JPH07226382A

JPH07226382A - 熱処理装置

Info

Publication number: JPH07226382A
Application number: JP6037889A
Authority: JP
Inventors: Takashi Tanahashi; 隆司棚橋
Original assignee: Tokyo Electron Ltd; Tokyo Electron Tohoku Ltd
Current assignee: Tokyo Electron Ltd; Tokyo Electron Tohoku Ltd
Priority date: 1994-02-10
Filing date: 1994-02-10
Publication date: 1995-08-22

Abstract

(57)【要約】【目的】熱処理装置に使用されるフィルタ装置自体か
ら汚染ガスなどの汚染物が発生するのを防止して、熱処
理装置内の空間の清浄度を保ち、被処理体の汚染を防止
して歩留まりの向上を図る。【構成】第１送風装置４１の第１フィルタ装置４３に
よって清浄化された空気はケーシング２６内で循環流Ｘ
を形成し、ウエハボート２３に搭載された被処理体であ
るウエハＷ周囲のパーティクルなどをを吹き飛ばす。循
環流Ｘは側面ダクト４５、底部ダクト４６を経由し、再
び第１フィルタ装置４３によって清浄化される。第１フ
ィルタ装置４３のろ材には、耐酸性、耐熱性に優れたＰ
ＴＦＥ（ポリ・テトラ・フルオロ・エチレン）が使用さ
れ、さらにプレフィルタとして有機汚染物を吸着除去す
る活性炭フィルタ４７、４８が底部ダクト４６に配設さ
れている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、熱処理装置に関するも
のである。

【０００２】

【従来の技術】例えばＬＳＩ等の半導体デバイスがその
表面に形成される半導体ウエハ（以下、「ウエハ」とい
う）の製造工程を例にとって説明すると、ウエハ表面に
酸化膜やＣＶＤ膜を形成したり、ドーピングを目的とし
た拡散を行うためにウエハに対して熱処理を施すプロセ
スが行われており、かかる熱処理にあたっては、外気巻
き込みが少なく省スペース化が図れるいわゆる縦型熱処
理装置が近年多く使用されている。

【０００３】前記縦型熱処理装置は一般に、垂直に配置
された加熱用の管状炉の中に反応容器となる反応管を設
け、被処理体であるウエハはウエハボートと呼ばれる搭
載治具に水平状態で上下に間隔をおいて所定枚数（例え
ば１００枚）搭載され、適宜の昇降機構によってこのウ
エハボートごと反応管内にロード・アンロードされるよ
うに構成されている。またこれらウエハボートや昇降機
構、さらにはウエハカセットと呼ばれる収納容器と前記
ウエハボートとの間でウエハの搬送を行うための搬送ア
ームなどの搬送装置などは、適宜形状のケーシング内に
収納配置されている。

【０００４】前記ケーシング内の空気は、ウエハに対し
てパーティクルなどが付着しないように、塵埃等を捕集
するフィルタ装置によって清浄化された空気流が送風フ
ァンなどによって循環するようになっているが、前記フ
ィルタ装置には、通常ＵＬＰＡ（Ultra Low Penetratio
n Air）フィルタが用いられている。そして従来のこの
種のＵＬＰＡフィルタは、そのろ材として主成分がＳｉ
Ｏ₂、Ｂ₂Ｏ₃などからなるホウ珪酸ガラス繊維が用いら
れていた。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ところで最近ではウエ
ハが益々大口径化し、その超微細加工が実施されている
と、熱処理によるシリコン酸化膜、シリコン窒化膜等の
成膜層がさらに薄膜化し、それに伴って成膜層の電気的
特性などの物性管理が一層厳しくなってきており、成膜
層の出来、不出来が、雰囲気中の微量の不純物によって
大きく左右される。

【０００６】この点、前記従来のＵＬＰＡフィルタのろ
材は、主成分がＳｉＯ₂、Ｂ₂Ｏ₃などからなるホウ珪酸
ガラス繊維であるから、ウエハ洗浄や石英洗浄の際に使
用された酸成分の影響や、管状炉や熱処理後のウエハボ
ートからの輻射熱がろ材に伝わるなど、ろ材自体が悪条
件に曝されるとＢ（ボロン）を発生させることが判明し
た。そうすると、ろ材通過後の清浄化空気内に、このＢ
（ボロン）が混入するおそれがある。

