JP4012190B2 - 密閉容器の蓋開閉システム及び開閉方法 - Google Patents
密閉容器の蓋開閉システム及び開閉方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4012190B2 JP4012190B2 JP2004310327A JP2004310327A JP4012190B2 JP 4012190 B2 JP4012190 B2 JP 4012190B2 JP 2004310327 A JP2004310327 A JP 2004310327A JP 2004310327 A JP2004310327 A JP 2004310327A JP 4012190 B2 JP4012190 B2 JP 4012190B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- opening
- lid
- stored
- main body
- air supply
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/68—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67763—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading
- H01L21/67772—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading involving removal of lid, door, cover
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Description
Claims (8)
- 水平方向に設けられた開口、および被収容物が各々載置される鉛直方向に並ぶ複数の棚からなる本体と、前記本体から分離可能であって前記開口を塞いで前記本体と共に密閉空間を形成する蓋と、を備える収容容器から前記蓋を取り外すことによって前記開口を開放して前記被収容物の挿脱を可能とする、前記蓋の開閉システムであって、
前記収容容器が載置される載置台と、
前記載置台に隣接して前記開口と水平方向に正対する開口部と、
前記蓋を保持可能であると共に前記開口部を閉止可能であり、前記蓋を保持して前記開口部を開放することにより前記開口と前記開口部とを連通させるドアと、
前記開口部において前記載置台が配置される側とは異なる側の前記開口部の上方に配置されて、前記開口と前記開口部とが連通した状態において前記収容容器内部に収容された前記被収容物に向けて所定の気体を給気可能な給気ユニットとを有し、
前記給気ユニットは、前記被収容物の被パージ面に略平行に延在するパイプからなり、前記パイプは、前記開口と前記開口部とが連通した状態において前記被収容物が存在する領域に向かう方向に前記所定の気体を給気可能なスリットを有し、
前記スリットは、前記パイプの両端部の小さなスリットと、前記小さなスリットよりも通過するガス量が大きく設定された中央部の大きなスリットとからなることを特徴とする蓋開閉システム。 - 水平方向に設けられた開口、および被収容物が各々載置される鉛直方向に並ぶ複数の棚からなる本体と、前記本体から分離可能であって前記開口を塞いで前記本体と共に密閉空間を形成する蓋と、を備える収容容器から前記蓋を取り外すことによって前記開口を開放して前記被収容物の挿脱を可能とする、前記蓋の開閉システムであって、
前記収容容器が載置される載置台と、
前記載置台に隣接して前記開口と水平方向に正対する開口部と、
前記蓋を保持可能であると共に前記開口部を閉止可能であり、前記蓋を保持して前記開口部を開放することにより前記開口と前記開口部とを連通させるドアと、
前記開口部において前記載置台が配置される側とは異なる側の前記開口部の上方に配置されて、前記開口と前記開口部とが連通した状態において前記収容容器内部に収容された前記被収容物に向けて所定の気体を給気可能な給気ユニットとを有し、
前記給気ユニットは、前記被収容物の被パージ面に略平行に延在するパイプからなり、前記パイプは、前記開口と前記開口部とが連通した状態において前記被収容物が存在する領域に向かう方向に前記所定の気体を給気可能な並列に構成されたスリットを有し、
前記スリットは、前記収容容器における上段に収容された収容物及び前記上段の下方に収容された収容物の一枚一枚に実質的に対応して形成されることを特徴とする蓋開閉システム。 - 水平方向に設けられた開口、および被収容物が各々載置される鉛直方向に並ぶ複数の棚からなる本体と、前記本体から分離可能であって前記開口を塞いで前記本体と共に密閉空間を形成する蓋と、を備える収容容器から前記蓋を取り外すことによって前記開口を開放して前記被収容物の挿脱を可能とする、前記蓋の開閉システムであって、
前記収容容器が載置される載置台と、
前記載置台に隣接して前記開口と水平方向に正対する開口部と、
前記蓋を保持可能であると共に前記開口部を閉止可能であり、前記蓋を保持して前記開口部を開放することにより前記開口と前記開口部とを連通させるドアと、
前記開口部において前記載置台が配置される側とは異なる側の前記開口部の上方に配置されて、前記開口と前記開口部とが連通した状態において前記収容容器内部に収容された前記被収容物に向けて所定の気体を給気可能な給気ユニットとを有し、
前記給気ユニットは、前記開口部上方において前記被収容物の被パージ面と略平行な軸を中心に回動可能に支持されており、
前記給気ユニットの回動は前記ドアの動作と連動して行われていることを特徴とする蓋開閉システム。 - 前記被収容物は半導体製造工程に供されるウエハであり、前記収容容器はFOUPであり、前記蓋開閉システムはFIMSからなるシステムであることを特徴とする請求項1乃至3何れかに記載の蓋開閉システム。
