JP2002246436A

JP2002246436A - 基板処理装置

Info

Publication number: JP2002246436A
Application number: JP2001040096A
Authority: JP
Inventors: Tatsuhisa Matsunaga; 建久松永; Osamu Okafuji; 修岡藤; Koichi Noto; 幸一能戸
Original assignee: Hitachi Kokusai Electric Inc
Current assignee: Hitachi Kokusai Electric Inc
Priority date: 2001-02-16
Filing date: 2001-02-16
Publication date: 2002-08-30

Abstract

(57)【要約】【課題】筐体幅の増加を防ぎつつポッドステージを筐
体内に設置する。【解決手段】筐体２の内部にポッドステージ３１と上
中下段のポッド棚２４、２５、２６とポッドオープナ２
１の載置台２２とを同一の垂直面内に含まれるように配
置し、ポッドステージ３１と各ポッド棚２４、２５、２
６との間、各ポッド棚２４、２５、２６とポッドオープ
ナ２１との間でポッドを搬送するポッド搬送装置３４を
ポッドステージ３１とポッドオープナ２１との間に設置
する。【効果】ポッドの搬送作業に際して、ポッド搬送装置
のポッドの搬送軌跡を垂直面に沿うように設定すれば済
むため、左右方向の移動幅を小さく設定でき、また、ポ
ッド搬送装置の構造や作動制御を簡単化することがで
き、ポッド搬送装置のイニシャルコストやランニングコ
ストを低減することができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、基板処理装置に関
し、例えば、半導体素子を含む半導体集積回路が作り込
まれる半導体ウエハ（以下、ウエハという。）に不純物
を拡散したり絶縁膜や金属膜等のＣＶＤ膜を形成したり
する拡散・ＣＶＤ装置に利用して有効なものに関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体装置の製造工程において、ウエハ
に不純物を拡散したり絶縁膜や金属膜等のＣＶＤ膜を形
成したりする工程には、バッチ式縦形拡散・ＣＶＤ装置
（以下、バッチ式ＣＶＤ装置という。）が使用されてい
る。

【０００３】ところで、バッチ式ＣＶＤ装置を含む基板
処理装置において被処理基板である複数枚のウエハを収
納して搬送するためのキャリア（ウエハ収納容器）とし
ては、互いに対向する一対の面が開口された略立方体の
箱形状に形成されているカセットと、一つの面が開口さ
れた略立方体の箱形状に形成され開口面にキャップが着
脱自在に装着されるＦＯＵＰ（front opening unified
pod 。以下、ポッドという。）とがある。ウエハのキャ
リアとしてポッドが使用される場合には、ウエハが密閉
された状態で搬送されることになるため、周囲の雰囲気
にパーティクル等が存在していたとしてもウエハの清浄
度は維持することができる。したがって、基板処理装置
が設置されるクリーンルーム内の清浄度をあまり高く設
定する必要がなくなるため、クリーンルームに要するコ
ストを低減することができる。そこで、最近のバッチ式
ＣＶＤ装置においては、ウエハのキャリアとしてポッド
が使用されて来ている。

【０００４】従来のバッチ式ＣＶＤ装置として、キャリ
アを筐体の内部に対して投入排出するように構成されて
いるタイプのものがある（例えば、特開平１１−３８６
２号公報参照）。すなわち、バッチ式ＣＶＤ装置は、ウ
エハに所望の処理を施すプロセスチューブと、複数枚の
ウエハを保持してプロセスチューブに搬入搬出するボー
トと、ウエハがボートの間でウエハ移載装置によって授
受されるウエハ授受ポートと、キャリアが置かれるキャ
リアステージと、キャリアを一時的に保管するキャリア
棚と、キャリアをキャリアステージとキャリア棚との間
およびキャリア棚とウエハ授受ポートとの間で搬送する
ポッド搬送装置とを備えており、これらがクリーンルー
ムから隔絶された筐体の内部に設置されている。

