JPH09246351A - クリーン搬送方法、クリーン搬送装置及びクリーン装置 - Google Patents

クリーン搬送方法、クリーン搬送装置及びクリーン装置

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JPH09246351A
JPH09246351A JP7092896A JP7092896A JPH09246351A JP H09246351 A JPH09246351 A JP H09246351A JP 7092896 A JP7092896 A JP 7092896A JP 7092896 A JP7092896 A JP 7092896A JP H09246351 A JPH09246351 A JP H09246351A
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JP
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shutter
vacuum
clean
opening
lid
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JP7092896A
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English (en)
Inventor
Masaru Masujima
勝 増島
Toshihiko Miyajima
俊彦 宮嶋
Eisaku Miyauchi
栄作 宮内
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
TDK Corp
Original Assignee
TDK Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 真空クリーンボックスとクリーン装置間の被
搬送物の移し変え時における粉塵微粒子の浮遊を防止
し、クリーン度の向上を図る。 【解決手段】 真空クリーンボックス41とクリーン装
置45とを結合して、ボックス側シャッター兼用蓋体部
43及び装置側シャッター55が面する密閉空間Sを形
成して真空排気した後、蓋体部43のみを開き、その後
密閉空間S内をクリーン雰囲気としてからシャッター5
5を開いてシャッター55及び蓋体部43を前記装置4
5内部に引き込む場合において、前記ボックス41と装
置45との結合部分を2重気密シールP1,P2とする
とともに、P1,P2間に真空排気経路86を設け、ボ
ックス41及びシャッター55で囲まれた密閉空間S内
をクリーン雰囲気とする前に、シールP1,P2間を真
空排気経路86を通して真空排気する構成である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体、電子部品
関連製品、光ディスク等の加工、組み立てに必要な被搬
送物を汚染物質のないクリーン状態で移送することが可
能なクリーン搬送方法、クリーン搬送装置及びクリーン
装置に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体及び電子部品等の製品が、今後、
ますます微細化、高性能化される傾向にある。それによ
って、製品に影響する浮遊粉塵(各種不純物を含む)の
微粒子(パーティクル)の粒子サイズが小さくなり、ま
た半導体製造プロセス等の工程数が増大する。それに対
応するため、(1)高精度クリーンルーム(対象0.1μ
mでクラス1:粒子サイズ0.1μm以上対象で1立方
フィート当たりの微粒子個数が1個以下)の作製が必要
となり、(2)クリーンルーム面積が増大することが予想
される。この結果、各工程全体を高精度クリーンルーム
内に収容しようとすると莫大な費用がかかり、設備コス
トが増大してしまう。
【0003】これを解決する方法として、現在、局所空
間のみをクリーンな空間にする方法、すなわちボックス
の中にウエハ等の被搬送物(ワーク)を入れて、その空
間のみをクリーン空間にし、クリーン空間から他のクリ
ーン空間に移送する方法が、本出願人から特開平7−2
35580号(特願平6−47734号)で提案されて
いる。
【0004】図10は上記提案による真空クリーン搬送
方法であり、真空クリーンボックス1及びこれが合体す
るクリーン装置5の真空チェンジャー部(真空−大気置
換部)10を示している。真空クリーンボックス1はボ
ックス本体部2とシャッター兼用蓋体部3とからなって
いる。搬送時、真空クリーンボックス1は内部が真空な
ため(予め別のクリーン装置の真空チェンジャー部で真
空にされているので)、大気圧でシャッター兼用蓋体部
3が押されることで閉じた状態が維持されている。な
お、図10ではシャッター兼用蓋体部3側に取り付けら
れたホルダ4により被搬送物(半導体ウエハ等)30が
多段重ね状態で真空クリーンボックス1内に保持されて
いる。
【0005】前記真空クリーンボックス1が合体可能な
各種処理装置としてのクリーン装置5の真空チェンジャ
ー部10は、上面に開閉口12を有する気密容器13
と、該気密容器13の底部の穴部を貫通する中空昇降ロ
ッド14の先端(上端)に一体化もしくは固定されたシ
ャッター15と、前記中空昇降ロッド14の内周に摺動
自在に挿入された開閉操作ロッド20と、該開閉操作ロ
ッド20の先端(上端)に一体化もしくは固定された蓋
受台(キャリア)21と、該蓋受台21の上面から突出
するように当該蓋受台21に固着された複数本の位置決
めピン21aとを有している。
【0006】前記蓋受台21の下面には前記シャッター
15を貫通するばね取付部材22が固着されており、該