- 水平方向に設けられた開口、および被収容物が各々載置される鉛直方向に並ぶ複数の棚からなる本体と、前記本体から分離可能であって前記開口を塞いで前記本体と共に密閉空間を形成する蓋と、を備える収容容器から前記蓋を取り外すことによって前記開口を開放し、前記収容容器に収容された前記被収容物に対し、所定のガスを吹き付けてパージ操作を行うパージ方法であって、
前記開口と正対する開口部と前記開口部正面に配置された載置台とを有する前記蓋の開閉システムにおいて前記載置台上に前記収容容器を載置し、
前記開口部を閉止する前記開閉システムが有するドアにより前記蓋を保持して前記本体から分離し、
前記開口部の上方に配置された給気ユニットから前記開口部及び前記開口を介して前記収容容器内の前記被収容物に対して前記所定のガスを吹き付けて前記被収容物のパージを行う工程を含み、
前記給気ユニットは、前記被収容物の被パージ面に略平行に延在するパイプからなり、前記パイプは、前記開口と前記開口部とが連通した状態において前記被収容物が存在する領域に向かう方向に前記所定の気体を給気可能なスリットを有し、
前記スリットは、前記パイプの両端部の小さなスリットと、前記小さなスリットよりも通過するガス量が大きく設定された中央部の大きなスリットとからなることを特徴とする被収容物のパージ方法。 - 水平方向に設けられた開口、および被収容物が各々載置される鉛直方向に並ぶ複数の棚からなる本体と、前記本体から分離可能であって前記開口を塞いで前記本体と共に密閉空間を形成する蓋と、を備える収容容器から前記蓋を取り外すことによって前記開口を開放し、前記収容容器に収容された前記被収容物に対し、所定のガスを吹き付けてパージ操作を行うパージ方法であって、
前記開口と正対する開口部と前記開口部正面に配置された載置台とを有する前記蓋の開閉システムにおいて前記載置台上に前記収容容器を載置し、
前記開口部を閉止する前記開閉システムが有するドアにより前記蓋を保持して前記本体から分離し、
前記開口部の上方に配置された給気ユニットから前記開口部及び前記開口を介して前記収容容器内の前記被収容物に対して前記所定のガスを吹き付けて前記被収容物のパージを行う工程を含み、
前記給気ユニットは、前記被収容物の被パージ面に略平行に延在するパイプからなり、前記パイプは、前記開口と前記開口部とが連通した状態において前記被収容物が存在する領域に向かう方向に前記所定の気体を給気可能なスリットを有し、
前記スリットは、前記収容容器における上段に収容された収容物及び前記上段の下方に収容された収容物の一枚一枚に実質的に対応して形成されることを特徴とする被収容物のパージ方法。 - 水平方向に設けられた開口、および被収容物が各々載置される鉛直方向に並ぶ複数の棚からなる本体と、前記本体から分離可能であって前記開口を塞いで前記本体と共に密閉空間を形成する蓋と、を備える収容容器から前記蓋を取り外すことによって前記開口を開放し、前記収容容器に収容された前記被収容物に対し、所定のガスを吹き付けてパージ操作を行うパージ方法であって、
前記開口と正対する開口部と前記開口部正面に配置された載置台とを有する前記蓋の開閉システムにおいて前記載置台上に前記収容容器を載置し、
前記開口部を閉止する前記開閉システムが有するドアにより前記蓋を保持して前記本体から分離し、
前記開口部の上方に配置された給気ユニットから前記開口部及び前記開口を介して前記収容容器内の前記被収容物に対して前記所定のガスを吹き付けて前記被収容物のパージを行う工程を含み、
前記給気ユニットは、前記開口部の上方において前記被収容物の被パージ面と略平行な軸を中心に回動可能に支持されており、前記開口と前記開口部とが連通した状態において前記所定のガスを給気して所定角度回動し、
前記給気ユニットの回動は前記ドアの動作と連動することを特徴とする被収容物のパージ方法。 - 前記被収容物は半導体製造に用いられるウエハであり、前記蓋が前記本体から分離された状態は、前記ポッドがロードポート上に載置されて、前記ポッド内に収容された前記ウエハが前記ロードポートを介してウエハ処理装置に移載される状態であることを特徴とする請求項5乃至7何れかに記載の被収容物のパージ方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004310327A JP4012190B2 (ja) | 2004-10-26 | 2004-10-26 | 密閉容器の蓋開閉システム及び開閉方法 |
TW094137314A TWI278057B (en) | 2004-10-26 | 2005-10-25 | Enclosed container lid opening/closing system and enclosed container lid opening/closing method |
US11/257,307 US7523769B2 (en) | 2004-10-26 | 2005-10-25 | Enclosed container lid opening/closing system and enclosed container lid opening/closing method |
KR1020050101164A KR100744349B1 (ko) | 2004-10-26 | 2005-10-26 | 폐쇄식 용기 덮개 개/폐 시스템 및 폐쇄식 용기 덮개 개/폐방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004310327A JP4012190B2 (ja) | 2004-10-26 | 2004-10-26 | 密閉容器の蓋開閉システム及び開閉方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006128153A JP2006128153A (ja) | 2006-05-18 |