【０００５】そして、キャリアは筐体の内部に設置され
たキャリアステージに筐体の外部から投入され、キャリ
ア搬送装置によってキャリア棚に搬送されて一時的に保
管される。キャリア棚に保管されたキャリアはキャリア
搬送装置によってウエハ授受ポートに搬送される。ウエ
ハ授受ポートに搬送されたキャリアの複数枚のウエハは
ボートにウエハ移載装置によって装填（チャージング）
される。ボートに装填されたウエハはボートによってプ
ロセスチューブに搬入（ローディング）され、プロセス
チューブによって所望の処理を施される。処理されたウ
エハはボートによってプロセスチューブから搬出（アン
ローディング）される。処理済みのウエハはボートから
ウエハ移載装置によってディスチャージングされ、ウエ
ハ授受ポートの空のキャリアに戻される。処理済みのウ
エハを収納されたキャリアはキャリア搬送装置によって
キャリア棚に一時的に保管された後に、キャリアステー
ジに搬送される。キャリアステージに戻されたキャリア
はキャリアステージから筐体の外部へ排出される。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】ところで、筐体内に設
置されるキャリアステージが二台のキャリアを左右横並
びに載置するように構成されている場合には、左右両方
のキャリアに対応するために、キャリア搬送装置には二
本のハンドを装備したり、一本のハンドが左右に首振り
作動するように構成したりする必要がある。

【０００７】しかしながら、キャリア搬送装置に二本の
ハンドを装備したり一本のハンドが左右に首振り作動す
るように構成すると、筐体の幅（間口）が大きくなるた
め、筐体がバッチ式ＣＶＤ装置の規格外になったり、イ
ニシャルコストやランニングコストが大きくなったりし
てしまう。

【０００８】本発明の目的は、筐体の幅の増加を防止す
ることができる基板処理装置を提供することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明に係る基板処理装
置は、複数枚の基板を収納するポッドのキャップを開閉
するポッドオープナと、複数の前記ポッドを垂直方向に
並べて保管する複数のポッド棚とを備えており、前記ポ
ッドオープナと前記複数のポッド棚とは、ポッドオープ
ナの載置部に載置されるポッドの中心線の延長線と、各
ポッド棚に載置されるポッドの中心線の延長線とが一致
するように配置されていることを特徴とする。

【００１０】前記した手段によれば、複数のポッド棚は
ポッドオープナの垂直方向に並んでいるため、複数のポ
ッドを筐体の幅を広げずに待機させることができる。

【００１１】

【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施の形態を図
面に即して説明する。

【００１２】本実施の形態において、本発明に係る基板
処理装置は、一回のバッチ処理の枚数が五十枚程度以下
の小バッチを取り扱うバッチ式ＣＶＤ装置すなわち小バ
ッチ式縦形拡散・ＣＶＤ装置（以下、小バッチ式ＣＶＤ
装置という。）として構成されている。この小バッチ式
ＣＶＤ装置は製品基板としてはプロダクトウエハを取り
扱うものとして構成されており、キャリアとしてはポッ
ドを取り扱うものとして構成されている。なお、以下の
説明において、前後左右は図２を基準とする。すなわ
ち、ポッド投入排出口３０側が前側、その反対側が後
側、クリーンユニット１７側が左側、その反対側が右側
とする。

【００１３】図１〜図５に示されているように、小バッ
チ式ＣＶＤ装置１は筐体２を備えており、筐体２の内部
の後端部の上部にはヒータユニット３が垂直方向に据え
付けられており、ヒータユニット３の内部にはプロセス
チューブ４が同心に配置されている。プロセスチューブ
４にはプロセスチューブ４内に原料ガスやパージガス等
を導入するためのガス導入管５と、プロセスチューブ４
内を真空排気するための排気管６とが接続されている。

【００１４】筐体２の後端部の下部には送りねじ装置等
によって構成されたエレベータ７が設置されており、エ
レベータ７はプロセスチューブ４の真下に水平に配置さ
れたシールキャップ８を垂直方向に昇降させるように構
成されている。シールキャップ８はプロセスチューブ４
の炉口である下端開口をシールするように構成されてい
るとともに、ボート９を垂直に支持するように構成され
ている。ボート９は基板としてのウエハＷを複数枚（例
えば、五十枚程度以下）、中心を揃えて水平に配置した
状態で支持して、プロセスチューブ４の処理室に対して
エレベータ７によるシールキャップ８の昇降に伴って搬
入搬出するように構成されている。

