JPS6328047A - クリ−ン搬送方法 - Google Patents
クリ−ン搬送方法Info
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- JPS6328047A JPS6328047A JP61170902A JP17090286A JPS6328047A JP S6328047 A JPS6328047 A JP S6328047A JP 61170902 A JP61170902 A JP 61170902A JP 17090286 A JP17090286 A JP 17090286A JP S6328047 A JPS6328047 A JP S6328047A
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Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Feeding Of Workpieces (AREA)
- Intermediate Stations On Conveyors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、半導体関連製品等の加工、組み立てに必要な
被搬送物を汚染物質の無いクリーン状態で所要の工程へ
順次移送すること”が可能なりリーン搬送方法に関する
。
被搬送物を汚染物質の無いクリーン状態で所要の工程へ
順次移送すること”が可能なりリーン搬送方法に関する
。
（従来の技術）
従来、半導体関連製品の加工、組み立てを行う場合、粉
塵等の汚染物質を除去し清浄化した空間である１個の大
規模なりリーンルーム内で全工程を実行するのが普通で
あった。
塵等の汚染物質を除去し清浄化した空間である１個の大
規模なりリーンルーム内で全工程を実行するのが普通で
あった。
第３図は従来のクリーンルームを用いた半導体加工、組
み立て工程の１例であり、部屋１の両側のクリーン洗浄
室２により室内を浄化して部屋全体を１個のクリーンル
ームとなし、その内部に、パターン形成工程Ａ、エッチ
ング工程Ｂ、薄膜形成（スパッタ）工程Ｃ１測定検査工
程Ｄ、酸化工程Ｅ、拡散工程Ｆ、薄膜形成（蒸着）工程
Ｇ、イオン注入工程Ｈ等の半導体製造に必要な作業工程
の順に設備をレイアウトしている。そして、Ｐｔ５３図
、α線で示す各作業工程間をベルト搬送や空気浮動搬送
で搬送したり、無人搬送Ｊｆ１４、又はロボット搬送車
、リニヤモーターカー等を利用して搬送するようにして
いる６それらの各作業工程及び搬送手段の制御は部屋１
外部の中央制御室３で監視される。
み立て工程の１例であり、部屋１の両側のクリーン洗浄
室２により室内を浄化して部屋全体を１個のクリーンル
ームとなし、その内部に、パターン形成工程Ａ、エッチ
ング工程Ｂ、薄膜形成（スパッタ）工程Ｃ１測定検査工
程Ｄ、酸化工程Ｅ、拡散工程Ｆ、薄膜形成（蒸着）工程
Ｇ、イオン注入工程Ｈ等の半導体製造に必要な作業工程
の順に設備をレイアウトしている。そして、Ｐｔ５３図
、α線で示す各作業工程間をベルト搬送や空気浮動搬送
で搬送したり、無人搬送Ｊｆ１４、又はロボット搬送車
、リニヤモーターカー等を利用して搬送するようにして
いる６それらの各作業工程及び搬送手段の制御は部屋１
外部の中央制御室３で監視される。
また、従来ｆ５４図のように数個のクリーンルームＩＡ
、ＩＢ、ＩＣをクリーンな廊下２５で連結し、各工程Ａ
乃至Ｈをそれらのクリーンルーム内に配設した構成も提
案されている。
、ＩＢ、ＩＣをクリーンな廊下２５で連結し、各工程Ａ
乃至Ｈをそれらのクリーンルーム内に配設した構成も提
案されている。
（発明が解決しようとする問題点）
ところで、第３図のように、半導体関連製品等の加工、
組み立てに必要なスペースの部屋全体を大規俣な１個の
クリーンルームとして使用する方法は、加工、組み立て
の目的に応じて工程を変更したりする場合手間がががり
、クリーンルームの無駄やロスが大きかった。
組み立てに必要なスペースの部屋全体を大規俣な１個の
クリーンルームとして使用する方法は、加工、組み立て
の目的に応じて工程を変更したりする場合手間がががり