【０００７】またこの種のろ材は、一般的に幾重にも屈
曲したいわゆるアコーディオン形状に構成されて、適宜
の枠体に支持、固定されているが、かかる固定に使用さ
れる接着剤やスペーサには、通常揮発性溶剤を使用した
樹脂が用いられている。そのため前記したように酸性雰
囲気、高温雰囲気下では、これら接着剤やスペーサ自体
から有機ガスが発生して、フィルタ通過後の空気を汚染
するおそれがある。

【０００８】したがって、従来はフィルタ自体から発生
するこれらＢ（ボロン）や有機成分がウエハの表面に付
着してウエハを汚染し、歩留まりを低下させるおそれが
あったのである。

【０００９】本発明はかかる点に鑑みてなされたもので
あり、前記したような熱処理装置におけるフィルタ装置
のろ材や、このろ材を支持固定するために用いられる樹
脂から、前記のようなＢ（ボロン）や有機成分を発生さ
せない材質を用いて、叙上の問題の解決を図ることを目
的とするものである。

【００１０】

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、請求項１によれば、被処理体を加熱して所定の熱処
理を施す熱処理用機器と、前記熱処理用機器を収納する
ケーシングと、このケーシング内に空気流を形成する送
風手段と、前記空気流を始めとして装置の清浄環境を得
るためのフィルタ装置とを有する熱処理装置において、
前記フィルタ装置におけるろ材の材料に、ＰＴＦＥ（ポ
リ・テトラ・フルオロ・エチレン）を用いたことを特徴
とする、熱処理装置が提供される。

【００１１】また請求項２によれば、被処理体をその内
部で熱処理する反応容器を有し、かつ前記被処理体を搭
載する搭載治具を前記反応容器内に対してロード・アン
ロードするロード・アンロード装置と、被処理体収納容
器と前記ロード・アンロード装置に支持された搭載治具
との間で被処理体を搬送する搬送装置とが前記反応容器
下方におけるケーシング内に配置され、さらにこのケー
シング内の一側面から対向する他側面に向けて、フィル
タ装置によって清浄化された空気流が形成される如く構
成された熱処理装置において、前記フィルタ装置におけ
るろ材の材料に、ＰＴＦＥ（ポリ・テトラ・フルオロ・
エチレン）を用いたことを特徴とする、熱処理装置が提
供される。

【００１２】これら各熱処理装置において、請求項３に
記載したように、前記ろ材を支持する枠体と前記ろ材と
の固定に、放出ガスの少ない樹脂を使用してもよい。放
出ガスの少ない樹脂とは、例えば接着硬化後放出するガ
スが極端に低下する樹脂をいい、その一例としては、例
えば揮発性の高い溶剤を用いた樹脂が挙げられる。

【００１３】さらに請求項４に記載したように、前記ろ
材がスペーサによって適宜の形状、例えばアコーディオ
ン形状などに構成、維持されている場合、このスペーサ
自体に前記の放出ガスの少ない樹脂を使用してもよい。

【００１４】また以上のように構成される各熱処理装置
におけるフィルタ装置において、請求項５に記載したよ
うに、その上流側に活性炭フィルタを設けた構成として
もよい。

【００１５】

【作用】前記したＰＴＦＥ（ポリ・テトラ・フルオロ・
エチレン）は、−（−ＣＦ₂−ＣＦ₂−）_n−結合を有す
るフッ素樹脂系の高分子物質であり、耐酸性、耐熱性に
優れており、かつＢ（ボロン）を持たない。したがって
請求項１に記載したように、このＰＴＦＥによってろ材
が構成されているフィルタ装置によって、熱処理装置の
ケーシング内の空気流を清浄化した場合、ろ材自体から
Ｂ（ボロン）その他の有機化合物が発生しないので、フ
ィルタ装置自体から有機汚染物が発生してケーシング内
の被処理体を汚染するおそれはない。

