JP5123807B2 - 連続低酸素濃度雰囲気処理室 - Google Patents
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請求項1に記載の連続低酸素濃度雰囲気処理室の発明は、低酸素濃度雰囲気で被処理物に焼成処理を行う密閉状態の作業空間を確保した処理室と、該被処理物を大気雰囲気の外部から低酸素濃度雰囲気の該処理室へ搬入し、又は該処理室から該外部へ搬出するために大気と不活性ガスに代表される低酸素ガスとのガス置換を行うガス置換室とを備える連続低酸素濃度雰囲気処理室であって、両端開口の円筒形状に形成した前記処理室はフレームの上面に設置し、該処理室の上端面にガス置換室を設置し、前記フレームの内部には前記被処理物を支持する昇降自在なリフトピンを備えたエアシリンダ又はリフトピンを昇降させる駆動部に電導モーターを備え、かつ前記ガス置換室の上部には被処理物を出し入れする第1の開口部を開閉する開閉式のドアを備え、該ガス置換室の底部には被処理物を処理室へ移動させるときに通過できるように第2の開口部を設け、さらに前記処理室は上方の第3の開口部をガス置換室の底板で塞ぎ、該ガス置換室の底板に被処理物が上下に通過できる第2の開口部と該第2の開口部を開閉自在とするシャッターとを設けるとともに、前記ガス置換室は、不活性ガスを導入するガス供給手段と、ガスを排気する第1の排気手段と、大気を供給する大気供給手段とを接続し、前記処理室は、前記ガス供給手段と、ガスを排気する第2の排気手段とを接続したことを特徴とする。
2 処理室
3 ガス置換室
4 開閉式のドア
5 シャッター
6 リフトピン
7 フレーム
8 エアシリンダ
9 ホルダー
10 第2の開口部
11 被処理物(電子回路基板)
12 処理台
20 ガス供給管
21 圧力調整弁
22 流量調整バルブ
23 クリーンフィルタ
24 パージバルブ
25 ガス供給管
30 排気管(第1の排気管)
31 真空ポンプ
32 排気バルブ
40 排気管(第2の排気管)
41 逆止弁
42 排気制御バルブ
43 ガス成分測定器
44 水冷凝縮器
50 ベントライン
51 クリーンフィルタ
52 ベントバルブ
53 圧力スイッチ
54 ピラニ真空計
Claims (1)
- 低酸素濃度雰囲気で被処理物に焼成処理を行う作業空間を確保した密閉状態の処理室と、該被処理物を大気雰囲気の外部から低酸素濃度雰囲気の該処理室へ搬入し、又は該処理室から該外部へ搬出するために大気と不活性ガスに代表される低酸素ガスとのガス置換を行うガス置換室とを備える連続低酸素濃度雰囲気処理室であって、両端開口の円筒形状に形成した前記処理室はフレームの上面に設置し、該処理室の上端面にガス置換室を設置し、前記フレームの内部には前記被処理物を支持する昇降自在なリフトピンを備えたエアシリンダ又はリフトピンを昇降させる駆動部に電動モーターを備え、かつ前記ガス置換室の上部には被処理物を出し入れする第1の開口部を開閉する開閉式のドアを備え、該ガス置換室の底部には被処理物を処理室へ移動させるときに通過できるように第2の開口部を設け、さらに前記処理室は上方の第3の開口部をガス置換室の底板で塞ぎ、該ガス置換室の底板に被処理物が上下に通過できる第2の開口部と該第2の開口部を開閉自在とするシャッターとを設けるとともに、前記ガス置換室は、不活性ガスを導入するガス供給手段と、ガスを排気する第1の排気手段と、大気を供給する大気供給手段とを接続し、前記処理室は、前記ガス供給手段と、ガスを排気する第2の排気手段とを接続したことを特徴とする連続低酸素濃度雰囲気処理室。
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