JP4012190B2 true JP4012190B2 (ja) | 2007-11-21 |
Family
ID=36206362
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004310327A Expired - Fee Related JP4012190B2 (ja) | 2004-10-26 | 2004-10-26 | 密閉容器の蓋開閉システム及び開閉方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7523769B2 (ja) |
JP (1) | JP4012190B2 (ja) |
KR (1) | KR100744349B1 (ja) |
TW (1) | TWI278057B (ja) |
Families Citing this family (27)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI251858B (en) * | 2004-09-17 | 2006-03-21 | Ind Tech Res Inst | Six-linkage positioning mechanism |
JP4541232B2 (ja) * | 2005-06-16 | 2010-09-08 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理システム及び処理方法 |
JP4278676B2 (ja) * | 2005-11-30 | 2009-06-17 | Tdk株式会社 | 密閉容器の蓋開閉システム |
JP4301456B2 (ja) * | 2005-11-30 | 2009-07-22 | Tdk株式会社 | 密閉容器の蓋開閉システム |
JP5075458B2 (ja) * | 2007-04-16 | 2012-11-21 | 株式会社トプコン | 表面検査装置 |
TWI475627B (zh) * | 2007-05-17 | 2015-03-01 | Brooks Automation Inc | 基板運送機、基板處理裝置和系統、於基板處理期間降低基板之微粒污染的方法,及使運送機與處理機結合之方法 |
JP4309935B2 (ja) * | 2007-07-31 | 2009-08-05 | Tdk株式会社 | 密閉容器の蓋開閉システム及び当該システムを用いた基板処理方法 |
JP4264115B2 (ja) | 2007-07-31 | 2009-05-13 | Tdk株式会社 | 被収容物の処理方法及び当該方法に用いられる蓋開閉システム |
JP2010165943A (ja) | 2009-01-16 | 2010-07-29 | Renesas Electronics Corp | 半導体装置の製造方法およびウェハ処理システム |
JP5433290B2 (ja) | 2009-04-20 | 2014-03-05 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板収納方法及び制御装置 |
JP5093621B2 (ja) * | 2009-09-18 | 2012-12-12 | Tdk株式会社 | ロードポート装置及び該ロードポート装置の排塵方法 |
US8870516B2 (en) * | 2010-06-30 | 2014-10-28 | Brooks Automation, Inc. | Port door positioning apparatus and associated methods |
JP5736686B2 (ja) | 2010-08-07 | 2015-06-17 | シンフォニアテクノロジー株式会社 | ロードポート |
JP5617708B2 (ja) * | 2011-03-16 | 2014-11-05 | 東京エレクトロン株式会社 | 蓋体開閉装置 |
JP2012204645A (ja) * | 2011-03-25 | 2012-10-22 | Tokyo Electron Ltd | 蓋体開閉装置 |
JP5494579B2 (ja) * | 2011-07-05 | 2014-05-14 | Tdk株式会社 | ロードポート装置 |
JP5494734B2 (ja) * | 2011-08-15 | 2014-05-21 | Tdk株式会社 | パージ装置及び該パージ装置を有するロードポート装置 |
JP2013161924A (ja) | 2012-02-03 | 2013-08-19 | Tokyo Electron Ltd | 基板収容容器のパージ装置及びパージ方法 |
JP5993252B2 (ja) * | 2012-09-06 | 2016-09-14 | 東京エレクトロン株式会社 | 蓋体開閉装置及びこれを用いた熱処理装置、並びに蓋体開閉方法 |
JP6198043B2 (ja) * | 2013-06-06 | 2017-09-20 | Tdk株式会社 | ロードポートユニット及びefemシステム |
JP6291878B2 (ja) * | 2014-01-31 | 2018-03-14 | シンフォニアテクノロジー株式会社 | ロードポート及びefem |
US9698038B2 (en) * | 2014-08-28 | 2017-07-04 | Infineon Technologies Ag | Adapter tool and wafer handling system |
SG11202001780UA (en) * | 2017-09-08 | 2020-03-30 | Murata Machinery Ltd | Storage system and purge method in storage system |