ばね取付部材22の頭部と前記シャッター15の下面間
に圧縮ばね23が配設されている。この圧縮ばね23に
より、シャッター15は前記蓋受台21との間隔が狭ま
る向きに付勢される。
【0007】前記開閉操作ロッド20は、図示しない流
体圧シリンダ等の開閉駆動源で昇降駆動されるようにな
っている。
【0008】クリーン装置5の真空チェンジャー部10
は、図10(A)のように、真空クリーンボックス1が
載置されていない状態では、その開閉口12はシャッタ
ー15で閉成されており、シャッター外面は通常の工場
雰囲気にさらされている。
【0009】真空クリーンボックス1とクリーン装置5
との連結は、真空クリーンボックス1のシャッター兼用
蓋体部3を下向きにして、図10(B)のように、真空
チェンジャー部10の開閉口12の開口縁部を構成する
連結用ブロック17上にボックス本体部2のフランジ部
2aを当接させて載置することによって行う。この際、
真空チェンジャー部10側の蓋受台21の位置決めピン
21aを真空クリーンボックス側の位置合わせ用凹部に
嵌合させる。また、真空チェンジャー部10のシャッタ
ー15は、開閉操作ロッド20が上昇状態にあることで
圧縮ばね23の力で上昇方向に付勢され、開閉口12の
開口縁部を構成する連結用ブロック17の内面に当接し
て開閉口12を気密シールしている。
【0010】上述の如く、真空クリーンボックス1をク
リーン装置5に連結した結果、連結用ブロック17の内
側面(開閉口12の内側面)とシャッター兼用蓋体部3
及びフランジ部2aの下面とシャッター15の上面とで
囲まれた中間エリアSは気密な密閉空間となる。すなわ
ち、密閉空間となった中間エリアSにシャッター兼用蓋
体部3及びシャッター15が面する。この中間エリアS
は当初は大気圧であるから、排気経路Uを介して真空チ
ェンジャー部10側の真空排気手段で真空排気する。こ
のとき、図10(A)で通常の工場雰囲気にさらされて
いた蓋受台21やシャッター15の上面等の粉塵(各種
不純物の微粒子を含む)は同時に排出されることにな
る。
【0011】前記中間エリアSを真空排気した後は、真
空クリーンボックス1のシャッター兼用蓋体部3につい
ての内外圧力差は無くなるから、真空チェンジャー部1
0側の開閉操作ロッド20を僅かに下げ、蓋受台21を
下降させれば、シャッター兼用蓋体部3の自重及びホル
ダー4や被搬送物(半導体ウエハ等)30の重量が存在
するため、図10(C)の如く、当該シャッター兼用蓋
体部3及び被搬送物30も蓋受台21と一体的に下降
し、真空クリーンボックス1内の空間と中間エリアSと
が連通(連続)状態となる。但し、蓋受台21が僅かに
下降した状態では依然としてシャッター15は圧縮ばね
23で上方に付勢されているため、真空チェンジャー部
10の開閉口12を気密シールしている。
【0012】その後、図10(C)の状態で排気経路U
を通して真空チェンジャー部10から内部のクリーンな
気体(空気、窒素等)を中間エリアS及び真空クリーン
ボックス1に入れ(リークし)、シャッター15の上下
面の圧力を実質的に等しくしてから、開閉操作ロッド2
0及びこれに従動する昇降ロッド14を大きく引き込む
(下降させる)。この結果、シャッター15は大きく開
いてクリーン装置5内の空間と真空クリーンボックス1
内の空間とが連通(連続)し、シャッター兼用蓋体部3
の自重及びホルダー4やこれで保持された被搬送物30
の重量が存在するため、シャッター兼用蓋体部3は蓋受
台21上に載置された状態でこれとともにクリーン装置
5内に引き込まれる。この状態で、ホルダー4より被搬
送物30が取り出され、必要な処理(例えば大気圧中で
の処理)を行う。
【0013】なお、処理後の被搬送物30がホルダー4
に戻されたら、開閉操作ロッド20及びこれに従動する
昇降ロッド14を上昇させ、シャッター15で装置側開
閉口12を閉じる(但し、シャッター兼用蓋体部3は開
いた図10(C)状態)。この状態で排気経路Uを通し
て中間エリアS及び真空クリーンボックス1内を真空排
気し、その後、開閉操作ロッド20及びこれと一体の蓋
受台21を更に上昇させて図10(B)のシャッター兼
用蓋体部3が閉じた状態に戻す。この状態で中間エリア
Sを大気圧にリークすることで真空クリーンボックス1
を分離することができる。
【0014】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記図10
の従来構成の場合、クリーン装置5の真空チェンジャー
部10における真空クリーンボックス1が対接する結合
面(すなわち連結用ブロック17の上面)の外側シール
が1重気密シールP1のみであるため、中間エリアSを
真空排気した後、シャッター兼用蓋体部3を開いて真空
クリーンボックス1内の空間と中間エリアSとを連通
(連続)させ、内部にクリーン気体をリークしたとき、
真空クリーンボックス1内外の差圧が無くなり、1重の
気密シールP1部分に対してボックス本体部2のフラン
ジ部2aを押しつける力はボックス本体部2の自重のみ
となる。このため、真空クリーンボックス1内が大気圧
に戻った瞬間に外部からの空気の急激な漏れが発生し、
真空クリーンボックス内で粉塵の微粒子が浮遊してしま
う。
【0015】本発明の第1の目的は、上記の点に鑑み、
真空クリーンボックスとクリーン装置間の被搬送物の移
し変え時における粉塵(各種不純物を含む)の微粒子の
浮遊を防止し、クリーン度の向上を図り、ひいては半導
体及び電子部品等の微細化に対応可能なクリーン搬送方
法及び装置を提供することにある。
【0016】本発明の第2の目的は、クリーンボックス
に対接する結合面の気密シールを2重以上としてクリー
ンボックス結合部分の気密性を改善し、被搬送物の移し
