JP6968131B2 - ファクトリインターフェースの環境制御を伴う基板処理のシステム、装置、及び方法 - Google Patents
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Description
本出願は、あらゆる目的のために全体が参照により本書に組み込まれている、2013年8月12日出願の「ファクトリインターフェースの環境制御を伴う基板処理のシステム、装置、及び方法(SUBSTRATE PROCESSING SYSTEMS, APPARATUS, AND METHODS WITH FACTORY INTERFACE ENVIRONMENTAL CONTROLS)」(代理人整理番号21149/USA/L)と題する米国特許仮出願第61/865,046号に、優先権を主張する。
Claims (15)
- 電子デバイス処理システム用のファクトリインターフェースであって、
ファクトリインターフェースチャンバと、
前記ファクトリインターフェースチャンバに連結された冷却ステーションと、
不活性ガス再循環システムであって、
圧力下で不活性ガスを貯蔵するように構成された不活性ガス供給部、
前記不活性ガス供給部に連結され、前記不活性ガス供給部から前記ファクトリインターフェースチャンバに前記不活性ガスを供給するように構成された不活性ガス供給導管、及び
前記ファクトリインターフェースチャンバから前記不活性ガスを排気する排気導管であって、前記排気導管の少なくとも一部は、前記ファクトリインターフェースチャンバに連結された前記冷却ステーションを通して設けられ、前記不活性ガス再循環システムは、前記ファクトリインターフェースチャンバから排気された前記不活性ガスを再循環して、前記ファクトリインターフェースチャンバに戻すように構成された、排気導管
を備える不活性ガス再循環システムと、
を備える、ファクトリインターフェース。 - 少なくともプロセッサとメモリを含むコントローラであって、
前記ファクトリインターフェースチャンバに送られる前記不活性ガスの量を制御し、
前記不活性ガス再循環システムに、前記ファクトリインターフェースチャンバから排気された前記不活性ガスを再循環させて、前記ファクトリインターフェースチャンバに戻させる、
コントローラを更に備える、請求項1に記載のファクトリインターフェース。 - 温度センサ、湿度センサ、又はO2センサのうちの少なくとも1つを更に備え、
前記コントローラは、更に、
前記温度センサ、前記湿度センサ、又は前記O2センサのうちの少なくとも1つの検出値をモニタし、
前記検出値に基づいて、前記ファクトリインターフェースチャンバにおける温度、湿度、又はO2レベルの少なくとも1つを制御する、
請求項2に記載のファクトリインターフェース。 - 前記ファクトリインターフェースチャンバにおける圧力、水分、又はO2レベルの少なくとも1つを測定する一又は複数のセンサを更に備え、
前記コントローラは、前記圧力、前記水分、又は前記O2レベルの少なくとも1つに基づいて、前記ファクトリインターフェースチャンバに送られる前記不活性ガスの量を制御する、
請求項2に記載のファクトリインターフェース。 - 前記ファクトリインターフェースチャンバにおける圧力、水分、又はO2レベルの少なくとも1つを測定する一又は複数のセンサを更に備え、
前記コントローラは、前記圧力、前記水分、又は前記O2レベルの少なくとも1つに基づいて、前記ファクトリインターフェースチャンバから排気される前記不活性ガスの量を制御する、
請求項2に記載のファクトリインターフェース。 - 前記ファクトリインターフェースチャンバに送られる前記不活性ガスの流量を制御する第1バルブと、
前記ファクトリインターフェースチャンバから排気される前記不活性ガスの流量を制御する第2バルブと、
を更に備え、
前記コントローラは、前記第1バルブ又は前記第2バルブの少なくとも1つの調整に基づいて、前記ファクトリインターフェースチャンバの圧力を調節する、
請求項2に記載のファクトリインターフェース。 - 前記ファクトリインターフェースチャンバに送られる前記不活性ガスの流量を制御するバルブを更に備える、請求項1に記載のファクトリインターフェース。
- 前記ファクトリインターフェースチャンバから排気される前記不活性ガスの流量を制御するバルブを更に備える、請求項1に記載のファクトリインターフェース。
- 前記不活性ガス再循環システムは、
前記排気導管に接続されるフィルタと、
