JP7113722B2 - 基板処理装置、基板収容容器の蓋を開閉する方法、及びプログラム - Google Patents

基板処理装置、基板収容容器の蓋を開閉する方法、及びプログラム Download PDF

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Description

本開示は、基板処理装置、基板収容容器の蓋を開閉する方法、及びプログラムに関する。
特許文献１には、基板収容容器のパージ方法であって、基板収容容器内への乾燥ガスの供給を継続した状態で前記基板収容容器の蓋を開放し、前記基板収容容器内の基板の処理が終了した後に蓋を閉止し、前記乾燥ガスの供給を停止する方法が開示されている。特許文献１に記載の基板収容容器のパージ方法によれば、基板収容容器内を低湿度の状態に保つことにより、基板収容容器内でＳｉＯ２やフッ酸が生成されることを防止し、これにより基板収容容器内の基板を良好な状態に維持することができる。
特開２０１３－１７９２８７号公報
本開示にかかる技術は、基板収容容器内において待機状態にある基板に対するパーティクルの付着を抑制する。
本開示の一態様は、基板処理部であって、前記基板処理部は、少なくとも１つの基板が収容された基板収容容器を配置するように構成されたロードポートを有し、前記基板処理部は、前記ロードポートに配置された前記基板収容容器から基板を取り出し、当該基板に対して一連の処理を施すように構成された、基板処理部と、前記ロードポートに配置された前記基板収容容器の蓋の開閉を制御するように構成された制御部であって、前記制御部は、前記基板収容容器が前記ロードポートに配置された後に前記蓋を開放するよう制御し、前記制御部は、前記基板処理部において異常状態が発生し、予め決められた時間が経過し、前記基板収容容器から取り出された基板のうち前記基板収容容器に回収可能な基板が無い場合に、前記蓋を閉止するよう制御する、制御部とを有する。
本開示によれば、基板収容容器内において待機状態にある基板に対するパーティクルの付着を抑制することができる。
本実施形態にかかるウェハ処理装置の構成の一例を示す平面図である。 本実施形態にかかるフープの構成の一例を示す側面図である。 本実施形態にかかるウェハ処理の一例を示すフロー図である。 本実施形態にかかるウェハ処理の処理経路を模式的に示す説明図である。 ウェハ処理の一連の流れを処理レシピに沿って示す説明図である。 ウェハ処理の一連の流れを処理レシピに沿って示す説明図である。 ウェハ処理の一連の流れを処理レシピに沿って示す説明図である。 ウェハ処理の一連の流れを処理レシピに沿って示す説明図である。 ウェハ処理の一連の流れを処理レシピに沿って示す説明図である。 ウェハ処理の一連の流れを処理レシピに沿って示す説明図である。 ウェハ処理の一連の流れを処理レシピに沿って示す説明図である。
半導体デバイスの製造プロセスは、例えば清浄度が高く維持された、いわゆるクリーンルーム内で行われている。一方で、半導体ウェハ（基板；以下、「ウェハ」という）及びウェハを処理する各種処理モジュールの大型化に伴い、クリーンルームのランニングコストが上昇してきている。そのため、近年では、処理モジュール内部及び処理モジュール間のウェハの受け渡しに用いられる、いわゆるＦＯＵＰ（Ｆｒｏｎｔ－Ｏｐｅｎｉｎｇ Ｕｎｉｆｉｅｄ Ｐｏｄ）と呼ばれる基板収容容器（以下、「フープ」という）の内部の清浄度のみを高く維持する手法が採用されている。
フープは、複数のウェハを互いに平行な状態で多段に収容可能に構成されている。当該フープでは、ウェハ処理装置のロードポートに搬入された後に蓋が開放され、内部に収容されたウェハがウェハ処理装置の内部へと搬出される。そして、フープから搬出されたウェハに対して、ウェハ処理装置内に設けられた複数の処理モジュールにおいて何らかの処理が施された後、当該ウェハを例えば搬出したフープと同一のフープへと搬入（回収）し、蓋を閉止する。
このようにフープの蓋は、収容したウェハを搬出する際に開放され、当該ウェハの処理が終了し、再度フープ内に当該ウェハが搬入（回収）されるまでの間、開放されたままの状態が維持される。しかしながら、このようにウェハの処理中にフープの蓋の開放状態が維持されると、フープの内部はウェハ処理装置の雰囲気に曝されることになる。その結果、フープの内部が汚染され、フープの内部において待機中のウェハに前記パーティクルが付着してしまうおそれがある。
特に、例えばウェハ処理装置において何らかの異常状態が発生し、ウェハの搬送が不能となってしまった場合にフープの蓋の開放状態が維持されると、フープの内部は、更に長時間にわたってウェハ処理装置の雰囲気に曝されることになる。すなわち、フープの内部で待機するウェハに対してパーティクルが付着する可能性が高くなってしまう。また、例えばフープの内部に収容されていたすべてのウェハがウェハ処理装置の内部に搬出された後であった場合でも、上述のようにフープの内部雰囲気が汚染されることにより、その後回収されたウェハにパーティクルが付着してしまうおそれがある。
以上のように、特にウェハ処理装置において何らかの異常状態が発生した場合には、フープの内部が汚染されることを抑制するために、ロードポートに載置されたフープの内部がウェハ処理装置の雰囲気に曝される時間を短くする必要がある。すなわち、フープの蓋の開放時間を短くすることで、ウェハにパーティクルが付着することを抑制する必要がある。しかしながら特許文献１には、ウェハ処理装置に異常状態が発生した際に、例えばフープの蓋を閉止することにより、フープの内部に収容されたウェハを良好な状態に維持することは記載されていない。
そこで、本開示にかかる技術は、フープ内において待機状態にあるウェハに対するパーティクルの付着を抑制する。具体的には、ウェハ処理装置における異常状態の発生等の条件下において、ロードポートに載置されたフープの蓋を閉止する。
以下、本実施形態について、図面を参照しながら説明する。なお、本明細書において、実質的に同一の機能構成を有する要素においては、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。
＜ウェハ処理装置＞
図１は、本実施形態にかかる基板処理装置としてのウェハ処理装置１の構成の概略を示す平面図である。本実施形態においては、ウェハ処理装置１が、ウェハＷにＣＯＲ処理、ＰＨＴ処理、及びＣＳＴ処理を行う、各種処理モジュールを備える場合を例に説明する。なお、ウェハ処理装置１のモジュール構成はこれに限られず、任意に選択され得る。
図１に示すようにウェハ処理装置１は、ウェハ処理部２（基板処理部）と制御部８０とを有する。ウェハ処理部２は、後述するロードポート３１に配置されたフープ１００からウェハＷを取り出し、そのウェハＷに対して一連の処理を施すように構成されている。ウェハ処理部２は、大気圧雰囲気に維持される大気部１０と、減圧雰囲気に維持される減圧部１１と、ロードロックモジュール２０ａ、２０ｂとを有し、大気部１０及び減圧部１１は、ロードロックモジュール２０ａ、２０ｂを介して接続されている。