変え時における粉塵の微粒子の浮遊を防止してクリーン
度の向上を図ることのできるクリーン装置を提供するこ
とにある。
【0017】本発明のその他の目的や新規な特徴は後述
の実施の形態において明らかにする。
【0018】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明のクリーン搬送方法は、開閉口を有する本体
部と前記開閉口を気密に閉成するシャッター兼用蓋体部
とからなり、前記シャッター兼用蓋体部の閉成時に真空
状態を維持できる気密性を有していて真空排気手段及び
移送手段を持たない真空クリーンボックスと、シャッタ
ーで開閉自在な開閉口を有するクリーン装置とを、前記
シャッター兼用蓋体部及び前記シャッターの閉成状態に
て気密に結合し、前記シャッター兼用蓋体部及び前記シ
ャッターが面する密閉空間を形成し、該密閉空間を真空
排気した後、前記シャッター兼用蓋体部のみを開き、そ
の後前記真空クリーンボックス及び前記シャッターで囲
まれた密閉空間内を前記クリーン装置内と同様のクリー
ン雰囲気としてから前記シャッターを開いて当該シャッ
ター及び前記シャッター兼用蓋体部を前記クリーン装置
内部に引き込む場合において、前記真空クリーンボック
スと前記クリーン装置との結合部分の気密シールを少な
くとも2重シールとするとともに、各シール間に真空排
気経路を設け、前記真空クリーンボックス及び前記シャ
ッターで囲まれた前記密閉空間内をクリーン雰囲気とす
る前に、各シール間を前記真空排気経路を通して真空排
気する構成としている。
【0019】また、本発明のクリーン搬送装置は、開閉
口を有する本体部と前記開閉口を気密に閉成するシャッ
ター兼用蓋体部とからなり、前記シャッター兼用蓋体部
の閉成時に真空状態を維持できる気密性を有していて真
空排気手段及び移送手段を持たない真空クリーンボック
スと、前記シャッター兼用蓋体部を受ける蓋受台と、シ
ャッターと、前記蓋受台及び前記シャッターを駆動する
開閉駆動手段と、前記シャッターで開閉自在な開閉口と
を有するクリーン装置と、前記真空クリーンボックスと
前記クリーン装置との結合部分に配設された2重以上の
気密シールと、各シール間を真空排気する真空排気経路
とを具備し、前記真空クリーンボックスと前記クリーン
装置とは結合時に前記シャッター兼用蓋体部及び前記シ
ャッターが面する気密な密閉空間を構成し、前記シャッ
ターによる前記クリーン装置の前記開閉口を閉成状態と
したままで、前記シャッター兼用蓋体部を受ける前記蓋
受台を前記開閉駆動手段によって駆動して前記シャッタ
ー兼用蓋体部を開く如く構成している。
【0020】前記クリーン搬送装置において、前記開閉
駆動手段が開閉操作ロッド及び該開閉操作ロッドの上端
に固定された昇降体を有し、該昇降体に対して前記蓋受
台及び前記シャッターが昇降自在に取り付けられ、かつ
それぞれ上昇方向に付勢された構成としてもよい。
【0021】さらに、本発明のクリーン装置は、クリー
ンボックスに対接する結合面に2重以上の気密シールを
有するとともに、前記各シール間を真空排気する真空排
気経路を設けた構成としている。
【0022】前記クリーン装置において、前記各シール
間に環状溝を形成し、該環状溝を前記真空排気経路に接
続する構成としてもよい。
【0023】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係るクリーン搬送
方法、クリーン搬送装置及びクリーン装置の実施の形態
を図面に従って説明する。
【0024】図1は本発明の実施の形態における真空ク
リーンボックス及びクリーン装置の構成を示し、図2及
び図3は被搬送物(半導体ウエハ等)を移し変える動作
を説明するものである。
【0025】真空クリーンボックス41は、図10の従
来構成の場合と同様を構造を持つものであり、開閉口を
有するボックス本体部42と前記開閉口を気密に閉成す
るシャッター兼用蓋体部43とからなり、シャッター兼
用蓋体部43の閉成時に真空状態を維持できる気密性を
有していて真空排気手段及び移送手段を持たない構造で
ある。気密性確保のために、ボックス本体部42のフラ
ンジ部42aに当接するシャッター兼用蓋体部43の上
面には、環状溝43aが形成され、該環状溝43a内に
気密シール(気密封止)用のOリング43bが配設され
ている。シャッター兼用蓋体部43の上面には、半導体
ウエハ等の被搬送物30を支えるホルダー44が取り付
けられている。該ホルダー44は、例えば被搬送物30
を多数等間隔で水平状態で収納できる構造となってい
る。
【0026】前記真空クリーンボックス41が合体可能
な各種処理装置又は各種工程における被搬送物の受け渡
しのためのクリーン装置45の真空チェンジャー部50
(但し、クリーン装置45が真空チェンジャー部50以
外の機構を持たない場合もある)は、開閉口52を有す
る連結用ブロック57を上部に一体化した気密容器53
と、連結用ブロック57の下面に当接して開閉口52を
閉じるシャッター55と、真空クリーンボックス41側
のシャッター兼用蓋体部43を下から受けて支える蓋受
台(キャリア)61とを有している。前記シャッター5
5の連結用ブロック57への対接面には環状溝55aが
形成され、ここに気密シール用のOリング55bが配設
されている。
【0027】なお、連結用ブロック57の肉厚は、シャ
ッター兼用蓋体部43と蓋受台61の厚さの和よりも十
分大きく設定されている。
【0028】また、前記蓋受台61及び前記シャッター
55を開閉駆動する開閉駆動手段は、流体圧シリンダ等
の開閉駆動源で駆動される開閉操作ロッド60、該開閉
操作ロッド60の上端に固定された昇降体70と、昇降
体70を構成した平行板70a,70bを上下方向に摺