、クリーンルームの無駄やロスが大きかった。
また、クリーンルーム内の搬送車から発生する塵芥が洗
浄度を保つ上で支障となり、クリーンルーム内に搬送車
を走行させることに問題があった。
浄度を保つ上で支障となり、クリーンルーム内に搬送車
を走行させることに問題があった。
さらに、部屋全体をクリーンルームとしたため、人の出
入りや作業服から発生する塵芥を少なくするのにも限界
があった。
入りや作業服から発生する塵芥を少なくするのにも限界
があった。
さらに、工程変更や設備の補修等も含めてクリーン状態
で速やかにこれらの保守を行うことに難しさが伴い、結
果的にスペース当たりのクリーンコストが高価になって
いた。
で速やかにこれらの保守を行うことに難しさが伴い、結
果的にスペース当たりのクリーンコストが高価になって
いた。
また、第４図の場合はクリーンルームの容積は幾分少な
くできるが、やはり工程変更、人の出入り、保守等の面
で第３図の場合と同様の問題を生じる。
くできるが、やはり工程変更、人の出入り、保守等の面
で第３図の場合と同様の問題を生じる。
（問題点を解決するための手段）
本発明は、上記の従来の問題を改善し、高精度、高集積
度の半導体デバイス等を高歩留り、高品質でしかも低コ
ストで生産するのに適したクリーン搬送方法を提供しよ
うとするものである。
度の半導体デバイス等を高歩留り、高品質でしかも低コ
ストで生産するのに適したクリーン搬送方法を提供しよ
うとするものである。
本発明は、複数のクリーンチャンバーを用い、それらの
複数のクリーンチャンバーのうち少なくとも１個以上を
移動自在とし、前記クリーンチャンバーの移送口相互を
結合した状態で被搬送物を移し変える方法により、上記
従来技術の問題点を解消している。
複数のクリーンチャンバーのうち少なくとも１個以上を
移動自在とし、前記クリーンチャンバーの移送口相互を
結合した状態で被搬送物を移し変える方法により、上記
従来技術の問題点を解消している。
（作用）
本発明のクリーン搬送方法においては、半導体製品の加
工、組み立て工程等の各作業工程に対応させてそれぞれ
独立したクリーンチャンバーを用い、半導体の基板（ウ
ェハー）や半導体の半製品等の被搬送物の搬送は、前記
クリーンチャンバーの移送口相互を結合した状態で行う
。このため、被搬送物の移し変えに伴って塵芥等の汚染
物質が発生することはなく、クリーンチャンバー内の洗
浄度を良好に維持することができる。
工、組み立て工程等の各作業工程に対応させてそれぞれ
独立したクリーンチャンバーを用い、半導体の基板（ウ
ェハー）や半導体の半製品等の被搬送物の搬送は、前記
クリーンチャンバーの移送口相互を結合した状態で行う
。このため、被搬送物の移し変えに伴って塵芥等の汚染
物質が発生することはなく、クリーンチャンバー内の洗
浄度を良好に維持することができる。
一方のクリーンチャンバーから他方のクリーンチャンバ
ーへ被搬送物を移し変えるための手段としては、多数の
リンクを伸縮自在に連結したマジックハンド等の機構を
利用することができる。
ーへ被搬送物を移し変えるための手段としては、多数の
リンクを伸縮自在に連結したマジックハンド等の機構を
利用することができる。
（実施例）
以下、本発明に係るクリーン搬送方法の実施例を半導体
製品の製造工程を例にとって説明する。
製品の製造工程を例にとって説明する。
第１図において、各作業工程を実行する設備は、それぞ
れ独立したクリーンチャンバー内に配設されている。す
なわち、パターン形成工程の設備はクリーンチャンバー
５Ａ、エツチング工程の設備はクリーンチャンバーｓＢ
、薄ｇ形成（スパッタ）工程の設備はクリーンチャンバ
ー５Ｃ１測定検査工程の設備はクリーンチャンバー５Ｄ
、酸化工程の設備はクリーンチャンバー５Ｅ、拡散工程
の設備はクリーンチャンバー５Ｆ、薄膜形成（蒸着）工
程の設備はクリーンチャンバー５Ｇ、イオン注入工程の
設備はクリーンチャンバー５Ｈ内にそれぞれ設けられて
いる。これらのクリーンチャンバー５Ａ乃至５Ｈは、例
えば数ｍ３乃至数十ｍ３の容積を有するもので、開閉自
在な移送口（通常は密閉状態）１５が設けられており、
従来のクリーンルームと同様に空気清浄機や高性能フィ