【００１５】図３および図５に示されているように、筐
体２の内部におけるボート９の前側領域にはボート９に
対してウエハＷをチャージングおよびディスチャージン
グするウエハ移載装置１０が設置されている。ウエハ移
載装置１０はロータリーアクチュエータ１１を備えてお
り、ロータリーアクチュエータ１１は上面に設置された
第一リニアアクチュエータ１２を水平面内で回転させる
ように構成されている。第一リニアアクチュエータ１２
の上面には第二リニアアクチュエータ１３が設置されて
おり、第一リニアアクチュエータ１２は第二リニアアク
チュエータ１３を水平移動させるように構成されてい
る。第二リニアアクチュエータ１３の上面には移動台１
４が設置されており、第二リニアアクチュエータ１３は
移動台１４を水平移動させるように構成されている。移
動台１４にはウエハＷを下から支持するツィーザ１５が
複数枚（本実施の形態においては五枚）、等間隔に配置
されて水平に取り付けられている。ウエハ移載装置１０
は送りねじ装置等によって構成されたエレベータ１６に
よって昇降されるようになっている。

【００１６】なお、図３に示されているように、筐体２
の内部における左側壁にはクリーンエアを吹き出すクリ
ーンユニット１７が設置されており、また、筐体２の内
部のウエハ移載装置１０の左脇にはウエハＷに切設され
たノッチの位置を合わせるノッチ合わせ装置１８が設置
されている。

【００１７】図１〜図５に示されているように、筐体２
の前後方向の中央部には筐体２の内部を前後に仕切る隔
壁１９が左右方向に延在して垂直に構築されており、隔
壁１９のウエハ移載装置１０と対向する位置にはウエハ
Ｗを筐体２に対して搬入搬出するためのウエハポートと
してのウエハ搬入搬出口２０が開設されている。ウエハ
搬入搬出口２０にはポッドオープナ２１が設置されてい
る。ポッドオープナ２１はポッドを載置する載置台２２
と、載置台２２に載置されたポッドのキャップを着脱す
るキャップ着脱機構２３とを備えており、載置台２２に
載置されたポッドのキャップをキャップ着脱機構２３に
よって着脱することにより、ポッドのウエハ出し入れ口
を開閉するように構成されている。載置台２２の上面に
おける二等辺三角形の三つの頂角の位置には、ポッドの
下面に没設された位置決め穴（図示せず）に嵌入する位
置決め突起２２ａがそれぞれ突設されている。

【００１８】図１、図２および図４に示されているよう
に、隔壁１９の正面におけるウエハ搬入搬出口２０の上
方には上中下段のポッド棚２４、２５、２６が垂直方向
に一列に並ぶように設置されている。上中下段のポッド
棚２４、２５、２６はいずれも同一の構造に構成され、
一部が切り欠かれた正方形枠形状の載置板２７を備えて
おり、載置板２７の上面における二等辺三角形の三つの
頂角の位置には、ポッドの位置決め穴に嵌入する位置決
め突起２８がそれぞれ突設されている。そして、ポッド
オープナ２１と上中下段のポッド棚２４、２５、２６と
は、ポッドオープナ２１の載置台２２に載置されて位置
決めされたポッドの中心線の延長線と、上中下段のポッ
ド棚２４、２５、２６に載置されて位置決めされたポッ
ドの中心線の延長線とが一致するように配置されてい
る。

【００１９】図１〜図４に示されているように、筐体２
の正面壁２ａにおけるウエハ搬入搬出口２０に対向する
位置には、ポッドを筐体２に対して投入排出するための
ポッド投入排出口３０が開設されており、筐体２の内部
におけるポッド投入排出口３０に対向する位置にはポッ
ドステージ３１が設置されている。つまり、ポッドステ
ージ３１とポッドオープナ２１の載置台２２と上中下段
のポッド棚２４、２５、２６とは同一の垂直面内に含ま
れるように配置されている。ポッドステージ３１は平面
視が凹字形状の載置板３２を備えており、載置板３２の
上面における二等辺三角形の三つの頂角の位置には、ポ
ッドの位置決め穴に嵌入する位置決め突起３３がそれぞ
れ突設されている。ポッドステージ３１に対してはポッ
ドがポッド投入排出口３０を通して、図示しない工程内
搬送装置（ＡＧＶまたはＯＨＴ）によって投入および排
出されるようになっている。