【００１６】請求項２は、一般的な縦型熱処理装置とし
ての構成を有しているが、この場合であっても、搭載治
具、ロード・アンロード装置並びに搬送装置が配置され
て、パーティクルが発生しやすいケーシング下方の空間
に送風される空気が、ろ材に前記ＰＴＦＥを用いてＢ
（ボロン）その他の有機化合物が発生させないフィルタ
装置によって清浄化されるので、当該空間に送風される
空気中にＢ（ボロン）その他の有機化合物が混入するこ
とはなく、前記空間内に存在するウエハなどの被処理体
はこれら不純物によって汚染することはない。

【００１７】請求項３によれば、前記ろ材を支持する枠
体と前記ろ材との固定に、例えば揮発性の高い溶剤を用
いた樹脂が使用されるので、装置に組み込む前に十分乾
燥させて揮発性有機化合物を蒸発させておくことが可能
である。したがって、フィルタ装置におけるろ材とこれ
を支持する枠体との固定部分からの有機系ガスの発生を
抑えることが可能である。

【００１８】請求項４によれば、スペーサについても前
記したような、放出ガスの少ない樹脂を使用しているの
で、さらにこの部分からの有機系ガスの発生も抑えられ
る。

【００１９】請求項５では、前記した各熱処理装置にお
けるフィルタ装置において、その上流側に活性炭フィル
タが設けられているので、空気中の有機系ガスはこの活
性炭フィルタによって吸着、除去される。そしてその後
前記したＰＴＦＥを用いたろ材を通過するので、前記ろ
材は極めて安定した効果を発揮できる。したがって全体
として非常に良好な清浄化空気を、安定してケーシング
内に供給することが可能になっている。

【００２０】

【実施例】以下、本発明の実施例を添付図面に基づいて
説明すると、まず第１実施例は、本発明の効果を検証す
るために構成された熱処理装置であり、図１はこの熱処
理装置に使用されたフィルタ装置１の構成を示してい
る。

【００２１】このフィルタ装置１は、従前の一般的なＵ
ＬＰＡフィルタと同様な構成を有しており、そのフィル
タ２はろ材３を幾重にも折重ねた構造を有している。こ
のろ材３は、ＰＴＦＥ及びオレフィン系繊維の不織布に
よって構成され、繊維径は０．０５〜０．２μｍ、孔径
は０．３μｍである。そしてこのろ材３はその表面に設
けられたスペーサ４によって前記した折重ね構造が維持
されている。前記スペーサ４は、ダイマー酸ポリアミド
樹脂の高分子タイプを使用しており、溶融した材料を、
前記ろ材３の折重ね成形加工の際に、その表面に付着さ
せ、その後これを冷却固化させることによって、折重ね
構造のろ材３の表面に設けられる。

【００２２】前記フィルタ２は、アルミニウム製のフレ
ーム５に支持、固定されるが、かかる固定に当たって
は、そのエンド部分についてはエポキシ樹脂からなるエ
ンドシール材６によって、サイド部分についてはクロロ
プレン系接着剤からなるサイドシール材７によって、各
々固定されている。そしてガスケット８はクロロプレン
スポンジによって構成されている。

【００２３】かかる構成になるフィルタ装置１は、図２
に示された評価用の熱処理装置１１に装着されている。
即ちこの熱処理装置１１は、ステンレス製のケーシング
１２内に配置される送風機１３と、この送風機１３によ
るダウンフローに曝されるウエハ保持具１４とを有し、
さらにケーシング１２下部に、第１ダンパ１５、第２ダ
ンパ１６、第３ダンパ１７とを有している。図１の状態
では、第１ダンパ１５及び第３ダンパ１７がクローズさ
れ、第２ダンパ１６がオープンになっており、ケーシン
グ１２内には循環フローが形成される。即ち、送風機１
３によるダウンフローはケーシング１２の下部から図中
の矢印のように、仕切板１８によって前記ウエハ保持具
１４が存在する空間（反応空間）と隔離されたエリアを
通ってケーシング１２の上部へと流れ、ヒータ１９を通
過した後、再び送風機１３によってダウンフローに形成
されるようになっている。

【００２４】そして前出フィルタ装置１は、前記送風機
１３とウエハ保持具１４との間に設けられており、送風
機１３からのダウンフローを清浄化するように配設され
ている。

【００２５】評価用の熱処理装置１１は、以上のように
構成されており、次にダミーウエハＤＷを前記ウエハ保
持具１４にセットして、実際に稼働させた際のダミーウ
エハＤＷ上の汚染度について説明する。