JP7069651B2 (ja) * | 2017-11-09 | 2022-05-18 | Tdk株式会社 | ロードポート装置 |
US10403514B1 (en) | 2018-04-12 | 2019-09-03 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate transporting system, storage medium and substrate transporting method |
CN112644841B (zh) * | 2020-12-03 | 2022-09-09 | Tcl华星光电技术有限公司 | 一种卡匣及自动化洁净仓储 |
KR20230096337A (ko) * | 2021-12-23 | 2023-06-30 | 주식회사 저스템 | 로드포트모듈의 웨이퍼 용기의 습도저감장치 및 이를 구비한 반도체 공정장치 |
Family Cites Families (46)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4724874A (en) | 1986-05-01 | 1988-02-16 | Asyst Technologies | Sealable transportable container having a particle filtering system |
JP3191392B2 (ja) * | 1992-04-07 | 2001-07-23 | 神鋼電機株式会社 | クリーンルーム用密閉式コンテナ |
JP3277550B2 (ja) | 1992-05-21 | 2002-04-22 | 神鋼電機株式会社 | 可搬式密閉コンテナ用ガスパージユニット |
JP3252457B2 (ja) | 1992-07-29 | 2002-02-04 | 神鋼電機株式会社 | 可搬式密閉容器のガスパージ方法 |
JP3240698B2 (ja) | 1992-08-20 | 2001-12-17 | 神鋼電機株式会社 | 可搬式密閉コンテナのパージステーション |
KR100304127B1 (ko) | 1992-07-29 | 2001-11-30 | 이노마다 시게오 | 가반식 밀폐 컨테이너를 사용한 전자기판 처리시스템과 그의 장치 |
JP3355697B2 (ja) | 1993-05-19 | 2002-12-09 | 神鋼電機株式会社 | 可搬式密閉コンテナおよびガスパージステーション |
JPH0745488A (ja) | 1993-07-30 | 1995-02-14 | Kokusai Electric Co Ltd | 清浄雰囲気保持容器 |
DE4326308C1 (de) | 1993-08-05 | 1994-10-20 | Jenoptik Jena Gmbh | Transportvorrichtung für Magazine zur Aufnahme scheibenförmiger Objekte |
JP3331693B2 (ja) | 1993-09-14 | 2002-10-07 | 神鋼電機株式会社 | ガスパージ装置 |
JP3180600B2 (ja) | 1995-01-09 | 2001-06-25 | 神鋼電機株式会社 | 密閉コンテナ |
US5586585A (en) | 1995-02-27 | 1996-12-24 | Asyst Technologies, Inc. | Direct loadlock interface |
ATE275759T1 (de) | 1995-03-28 | 2004-09-15 | Brooks Automation Gmbh | Be- und entladestation für halbleiterbearbeitungsanlagen |
DE19540963C2 (de) | 1995-11-03 | 1999-05-20 | Jenoptik Jena Gmbh | Transportbehälter für scheibenförmige Objekte |
US5806574A (en) * | 1995-12-01 | 1998-09-15 | Shinko Electric Co., Ltd. | Portable closed container |
US5810062A (en) | 1996-07-12 | 1998-09-22 | Asyst Technologies, Inc. | Two stage valve for charging and/or vacuum relief of pods |
DE19715113C2 (de) * | 1997-04-11 | 1999-01-28 | Siemens Ag | Verfahren zur Phasenkorrektur von Kernresonanzsignalen |
JPH10321714A (ja) * | 1997-05-20 | 1998-12-04 | Sony Corp | 密閉コンテナ並びに密閉コンテナ用雰囲気置換装置及び雰囲気置換方法 |
JPH11168135A (ja) * | 1997-12-03 | 1999-06-22 | Toshiba Corp | 基板保管装置および基板保管方法 |
JP4164891B2 (ja) | 1998-03-03 | 2008-10-15 | 神鋼電機株式会社 | ウェーハ収納容器 |
US5988233A (en) | 1998-03-27 | 1999-11-23 | Asyst Technologies, Inc. | Evacuation-driven SMIF pod purge system |