【００２０】図１〜図４に示されているように、筐体２
の内部のポッドステージ３１とポッドオープナ２１との
間にはポッド搬送装置３４が設備されており、ポッド搬
送装置３４はポッドをポッドステージ３１とポッド棚２
４、２５、２６との間およびポッド棚２４、２５、２６
とポッドオープナ２１との間で搬送するように構成され
ている。ポッド搬送装置３４はエレベータ３５と、エレ
ベータ３５によって昇降されるベース３６と、ベース３
６に回転自在に支承されロータリーアクチュエータ３７
によって回転駆動されるアーム３８と、アーム３８の自
由端部に回転自在に支承されてロータリーアクチュエー
タ３９によって回転駆動されるホルダ４０とを備えてお
り、ホルダ４０の上面における二等辺三角形の三つの頂
角の位置には、ポッドの位置決め穴に嵌入する位置決め
突起４１がそれぞれ突設されている。

【００２１】以下、前記構成に係る小バッチ式ＣＶＤ装
置の作用を説明する。初期の状態においては、図１に示
されているように、上中下段のポッド棚２４、２５、２
６のいずれにもポッドは載置されていない。

【００２２】本実施の形態においては、図２〜図４に示
されているように、サイドダミーウエハＷａを収納した
ポッド（以下、ダミーウエハ用ポッドＰａという。）が
上段のポッド棚２４に載置され、モニタウエハＷｂを収
納したポッド（以下、モニタウエハ用ポッドＰｂとい
う。）が中段のポッド棚２５に載置される。

【００２３】予め、上段のポッド棚２４に載置されたダ
ミーウエハ用ポッドＰａはポッド搬送装置３４のホルダ
４０によってピックアップされ、ポッドオープナ２１に
搬送され、載置台２２の上へプットダウンされて載置さ
れる。

【００２４】ポッドオープナ２１の載置台２２に載置さ
れたダミーウエハ用ポッドＰａは、キャップをキャップ
着脱機構２３によって外されてウエハ出し入れ口を開放
される。続いて、予め指定された枚数のダミーウエハＷ
ａがダミーウエハ用ポッドＰａからウエハ移載装置１０
によって引き出されてボート９に装填（チャージング）
される。この際、図５に示されているように、ダミーウ
エハＷａはボート９の上端部および下端部に装填され
る。所定枚のダミーウエハＷａが引き出されたダミーウ
エハ用ポッドＰａは、ポッドオープナ２１の載置台２２
の上からポッド搬送装置３４によってピックアップさ
れ、元の上段のポッド棚２４に搬送されて載置される。

【００２５】小バッチ式ＣＶＤ装置１のプロダクトウエ
ハＷｃに対する成膜処理に際して、プロダクトウエハＷ
ｃを収納したポッド（以下、プロダクトウエハ用ポッド
Ｐｃという。）が下段のポッド棚２６に載置される。す
なわち、工程内搬送装置によって搬送されて来たプロダ
クトウエハ用ポッドＰｃは、ポッド投入排出口３０から
筐体２の内部に投入され、ポッドステージ３１の載置板
３２の上に載置される。

【００２６】ポッドステージ３１のプロダクトウエハ用
ポッドＰｃは載置板３２からポッド搬送装置３４のホル
ダ４０によってピックアップされ、下段のポッド棚２６
に搬送され、載置板２７の上にプットダウンされて載置
される。

【００２７】下段のポッド棚２６に供給されたプロダク
トウエハ用ポッドＰｃはポッド搬送装置３４のホルダ４
０によってピックアップされ、ポッドオープナ２１に搬
送され、載置台２２の上へプットダウンされて載置され
る。

【００２８】ポッドオープナ２１の載置台２２に載置さ
れたプロダクトウエハ用ポッドＰｃは、ウエハ出し入れ
口がキャップをキャップ着脱機構２３によって外されて
開放される。続いて、プロダクトウエハ用ポッドＰｃに
収納された複数枚（通例、二十五枚）のプロダクトウエ
ハＷｃは、プロダクトウエハ用ポッドＰｃからウエハ移
載装置１０によって引き出されてボート９に装填（チャ
ージング）されて行く。この際、図５に示されているよ
うに、プロダクトウエハＷｃはボート９のダミーウエハ
Ｗａが装填された上端部と下端部との間である中央部に
装填される。

【００２９】全てのプロダクトウエハＷｃがボート９に
装填されることによって空になったプロダクトウエハ用
ポッドＰｃは、ポッドオープナ２１の載置台２２の上か
らポッド搬送装置３４によってピックアップされ、元の
下段のポッド棚２６に搬送されて載置される。

【００３０】次いで、中段のポッド棚２５に予め載置さ
れたモニタウエハ用ポッドＰｂが、ポッド搬送装置３４
のホルダ４０によってピックアップされ、ポッドオープ
ナ２１に搬送され、載置台２２の上へプットダウンされ
て載置される。