前記ファクトリインターフェースチャンバから排気された前記不活性ガスを、前記不活性ガス供給導管に結合された不活性ガス供給部に送り返すポンプと、
を更に備える、請求項1に記載のファクトリインターフェース。 - 電子デバイス処理システム用のファクトリインターフェースであって、
ファクトリインターフェースチャンバと、
前記ファクトリインターフェースチャンバに連結された冷却ステーションと、
前記ファクトリインターフェースチャンバに不活性ガス供給導管を介して連結され、前記ファクトリインターフェースチャンバに不活性ガスを送る不活性ガス供給部と、
前記ファクトリインターフェースチャンバから前記不活性ガスを排気する排気導管であって、前記排気導管の少なくとも一部は、前記ファクトリインターフェースチャンバに連結された前記冷却ステーションを通して設けられた、排気導管と、
前記ファクトリインターフェースチャンバから排気された前記不活性ガスを再循環して、前記ファクトリインターフェースチャンバに戻す、不活性ガス再循環システムと、
前記ファクトリインターフェースチャンバにおけるガス圧力又は前記ファクトリインターフェースチャンバへの不活性ガス流れの少なくとも1つを測定する一又は複数のセンサと、
前記一又は複数のセンサに接続されたコントローラであって、前記一又は複数のセンサの一又は複数の検出値をモニタし、前記一又は複数の検出値が予め規定された限度を外れていることに応じてリークを判定するように動作する、コントローラと、
を備える、ファクトリインターフェース。 - 前記一又は複数のセンサは、前記不活性ガス供給導管における流れセンサであり、
前記流れセンサは、前記不活性ガス供給導管を通る不活性ガス流れを示す検出値を生成し、
前記リークは、前記不活性ガス流れが前記予め規定された限度を外れていることに応じて判定される、
請求項10に記載のファクトリインターフェース。 - 前記一又は複数のセンサは、圧力センサを含み、
前記圧力センサは、前記ファクトリインターフェースチャンバにおける圧力を示す一又は複数の検出値を生成し、
前記リークは、前記圧力が前記予め規定された限度を外れていることに応じて判定される、
請求項10に記載のファクトリインターフェース。 - 前記ファクトリインターフェースチャンバに送られる前記不活性ガス流れの第1流量を制御する第1バルブと、
前記ファクトリインターフェースチャンバから排気される前記不活性ガスの第2流量を制御する第2バルブと、
を更に備え、
前記コントローラは、前記第1バルブ又は前記第2バルブの少なくとも1つの調整に基づいて、前記ファクトリインターフェースチャンバの圧力を調整する、
請求項10に記載のファクトリインターフェース。 - 電子デバイス処理システム用のファクトリインターフェースであって、
ファクトリインターフェースチャンバと、
不活性ガス供給部に連結され、前記不活性ガス供給部から前記ファクトリインターフェースチャンバに不活性ガスを供給する不活性ガス供給導管と、
前記ファクトリインターフェースチャンバへのアクセスを可能にするドアであって、前記ファクトリインターフェースチャンバから前記不活性ガスを排気する排気導管の一部を備えるドアと、
前記ファクトリインターフェースチャンバから排気された前記不活性ガスを前記排気導管を介して再循環して、前記不活性ガス供給部に戻す、不活性ガス再循環システムと、
O2センサ、水分センサ、圧力センサ、前記ファクトリインターフェースチャンバに入る少なくとも前記不活性ガスの流量を測定するための第1流量センサ、及び前記ファクトリインターフェースチャンバから排気される少なくとも前記不活性ガスの流量を測定するための第2流量センサからなる群から選択された一又は複数のセンサと、
コントローラであって、
前記一又は複数のセンサから測定値を受け、
前記測定値が一又は複数の基準を満たしているかを判定し、
前記測定値が前記一又は複数の基準を満たしていると判定したことに応じて、前記ドアを開錠する、
コントローラと、
を備えるファクトリインターフェース。 - a)前記一又は複数のセンサは前記O2センサを含み、O2閾値を超える測定値は前記一又は複数の基準を満たす、又は
b)前記一又は複数のセンサは前記水分センサを含み、水分閾値未満の測定値は前記一又は複数の基準を満たす、
の少なくとも一方である、請求項14に記載のファクトリインターフェース。
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