JPH06349759A - 熱処理装置 - Google Patents
熱処理装置Info
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- JPH06349759A JPH06349759A JP16647193A JP16647193A JPH06349759A JP H06349759 A JPH06349759 A JP H06349759A JP 16647193 A JP16647193 A JP 16647193A JP 16647193 A JP16647193 A JP 16647193A JP H06349759 A JPH06349759 A JP H06349759A
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- Japan
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- heat treatment
- treatment furnace
- valve
- pressure
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 被処理体の熱処理後に熱処理炉の蓋体を開く
にあたってパーティクルの発生及び大気の侵入を抑える
こと。 【構成】 熱処理炉内の圧力が所定値のときに出力信号
を発する圧力検出部と、バルブＶ１及び逆止弁５１を備
えた大気開放管５と、バルブＶ２により熱処理炉内から
遮断される差圧計６２と、バルブＶ３を備えた通気管６
とを用い、大気開放管５及び通気管６の一端を熱処理炉
に接続し、他端を大気に開放する。処理ガスを真空排気
した後熱処理炉内を不活性ガスで置換し、大気圧付近に
なったときに圧力検出部の出力信号によりバルブＶ１を
開いて熱処理炉内を大気圧より若干高い圧力とし、例え
ば差圧計の差圧検出値が設定値以下のときにバルブＶ３
を開いて熱処理炉内を通気管６を通して大気に開放し、
その後蓋体７２を開く。
にあたってパーティクルの発生及び大気の侵入を抑える
こと。 【構成】 熱処理炉内の圧力が所定値のときに出力信号
を発する圧力検出部と、バルブＶ１及び逆止弁５１を備
えた大気開放管５と、バルブＶ２により熱処理炉内から
遮断される差圧計６２と、バルブＶ３を備えた通気管６
とを用い、大気開放管５及び通気管６の一端を熱処理炉
に接続し、他端を大気に開放する。処理ガスを真空排気
した後熱処理炉内を不活性ガスで置換し、大気圧付近に
なったときに圧力検出部の出力信号によりバルブＶ１を
開いて熱処理炉内を大気圧より若干高い圧力とし、例え
ば差圧計の差圧検出値が設定値以下のときにバルブＶ３
を開いて熱処理炉内を通気管６を通して大気に開放し、
その後蓋体７２を開く。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、縦型熱処理装置に関す
る。
る。
【０００２】
【従来の技術】半導体ウエハ（以下「ウエハ」という）
の製造プロセスの一つとして成膜や不純物の拡散などを
行うために熱処理を行うプロセスがある。この熱処理を
行う装置としては最近では外気の巻き込みが少ないなど
の理由から、従来主流であった横型熱処理装置に代って
縦型熱処理装置が多く使用されるようになってきてい
る。
の製造プロセスの一つとして成膜や不純物の拡散などを
行うために熱処理を行うプロセスがある。この熱処理を
行う装置としては最近では外気の巻き込みが少ないなど
の理由から、従来主流であった横型熱処理装置に代って
縦型熱処理装置が多く使用されるようになってきてい
る。
【０００３】図３は従来の縦型熱処理装置を示す図であ
り、この装置では、垂直に立てた内管１ａ及び外管１ｂ
よりなる二重構造の反応管１の周囲にヒータ１１を設け
て熱処理炉を構成し、多数枚のウエハＷが上下に棚状に
配列保持されたウエハボート１２を熱処理炉内にその下
方側からボートエレベータ１３により導入してウエハＷ
の熱処理が行われる。そして熱処理後に熱処理炉の下端
の蓋体（キャップ）１４を開く前即ちウエハボート１２
を降下させる前に、大気の巻き込みを抑えるためにガス
供給管１５から例えば窒素ガスを熱処理炉内に導入し、
