなどを行う真空処理室であって
もよいし、各真空処理室にて別々の真空処理を行うよう
にしてもよい。なお被処理体としてはウエハに限らずＬ
ＣＤ基板などであってもよい。

【００３３】

【発明の効果】請求項１の発明によれば、複数の真空処
理室を搬送室に接続する場合に真空処理室の配置のレイ
アウトの自由度が大きく、真空処理室の搬出入口を搬送
室の一辺に並べて配設できるし（請求項２の発明）、ま
た容器載置室についても配置のレイアウトの自由度が大
きい（請求項３の発明）。

【００３４】請求項４の発明によれば、搬送手段の駆動
モータを大気側とは気密に区画されたケース部内に収納
しているので磁性流体シールが不要になる。この場合請
求項５の発明のようにケース部内を真空排気すると共に
多関節アームの関節部の内部を真空排気すれば、軸受け
部からのパーティクルのは発生を抑えることができ、更
にラビリンスシールを施したり（請求項６の発明）、搬
送室内に不活性ガスを通流させてケース部を介して排気
すれば（請求項７の発明）、より一層搬送室内へのパー
ティクルの飛散を防止できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例の全体構成を示す一部破断斜視
図である。

【図２】本発明の実施例の全体構成を示す平面図であ
る。

【図３】本発明の実施例の全体構成を示す断面図であ
る。

【図４】搬送手段及びその駆動部を示す縦断側面図であ
る。

【図５】本発明の他の実施例を示す平面図である。

【図６】従来の真空処理装置を示す平面図である。

【符号の説明】

２搬送室２４不活性ガス供給部３Ａ、３Ｂカセット室３１、４１搬出入口３５真空ポンプ４Ａ〜４Ｃ真空処理室５搬送手段５１〜５３搬送アーム５２ａ、５３ａ、６３回転軸５２ｂ、５３ｂ、６４軸受け部６駆動部６５ケース部

─────────────────────────────────────────────────────

【手続補正書】

【提出日】平成１４年１月２３日（２００２．１．２
３）

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】全文

【補正方法】変更

【補正内容】

【書類名】明細書

【発明の名称】真空処理装置

【特許請求の範囲】

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、真空処理装置に関す
る。

【０００２】

【０００５】

【０００７】本発明は、このような事情のもとになされ
たものであり、その目的は、真空処理室やカセット室の
配置のレイアウトの自由度が大きく、スペース効率の高
い真空処理装置を提供することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、平面
的に見て矩形に形成され、真空雰囲気とされる気密構造
の搬送室と、この搬送室に搬出入口を介して気密に接続
された予備真空室と、前記搬送室の一辺に、各々搬出入
口を介して気密に横に並べて接続された複数の真空処理
室と、前記一辺と対向する他辺に、各々搬出入口を介し
て気密に横に並べて接続された複数の真空処理室と、前
記搬送室内に設けられると共に水平方向に回動される関
節型アームを備え、前記予備真空室及び真空処理室間で
被処理体を搬送するための搬送手段と、前記搬送室内を
真空排気するための真空排気手段と、を備えたことを特
徴とする。

【００１０】本発明によれば、搬送アームによる被処理
体の搬送経路をアームのストローク範囲であれば自由に
選択できる。従って真空処理室の搬出入口や予備真空室
例えばカセット室の搬出入口の向きと搬送アームとの位
置関係の自由度が大きいので、搬送室の一辺及び他辺に
沿って真空処理室の搬出入口を横に並べることができ、
スペース効率を高めることができる。

【００１１】また搬送手段の駆動モータを大気側とは気
密に区画されたケース部内に収納すれば回動軸の軸受け
部に磁性流体シールが不要になる。そして搬送手段とし
て多関節アームを用いる場合、関節部の軸受け部の内部
を吸引路及びケース部内を介して、また回動軸の軸受け
部をケース部内を介して真空排気することにより軸受け
部からのパーティクルの発生を防止できる。

【００１２】

【実施例】図１及び図２は、夫々後述の実施例の要部を
説明するための参考例の全体構成を示す一部破断斜視図
及び平面図である。図中２は搬送室であり、この搬送室
２は、直方体形状に形成された気密構造のチャンバより
なる。この搬送室２には、一方の長辺に沿って２個のウ
エハの搬出入口３１、３１が側壁に形成されており、ウ
エハカセットＣが載置される気密構造の２個のカセット
室３Ａ、３Ｂが夫々前記搬出入口３１、３１を介して搬
送室２に気密に接続されている。

【００２３】次に上述の例の作用について述べる。先ず
ゲートバルブＧを閉じて搬送室２及び真空処理室４Ａ〜
４Ｃ内を夫々真空排気する。搬送室２内の真空排気初期
時（粗引き時）には、バルブＶ２を開いて真空ポンプ３
５により排気管３６を介してケース部６５内を真空排気
すると共に、不活性ガス供給管２３より不活性ガス供給
部２４を介して不活性ガス例えば窒素ガスを搬送室２内
に供給する。これにより搬送室２内の気体が排気管２１
からの経路に加えて、回転軸６１の軸受け部６４→ケー
ス部６５→排気管３６の経路、及び搬送手段５の関節部
の軸受け部５２ｂ、５３ｂ→吸引路５４→ケース部６５
→排気管３６の経路で排気される。そして搬送室２内が
ある程度減圧された後バルブＶ２を閉じ、その後は排気
管２１を通じて例えば５０〜９００ｍＴｏｒｒの真空度
まで減圧する。