US6164664A (en) | 1998-03-27 | 2000-12-26 | Asyst Technologies, Inc. | Kinematic coupling compatible passive interface seal |
US6319297B1 (en) | 1998-03-27 | 2001-11-20 | Asyst Technologies, Inc. | Modular SMIF pod breather, adsorbent, and purge cartridges |
JP3367421B2 (ja) | 1998-04-16 | 2003-01-14 | 東京エレクトロン株式会社 | 被処理体の収納装置及び搬出入ステージ |
JP3939020B2 (ja) | 1998-05-01 | 2007-06-27 | クリエート産業株式会社 | 乾燥装置および洗浄を含む乾燥システム |
US6056026A (en) | 1998-12-01 | 2000-05-02 | Asyst Technologies, Inc. | Passively activated valve for carrier purging |
US6641349B1 (en) * | 1999-04-30 | 2003-11-04 | Tdk Corporation | Clean box, clean transfer method and system |
TW461012B (en) * | 1999-05-18 | 2001-10-21 | Tdk Corp | Load port mounting mechanism |
JP2000353738A (ja) * | 1999-06-11 | 2000-12-19 | Sony Corp | 密閉コンテナ、保管装置および電子部品搬送システム、ならびに電子部品の保管および搬送方法 |
US6135168A (en) | 1999-12-22 | 2000-10-24 | Industrial Technology Research Institute | Standard mechanical interface wafer pod gas filling system |
JP2001298076A (ja) * | 2000-04-12 | 2001-10-26 | Sony Corp | 基板搬送コンテナ |
US6901971B2 (en) * | 2001-01-10 | 2005-06-07 | Entegris, Inc. | Transportable container including an internal environment monitor |
JP3953751B2 (ja) | 2001-05-28 | 2007-08-08 | Tdk株式会社 | ウェーハマッピング装置 |
JP2003092345A (ja) * | 2001-07-13 | 2003-03-28 | Semiconductor Leading Edge Technologies Inc | 基板収納容器、基板搬送システム、保管装置及びガス置換方法 |
JP3880343B2 (ja) | 2001-08-01 | 2007-02-14 | 株式会社ルネサステクノロジ | ロードポート、基板処理装置および雰囲気置換方法 |
US6588123B2 (en) * | 2001-12-05 | 2003-07-08 | Promos Technologies, Inc. | Apparatus and method for preventing a wafer mapping system of an SMIF system from being polluted by corrosive gases remaining on wafers |
TW545693U (en) * | 2002-05-15 | 2003-08-01 | Macronix Int Co Ltd | Air inlet structure of vacuum isolating chamber |
US6772805B2 (en) * | 2002-11-22 | 2004-08-10 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd | In-situ purge system for article containers |
US6984839B2 (en) * | 2002-11-22 | 2006-01-10 | Tdk Corporation | Wafer processing apparatus capable of mapping wafers |
JP2004235516A (ja) * | 2003-01-31 | 2004-08-19 | Trecenti Technologies Inc | ウエハ収納治具のパージ方法、ロードポートおよび半導体装置の製造方法 |
US6899145B2 (en) * | 2003-03-20 | 2005-05-31 | Asm America, Inc. | Front opening unified pod |
US20040237244A1 (en) * | 2003-05-26 | 2004-12-02 | Tdk Corporation | Purge system for product container and interface seal used in the system |
JP3902583B2 (ja) * | 2003-09-25 | 2007-04-11 | Tdk株式会社 | 可搬式密閉容器内部のパージシステムおよびパージ方法 |