動自在に貫通するスライドロッド71とを有している。
平行板70a,70bはスペーサ72で相互に一体化さ
れており、平行板70aが開閉操作ロッド60の上端に
固定されている。前記スライドロッド71の上端には前
記蓋受台61が固定されており、スライドロッド71の
途中位置に固定されたストッパ部材73と平行板70a
間に設けられた圧縮ばね74によって前記蓋受台61は
上方に付勢されている。蓋受台61の上昇限位置はスト
ッパ部材73が平行板70bに当たることで規定され
る。また、シャッター55の下面にばね装着用ロッド7
6が固定され、該ばね装着用ロッド76の下端は平行板
70bを上下動可能な如く貫通している。そして、シャ
ッター55と平行板70b間のばね装着用ロッド76の
外周に圧縮ばね75が配設され、この結果、シャッター
55は上方に付勢されている。
【0029】前記真空クリーンボックス41とクリーン
装置45との結合部分は2重の気密シール構造(気密封
止構造)となっており、真空チェンジャー部50の真空
クリーンボックス41に対接する結合面、すなわち気密
容器53の上部をなす連結用ブロック57の上面に気密
シールP1,P2が配設されている。具体的には、連結
用ブロック57の上面に2重の環状溝81,82が開閉
口52を囲む如く形成され、これらに気密シール用のO
リング83,84が嵌め込まれており、外側の環状溝8
1とOリング83とで気密シールP1が、内側の環状溝
82とOリング84とで気密シールP2がそれぞれ構成
されている。さらに、環状溝81,82の間の連結用ブ
ロック57上面には、気密シールP1,P2間を真空排
気するための環状溝85が形成されており、この環状溝
85は連結用ブロック57に形成された真空排気経路8
6と連通している。この真空排気経路86は、クリーン
装置45が気密容器53の外部に備えた真空ポンプ等の
真空排気手段に真空排気用開閉バルブ91を介し接続さ
れている。但し、必要なときは真空排気経路86に接続
されたリーク用開閉バルブ92を開いて真空状態を解除
してクリーン装置45から内部のクリーンな気体(空
気、窒素等)を導入し、気密シールP1,P2間を大気
圧に戻すことができるようになっている。
【0030】また、真空クリーンボックス41をクリー
ン装置45の真空チェンジャー部50に連結、合体した
ときに、連結用ブロック57の内側面(開閉口52の内
側面)とシャッター兼用蓋体部43及びフランジ部42
aの下面とシャッター55の上面とで囲まれた中間エリ
アSが気密な密閉空間となるが、この中間エリアSを真
空排気することができるように、連結用ブロック57に
は横方向に貫通する真空排気経路90が形成されてい
る。この真空排気経路90は、クリーン装置45が気密
容器53の外部に備えた真空ポンプ等の真空排気手段に
真空排気用開閉バルブ93を介し接続されている。但
し、必要なときは真空排気経路90に接続されたリーク
用開閉バルブ94を開いて真空状態を解除してクリーン
装置45から内部のクリーンな気体(空気、窒素等)を
導入し、大気圧に戻すことができるようになっている。
【0031】なお、クリーン装置45は、気密容器53
内に引き込まれた被搬送物30を各種処理部分に移送す
るための移送手段等を具備している。
【0032】この実施の形態において、真空クリーンボ
ックス41の合体前状態では、真空クリーンボックス4
1は予め別のクリーン装置45の真空チェンジャー部5
0により内部が真空状態(例えば、粉塵を大幅に少なく
するために真空度0.1Torr以下が好ましい)にされシャ
ッター兼用蓋体部43で内部が密閉されて搬送される。
真空クリーンボックス41内部の高真空と、外部の大気
圧との圧力差によりシャッター兼用蓋体部43がボック
ス本体部42開閉口側のフランジ部42aに押されて開
閉口を確実に気密シールでき、シャッター兼用蓋体部4
3が動いてしまうこともなく、半導体ウエハ等の被搬送
物30を収容した状態で真空クリーンボックス41を搬
送可能である。
【0033】図2(A)のように、真空クリーンボック
ス41が載置されていない状態では、クリーン装置45
が持つ真空チェンジャー部50の開閉口52はシャッタ
ー55で閉成されており、シャッター外面は通常の工場
雰囲気にさらされている。
【0034】真空クリーンボックス41とクリーン装置
45との連結は、真空クリーンボックス41のシャッタ
ー兼用蓋体部43を下向きにして、図2(B)のよう
に、真空チェンジャー部50の開閉口52の開口縁部を
構成する連結用ブロック57上にボックス本体部42の
フランジ部42aを当接させて載置することによって行
う。また、真空チェンジャー部50側のシャッター55
は、開閉操作ロッド60が上昇状態にあることで圧縮ば
ね75の力で上昇方向に付勢され、開閉口52の開口縁
部を構成する連結用ブロック57の内面に当接して開閉
口52を気密シールしている。
【0035】上述の如く、真空クリーンボックス41を
クリーン装置45の真空チェンジャー部50に連結した
結果、連結用ブロック57の内側面(開閉口52の内側
面)とシャッター兼用蓋体部43及びフランジ部42a
の下面とシャッター55の上面とで囲まれた中間エリア
Sは気密な密閉空間となる。すなわち、密閉空間となっ
た中間エリアSにシャッター兼用蓋体部43及びシャッ
ター55が面する。この中間エリアSは当初は大気圧で
あるから、真空排気経路90を介してクリーン装置45
側の真空排気手段で真空排気する(例えば、真空度0.1
Torr以下)。このとき、図2(A)で通常の工場雰囲気
にさらされていた蓋受台61やシャッター55の上面等
の粉塵は同時に排出されることになる。
【0036】前記中間エリアSを真空排気した後は、真