ロードロックモジュール２０ａは、大気部１０の後述するローダーモジュール３０から搬送されたウェハＷを、減圧部１１の後述するトランスファモジュール６０に引き渡すため、ウェハＷを一時的に保持する。ロードロックモジュール２０ａは、ウェハＷを保持するストッカ２１ａを有している。
ロードロックモジュール２０ａは、ゲートバルブ２２ａが設けられたゲート２３ａを介してローダーモジュール３０に接続されている。また、ロードロックモジュール２０ａは、ゲートバルブ２４ａが設けられたゲート２５ａを介してトランスファモジュール６０に接続されている。
なお、ロードロックモジュール２０ｂはロードロックモジュール２０ａと同様の構成を有している。すなわち、ロードロックモジュール２０ｂは、ストッカ２１ｂと、ローダーモジュール３０側のゲートバルブ２２ｂとゲート２３ｂ、トランスファモジュール６０側のゲートバルブ２４ｂとゲート２５ｂを有している。
なお、ロードロックモジュール２０ａ、２０ｂの数や配置は、本実施形態に限定されるものではなく、任意に設計できる。
大気部１０は、ウェハ搬送機構４０を備えたローダーモジュール３０と、１又は複数のウェハＷを収容及び搬送可能な基板収容容器としてのフープ１００を配置するロードポート３１と、ウェハＷに対して大気圧の雰囲気下で処理を行う大気圧下処理モジュールとを有している。大気圧下処理モジュールは、ウェハＷを冷却するＣＳＴモジュール３２と、ウェハＷの水平方向の向きを調節するＯＲＴモジュール３３とを有している。
なお、ロードポート３１、ＣＳＴモジュール３２及びＯＲＴモジュール３３の数や配置は、本実施形態に限定されるものではなく、任意に設計できる。
また、ローダーモジュール３０は、ウェハ搬送機構４０を有している。ウェハ搬送機構４０は、ウェハＷを保持して移動するウェハ搬送アーム４１と、ウェハ搬送アーム４１を回転可能に支持する回転台４２と、回転台４２を搭載した回転載置台４３とを有している。
ウェハ搬送機構４０は、ウェハ搬送アーム４１の伸縮及び回転台４２の回転により、ロードポート３１に載置されたフープ１００、ロードロックモジュール２０ａ、２０ｂ、ＣＳＴモジュール３２、及びＯＲＴモジュール３３との間でウェハＷを搬送できる。
ロードポート３１は、図２に示すように、フープ１００を上面に載置する載置台５０を備えている。フープ１００は、複数、例えば１ロット２５枚のウェハＷを等間隔で多段に重なるようにして収容する。なお、フープ１００は、ローダーモジュール３０を形成する隔壁５１と対向して載置される面に開口１０１を有する箱形状を有しており、当該開口１０１に嵌合してフープ１００を密閉する蓋１０２を備えている。
載置台５０は、隔壁５１の外面に設けられた支持部材（図示せず）により支持されている。また、載置台５０は、移動機構（図示せず）により水平方向に移動自在に構成されており、載置台５０をフープ１００と共に隔壁５１に対して前後方向に移動させることができる。
隔壁５１の蓋１０２に対向する位置には、ポートドア５２が設けられている。ポートドア５２は、載置台５０を移動させて蓋１０２をポートドア５２に当接させることにより、蓋１０２を保持できるように構成されている。
また、ポートドア５２は駆動機構（図示せず）により開閉自在に構成されており、ポートドア５２と蓋１０２とが当接された状態で当該駆動機構を動作させることにより、フープ１００の蓋１０２を開閉することができる。このように、ポートドア５２と蓋１０２とが開放されることによりウェハ処理装置１の内部とフープ１００の内部とが連通し、ウェハ搬送機構４０がフープ１００に対してアクセス可能になる。すなわち、フープ１００からウェハ処理装置１にウェハＷを搬入することが可能になる。
図１の説明に戻る。ＣＳＴモジュール３２は、後述のＰＨＴモジュール６２において加熱されたウェハＷの冷却処理を行う。
ＯＲＴモジュール３３は、ウェハＷの基準位置（例えばノッチ位置）からの水平方向からの向きを調節する。
減圧部１１は、減圧雰囲気下でウェハＷを搬送するトランスファモジュール６０と、トランスファモジュール６０から搬送されたウェハＷに対して減圧雰囲気下で処理を行う減圧下処理モジュールとを有している。減圧下処理モジュールは、ＣＯＲ処理を行うＣＯＲモジュール６１と、ＰＨＴ処理を行うＰＨＴモジュール６２とを有している。トランスファモジュール６０に対し、ＣＯＲモジュール６１及びＰＨＴモジュール６２は複数、例えば３ずつ設けられている。
上述したようにトランスファモジュール６０は、ゲートバルブ２４ａ、２４ｂを介してロードロックモジュール２０ａ、２０ｂに接続されている。トランスファモジュール６０は内部が矩形の筐体からなり、ロードロックモジュール２０ａに搬入されたウェハＷを一のＣＯＲモジュール６１に搬送し、順次ＣＯＲ処理とＰＨＴ処理を施した後、ロードロックモジュール２０ｂを介して大気部１０に搬出する。
ＣＯＲモジュール６１は、ステージ６３にウェハＷを載置してＣＯＲ処理を行う。また、ＣＯＲモジュール６１は、ゲートバルブ６４が設けられたゲート６５を介してトランスファモジュール６０に接続されている。
ＰＨＴモジュール６２は、ステージ６６にウェハＷを載置してＰＨＴ処理を行う。また、ＰＨＴモジュール６２は、ゲートバルブ６７が設けられたゲート６８を介してトランスファモジュール６０に接続されている。
また、トランスファモジュール６０の内部には、ウェハＷを搬送するウェハ搬送機構７０が設けられている。ウェハ搬送機構７０は、ウェハＷを保持して移動する搬送アーム７１ａ、７１ｂと、搬送アーム７１ａ、７１ｂを回転可能に支持する回転台７２と、回転台７２を搭載した回転載置台７３とを有している。また、トランスファモジュール６０の内部には、トランスファモジュール６０の長手方向に延伸するガイドレール７４が設けられている。回転載置台７３はガイドレール７４上に設けられ、ウェハ搬送機構７０をガイドレール７４に沿って移動可能に構成されている。
トランスファモジュール６０では、ロードロックモジュール２０ａにおいて保持されたウェハＷを搬送アーム７１ａで受け取り、ＣＯＲモジュール６１に搬送する。また、ＣＯＲ処理が施されたウェハＷを、搬送アーム７１ａが保持し、ＰＨＴモジュール６２に搬送する。また更に、ＰＨＴ処理が施されたウェハＷを、搬送アーム７１ｂが保持し、ロードロックモジュール２０ｂに搬出する。