熱処理炉内の圧力が大気圧よりも若干高くなったときに
圧力スイッチ１６がオンになるように設定しておいて圧
力スイッチ１６がオンになったときに、制御部１７から
ボートエレベータ１３のモータ１８に駆動指令を出力す
るようにしている。
り、この装置では、垂直に立てた内管１ａ及び外管１ｂ
よりなる二重構造の反応管１の周囲にヒータ１１を設け
て熱処理炉を構成し、多数枚のウエハＷが上下に棚状に
配列保持されたウエハボート１２を熱処理炉内にその下
方側からボートエレベータ１３により導入してウエハＷ
の熱処理が行われる。そして熱処理後に熱処理炉の下端
の蓋体（キャップ）１４を開く前即ちウエハボート１２
を降下させる前に、大気の巻き込みを抑えるためにガス
供給管１５から例えば窒素ガスを熱処理炉内に導入し、
熱処理炉内の圧力が大気圧よりも若干高くなったときに
圧力スイッチ１６がオンになるように設定しておいて圧
力スイッチ１６がオンになったときに、制御部１７から
ボートエレベータ１３のモータ１８に駆動指令を出力す
るようにしている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところで、大気圧は気
圧配置によって大きく変動するが、圧力スイッチ１６が
オンになるときの熱処理炉内の圧力は常に一定であるた
め、蓋体１４が開くときの、熱処理炉内と外部との圧力
差が大きい場合がある。このため蓋体１４を開いたとき
に開口部付近で大きな気流の乱れが生じてパーティクル
が発生し、このパーティクルがウエハＷの表面に付着す
る。ここでデバイスは高集積化してそのパターン幅も非
常に微細化しているため、パーティクルの付着の許容範
囲が一段と厳しい状況になっており、熱処理炉からのウ
エハのアンロード時におけるパーティクルの付着は、デ
バイスの歩留まりの低下の一要因になるという問題があ
る。
圧配置によって大きく変動するが、圧力スイッチ１６が
オンになるときの熱処理炉内の圧力は常に一定であるた
め、蓋体１４が開くときの、熱処理炉内と外部との圧力
差が大きい場合がある。このため蓋体１４を開いたとき
に開口部付近で大きな気流の乱れが生じてパーティクル
が発生し、このパーティクルがウエハＷの表面に付着す
る。ここでデバイスは高集積化してそのパターン幅も非
常に微細化しているため、パーティクルの付着の許容範
囲が一段と厳しい状況になっており、熱処理炉からのウ
エハのアンロード時におけるパーティクルの付着は、デ
バイスの歩留まりの低下の一要因になるという問題があ
る。
【０００５】また蓋体１４の開放時に熱処理炉内よりも
外部の圧力が高い場合には外気が熱処理炉内に巻き込ま
れ、ウエハＷの表面が高温の雰囲気で酸素と接触するの
で、特にウエハボート１２の下部側に位置するウエハＷ
の表面に厚い自然酸化膜が形成される。ここで次工程が
自然酸化膜の影響を受ける場合にはウエハの表面を洗浄
するようにしているが、上述のようにして形成された酸
化膜は不均一であるため、洗浄を行っても均一に除去す
ることは困難であり、例えばＤＲＡＭの高集積化に伴っ
て採用されている多層絶縁膜中のシリコンナイトライド
膜に膜質の悪い酸化膜が残存しているとデバイスの特性
が悪化し、この点からも歩留まりを低下させるという問
題がある。
外部の圧力が高い場合には外気が熱処理炉内に巻き込ま
れ、ウエハＷの表面が高温の雰囲気で酸素と接触するの
で、特にウエハボート１２の下部側に位置するウエハＷ
の表面に厚い自然酸化膜が形成される。ここで次工程が
自然酸化膜の影響を受ける場合にはウエハの表面を洗浄
するようにしているが、上述のようにして形成された酸
化膜は不均一であるため、洗浄を行っても均一に除去す
ることは困難であり、例えばＤＲＡＭの高集積化に伴っ
て採用されている多層絶縁膜中のシリコンナイトライド
膜に膜質の悪い酸化膜が残存しているとデバイスの特性
が悪化し、この点からも歩留まりを低下させるという問
題がある。
【０００６】本発明は、このような事情のもとになされ
たものであり、その目的は、蓋体の開放時における気流
の乱れを防止してパーティクルの発生を抑えることので
きる縦型熱処理装置を提供することを目的とする。
たものであり、その目的は、蓋体の開放時における気流
の乱れを防止してパーティクルの発生を抑えることので