【００３１】ポッドオープナ２１の載置台２２に載置さ
れたモニタウエハ用ポッドＰｂは、ウエハ出し入れ口が
キャップをキャップ着脱機構２３によって外されて開放
される。続いて、指定された枚数のモニタウエハＷｂが
プロダクトウエハ用ポッドＰｃからウエハ移載装置１０
によって引き出されてボート９に装填される。この際、
図５に示されているように、モニタウエハＷｂはボート
９の予め指定された場所に装填される。指定されたモニ
タウエハＷｂがボート９に装填されたモニタウエハ用ポ
ッドＰｂは、ポッドオープナ２１の載置台２２の上から
ポッド搬送装置３４によってピックアップされ、元の中
段のポッド棚２５に搬送されて載置される。

【００３２】図５に示されているように、ダミーウエハ
Ｗａ、プロダクトウエハＷｃおよびモニタウエハＷｂが
予め指定された枚数（例えば、三十枚〜三十二枚）がボ
ート９に装填されると、ボート９はエレベータ７によっ
て上昇されてプロセスチューブ４の処理室に搬入され
る。ボート９が上限に達すると、ボート９を保持したシ
ールキャップ８の上面の周辺部がプロセスチューブ４を
シール状態に閉塞するため、処理室は気密に閉じられた
状態になる。

【００３３】プロセスチューブ４の処理室は気密に閉じ
られた状態で、所定の圧力となるように排気管６によっ
て排気され、ヒータユニット３によって所定の温度に加
熱され、所定の原料ガスがガス導入管５によって所定の
流量だけ供給される。これにより、予め設定された処理
条件に対応する所望の膜がダミーウエハＷａ、プロダク
トウエハＷｃおよびモニタウエハＷｂに形成される。

【００３４】予め設定された処理時間が経過すると、ボ
ート９がエレベータ７によって下降されることにより、
処理済みのダミーウエハＷａ、プロダクトウエハＷｃお
よびモニタウエハＷｂを保持したボート９が元の待機位
置に搬出される。

【００３５】ボート９が待機位置に搬出されると、ま
ず、処理済みのプロダクトウエハＷｃがウエハ移載装置
１０によってディスチャージングされて、ポッドオープ
ナ２１の載置台２２に載置されたプロダクトウエハ用ポ
ッドＰｃに収納される。なお、下段のポッド棚２６に載
置されたプロダクトウエハ用ポッドＰｃは処理中にポッ
ドオープナ２１の載置台２２にポッド搬送装置３４によ
って搬送されて載置されている。

【００３６】次いで、中段のポッド棚２５に載置された
モニタウエハ用ポッドＰｂがポッドオープナ２１の載置
台２２にポッド搬送装置３４によって搬送されて載置さ
れる。続いて、処理済みのモニタウエハＷｂがウエハ移
載装置１０によってディスチャージングされて、ポッド
オープナ２１の載置台２２に載置されたモニタウエハ用
ポッドＰｂに収納される。モニタウエハＷｂを戻された
モニタウエハ用ポッドＰｂは、キャップ着脱機構２３に
よってキャップを装着された後に、ポッドオープナ２１
から元の中段のポッド棚２５にポッド搬送装置３４によ
って搬送されて載置される。

【００３７】処理済みプロダクトウエハＷｃのプロダク
トウエハ用ポッドＰｃへの収納作業が完了すると、プロ
ダクトウエハＷｃが一杯になったプロダクトウエハ用ポ
ッドＰｃはキャップ着脱機構２３によってキャップを装
着される。続いて、プロダクトウエハ用ポッドＰｃはポ
ッドオープナ２１の載置台２２から下段のポッド棚２６
に搬送されて戻される。

【００３８】他方、ボート９の処理済みのダミーウエハ
Ｗａは複数処理回数使用されるため、予め指定された回
数に達する迄はボート９に残される。

【００３９】下段のポッド棚２６に戻されたプロダクト
ウエハ用ポッドＰｃは、ポッドステージ３１へポッド搬
送装置３４によって搬送されて載置される。そして、ポ
ッドステージ３１に載置されたプロダクトウエハ用ポッ
ドＰｃは筐体２の外部へ、ポッド投入排出口３０から工
程内搬送装置によって取り出され、次の工程へ搬送され
て行く。