上述したように、ウェハ処理装置１には制御部８０が設けられている。制御部８０は、ロードポート３１に配置されたフープ１００の蓋１０２の開閉を制御するように構成されている。制御部８０は、ウェハ処理部２の各モジュール（例えば対象の制御に関連するモジュール）を制御するように構成されている。制御部８０は、フープ１００がロードポート３１に配置された後に蓋１０２を開放するよう制御する。制御部８０は、ウェハ処理部２のいずれかのモジュールにおいて異常状態が発生し、予め決められた時間が経過し、フープ１００から取り出されたウェハＷのうちフープ１００に回収可能なウェハが無い場合に、蓋１０２を閉止するよう制御する。制御部８０は、予め決められた時間が経過した後に、回収可能なウェハＷをフープ１００に回収するよう制御する。制御部８０は、回収可能なウェハＷがフープ１００に回収された後に蓋１０２を閉止するよう制御する。制御部８０は、ウェハ処理部２において異常状態が発生した場合に一連の処理を停止するよう制御する。制御部８０は、予め決められた時間が経過する前に異常状態が解除された場合に、蓋１０２を閉止することなく一連の処理を再開するよう制御する。制御部８０は、蓋１０２を閉止した後、異常状態が解除された場合に蓋１０２を再解放するよう制御する。予め決められた時間は、種々の観点で任意に設定可能である。例えば、予め決められた時間は、フープ１００からウェハＷが取り出された時点を起点に設定してもよいし、異常状態が発生した時点を起点に設定してもよい。制御部８０は、例えばコンピュータであり、プログラム格納部（図示せず）を有している。プログラム格納部には、ウェハ処理装置１におけるウェハＷの処理を制御するプログラムが格納されている。また、プログラム格納部には、各種処理をプロセッサにより制御するための制御プログラムや、処理条件に応じてウェハ処理装置１の各構成部にウェハＷを搬送するためのプログラム、即ち、搬送レシピが格納されている。なお、上記プログラムは、コンピュータに読み取り可能な記憶媒体に記録されていたものであって、当該記憶媒体から制御部８０にインストールされたものであってもよい。
なお、ウェハ処理装置１には、制御部８０に加えて各モジュールに対して個々に制御部（図示せず）が設けられていてもよい。すなわち、例えばＣＯＲモジュール６１の動作を制御するＣＯＲ処理用制御部や、ＰＨＴモジュール６１の動作を制御するＰＨＴ処理用制御部、または搬送モジュールの動作を制御する搬送用制御部等が更に設けられていてもよい。
なお、以下の説明において、ＯＲＴモジュール３３、ＣＯＲモジュール６１、ＰＨＴモジュール６２、ＣＳＴモジュール３２及びロードロックモジュール２０ａ、２０ｂを合わせて、「処理モジュール」という場合がある。また、ウェハ搬送機構４０及びウェハ搬送機構７０を合わせて、「搬送モジュール」という場合がある。
＜ウェハ処理装置１におけるウェハ処理＞
次に、ウェハ処理装置１におけるウェハ処理について説明する。図３は、ウェハ処理装置１におけるウェハ処理の一例の流れの一例を示すフローチャートである。また、図４は図３に示すウェハ処理の処理経路を示す説明図である。
先ず、複数のウェハＷを収納したフープ１００が、ウェハ処理装置１のロードポート３１に搬入され、載置される（図３のステップＳ１、図４のポジションＰ１）。その後、フープ１００の蓋１０２と、ポートドア５２とが当接され、ポートドア５２の動作と共に蓋１０２が開放される（図３のステップＳ２）。
フープ１００の蓋１０２が開放されると、続いて、制御部８０は、マッピング機構（図示せず）によりフープ１００に収容されたウェハＷの情報を取得する（図３のステップＳ３）。その後、制御部８０は、ウェハに対する一連の処理を開始するかしないかを判断する。例えば、制御部８０は、ウェハ処理部２のいずれかのモジュールに異常があることを検知した場合には、一連の処理を開始しないと判断する。この場合、制御部８０は、一連の処理を開始することなくフープ１００の蓋１０２を閉止するよう制御する。
一方、制御部８０は、一連の処理を開始すると判断した場合には、フープ１００からウェハＷを取り出すようにウェハ処理部２の各モジュールを制御する。例えば、フープ１００に対してウェハ搬送機構４０のウェハ搬送アーム４１がアクセスする。そして、フープ１００からウェハ処理装置１のウェハ処理部２に対して、先ずは１枚のウェハＷが取り出され（図３のステップＳ４）、一連のウェハ処理工程（図３のステップＳ５）が開始される。なお、フープ１００に収容された他のウェハＷは、先に搬出されたウェハＷのウェハ処理の進行に伴って順次搬出されるが、このように搬出されるまでの間、フープ１００の内部において待機状態となる。
ウェハＷの処理にあたっては、ロードポート３１に搬入されたフープ１００から搬出されたウェハＷは、先ず、ウェハ搬送機構４０によりＯＲＴモジュール３３に搬送される（図３のステップＳ５－１、図４のポジションＰ２）。ＯＲＴモジュール３３においてウェハＷは、基準位置（例えばノッチ位置）からの水平方向からの向きが調節（オリエント処理）される。
水平方向の向きが調節されたウェハＷは、ウェハ搬送機構４０によりロードロックモジュール２０ａに搬入される（図４のポジションＰ３）。
次に、ウェハ搬送機構７０の搬送アーム７１ａによってウェハＷが保持され、ロードロックモジュール２０ａからトランスファモジュール６０に搬入される。
次に、ゲートバルブ６４が開放され、ウェハＷを保持する搬送アーム７１ａがＣＯＲモジュール６１に進入する。そして、搬送アーム７１ａからステージ６３にウェハＷが載置される。
次に、ゲートバルブ６４が閉じられ、ＣＯＲモジュール６１においてウェハＷに対してＣＯＲ処理が行われる（図３のステップＳ５－２、図４のポジションＰ４）。
次に、ＣＯＲモジュール６１におけるＣＯＲ処理が終了すると、ステージ６３から搬送アーム７１ａにウェハＷが受け渡され、搬送アーム７１ａでウェハＷが保持される。
次に、ゲートバルブ６７が開放され、ウェハＷを保持する搬送アーム７１ａがＰＨＴモジュール６２に進入する。そして、搬送アーム７１ａからステージ６６にウェハＷが載置される。その後、ゲートバルブ６７が閉じられ、ウェハＷに対してＰＨＴ処理が行われる（図３のステップＳ５－３、図４のポジションＰ５）。
なおこの際、フープ１００で待機していた次のウェハＷが取り出され、ロードロックモジュール２０ａに搬入され、トランスファモジュール６０を介してＣＯＲモジュール６１に搬送される。そして、当該次のウェハＷに対してＣＯＲ処理が行われる。
次に、ウェハＷのＰＨＴ処理が終了すると、ステージ６６から搬送アーム７１ｂにウェハＷが受け渡され、搬送アーム７１ｂでウェハＷが保持される。
その後、ゲートバルブ２４ｂが開放され、ウェハ搬送機構７０によってウェハＷがロードロックモジュール２０ｂに搬入される（図４のポジションＰ６）。ロードロックモジュール２０ｂ内にウェハＷが搬入されると、ゲートバルブ２４ｂが閉じられ、ロードロックモジュール２０ｂ内が密閉され、大気開放される。そして、ゲートバルブ２２ｂが開放され、ウェハ搬送機構４０によって、ウェハＷがＣＳＴモジュール３２に収納され、例えば１分のＣＳＴ処理が行われる（図３のステップＳ５－４、図４のポジションＰ７）。
この際、ＣＯＲ処理が終了した次のウェハＷが搬送アーム７１ａによりＰＨＴモジュール６２に搬送され、ＰＨＴ処理が行われる。また更に、フープ１００から更に次のウェハＷが取り出され、ロードロックモジュール２０ａに搬入され、トランスファモジュール６０を介してＣＯＲモジュール６１に搬送される。そして、さらに次のウェハＷに対してＣＯＲ処理が行われる。このように、フープ１００において待機する複数のウェハＷは、順次ウェハ処理装置１の内部へと搬出され、一連のウェハ処理が行われる。
ＣＳＴ処理が完了すると、ウェハＷは、ウェハ搬送機構４０によってロードポート３１に載置されたフープ１００に搬入される（図３のステップＳ６、図４のポジションＰ１）。そして、フープ１００に搬入されたウェハＷは、当該フープ１００に収容された他のウェハＷのウェハ処理が完了し、フープ１００に回収されるまで待機状態となる。