きる縦型熱処理装置を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、多数
の被処理体を保持具に保持させて熱処理炉内に搬入し、
被処理体の熱処理後に不活性ガスを熱処理炉内に導入し
て熱処理炉内の圧力が大気圧付近になったときに蓋体を
開いて前記保持具を搬出する熱処理装置において、前記
熱処理炉内の圧力が大気圧付近の設定圧力を越えたとき
に出力信号を発する圧力検出部と、一端が熱処理炉に接
続されると共に他端が大気に開放され、前記圧力検出部
の出力信号にもとづいて開かれるバルブＶ１、及び大気
側から熱処理炉内へ向かうガスの流れを阻止するための
逆止弁を備えた大気開放管と、前記熱処理炉内に対して
バルブＶ２により遮断される領域に設けられ、熱処理炉
内の圧力と大気圧との差圧を検出するための差圧検出部
と、前記圧力検出部の出力信号にもとづいて前記バルブ
Ｖ１、及びＶ２を開き、前記差圧検出部の差圧検出値が
設定値以下になったときに蓋体を開くように制御する制
御部と、を有してなることを特徴とする。
の被処理体を保持具に保持させて熱処理炉内に搬入し、
被処理体の熱処理後に不活性ガスを熱処理炉内に導入し
て熱処理炉内の圧力が大気圧付近になったときに蓋体を
開いて前記保持具を搬出する熱処理装置において、前記
熱処理炉内の圧力が大気圧付近の設定圧力を越えたとき
に出力信号を発する圧力検出部と、一端が熱処理炉に接
続されると共に他端が大気に開放され、前記圧力検出部
の出力信号にもとづいて開かれるバルブＶ１、及び大気
側から熱処理炉内へ向かうガスの流れを阻止するための
逆止弁を備えた大気開放管と、前記熱処理炉内に対して
バルブＶ２により遮断される領域に設けられ、熱処理炉
内の圧力と大気圧との差圧を検出するための差圧検出部
と、前記圧力検出部の出力信号にもとづいて前記バルブ
Ｖ１、及びＶ２を開き、前記差圧検出部の差圧検出値が
設定値以下になったときに蓋体を開くように制御する制
御部と、を有してなることを特徴とする。
【０００８】請求項２の発明は、請求項１の発明におい
て、一端が熱処理炉に接続されると共に他端が大気に開
放され、バルブＶ３を備えた通気管を設け、制御部は、
差圧検出部の差圧検出値が設定値以下になったときに通
気管のバルブＶ３を開き、その後蓋体を開くように制御
することを特徴とする。
て、一端が熱処理炉に接続されると共に他端が大気に開
放され、バルブＶ３を備えた通気管を設け、制御部は、
差圧検出部の差圧検出値が設定値以下になったときに通
気管のバルブＶ３を開き、その後蓋体を開くように制御
することを特徴とする。
【０００９】請求項３の発明は、請求項１の発明におい
て、一端が熱処理炉に接続されると共に他端が大気に開
放され、バルブＶ３を備えた通気管を設け、制御部は、
大気開放管のバルブＶ１を開いた後通気管のバルブＶ３
を開き、差圧検出部の差圧検出値が設定値以下になった
ときに蓋体を開くように制御することを特徴とする。
て、一端が熱処理炉に接続されると共に他端が大気に開
放され、バルブＶ３を備えた通気管を設け、制御部は、
大気開放管のバルブＶ１を開いた後通気管のバルブＶ３
を開き、差圧検出部の差圧検出値が設定値以下になった
ときに蓋体を開くように制御することを特徴とする。
【００１０】
【作用】被処理体の熱処理後に熱処理炉に不活性ガスを
導入し、熱処理炉内の圧力Ｐが大気圧付近になったとき
に大気開放管のバルブＶ１が開かれる。このとき前記圧
力Ｐが逆止弁の動作圧以上であれば逆止弁が開き、大気
側からの逆流を阻止しながら熱処理炉内が大気に開放さ
れる。そして差圧検出部の差圧検出値にもとづき熱処理
炉と大気との差圧がほとんどなくなった時点で蓋体が開
かれ、このため蓋体の開放に伴う気流の乱れが抑えら
れ、パーティクルの発生が防止できる。また請求項２、
請求項３の発明のように通気管を開放する構成とすれば
前記差圧は一層小さくなるのでより好ましい。
導入し、熱処理炉内の圧力Ｐが大気圧付近になったとき
に大気開放管のバルブＶ１が開かれる。このとき前記圧
力Ｐが逆止弁の動作圧以上であれば逆止弁が開き、大気
側からの逆流を阻止しながら熱処理炉内が大気に開放さ
れる。そして差圧検出部の差圧検出値にもとづき熱処理
炉と大気との差圧がほとんどなくなった時点で蓋体が開