ルタ等を具備し、内部に未清浄の外気が侵入しないよう
に内部を外気よりも僅かに高圧に保つようになっている
。
れ独立したクリーンチャンバー内に配設されている。す
なわち、パターン形成工程の設備はクリーンチャンバー
５Ａ、エツチング工程の設備はクリーンチャンバーｓＢ
、薄ｇ形成（スパッタ）工程の設備はクリーンチャンバ
ー５Ｃ１測定検査工程の設備はクリーンチャンバー５Ｄ
、酸化工程の設備はクリーンチャンバー５Ｅ、拡散工程
の設備はクリーンチャンバー５Ｆ、薄膜形成（蒸着）工
程の設備はクリーンチャンバー５Ｇ、イオン注入工程の
設備はクリーンチャンバー５Ｈ内にそれぞれ設けられて
いる。これらのクリーンチャンバー５Ａ乃至５Ｈは、例
えば数ｍ３乃至数十ｍ３の容積を有するもので、開閉自
在な移送口（通常は密閉状態）１５が設けられており、
従来のクリーンルームと同様に空気清浄機や高性能フィ
ルタ等を具備し、内部に未清浄の外気が侵入しないよう
に内部を外気よりも僅かに高圧に保つようになっている
。
そして、各クリーンチャンバー５Ａ乃至５Ｈはそれぞれ
の作業工程に適合した清浄度に保たれる。
の作業工程に適合した清浄度に保たれる。
マタ、レイアウトの変更を容易にするために、各クリー
ンチャンバー５Ａ乃至５Ｈには車（キャスター）６が着
脱自在に装備されていることが好ましく、所定位置にて
車６はロックされる。
ンチャンバー５Ａ乃至５Ｈには車（キャスター）６が着
脱自在に装備されていることが好ましく、所定位置にて
車６はロックされる。
クリーン搬送車７は、クリーンチャンバーに車（キャス
ター）８を設けて移動自在にしたものであり、移送口（
通常は密閉状態）１６を有する。
ター）８を設けて移動自在にしたものであり、移送口（
通常は密閉状態）１６を有する。
資材保管庫９及び生製品保管ｍｌｏは大形のりリーンチ
ャンバーであり、移送口（通常は密閉状！！！Ｈ７を有
し、やはり、レイアウトの変更を容易にするために、車
（キャスター）が装備されていることが好ましく、所定
位置にて車はロックされる。
ャンバーであり、移送口（通常は密閉状！！！Ｈ７を有
し、やはり、レイアウトの変更を容易にするために、車
（キャスター）が装備されていることが好ましく、所定
位置にて車はロックされる。
なお、各クリーンチャンバー５Ａ乃至５Ｈ，クリーン搬
送車７及び資材保管庫９及び半製品保管庫１０にはロー
ダ及びアンローダが装備されている。
送車７及び資材保管庫９及び半製品保管庫１０にはロー
ダ及びアンローダが装備されている。
中央制御車１１は、所定の制御プログラムに従ってクリ
ーン搬送車７の動き、及び各クリーンチャンバー５Ａ乃
至５Ｈの働きを無線もしくは有線で制御するものであり
、必要位置にてロック可能になっている。
ーン搬送車７の動き、及び各クリーンチャンバー５Ａ乃
至５Ｈの働きを無線もしくは有線で制御するものであり
、必要位置にてロック可能になっている。
被搬送物の各クリーンチャンバー５Ａ乃至５Ｈ間の移送
及び資材保管庫９及び半製品保管庫１０と各クリーンチ
ャンバー５Ａ乃至５Ｈ間の搬送は、クリーン搬送車７を
無線らしくは有線で移動させることによって行う。例え
ば、第２図のように、クリーンチャンバー５Ａの移送口
１５にクリーン搬送車７の移送口１６を結合（トンキン
グ）し、両移送口１５．１６を開き、搬送車７側のロー
ダ及びアンローダとしてのマノツクノ１ンド磯構２０を
介して被搬送物をクリーンチャンバー５Ａに対して供給
するか、またはクリーンチャンバー５Ａより取り出す。
及び資材保管庫９及び半製品保管庫１０と各クリーンチ
ャンバー５Ａ乃至５Ｈ間の搬送は、クリーン搬送車７を
無線らしくは有線で移動させることによって行う。例え
ば、第２図のように、クリーンチャンバー５Ａの移送口
１５にクリーン搬送車７の移送口１６を結合（トンキン
グ）し、両移送口１５．１６を開き、搬送車７側のロー
ダ及びアンローダとしてのマノツクノ１ンド磯構２０を
介して被搬送物をクリーンチャンバー５Ａに対して供給
するか、またはクリーンチャンバー５Ａより取り出す。
マジックハンド磯１２０は伸縮自在にりンク２１を連結
し、先端に受台２２を装着したものである。
し、先端に受台２２を装着したものである。