【００４０】以降、前述した作用が繰り返されて、プロ
ダクトウエハＷｃが例えば二十五枚ずつ、小バッチ式Ｃ
ＶＤ装置１によってバッチ処理されて行く。

【００４１】なお、処理済みのモニタウエハＷｂを収納
されて中段のポッド棚２５に戻されたモニタウエハ用ポ
ッドＰｂは、中段のポッド棚２５からポッドステージ３
１に搬送される。そして、処理済みのモニタウエハＷｂ
は筐体２の外部へ、ポッド投入排出口３０から工程内搬
送装置によって取り出され、欠陥検査工程等へ搬送され
て行く。

【００４２】また、ダミーウエハＷａは繰り返しの使用
によって反りや汚染が許容値以上になった時期におい
て、ボート９から取り出されてダミーウエハ用ポッドＰ
ａに収納され、上段のポッド棚２４を経由してポッドス
テージ３１に搬送される。そして、使用済みのダミーウ
エハＷａは筐体２の外部へ、ポッド投入排出口３０から
工程内搬送装置によって取り出され、ダミーウエハ交換
工程等へ搬送されて行く。

【００４３】ところで、ポッドステージ３１と上中下段
のポッド棚２４、２５、２６とポッドオープナ２１の載
置台２２とが同一の垂直面内に含まれるように配置され
ていることにより、前述した各ポッドＰａ、Ｐｂ、Ｐｃ
の搬送作業に際して、ポッド搬送装置３４の各ポッドＰ
ａ、Ｐｂ、Ｐｃの搬送軌跡は当該垂直面に沿うように設
定すれば済むため、左右方向の移動幅を小さく設定する
ことができる。つまり、本実施の形態によれば、筐体２
の左右方向の幅（間口）を小さく設定することができ
る。

【００４４】前記実施の形態によれば、次の効果が得ら
れる。

【００４５】1) ポッドオープナと上中下段のポッド棚
とをポッドオープナの載置部に載置されるポッドの中心
線の延長線と、上中下段のポッド棚に載置されるポッド
の中心線の延長線とが一致するように配置することによ
り、ポッドオープナと上中下段のポッド棚との間のポッ
ドの搬送作業に際して、ポッド搬送装置のポッドの搬送
軌跡を垂直面に沿うように設定すれば済むため、左右方
向の移動幅を小さく設定することができ、また、ポッド
搬送装置の構造や作動の制御を簡単化することができ、
ポッド搬送装置のイニシャルコストやランニングコスト
を低減することができる。

【００４６】2) ポッドステージと上中下段のポッド棚
とポッドオープナの載置台とを同一の垂直面内に含まれ
るように配置することにより、ポッドの搬送作業に際し
て、ポッド搬送装置のポッドの搬送軌跡を当該垂直面に
沿うように設定すれば済むため、左右方向の移動幅を小
さく設定することができ、また、ポッド搬送装置の構造
や作動制御を簡単化することができ、ポッド搬送装置の
イニシャルコストやランニングコストを低減することが
できる。

【００４７】3) 筐体の左右方向の幅（間口）を小さく
設定することにより、筐体がバッチ式ＣＶＤ装置の規格
の範囲外になるのを防止することができ、また、筐体の
容積を小さく設定することにより、フットプリント（占
有床面積）を小さくしてクリーンルームの有効活用を図
ることができ、ＣＶＤ装置のイニシャルコストやランニ
ングコストを低減することができる。

【００４８】4) ポッドオープナと上中下段のポッド棚
とを垂直線上に配置することにより、上中下段のポッド
棚を設置することによる占拠面積の増加を回避すること
ができる。

【００４９】なお、本発明は前記実施の形態に限定され
るものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々に変
更が可能であることはいうまでもない。

【００５０】例えば、上中下三段のポッド棚を設置する
に限らず、上下二段のポッド棚を設置してもよい。この
場合には、一方のポッド棚に載置されるポッドによって
モニタウエハを取り扱うように設定することができる。

【００５１】また、四段以上のポッド棚を設置してもよ
い。この場合には、二十五枚以上のウエハを取り扱うこ
とができる。

【００５２】バッチ式ＣＶＤ装置は成膜処理に使用する
に限らず、酸化膜形成処理や拡散処理等の処理にも使用
することができる。

【００５３】前記実施の形態ではバッチ式ＣＶＤ装置の
場合について説明したが、本発明はこれに限らず、基板
処理装置全般に適用することができる。

【００５４】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
筐体の幅の増加を防止することができるため、フットプ
リント（占有床面積）を小さくすることができ、さら
に、イニシャルコストやランニングコストを低減するこ
とができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施の形態である小バッチ式ＣＶＤ
装置を示す一部省略斜視図である。