すべてのウェハＷがフープ１００に回収され（図３のステップＳ６）、処理モジュールによる一連のウェハ処理が終了すると、ポートドア５２の動作と共に蓋１０２が閉止される（図３のステップＳ７）。
そして、フープ１００の蓋１０２が閉止されると、ウェハ処理装置１のロードポート３１から当該フープ１００が搬出され（図３のステップＳ８）、ウェハ処理装置１における一連の処理が終了する。
なお、図１に示したようにウェハ処理装置１においてＣＯＲモジュール６１及びＰＨＴモジュール６２が複数設けられている場合、複数のＣＯＲモジュール６１及びＰＨＴモジュール６２はそれぞれ、並行して作動させることができる。すなわち、例えばウェハＷ、前記次のウェハＷ、前記更に次のウェハＷは、同時にＣＯＲ処理、及びＰＨＴ処理を行うことができる。
また、以上の説明においてウェハＷは、枚葉で、すなわち、１枚ずつウェハ処理装置１の内部で処理されたが、ウェハ処理装置１の構成はこれに限定されない。例えばウェハ処理装置１は、２枚葉以上、すなわち、２枚以上のウェハＷを同時に同一モジュールにおいて搬送、処理できるように構成されていてもよい。
なお、以上のウェハ処理において、フープ１００は、ウェハ処理装置１におけるウェハＷの処理が開始されてから終了するまで（図３のステップＳ２～ステップＳ７）、蓋１０２を開放した状態で待機している。すなわち、ウェハ処理装置１に搬入されたフープ１００は、ウェハ処理の開始時に蓋１０２が開放され、ウェハ処理の間はかかる開放状態を維持し、ウェハ処理が終了してすべてのウェハＷがフープ１００に回収された後に、蓋１０２が閉止される。
しかしながら、蓋１０２の開閉動作がこのように制御される場合、例えばウェハ処理の途中で異常状態が発生し、ウェハＷをフープ１００へ搬入（回収）が出来なくなった場合には、蓋１０２が開放状態を維持したまま載置された状態となる。すなわち、異常状態により回収できないウェハＷの搬入（回収）を確認できないため、ウェハ処理が継続されていると判断され、当該回収できないウェハＷの搬入を蓋１０２を開放した状態で待ち続けることになる。
かかる場合、フープ１００の内部はウェハ処理装置１の内部と連通した状態となり、上述のようにフープ１００の内部の雰囲気が汚染され、当該フープ１００の内部で待機しているウェハＷにパーティクルが付着してしまうおそれがある。また同様に、その後回収されるウェハＷに対しても、パーティクルが付着してしまうおそれがある。
＜本実施形態にかかるフープの蓋の開閉＞
かかるウェハＷへのパーティクルの付着を抑制するための実施形態について、図面を参照して説明する。本実施形態は、ウェハ処理装置１におけるウェハ処理の最中において、何らかの要因によってフープ１００に対してウェハＷの搬送が困難になった場合に、フープ１００の蓋１０２を一時的に閉止することで、ウェハＷに対するパーティクルの付着を抑制するものである。
フープ１００の蓋１０２を閉止する条件としては、大きく分類して、例えば以下の（Ａ）～（Ｃ）に示す３パターンの異常状態が挙げられる。なお、蓋１０２の閉止条件は以下のパターンには限定されず、任意のタイミングで蓋１０２を閉止するように設定をすることができる。
（Ａ）ウェハ処理が開始された後、ウェハ処理装置１が備えるいずれかの処理モジュールにおいて異常状態が発生した場合（すなわち、一連のウェハ処理の開始後に、制御部８０が信号の受信等によりいずれかの処理モジュールの異常状態の発生を検知した場合）。
（Ｂ）ウェハ処理が開始された後、ウェハ処理装置１が備えるいずれかの搬送モジュールにおいて不具合が発生した場合（すなわち、一連のウェハ処理の開始後に、制御部８０が信号の受信等によりいずれかの搬送モジュールの不具合の発生を検知した場合）。
（Ｃ）ウェハ処理が開始された後、ウェハ処理装置１において搬送中のウェハＷを無くした場合（すなわち、一連のウェハ処理の開始後に、制御部８０が信号の受信等により搬送中のウェハＷを無くしたことを検知した場合）。
図５～図１１は、ウェハ処理装置１のウェハ処理部２におけるウェハ処理の一連の流れを処理レシピに沿って示す説明図である。なお、図５～図１１においては、一例として、１ロット４枚でウェハ処理される場合を表しており、かかる４枚のウェハＷにそれぞれ、先頭ウェハから順にウェハＷ１、Ｗ２、Ｗ３、Ｗ４と付番している。また、図中の左端列の縦軸は、ウェハ処理における時間ｔを表しており、例えば図５の時間「ｔ１」においては、すべてのウェハＷ１～Ｗ４がフープ１００に収容されていることを表している。
また、図５～図９、図１１中の白塗りバツ印は異常状態が発生したモジュール及びその時間を示しており、ウェハＷは、当該白塗りバツ印を越えて搬送を行うことができない。すなわち、処理経路において異常状態が発生した当該モジュールを通過することができない。また、図１０中の黒塗りバツ印は無くしたウェハＷ及びその時間を示している。さらに、図５～図１１中のフープ１００の列に示す網掛けは蓋１０２の閉止タイミングを表している。
（Ａ）ウェハ処理が開始された後、ウェハ処理装置１のウェハ処理部２が備えるいずれかの処理モジュールにおいて異常状態が発生した場合
まず、フープ１００から搬出されるウェハＷの処理経路上に位置する処理モジュールが使用不可能となった場合について説明する。なお、処理モジュールの使用不可能とは、例えば以下に示すものを言う。
（ａ）当該処理モジュールにおいてエラー（不具合）が発生し、当該エラーからの復旧（リカバリ）待ちとなった場合。
（ｂ）当該処理モジュールがメンテナンス状態となった場合。
（ｃ）当該処理モジュールにおいて、ウェハ処理装置１に搬入された他のフープ１００から搬送された他のウェハＷの処理が、先行して行われている場合。
（Ａ－Ｉ）ウェハＷ１を処理中のモジュールよりも下流経路に位置する処理モジュールが使用不可能となった場合
図５は、ｔ４に先頭ウェハＷ１を処理中のＣＯＲモジュール６１よりも下流の経路に位置する、例えばＰＨＴモジュール６２が使用不可能となった場合を図示している。この場合、ウェハ搬送機構７０はウェハＷ１をＰＨＴモジュール６２に搬入することができない。従って、一旦開始したウェハＷ１に対する一連のウェハ処理を完了できないため、ウェハＷ１をフープ１００に回収できなくなる。このため、制御部８０は、ＰＨＴモジュール６２の異常状態の発生を検知すると、一連の処理を停止するようウェハ処理部２の各モジュールを制御する。この場合、制御部８０は、例えば、ＰＨＴモジュール６２の処理を直ちに停止するよう制御する。また、制御部８０は、例えば、ＰＨＴモジュール６２の異常状態の発生を検知した時点でその上流側にあるＣＯＲモジュール６１においてウェハＷの処理が行われていた場合には、ＣＯＲ処理の完了後にＣＯＲモジュール６１を停止するよう制御する。なお、他のＰＨＴモジュールが正常に動作可能な場合は、制御部８０は、ＣＯＲモジュール６１を停止することなく他のＰＨＴモジュールを用いて一連の処理を継続してもよい。そして、制御部８０は、予め決められた時間が経過した後、すなわちｔ５となった際に当該異常状態の解除を検知しなかった場合にはフープ１００の蓋１０２を閉止するよう制御する。これにより、異常状態が発生した場合であってもフープ１００の内部がウェハ処理装置１の雰囲気に曝される時間が減少する。すなわち、特にフープ１００において待機しているウェハＷ４にパーティクルが付着することを抑制することができる。