かれ、このため蓋体の開放に伴う気流の乱れが抑えら
れ、パーティクルの発生が防止できる。また請求項２、
請求項３の発明のように通気管を開放する構成とすれば
前記差圧は一層小さくなるのでより好ましい。
【００１１】
【実施例】図１は本発明の実施例に係る縦型の熱処理装
置を示す図である。図１中２は例えば石英で作られた内
管２ａ及び外管２ｂよりなる二重構造の反応管であり、
この反応管２の周囲にはこれを取り囲むようにヒータ２
１が設けられると共に、反応管２の下部側には金属製の
マニホールド３が配設され、これらによって熱処理炉２
０が構成されている。
置を示す図である。図１中２は例えば石英で作られた内
管２ａ及び外管２ｂよりなる二重構造の反応管であり、
この反応管２の周囲にはこれを取り囲むようにヒータ２
１が設けられると共に、反応管２の下部側には金属製の
マニホールド３が配設され、これらによって熱処理炉２
０が構成されている。
【００１２】前記マニホールド３の側周面には、処理ガ
スを導入するためのガス供給管（図示せず）や、熱処理
後に不活性ガス例えば窒素ガスを導入するためのバルブ
３０を備えたガス供給管３１及び排気管４などが周方向
に配置されて接続されている。
スを導入するためのガス供給管（図示せず）や、熱処理
後に不活性ガス例えば窒素ガスを導入するためのバルブ
３０を備えたガス供給管３１及び排気管４などが周方向
に配置されて接続されている。
【００１３】この排気管４にはバルブ４１を介して真空
ポンプ４２が接続されると共に、排気管４におけるバル
ブ４１の上流側には大気開放管５の一端が接続されてい
る。この大気開放管５の他端は大気に開放されており、
大気開放管５には、バルブＶ１と、大気側から熱処理炉
２０内へ向かうガスの流れ（逆流）を防止するための逆
止弁５１が排気管４側から順に設けられている。なおこ
の実施例では大気開放管５は排気管４を介して熱処理炉
２０に接続されているが、直接マニホールド３に接続し
てもよい。
ポンプ４２が接続されると共に、排気管４におけるバル
ブ４１の上流側には大気開放管５の一端が接続されてい
る。この大気開放管５の他端は大気に開放されており、
大気開放管５には、バルブＶ１と、大気側から熱処理炉
２０内へ向かうガスの流れ（逆流）を防止するための逆
止弁５１が排気管４側から順に設けられている。なおこ
の実施例では大気開放管５は排気管４を介して熱処理炉
２０に接続されているが、直接マニホールド３に接続し
てもよい。
【００１４】更に前記マニホールド３には通気管６の一
端が接続されると共に、この通気管６から分岐した配管
６１には、熱処理炉２０内の圧力と大気圧との差圧を測
定するための差圧検出部例えば差圧計６２が取り付けら
れ、この差圧計６２と熱処理炉２０内とを仕切るために
配管６１にはバルブＶ２が設けられている。前記通気管
６にはバルブＶ３が設けられ、通気管６の他端は大気に
開放されている。
端が接続されると共に、この通気管６から分岐した配管
６１には、熱処理炉２０内の圧力と大気圧との差圧を測
定するための差圧検出部例えば差圧計６２が取り付けら
れ、この差圧計６２と熱処理炉２０内とを仕切るために
配管６１にはバルブＶ２が設けられている。前記通気管
６にはバルブＶ３が設けられ、通気管６の他端は大気に
開放されている。
【００１５】また前記マニホールド３には、熱処理炉３
内の圧力が大気圧付近の設定圧力例えば７７０Ｔｏｒｒ
を越えたときにオンになって出力信号を発する例えば真
空スイッチよりなる圧力検出部６３が設けられている。
前記反応管２内には、例えば１００枚のウエハＷが各々
水平な状態で上下に間隔をおいて保持具例えばウエハボ
ート７１に載置されており、このウエハボート７１は蓋
体（キャップ）７２の上に保温筒７３を介して保持され
ている。前記蓋体７２は、ウエハボート７１を熱処理炉
２０内に搬入、搬出するための、モータ７４により昇降
されるボートエレベータ７５の上に載置されており、上
限位置にあるときにはマニホールド３の下端開口部即ち
熱処理炉２０の下端開口部を閉塞する役割をもつもので
ある。
内の圧力が大気圧付近の設定圧力例えば７７０Ｔｏｒｒ
を越えたときにオンになって出力信号を発する例えば真
空スイッチよりなる圧力検出部６３が設けられている。
