JPWO2021193530A5 - - Google Patents
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Claims (16)
- 化学式（２）で表される繰り返し単位を有する樹脂を含む樹脂膜であって、前記樹脂に含まれるアミノシラン残基のモル数をテトラカルボン酸残基のモル数で除した値が０．２～１．２であり、波長４００ｎｍにおける光透過率が６８％以上であり、ガラス転移温度が３７０℃以上であり、重量減少開始温度が４４０℃以上である、樹脂膜。
- 化学式（１）で表される繰り返し単位を有する樹脂を含む樹脂膜であって、前記樹脂膜に含まれるジアミン残基のモル数をテトラカルボン酸残基のモル数で除した値が０．４～０．９であり、波長４００ｎｍにおける光透過率が６８％以上であり、ガラス転移温度が３７０℃以上であり、重量減少開始温度が４４０℃以上である、樹脂膜。
- 前記樹脂が、化学式（２）で表される構造を有する、請求項２に記載の樹脂膜。
- 前記樹脂に含まれるアミノシラン残基のモル数をテトラカルボン酸残基のモル数で除した値が０．２～１．２である、請求項３に記載の樹脂膜。
- 前記化学式（２）中、Ｚが炭素数６～１０の芳香族炭化水素基である、請求項１、３及び４のいずれかに記載の樹脂膜。
- 前記Ａおよび前記Ｂがフッ素原子を含まないことを特徴とする、請求項１～５のいずれかに記載の樹脂膜。
- 前記Ａおよび前記Ｂが化学式（３１）で表される構造を有し、Ａが化学式（３２）で表される構造、化学式（３３）で表される構造、または化学式（３４）で表される構造を有する、請求項１～６のいずれかに記載の樹脂膜。
- 前記Ａが３，３’，４，４’－ビフェニルテトラカルボン酸残基を有し、前記Ｂが３，３’－ジアミノジフェニルスルホン残基または４，４’－ジアミノジフェニルスルホン残基を有する、請求項１～７のいずれかに記載の樹脂膜。
- ディスプレイ基板として用いられる、請求項１～８のいずれかに記載の樹脂膜。
- 請求項１～９のいずれかに記載の樹脂膜を含む、ディスプレイ。
- 化学式（４）で表される繰り返し単位を有する樹脂、シラン化合物、および溶媒を含む樹脂組成物であって、当該樹脂組成物を塗布し、４１０℃で焼成して得られる厚さ１０μｍの樹脂膜について、波長４００ｎｍにおける光透過率が６８％以上であり、ガラス転移温度が３７０℃以上であり、重量減少開始温度が４４０℃以上である、樹脂組成物。
- 前記シラン化合物が、化学式（７）で表される構造のシラン化合物である、請求項１１に記載の樹脂組成物。
- 前記樹脂が、化学式（５）で表される構造を有する、請求項１１または１２に記載の樹脂組成物。
- 前記樹脂のイミド化率が５～３０％である、請求項１１～１３のいずれかに記載の樹脂組成物。
- 請求項１１～１４のいずれかに記載の樹脂組成物を支持体に塗布し、４００℃～４９０℃で焼成する工程を含む、樹脂膜の製造方法。
- 請求項１５に記載の樹脂膜の製造方法によって支持体上に樹脂膜を形成する工程と、前記樹脂膜上にディスプレイ素子を形成する工程と、前記支持体から前記樹脂膜を剥離する工程と、を含む、ディスプレイの製造方法。
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