また、図５に示すように、ウェハＷ２及びＷ３については、ＣＯＲ処理が開始されていないため、ウェハ搬送機構４０によってフープ１００へと回収が可能である。このことから、制御部８０は、異常状態の発生を検知し、かつ、予め決められた時間が経過した後に、ウェハＷ２及びＷ３をフープ１００へ回収してからフープ１００の蓋１０２を閉止するようにウェハ処理部２の各モジュールを制御する。これにより、フープ１００において待機状態となるウェハＷ４だけでなく、フープ１００から搬出されたがウェハＷ２及びＷ３についても、パーティクルが付着することを抑制することができる。このことから、フープ１００の蓋１０２は、制御部８０が異常状態の発生を検知し、かつ、予め決められた時間が経過した後であって、かつ、フープ１００に回収することができるウェハＷがなくなったタイミングで閉止されることが望ましい。
一方、制御部８０は、予め決められた時間が経過する前、例えば図５におけるｔ５の前に当該異常状態の解除を検知した場合にはフープ１００の蓋１０２を閉止することなく一連のウェハ処理を再開するようウェハ処理装置１を制御することができる。かかる際、制御部８０は、例えば、前記異常事態の発生時にフープ１００からの搬出が行われていなかったウェハＷ４をフープ１００から搬出するようウェハ処理部２の各モジュールを制御してもよい。また、制御部８０は、既に搬出されているウェハＷ１～Ｗ３をフープ１００に一旦回収した後に一連のウェハ処理を再開するようウェハ処理部２の各モジュールを制御してもよい。あるいは、制御部８０は、異常状態の解除を検知した時点でウェハＷ１～Ｗ３の回収動作を中断して一連のウェハ処理を再開するようウェハ処理部２の各モジュールを制御してもよい。
（Ａ－ＩＩ）ロット先頭のウェハＷ１を処理中の処理モジュールが使用不可能となった場合
図６は、ｔ４において先頭のウェハＷ１を処理中のＣＯＲモジュール６１が使用不可能となった場合を図示している。この場合、ウェハ搬送機構７０はウェハＷ１をＣＯＲモジュール６１から搬出することができない。このため、制御部８０は、ＣＯＲモジュール６１の異常状態の発生を検知すると、一連の処理を停止するようウェハ処理部２の各モジュールを制御する。この場合、制御部８０は、例えば、ＣＯＲモジュール６１の処理を直ちに停止するよう制御する。一方、ＣＯＲモジュール６１の異常状態の発生を検知した時点でその下流側にあるＰＨＴモジュール６２においてウェハＷの処理が行われていた場合、当該ウェハＷはＣＯＲモジュール６１の異常の影響を受けることなく一連の処理を継続可能である。そのため、制御部８０は、該ウェハＷを回収可能と判断し、該ウェハＷに対する一連の処理を継続するよう制御する。そして、制御部８０は、予め決められた時間が経過した後、すなわちｔ５となった際に当該異常状態の解除を検知しなかった場合にはフープ１００の蓋１０２を閉止するよう制御する。これにより、異常状態が発生した場合であってもフープ１００の内部がウェハ処理装置１の雰囲気に曝される時間が減少する。すなわち、特にフープ１００において待機しているウェハＷ４にパーティクルが付着することを抑制することができる。
また、図６に示すように、ウェハＷ２及びＷ３については、ウェハ搬送機構４０によってフープ１００へと回収が可能である。このことから、制御部８０は、異常状態の発生を検知し、かつ、予め決められた時間が経過した後に、ウェハＷ２及びＷ３をフープ１００へ回収してからフープ１００の蓋１０２を閉止するようにウェハ処理部２の各モジュールを制御してもよい。これにより、フープ１００において待機状態となるウェハＷ４だけでなく、フープ１００から搬出されたが一連のウェハ処理が開始されていないウェハＷ２及びＷ３についても、パーティクルが付着することを抑制することができる。このことから、フープ１００の蓋１０２は、制御部８０が異常状態の発生を検知し、かつ、予め決められた時間が経過した後であって、かつ、フープ１００に回収することができるウェハＷがなくなったタイミングで閉止されることが望ましい。
一方、制御部８０は、予め決められた時間が経過する前、例えば図６におけるｔ５の前に当該異常状態の解除を検知した場合にはフープ１００の蓋１０２を閉止することなく一連のウェハ処理を再開するようウェハ処理部２の各モジュールを制御することができる。かかる際、制御部８０は、例えば、前記異常事態の発生時にフープ１００からの搬出が行われていなかったウェハＷ４をフープ１００から搬出するようウェハ処理部２の各モジュールを制御してもよい。また、制御部８０は、既に搬出されているウェハＷ１～Ｗ３をフープ１００に一旦回収した後に一連のウェハ処理を再開するようウェハ処理部２の各モジュールを制御してもよい。あるいは、制御部８０は、異常状態の解除を検知した時点でウェハＷ１～Ｗ３の回収動作を中断して一連のウェハ処理を再開するようウェハ処理部２の各モジュールを制御してもよい。
（Ａ－ＩＩＩ）ウェハＷ１を処理中のモジュールよりも上流経路に位置する処理モジュールが使用不可能となった場合
図７は、ｔ４において先頭ウェハＷ１が既に処理を完了した処理モジュール、例えば、ロードロックモジュール２０ａが使用不可能となった場合を図示している。この場合、ウェハ搬送機構７０はウェハＷ２をロードロックモジュール２０ａから搬出しようとしても、搬出することができない。このため、制御部８０は、ロードロックモジュール２０ａの異常状態の発生を検知すると、一連の処理を停止するようウェハ処理部２の各モジュールを制御する。この場合、制御部８０は、例えば、ロードロックモジュール２０ａの処理を直ちに停止するよう制御する。一方、ロードロックモジュール２０ａの異常状態の発生を検知した時点でその下流側にあるＣＯＲモジュール６１等においてウェハＷの処理が行われていた場合、当該ウェハＷはロードロックモジュール２０ａの異常の影響を受けることなく一連の処理を継続可能である。そのため、制御部８０は、該ウェハＷを回収可能と判断し、該ウェハＷに対する一連の処理を継続するよう制御する。そして、制御部８０は、予め決められた時間が経過した後、すなわちｔ５となった際に当該異常状態の解除を検知しなかった場合にはフープ１００の蓋１０２を閉止するよう制御する。これにより、フープ１００において待機しているウェハＷ４にパーティクルが付着することを抑制することができる。
なお、かかる際、ロードロックモジュール２０ａの処理経路の下流側のＣＯＲモジュール６１に位置するウェハＷ１は、ロードロックモジュール２０ａにおける異常状態の影響を受けずにフープ１００へと回収することができる。また、ウェハＷ３や、ウェハＷ１についても、ウェハ搬送機構４０及びウェハ搬送機構７０によってフープ１００へと回収が可能である。このことから、制御部８０は、異常状態の発生を検知し、かつ、予め決められた時間が経過した後に、図７に示すようにウェハＷ１及びＷ３をフープ１００へ回収してから、例えばｔ８においてフープ１００の蓋１０２を閉止するように制御することが望ましい。これにより、異常状態が発生した場合であってもフープ１００の内部がウェハ処理装置１の雰囲気に曝される時間が減少する。また更に、フープ１００に対してウェハＷ１及びＷ３を回収することができるため、フープ１００において待機状態となるウェハ及びＷ１，Ｗ３及びＷ４にパーティクルが付着することを抑制することができる。