空クリーンボックス41のシャッター兼用蓋体部43に
ついての内外圧力差は無くなるから、シャッター兼用蓋
体部43の自重及びホルダー44や被搬送物30の重量
が存在するため、圧縮ばね74が縮んでスライドロッド
71が下がりかつ開閉操作ロッド60もわずかに下げる
ことで、図3(A)の如く、当該シャッター兼用蓋体部
43及び被搬送物30と蓋受台61とは一体的に下降
し、真空クリーンボックス41内の空間と中間エリアS
とが連通(連続)状態となる。但し、蓋受台61が僅か
に下降した状態では依然としてシャッター55は圧縮ば
ね75で上方に付勢されているため、真空チェンジャー
部50の開閉口52を気密シールしている。
【0037】なお、図3(A)の中間エリアSの真空排
気は、真空クリーンボックス41の放置日数等を考慮し
て当該真空クリーンボックス41内の真空度に近い真空
度となるようにひとまず実施して、真空クリーンボック
ス41内部と中間エリアSとの間の差圧が少ない状態で
シャッター兼用蓋体部43を開いて浮遊粉塵が舞い上が
るのを防止し、さらに中間エリアSと真空クリーンボッ
クス41が連通した状態で高い真空度(例えば真空度
0.1Torr以下)にまで真空排気してもよい。
【0038】その後、クリーン装置45から内部のクリ
ーンな気体(空気、窒素等)を中間エリアS及び真空ク
リーンボックス41に導入する前のタイミングで(中間
エリアSの真空排気と同時期でも差し支えない)、気密
シールP1,P2間を環状溝85、真空排気経路86及
び真空排気用開閉バルブ91を通して真空排気してお
く。
【0039】それから、図3(A)の状態でリーク用開
閉バルブ94を開いて真空排気経路90を通してクリー
ン装置45から内部のクリーンな気体(空気、窒素等)
を中間エリアS及び真空クリーンボックス41に入れ
(リークし)、シャッター55の上下面の圧力を実質的
に等しくしてから、開閉操作ロッド60を大きく引き込
む(下降させる)。この結果、図3(B)のようにシャ
ッター55は大きく開いて真空チェンジャー部50、す
なわちクリーン装置45内の空間と真空クリーンボック
ス41内の空間とが連通(連続)する。以後、シャッタ
ー兼用蓋体部43の自重及びホルダー44やこれで保持
された被搬送物30の重量が存在するため、シャッター
兼用蓋体部43は蓋受台61上に載置された状態でこれ
とともにクリーン装置45内に引き込まれる。この状態
で、ホルダー44で保持された被搬送物30に対して、
必要な処理(例えば大気圧中での処理、検査等)を行
う。
【0040】前記気密シールP1,P2間の真空排気
は、クリーン気体を前記中間エリアS及び真空クリーン
ボックス41内に導入してから内部が安定状態になるま
で少なくとも継続する必要がある。この気密シールP
1,P2間の真空排気を実行しておくことで、真空クリ
ーンボックス41内が大気圧になっても、真空クリーン
ボックス41のフランジ部42aが連結用ブロック57
の上面に押さえ付けられることになり、真空クリーンボ
ックス41内が大気圧に戻った瞬間の外部からの非清浄
な空気の急激な漏れは発生せず、1重の気密シールのみ
の場合に発生していた真空クリーンボックス内での粉塵
の微粒子が浮遊する事態は回避できる。
【0041】逆に、処理後の被搬送物30がホルダー4
4に戻されたら、図3(B)の状態から、開閉操作ロッ
ド60を上昇させ、シャッター55で装置側開閉口52
を閉じる(但し、シャッター兼用蓋体部43は開いた図
3(A)の状態)。この状態で真空排気経路90を通し
て中間エリアS及び真空クリーンボックス41内を真空
排気する(例えば浮遊粉塵が充分少なくなるように真空
度0.1Torr以下)。
【0042】その後、開閉操作ロッド60を更に上昇さ
せて図2(B)のようにシャッター兼用蓋体部43を閉
じ(真空クリーンボックス41内を真空状態に保持して
閉じ)、それからリーク用開閉バルブ94を開いてクリ
ーン装置45内と同じ雰囲気の気体を真空排気経路90
を通してシャッター兼用蓋体部43及びシャッター55
等で挟まれた密閉空間となっている中間エリアSに入れ
る(リークする)。この結果、真空クリーンボックス4
1のシャッター兼用蓋体部43の下面が中間エリアSの
大気圧で押されるので本体部42とシャッター兼用蓋体
部43とが気密に一体化され、シャッター兼用蓋体部4
3を蓋受台61から支障無く外すことができる状態とな
る。以後、本体部42とシャッター兼用蓋体部43とが
気密に一体化され、かつ被搬送物30を収容した真空ク
リーンボックス41として任意の位置に搬送することが
できる。
【0043】図4は、図2乃至図3の各工程において、
中間エリアSの排気、中間エリアS及び真空クリーンボ
ックス41内の真空維持、クリーン気体リーク、大気維
持に至るまでの微粒子個数の変化を示す。但し、真空ク
リーンボックス41の容積は28リットル、微粒子個数
は約1立方フィート当たりの数値である。この図から、
0.19μmよりも大きな粒子の浮遊は皆無であり、
0.19μm以下の粒子も殆どの場合1個以下であり、
極めてクリーン度が高いことがわかる。また、前述した
ように2重の気密シールP1,P2を設けかつ気密シー
ルP1,P2間を真空引きすることで、クリーン気体リ
ーク時の微粒子個数の増加も抑制されている。
【0044】また、真空クリーンボックス41は真空状
態で被搬送物30を内部に収容するため、外気温度の影
響を受けにくい特長がある。図5の折れ線(イ)は、樹
脂基板を約70℃に加熱して真空クリーンボックス41
(材質アルミ)に収容した場合の経過時間と前記樹脂基
板の温度との関係を、大気中に自然放置した場合の折れ
線(ロ)と対比して示す。真空クリーンボックス41中
に収容した場合には、外部温度23℃に対してあまり影