前記反応管２内には、例えば１００枚のウエハＷが各々
水平な状態で上下に間隔をおいて保持具例えばウエハボ
ート７１に載置されており、このウエハボート７１は蓋
体（キャップ）７２の上に保温筒７３を介して保持され
ている。前記蓋体７２は、ウエハボート７１を熱処理炉
２０内に搬入、搬出するための、モータ７４により昇降
されるボートエレベータ７５の上に載置されており、上
限位置にあるときにはマニホールド３の下端開口部即ち
熱処理炉２０の下端開口部を閉塞する役割をもつもので
ある。
【００１６】そして前記圧力検出部６３からの出力信号
や前記差圧計６２からの差圧検出値を取り込むと共に、
バルブＶ１〜Ｖ３、３１、４１をシーケンス制御しかつ
ボートエレベータ７５の昇降用のモータ７４を駆動制御
するための制御部８が例えば熱処理装置のコントロール
ユニット内に組み込まれている。
や前記差圧計６２からの差圧検出値を取り込むと共に、
バルブＶ１〜Ｖ３、３１、４１をシーケンス制御しかつ
ボートエレベータ７５の昇降用のモータ７４を駆動制御
するための制御部８が例えば熱処理装置のコントロール
ユニット内に組み込まれている。
【００１７】次に上述実施例の作用について述べる。先
ず反応管２内の温度を所定の温度に設定し、例えば１０
０枚の被処理体であるウエハＷをウエハボート７１に載
せて、ボートエレベータ７５を上昇させることにより反
応管２内に下端開口部より搬入する。次いで真空ポンプ
４２により反応管２内を真空排気し、図示しないガス導
入管より処理ガスを反応管２内に導入してウエハＷに対
して熱処理例えばＣＶＤ処理を行う。
ず反応管２内の温度を所定の温度に設定し、例えば１０
０枚の被処理体であるウエハＷをウエハボート７１に載
せて、ボートエレベータ７５を上昇させることにより反
応管２内に下端開口部より搬入する。次いで真空ポンプ
４２により反応管２内を真空排気し、図示しないガス導
入管より処理ガスを反応管２内に導入してウエハＷに対
して熱処理例えばＣＶＤ処理を行う。
【００１８】熱処理が終了した後処理ガスの導入を停止
すると共に真空ポンプ４２により反応管２内を所定の真
空度まで真空排気し、続いて制御部８により排気管４の
バルブ４１を閉じ、ガス導入管３１のバルブ３０を開い
て不活性ガス例えば窒素（Ｎ2 ）ガスを熱処理炉２０内
に導入する。図２はＮ2 ガス導入後の熱処理炉２０内の
圧力Ｐの時間的変化を示す図であり、バルブ３０を開い
た時点をｔ0 としている。
すると共に真空ポンプ４２により反応管２内を所定の真
空度まで真空排気し、続いて制御部８により排気管４の
バルブ４１を閉じ、ガス導入管３１のバルブ３０を開い
て不活性ガス例えば窒素（Ｎ2 ）ガスを熱処理炉２０内
に導入する。図２はＮ2 ガス導入後の熱処理炉２０内の
圧力Ｐの時間的変化を示す図であり、バルブ３０を開い
た時点をｔ0 としている。
【００１９】図２に示すように熱処理炉２０内の圧力Ｐ
が上昇し、ｔ1 の時点で例えば７７０Ｔｏｒｒに達する
と圧力検出部６３例えば真空スイッチがオンになって制
御部８に出力信号が発せられる。これにより制御部８は
大気開放管５のバルブＶ１及び差圧計６２の入力側のバ
ルブＶ２の開指令を出力し、これらバルブＶ１、Ｖ２が
開かれて熱処理炉２０内のＮ2 ガスが逆止弁５１まで達
すると共に差圧計６２が動作し、熱処理炉２０内の圧力
Ｐが逆止弁５１の動作圧例えば８００Ｔｏｒｒになった
とき（ｔ2 の時点）に逆止弁５１が開く。
が上昇し、ｔ1 の時点で例えば７７０Ｔｏｒｒに達する
と圧力検出部６３例えば真空スイッチがオンになって制
御部８に出力信号が発せられる。これにより制御部８は
大気開放管５のバルブＶ１及び差圧計６２の入力側のバ
ルブＶ２の開指令を出力し、これらバルブＶ１、Ｖ２が
開かれて熱処理炉２０内のＮ2 ガスが逆止弁５１まで達
すると共に差圧計６２が動作し、熱処理炉２０内の圧力
Ｐが逆止弁５１の動作圧例えば８００Ｔｏｒｒになった
とき（ｔ2 の時点）に逆止弁５１が開く。
【００２０】この結果圧力Ｐが低下し、そのときの大気
圧よりも差圧計６２の差圧設定値例えば数Ｔｏｒｒ分
（α）だけ高い圧力になったとき（ｔ3 の時点）に制御
部８からの開指令により通気管６のバルブＶ３が開かれ
る。これにより通気管６を介して熱処理炉２０内と大気