一方、制御部８０は、予め決められた時間が経過する前、例えば図７におけるｔ５～ｔ７に当該異常状態の解除を検知した場合にはフープ１００の蓋１０２を閉止することなく一連のウェハ処理を再開するようウェハ処理部２の各モジュールを制御することができる。かかる際、制御部８０は、例えば、前記異常事態の発生時にフープ１００からの搬出が行われていなかったウェハＷ４をフープ１００から搬出するようウェハ処理部２の各モジュールを制御してもよい。また、制御部８０は、既に搬出されているウェハＷ１～Ｗ３をフープ１００に一旦回収した後に一連のウェハ処理を再開するようウェハ処理部２の各モジュールを制御してもよい。あるいは、制御部８０は、異常状態の解除を検知した時点でウェハＷ１～Ｗ３の回収動作を中断して一連のウェハ処理を再開するようウェハ処理部２の各モジュールを制御してもよい。
（Ｂ）ウェハ処理が開始された後、ウェハ処理装置１のウェハ処理部２が備えるいずれかの搬送モジュールにおいて不具合が発生した場合
図８は、ｔ４においてウェハ搬送機構７０において不具合（異常状態）が発生した場合（Ｂ－Ｉ）を図示している。ウェハ搬送機構７０に不具合が発生した場合、トランスファモジュール６０に搬入されたウェハＷ１の搬送を行うことができなくなり、フープ１００に回収することができなくなる。このため、制御部８０は、ウェハ搬送機構７０の不具合の発生を検知すると、一連の処理を停止するようウェハ処理部２の各モジュールを制御する。そして、制御部８０は、予め決められた時間が経過した後、すなわちｔ５となった際に当該不具合の解消を検知しなかった場合にはフープ１００の蓋１０２を閉止するよう制御する。
なお、図８に示すように、ウェハＷ２及びＷ３については、ウェハ搬送機構４０によってフープ１００へと回収が可能である。このことから、制御部８０は、不具合の発生を検知し、かつ、予め決められた時間が経過した後に、ウェハＷ２及びＷ３をフープ１００へ回収してから、すなわちｔ６にフープ１００の蓋１０２を閉止するようにウェハ処理部２の各モジュールを制御してもよい。これにより、フープ１００において待機状態となるウェハＷ４だけでなく、フープ１００から搬出されたが一連のウェハ処理が開始されていないウェハＷ２及びＷ３についても、パーティクルが付着することを抑制することができる。このことから、フープ１００の蓋１０２は、制御部８０が異常状態の発生を検知し、かつ、予め決められた時間が経過した後であって、かつ、フープ１００に回収することができるウェハＷがなくなったタイミングで閉止されることが望ましい。
一方、制御部８０は、予め決められた時間が経過する前、例えば図８におけるｔ５の前に当該不具合の解消を検知した場合にはフープ１００の蓋１０２を閉止することなく一連のウェハ処理を再開するようウェハ処理部２の各モジュールを制御することができる。かかる際、制御部８０は、例えば、前記異常事態の発生時にフープ１００からの搬出が行われていなかったウェハＷ３、Ｗ４をフープ１００から搬出するようウェハ処理部２の各モジュールを制御してもよい。また、制御部８０は、既に搬出されているウェハＷ１、Ｗ２をフープ１００に一旦回収した後に一連のウェハ処理を再開するようウェハ処理部２の各モジュールを制御してもよい。あるいは、制御部８０は、異常状態の解除を検知した時点でウェハＷ１、Ｗ２の回収動作を中断して一連のウェハ処理を再開するようウェハ処理部２の各モジュールを制御してもよい。
なお、搬送モジュールにおける前記不具合とは、例えば、当該搬送モジュールにおいてエラー（不具合、異常状態）が発生し、当該エラーからの復旧（リカバリ）待ちとなった場合や、当該搬送モジュールがメンテナンス状態となった場合を言う。
このように、ウェハ処理装置１のウェハ処理部２におけるモジュールにおいて異常状態が発生した場合であっても、回収できるウェハＷが存在する場合には、当該回収できるウェハＷの搬入を待って蓋１０２を閉止してもよい。これにより、適切にフープ１００の内部がウェハ処理装置１の雰囲気に曝される時間が減少させ、またウェハＷにパーティクルが付着することを抑制することができる。
なお、図９に示すように例えばｔ４において不具合が発生した搬送モジュールがウェハ搬送機構４０であった場合（Ｂ－ＩＩ）、フープ１００から搬出されたすべてのウェハＷ１、Ｗ２、Ｗ３が回収できなくなる。よって、かかる場合には、当該不具合が発生してから予め定められた時間が経過した後であるｔ５に、ウェハＷ１、Ｗ２、Ｗ３の回収を待たずに蓋１０２を閉止してもよい。これにより、フープ１００において待機状態となるウェハＷ４にパーティクルが付着することを抑制することができる。
（Ｃ）ウェハ処理装置１のウェハ処理部２において搬送中のウェハＷを無くした場合
図１０は、ｔ４において制御部８０が信号の受信等によりエラー（不具合、異常状態）を検知した場合、例えば搬送中のウェハＷ３を落下などにより紛失したことを制御部８０が検知した場合を図示している。この場合、当該ウェハＷ３の搬送ができず、フープ１００に回収することができなくなる。このため、制御部８０は、前記エラーを検知すると、一連の処理を停止するようウェハ処理部２の各モジュールを制御する。そして、制御部８０は、予め決められた時間が経過した後、すなわちｔ５となった際に当該エラーの解除を検知しなかった場合にはフープ１００の蓋１０２を閉止するよう制御する。これにより、フープ１００において待機しているウェハＷ４にパーティクルが付着することを抑制することができる。
また、図１０に示すように、紛失したウェハＷ３に先行して一連のウェハ処理が開始されているウェハＷ１及びＷ２については、ウェハＷ３の紛失の影響を受けずに一連の処理を行い、フープ１００へと回収が可能である。このことから、制御部８０は、エラーを検知し、かつ、予め決められた時間が経過した後に、ウェハＷ１及びＷ２をフープ１００へ回収してから、すなわちｔ９にフープ１００の蓋１０２を閉止するようにウェハ処理部２の各モジュールを制御してもよい。これにより、少なくともフープ１００に回収することができるウェハＷ１及びＷ２と、フープ１００において待機状態であるウェハＷ４にたいして、パーティクルが付着することを抑制することができる。なお、例えばエラーが検知されたウェハＷ３よりも後に処理が行われるウェハＷ４に対してのウェハ処理が開始されている場合であっても、当該ウェハＷ４については、処理経路を遡ることによりウェハＷ３のＷエラーの検知に影響されることなくフープ１００へと回収することができる。このことから、フープ１００の蓋１０２は、制御部８０がエラーを検知し、かつ、予め決められた時間が経過した後であって、かつ、フープ１００に回収することができるウェハＷがなくなったタイミングで閉止されることが望ましい。