響されていないことがわかる。このことは、後述するよ
うに、真空クリーンボックス41を同一建物内の工程間
搬送に使用できることは勿論、屋外を通って異なる棟間
の搬送にも使用できることを示している。
【0045】この実施の形態によれば、次の効果を得る
ことができる。
【0046】(1) 局所空間を真空とした真空クリーン
ボックス41を用いた搬送方法であり、半導体及び電子
部品関連製品等の製造工程において、局所空間のみをク
リーンとすることで、クリーンルーム投資額を低減可能
である。また、真空クリーンボックス41はチャック機
構が不要であり、真空差圧(約1kg/cm2)によっ
てのみ封止するので、機構が簡単で、クリーン装置45
(真空チェンジャー部50)によって被搬送物30の挿
入、取り出しの自動化ができる。しかも、真空クリーン
ボックス41の外壁が汚れていても、真空チェンジャー
部50による被搬送物30の取り出しの際のクリーン度
には影響がない。
【0047】(2) クリーン装置45の真空チェンジャ
ー部50における真空クリーンボックス41が配置され
る結合面を2重気密シール構造として、真空クリーンボ
ックス41のシャッター兼用蓋体部43を開く前のタイ
ミングで2重の気密シールP1,P2の間を環状溝85
及び真空排気経路86を通して真空排気することで、真
空クリーンボックス41のフランジ部42aを連結用ブ
ロック57の上面に押さえ付け(真空吸着し)ておくこ
とができ、真空クリーンボックス41のシャッター兼用
蓋体43の開閉時の外気侵入を阻止し、外気侵入に伴う
粉塵微粒子の浮遊を確実に防止できる。また、真空クリ
ーンボックス側フランジ部42aを装置側連結用ブロッ
ク57に対し機械的に係止する手段が不要となるから、
真空クリーンボックス41の移送の自動化が容易であ
る。
【0048】(3) 蓋受台61及びシャッター55を昇
降、開閉駆動するための開閉駆動手段は、1本の開閉操
作ロッド60及び該開閉操作ロッドの上端に固定された
昇降体70(平行板70a,70b)を有し、該昇降体
70に対して前記蓋受台61及びシャッター55が昇降
自在に取り付けられ、かつそれぞれ圧縮ばね74,75
で上昇方向に付勢されている。従って、昇降体70に対
するシャッター55及び蓋受台61の可動範囲や圧縮ば
ね74,75の強さ等を適切に設定することで、1本の
開閉操作ロッド60の上下動で蓋受台61の昇降、シャ
ッター55の開閉を適切なタイミングで実行でき、機構
の簡素化を図ることができる。
【0049】真空クリーンボックス41は、角形タイプ
であってもよいが、図6のように丸形タイプとすること
ができる。この場合、ボックス本体部42を樹脂成形品
で形成可能となり、全体の重量の軽量化を図ることがで
きる。例えば、直径8mmウエハ25枚収納サイズで約7
kgに軽量化することが可能になった。なお、図6にお
いて、図1の真空クリーンボックスと同一又は相当部分
に同一符号を付してある。
【0050】図7は本発明に係るクリーン搬送方法の適
用例1を示す。この例では、工場A棟内での工程間搬送
の場合、それぞれの工程(例えば検査室1,2,…)で
作業の終わった被搬送物としてのウエハカセットを、前
述の真空チェンジャー部50と同様に真空クリーンボッ
クス41のシャッター兼用蓋体部43を開閉する機構を
持つ図8の如き真空チェンジャー部100で真空パック
し、無人搬送車(AGV)101で次の工程に持ってい
く。この場合、無人搬送車101の搬送空間はクリーン
ルームでなくとも良い(図7では検査室1,2,3はク
リーン度クラス100のクリーンルーム、無人搬送車1
01の搬送空間はクラス10000である)。この場合
も、真空クリーンボックスの外側が汚れても内部の被搬
送物のクリーン度には無関係である。
【0051】図9は本発明に係るクリーン搬送方法の適
用例2を示す。この例は、従来工場Bと増設工場Cの間
を真空クリーンボックスを搭載した無人搬送車(AG
V)102で棟間移送する場合であり、屋外の外気にさ
らされても真空クリーンボックスに保温効果があるの
で、ボックス内部の被搬送物には外気がどのような条件
であっても影響がない。なお、従来工場Bと増設工場C
には、真空クリーンボックスの受け渡しのために図8の
如き真空チェンジャー部が同様に設けられている。
【0052】なお、上記実施の形態では2重の気密シー
ルとしたが、2重以上の気密シールを設けて、各シール
間を真空排気するようにしてもよい。
【0053】図示は省略したが、真空クリーンボックス
41のシャッター兼用蓋体部43と真空チェンジャー部
50側の蓋受台61との相互の位置決め手段として、例
えばシャッター兼用蓋体部43に第1の位置決め用凹部
又は凸部を形成し、これに係合する第2の位置決め用凸
部又は凹部を蓋受台61に形成するようにしても良い。
【0054】また、クリーン装置は、通常、密閉空間内
にクリーンな気体を循環させるためのフィルタ及び気体
循環手段を有しているが、極めてクリーン度の高いクリ
ーンルーム内に配置する場合には、フィルタ及び気体循
環手段を省略する場合もある(クリーンルームのフィル
タ及び気体循環手段を共用する)。
【0055】以上本発明の実施の形態について説明して
きたが、本発明はこれに限定されることなく請求項の記
載の範囲内において各種の変形、変更が可能なことは当
業者には自明であろう。
【0056】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
真空クリーンボックスとクリーン装置間の結合部分の構
成を工夫したことにより、クリーン度をよりいっそう向
上させた状態で電子部品、半導体関連部品等の被搬送物
の移送を実行可能である。また、真空クリーンボックス