側とが連通するので圧力Ｐはほぼ大気圧と等しくなる。
そこで制御部８はバルブＶ３を開いてから所定時間経過
した後（ｔ4 の時点）モータ７４の駆動指令を出力し、
モータ７４が駆動されてボートエレベータ７５が降下
し、蓋体７２が開かれる。図２中ｔ4 の時点における差
圧を△Ｐとして表してあるが、この△Ｐは数Ｔｏｒｒ以
下と極めて小さい。
圧よりも差圧計６２の差圧設定値例えば数Ｔｏｒｒ分
（α）だけ高い圧力になったとき（ｔ3 の時点）に制御
部８からの開指令により通気管６のバルブＶ３が開かれ
る。これにより通気管６を介して熱処理炉２０内と大気
側とが連通するので圧力Ｐはほぼ大気圧と等しくなる。
そこで制御部８はバルブＶ３を開いてから所定時間経過
した後（ｔ4 の時点）モータ７４の駆動指令を出力し、
モータ７４が駆動されてボートエレベータ７５が降下
し、蓋体７２が開かれる。図２中ｔ4 の時点における差
圧を△Ｐとして表してあるが、この△Ｐは数Ｔｏｒｒ以
下と極めて小さい。
【００２１】このような実施例によれば、熱処理炉２０
内の圧力Ｐが大気圧付近になったときに、逆止弁５１に
より大気側からの逆流を阻止しつつ熱処理炉２０内を大
気に開放し、圧力Ｐがそのときの大気圧よりわずかに高
い値になったときに通気管６を開放しているので、通気
管６を通して大気が熱処理炉２０内に逆流することなく
圧力Ｐを大気圧とほとんど同じ大きさにすることがで
き、この状態で蓋体７２を開いているため熱処理炉２０
の下端開口部付近における気流の乱れを防止でき、パー
ティクルの発生を抑えることができる。また、熱処理炉
２０内への大気の流入を抑えることができるため、熱処
理炉２０内においてウエハＷの表面に不均一な厚い自然
酸化膜が形成されるのを防ぐことができる。
内の圧力Ｐが大気圧付近になったときに、逆止弁５１に
より大気側からの逆流を阻止しつつ熱処理炉２０内を大
気に開放し、圧力Ｐがそのときの大気圧よりわずかに高
い値になったときに通気管６を開放しているので、通気
管６を通して大気が熱処理炉２０内に逆流することなく
圧力Ｐを大気圧とほとんど同じ大きさにすることがで
き、この状態で蓋体７２を開いているため熱処理炉２０
の下端開口部付近における気流の乱れを防止でき、パー
ティクルの発生を抑えることができる。また、熱処理炉
２０内への大気の流入を抑えることができるため、熱処
理炉２０内においてウエハＷの表面に不均一な厚い自然
酸化膜が形成されるのを防ぐことができる。
【００２２】そして大気開放管５を開放して熱処理炉２
０内の圧力Ｐが大気圧付近になったときにバルブＶ２を
開いて差圧計６２を動作させるようにしているため、微
小な差圧を検出できる差圧計を用いても差圧計に許容限
界以上の大きな差圧がかかってダメージを与えるといっ
たこともない。
０内の圧力Ｐが大気圧付近になったときにバルブＶ２を
開いて差圧計６２を動作させるようにしているため、微
小な差圧を検出できる差圧計を用いても差圧計に許容限
界以上の大きな差圧がかかってダメージを与えるといっ
たこともない。
【００２３】ここで本発明では、大気開放管５のバルブ
Ｖ１を開いた後、差圧計６２の入力側のバルブＶ２及び
通気管６のバルブＶ３を例えば同時にあるいは異なるタ
イミングで開き、差圧計６２の差圧検出値が設定値以下
になったときに蓋体７２を開く（ボートエレベータ７５
を降下する）ようにしても同様の効果が得られる。また
通気管６を用いない構成とし、バルブＶ１、Ｖ２を開い
た後前記差圧検出値が設定値以下になったときに蓋体７
２を開くようにしてもよい。そしてバルブＶ２は、圧力
検出部の出力信号が発せられた後、バルブＶ１を開く前
に開いてもよい。
Ｖ１を開いた後、差圧計６２の入力側のバルブＶ２及び
通気管６のバルブＶ３を例えば同時にあるいは異なるタ
イミングで開き、差圧計６２の差圧検出値が設定値以下
になったときに蓋体７２を開く（ボートエレベータ７５
を降下する）ようにしても同様の効果が得られる。また
通気管６を用いない構成とし、バルブＶ１、Ｖ２を開い
た後前記差圧検出値が設定値以下になったときに蓋体７
２を開くようにしてもよい。そしてバルブＶ２は、圧力
検出部の出力信号が発せられた後、バルブＶ１を開く前
に開いてもよい。
【００２４】更に圧力検出部としては真空スイッチに限