１５２図のようなりリーン搬送車７を用いた移し変え方
法によって、資材保管庫９から半導体基板等の被搬送物
がパターン形成工程用クリーンチャンバー５Ａに移し変
えられ、次いでエツチング工程用クリーンチャンバー５
８．！膜形成（スパッタ）工程用クリーンチャンバー５
Ｃ１測定検査工程用クリーンチヤンバー５Ｄ、酸化工程
用クリーンチャンバー５Ｅ、拡散工程用クリーンチャン
バー５Ｆ、＊膜形成（蒸着）工程用クリーンチャンバー
５Ｇ、イオン注入工程用クリーンチャンバー５Ｈに移し
変えられ、イオン注入工程を終了した被搬送物はさらに
半製品保管庫１０に移される。このような搬送動作は中
央制御＄１１の制御プログラム信号に従って実行される
。
法によって、資材保管庫９から半導体基板等の被搬送物
がパターン形成工程用クリーンチャンバー５Ａに移し変
えられ、次いでエツチング工程用クリーンチャンバー５
８．！膜形成（スパッタ）工程用クリーンチャンバー５
Ｃ１測定検査工程用クリーンチヤンバー５Ｄ、酸化工程
用クリーンチャンバー５Ｅ、拡散工程用クリーンチャン
バー５Ｆ、＊膜形成（蒸着）工程用クリーンチャンバー
５Ｇ、イオン注入工程用クリーンチャンバー５Ｈに移し
変えられ、イオン注入工程を終了した被搬送物はさらに
半製品保管庫１０に移される。このような搬送動作は中
央制御＄１１の制御プログラム信号に従って実行される
。
なお、実施例では半導体製品の製造工程を例にとって説
明したが、被搬送物の加工や組み立て、検査等の目的に
応じてクリーンチャンバーの個数、配列を中央制御車よ
りの制御プログラム信号によって無線もしくは有線で指
令して自在に変更することができる。
明したが、被搬送物の加工や組み立て、検査等の目的に
応じてクリーンチャンバーの個数、配列を中央制御車よ
りの制御プログラム信号によって無線もしくは有線で指
令して自在に変更することができる。
まｒこ、クリーン搬送車が１台である場合を実施例では
示したが、クリーン搬送車が複数台であってもよい。
示したが、クリーン搬送車が複数台であってもよい。
（発明の効果）
以上説明したように、本発明のクリーン搬送方法によれ
ば、複数のクリーンチャンバーを用い、それらの複数の
クリーンチャンバーのうち少なくとも１個以上を移動自
在とし、前記クリーンチャンバーの移送口相互を結合し
た状態で被搬送物を移し変えるようにしているので、以
下の効果を得ることができる。
ば、複数のクリーンチャンバーを用い、それらの複数の
クリーンチャンバーのうち少なくとも１個以上を移動自
在とし、前記クリーンチャンバーの移送口相互を結合し
た状態で被搬送物を移し変えるようにしているので、以
下の効果を得ることができる。
（１）作業工程に対応した複数のクリーンチャンバーを
用いており、クリーンチャンバーの配列の変更、個数の
増減によｒ）多目的（二使用できる。
用いており、クリーンチャンバーの配列の変更、個数の
増減によｒ）多目的（二使用できる。
（２）保守は、クリーンチャンバーの変換により簡単に
実施できる。例えば、台車上にクリーンチャンバーを着
脱自在に載置した構成では、別のクリーンチャンバーを
台車上に載せ換えればよい。
実施できる。例えば、台車上にクリーンチャンバーを着
脱自在に載置した構成では、別のクリーンチャンバーを
台車上に載せ換えればよい。
（３） 必２なスペースのみをクリーンチャンバーで
構成することになるため、スペース当たりのクリーン効
率が大である。
構成することになるため、スペース当たりのクリーン効
率が大である。
（４）設備コストが低廉である。
（５）工程変更に対応してクリーンチャンバーの配置を
無人で容易に制御できる。
無人で容易に制御できる。
第１図は本発明に係るクリーン搬送方法の実施例を示す
構成図、第２図は被搬送物の移し変え作業を示す説明図
、第３図は従来の１個の大規模なりリーンルームを使用
した場合の構成図、第４図は従来の数個のクリーンルー
ムを使用した場合のｈｍ構成図ある。 ５Ａ乃至５Ｈ・・・クリーンチャンバー、７・・・クリ
−ン搬送軍、９・・・資材保管庫、１０・・・半製品保
管庫、１５，１６．１７・・・移送口、２０・・・マジ
ックハンド機構。
構成図、第２図は被搬送物の移し変え作業を示す説明図