一方、制御部８０は、予め決められた時間が経過する前、例えば図１０におけるｔ５～ｔ８に当該異常状態の解除を検知した場合にはフープ１００の蓋１０２を閉止することなく一連のウェハ処理を再開するようウェハ処理部２の各モジュールを制御することができる。かかる際、制御部８０は、例えば、前記異常事態の発生時にフープ１００からの搬出が行われていなかったウェハＷ４をフープ１００から搬出するようウェハ処理部２の各モジュールを制御してもよい。また、制御部８０は、既に搬出されているウェハＷ１～Ｗ３をフープ１００に一旦回収した後に一連のウェハ処理を再開するようウェハ処理部２の各モジュールを制御してもよい。あるいは、制御部８０は、異常状態の解除を検知した時点でウェハＷ１～Ｗ３の回収動作を中断して一連のウェハ処理を再開するようウェハ処理部２の各モジュールを制御してもよい。
なお、以上の（Ａ）～（Ｃ）の動作により、制御部８０は、閉止された蓋１０２を、例えば当該閉止の原因となった異常状態の解消を検知した後に任意のタイミングで開放するよう制御することができる。ただし、蓋１０２が開放される時間が、極力少なくなるように制御するため、ウェハＷの搬送が再開され、フープ１００に対していずれかのウェハＷの搬出、又は搬入が行われる段階で開放されることが望ましい。
例えば、ｔ４において図５の前記（Ａ－Ｉ）に示したＰＨＴモジュール６２の不具合が発生し、ｔ５において蓋１０２が閉止された場合であって、当該不具合がｔ６において解消されたものとする。かかる場合、制御部８０は、不具合が解消されたｔ６において、ウェハＷ１、Ｗ２、Ｗ３を、次の処理モジュールであるＰＨＴモジュール６２、ＣＯＲモジュール６１、ロードロックモジュール２０ａにそれぞれ搬送するようウェハ処理部２の各モジュールを制御する。またこれと同時に、フープ１００において待機していたウェハＷ４をＯＲＴモジュール３３へと搬送する必要があるため、係る場合においては、制御部８０は、ｔ６において蓋１０２を開放するよう制御する。
また、例えば図１１はｔ５においてロードロックモジュール２０ｂの不具合が発生し、いずれのウェハＷもフープ１００に回収されることなく、ｔ６において蓋１０２が閉止された場合を示している。かかる場合にあっては、制御部８０は、例えばｔ７に不具合の解消を検知したときにウェハＷの処理を再開するようウェハ処理部２の各モジュールを制御し、最初にすべての処理が完了するウェハＷ１がフープ１００に搬入されるｔ９において、蓋１０２を開放するよう制御する。このように、蓋１０２は、前述したようにフープ１００に対していずれかのウェハＷの搬出、又は搬入が行われる段階で開放されることが望ましい。
以上の実施形態によれば、制御部８０は、ウェハ処理装置１のウェハ処理部２において異常状態が発生したことを検知し、予め決められた時間が経過し、フープ１００に収容されていたウェハＷの搬送経路上において、当該ウェハＷが搬送不能となったことを検知した際に、フープ１００の蓋１０２を閉止するように制御する。すなわち、ウェハ処理装置１のウェハ処理部２のいずれかのモジュールにおいてウェハＷの処理中に何らかの異常状態が発生した場合であっても、フープ１００の内部をウェハ処理装置１の雰囲気に曝す時間を短縮することができるため、フープ１００内部で待機するウェハＷにパーティクルが付着することを適切に抑制することができる。なお、上述したように、前記「予め決められた時間」は、種々の観点で任意に設定することができる。例えば、少なくとも前記搬送経路上に搬送可能なウェハＷが存在するかどうかを判断し、当該搬送可能なウェハＷをフープ１００に回収する為の時間を確保できれば足る。また、例えば、オペレーターが発生した異常状態を確認し、早期復旧できるかどうかの判断を下すまでの時間が設定されていてもよい。
この際、上述したように、異常状態が発生した場合であっても、フープ１００への回収ができるウェハＷがウェハ処理装置１の内部に残留している場合にあっては、制御部８０は、当該回収ができるウェハＷのフープ１００への搬入を待って、蓋１０２を閉止するよう制御する。これにより、パーティクルの付着を抑制することができるウェハＷの枚数を適切化することができる。
また、上述のように、制御部８０は、異常状態の発生し、予め決められた時間が経過してから蓋１０２を閉めるように制御する。よって、制御部８０は、予め決められた時間が経過する前に前記異常状態が解消した場合には、蓋１０２を閉めないように制御することができる。これにより、従来の同等のウェハ処理における操業を行うことができ、また、蓋１０２の開閉動作によりパーティクルが発生してすることを抑制できる。
また更に、本実施形態にかかるウェハ処理装置１のように、ウェハＷを処理する処理モジュール（例えばＣＯＲモジュール６１やＰＨＴモジュール６２のような減圧下処理モジュール）が複数設けられている場合、一の処理モジュールにおいて異常状態が発生した場合であっても、一連のウェハ処理を継続できる場合がある。例えば、制御部８０は、一の処理モジュールにおいて異常状態が発生したことを検知した場合であっても、蓋１０２を閉めることなく他の処理モジュールを用いて処理対象のウェハの処理を継続するようにウェハ処理部２の各モジュールの制御を行ってもよい。
なお、ウェハ処理装置１に対して複数のフープ１００が搬入されている場合、モジュールの異常状態により回収できなくなったウェハＷを収容していたフープ１００のみの蓋１０２が閉止されるようにすることが好ましい。すなわち、フープ１００へ回収することができるウェハＷが存在するフープ１００の蓋１０２は閉止させず、回収することができるウェハＷがなくなったフープ１００の蓋１０２のみを閉止することが好ましい。かかる判断は、例えば各フープ１００に収容されたウェハＷの搬送レシピを基に行われる。
なお、以上の実施形態においては、説明の簡略化の為に１ロット４枚のウェハＷについて説明を行ったが、当然にこれ以上の枚数のウェハＷを備えるロットに対しても、本開示にかかる技術を適用することができる。かかる場合であっても、処理モジュールにおいて異常状態が発生してから予め決められた時間が経過し、かつ、フープ１００に回収することができるウェハＷがなくなった際に、フープ１００の蓋１０２を閉止するように制御されればよい。
なお、以上の実施形態においては、ウェハ処理装置１における異常状態の発生したタイミングを基準として、蓋１０２の閉止を判断するための予め決められた時間を算出した。しかし、基準とするタイミングは、任意に設定することができ、例えばウェハ搬送機構４０がフープ１００に対して最後にアクセスしたタイミングを基準としてもよい。かかる場合、少なくとも、ウェハ処理装置１においてウェハ処理に要する既定の時間が経過した際に蓋１０２を閉止するように制御を行うことができれば、従来と比べて蓋１０２の開放時間が長くなることが無い。すなわち、異常状態の発生によるパーティクルの付着抑制の効果を享受することができる。
今回開示された実施形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。上記の実施形態は、添付の請求の範囲及びその主旨を逸脱することなく、様々な形態で省略、置換、変更されてもよい。