はチャック機構が不要で、真空差圧(約1kg/c
2)によってのみ封止する構成であり、簡素な構造で
ある。そして、クリーン装置側において真空クリーンボ
ックスの開閉及び被搬送物の挿入、取り出しの自動化が
可能である。さらに、真空クリーンボックスの外壁が汚
れていても、被搬送物の移送の際のクリーン度には影響
がない。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る実施の形態であって真空クリーン
ボックス及びクリーン装置の真空チェンジャー部の正断
面図である。
【図2】実施の形態において真空チェンジャー部と真空
クリーンボックスとが離れた状態から真空チェンジャー
部に真空クリーンボックスを連結した状態に至るまでを
示す動作説明図である。
【図3】実施の形態において真空チェンジャー部と真空
クリーンボックスの合体後の動作を示す動作説明図であ
る。
【図4】図2及び図3の各工程における粉塵微粒子個数
の変化を示すグラフである。
【図5】真空クリーンボックスに収容した樹脂基板の温
度変化を示すグラフである。
【図6】ボックス本体部を円筒形状とした真空クリーン
ボックスを示す斜視図である。
【図7】本発明に係るクリーン搬送方法の適用例1を示
す斜視図である。
【図8】適用例1で用いる真空チェンジャー部の斜視図
である。
【図9】本発明に係るクリーン搬送方法の適用例2を示
す斜視図である。
【図10】従来のクリーン搬送方法の動作説明図であ
る。
【符号の説明】
1,41 真空クリーンボックス 2,42 ボックス本体部 3,43 シャッター兼用蓋体部 4,44 ホルダ 5,45 クリーン装置 10,50,100 真空チェンジャー部 12,52 開閉口 13,53 気密容器 15,55 シャッター 20,60 開閉操作ロッド 21,61 蓋受台 23,74,75 圧縮ばね 17,57 連結用ブロック 70 昇降体 71 スライドロッド 43a,55a,81,82,85 環状溝 43b,55b,83,84 Oリング 86,90 真空排気経路 91,93 真空排気用開閉バルブ 92,94 リーク用開閉バルブ

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 開閉口を有する本体部と前記開閉口を気
    密に閉成するシャッター兼用蓋体部とからなり、前記シ
    ャッター兼用蓋体部の閉成時に真空状態を維持できる気
    密性を有していて真空排気手段及び移送手段を持たない
    真空クリーンボックスと、シャッターで開閉自在な開閉
    口を有するクリーン装置とを、前記シャッター兼用蓋体
    部及び前記シャッターの閉成状態にて気密に結合し、前
    記シャッター兼用蓋体部及び前記シャッターが面する密
    閉空間を形成し、該密閉空間を真空排気した後、前記シ
    ャッター兼用蓋体部のみを開き、その後前記真空クリー
    ンボックス及び前記シャッターで囲まれた密閉空間内を
    前記クリーン装置内と同様のクリーン雰囲気としてから
    前記シャッターを開いて当該シャッター及び前記シャッ
    ター兼用蓋体部を前記クリーン装置内部に引き込むクリ
    ーン搬送方法において、 前記真空クリーンボックスと前記クリーン装置との結合
    部分の気密シールを少なくとも2重シールとするととも
    に、各シール間に真空排気経路を設け、前記真空クリー
    ンボックス及び前記シャッターで囲まれた前記密閉空間
    内をクリーン雰囲気とする前に、各シール間を前記真空
    排気経路を通して真空排気することを特徴とするクリー
    ン搬送方法。
  2. 【請求項2】 開閉口を有する本体部と前記開閉口を気
    密に閉成するシャッター兼用蓋体部とからなり、前記シ
    ャッター兼用蓋体部の閉成時に真空状態を維持できる気
    密性を有していて真空排気手段及び移送手段を持たない
    真空クリーンボックスと、 前記シャッター兼用蓋体部を受ける蓋受台と、シャッタ
    ーと、前記蓋受台及び前記シャッターを駆動する開閉駆
    動手段と、前記シャッターで開閉自在な開閉口とを有す
    るクリーン装置と、 前記真空クリーンボックスと前記クリーン装置との結合
    部分に配設された2重以上の気密シールと、各シール間
    を真空排気する真空排気経路とを具備し、 前記真空クリーンボックスと前記クリーン装置とは結合
    時に前記シャッター兼用蓋体部及び前記シャッターが面
    する気密な密閉空間を構成し、前記シャッターによる前
    記クリーン装置の前記開閉口を閉成状態としたままで、
    前記シャッター兼用蓋体部を受ける前記蓋受台を前記開
    閉駆動手段によって駆動して前記シャッター兼用蓋体部
    を開く如く構成したことを特徴とするクリーン搬送装
    置。
  3. 【請求項3】 前記開閉駆動手段は開閉操作ロッド及び
    該開閉操作ロッドの上端に固定された昇降体を有し、該
    昇降体に対して前記蓋受台及び前記シャッターが昇降自
    在に取り付けられ、かつそれぞれ上昇方向に付勢されて
    いる請求項2記載のクリーン搬送装置。
  4. 【請求項4】 クリーンボックスに対接する結合面に2
    重以上の気密シールを有するとともに、前記各シール間
    を真空排気する真空排気経路を設けたことを特徴とする
    クリーン装置。
  5. 【請求項5】 前記各シール間に環状溝が形成され、該
    環状溝が前記真空排気経路に接続している請求項4記載
    のクリーン装置。