らず、絶対圧力検出計を用いてその検出値が設定値を越
えたときに出力信号を発するものであってもよい。なお
本発明は、上述実施例のような縦型のＣＶＤ炉に限らず
縦型の酸化、拡散炉に適用してもよいし、あるいは横型
の熱処理炉に適用してもよい。
らず、絶対圧力検出計を用いてその検出値が設定値を越
えたときに出力信号を発するものであってもよい。なお
本発明は、上述実施例のような縦型のＣＶＤ炉に限らず
縦型の酸化、拡散炉に適用してもよいし、あるいは横型
の熱処理炉に適用してもよい。
【００２５】
【発明の効果】請求項１の発明によれば、被処理体の熱
処理後に不活性ガスを熱処理炉内に導入して蓋体を開く
にあたって、熱処理炉内の圧力が大気圧付近になったと
きに逆止弁を備えた大気開放管を開放し、次いで差圧が
設定値以下になったときに蓋体を開くようにしているた
め、蓋体が開かれるときには熱処理炉内の圧力は大気圧
とほぼ等しくなっており、従って気流の乱れを防止でき
てパーティクルの発生を抑えることができると共に、熱
処理炉内への大気の流入を抑えることができる。
処理後に不活性ガスを熱処理炉内に導入して蓋体を開く
にあたって、熱処理炉内の圧力が大気圧付近になったと
きに逆止弁を備えた大気開放管を開放し、次いで差圧が
設定値以下になったときに蓋体を開くようにしているた
め、蓋体が開かれるときには熱処理炉内の圧力は大気圧
とほぼ等しくなっており、従って気流の乱れを防止でき
てパーティクルの発生を抑えることができると共に、熱
処理炉内への大気の流入を抑えることができる。
【００２６】請求項２の発明によれば大気開放管を開放
した後通気管を開放しているため熱処理炉内と大気圧と
の差圧をより一層小さくできる。
した後通気管を開放しているため熱処理炉内と大気圧と
の差圧をより一層小さくできる。
【図１】本発明の実施例を示す構成図である。
【図２】本発明の実施例における熱処理炉内の圧力の時
間的変化を示す特性図である。
間的変化を示す特性図である。
【図３】従来の熱処理装置の一例を示す構成図である。
２ 反応管 ２０ 熱処理炉 ３ マニホールド ３１ ガス導入管 ５ 大気開放管 ５１ 逆止弁 ６ 通気管 ６２ 差圧計 ６３ 圧力検出部 ７２ 蓋体 ８ 制御部
Claims (3)
- 【請求項１】 多数の被処理体を保持具に保持させて熱
処理炉内に搬入し、被処理体の熱処理後に不活性ガスを
熱処理炉内に導入して熱処理炉内の圧力が大気圧付近に
なったときに蓋体を開いて前記保持具を搬出する熱処理
装置において、 前記熱処理炉内の圧力が大気圧付近の設定圧力を越えた
ときに出力信号を発する圧力検出部と、 一端が熱処理炉に接続されると共に他端が大気に開放さ
れ、前記圧力検出部の出力信号にもとづいて開かれるバ
ルブＶ１、及び大気側から熱処理炉内へ向かうガスの流
れを阻止するための逆止弁を備えた大気開放管と、 前記熱処理炉内に対してバルブＶ２により遮断される領
域に設けられ、熱処理炉内の圧力と大気圧との差圧を検
出するための差圧検出部と、 前記圧力検出部の出力信号にもとづいて前記バルブＶ
１、及びＶ２を開き、前記差圧検出部の差圧検出値が設
定値以下になったときに蓋体を開くように制御する制御
部と、 を有してなることを特徴とする熱処理装置。 - 【請求項２】 一端が熱処理炉に接続されると共に他端
が大気に開放され、バルブＶ３を備えた通気管を設け、 制御部は、差圧検出部の差圧検出値が設定値以下になっ
たときに通気管のバルブＶ３を開き、その後蓋体を開く
ように制御することを特徴とする請求項１記載の熱処理
装置。 - 【請求項３】 一端が熱処理炉に接続されると共に他端
が大気に開放され、バルブＶ３を備えた通気管を設け、 制御部は、大気開放管のバルブＶ１を開いた後通気管の
バルブＶ３を開き、差圧検出部の差圧検出値が設定値以
下になったときに蓋体を開くように制御することを特徴
とする請求項１記載の熱処理装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16647193A JP3320505B2 (ja) | 1993-06-11 | 1993-06-11 | 熱処理装置及びその方法 |