例えば、上述の例においてはウェハ処理装置１において、例えばＣＯＲ処理やＰＨＴ処理が行われる場合を説明したが、モジュール構成はこれに限定されず、任意の構成をとることができる。すなわち、例えば本開示にかかる技術は、例えば研削処理装置やテスターに適用することができる。また更に、例えば塗布現像装置やエッチング装置に適用されてもよい。
なお、以下のような構成も本開示の技術的範囲に属する。
（１）基板処理部であって、前記基板処理部は、少なくとも１つの基板が収容された基板収容容器を配置するように構成されたロードポートを有し、前記基板処理部は、前記ロードポートに配置された前記基板収容容器から基板を取り出し、当該基板に対して一連の処理を施すように構成された、基板処理部と、前記ロードポートに配置された前記基板収容容器の蓋の開閉を制御するように構成された制御部であって、前記制御部は、前記基板収容容器が前記ロードポートに配置された後に前記蓋を開放するよう制御し、前記制御部は、前記基板処理部において異常状態が発生し、予め決められた時間が経過し、前記基板収容容器から取り出された基板のうち前記基板収容容器に回収可能な基板が無い場合に、前記蓋を閉止するよう制御する、制御部とを有する、基板処理装置。
前記（１）によれば、基板処理装置において異常状態が発生した場合であっても基板収容容器の内部が基板処理装置の雰囲気に曝される時間が減少する。その結果、特に基板収容容器において待機している基板にパーティクルが付着することを抑制することができる。
（２）前記制御部は、前記基板処理部を制御するように構成され、
前記制御部は、前記予め決められた時間が経過した後に、前記回収可能な基板を前記基板収容容器に回収するよう制御し、
前記制御部は、前記回収可能な基板が前記基板収容容器に回収された後に前記蓋を閉止するよう制御する、前記（１）に記載の基板処理装置。
（３）前記制御部は、前記基板処理部において異常状態が発生した場合に前記一連の処理を停止するよう制御し、
前記制御部は、前記予め決められた時間が経過する前に前記異常状態が解除された場合に、前記蓋を閉止することなく前記一連の処理を再開するよう制御する、前記（２）に記載の基板処理装置。
（４）前記制御部は、前記蓋を閉止した後、前記異常状態が解除された場合に前記蓋を再開放するよう制御する、前記（２）又は前記（３）に記載の基板処理装置。
（５）前記異常状態は、前記基板処理部における基板の処理経路上のモジュールが使用不可になった状態である、前記（１）～前記（４）のいずれかに記載の基板処理装置。
（６）前記モジュールは、当該モジュールにおける不具合の発生により、当該不具合から復旧待ちの状態となった際に使用不可となる、前記（５）に記載の基板処理装置。
（７）前記モジュールは、当該モジュールがメンテナンス状態となった際に使用不可となる、前記（５）に記載の基板処理装置。
（８）前記モジュールは、処理モジュール又は搬送モジュールである、前記（５）～前記（７）のいずれかに記載の基板処理装置。
（９）前記異常状態は、前記基板処理部における基板の処理経路上から基板が無くなった状態である、前記（１）～前記（４）のいずれかに記載の基板処理装置。
（１０）基板収容容器の蓋を開閉する方法であって、
少なくとも１つの基板が収容された基板収容容器が基板処理装置内に配置された後に当該基板収容容器の蓋を開放するステップと、
前記基板収容容器から基板を取り出すステップと、
前記基板処理装置において異常状態が発生し、予め決められた時間が経過し、前記基板収容容器から取り出された基板のうち前記基板収容容器に回収可能な基板が無い場合に、前記蓋を閉止するステップとを有する、方法。
（１１）前記（１０）に記載の方法を基板処理装置によって実行させるように、当該基板処理装置のコンピュータ上で動作するプログラム。
１ ウェハ処理装置
１００ フープ
１０２ 蓋
Ｗ ウェハ

Claims (11)

  1. 基板処理部であって、前記基板処理部は、少なくとも１つの基板が収容された基板収容容器を配置するように構成されたロードポートを有し、前記基板処理部は、前記ロードポートに配置された前記基板収容容器から基板を取り出し、当該基板に対して一連の処理を施すように構成された、基板処理部と、
    前記ロードポートに配置された前記基板収容容器の蓋の開閉を制御するように構成された制御部であって、前記制御部は、前記基板収容容器が前記ロードポートに配置された後に前記蓋を開放するよう制御し、前記制御部は、前記基板処理部において異常状態が発生し、予め決められた時間が経過し、前記基板収容容器から取り出された基板のうち前記基板収容容器に回収可能な基板が無い場合に、前記蓋を閉止するよう制御する、制御部とを有する、基板処理装置。
  2. 前記制御部は、前記基板処理部を制御するように構成され、
    前記制御部は、前記予め決められた時間が経過した後に、前記回収可能な基板を前記基板収容容器に回収するよう制御し、
    前記制御部は、前記回収可能な基板が前記基板収容容器に回収された後に前記蓋を閉止するよう制御する、請求項１に記載の基板処理装置。
  3. 前記制御部は、前記基板処理部において異常状態が発生した場合に前記一連の処理を停止するよう制御し、
    前記制御部は、前記予め決められた時間が経過する前に前記異常状態が解除された場合に、前記蓋を閉止することなく前記一連の処理を再開するよう制御する、請求項２に記載の基板処理装置。
  4. 前記制御部は、前記蓋を閉止した後、前記異常状態が解除された場合に前記蓋を再開放するよう制御する、請求項２又は３に記載の基板処理装置。
  5. 前記異常状態は、前記基板処理部における基板の処理経路上のモジュールが使用不可になった状態である、請求項１～４のいずれか一項に記載の基板処理装置。
  6. 前記モジュールは、当該モジュールにおける不具合の発生により、当該不具合から復旧待ちの状態となった際に使用不可となる、請求項５に記載の基板処理装置。
  7. 前記モジュールは、当該モジュールがメンテナンス状態となった際に使用不可となる、請求項５に記載の基板処理装置。
  8. 前記モジュールは、処理モジュール又は搬送モジュールである、請求項５～７のいずれか一項に記載の基板処理装置。
  9. 前記異常状態は、前記基板処理部における基板の処理経路上から基板が無くなった状態である、請求項１～４のいずれか一項に記載の基板処理装置。
  10. 基板収容容器の蓋を開閉する方法であって、
    少なくとも１つの基板が収容された基板収容容器が基板処理装置内に配置された後に当該基板収容容器の蓋を開放するステップと、
    前記基板収容容器から基板を取り出すステップと、
    前記基板処理装置において異常状態が発生し、予め決められた時間が経過し、前記基板収容容器から取り出された基板のうち前記基板収容容器に回収可能な基板が無い場合に、前記蓋を閉止するステップと、を有する、方法。
  11. 請求項１０に記載の方法を基板処理装置によって実行させるように、当該基板処理装置のコンピュータ上で動作するプログラム。
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