【図２】ポッドの保管状態を示す一部省略斜視図であ
る。

【図３】その平面断面図である。

【図４】そのポッド棚側の部分を示す側面断面図であ
る。

【図５】プロセスチューブ側の部分を示す側面断面図で
ある。

【符号の説明】

Ｗ…ウエハ（基板）、Ｗａ…ダミーウエハ（ダミー基
板）、Ｗｂ…モニタウエハ（モニタ基板）、Ｗｃ…プロ
ダクトウエハ（製品基板）、Ｐａ…ダミーウエハ用ポッ
ド、Ｐｂ…モニタウエハ用ポッド、Ｐｃ…プロダクトウ
エハ用ポッド、１…小バッチ式ＣＶＤ装置（基板処理装
置）、２…筐体、２ａ…正面壁、３…ヒータユニット、
４…プロセスチューブ、５…ガス導入管、６…排気管、
７…エレベータ、８…シールキャップ、９…ボート、１
０…ウエハ移載装置、１１…ロータリーアクチュエー
タ、１２…第一リニアアクチュエータ、１３…第二リニ
アアクチュエータ、１４…移動台、１５…ツィーザ、１
６…エレベータ、１７…クリーンユニット、１８…ノッ
チ合わせ装置、１９…隔壁、２０…ウエハ搬入搬出口、
２１…ポッドオープナ、２２…載置台、２２ａ…位置決
め突起、２３…キャップ着脱機構、２４…上段のポッド
棚、２５…中段のポッド棚、２６…下段のポッド棚、２
７…載置板、２８…位置決め突起、３０…ポッド投入排
出口、３１…ポッドステージ、３２…載置板、３３…位
置決め突起、３４…ポッド搬送装置、３５…エレベー
タ、３６…ベース、３７…ロータリーアクチュエータ、
３８…アーム、３９…ロータリーアクチュエータ、４０
…ホルダ、４１…位置決め突起。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者能戸幸一東京都中野区東中野三丁目14番20号株式会社日立国際電気内Ｆターム(参考） 5F031 CA02 CA11 DA08 DA17 EA14 EA20 FA01 FA03 FA11 FA12 FA15 GA35 GA49 HA67 KA14 KA20 MA02 MA28 NA10 5F045 AF19 BB08 BB10 DP19 DQ05 EK06 EM10 EN04 EN05

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】複数枚の基板を収納するポッドのキャッ
プを開閉するポッドオープナと、複数の前記ポッドを垂
直方向に並べて保管する複数のポッド棚とを備えてお
り、前記ポッドオープナと前記複数のポッド棚とは、ポ
ッドオープナの載置部に載置されるポッドの中心線の延
長線と、各ポッド棚に載置されるポッドの中心線の延長
線とが一致するように配置されていることを特徴とする
基板処理装置。
【請求項２】請求項１に記載の基板処理装置であっ
て、前記ポッドが載置されるポッドステージとを備えて
おり、このポッドステージと前記ポッドオープナと前記
複数のポッド棚とは、ポッドステージに載置されたポッ
ドの中心線と、ポッドオープナの載置部に載置されたポ
ッドの中心線と、各ポッド棚に載置されたポッドの中心
線とが同一の垂直面内に含まれるように配置されている
ことを特徴とする基板処理装置。
【請求項３】複数枚の基板を収納するポッドのキャッ
プを開閉するポッドオープナと、このポッドオープナの
垂直方向に配置されて複数の前記ポッドを垂直方向に並
べて保管する複数のポッド棚と、ポッドを前記複数のポ
ッド棚と前記ポッドオープナとの間で垂直面内の前後方
向の移動によって搬送するポッド搬送装置とを備えてい
ることを特徴とする基板処理装置。
【請求項４】請求項３に記載の基板処理装置であっ
て、前記ポッドが載置されるポッドステージをさらに備
えており、前記ポッド搬送装置は前記ポッドを前記ポッ
ドステージと前記ポッド棚および／または前記ポッドオ
ープナとの間で垂直面内の前後方向の移動によって搬送
するよう構成されていることを特徴とする基板処理装
置。