| US08/250,379 US5445521A (en) | 1993-05-31 | 1994-05-27 | Heat treating method and device |
| KR1019940012115A KR100280691B1 (ko) | 1993-05-31 | 1994-05-31 | 열처리방법 및 열처리장치 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16647193A JP3320505B2 (ja) | 1993-06-11 | 1993-06-11 | 熱処理装置及びその方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06349759A true JPH06349759A (ja) | 1994-12-22 |
| JP3320505B2 JP3320505B2 (ja) | 2002-09-03 |
Family
ID=15832015
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16647193A Expired - Lifetime JP3320505B2 (ja) | 1993-05-31 | 1993-06-11 | 熱処理装置及びその方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3320505B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1996024949A1 (fr) * | 1995-02-10 | 1996-08-15 | Tokyo Electron Limited | Procede de traitement thermique et appareil |
| US6036482A (en) * | 1995-02-10 | 2000-03-14 | Tokyo Electron Limited | Heat treatment method |
| JP2006206408A (ja) * | 2005-01-31 | 2006-08-10 | Fuji Mach Mfg Co Ltd | 粒状シリコンの製造方法及び製造装置 |
| JP2013004844A (ja) * | 2011-06-20 | 2013-01-07 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 基板処理装置 |
-
1993
- 1993-06-11 JP JP16647193A patent/JP3320505B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1996024949A1 (fr) * | 1995-02-10 | 1996-08-15 | Tokyo Electron Limited | Procede de traitement thermique et appareil |
| US6036482A (en) * | 1995-02-10 | 2000-03-14 | Tokyo Electron Limited | Heat treatment method |
| US6322631B1 (en) | 1995-02-10 | 2001-11-27 | Tokyo Electron Limited | Heat treatment method and its apparatus |
| JP2006206408A (ja) * | 2005-01-31 | 2006-08-10 | Fuji Mach Mfg Co Ltd | 粒状シリコンの製造方法及び製造装置 |
| JP2013004844A (ja) * | 2011-06-20 | 2013-01-07 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 基板処理装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3320505B2 (ja) | 2002-09-03 |
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