【００２８】上述の例によれば、搬送室２内に、各々独
立して水平に移動自在な３本の搬送アーム５１〜５３を
備えた多関節アームよりなる搬送手段５を設けているた
め、搬送手段５の水平姿勢のとり得る自由度が大きく、
搬送アーム５１〜５３によるウエハの送経路をアームの
ストローク範囲内であれば自由に選択できる。従って真
空処理室４Ａ〜４Ｃの夫々の搬出入口４１及びカセット
室３Ａ、３Ｂの夫々の搬出入口３１の向きと搬送手段５
との位置関係の自由度が大きいので、搬送室２を直方体
形状に形成し、その一辺に沿って真空処理室４Ａ、４Ｂ
の搬出入口４１、４１を並べると共に、カセット室３
Ａ、３Ｂの搬出入口３１、３１を並べることができる。
このことは換言すれば、搬送室２の形状、真空処理室４
Ａ〜４Ｃ及びカセット室３Ａ、３Ｂの配置のレイアウト
の自由度が大きいことであり、四角形の搬送室２の周り
に上述のように真空処理室４Ａ〜４Ｃ及びカセット室３
Ａ、３Ｂを配置することにより、搬送手段の回転中心に
対して放射状に真空処理室やカセット室を放射状に並べ
ていた場合に比べて、装置の配置スペースが狭くて済
み、複数の真空処理室を組み合わせた装置を高価なクリ
ーンルーム内に設置するにあたって非常に有効である。
更に各室の配置のレイアウトの自由度が大きいことから
搬送距離を短くすることもできるため、スループットの
向上が図れる。

【００３１】ここで図５は、本発明の実施の形態を示す
図であり、平面形状が長方形の搬送室２の相対向する長
辺に２個づつ真空処理室４Ａ〜４Ｄを並べると共に相対
向する短辺に１個づつカセット室３Ａ、３Ｂを並べるレ
イアウトを採用したものである。

【００３２】以上において真空処理室としてはマグネッ
トを用いたエッチングを行う処理室に限らず、プラズマ
ＣＶＤ、熱ＣＶＤ、アッシング、スパッタリングなどを
行う真空処理室であってもよいし、各真空処理室にて別
々の真空処理を行うようにしてもよい。なお被処理体と
してはウエハに限らずＬＣＤ基板などであってもよい。

【００３３】

【発明の効果】本発明によれば、複数の真空処理室を搬
送室に接続する場合に真空処理室の配置のレイアウトの
自由度が大きく、また予備真空室についても配置のレイ
アウトの自由度が大きく、スペース効率が高い。

【００３４】更に搬送手段の駆動モータを大気側とは気
密に区画されたケース部内に収納しているので磁性流体
シールが不要になる。この場合ケース部内を真空排気す
ると共に多関節アームの関節部の内部を真空排気すれ
ば、軸受け部からのパーティクルのは発生を抑えること
ができる。

【図面の簡単な説明】

【図２】本発明の実施例の全体構成を示す平面図であ
る。

【図３】本発明の実施例の全体構成を示す断面図であ
る。

【図５】本発明の他の実施例を示す平面図である。

【図６】従来の真空処理装置を示す平面図である。

【符号の説明】２搬送室２４不活性ガス供給部３Ａ、３Ｂカセット室３１、４１搬出入口３５真空ポンプ４Ａ〜４Ｃ真空処理室５搬送手段５１〜５３搬送アーム５２ａ、５３ａ、６３回転軸５２ｂ、５３ｂ、６４軸受け部６駆動部６５ケース部

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者鈴木孝治東京都港区赤坂五丁目３番６号ＴＢＳ放送センター東京エレクトロン株式会社内 (72)発明者石原保正東京都港区赤坂五丁目３番６号ＴＢＳ放送センター東京エレクトロン株式会社内 (72)発明者青柳稔東京都港区赤坂五丁目３番６号ＴＢＳ放送センター東京エレクトロン株式会社内Ｆターム(参考） 5F031 CA02 CA05 DA01 DA17 EA14 EA19 FA01 FA02 FA07 FA11 FA12 GA10 GA13 GA43 GA45 GA47 JA02 JA28 JA34 KA11 KA13 LA01 MA03 MA07 MA28 MA29 MA32 NA04 NA05 NA09 NA14 NA20

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】減圧雰囲気とされる気密構造の搬送室
と、この搬送室に搬出入口を介して気密に接続された予備真
空室と、前記搬送室に搬出入口を介して気密に接続された複数の
真空処理室と、前記搬送室内に設けられると共に各々独立して水平方向
に回動される少なくとも３本の搬送アームを備え、前記
予備真空室及び真空処理室間で被処理体を搬送するため
の搬送手段と、を有してなることを特徴とする真空処理装置。