、第３図は従来の１個の大規模なりリーンルームを使用
した場合の構成図、第４図は従来の数個のクリーンルー
ムを使用した場合のｈｍ構成図ある。 ５Ａ乃至５Ｈ・・・クリーンチャンバー、７・・・クリ
−ン搬送軍、９・・・資材保管庫、１０・・・半製品保
管庫、１５，１６．１７・・・移送口、２０・・・マジ
ックハンド機構。
Claims (2)
- （１）複数のクリーンチャンバーを用い、それらの複数
のクリーンチャンバーのうち少なくとも１個以上を移動
自在とし、前記クリーンチャンバーの移送口相互を結合
した状態で被搬送物を移し変えることを特徴とするクリ
ーン搬送方法。 - （２）前記複数のクリーンチャンバーのうち少なくとも
移動自在となっているものが、前記被搬送物を移し変え
る移し変え手段を具備している特許請求の範囲第１項記
載のクリーン搬送方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61170902A JPS6328047A (ja) | 1986-07-22 | 1986-07-22 | クリ−ン搬送方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61170902A JPS6328047A (ja) | 1986-07-22 | 1986-07-22 | クリ−ン搬送方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6328047A true JPS6328047A (ja) | 1988-02-05 |
| JPH0482186B2 JPH0482186B2 (ja) | 1992-12-25 |
Family
ID=15913448
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61170902A Granted JPS6328047A (ja) | 1986-07-22 | 1986-07-22 | クリ−ン搬送方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6328047A (ja) |
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JPH04157749A (ja) * | 1990-10-22 | 1992-05-29 | Tdk Corp | クリーン搬送方法及び装置 |
| US5364219A (en) * | 1991-06-24 | 1994-11-15 | Tdk Corporation | Apparatus for clean transfer of objects |
| WO1996025760A1 (fr) * | 1995-02-15 | 1996-08-22 | Hitachi, Ltd. | Procede et machine de fabrication de semiconducteurs |
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| US6199604B1 (en) | 1997-10-13 | 2001-03-13 | Tdk Corporation | Clean box, clean transfer method and apparatus therefor |
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| JPS60227437A (ja) * | 1983-09-28 | 1985-11-12 | Yokogawa Hewlett Packard Ltd | 集積回路用インターフェース装置 |
-
1986
- 1986-07-22 JP JP61170902A patent/JPS6328047A/ja active Granted
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
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