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Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6168364B1 (en) 1999-04-19 2001-01-02 Tdk Corporation Vacuum clean box, clean transfer method and apparatus therefor
US6199604B1 (en) 1997-10-13 2001-03-13 Tdk Corporation Clean box, clean transfer method and apparatus therefor
JP2001230297A (ja) * 2000-02-16 2001-08-24 Sharp Corp 液晶表示装置の搬送方法および搬送システム
US6338604B1 (en) 1999-08-11 2002-01-15 Tdk Corporation Lid latch mechanism for clean box
US6390145B1 (en) 1999-06-23 2002-05-21 Tdk Corporation Container and method for sealing the container
US6430802B1 (en) 1997-11-17 2002-08-13 Tdk Corporation Clean box, clean transfer method and apparatus therefor
US6561894B1 (en) 1999-04-19 2003-05-13 Tdk Corporation Clean box, clean transfer method and apparatus therefor
US6641349B1 (en) 1999-04-30 2003-11-04 Tdk Corporation Clean box, clean transfer method and system
JP2013247227A (ja) * 2012-05-25 2013-12-09 Tdk Corp 収容容器の蓋取り外し方法
KR20150111971A (ko) * 2013-01-22 2015-10-06 브룩스 오토메이션 인코퍼레이티드 기판 이송기

Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6199604B1 (en) 1997-10-13 2001-03-13 Tdk Corporation Clean box, clean transfer method and apparatus therefor
US6430802B1 (en) 1997-11-17 2002-08-13 Tdk Corporation Clean box, clean transfer method and apparatus therefor
US6168364B1 (en) 1999-04-19 2001-01-02 Tdk Corporation Vacuum clean box, clean transfer method and apparatus therefor
US6561894B1 (en) 1999-04-19 2003-05-13 Tdk Corporation Clean box, clean transfer method and apparatus therefor
US6641349B1 (en) 1999-04-30 2003-11-04 Tdk Corporation Clean box, clean transfer method and system
US6390145B1 (en) 1999-06-23 2002-05-21 Tdk Corporation Container and method for sealing the container
US6338604B1 (en) 1999-08-11 2002-01-15 Tdk Corporation Lid latch mechanism for clean box
JP2001230297A (ja) * 2000-02-16 2001-08-24 Sharp Corp 液晶表示装置の搬送方法および搬送システム
JP2013247227A (ja) * 2012-05-25 2013-12-09 Tdk Corp 収容容器の蓋取り外し方法
KR20150111971A (ko) * 2013-01-22 2015-10-06 브룩스 오토메이션 인코퍼레이티드 기판 이송기
JP2016509754A (ja) * 2013-01-22 2016-03-31 ブルックス オートメーション インコーポレイテッド 基板搬送部
CN108630585A (zh) * 2013-01-22 2018-10-09 布鲁克斯自动化公司 衬底运送器
US10395959B2 (en) 2013-01-22 2019-08-27 Brooks Automation, Inc. Substrate transport
US11121015B2 (en) 2013-01-22 2021-09-14 Brooks Automation, Inc. Substrate transport
CN108630585B (zh) * 2013-01-22 2022-06-21 博鲁可斯自动化美国有限责任公司 衬底运送器
US11658051B2 (en) 2013-01-22 2023-05-23 Brooks Automation Us, Llc Substrate transport

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