【００２６】まずダミーウエハＤＷは、シリコンウエハ
の表面にウエット酸化によってＳｉＯ₂膜を１０００オ
ングロームの厚さに形成したものを使用し、いわゆるＳ
ＰＭ洗浄方法、即ちかかる成膜処理後硫酸（Ｈ₂ＳＯ₄）
と過酸化水素（Ｈ₂Ｏ₂）とを４：１の割合で混合した１
１０゜Ｃの洗浄液によって、１０分間洗浄した後、さら
に純水によって１０分間洗浄し、その後スピンドライヤ
ーによって乾燥させたものを使用した。

【００２７】一方熱処理装置１１の方は、まず第２ダン
パをクローズにし、第１ダンパ１５と第３ダンパ１７を
オープンにしてケーシング１２内にいわゆるワンウエイ
・フローを形成するようにした状態で６週間継続して空
運転させてから使用した。

【００２８】そして前記ダミーウエハＤＷをウエハ保持
具１４にセットし、さらに図１に示したように、第１ダ
ンパ１５及び第３ダンパ１７をクローズ、第２ダンパ１
６をオープンにしてケーシング１２内に循環フローが形
成されようにして、そのままダミーウエハＤＷを放置し
て、３、６、９、１２時間後に、ウエハ表面の汚染度合
いを、いわゆる接触角測定方法によって測定した。これ
ら一連の評価手順を図３のフロー図に示した。

【００２９】前記した接触角測定方法は、ウエハ表面に
純水を滴下し、その水玉の表面張力による水玉とウエハ
表面との接触角度を測定するものであり、有機汚染物に
よる汚染度合いが進むと接触角度が高くなることを利用
して、ウエハ表面の汚染度合いを評価する方法である。

【００３０】なおその他の設定条件については、ヒータ
１９を環境温度が４０゜Ｃとなるまで加熱して、フィル
タ装置１の通過フローの風速を０．３５ｍ／ｓ、フィル
タ装置１とダミーウエハＤＷとの間の距離を５０mmにそ
れぞれ設定した。

【００３１】そして従来のＵＬＰＡフィルタとの比較を
行うために、前記フィルタ装置１におけるろ材３に、従
前の主成分がＳｉＯ₂、Ｂ₂Ｏ₃などからなるホウ珪酸ガ
ラス繊維を用いたものを別途用意し、全く同一条件の下
で前記した接触角測定方法によって評価した。

【００３２】その結果は、図４のグラフに示した通りで
あり、３時間放置の時には両者間に顕著な差は見られな
い。しかしながらそれ以降は、放置時間が長くなるにし
たがって従前のＵＬＰＡフィルタの方は次第に接触角が
大きくなっていくに対し、本実施例にかかるフィルタ装
置１を使用した場合には、ほぼ横ばいであることがわか
る。即ち、本実施例の場合には、前記条件下でのダウン
フローに長く曝されても、ダミーウエハＤＷ表面の汚染
度は低く抑えられていることが確認できた。

【００３３】前記の熱処理装置１１は、評価用に構成さ
れているとはいえ、一般的な熱処理装置とほぼ同様な環
境を創出するようになっている。したがって、前記フィ
ルタ装置１を一般的な熱処理装置に適用した場合にも、
相応する効果、即ち、フィルタ装置自体から有機汚染物
が発生せず、ウエハ表面の汚染を抑えることが容易に推
認できる。

【００３４】次に実際のより具体的な熱処理装置として
構成した第２実施例について説明すると、図５、図６に
示したように、この第２実施例にかかる熱処理装置２１
は、上端部が閉口し下端部が開口した筒状の熱処理容器
２２と、この熱処理容器２２の下方に位置して、ウエハ
Ｗを搭載するウエハボート２３を支持してこの熱処理容
器２２内へ上昇自在な昇降装置２４とを有している。

【００３５】前記ウエハボート２３は、被処理体である
ウエハＷが水平状態で上下に間隔をおいて所定枚数、例
えば１００枚搭載するように構成されており、前記昇降
装置２４によってウエハボート２３前記熱処理容器２２
内に納入されることにより、ウエハＷはこのウエハボー
ト２３に搭載された状態で、前記熱処理容器２２に対し
てロード・アンロードされるように構成されている。

【００３６】さらに前記熱処理装置２１には、ウエハが
収納されたカセットＣと前記ウエハボート２３との間で
ウエハＷを移載置するための、移載装置、例えばウエハ
トランスファ２５が設けられており、前記した熱処理容
器２２、ウエハボート２３、昇降装置２４と共に、ケー
シング２６内に配置されている。また前記ケーシング２
６の前面には、ドア（図示せず）によって開閉自在に構
成された開口部２７が設けられており、この開口部２７
を通して前記カセットＣはケーシング２６内に搬入、搬
出自在となっている。

【００３７】前記開口部２７の内側には、２つのカセッ
トＣを載置するＩＯポート３１が設けられており、この
ＩＯポート３１には後述の如く、ケーシング２６内でそ
の上方から下方へと向かう空気流が形成されるように構
成されている。またＩＯポート３１には、カセットＣ内
のウエハＷのオリエンテーションフラットを揃えるいわ
ゆるオリフラ合わせを行う整列装置（図示せず）と、カ
セットＣを９０゜回転させてその内部のウエハＷを水平
−垂直変換する水平−垂直変換機構（図示せず）が装備
されており、前記整列装置によってカセットＣ内のウエ
ハＷがオリフラ合わせされた後、ウエハＷはそのまま水
平状態へと位置変換されるように構成されている。

【００３８】さらにＩＯポート３１の内側には、キャリ
アトランスファ３２が配設されており、その奥に配置さ
れた棚状のキャリアステージ３３に対して、カセットＣ
を移載するように構成されている。このキャリアステー
ジ３３は、例えば８個のカセットＣを収納でき、処理
前、処理後のウエハＷを収納したカセットＣを保管する
ように構成されている。

【００３９】前記キャリアステージ３３の下方には、ト
ランスファーステージ３４が設けられており、前記キャ
リアトランスファ３２を介して、キャリアステージ３３
とトランスファーステージ３４との間でカセットＣを授
受するように構成されている。そして前出ウエハトラン
スファ２５は、このトランスファーステージ３４に移載
されたカセットＣと昇降装置２４上に支持されたウエハ
ボート２３との間でウエハＷを授受するように構成され
ている。

【００４０】前記熱処理装置２１には、図６、図７に示
されたように、そのケーシング２６内の処理空間２６ａ
の一側面、即ち左側の側面の開口部２６ｂに片開きのメ
ンテナンス用ドアを兼ねた第１送風装置４１が設けられ
ている。この第１送風装置４１は、図７に示されたよう
に、その下部に配置されて開口部４１ａから空気を吸引
してこれを送風するためのファン４２と、このファン４
２によってダクト部４１ｂを通じてケーシング２６内に
給気される空気中のパーティクル等を除去する第１フィ
ルタ装置４３と、この第１フィルタ装置４３の内側に隙
間δを介して並設された均圧板４４とによって構成され
ている。

【００４１】前記第１フィルタ装置４３は前出第１実施
例にかかるフィルタ装置１と全く同様な構成を有してお
り、そのフィルタには、ＰＴＦＥ及びオレフィン系繊維
の不織布によって構成されたろ材が採用されている。

【００４２】前記均圧板４４には、多数の吐出口４４ａ
が設けられており、前記第１フィルタ装置４３を通過し
た給気は、図７に示されたように、この均圧板４４全面
から、対向した側面開口部２６ｃに位置する側面ダクト
４５に向けて均等に送風されるように構成されている。

【００４３】そしてこの側面ダクト４５は、その下部に
設けられた開口部４５ｂと、ケーシング２６の底部に設
けられた底部ダクト４６を通じて、前出第１送風装置４
１の下部空間と連通している。したがって、図７に示さ
れたように、この第１送風装置４１によって送風される
空気は、ケーシング２６内の空間２６ａ→側面ダクト４
５→底部ダクト４６→第１送風装置４１のように循環し
て、循環流Ｘを形成し、その過程で第１フィルタ装置４
３によって常に清浄化されるように構成されている。な
お前記底部ダクト４６内には、前出昇降装置２４、ウエ
ハトランスファ２５等の駆動制御を行う制御装置並びに
その配線部材等が収納されている。

【００４４】そして前記底部ダクト４６における流入口
と流出口、即ち開口部４５ｂの内面と開口部４１ａの内
面には、それぞれ活性炭フィルタ４７、４８が設けられ
ている。この活性炭フィルタ４７、４８は、例えば活性
炭によって通気性に優れたマット状、あるいは多数の細
孔が分散形成されたシート状に成形されたものであり、
前出第１フィルタ装置４３のいわゆるプレフィルタとし
て機能するように構成されている。

【００４５】また前記側面ダクト４５の後方側面には、
第１送風装置４１からの送風空気が通過するスリット４
５ａが形成されており、このスリット４５ａから前記循
環流Ｘの一部が排気ＥＡとしてケーシング２６外部に排
気され、他方ケーシング２６の天板に形成されたメッシ
ュ状のメタルで形成された吸気口２６ｄからは、前記排
気ＥＡに相当する量の給気ＳＡが、クリーンルームのチ
ャンバ（図示せず）からケーシング２６内に取り入れら
れるように構成されている。したがって、ケーシング２
６内は常に一定の内圧が保たれ、かつ前記した排気ＥＡ
と給気ＳＡによって常時その一部の空気が換気されるよ
うに構成されている。なお前記吸気口２６ｄにも図６に
示したように、活性炭フィルタ７１が設けられており、
吸気口２６ｄを通じて導入される給気ＳＡに対しても、
事前に有機汚染物が除去されるようになっている。

【００４６】一方図６に示したように、前出キャリアス
テージ３３の背面側でかつ吸気口２６ｄの下方には、第
２送風装置５１がこのキャリアステージ３３の背面に沿
って配設されている。

【００４７】前記第２送風装置５１は、図８に示したよ
うに、前記吸気口２６ｄに対向するように形成されたス
リット５２ａを有する容器５２と、前記スリット５１ａ
及び吸気口２６ｄを通じてクリーンルームからの空気を
取り入れてキャリアステージ３３へとこれを送風するた
めのファン５３と、当該送風される空気を清浄化するた
めの活性炭フィルタ５４及び第２フィルタ装置５５とを
備えている。またこの第２フィルタ装置５５のフィルタ
のろ材には、前出第１フィルタ装置４３の場合と同様、
ＰＴＦＥ及びオレフィン系繊維の不織布が用いられてい
る。

【００４８】そしてこの第２フィルタ装置５５を通過し
て清浄化された空気は、キャリアステージ３３で保管さ
れているカセットＣ内のウエハＷに送風され、空気流Ｙ
を形成するように構成されている。

【００４９】また前記第２送風装置５１の容器５２の両
側にもそれぞれスリット５２ｂが形成されており、ケー
シング２６の前面に突き当たって戻ってくる空気流Ｙ₁
を吸引して、これを活性炭フィルタ５４及び第２フィル
タ装置５５内へ送って再び清浄化するように構成されて
いる。

【００５０】前記空気流Ｙの下流側でかつ前出ＩＯポー
ト３１の上方には、第３送風装置６１が配置されてお
り、前記空気流Ｙの大部分はこの第３送風装置６１によ
って吸引、送風されて、下方へと向かう下降気流Ｚが形
成される。この第３送風装置６１の構成も前出第２送風
装置５１と基本的に同一に構成され、上流側には活性炭
フィルタ、次段にＰＴＦＥ及びオレフィン系繊維の不織
布をろ材に使用したフィルタ装置とを備えている。

【００５１】そしてこの第３送風装置６１からの下降気
流Ｚは、前記ＩＯポート３１底部ダクト４６側面に形成
された開口部４６ａから底部ダクト４６内に流入して、
前出側面ダクト４５からの還流と合流するように構成さ
れている。

【００５２】第２実施例にかかる熱処理装置２１は以上
のように構成されており、次にその作用効果について説
明すると、まず被処理体であるウエハＷの処理内容に応
じて熱処理容器２２が所定温度にまで加熱され、同時に
前出第１送風装置４１、第２送風装置５１、第３送風装
置６１が駆動して、循環流Ｘ、空気流Ｙ、下降気流Ｚが
それぞれケーシング２６内に形成される。

【００５３】その後例えば搬送ロボット（図示せず）な
どによって未処理のウエハＷを収納した２つのカセット
Ｃが、ＩＯポート３１の所定位置に載置されると、整列
装置によってウエハＷのオリフラ合わせが行われ、その
後水平−垂直変換機構によってウエハＷは水平状態にさ
れる。次いでこのカセットＣはキャリアトランスファ３
２によってキャリアステージ３３の所定位置へと移送さ
れ、この動作が繰り返されてキャリアステージ３３内に
例えば８個のカセットＣが保管されて開口部２７が閉鎖
される。

【００５４】その後キャリアトランスファ３２によって
キャリアステージ３３内のカセットＣがトランスファス
テージ３４へと移載され、次いでウエハトランスファ２
５によって、当該カセットＣ内のウエハＷがウエハボー
ト２３へと搭載されていく。そして所定枚数（例えば１
００枚）搭載されると、昇降装置２４によってウエハボ
ート２３が上昇して熱処理容器２２内へとロードされ、
そこで所定の熱処理がウエハＷに対して施されるのであ
る。

【００５５】一方叙上のプロセスが行われている間、ケ
ーシング２６内には、第１送風装置４１によって循環流
Ｘが形成されており、この清浄化された空気流は図７に
示したように、前出ウエハボート２３に対して送風され
ている。したがってウエハＷ搭載の際にパーティクルが
発生しても直ちに吹き飛ばされ、ウエハＷの表面に付着
するおそれはない。しかもこの循環流Ｘは、底部ダクト
４６に設けられた活性炭フィルタ４７、４８並びに第１
フィルタ装置４１を通過することによって清浄化された
空気流であるから、ウエハＷが循環流Ｘに曝されること
自体によってウエハＷが汚染されるおそれはないもので
ある。

【００５６】即ち、ケーシング２６内にたとえ有機汚染
物が浮遊していても、この有機汚染物は、底部ダクト４
６通過の際に、前記活性炭フィルタ４７、４８に吸着、
除去される。そしてそのように有機汚染物が除去された
後の空気が第１フィルタ装置４１によってさらに清浄化
されるのである。したがって循環流Ｘの清浄度は極めて
高くなっている。なお既述の如く吸込口２６ｄにも活性
炭フィルタ７１が設けられているので、装置の設置環境
内に存在するガスや有機汚染物の影響に左右されず、装
置内においては、所期の清浄環境が得られる。

【００５７】しかも第１フィルタ装置４１のフィルタの
ろ材は、既述の第１実施例にてその効果が確かめられた
ＰＴＦＥ及びオレフィン系繊維の不織布からなるろ材で
あるから、熱処理容器２２からの輻射熱の影響を受ける
環境下であっても、ろ材自体は極めて安定しており、こ
のろ材自体から例えばハイドロカーボンなどの有機汚染
物が発生することはない。

【００５８】そのうえ前記活性炭フィルタ４７、４８に
よってさらに事前に有機汚染物が除去されているので、
極めて長期間に渡って、安定した機能を発揮することが
可能になっている。

【００５９】また他の第２送風装置５１、第３送風装置
によって形成された空気流Ｙ、下降気流Ｚ共、前記した
循環流Ｘと同様、活性炭フィルタ及びＰＴＦＥ及びオレ
フィン系繊維の不織布からなるろ材を通過して清浄化さ
れた空気であるから、前記した循環流Ｘと同様な作用効
果が発揮されている。したがって、ケーシング２６内に
存在するウエハＷは、有機系ガスやパーティクルなどに
よって汚染されるおそれは格段に低下しており、歩留ま
りの向上が図れるものである。

【００６０】また前出第１実施例、第２実施例でも明ら
かなように、基本的に従前のフィルタ装置とその外観、
形態は異なるところはないので、例えば既存の既に稼働
している熱処理装置に対しても、フィルタ装置を交換し
たり、あるいはさらに活性炭フィルタを付加するだけで
容易に適用することが可能になっており、極めて実用性
も高いものである。

【００６１】

【発明の効果】請求項１によれば、フィルタ装置のろ材
自体からＢ（ボロン）や有機化合物が発生しないので、
ケーシング内の被処理体を汚染するおそれはないので、
かかる点からケーシング内の被処理体を汚染するおそれ
はなく、高度な処理や歩留まりの向上を図ることが可能
である。

【００６２】請求項２によれば、パーティクルの発生し
やすい空間に清浄空気を送風するためのフィルタ装置の
ろ材自体から、Ｂ（ボロン）その他の有機化合物が発生
することはなく、前記空間内に存在する被処理体がこれ
ら不純物によって汚染することはない。また前記清浄空
気によって発生したパーティクルは吹き飛ばされ、ウエ
ハに付着することはない。したがって歩留まりの向上が
図れる。

【００６３】請求項３によれば、さらに前記ろ材を支持
する枠体と前記ろ材との固定に用いた樹脂からの有機系
ガスの発生を抑えることができ、さらにケーシング内空
気の汚染を防止して歩留まりの向上を図ることが可能で
ある。

【００６４】請求項４によれば、さらにろ材の形態を維
持するスペーサの部分からの有機系ガスの発生が抑えら
れ、さらにケーシング内空気の汚染を防止して歩留まり
の向上を図ることが可能である。

【００６５】請求項５によれば、何らかの理由でケーシ
ング内に発生した有機系ガスが活性炭フィルタによって
吸着、除去されるので、ケーシング内空気の汚染をさら
に防止するとともに、前記したＰＴＦＥを用いたろ材は
極めて安定した効果を発揮できる。したがって全体とし
て非常に良好な清浄化空気を、長期間に渡って安定して
ケーシング内に供給することが可能である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１実施例で用いたフィルタ装置の概
観を示す一部破断斜視図である。

【図２】本発明の第１実施例にかかる熱処理装置の断面
を模式的に示した説明図である。

【図３】本発明の第１実施例にかかる熱処理装置の効果
を評価するための方法の手順を示すフロー図である。

【図４】本発明の第１実施例にかかる熱処理装置におい
て使用されたウエハの汚染度を従来技術と比較した様子
を示すグラフである。

【図５】本発明の第２実施例にかかる熱処理装置の概観
を示す斜視図である。

【図６】本発明の第２実施例にかかる熱処理装置のケー
シング内の空気流の様子を示すための説明図である。

【図７】本発明の第２実施例にかかる熱処理装置のケー
シング内下方空間の様子を示す縦断面図である。

【図８】本発明の第２実施例における第２送風装置の構
成を示すための断面説明図である。

【符号の説明】

１フィルタ装置２フィルタ３ろ材４スペーサ５フレーム６エンドシール材７サイドシール材１１熱処理装置１２ケーシング１３送風機１９ヒータＤＷダミーウエハ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所Ｈ０１Ｌ 21/68 Ａ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】被処理体を加熱して所定の熱処理を施す
熱処理用機器と、前記熱処理用機器を収納するケーシン
グと、このケーシング内に空気流を形成する送風手段
と、前記空気流を始めとする装置の清浄環境を得るため
のフィルタ装置とを有する熱処理装置において、前記フィルタ装置におけるろ材の材料に、ＰＴＦＥ（ポ
リ・テトラ・フルオロ・エチレン）を用いたことを特徴
とする、熱処理装置。
【請求項２】被処理体をその内部で熱処理する反応容
器を有し、かつ前記被処理体を搭載する搭載治具を前記
反応容器内に対してロード・アンロードするロード・ア
ンロード装置と、被処理体収納容器と前記ロード・アン
ロード装置に支持された搭載治具との間で被処理体を搬
送する搬送装置とが前記反応容器下方におけるケーシン
グ内に配置され、さらにこのケーシング内の一側面から
対向する他側面に向けて、フィルタ装置によって清浄化
された空気流が形成される如く構成された熱処理装置に
おいて、前記フィルタ装置におけるろ材の材料に、ＰＴＦＥ（ポ
リ・テトラ・フルオロ・エチレン）を用いたことを特徴
とする、熱処理装置。
【請求項３】前記ろ材を支持する枠体と前記ろ材との
固定に、放出ガスの少ない樹脂を使用したことを特徴と
する、請求項１又は２に記載の熱処理装置。
【請求項４】前記ろ材はスペーサによって適宜の形状
に構成、維持され、このスペーサに放出ガスの少ない樹
脂を使用したことを特徴とする、請求項１、２又は３に
記載の熱処理装置。
【請求項５】前記フィルタ装置における上流側に活性
炭フィルタを設けたことを特徴とする、請求項１、２、
３又は４に記載の熱処理装置。