JP3331693B2 - ガスパージ装置 - Google Patents
ガスパージ装置Info
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Description
表示板、レチクル、ディスク類の製造システムにおい
て、これらを可搬式密閉容器に収納して搬送する場合の
当該可搬式密閉容器のガスパージ装置に関する。
ル、ディスク類の製造は、内部雰囲気を清浄化したクリ
ーンルームにおいて行なわれるが、半導体ウェーハ等の
搬送・保管を、塵埃の付着を防止するために、可搬式密
閉容器(以下、コンテナという)に収納して行なう場合
がある。
伴い、空気中の酸素によるウエハ表面の自然酸化膜や空
気中の有機ガスの影響が問題となり始め、この自然酸化
膜の成長や有機ガス汚染を防止するため、ウエハWの移
動、搬送、処理等を特定の雰囲気例えばO2またはH2O
あるいは必要な場合両方の濃度が1.0ppm以下であ
るガス雰囲気中で行なうことが、要求されるようにな
り、この要求に応えるために、クリーンルーム内の表面
処理装置等の処理装置あるいはウェーハ保管庫等に、図
7に示すようなガスパージ機構(ガスパージユニット)
を設けるようにしている。
ハ1を収納したウェーハカセット、10は底蓋型の可搬
式密閉コンテナである。11は可搬式密閉コンテナ10
のコンテナ本体であって、開口12にフランジ13が形
成されている。20は中空の底蓋であって、上面はカセ
ット載置部21となっており、内部には、図8に示すよ
うな施錠・解錠機構を内蔵し、この施錠・解錠機構は側
壁22のラッチ棒進退用窓23からロッド(ラッチ棒)
24をコンテナ本体11のフランジ13の内周面に形成
された凹部14へ進退させて施錠・解錠する。底蓋20
は上記施錠時、フランジ13の底にシール材15を介し
て圧接し、コンテナ本体10内を外気に対して気密に遮
断する。16は把手である。
子24aを有し、長手方向進退可能かつ傾動可能に片持
ち支持されている。25は転動子24aが転動するカム
面を有するカム、26は支点部材、27はばねである。
カム軸28は後述する昇降台33の上壁中央から底蓋2
0内に伸び、昇降台33上に底蓋20が同心に載置され
た時に、カム25とスプライン係合する。昇降台33は
カム軸28を所定角度だけ回動するカム軸駆動機構29
を内蔵している。
であり、その本体ケース31の上壁(ポートプレート)
31aにはポート(開口部)31Aが設けられている。
32は昇降装置、33は昇降装置32の昇降台であっ
て、ポート31Aを気密に閉鎖するポートドアを兼ねて
いる。34はシール材である。35はポートプレート3
1aに形成された給気路であって、一端はポート31A
の内周面に開口し、他端(給気口)は管路36を介し不
活性ガスボンベ39に接続されている。37はポートプ
レート31aに形成された排気路であって、一端はポー
ト31Aの内周面に開口し、他端(排気口)は本体ケー
ス31外へ伸びる管路38に接続されている。40はO
N/OFF給気弁、41はON/OFF排気弁である。
コンテナ10が図示しない移載装置によりポートプレー
ト31a上へ移載され、底蓋20が昇降台33上に位置
決めされると、図示しない自動ロック機構により、コン
テナ本体11がポートプレート31a上に固定される。
次いで、前記施錠・解錠機構が作動して、底蓋20は解
錠される。この解錠が終わると、昇降台33が下降し、
コンテナ本体11内部と本体ケース31内部が連通す
る。この状態で、ON/OFF給気弁40、ON/OF
F排気弁41が開弁し、ガスパージが行なわれる。すな
わち、不活性ガスボンベ39からの不活性ガス(この例
では、N2ガス)が管路36、ON/OFF給気弁4
0、給気路35、を通って、例えば、70リットル/分
の流量で、本体ケース31内に流入し、可搬式密閉コン
テナ10内および本体ケース31内の空気を排気路3
7、排気弁41、管路38を通して追い出し、コンテナ
本体11内および本体ケース31内に充満する。
元の位置まで上昇し、底蓋20が開口12を気密に閉鎖
し、施錠・解錠機構が作動して底蓋20はコンテナ本体
11に固定される。コンテナ本体11を底蓋20で閉蓋
し終わると、上記図示しない自動ロック機構が外れ、可
搬式密閉コンテナ10は移載装置により所定の場所へ移
載される。
閉コンテナ10内を特定のガスでパージし、コンテナ内
部雰囲気を例えばO2またはH2Oあるいは必要な場合両
方の濃度が1ppm以下であるガス雰囲気にして、搬送
・保管するが、従来は、上記濃度までガスパージするの
に、かなり長い時間を必要とし、その結果、高価である
不活性ガスの消費量も多く、また、場合によっては目標
値まで濃度が下がらないという問題があった。本発明は
この種の問題を解消するためになされたもので、簡便な
手段を用いるだけで、濃度をより低濃度の目標値まで下
げることができ、かつパージに要する時間を大幅に短縮
することができ、パージガスの消費量も低減することが
できる経済的なガスパージ装置を提供することを目的と
する。
するため、請求項1では、不活性ガス源から密閉空間内
部に不活性ガスを流入させることによって、該密閉空間
内部をガスパージするガスパージ装置において、前記密
閉空間内部を前記不活性ガス源と連絡し、前記密閉空間
の一方側に配置されたガス供給管路と、前記密閉空間内
部を外部と連絡し、前記密閉空間の他方側に配置された
排気管路と、前記不活性ガスによるガスパージを開始し
てから終了するまでの全期間にわたって、該不活性ガス
により前記密閉空間内部の圧力を大気圧よりも高い設定
圧力に維持するように前記排気管路の排気抵抗を調整し
て加圧する加圧手段とを有しており、前記加圧手段は、
前記ガス排気管路に設けられ、弁開度の可変な流量調整
弁と、前記密閉空間内部の圧力を検出する圧力センサ
と、前記圧力センサによる検出値が前記設定圧力となる
ように前記流量調整弁の弁開度を制御する制御装置とを
有することを特徴としている。
内部に不活性ガスを流入させることによって、該密閉空
間内部をガスパージするガスパージ装置において、前記
密閉空間内部を前記不活性ガス源と連絡し、前記密閉空
間の一方側に配置されたガス供給管路と、前記密閉空間
内部を外部と連絡し、前記密閉空間の他方側に配置され
た排気管路と、前記不活性ガスによるガスパージを開始
してから終了するまでの全期間にわたって、該不活性ガ
スにより前記密閉空間内部の圧力を大気圧よりも高い設
定圧力に維持するように前記排気管路の排気抵抗を調整
して加圧する加圧手段とを有しており、前記加圧手段
は、前記ガス排気管路の配管長を可変にすることによっ
て排気抵抗を変えるように、該ガス排気管路の複数箇所
に設けられた分岐管路と、前記分岐管路の各々に設けら
れたON/OFF弁と、前記圧力センサによる検出値が
前記設定圧力となるように前記ON/OFF弁の開閉を
制御する制御装置とを有することを特徴としている。
内部に不活性ガスを流入させることによって、該密閉空
間内部をガスパージするガスパージ装置において、前記
密閉空間内部を前記不活性ガス源と連絡し、前記密閉空
間の一方側に配置されたガス供給管路と、前記密閉空間
内部を外部と連絡し、前記密閉空間の他方側に配置され
た排気管路と、前記不活性ガスによるガスパージを開始
してから終了するまでの全期間にわたって、該不活性ガ
スにより前記密閉空間内部の圧力を大気圧よりも高い設
定圧力に維持するように前記排気管路の排気抵抗を調整
して加圧する加圧手段とを有しており、前記加圧手段
は、前記ガス排気管路の配管径を可変にすることによっ
て排気抵抗を変えるように、該ガス排気管路の一箇所か
ら複数に分岐して設けられた分岐管路と、前記分岐管路
の各々に設けられたON/OFF弁と、前記圧力センサ
による検出値が前記設定圧力となるように前記ON/O
FF弁の開閉を制御する制御装置とを有することを特徴
としている。
1項に記載のガスパージ装置であって、前記設定圧力
は、1.03〜1.05気圧であることを特徴としてい
る。
パージを行なう。
明する。
30における本体ケース31の排気路37の出口に設け
られた流量調整弁であって、排気路37は流量調整弁5
0を介し、管路38に接続されている。60は排気抵抗
自動制御装置(弁開度制御装置)である。61は圧力セ
ンサであり、弁開度制御装置60は、圧力センサ61の
検出値が設定圧力(例えば、1.03〜1.05気圧)
になるように、流量調整弁50の弁開度を絞る。他の構
成は、図7のものと同じであるので、同一符号を付して
示してある。
について、以下に説明する。
コンテナ10が図示しない移載装置によりポートプレー
ト31a上へ移載され、底蓋20が昇降台33上に位置
決めされると、図示しない自動ロック機構により、コン
テナ本体11がポートプレート31a上に固定される。
次いで、前記施錠・解錠機構が作動して、底蓋20は解
錠される。この解錠が終わると、昇降台33が下降し、
コンテナ本体11内部と本体ケース31内部が連通す
る。
量調整弁50が開弁されるが、流量調整弁50の弁開度
は、弁開度制御装置60により、圧力センサ61の検出
値が設定圧力になるように制御される。
(この例では、N2ガス)は給気路35、ON/OFF
給気弁40を通って(例えば、70リットル/分の流
量)、本体ケース31内に流入し、可搬式密閉コンテナ
10内および本体ケース31内の空気を排気路37、流
量調整弁50を通して追い出すが、流量調整弁50が上
記のように絞られているので、コンテナ本体11と本体
ケース31が区画する密閉空間内が、前記図7の場合よ
りも、高く加圧される。
上記密閉空間内の圧力の大きさと酸素濃度の低減割合
(時間)との関係を示す線図である。
に等しい場合、図5は本実施例の場合であり、上記密閉
空間内の圧力が1.03〜1.05気圧である。
間T1で、残留酸素濃度が1.0ppmまで低減してい
るが、図4の場合は、時間T1が経過しても、残留酸素
濃度は10ppm以上である。
間、上記密閉空間内を大気圧よりも高い圧力に加圧する
ので、ガスパージに要する時間(ウェーハに好ましくな
い成分の濃度が規定値以下に低下するまでの時間)が大
幅に低減する。この結果、不活性ガスを長時間にわた
り、上記密閉空間内に供給する必要がないので、不活性
ガスの使用量も少なくて済む。
しくない成分の濃度が規定値以下に低下するまでの時
間)が大幅に低減するのは、内部加圧により、排気系を
含む容器内部への外部からの洩れや拡散作用による空気
の侵入を妨げる加圧シール作用が働くためであると考え
られる。
段を用いるのではなく、排気側に設けた弁50を絞り、
上記密閉空間への給気側からの給気量に比し、排気量を
制限することにより行なうから、簡便に行なえる利点が
ある。
すように、主管である管路38のコンダクタンスを可変
にする構成にしてもよい。図2において、38a〜38
cは分岐管であり、各々に、ON/OFF弁38V1〜
38V3が設けられている。この場合も、必要に応じ、
弁38V1〜38V3で所望の配管長を選ぶことによ
り、排気系の所要抵抗を得る。圧力センサ61の検出値
と設定圧力とにより、ON/OFF弁38V1〜38V
3のON/OFFを制御する制御装置を設ければよい。
複数の排気路37A〜37Cを形成し、各排気路37A
〜37Cと管路38A〜38Cとの間に、ON/OFF
弁37V1〜37V3を介装し、このON/OFF弁3
7V1〜37V3のON/OFFの組合わせにより、上
記密閉空間内の圧力の調整を行なうようにしてもよい。
本例では、排気路37A〜37Cの径を異ならせること
により、上記密閉空間内の圧力を7段階に調整すること
ができる。
テナ本体11をポートプレート31a上に固定するため
の自動ロック機構を備えているが、本発明例では、上記
したように、上記密閉空間内を加圧するので、コンテナ
本体11を傷めないで、この圧力によりコンテナ10が
ポートプレート31aから浮き上がらないよう充分大き
なロック力を発揮する自動ロック機構を用いる必要があ
る。
ットとして独立しているが、例えば表面処理装置の一部
を構成している場合には、可搬式密閉コンテナ10から
取り出したカセット2を表面処理装置の処理炉へ移送
し、また処理済みのウェーハをいれたカセット2を可搬
式コンテナ10に戻す必要から、図6に示すような構成
を採る場合がある。
表面処理装置の本体ケース100の一部として形成す
る。本体ケース100の鎖線で示す部分は、表面処理炉
や移載機等を収納している。本体ケース31となる分に
は、仕切り70を設け、この仕切り70と、可搬式密閉
コンテナ10、昇降台33で囲まれる密閉空間内でガス
パージを行なう。この仕切り70は、本例では、筒状を
なす本体部分70Aとその底を塞ぐ底部分70B部分か
らなり、この底部分70B部分は蛇腹で構成されてお
り、この底部分70B部分を昇降台33の昇降軸33a
が気密に貫通している。仕切り70の上開口部71Uは
ポートプレート31a下面のポート31Aの周部に、ば
ね75のばね力により圧接し、下開口部71Dは昇降台
33で閉鎖可能になっている。73a、73bはガイド
杆である。ばね75は昇降台33の内部から仕切り70
の下部の内向きフランジまで伸びているガスパージに際
しては、昇降台33を若干下降させ、仕切り70とポー
ト31Aとコンテナ10が作る密閉空間内をガスパージ
する。
とその底を塞ぐ底部分70B部分からなるが、本体部分
70Aだけであっても、ガスパージに際して、昇降台3
3を下降して下開口部71Dを閉鎖し、仕切り70と、
可搬式コンテナ10および昇降台33で囲まれる密閉空
間内を作るようにすれはよい。
を加圧しながら、ガスパージを行なうことにより、ガス
パージに要する時間を大幅に短縮するもので、排気路側
の管路抵抗を調整するだけの手段で上記加圧を行なうか
ら、簡便な手段で、上記効果を得ることができ、パージ
ガスの消費量も従来に比し大幅に低減することができ
る。
る。
を示す線図である。
を示す線図である。
る。
説明するための図である。
説明するための図である。
Claims (4)
- 【請求項1】 不活性ガス源から密閉空間内部に不活性
ガスを流入させることによって、該密閉空間内部をガス
パージするガスパージ装置において、 前記密閉空間内部を前記不活性ガス源と連絡し、前記密
閉空間の一方側に配置されたガス供給管路と、 前記密閉空間内部を外部と連絡し、前記密閉空間の他方
側に配置された排気管路と、 前記不活性ガスによるガスパージを開始してから終了す
るまでの全期間にわたって、該不活性ガスにより前記密
閉空間内部の圧力を大気圧よりも高い設定圧力に維持す
るように前記排気管路の排気抵抗を調整して加圧する加
圧手段とを有しており、 前記加圧手段は、 前記ガス排気管路に設けられ、弁開度の可変な流量調整
弁と、 前記密閉空間内部の圧力を検出する圧力センサと、 前記圧力センサによる検出値が前記設定圧力となるよう
に前記流量調整弁の弁開度を制御する制御装置とを 有す
ることを特徴とするガスパージ装置。 - 【請求項2】 不活性ガス源から密閉空間内部に不活性
ガスを流入させることによって、該密閉空間内部をガス
パージするガスパージ装置において、 前記密閉空間内部を前記不活性ガス源と連絡し、前記密
閉空間の一方側に配置されたガス供給管路と、 前記密閉空間内部を外部と連絡し、前記密閉空間の他方
側に配置された排気管路と、 前記不活性ガスによるガスパージを開始してから終了す
るまでの全期間にわたって、該不活性ガスにより前記密
閉空間内部の圧力を大気圧よりも高い設定圧力に維持す
るように前記排気管路の排気抵抗を調整して加圧する加
圧手段とを有しており、 前記加圧手段は、 前記ガス排気管路の配管長を可変にすることによって排
気抵抗を変えるように 、該ガス排気管路の複数箇所に設
けられた分岐管路と、 前記分岐管路の各々に設けられたON/OFF弁と、 前記圧力センサによる検出値が前記設定圧力となるよう
に前記ON/OFF弁の開閉を制御する制御装置とを有
することを特徴とする ガスパージ装置。 - 【請求項3】 不活性ガス源から密閉空間内部に不活性
ガスを流入させることによって、該密閉空間内部をガス
パージするガスパージ装置において、 前記密閉空間内部を前記不活性ガス源と連絡し、前記密
閉空間の一方側に配置されたガス供給管路と、 前記密閉空間内部を外部と連絡し、前記密閉空間の他方
側に配置された排気管路と、 前記不活性ガスによるガスパージを開始してから終了す
るまでの全期間にわたって、該不活性ガスにより前記密
閉空間内部の圧力を大気圧よりも高い設定圧力に維持す
るように前記排気管路の排気抵抗を調整して加圧する加
圧手段とを有しており、 前記加圧手段は、 前記ガス排気管路の配管径を可変にすることによって排
気抵抗を変えるように、該ガス排気管路の一箇所から複
数に分岐して設けられた分岐管路と、 前記分岐管路の各々に設けられたON/OFF弁と、 前記圧力センサによる検出値が前記設定圧力となるよう
に前記ON/OFF弁の開閉を制御する制御装置とを有
することを特徴とする ガスパージ装置。 - 【請求項4】 前記設定圧力は、1.03〜1.05気
圧であることを特徴とする請求項1ないし3の何れか1
項に記載のガスパージ装置。
Priority Applications (1)
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JP22903793A JP3331693B2 (ja) | 1993-09-14 | 1993-09-14 | ガスパージ装置 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22903793A JP3331693B2 (ja) | 1993-09-14 | 1993-09-14 | ガスパージ装置 |
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Publication Number | Publication Date |
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JPH0786370A JPH0786370A (ja) | 1995-03-31 |
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Family Applications (1)
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JP22903793A Expired - Fee Related JP3331693B2 (ja) | 1993-09-14 | 1993-09-14 | ガスパージ装置 |
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US7654291B2 (en) | 2003-04-28 | 2010-02-02 | Tdk Corporation | Purging apparatus and purging method |
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1993
- 1993-09-14 JP JP22903793A patent/JP3331693B2/ja not_active Expired - Fee Related
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