US7621714B2 (en) * | 2003-10-23 | 2009-11-24 | Tdk Corporation | Pod clamping unit in pod opener, pod corresponding to pod clamping unit, and clamping mechanism and clamping method using pod clamping unit |
JP4301456B2 (ja) | 2005-11-30 | 2009-07-22 | Tdk株式会社 | 密閉容器の蓋開閉システム |
JP4278676B2 (ja) | 2005-11-30 | 2009-06-17 | Tdk株式会社 | 密閉容器の蓋開閉システム |
-
2004
- 2004-10-26 JP JP2004310327A patent/JP4012190B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2005
- 2005-10-25 TW TW094137314A patent/TWI278057B/zh not_active IP Right Cessation
- 2005-10-25 US US11/257,307 patent/US7523769B2/en active Active
- 2005-10-26 KR KR1020050101164A patent/KR100744349B1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW200631119A (en) | 2006-09-01 |
KR100744349B1 (ko) | 2007-07-30 |
KR20060049373A (ko) | 2006-05-18 |
JP2006128153A (ja) | 2006-05-18 |
TWI278057B (en) | 2007-04-01 |
US7523769B2 (en) | 2009-04-28 |
US20060088406A1 (en) | 2006-04-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4012190B2 (ja) | 密閉容器の蓋開閉システム及び開閉方法 | |
JP4027837B2 (ja) | パージ装置およびパージ方法 | |
JP4251580B1 (ja) | 被収容物搬送システム | |
KR101030884B1 (ko) | 닫힘 용기용 덮개 개폐 시스템 및 이를 이용한 기재 처리방법 | |
JP4763841B2 (ja) | 基板処理装置および半導体装置の製造方法 | |
CN109560021B (zh) | 基板处理装置、基板处理方法以及计算机存储介质 | |
JP2005150706A (ja) | 基板移送コンテナ、基板移送装置および基板移送方法 | |
US11501987B2 (en) | Loadlock module and semiconductor manufacturing apparatus including the same | |
JP4255222B2 (ja) | 基板処理装置、基板処理方法および半導体装置の製造方法 | |
US6592679B2 (en) | Clean method for vacuum holding of substrates | |
JP4790326B2 (ja) | 処理システム及び処理方法 | |
JP3964361B2 (ja) | パージ装置およびパージ方法 | |
JP2005079250A (ja) | 基板処理装置 | |
CN107924834B (zh) | 基板处理方法及基板处理装置 | |
KR100679591B1 (ko) | 퍼지 장치 및 퍼지 방법 | |
JP4383636B2 (ja) | 半導体製造装置および半導体装置の製造方法 | |
TW202314934A (zh) | Efem及efem之氣體置換方法 | |
JP3856726B2 (ja) | 半導体製造装置 | |
JP2005347667A (ja) | 半導体製造装置 | |
JP2011061156A (ja) | 基板処理装置、ガス導入装置、及び半導体装置の製造方法 | |
JP2004119627A (ja) | 半導体製造装置 | |
JP2002246436A (ja) | 基板処理装置 | |
JP4728383B2 (ja) | 基板処理装置および半導体装置の製造方法 | |
JP2002246445A (ja) | 基板処理装置 | |
JP2003297763A (ja) | 半導体製造装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070606 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070627 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070813 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20070903 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20070906 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100914 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110914 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120914 Year of fee payment: 5 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |