JPWO2019151378A1 - 熱転写シート、熱転写シートと中間転写媒体の組合せ、及び印画物の製造方法 - Google Patents

Abstract

印画物の製造において、転写を所望する中間転写媒体の転写層のみを、被転写体上に正確に転写することが可能となる熱転写シートと中間転写媒体の組合せや、中間転写媒体と組み合わせて用いられる熱転写シートを提供すること、及び、転写を所望する中間転写媒体の転写層のみが、被転写体上に正確に転写されてなる印画物の製造方法や、この印画物の製造方法に用いられる熱転写プリンタを提供すること。中間転写媒体と組み合わせて用いられる熱転写シートであって、基材１上にブロック層２が設けられ、前記ブロック層２がカルナバワックスを含有している。

Description

本発明は、熱転写シート、熱転写シートと中間転写媒体との組合せ、印画物の製造方法、及び熱転写プリンタに関する。

特許文献１に提案がされているように、被転写体上に制約を受けることがなく印画物を形成する手段として、基材上に、受容層を含む転写層（以下、転写層と言う場合がある）が剥離可能に設けられた中間転写媒体が用いられている。この中間転写媒体によれば、色材層を有する熱転写シートを用いて、中間転写媒体の受容層上に熱転写画像を形成し、その後、この受容層を含む転写層を、任意の被転写体上に転写することで、任意の被転写体上に熱転写画像が形成された印画物を得ることができる。特に、中間転写媒体は、色材が移行しにくく、高画質の画像を直接形成できない被転写体や、熱転写時に色材層と融着し易い被転写体等に対して好ましく用いられている。

ところで、被転写体上に中間転写媒体の転写層を転写することで得られる印画物の種類によっては、ＩＣチップ部、磁気ストライプ部、送受信用アンテナ部、署名部等を設ける領域を残存しておくことが必要な場合もあり、被転写体の表面には、転写層で覆われては不都合な領域が存在する場合もある。換言すれば、被転写体の表面が露出していることが必要とされる場合もある。したがって、中間転写媒体の転写層には、被転写体上に、転写を所望する転写層のみを正確に転写できる機能を有していることが要求されている。しかしながら、中間転写媒体の転写層の検討のみでは、上記の要求を実現できていないのが現状である。

特開２０１４−８００１６号公報

本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであり、印画物の製造において、転写を所望する中間転写媒体の転写層のみを、被転写体上に正確に転写することを可能とする熱転写シートと中間転写媒体の組合せや、中間転写媒体と組み合わせて用いられる熱転写シートを提供すること、及び、転写を所望する中間転写媒体の転写層のみが、被転写体上に正確に転写されてなる印画物の製造方法や、この製造方法に用いられる熱転写プリンタを提供することを主たる課題とする。

上記課題を解決するための本開示の実施の形態に係る熱転写シートは、中間転写媒体と組み合わせて用いられる熱転写シートであって、基材上に、当該基材から剥離可能にブロック層が設けられ、ブロック層は、中間転写媒体上に転写されるものであり、ブロック層が、カルナバワックスを含有している。

上記の熱転写シートにおいて、ブロック層が、さらにポリエチレンワックス、及び熱可塑性エラストマーを含有していてもよい。

また、上記課題を解決するための本開示の実施の形態に係る熱転写シートは、中間転写媒体と組み合わせて用いられる熱転写シートであって、基材上に、当該基材から剥離可能にブロック層が設けられ、ブロック層は、中間転写媒体上に転写されるものであり、ブロック層が、活性光線硬化性樹脂の硬化物、シリコーン樹脂の硬化物、及び熱可塑性樹脂の硬化物の群の中から選択される少なくとも１種を含有している。

また、上記各熱転写シートにおいて、基材の同一面上に、染料層、及びヒートシール層の何れか一方、又は双方が、ブロック層と面順次に設けられていてもよい。また、基材の同一面上に、染料層、ブロック層、ヒートシール層がこの順で面順次に設けられていてもよい。また、基材の同一面上に、染料層、ヒートシール層、ブロック層がこの順で面順次に設けられていてもよい。

また、上記課題を解決するための本開示の実施の形態に係る熱転写シートと中間転写媒体の組合せは、当該組合せに用いられる熱転写シートが、上記各実施の形態に係る熱転写シートであり、中間転写媒体が、支持体上に、受容層からなる単層構成の転写層、又は支持体から最も遠くに受容層が位置する積層構成の転写層が設けられた中間転写媒体である。

また、上記組合せに用いられる中間転写媒体が、支持体と転写層との間に、離型層が設けられた中間転写媒体であり、離型層が、シルセスキオキサンを含有していてもよい。また、上記組合せに用いられる中間転写媒体の離型層が、さらに、ガラス転移温度（Ｔｇ）が５０℃以下のウレタン変性ポリエステルを含有していてもよい。

また、上記組合せに用いられる中間転写媒体の転写層が、支持体側から、保護層、受容層がこの順で積層されてなる積層構造を呈しており、保護層が、活性光線硬化性樹脂の硬化物を含有していてもよい。

また、上記課題を解決するための本開示の実施の形態に係る印画物の製造方法は、上記各実施の形態に係る熱転写シートと中間転写媒体の組合せを用いた印画物の製造方法であって、中間転写媒体の転写層上に熱転写画像を形成する工程と、熱転写画像が形成された転写層上の一部に、熱転写シートのブロック層を転写する第１転写工程と、被転写体上に中間転写媒体の転写層を転写する第２転写工程と、を含み、第２転写工程が、転写層上の一部に転写されたブロック層をマスキング部材として用い、ブロック層と重ならない転写層を、被転写体上に転写する工程である。

また、上記課題を解決するための本開示の実施の形態に係る熱転写プリンタは、上記印画物の製造方法に用いられる熱転写プリンタであって、エネルギー印加手段を有している。

本発明の熱転写シートと中間転写媒体の組合せや、中間転写媒体と組み合わせて用いられる本発明の熱転写シートによれば、これらを組み合わせて用いることで、印画物の製造において、転写を所望する中間転写媒体の転写層のみを、被転写体上に正確に転写することが可能となる。また、本発明の印画物の製造方法や、熱転写プリンタによれば、転写を所望する中間転写媒体の転写層のみが、被転写体上に正確に転写されてなる印画物を製造することが可能となる。

一実施形態の熱転写シートの概略断面図である。 一実施形態の熱転写シートの概略断面図である。 一実施形態の熱転写シートの概略断面図である。 一実施形態の熱転写シートの概略断面図である。 （ａ）、（ｂ）は、ともに一実施形態の熱転写シートの概略断面図である。 一実施形態の熱転写シートと組み合わせて用いられる中間転写媒体の概略断面図である。 一実施形態の熱転写シートと組み合わせて用いられる中間転写媒体の概略断面図である。 一実施形態の印画物の製造方法の一例を示す概略工程図である。 ブロック層の転写領域の一例を示す中間転写媒体の概略平面図である。 （ａ）、（ｂ）は、ヒートシール層の転写領域の一例を示す中間転写媒体の概略平面図である。 （ａ）、（ｂ）は、シルセスキオキサンを含有する離型層の^２９Ｓｉ ＮＭＲ測定結果の一例である。

以下、本発明の実施の形態を、図面等を参照しながら説明する。なお、本発明は多くの異なる態様で実施することが可能であり、以下に例示する実施の形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。また、図面は説明をより明確にするため、実際の態様に比べ、各部の幅、厚さ等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本願明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には、同一の符号を付して、詳細な説明を適宜省略することがある。

＜＜熱転写シート＞＞
本開示の実施の形態に係る熱転写シート１０（以下、一実施形態の熱転写シートと言う）は、図１に示すように、基材１の一方の面上に、ブロック層２が設けられた構成を呈している。ブロック層２は、基材１から剥離可能に設けられており、後述する中間転写媒体５０の転写層４０上に転写される層である（図８（ｂ）参照）。換言すれば、中間転写媒体５０の最表面に位置する受容層３５上に転写される層である。なお、ブロック層２が、基材１から剥離可能であるとは、ブロック層２の基材１側に位置する面が剥離界面であることを意味し、例えば、基材１上に、任意の離型層を設け、この離型層上にブロック層２を設ける場合には、ブロック層２は、離型層から剥離可能であることを意味する。

一実施形態の熱転写シート１０の具体的な説明をするにあたり、図８を参照して一実施形態の熱転写シートを用いた印画物の製造方法について説明する。図８は、一実施形態の熱転写シートを用いた印画物の製造方法の一例を示す工程図である。なお、印画物の製造方法の具体的な例については、後述する。

一実施形態の熱転写シート１０を用いた印画物の製造方法では、図８（ｂ）に示すように、中間転写媒体５０と、一実施形態の熱転写シート１０とを重ね合せ、例えば、サーマルヘッド等の加熱部材（図示しない）により熱転写シート１０の背面側（図８（ｂ）に示す形態では、熱転写シート１０の上面）にエネルギーを印加し、エネルギーが印加された領域（図８（ｂ）のエネルギー印加領域参照）に対応する熱転写シート１０のブロック層２を、中間転写媒体５０の転写層４０上に転写する。換言すれば、転写層４０の最表面に位置する受容層３５上に、ブロック層２を転写する。

次いで、図８（ｃ）に示すように、ブロック層２が転写された中間転写媒体５０の転写層４０と、被転写体６０とを重ね合せ、例えば、サーマルヘッド等の加熱部材（図示しない）により、中間転写媒体５０の背面側（図８（ｃ）に示す形態では、中間転写媒体５０の上面）にエネルギーを印加し、エネルギーが印加された領域（図８（ｃ）のエネルギー印加領域参照）に対応する、転写層４０を被転写体６０に転写する。このとき、中間転写媒体５０の転写層４０上に転写されたブロック層２は、マスキング部材としての役割を果たし、図８（ｃ）、（ｄ）に示すように、エネルギーが印加された領域に対応する転写層４０のうち、ブロック層２と重ならない領域の転写層４０のみが、被転写体６０上に転写され、図８（ｄ）に示すような形態の印画物１００を製造できる。つまり、一実施形態の熱転写シート１０は、中間転写媒体５０の転写層４０上に、ブロック層２を転写するために用いられる熱転写シート１０である。具体的には、中間転写媒体５０の転写層４０を、被転写体６０上に転写して印画物を製造するときに、エネルギーが印加された転写層４０の領域のうち、被転写体６０上への転写を所望しない転写層４０の領域上に、ブロック層２を転写するために用いられる熱転写シート１０である。

以下、上記用途に用いられる一実施形態の熱転写シート１０の各構成について、一例を挙げて説明する。

（基材）
一実施形態の熱転写シート１０を構成する基材１についていかなる限定もされることはなく、熱転写シートの分野で従来公知のものを適宜選択して用いることができる。一例としては、グラシン紙、コンデンサー紙、又はパラフィン紙等の薄紙、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルケトンもしくはポリエーテルサルホン等の耐熱性の高いポリエステル、ポリプロピレン、ポリカーボネート、酢酸セルロース、ポリエチレン誘導体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアミド、ポリイミド、ポリメチルペンテン、又はアイオノマー等のプラスチックの延伸、又は未延伸フィルムが挙げられる。また、これらの材料を２種以上積層した複合フィルムも使用できる。

基材１の厚さについて特に限定はないが、２μｍ以上１０μｍ以下が好ましい。また、基材１とブロック層２との密着性を向上させるべく、基材１の表面に接着処理を施すこともできる。つまり、接着処理が施された基材１を用いることもできる。接着処理としては、例えば、コロナ放電処理、火炎処理、オゾン処理、紫外線処理、放射線処理、粗面化処理、化学薬品処理、プラズマ処理、低温プラズマ処理、グラフト化処理等、公知の樹脂表面改質技術が挙げられる。また、これらの処理を２種以上併用することもできる。

次に、上記用途に用いられる一実施形態の熱転写シート１０のブロック層２について、第１形態のブロック層、第２形態のブロック層を例に挙げて説明する。

（第１形態のブロック層）
第１形態のブロック層２は、カルナバワックスを含有している。カルナバワックスを含有している第１形態のブロック層２によれば、当該ブロック層２を、中間転写媒体５０の転写層４０上に転写し、当該ブロック層２が転写された領域を含む中間転写媒体５０の転写層４０を、被転写体６０上に転写するときに、エネルギーが印加された転写層４０の領域のうち、当該ブロック層２と重ならない領域の転写層４０のみを、被転写体６０上に正確に転写できる。換言すれば、中間転写媒体５０の転写層４０を転写するときの箔切れ性を良好なものにできる。

本願明細書で言う転写層４０の箔切れ性とは、転写層を被転写体上に転写する際の尾引きの抑制度合いを示し、箔切れ性が良好であるという場合には、尾引きの発生を十分に抑制可能であることを意味する。つまり、エネルギーが印加された領域に対応する転写層４０のうち、ブロック層２と重ならない領域の転写層４０のみを、被転写体６０上に転写できることを意味する。また、本願明細書で言う尾引きとは、転写層４０を被転写体６０上に転写するときに、エネルギーが印加された領域に対応する転写層４０のうち、ブロック層２と重なる領域の転写層４０（非転写領域）と、ブロック層と重ならない領域の転写層４０（転写領域）との境界を起点とし、該境界からブロック層２と重なる領域側（非転写領域側）にはみ出すように転写層４０が転写されてしまう現象を意味する。換言すれば、本来であれば、中間転写媒体５０側に残存すべき非転写領域の転写層４０の一部が、被転写体６０側に転写されてしまう現象を意味する。

さらに、第１形態のブロック層２によれば、エネルギーが印加された領域のうち、転写領域の転写層４０の全部、或いは一部が、被転写体６０上に転写されない転写層４０の未転写の発生を抑制できる。本願明細書でいう転写層の未転写とは、非転写領域の転写層と、転写領域の転写層との境界を起点として、本来であれば、被転写体６０側に転写されるべき転写層４０が、当該境界から一部の範囲において、被転写体上に転写されずに、中間転写媒体５０の支持体３１側に残存してしまう現象を意味する。

カルナバワックスの含有量について特に限定はないが、ブロック層２の総質量に対し３０質量％以上が好ましく、４０質量％以上がより好ましい。上限値について特に限定はなく、１００質量％である。第１形態のブロック層２は、カルナバワックスとして１種を含有していてもよく、２種以上を含有していてもよい。

好ましい第１形態のブロック層２は、上記カルナバワックスとともに、ポリエチレンワックス、及び熱可塑性エラストマーを含有している。好ましい第１形態のブロック層２とすることで、当該ブロック層２が転写された領域を含む、中間転写媒体５０の転写層４０を、被転写体６０上に転写するときの、尾引きの発生をより効果的に抑制できる。

熱可塑性エラストマーとしては、例えば、スチレンエラストマー、オレフィンエラストマー、ウレタンエラストマー、ポリエステルエラストマー、ポリアミドエラストマー、ポリアミドエラストマー、１，２−ポリブタジエンエラストマー、塩化ビニルエラストマー等が挙げられる。特には、スチレン−ブタジエンゴムを好適に用いることができる。第１形態のブロック層２は、ポリエチレンワックスや、熱可塑性エラストマーとして１種を含有していてもよく、２種以上を含有していてもよい。

上記第１形態のブロック層２は、当該ブロック層２の総質量に対し、ポリエチレンワックスを、３０質量％以上含有していることが好ましく、４０質量％以上含有していることがより好ましい。また、上記第１形態のブロック層２は、当該ブロック層２の総質量に対し、熱可塑性エラストマーを、１質量％以上含有していることが好ましく、５質量％以上含有していることがより好ましい。特には、カルナバワックスを上記好ましい含有量で含有し、且つ、ポリエチレンワックス、及び熱可塑性エラストマーを上記好ましい含有量で含有していることが好ましい。

第１形態のブロック層の形成方法について特に限定はなく、例えば、カルナバワックス、及び必要に応じて添加される各種の添加材を、適当な溶媒に分散、或いは溶解したブロック層用塗工液を調製し、この塗工液を基材１、或いは基材１上に設けられる任意の層上に、塗布・乾燥して形成できる。ブロック層用塗工液の塗布方法について特に限定なく、従来公知の塗布方法を適宜選択して用いることができる。塗布方法としては、例えば、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、グラビア版を用いたリバースコーティング法等が挙げられる。また、これ以外の塗布方法を用いることもできる。このことは、後述する各種塗工液の塗布方法についても同様である。

第１形態のブロック層２の厚みについて特に限定はないが、０．０５μｍ以上５μｍ以下が好ましく、０．１μｍ以上１．５μｍ以下がより好ましい。第１形態のブロック層２の厚みを、上記好ましい厚みの範囲とすることで、エネルギーが印加された領域のうち、ブロック層２と重ならない領域の転写層４０のみを、箔切れ性よく被転写体６０上に転写できる。また、中間転写媒体５０の転写層４０上に、ブロック層２を転写するときのブロック層２の箔切れ性も良好なものにできる。このことは、第２形態のブロック層２についても同様である。

（第２形態のブロック層）
第２形態のブロック層２は、活性光線硬化性樹脂の硬化物、シリコーン樹脂の硬化物、及び熱可塑性樹脂の硬化物の群の中から選択される少なくとも１種を含有している。第２形態のブロック層２においても、上記第１形態のブロック層２と同じ作用効果を奏する。

また、一実施形態の熱転写シートを用いた印画物の製造において、ブロック層２は、中間転写媒体５０上に転写され、中間転写媒体５０の転写層４０を被転写体６０上に転写するときに、被転写体６０と接する（図８（ｃ）参照）。被転写体６０のブロック層２と接する部分には、中間転写媒体５０の転写層４０は転写されないことから、製造される印画物において、ブロック層２と接する部分の被転写体６０の表面が露出する場合もある（図８（ｄ）参照）。したがって、被転写体６０を選択するにあたっては、製造される印画物の外観を良好な状態で維持するべく、その表面を爪等の先端が尖ったもので擦ったときに、擦過痕が残らない、或いは残りにくい表面性能を有しているものを用いればよい。

また、被転写体と接し得るブロック層は、被転写体が当初有している表面性能に悪影響を与えない、或いは与えにくい性質を有していることが好ましい。第２形態のブロック層２は、このような性質を有している点で好適である。したがって、第２形態のブロック層２を有する一実施形態の熱転写シートによれば、当該熱転写シート１０を用いて、外観を良好な状態で維持できる印画物を製造できる。

（活性光線硬化性樹脂の硬化物）
一例としての第２形態のブロック層２は、活性光線硬化性樹脂の硬化物を含有している。当該第２形態のブロック層２によれば、上記第１形態のブロック層２と同様に、第２形態のブロック層２を、中間転写媒体５０の転写層４０上に転写し、当該ブロック層２が転写された領域を含む中間転写媒体５０の転写層４０を、被転写体６０上に転写するときに、エネルギーが印加された転写層４０の領域のうち、当該ブロック層２と重ならない領域の転写層４０のみを、被転写体６０上に正確に転写できる。以下で説明する、シリコーン樹脂の硬化物や、熱可塑性樹脂の硬化物を含有する第２形態のブロック層２についても同様である。

本願明細書で言う活性光線硬化性樹脂とは、活性光線を照射する前の前駆体、又は組成物を意味する。また、本願明細書で言う活性光線とは、活性光線硬化性樹脂に対して化学的に作用させて重合を促進せしめる放射線を意味し、具体的には、可視光線、紫外線、Ｘ線、電子線、α線、β線、γ線などを意味する。以下、好ましい形態の保護層について説明する。

活性光線硬化性樹脂の硬化物をなす活性光線硬化性樹脂は、重合成分として、分子中に（メタ）アクリロイル基、及び（メタ）アクリロイルオキシ基などの重合性不飽和結合、又はエポキシ基を有するポリマー、プレポリマー、オリゴマー、モノマーを適宜混合した組成物等を含んでいる。

一例としての活性光線硬化性樹脂は、重合成分として、ウレタン（メタ）アクリレートを含んでおり、好ましくは、多官能ウレタン（メタ）アクリレートを含んでいる。多官能ウレタン（メタ）アクリレートとしては、官能基数が５以上１５以下の多官能ウレタン（メタ）アクリレートが好ましく、官能基数が６以上１５以下の多官能ウレタン（メタ）アクリレートがより好ましい。本願明細書でいう（メタ）アクリレートは、アクリレート、メタクリレートを含み、（メタ）アクリル酸は、アクリル酸や、メタクリル酸を含み、（メタ）アクリル酸エステルは、アクリル酸エステルや、メタクリル酸エステルを含む。

また、重合成分としての多官能ウレタン（メタ）アクリレートは、その重量平均分子量が４００以上２００００以下のものが好ましく、５００以上１００００以下のものがより好ましい。多官能ウレタン（メタ）アクリレートとして、その重量平均分子量が、上記好ましい範囲のものを用いることで、箔切れ性の向上を図ることができ、中間転写媒体の転写層４０上に、狙い通りの形状でブロック層２を転写できる。なお、本願明細書において「重量平均分子量」とは、ポリスチレンを標準物質としてゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定した値を意味し、ＪＩＳ−Ｋ−７２５２−１（２００８）に準拠した方法で測定できる。

また、一例としての活性光線硬化性樹脂は、重合成分として、不飽和結合含有（メタ）アクリレート共重合体（以下、不飽和結合含有アクリル共重合体と言う場合がある）を含んでいる。不飽和結合含有（メタ）アクリレート共重合体としては、例えば、ポリエステル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、メラミン（メタ）アクリレート、及びトリアジン（メタ）アクリレート等が挙げられる。

また、活性光線硬化性樹脂は、重合成分として、不飽和結合含有アクリル共重合体以外にも、（メタ）アクリル酸、スチレン、酢酸ビニル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、エチレングリコールジビニルエーテル、ペンタエリスリトールトリビニルエーテル、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ビニルホルムアミド、及びアクリロニトリルなどのオリゴマー及び／又はモノマーを含んでいてもよい。また、以下のようなプレポリマー、オリゴマー及び／又はモノマーを含んでいてもよい。

プレポリマーとしては、例えば、アジピン酸、トリメリット酸、マレイン酸、フタル酸、テレフタル酸、ハイミック酸、マロン酸、コハク酸、グルタール酸、イタコン酸、ピロメリット酸、フマル酸、グルタール酸、ピメリン酸、セバシン酸、ドデカン酸、テトラヒドロフタル酸等の多塩基酸と、エチレングリコール、プロピレングルコール、ジエチレングリコール、プロピレンオキサイド、１，４−ブタンジオール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ポリエチレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ソルビトール、１，６−ヘキサンジオール、１，２，６−ヘキサントリオール等の多価のアルコールの結合で得られるポリエステルに（メタ）アクリル酸を導入したポリエステル（メタ）アクリレート類、例えば、ビスフェノールＡ・エピクロルヒドリン・（メタ）アクリル酸、フェノールノボラック・エピクロルヒドリン・（メタ）アクリル酸のようにエポキシ樹脂に（メタ）アクリル酸を導入したエポキシ（メタ）アクリレート類、例えば、エチレングリコール・アジピン酸・トリレンジイソシアネート・２−ヒドロキシエチルアクリレート、ポリエチレングリコール・トリレンジイソシアネート・２−ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルフタリルメタクリレート・キシレンジイソシアネート、１，２−ポリブタジエングリコール・トリレンジイソシアネート・２−ヒドロキシエチルアクリレート、トリメチロールプロパン・プロピレングリコール・トリレンジイソシアネート・２−ヒドロキシエチルアクリレートのように、ポリウレタンに（メタ）アクリル酸を導入したウレタン（メタ）アクリレート、例えば、ポリシロキサン（メタ）アクリレート、ポリシロキサン・ジイソシアネート・２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等のシリコーン樹脂アクリレート類、その他、油変性アルキッド樹脂に（メタ）アクリロイル基を導入したアルキッド変性（メタ）アクリレート類、スピラン樹脂アクリレート類等が挙げられる。

モノマー、又はオリゴマーとしては、例えば、２−エチルヘキシルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、グリセロールアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ノニルフェノキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルオキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルオキシヘキサノリドアクリレート、１，３−ジオキサンアルコールのε−カプロラクトン付加物のアクリレート、１，３−ジオキソランアクリレート等の単官能アクリル酸エステル類を例示できる。

具体的には、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングルコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ハイドロキノンジアクリレート、レゾルシンジアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールのジアクリレート、ネオペンチルグリコールアジペートのジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールのε−カプロラクトン付加物のジアクリレート、２−（２−ヒドロキシ−１，１−ジメチルエチル）−５−ヒドロキシメチル−５−エチル−１，３−ジオキサンジアクリレート、トリシクロデカンジメチロールアクリレート、トリシクロデカンジメチロールアクリレートのε−カプロラクトン付加物、１，６−ヘキサンジオールのジグリシジルエーテルのジアクリレート等の２官能アクリル酸エステル類、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートのε−カプロラクトン付加物、ピロガロールトリアクリレート、プロピオン酸・ジペンタエリスリトールトリアクリレート、プロピオン酸・ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ヒドロキシピバリルアルデヒド変性ジメチロールプロパントリアクリレート等の多官能アクリル酸エステル酸、ホスファゼンモノマー、トリエチレングリコール、イソシアヌール酸ＥＯ変性ジアクリレート、イソシアヌール酸ＥＯ変性トリアクリレート、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレート、トリメチロールプロパンアクリル酸安息香酸エステル、アルキレングリコールタイプアクリル酸変性、ウレタン変性アクリレート等を例示できる。また、これらのアクリレートをメタクリレート、イタコネート、クロトネート、マレエートに代えたメタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸エステル等を用いてもよい。

活性光線硬化性樹脂の硬化物を含有している第２形態のブロック層２は、当該ブロック層２の総質量に対し、活性光線硬化性樹脂の硬化物を、３０質量％以上含有していることが好ましく、５０質量％以上含有していることがより好ましい。上限値について特に限定はなく、任意に添加される成分等に応じて適宜設定できる。一例としては、１００質量％である。

第２形態のブロック層２は、活性光線硬化性樹脂の硬化物として１種を単独で含有していてもよく、２種以上を含有していてもよい。また、第２形態のブロック層２は、活性光線硬化性樹脂の硬化物とともに、他の樹脂を含有していてもよい。他の樹脂は、硬化剤等によって硬化されたものであってもよく、未硬化のものであってもよい。

第２形態のブロック層２は、活性光線硬化性樹脂の硬化物とともに、他の成分を含有していてもよい。他の成分としては、フィラー等が挙げられる。第２形態のブロック層２に、活性光線硬化性樹脂の硬化物とともに、フィラーを含有せしめることで、中間転写媒体５０の転写層４０上に、ブロック層２を転写するときの箔切れ性を向上させることができる。

フィラーとしては、有機フィラー、無機フィラー、及び有機−無機のハイブリッド型のフィラーが挙げられる。また、フィラーは、粉体であっても、ゾル状のものであってもよいが、ブロック層用塗工液を調製する際の溶剤の選択性が広いため、粉体のフィラーを用いることが好ましい。

第２形態のブロック層２に含有されるフィラーの体積平均粒子径は、１ｎｍ以上１μｍ以下が好ましく、１ｎｍ以上５０ｎｍ以下がより好ましく、７ｎｍ以上２５ｎｍ以下がさらに好ましい。体積平均粒子径が上記範囲のフィラーを第２形態のブロック層２中に含有させることで、転写性のさらなる向上を図ることができる。なお、「体積平均粒子径」とは、ＪＩＳ−Ｚ−８８１９−２（２００１）に準拠して測定される粒子径を意味し、粒度分布・粒径分布測定装置（ナノトラック粒度分布測定装置 日機装（株））を用いて測定したときの値である。

粉体の有機フィラーとしては、非架橋アクリル粒子、架橋アクリル粒子などのアクリル粒子、ポリアミド粒子、フッ素粒子、ポリエチレンワックス、シリコーン粒子などを挙げることが出来る。また、粉体の無機フィラーとしては、炭酸カルシウム粒子、シリカ粒子、酸化チタンなどの金属酸化物粒子等が挙げられる。また、有機−無機のハイブリッド型のフィラーとしては、アクリル樹脂にシリカ粒子をハイブリッドしたものなどが挙げられる。さらに、ゾル状のフィラーとしては、シリカゾル系、オルガノゾル系のもの等が挙げられる。これらのフィラーは、１種を単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。これらの中でも、シリカ粒子が好適である。

第２形態のブロック層２の総質量に対する上記フィラーの含有量は、１０質量％以上６０質量％以下が好ましく、１０質量％以上５０質量％以下がより好ましく、２０質量％以上４０質量％以下がさらに好ましい。

第２形態のブロック層２の厚みについて特に限定はないが、１μｍ以上１５μｍ以下が好ましく、２μｍ以上６μｍ以下がより好ましい。第２形態のブロック層２の厚みをこの範囲とすることで、箔切れ性のさらなる向上を図ることができる。

活性光線硬化性樹脂の硬化物を含有する第２形態のブロック層２の形成方法について特に限定はないが、活性光線硬化性樹脂、及び任意の成分を含むブロック層用塗工液を調製し、この塗工液を、基材１上に塗布・乾燥してブロック層の塗膜を形成し、この塗膜に対して活性光線を照射し、上記重合可能な共重合体などの重合成分を、架橋・硬化させることで形成できる。活性光線の照射として、紫外線を照射する場合には、従来公知の紫外線照射装置を用いることができ、例えば、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ、無電極紫外線ランプ、ＬＥＤ等、種々のものを制限なく使用できる。また、また、活性光線の照射として、電子線を照射する場合には、１００ｋｅＶ以上３００ｋｅＶ以下のエネルギーで電子線を照射する高エネルギー型電子線照射装置や１００ｋｅＶ以下のエネルギーで電子線を照射する低エネルギー型電子線照射装置等を用いることができる。また、照射方式も、走査型やカーテン型いずれの方式の照射装置であってもよい。

（シリコーン樹脂の硬化物）
一例としての第２形態のブロック層２は、シリコーン樹脂の硬化物を含有している。シリコーン樹脂の硬化物をなすシリコーン樹脂は、シロキサン結合を骨格構造とする樹脂であってもよく、各種の樹脂をシリコーン変性したものであってもよい。シリコーン変性樹脂としては、例えば、シリコーン変性アクリル樹脂が挙げられる。第２形態のブロック層２は、シリコーン樹脂の硬化物として、１種を含有していてもよく、２種以上を含有していてもよい。

シリコーン樹脂を硬化させるための硬化触媒としては、例えば、ヒドロシリル化付加反応硬化型の硬化触媒、縮合反応硬化型の硬化触媒、有機過酸化物等の従来公知の硬化触媒を使用できる。

シリコーン樹脂の硬化物を含有する第２形態のブロック層２は、当該ブロック層２の総質量に対し、シリコーン樹脂の硬化物を、５質量％以上含有していることが好ましく、３０質量％以上含有していることがより好ましい。

シリコーン樹脂の硬化物を含有する第２形態のブロック層の形成方法について特に限定はなく、シリコーン樹脂、硬化触媒等を、適当な溶媒に分散、或いは溶解したブロック層用塗工液を調製し、この塗工液を基材１上に塗布・乾燥して形成できる。

（熱可塑性樹脂の硬化物）
一例としての第２形態のブロック層２は、熱可塑性樹脂の硬化物を含有している。熱可塑性樹脂の硬化物をなす熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリエステル、ポリアクリル酸エステル、ポリ酢酸ビニル、アクリル−スチレン共重合体、ポリウレタン、ポリエチレンや、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリエーテル、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリアクリルアミド、ポリビニルクロリド、ポリビニルブチラールや、ポリビニルアセトアセタール等のポリビニルアセタール、及びこれらのシリコーン変性物等が挙げられる。中でも、耐熱性等の点から、ポリアミドイミド又はそのシリコーン変性物等を好ましく用いることができる。第２形態のブロック層２は、熱可塑性樹脂の硬化物として、１種を含有していてもよく、２種以上を含有していてもよい。

上記熱可塑性樹脂の硬化物を得るための硬化剤としては、例えば、イソシアネート系硬化剤等が挙げられる。

熱可塑性樹脂の硬化物を含有する第２形態のブロック層２は、当該ブロック層２の総質量に対し、熱可塑性樹脂の硬化物を、５質量％以上含有していることが好ましく、５０質量％以上含有していることがより好ましい。

熱可塑性樹脂の硬化物を含有する第２形態のブロック層の形成方法について特に限定はなく、例えば、熱可塑性樹脂、硬化剤等を、適当な溶媒に分散、或いは溶解したブロック層用塗工液を調製し、この塗工液を基材１上に塗布・乾燥して形成できる。

また、第２形態のブロック層２は、上記活性光線硬化性樹脂の硬化物、シリコーン樹脂の硬化物、熱可塑性樹脂の硬化物の群の中から選択される２種以上を含有していてもよい。この場合、第２形態のブロック層２の総質量に対する、これら２種以上の硬化物の合計質量は、１０質量％以上が好ましく、５０質量％以上がより好ましい。

（接着層）
また、図２に示すように、ブロック層２上に接着層３を設けた構成としてもよい。図２に示す形態の熱転写シート１０によれば、ブロック層２を、中間転写媒体５０の受容層３５上に転写するときに、ブロック層２上に設けられている接着層３によって、中間転写媒体５０の転写層４０とブロック層２との密着性を良好なものにできる。

接着層３は、中間転写媒体５０の転写層４０との接着性を有する成分を含有している。接着性を有する成分としては、例えば、ポリウレタン、α−オレフィン−無水マレイン酸等のポリオレフィン、ポリエステル、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレア樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、酢酸ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、シアノアクリレート等が挙げられる。また、これらの樹脂を硬化剤によって硬化させたものを用いることもできる。硬化剤としては、イソシアネート化合物が一般的であるが、脂肪族アミン、環状脂肪族アミン、芳香族アミン、酸無水物等を使用できる。

接着層３の形成方法について特に限定はなく、接着性を有する成分、必要に応じて添加される各種の添加材を、適当な溶媒に分散、或いは溶解した接着層用塗工液を調製し、この塗工液を、ブロック層２上に、塗布・乾燥して形成できる。接着層の厚みは、０．５μｍ以上１０μｍ以下が好ましく、０．８μｍ以上２．０μｍ以下がより好ましい。

（染料層）
図３に示すように、基材１の同一面上に、上記ブロック層２と面順次に、染料層７を設けた構成としてもよい。図３に示す熱転写シート１０によれば、中間転写媒体５０の転写層４０への熱転写画像の形成と、中間転写媒体５０の転写層４０上へのブロック層２の転写を１つの熱転写シートを用いて行うことができる。なお、図３に示す形態において、ブロック層２上に接着層３を設けてもよい。図４、図５に示す形態の熱転写シート１０についても同様である。

一例としての染料層７は、バインダー樹脂と、昇華性染料とを含有している。染料層７が含有しているバインダー樹脂について特に限定はなく、染料層の分野で従来公知のバインダー樹脂を適宜選択して用いることができる。染料層７のバインダー樹脂としては、例えば、エチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、エチルヒドロキシセルロース、メチルセルロース、酢酸セルロース等のセルロース樹脂、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルブチラール、ポリビニルアセトアセタール、ポリビニルピロリドン等のビニル樹脂、ポリ（メタ）アクリレート、ポリ（メタ）アクリルアミド等のアクリル樹脂、ポリウレタン、ポリアミド、ポリエステル等が挙げられる。

バインダー樹脂の含有量について特に限定はないが、染料層７の総質量に対し２０質量％以上含有されていることが好ましい。染料層の総質量に対するバインダー樹脂の含有量を２０質量％以上とすることで、染料層７中で昇華性染料を十分に保持でき、結果、保存性を向上させることができる。バインダー樹脂の含有量の上限値について特に限定はなく、昇華性染料や、任意の添加材の含有量に応じて適宜設定できる。

染料層７が含有している昇華性染料について特に限定はないが、十分な着色濃度を有し、光、熱、温度等により変退色しないものが好ましい。染料としては、ジアリールメタン系染料、トリアリールメタン系染料、チアゾール系染料、メロシアニン染料、ピラゾロン染料、メチン系染料、インドアニリン系染料、アセトフェノンアゾメチン、ピラゾロアゾメチン、イミダゾルアゾメチン、イミダゾアゾメチン、ピリドンアゾメチン等のアゾメチン系染料、キサンテン系染料、オキサジン系染料、ジシアノスチレン、トリシアノスチレン等のシアノスチレン系染料、チアジン系染料、アジン系染料、アクリジン系染料、ベンゼンアゾ系染料、ピリドンアゾ、チオフェンアゾ、イソチアゾールアゾ、ピロールアゾ、ピラゾールアゾ、イミダゾールアゾ、チアジアゾールアゾ、トリアゾールアゾ、ジスアゾ等のアゾ系染料、スピロピラン系染料、インドリノスピロピラン系染料、フルオラン系染料、ローダミンラクタム系染料、ナフトキノン系染料、アントラキノン系染料、キノフタロン系染料等が挙げられる。具体的には、ＭＳＲｅｄＧ（三井化学（株））、Ｍａｃｒｏｌｅｘ Ｒｅｄ Ｖｉｏｌｅｔ Ｒ（バイエル社）、Ｃｅｒｅｓ Ｒｅｄ ７Ｂ（バイエル社）、Ｓａｍａｒｏｎ Ｒｅｄ Ｆ３ＢＳ（三菱ケミカル（株））等の赤色染料、ホロンブリリアントイエロー６ＧＬ（クラリアント社）、ＰＴＹ−５２（三菱ケミカル（株））、マクロレックスイエロー６Ｇ（バイエル社）等の黄色染料、カヤセット（登録商標）ブルー７１４（日本化薬（株））、ホロンブリリアントブルーＳ−Ｒ（クラリアント社）、ＭＳブルー１００（三井化学（株））、Ｃ．Ｉ．ソルベントブルー６３等の青色染料等が挙げられる。

昇華性染料の含有量は、バインダー樹脂の総質量に対し、５０質量％以上３５０質量％以下が好ましく、８０質量％以上３００質量％以下がより好ましい。昇華性染料の含有量を、上記好ましい範囲とすることで、印画濃度や、保存性のさらなる向上を図ることができる。

（染料プライマー層）
また、基材１と染料層７との間に、染料プライマー層（図示しない）を設けることもできる。染料プライマー層に含まれる成分について特に限定はなく、例えば、ポリエステル、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアルコール、ヒドロキシエチルセルロース、ポリアクリル酸エステル、ポリ酢酸ビニル、ポリウレタン、アクリル−スチレン共重合体、ポリアクリルアミド、ポリアミド、ポリエーテル、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセトアセタールやポリビニルブチラール等のポリビニルアセタール等が挙げられる。

また、染料プライマー層は、コロイド状無機顔料超微粒子を含有していてもよい。コロイド状無機顔料超微粒子としては、例えば、シリカ（コロイダルシリカ）、アルミナ、或いはアルミナ水和物（アルミナゾル、コロイダルアルミナ、カチオン性アルミニウム酸化物又はその水和物、擬ベーマイト等）、珪酸アルミニウム、珪酸マグネシウム、炭酸マグネシウム、酸化マグネシウム、酸化チタン等が挙げられる。特に、コロイダルシリカ、アルミナゾルが好ましく用いられる。これらのコロイド状無機顔料超微粒子の大きさは、一次平均粒径で１００ｎｍ以下が好ましく、５０ｎｍ以下がより好ましい。

また、図示する形態では、１つの染料層が、ブロック層２と面順次に設けられているが、複数の染料層を、ブロック層２と面順次に設けてもよい。例えば、図３に示す形態の熱転写シート１０において、染料層７の構成を、イエロー（Ｙ）、マゼンタ（Ｍ）、シアン（Ｃ）の各染料層のうちの２つ、或いは全てを面順次に設けた構成とすることもできる。また、これら染料層と溶融層を面順次に設けた構成としてもよい。

（ヒートシール層）
図４に示すように、基材１の同一面上に、上記ブロック層２と面順次に、ヒートシール層８を設けた構成としてもよい。

図４に示す形態の熱転写シート１０によれば、中間転写媒体５０の転写層４０上へのブロック層２の転写と、ブロック層２が転写される前、或いは後の転写層４０上へのヒートシール層８の転写を、１つの熱転写シートを用いて行うことができる。この形態の熱転写シート１０によれば、被転写体６０上に転写層４０を転写する前の段階で、中間転写媒体５０の転写層４０上にヒートシール層８を転写しておくことで、被転写体６０と、転写層４０とをヒートシール層を介して密着させることができる。これにより、被転写体６０と転写層４０との密着性を向上させることができる。図４に示す形態の熱転写シート１０は、中間転写媒体５０の最表面に位置する受容層３５が接着性を有しない場合などに好適である。

一例としてのヒートシール層８は、バインダー樹脂として、例えば、紫外線吸収剤、アクリル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、エポキシ樹脂、ポリエステル、ポリカーボネート、アセタール樹脂、ポリアミド、塩化ビニル等が挙げられる。ヒートシール層８は、バインダー樹脂の１種を単独で含有していてもよく、２種以上を含有していてもよい。

ヒートシール層８の形成方法について特に限定はなく、バインダー樹脂と、必要に応じて添加される紫外線吸収剤、酸化防止剤、蛍光増白剤、無機あるいは有機のフィラー成分、界面活性剤、離型剤等を適当な溶媒に分散ないし溶解したヒートシール層用塗工液を、基材１上に、塗布・乾燥して形成できる。ヒートシール層７の厚みについて特に限定はないが、０．５μｍ以上１０μｍ以下が好ましく、０．８μｍ以上２μｍ以下がより好ましい。

（離型層）
また、基材１とブロック層２との間や、基材１とヒートシール層８との間に、ブロック層２や、ヒートシール層８の転写性を向上させるための離型層（図示しない）を設けることもできる。なお、離型層は、中間転写媒体５０の転写層４０上にブロック層２を転写するときや、ヒートシール層８を転写層４０上に転写するときに基材１側に残存する層である。

離型層のバインダー樹脂について限定はなく、例えば、ワックス類、シリコーンワックス、シリコーン樹脂、シリコーン変性樹脂、フッ素樹脂、フッ素変性樹脂、ポリビニルアルコール、アクリル樹脂、熱硬化性エポキシ−アミノ共重合体、及び熱硬化性アルキッド−アミノ共重合体（熱硬化性アミノアルキド樹脂）等が挙げられる。また、離型層は、バインダー樹脂として、１種を含有していてもよく、２種以上を含有していてもよい。また離型層は、上記で例示したバインダー樹脂とともに、イソシアネート化合物等の架橋剤や、錫系触媒、アルミニウム系触媒等の触媒を含む組成物を用いて形成してもよい。また、後述する中間転写媒体５０の離型層３２を適宜選択して用いることもできる。離型層の厚みは０．２μｍ以上５μｍ以下が一般的である。離型層の形成方法としては、上記バインダー樹脂を適当な溶剤で溶解、或いは分散させた離型層用塗工液を調製し、これを基材１上に塗布・乾燥して形成できる。

また、図５に示すように、基材１の同一面上に、染料層７、ヒートシール層８、ブロック層２を面順次に設けた構成とすることもできる。これらの層の並び順について特に限定はないが、図５（ａ）に示すように、基材１の同一面上に、染料層７、ブロック層２、ヒートシール層８がこの順で面順次に設けられた構成や、図５（ｂ）に示すように、基材１の同一面上に、染料層７、ヒートシール層８、ブロック層２がこの順で面順次に設けられた構成とすることが好ましい。

（背面層）
また、基材１の他方の面上に背面層（図示しない）を設けることもできる。背面層の材料について限定はなく、例えば、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート等のセルロース樹脂、ポリビニルブチラールやポリビニルアセトアセタール等のポリビニルアセタール、ポリメタクリル酸メチル、ポリアクリル酸エチル、ポリアクリルアミド、アクリロニトリル−スチレン共重合体等のアクリル樹脂、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリエステル、ポリウレタン、シリコーン変性又はフッ素変性ウレタン等の天然又は合成樹脂の単体又は混合物等が挙げられる。

また、背面層は、固形あるいは液状の滑剤を含有していてもよい。滑剤としては、例えば、ポリエチレンワックス、パラフィンワックス等の各種ワックス類、高級脂肪族アルコール、オルガノポリシロキサン、アニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、両性界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤、有機カルボン酸、及びその誘導体、金属石鹸、フッ素樹脂、シリコーン樹脂、タルク、シリカ等の無機化合物の微粒子等が挙げられる。背面層の総質量に対する滑剤の質量は、５質量％以上５０質量％以下、好ましくは１０質量％以上４０質量％以下である。

背面層の形成方法について特に限定はなく、樹脂、必要に応じて添加される滑剤等を、適当な溶剤中に溶解、又は分散させて、背面層用塗工液を調製し、これを基材１上に塗布・乾燥して形成できる。背面層の厚みは、１μｍ以上１０μｍ以下が好ましい。

＜＜熱転写シートと中間転写媒体の組合せ＞＞
次に、本開示の実施の形態に係る熱転写シートと中間転写媒体の組合せ（以下、一実施形態の組合せと言う）について説明する。一実施形態の組合せは、熱転写シート１０と中間転写媒体５０との組合せであって、熱転写シートが、上記で説明した一実施形態の熱転写シート１０（図１〜図５参照）であり、中間転写媒体５０が、支持体３１上に、受容層３５からなる単層構成の転写層４０（図６参照）、又は支持体３１から最も遠くに受容層３５が位置する積層構成の転写層４０（図７参照）が設けられた中間転写媒体である。

一実施形態の組合せによれば、中間転写媒体５０の転写層４０に、上記一実施形態のブロック層２を転写し、当該ブロック層２が転写された領域を含む中間転写媒体の転写層４０を、被転写体６０上に転写するときに、エネルギーが印加された転写層４０の領域のうち、当該ブロック層２と重ならない領域の転写層４０のみを、被転写体６０上に正確に転写できる。換言すれば、中間転写媒体５０の転写層４０に、上記一実施形態のブロック層２を転写し、当該ブロック層２が転写された領域を含む中間転写媒体の転写層４０を、被転写体６０上に転写するときの転写層の箔切れ性を良好なものにできる。また、エネルギーが印加された領域のうち、ブロック層２と重ならない領域の転写層の全部、或いは一部が、被転写体上に転写されない、転写層の未転写の発生を抑制できる。

（一実施形態の組合せに用いられる熱転写シート）
一実施形態の組合せに用いられる熱転写シート１０としては、上記で説明した一実施形態の熱転写シート１０を適宜選択して用いればよい。したがって、一実施形態の組合せに用いられる熱転写シート１０についてのここでの詳細な説明は省略する。

（一実施形態の組合せに用いられる中間転写媒体）
一実施形態の組合せに用いられる中間転写媒体（以下、中間転写媒体と言う）は、図６、図７に示すように、支持体３１上に、転写層４０が設けられた構成を呈している。転写層４０は、エネルギーの印加によって、支持体３１側から転写層のみが剥離されるように構成されている。

転写層４０は、図６に示すように受容層３５のみからなる単層構造を呈していてもよく、図７に示すように受容層３５を含む複数の層を積層した積層構造を呈していてもよい。図７に示す形態の中間転写媒体５０は、転写層４０が、支持体３１側から、保護層３６、受容層３５がこの順で積層されてなる積層構造を呈している。以下、中間転写媒体の各構成について説明する。

（支持体）
支持体３１は、当該支持体３１上に設けられる転写層４０や、支持体３１と転写層４０との間に任意に設けられる離型層３２を保持する。支持体３１について特に限定はなく、中間転写媒体の分野で従来公知の支持体を適宜選択して用いることができる。また、支持体３１として、上記一実施形態の熱転写シート１０で説明した、基材を適宜選択して用いることもできる。

（離型層）
また、一実施形態の組合せに用いられる中間転写媒体５０は、支持体３１と、転写層４０との間に、転写層４０と直接的に接する離型層３２が設けられていることが好ましい。離型層３２は、転写層４０を被転写体６０上に転写するときに、支持体３１側に残る層であり、転写層４０に良好な離型性（転写性と言う場合もある）を付与する。なお、離型層３２は、一実施形態の組合せに用いられる中間転写媒体における任意の構成である。

離型層３２について特に限定はなく、例えば、シリコーンワックス等の各種ワックス類、シリコーン樹脂、シリコーン変性樹脂、フッ素樹脂、フッ素変性樹脂、ポリビニルアルコール、アクリル樹脂、ロジン樹脂、ポリエステル、ポリビニルアセタール、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール、ウレタンポリオール、シルセスキオキサン、ウレタン変性ポリエステル（ポリエステルウレタン）等が挙げられる。また、上記で説明した一実施形態の熱転写シート１０の離型層を適宜選択して用いることもできる。

好ましい形態の離型層３２は、シルセスキオキサンを含有している。シルセスキオキサンを含有する離型層３２によれば、転写層４０の転写性を向上させることができ、また、上記一実施形態の熱転写シート１０を用いて、転写層４０上に転写されるブロック層２と相俟って、良好な箔切れ性により、ブロック層２と重ならない領域の転写層４０のみを被転写体６０上に正確に転写できる。また、転写層４０の未転写の発生を十分に抑制できる。特に、転写層４０が、保護層３６（剥離層と称される場合もある）を含む場合には、当該保護層３６を含む転写層４０を転写するときの箔切れ性は低くなる傾向にあるものの、支持体３１と転写層４０との間に、シルセスキオキサンを含有する離型層３２を設けることで、保護層３６を含む転写層４０とした場合でも、転写層４０の箔切れ性を良好なものにできる。シルセスキオキサンを含有する離型層３２は、転写層４０が、保護層３６を含み、且つ当該保護層３２が、活性光線硬化性樹脂の硬化物を含有している場合に好適である。要約すれば、シルセスキオキサンを含有する離型層３２は、強靭な保護層３６を含む転写層４０とする構成において、特に好適である。

本願明細書で言うシルセスキオキサンとは、主鎖骨格がＳｉ−Ｏ結合からなるシロキサン化合物（下式１）であり、単位組成中に１．５個の酸素を有するシロキサン化合物を意味する。なお、シルセスキオキサンには、下式１中の有機基Ｒに、各種の官能基を導入したものも含まれる。

（ＲＳｉＯ_１．５）_ｎ・・・（式１）
（式中のＲは、有機基である。）

シルセスキオキサンの骨格構造としては、ランダム型、カゴ型、ハシゴ型構造等種々の骨格構造が挙げられるが、いずれの骨格構造であっても使用可能である。中でも、ランダム型や、カゴ型の骨格構造のシルセスキオキサンが好ましく、ランダム型が特に好ましい。

離型層３２が、シルセスキオキサンを含有しているか否かは、下記の方法により特定できる。

測定方法：
^２９Ｓｉ ｃｒｏｓｓ ｐｏｌａｒｉｚａｔｉｏｎ（ＣＰ）／ｍａｇｉｃ−ａｎｇｌｅ ｓｐｉｎｎｉｎｇ （ＭＡＳ） ＮＭＲ
測定条件：
装置名：ＢＲＵＫＥＲ核磁気共鳴装置（ＮＭＲ）ＡＶＡＮＣＥＩＩＩ ＨＤ
共鳴周波数:７９.５１ＭＨｚ
繰り返し時間:４ｓｅｃ．
接触時間:３ｍｓｅｃ．
試料回転数:５ｋＨｚ

具体的には、対象となる中間転写媒体の離型層を削り取ったサンプルを準備し、このサンプルを上記測定方法、及び測定条件で測定したときに、化学シフト（Ｃｈｅｍｉｃａｌ
Ｓｈｉｆｔ）−４５ｐｐｍ〜−７０ｐｐｍの間に発現するシルセスキオキサン由来の下記Ｔ成分のピークが確認できるか否かにより特定できる。なお、シリカ（ＳｉＯ_２）由来のピークは、化学シフト−８０〜−１１０ｐｐｍに発現することから、この点で、離型層が含有している成分が、シリカであるか、シルセスキオキサンであるかを明確に区別できる。なお、図１１（ａ）、（ｂ）は、シルセスキオキサンを含有する離型層を、上記測定方法で測定したときの測定結果の一例である。

また、離型層３２は、シルセスキオキサンとして、一の官能基を有するシルセスキオキサンと、当該一の官能基と反応可能な他の一の官能基を有する樹脂との反応物を含有していてもよい。また、離型層３２は、シルセスキオキサンとして、１種を含有していてもよく、２種以上を含有していてもよい。

好ましい形態の離型層３２は、カルボキシル基を有する樹脂と、当該カルボキシル基と反応可能な官能基を有するシルセスキオキサンとの反応物を含有している。好ましい形態の離型層３２によれば、離型層３２に耐溶剤性を付与できる。

カルボキシル基を有する樹脂と反応可能なシルセスキオキサンとしては、エポキシ基を有するシルセスキオキサンが挙げられる。これ以外にも、例えば、水酸基、アミノ基、メルカプト基を有するシルセスキオキサンを用いることもできる。

カルボキシル基を有する樹脂としては、例えば、アクリル重合体等が挙げられる。アクリル重合体としては、（メタ）アクリル酸の重合体、或いはその誘導体、（メタ）アクリル酸エステルの重合体、或いはその誘導体、（メタ）アクリル酸と他のモノマーとの共重合体、或いはその誘導体、（メタ）アクリル酸エステルと他のモノマーとの共重合体、或いはその誘導体等が挙げられる。また、これ以外にも、カルボキシル基を有する樹脂として、ポリエステル、ポリウレタン、シリコーン樹脂、ロジン樹脂等が挙げられる。

一の官能基を有するシルセスキオキサンと、当該一の官能基と反応可能な他の一の官能基を有する樹脂との反応物は、反応触媒等を用いて得ることができる。反応触媒としては、シルセスキオキサンが有する官能基、或いは、必要に応じて含有されるシルセスキオキサンと反応する樹脂の官能基に応じて適宜決定すればよい。例えば、エポキシ基を有するシルセスキオキサンと、カルボキシル基を有する樹脂を含有する反応物を得るための反応触媒としては、例えば、有機金属化合物（有機金属化合物のキレート（錯体）を含む）が挙げられる。

より好ましい形態の離型層３２は、エポキシ基を有するシルセスキオキサンと、カルボキシル基を含有し、その酸価が１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上の樹脂との反応物を含有している。この反応物を含有する離型層によれば、離型層３２に付与される耐溶剤性のさらなる向上を図ることができる。なお、本願明細書中で言う酸価とは、ポリマー１ｇ中に含まれる酸成分（例えば、カルボキシル基）を中和するのに必要な水酸化カリウムのミリグラム数を意味し、ＪＩＳ−Ｋ−２５０１（２００３）に準拠した方法により測定できる。好ましい酸価の上限値について特に限定はないが、一例としては、２００ｍｇＫＯＨ／ｇである。

離型層３２が、エポキシ基を有するシルセスキオキサンと、カルボキシル基を有する樹脂との反応物を含有する場合、当該反応物をなす、一例としてのエポキシ基を有するシルセスキオキサンの質量は、１０質量％以上９５質量％以下であり、カルボキシル基を有する樹脂の質量は、５質量％以上９０質量％以下である。

好ましい形態の離型層３２は、当該離型層３２の総質量に対し、シルセスキオキサン（上記一の官能基を有するシルセスキオキサンと、当該一の官能基と反応可能な他の一の官能基を有する樹脂との反応物を含む）を、７５質量％以上９５質量％以下で含有しており、特には、８０質量％以上９０質量％以下で含有していることがより好ましい。

さらに好ましい形態の離型層３２は、上記シルセスキオキサンとともに、ガラス転移温度（Ｔｇ）が５０℃以下、特には２０℃以下のウレタン変性ポリエステルを含有している。

シルセスキオキサンとともに、ガラス転移温度（Ｔｇ）が５０℃以下のウレタン変性ポリエステルを含有する離型層３２によれば、上記シルセスキオキサンを含有する離型層３２において説明した各種の効果に加え、離型層３２の剥離性を最適化できる。具体的には、エネルギー印加したときにのみ、離型層３２上に設けられた転写層４０を箔切れ性よく転写でき、また、エネルギーを印加していないときの離型層３２と転写層４０との密着性を良好なものにできる。したがって、シルセスキオキサンとともに、ガラス転移温度（Ｔｇ）が５０℃以下のウレタン変性ポリエステルを含有する離型層３２によれば、エネルギーを印加しない状態において、意図しない転写層４０の脱落を抑制できる。

本願明細書でいうガラス転移温度（Ｔｇ）とは、本願明細書で言うガラス転移温度（Ｔｇ）とは、ＪＩＳ−Ｋ−７１２１（２０１２）に準拠し、ＤＳＣ（示差走査熱量測定）によって求められる温度を意味する。

ウレタン変性ポリエステルは、ポリエステルポリオールとイソシアネート系化合物を用いて得ることができる。ポリエステルポリオールとは、分子内に２個以上のエステル結合と２個以上の水酸基を有するものを意味し、例えば、多価アルコールと多塩基性カルボン酸との縮合物、ヒドロキシカルボン酸と多価アルコールとの縮合物等、及び環状ラクトンの開環により得られるものが挙げられる。イソシアネート系化合物について特に限定はなく、例えば、芳香族系イソシアネートのアダクト体が挙げられる。芳香族系ポリイソシアネートとしては、２，４−トルエンジイソシアネート、２，６−トルエンジイソシアネート、又は、２，４−トルエンジイソシアネートと２，６−トルエンジイソシアネートの混合物、１，５−ナフタレンジイソシアネート、トリジンジイソシアネート、ｐ−フェニレンジイソシアネート、ｔｒａｎｓ−シクロヘキサン、１，４−ジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート、トリス（イソシアネートフェニル）チオフォスフェートがあげられ、特に２，４−トルエンジイソシアネート、２，６−トルエンジイソシアネート、又は、２，４−トルエンジイソシアネートと２，６−トルエンジイソシアネートの混合物が好ましい。

上記形態において、離型層３２の総質量に対する、シルセスキオキサンの含有量は、１０質量％以上が好ましく、１５質量％以上がより好ましい。また、離型層３２の総質量に対する、ガラス転移温度（Ｔｇ）が５０℃以下のウレタン変性ポリエステルの含有量は、６０質量％以上が好ましく、７０質量％以上がより好ましい。また、離型層３２は、ガラス転移温度（Ｔｇ）が５０℃以下のウレタン変性ポリエステルとして、１種を含有していてもよく、２種以上を含有していてもよい。

離型層３２の厚みについて特に限定はないが、０．３μｍ以上２μｍ以下が好ましく、０．５μｍ以上１μｍ以下がより好ましい。

（転写層）
支持体３１上、或いは、支持体３１上に任意に設けられる離型層３２上には、転写層４０が設けられている。転写層４０は、エネルギーの印加によって被転写体６０上に転写される層である。なお、ブロック層２が設けられている領域に対応する転写層４０は、被転写体６０上には転写されない。

転写層４０は、必須の層として、受容層３５を含んでおり、当該受容層３５は、転写層４０を構成する層の最上に位置している。換言すれば、転写層４０を構成する層のうち、支持体３１から最も遠くに位置している。

（受容層）
受容層３５は、昇華性染料を受容可能となっており、当該昇華性染料を受容可能なバインダー樹脂を含有している。バインダー樹脂としては、例えば、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリ塩化ビニルもしくはポリ塩化ビニリデン等のハロゲン化樹脂、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体もしくはポリアクリル酸エステル等のビニル樹脂、ポリエチレンテレフタレートもしくはポリブチレンテレフタレート等のポリエステル、ポリスチレン、ポリアミド、エチレンもしくはプロピレン等のオレフィンと他のビニルポリマーとの共重合体、アイオノマーもしくはセルロースジアスターゼ等のセルロース樹脂、ポリカーボネート、アクリル樹脂、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアルコール、ゼラチン等が挙げられる。受容層３５は、バインダー樹脂として１種を含有していてもよく、２種以上を含有していてもよい。また、従来公知の各種離型剤を含有していてもよい。

従来公知の離型剤としては、例えば、ポリエチレンワックス、アミドワックス、テフロン（登録商標）パウダー等の固形ワックス類、フッ素系、又はリン酸エステル系界面活性剤、シリコーンオイル、反応性シリコーンオイル、硬化型シリコーンオイル等の各種変性シリコーンオイル、及び各種シリコーン樹脂等が挙げられる。

受容層３５は、転写層４０を被転写体６０上に転写したときに、被転写体６０と接する層である。したがって、被転写体６０側で、受容層３５との密着性の対策が取られていない場合には、受容層３５は、接着性を有する成分を含有していることが好ましい。接着性を有する成分としては、例えば、上記で説明した接着層の成分等が挙げられる。

なお、一実施形態の組合せに用いられる熱転写シートとして、図４、図５に示すようなヒートシール層を有する熱転写シート１０を用いることで、受容層３５に接着性を付与することなく、被転写体６０と転写層４０との密着性を良好なものにできる。具体的には、被転写体６０上に転写層４０を転写する前の段階で、転写層４０上に、一実施形態の熱転写シート１０のヒートシール層８を転写し、当該ヒートシール層８を介して、被転写体６０と転写層４０とを密着させることで、被転写体６０と転写層４０との密着性を良好なものにできる。

受容層３５の形成方法についても特に限定はなく、例えば、バインダー樹脂、及び必要に応じて添加される離型剤等の添加材を、適当な溶媒に分散、或いは溶解した受容層用塗工液を調製し、この塗工液を、基材１上、或いは基材１上に設けられ、転写層４０を構成する任意の層上に、塗布・乾燥して形成できる。受容層３５の厚みについて特に限定はないが、０．１μｍ以上１０μｍ以下が好ましい。

（保護層）
図７に示すように、転写層４０を、離型層３２側から、保護層３６、受容層３５がこの順で積層されてなる積層構造とすることもできる。図７に示す形態の中間転写媒体によれば、被転写体６０上に、転写層４０を転写することで得られる印画物に耐久性を付与できる。

保護層３６について特に限定はなく、中間転写媒体や、保護層転写シートの分野で従来公知の保護層を適宜選択して用いることができる。保護層３６を構成する樹脂としては、例えば、ポリエステル、ポリスチレン、アクリル樹脂、ポリウレタン、アクリルウレタン樹脂、これらの各樹脂をシリコーン変性させた樹脂、これらの各樹脂の混合物等が挙げられる。

好ましい形態の保護層３６は、活性光線硬化性樹脂の硬化物を含有している。好ましい形態の保護層３６によれば、被転写体６０上に、転写層４０を転写することで得られる印画物により高い耐久性を付与できる。

活性光線硬化性樹脂の硬化物を含有する保護層３６としては、上記一実施形態の熱転写シート１０の第２形態のブロック層２で説明した、活性光線硬化性樹脂の硬化物を含有する第２ブロック層２の構成を適宜選択して用いることができる。

より好ましい形態の保護層３６は、上記一実施形態の熱転写シート１０の第２形態のブロック層２で説明した活性光線硬化性樹脂の硬化物において、ウレタン（メタ）アクリレートの硬化物、特には、多官能ウレタン（メタ）アクリレートの硬化物を、当該保護層３６の総質量に対し、５質量％以上８０質量％以下で含有しており、特には１０質量％以上５０質量％以下で含有している。

また、保護層の耐溶剤性と、屈曲性の両立の観点からは、保護層３６は、（ｉ）官能基数が５以上１５以下、特には官能基数が６以上１５以下の多官能ウレタン（メタ）アクリレートと、（ｉｉ）官能基数が２以上４以下の多官能ウレタン（メタ）アクリレート、及び官能基数が２以上５以下の（メタ）アクリレートの何れか一方、又は双方と、の硬化物を含有していることが好ましい。また、保護層３６は、（ｉｉｉ）官能基数が５以上１５以下、特には官能基数が６以上１５以下の多官能ウレタン（メタ）アクリレートの硬化物と、（ｉｖ）官能基数が２以上４以下の多官能ウレタン（メタ）アクリレートの硬化物、及び官能基数が２以上５以下の（メタ）アクリレートの硬化物の何れか一方、又は双方と、を含有していることが好ましい。上記（ｉｉ）官能基数が２以上４以下の多官能ウレタン（メタ）アクリレート、及び官能基数が２以上５以下の（メタ）アクリレート由来の成分の含有量は、保護層３６の総質量に対し、５質量％以上８０質量％以下が好ましく、１０質量％以上７０質量％以下がより好ましい。上記（ｉｖ）官能基数が２以上４以下の多官能ウレタン（メタ）アクリレートの硬化物、及び官能基数が２以上５以下の（メタ）アクリレートの硬化物の含有量についても同様である。なお、箔切れ性のさらなる向上を目的とする場合、官能基数が２以上５以下の（メタ）アクリレートの重量平均分子量は、２００以上５０００以下が好ましい。

また、保護層３６が、不飽和結合含有アクリル共重合体を含む活性光線硬化性樹脂の硬化物を含有する場合、重合成分としての不飽和結合含有アクリル共重合体は、その酸価が５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上５００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下のものが好ましく、１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下のものがより好ましい。不飽和結合含有アクリル共重合体として、その酸価が、上記好ましい範囲のものを用いることで、保護層３６の表面強度を高めることができる。ポリマーの酸価は、ポリマーを構成するモノマー成分の比率を調整することにより適宜調整できる。

また、不飽和結合含有アクリル共重合体としては、その重量平均分子量が、３０００以上１０００００以下のものが好ましく、１００００以上８００００以下のものがより好ましい。不飽和結合含有アクリル共重合体として、その重量平均分子量が、上記範囲のものを用いることで、保護層３６に、より高い耐熱性、耐薬品性等の化学的耐久性、スクラッチ強度等の物理的耐久性を付与できる。また、保護層を形成するための保護層用塗工液の保存中におけるゲル化反応を抑制でき、保護層用塗工液の保存安定性を向上させることができる。

不飽和結合含有アクリル共重合体は、活性光線硬化性樹脂中に１０質量％以上８０質量％以下で含有されていることが好ましく、２０質量％以上７０質量％以下で含有されていることがより好ましく、２０質量％以上５０質量％以下で含有されていることがさらに好ましい。

また、図６、図７に示す形態の中間転写媒体５０において、支持体３１と離型層３２との間に、アンカー層を設けてもよい。アンカー層の材料としては、例えば、ポリウレタン、フェノール樹脂、エポキシ樹脂等が挙げられる。また、上記一実施形態の熱転写シートで説明した、染料プライマー層の構成を適宜選択して用いることができる。

また、図７に示す形態の中間転写媒体５０において、保護層３６と受容層３５との間に、プライマー層を設けてもよい。プライマー層の材料としては、例えば、ポリエステル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリウレタン、ポリアミド、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、酸変性ポリオレフィン、エチレンと酢酸ビニル、或いはアクリル酸などとの共重合体、（メタ）アクリル樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルアセタール、ポリブタジエン、ゴム系化合物等が挙げられる。また、上記各種の樹脂とともに、各種の硬化剤、例えば、イソシアネート系硬化剤などを用いてプライマー層を形成してもよい。また、上記一実施形態の熱転写シートで説明した、染料プライマー層の構成を適宜選択して用いることができる。

また、支持体３１の離型層３２が設けられている面とは反対側の面に、背面層を設けてもよい。

＜＜印画物の製造方法＞＞
次に、本開示の実施の形態に係る印画物の製造方法（以下、一実施形態の製造方法と言う）について説明する。一実施形態の製造方法は、上記で説明した一実施形態の組合せを用いた印画物の製造方法であって、中間転写媒体５０の転写層４０上に熱転写画像７０を形成する工程（図８（ａ）参照）と、熱転写画像７０が形成された転写層４０上の一部に、熱転写シートのブロック層２を転写する第１転写工程（図８（ｂ）参照）と、被転写体６０上に中間転写媒体５０の転写層４０を転写する第２転写工程（図８（ｃ）参照）と、を含み、第２転写工程が、転写層４０上の一部に転写されたブロック層２をマスキング部材として用い、エネルギーが印加された領域に対応する転写層４０のうち、ブロック層２と重ならない領域の転写層４０のみを被転写体６０上に転写する工程である。

一実施形態の製造方法によれば、転写を所望する中間転写媒体の転写層のみが、被転写体上に正確に転写されてなる印画物１００を製造できる（図８（ｄ）参照）。以下、一実施形態の製造方法における各工程について説明する。また、一実施形態の製造方法に用いられる熱転写シートや、中間転写媒体としては、上記一実施形態の組合せで説明した熱転写シート、及び中間転写媒体を適宜選択して用いることができ、ここでの詳細な説明は省略する。

（熱転写画像を形成する工程）
本工程は、図８（ａ）に示すように、中間転写媒体５０の転写層４０上に熱転写画像７０を形成する工程である。熱転写画像７０の形成は、従来公知の染料層を有する熱転写シートを用いて行ってもよく、図３、図５等に示されるブロック層２と、染料層７とが面順次に設けられた一実施形態の熱転写シート１０を用いて行ってもよい。

なお、図示する形態では、中間転写媒体５０として、図６に示す形態の中間転写媒体を用いているが、この中間転写媒体の構成に限定されるものではない。

また、図示する形態では、中間転写媒体５０の転写層４０上の一部、換言すれば、受容層３５上の一部に熱転写画像７０を形成しているが、転写層４０の全面に熱転写画像７０を形成してもよい。つまり、熱転写画像７０の形成領域についていかなる限定もされることはない。熱転写画像７０の形成は、例えば、サーマルヘッド等を有するプリンタ等を用いて行うことができる。

（第１転写工程）
本工程は、図８（ｂ）に示すように、中間転写媒体５０と、熱転写シート１０とを重ね合せ、サーマルヘッド等の加熱部材（図示しない）により熱転写シート１０の背面側（図８（ｂ）に示す形態では、熱転写シート１０の上面）にエネルギーを印加し、エネルギーが印加された領域（図８（ｂ）のエネルギー印加領域参照）に対応する、熱転写シート１０のブロック層２を、中間転写媒体５０の転写層４０上の一部に転写する工程である。

本工程を経ることで、中間転写媒体５０の転写層４０上の一部に、ブロック層２が転写される。

ブロック層２の転写領域について特に限定はなく、図示するように、転写層４０上の、熱転写画像７０が形成されていない領域に転写してもよく、熱転写画像７０が形成されている領域上にのみ転写してもよく、熱転写画像７０が形成されていない領域と、熱転写画像７０が形成されている領域の双方の領域上に転写してもよい（図８（ｂ）に示す形態では、熱転写画像７０が形成されていない領域に１つのブロック層２を転写している）。また、１つのブロック層２が、熱転写画像７０が形成されている領域、及び熱転写画像が形成されていない領域を跨ぐように転写してもよい。また、所定の間隔をあけて、複数のブロック層２を、転写層４０の同一面上に転写してもよい（図示しない）。つまり、転写層４０上の一部との条件を満たせば、ブロック層２の転写領域についていかなる限定もされることはない。

図９は、ブロック層２の転写領域の一例を示す中間転写媒体の概略平面図であり、白抜きされた領域（図中の符号Ａ、Ｂ）が、熱転写シート１０のブロック層２を転写した領域を示している。ブロック層２の転写領域の一例としては、例えば、図９の符号Ａに示すように、被転写体上に転写される転写層４０の外周部分が挙げられる。また、図９の符号Ｂに示すように、最終的に転写層４０が転写される被転写体６０において、ＩＣチップや、署名欄等の付属品を搭載する領域、すなわち、転写層４０が転写された被転写体上において、転写層４０が残存していては不都合が生じる領域が挙げられる。

ブロック層２の転写は、例えば、サーマルヘッド等を有するプリンタや、ヒートロール方式、ホットスタンプ方式を用いて行うことができる。

（第２転写工程）
本工程は、被転写体６０上に、中間転写媒体５０の転写層４０を転写する工程である。具体的には、ブロック層２が転写された中間転写媒体５０の転写層４０と、被転写体とを重ね合せ、中間転写媒体５０の背面側（図８（ｃ）に示す形態では、中間転写媒体５０の上面）にエネルギーを印加し、エネルギーが印加された領域（図８（ｃ）のエネルギー印加領域参照）に対応する転写層４０を被転写体６０に転写する工程である。このときに、中間転写媒体５０の転写層４０上に転写されたブロック層２は、マスキング部材としての役割を果たし、図８（ｃ）、（ｄ）に示すように、エネルギーが印加された領域に対応する転写層４０のうち、ブロック層２と重ならない領域の転写層４０のみが、被転写体６０上に転写され、図８（ｄ）に示すような形態の印画物１００を製造できる。

また、一実施形態の製造方法では、熱転写シートとして、上記で説明した第１形態や、第２形態のブロック層を備える熱転写シートを用いて、ブロック層２の転写が行われることから、ブロック層２が転写された中間転写媒体５０の転写層４０を、被転写体６０上に転写するときに、エネルギーが印加された領域に対応する転写層４０のうち、ブロック層２と重ならない領域の転写層４０のみを箔切れ性よく正確に転写できる。また、転写層の未転写の発生を抑制できる。

エネルギーの印加領域について特に限定はなく、被転写体６０上への転写を所望する領域にエネルギーを印加すればよい。また、中間転写媒体５０の転写層４０の転写は、例えば、サーマルヘッド等を有するプリンタや、ヒートロール方式、ホットスタンプ方式を用いて行うことができる。

被転写体６０について特に限定はなく、例えば、普通紙、上質紙、トレーシングペーパー、木材や、ポリカーボネート、アクリル樹脂、アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン（ＡＢＳ）樹脂、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体等の樹脂板（カードや、フィルムであってもよい）、また、アルミ等の金属板、ガラス板、陶器等のセラミック板等を挙げることができる。また、被転写体６０として曲率を有するものを用いることもできる。

また、第２転写工程において、被転写体６０と転写層４０との密着性を向上させるべく、予め転写層４０上に、ヒートシール層を転写する工程を含んでいてもよい。ヒートシール層を転写する工程は、図４、図５に示すように、ヒートシール層８を有する一実施形態の熱転写シートを用いて行ってもよく、ヒートシール層を有する従来公知の熱転写シートを用いて行ってもよい。

ヒートシール層８の転写領域について特に限定はなく、転写層４０の全面に転写してもよく、上記エネルギーを印加する領域の転写層４０上にのみ転写してもよく、上記エネルギーを印加する領域のうち、ブロック層２と重ならない領域の転写層４０上にのみ選択的に転写してもよい（図１０（ａ）参照）。なお、ブロック層２上にヒートシール層８を転写する場合には、ブロック層２上に転写されるヒートシール層８が、被転写体６０上に転写されてしまうことを抑制するべく、ブロック層２とヒートシール層との接着性が、被転写体６０とヒートシール層８との接着性よりも高くなるようなヒートシール層を選択すればよい。

また、第１転写工程の前に、中間転写媒体５０の転写層４０上にヒートシール層８を転写し、当該ヒートシール層８を転写した後に、ブロック層２を転写してもよい。この場合、ヒートシール層８の転写は、転写層４０の全面に行ってもよく（図１０（ｂ）参照）、エネルギーが印加される領域にのみ選択的に行ってもよく、エネルギーが印加される領域のうち、ブロック層２が転写される予定領域を除いた転写層４０上にのみ選択的に行ってもよい。

以上、中間転写媒体と組み合わせて用いられる一実施形態の熱転写シート、熱転写シートと中間転写媒体との組合せ、及び印画物の製造方法について、中間転写媒体が、支持体３１と転写層４０との間に離型層３２が設けられた中間転写媒体である場合を中心に説明を行ったが、転写層４０を構成する層のうち、支持体３１から最も近くに位置する層が離型性（剥離性）を有する場合には、支持体３１と転写層４０との間に離型層３２を設けることを必ずしも要しない。例えば、転写層４０を、支持体３１側から保護層、受容層の積層構造とする場合において、保護層に剥離性を付与することで、離型層３２を設けることなく、支持体３１から転写層４０を剥離することもできる。

また、一実施形態の印画物の製造方法では、中間転写媒体５０の転写層４０上に、熱転写画像７０を形成する工程を有しているが、中間転写媒体として、予め、熱転写画像７０が形成された中間転写媒体を用いてもよい。このことは、中間転写媒体と組み合わせて用いられる熱転写シートや、熱転写シートと中間転写媒体との組合せについても同様である。

＜＜熱転写プリンタ＞＞
次に、本開示の実施の形態に係る熱転写プリンタ（以下、一実施形態のプリンタと言う）について説明する。一実施形態のプリンタは、上記熱転写シートと中間転写媒体の組合せや、上記一実施形態の印画物の製造方法に用いられるプリンタであって、エネルギー印加手段を有している。

具体的には、上記一実施形態の製造方法で説明した、転写層４０上への熱転写画像７０の形成、ブロック層２の転写、及びブロック層２が転写された転写層４０を被転写体６０上に転写することを実行可能なエネルギー印加手段（図示しない）を有している。

熱転写プリンタが有するエネルギー印加手段は、１つであってもよく、複数であってもよい。例えば、転写層４０上への熱転写画像７０の形成、ブロック層２の転写、及び被転写体６０上への転写層４０の転写を１つのエネルギー印加手段を用いて行ってもよく、それぞれ独立したエネルギー印加手段により行ってもよい。

次に実施例及び比較例を挙げて本発明を更に具体的に説明する。以下、特に断りのない限り、部、又は％は質量基準である。また、各塗工液組成中の各成分の配合は、固形分に換算した配合である（溶媒は除く）。

（実施例１）
基材として厚さ４．５μｍＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルムを用い、この基材の一方の面上に、下記組成のプライマー層用塗工液を乾燥時の厚みが０．２μｍになるように塗布・乾燥してプライマー層を形成し、このプライマー層上に下記組成のイエロー染料層用塗工液、マゼンタ染料層用塗工液、及びシアン染料層用塗工液を、乾燥時の厚みが０．７μｍになるように塗布・乾燥して、イエロー染料層、マゼンタ染料層、シアン染料層がこの順で面順次に設けられた染料層を形成した。また、基材の一方の面であって、上記染料層と面順次に、下記組成のブロック層用塗工液１を、乾燥時の厚みが０．５μｍになるように塗布・乾燥してブロック層を形成し、このブロック層上に、下記組成の接着層用塗工液１を乾燥時の厚みが１μｍになるように塗布・乾燥して接着層を形成することで、図３に示す形態において、染料層を、イエロー染料層、マゼンタ染料層、シアン染料層をこの順で並べた構成とし、ブロック層上に接着層を設けた構成の熱転写シートを得た。また、基材と、イエロー染料層、マゼンタ染料層、シアン染料層との間には、プライマー層が設けられている。

（プライマー層用塗工液）
・アルミナゾル ２．５部
（アルミナゾル２００ 日産化学工業（株））
・ポリビニルピロリドン ２．５部
（ＰＶＰ Ｋ−６０ アイエスピー・ジャパン（株））
・水 ４７．５部
・イソプロピルアルコール ４７．５部

（イエロー色材層用塗工液）
・ソルベントイエロー９３ ６部
・ポリビニルアセタール ５部
（エスレック（登録商標）ＫＳ−５ 積水化学工業（株））
・トルエン ５０部
・メチルエチルケトン ５０部

（マゼンタ色材層用塗工液）
・ディスパースレッド６０ ３部
・ディスパースバイオレット２６ ４部
・ポリビニルアセタール ５部
（エスレック（登録商標）ＫＳ−５ 積水化学工業（株））
・トルエン ５０部
・メチルエチルケトン ５０部

（シアン色材層用塗工液）
・ソルベントブルー６３ ４部
・ディスパースブルー３５４ ４部
・ポリビニルアセタール ５部
（エスレック（登録商標）ＫＳ−５ 積水化学工業（株））
・トルエン ５０部
・メチルエチルケトン ５０部

（ブロック層用塗工液１）
・ポリエチレンワックス（固形分：３５％） ４．７部
（ＷＥ６３−２８４ コニシ（株））
・カルナバワックス（固形分：４０％） ５．４部
（ＷＥ９５ コニシ（株））
・スチレンブタジエンゴム（固形分：３９％） １．２部
（ＬＸ４３０ 日本ゼオン（株）
・イソプロピルアルコール １０部
・水 １０部

（接着層用塗工液１）
・ポリエステル １０部
（エリーテル（登録商標）ＵＥ３３５０ ユニチカ（株））
・ポリエステル １０部
（エリーテル（登録商標）ＵＥ３３８０ ユニチカ（株））
・メチルエチルケトン ４０部
・トルエン ４０部

（実施例２）
実施例１の熱転写シートにおいて、染料層、ブロック層、ヒートシール層がこの順で面順次となるように、基材の一方の面上に、下記組成のヒートシール層用塗工液１を乾燥時の厚みが１μｍになるように塗布・乾燥してヒートシール層を形成した以外は、全て実施例１と同様にして実施例２の熱転写シートを得た。実施例２の熱転写シートは、図５（ａ）に示す形態において、染料層を、イエロー染料層、マゼンタ染料層、シアン染料層をこの順で並べた構成とし、ブロック層上に接着層を設けた構成をとる。また、基材と、イエロー染料層、マゼンタ染料層、シアン染料層との間には、プライマー層が設けられている。

（ヒートシール層用塗工液１）
・ポリエステル １０部
（エリーテル（登録商標）ＵＥ３３８０ ユニチカ（株））
・メチルエチルケトン ２０部
・トルエン ２０部

（実施例３）
ヒートシール層用塗工液１を、下記組成のヒートシール層用塗工液２に変更してヒートシール層を形成した以外は、全て実施例２と同様にして実施例３の熱転写シートを得た。

（ヒートシール層用塗工液２）
・塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 ２０部
（ソルバイン（登録商標）ＣＮＬ 日信化学工業（株））
・メチルエチルケトン ２０部
・トルエン ２０部

（実施例４）
ブロック層用塗工液１を、下記組成のブロック層用塗工液２に変更してブロック層を形成した以外は、全て実施例１と同様にして実施例４の熱転写シートを得た。

（ブロック層用塗工液２）
・カルナバワックス（固形分：４０％） ２０部
（ＷＥ９５ コニシ（株））
・イソプロピルアルコール ４０部
・水 ４０部

（実施例５）
ブロック層用塗工液１を、下記組成のブロック層用塗工液３に変更してブロック層を形成した以外は、全て実施例１と同様にして実施例５の熱転写シートを得た。

（ブロック層用塗工液３）
・エポキシ基含有シリコーン変性アクリル樹脂（固形分５０％） ８部
（セルトップ（登録商標）２２６ （株）ダイセル）
・硬化触媒（固形分５０％） １．５部
（セルトップ（登録商標）ＣＡＴ−Ａ （株）ダイセル）
・トルエン ２０部
・メチルエチルケトン ２０部

（実施例６）
ブロック層用塗工液１を、上記組成のブロック層用塗工液３に変更してブロック層を形成した以外は、全て実施例２と同様にして実施例６の熱転写シートを得た。

（実施例７）
ブロック層用塗工液１を、上記組成のブロック層用塗工液３に変更してブロック層を形成し、ヒートシール層用塗工液１を、上記組成のヒートシール層用塗工液２に変更してヒートシール層を形成した以外は、全て実施例２と同様にして実施例７の熱転写シートを得た。

（実施例８）
ブロック層用塗工液１を、下記組成のブロック層用塗工液４に変更してブロック層を形成した以外は、全て実施例１と同様にして実施例８の熱転写シートを得た。

（ブロック層用塗工液４）
・多官能アクリレート ２０部
（ＮＫエステルＡ−９３００ 新中村化学工業（株））
・ウレタンアクリレート ２０部
（ＮＫオリゴマーＥＡ１０２０ ２官能 新中村化学工業（株））
・ウレタンアクリレート １０部
（ＮＫエステルＵ−１５ＨＡ １５官能 新中村化学工業（株））
・反応性バインダー（不飽和基含有） ５部
（ＮＫポリマーＣ２４Ｔ 新中村化学工業（株））
・光重合開始剤 ５部
（イルガキュア（登録商標）９０７ ＢＡＳＦジャパン社）
・フィラー ４０部
（ＭＥＫ−ＡＣ２１４０ 平均粒径１２ｎｍ 日産化学工業（株））
・トルエン ２００部
・メチルエチルケト ２００部

（実施例９）
ブロック層用塗工液１を、上記組成のブロック層用塗工液４に変更してブロック層を形成した以外は、全て実施例２と同様にして実施例９の熱転写シートを得た。

（実施例１０）
ブロック層用塗工液１を、上記組成のブロック層用塗工液４に変更してブロック層を形成し、ヒートシール層用塗工液１を、上記組成のヒートシール層用塗工液２に変更してヒートシール層を形成した以外は、全て実施例２と同様にして実施例１０の熱転写シートを得た。

（実施例１１）
ブロック層用塗工液１を、下記組成のブロック層用塗工液５に変更してブロック層を形成した以外は、全て実施例１と同様にして実施例７の熱転写シートを得た。

（ブロック層用塗工液５）
・ポリビニルブチラール １０部
（エスレック（登録商標）ＢＸ−１ 積水化学工業（株））
・ポリイソシアネート硬化剤 ２部
（タケネート（登録商標）Ｄ２１８ 三井化学（株））
・リン酸エステル ２部
（プライサーフ（登録商標）Ａ２０８Ｓ 第一工業製薬（株））
・メチルエチルケトン ４３部
・トルエン ４３部

（実施例１２）
ブロック層用塗工液１を、上記組成のブロック層用塗工液５に変更してブロック層を形成した以外は、全て実施例２と同様にして実施例１２の熱転写シートを得た。

（実施例１３）
ブロック層用塗工液１を、上記組成のブロック層用塗工液５に変更してブロック層を形成し、ヒートシール層用塗工液１を、上記組成のヒートシール層用塗工液２に変更してヒートシール層を形成した以外は、全て実施例２と同様にして実施例１３の熱転写シートを得た。

（比較例１）
ブロック層用塗工液１を、下記組成のブロック層用塗工液Ａに変更してブロック層を形成した以外は、全て実施例１と同様にして比較例１の熱転写シートを得た。

（ブロック層用塗工液Ａ）
・ポリエチレンワックス（固形分：３５％） ２０部
（ＷＥ６３−２８４ コニシ（株））
・イソプロピルアルコール ４０部
・水 ４０部

（比較例２）
ブロック層用塗工液１を、下記組成のブロック層用塗工液Ｂに変更してブロック層を形成した以外は、全て実施例１と同様にして比較例２の熱転写シートを得た。

（ブロック層用塗工液Ｂ）
・塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 ２０部
（ソルバイン（登録商標）ＣＮＬ 日信化学工業（株））
・メチルエチルケトン ２０部
・トルエン ２０部

（比較例３）
ブロック層用塗工液１を、上記組成のブロック層用塗工液Ａに変更してブロック層を形成した以外は、全て実施例２と同様にして比較例３の熱転写シートを得た。

（比較例４）
ブロック層用塗工液１を、上記組成のブロック層用塗工液Ｂに変更してブロック層を形成した以外は、全て実施例２と同様にして比較例４の熱転写シートを得た。

（中間転写媒体１の作成）
支持体として厚さ１６μｍのＰＥＴフィルムを用い、該支持体上に、下記組成の剥離層用塗工液を乾燥時の厚みが０．５μｍになるように塗布・乾燥し剥離層を形成した。次いで、剥離層上に下記組成の保護層用塗工液１を乾燥時の厚みが１μｍになるように塗布・乾燥し保護層を形成した。さらに該保護層の上に下記組成の受容層用塗工液を乾燥時の厚みが１μｍになるように塗布・乾燥し受容層を形成することで、支持体上に、剥離層、保護層、受容層がこの順で積層されてなる中間転写媒体１を得た。なお、中間転写媒体１における、剥離層、保護層、受容層は転写層を構成する。

＜剥離層用塗工液＞
・アクリル樹脂 ２０部
（ダイヤナール（登録商標）ＢＲ−８７ 三菱ケミカル（株））
・ポリエステル １部
（バイロン（登録商標）６００ 東洋紡（株））
・メチルエチルケトン ７９部

＜保護層用塗工液１＞
・スチレン−アクリル共重合体 １５部
（ミューティクル（登録商標）ＰＰ３２０Ｐ 三井化学（株））
・ポリビニルアルコール １０部
（Ｃ−３１８ （株）ＤＮＰファインケミカル）
・水 ３．５部
・エタノール ３．５部

＜受容層用塗工液＞
・塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 ２０部
（ソルバイン（登録商標）ＣＮＬ 日信化学工業（株））
・エポキシ変性シリコーンオイル １部
（ＫＰ−１８００Ｕ 信越化学工業（株））
・メチルエチルケトン ２００部
・トルエン ２００部

（中間転写媒体２の作成）
支持体として厚さ１６μｍのＰＥＴフィルムを用い、該支持体上に、下記組成のアンカー層用塗工液を乾燥時の厚みが０．３μｍになるように塗布・乾燥しアンカー層を形成した。次いで、アンカー層上に、下記組成の離型層用塗工液１を乾燥時の厚みが０．５μｍになるように塗布・乾燥し離型層を形成した。次いで、離型層上に、上記組成の保護用塗工液１を乾燥時の厚みが１．５μｍになるように塗布・乾燥し保護層を形成した。次いで、保護層上に、下記組成の中間層用塗工液を乾燥時の厚みが０．８μｍになるように塗布・乾燥し中間層を形成し、中間層上に、上記組成の受容層用塗工液を乾燥時の厚みが１．５μｍになるように塗布・乾燥し受容層を形成することで、支持体上に、アンカー層、離型層、保護層、中間層、受容層がこの順で積層されてなる中間転写媒体２を得た。なお、中間転写媒体２における、保護層、中間層、受容層は転写層を構成する。

＜アンカー層用塗工液＞
・ポリウレタン（固形分３５％） ７．２部
（ＡＰ−４０Ｎ ＤＩＣ（株））
・エポキシ系硬化剤 ０．５部
（ウォーターゾール（登録商標）ＷＳＡ−９５０ ＤＩＣ（株））
・溶媒 ９．８部
（ソルミックス（登録商標）Ａ−１１ 日本アルコール販売（株））
・水 ２．４部

＜離型層用塗工液１＞
・エポキシ基含有シルセスキオキサン（固形分７２．６％） ５．８部
（ＳＱ５０２−８ 荒川化学工業（株））
・アルミニウム触媒（固形分１０％） ３．８部
（セルトップ（登録商標）ＣＡＴ−Ａ （株）ダイセル）
・トルエン ３．５部
・メチルエチルケトン ６．９部

＜中間層用塗工液＞
・ポリエステル ３．３部
（バイロン（登録商標）２００ 東洋紡（株））
・塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 ２．７部
（ソルバイン（登録商標）ＣＮＬ 日信化学工業（株））
・イソシアネート硬化剤 １．５部
（タケネート（登録商標） 三井化学（株））
・メチルエチルケトン ６．７部
・トルエン ３．３部

（中間転写媒体３の作成）
離型層用塗工液１を、下記組成の離型層用塗工液２に変更して離型層を形成し、保護層用塗工液１を、下記組成の保護層用塗工液２に変更して保護層用塗工液を塗布・乾燥し、ＵＶ露光器を用いて露光して保護層を形成した以外は、全て中間転写媒体２と同様の方法で、中間転写媒体３を得た。なお、中間転写媒体３は、上記中間転写媒体１、２と比較して、保護層の強度が高く、ブロック層が転写された転写層を被転写体上に転写するときに、尾引きや、未転写が生じやすい中間転写媒体である。

＜離型層用塗工液２＞
・エポキシ基含有シルセスキオキサン（固形分７２．６％） １．１部
（ＳＱ５０２−８ 荒川化学工業（株））
・ウレタン変性ポリエステル（固形分４０％） ８．２部
（バイロン（登録商標）ＵＲ−３５００ 東洋紡（株））
・ジルコニア触媒（固形分４５％） １．１部
（ＺＣ−５４０ マツモトファインケミカル（株））
・アセチルアセトン ３．１部
・トルエン ２．２部
・メチルエチルケトン ４．３部

＜保護層用塗工液２＞
・３官能アクリレート １．４部
（ＮＫエステルＡ−９３００ 新中村化学工業（株））
・ビスフェノールＡ型エポキシアクリレート １．４部
（ＮＫオリゴマーＥＡ−１０２０ 新中村化学工業（株））
・１５官能ウレタンアクリレート １．４部
（ＮＫエステルＵ−１５ＨＡ 新中村化学工業（株））
・ポリマーアクリレート（固形分５０％） ０．７部
（ＮＫエステルＣ−２４Ｔ 新中村化学工業（株））
・フィラー（シリカ）（平均粒径１２ｎｍ）（固形分５０％） ５．９部
（ＭＥＫ−ＡＣ２１４０Ｚ 日産化学工業（株））
・光重合開始剤 ０．１４部
（イルガキュア（登録商標）１８４ ＢＡＳＦジャパン社）
・表面調整剤（固形分５０％） ０．１４部
（ＬＦ１９８４ 楠本化成（株））
・トルエン ４．８部
・メチルエチルケトン ９．５部

（被転写体の作成）
下記組成のカード基材を作成した。

＜カード基材の組成＞
・ポリ塩化ビニルコンパウンド（重合度８００） １００部
（安定化剤などの添加材を１０％含有）
・白色顔料（酸化チタン） １０部
・可塑剤（フタル酸ジオクチル） ０．５部

（画像の形成）
ＨＤＰ５０００（ＨＩＤ Ｇｏｌｂａｌ社）プリンタを用い、上記で作成した各中間転写媒体（中間転写媒体１〜３）の受容層上に、該プリンタ専用の熱転写リボンにより、１２８／２５６階調のグレー画像を形成した。画像形成領域の大きさは８８ｍｍｘ５６ｍｍとした。

（ブロック層の転写）
上記グレー画像が形成された各中間転写媒体と、各実施例、及び比較例の熱転写シートとを組み合わせ、ＨＤＰ５０００（ＨＩＤ Ｇｏｌｂａｌ社）プリンタにより、上記グレー画像の中心部に２０ｍｍ角（２０ｍｍ×２０ｍｍサイズ）の大きさで、ブロック層を転写した。なお、ブロック層の転写は、上記プリンタの標準設定で行った。

実施例２、３、６、７、９、１０、１２、１３、比較例３、４の熱転写シートについては、ＨＤＰ５０００（ＨＩＤ Ｇｏｌｂａｌ社）プリンタにより、上記グレー画像のブロック層被転写領域に、選択的にヒートシール層を転写した。なお、ヒートシール層の転写は、上記プリンタの標準設定で行った。

（転写層の転写）
上記ブロック層が転写された各中間転写媒体と、上記で作成した被転写体とを組み合わせ、ＨＤＰ５０００（ＨＩＤ Ｇｏｌｂａｌ社）プリンタにより、中間転写媒体の前記グレー画像と重なる領域全体にエネルギーを印加し、該エネルギーが印加された各中間転写媒体の転写層を、被転写体上に転写し、各実施例、及び比較例の印画物を得た。なお、転写層の転写は、上記プリンタの標準設定で行った。

（尾引き評価）
上記で得られた各実施例、及び比較例の印画物における尾引きの長さを測定し、以下の評価基準に基づいて尾引き評価を行った。評価結果を表１に示す。

「評価基準」
Ａ：尾引きの長さが１ｍｍ以下。
Ｂ：尾引きの長さが１ｍｍより長く３ｍｍ以下。
ＮＧ（１）：尾引きの長さが３ｍｍより長く５ｍｍ以下。
ＮＧ（２）：尾引きの長さが５ｍｍより長い。

（未転写評価（転写性評価））
各実施例、及び比較例の印画物において、ブロック層の外縁を起点とし、当該起点から印画流れ方向における転写層の未転写部分の長さを測定し、以下の評価基準に基づいて未転写評価を行った。評価結果を表１に示す。

「評価基準」
Ａ：未転写部分の長さが０．３ｍｍ以下。
Ｂ：未転写部分の長さが０．３ｍｍより長く１ｍｍ以下。
Ｃ：未転写部分の長さが１ｍｍより長く３ｍｍ以下。
ＮＧ：未転写部分の長さが３ｍｍより長い。

（外観評価）
上記で得られた各実施例、及び比較例の印画物において、ブロック層と接していた部分の被転写体の表面、つまりは、その表面が露出している部分に爪を当てながら、被転写体の表面を１往復擦ったときの、被転写体の表面状態を目視で観察し、下記評価基準に基づいて外観評価を行った。評価結果を表１で示す。

「評価基準」
Ａ：被転写体の表面に擦過痕が残らない。
Ｂ：被転写体の表面に擦過痕が残る。

１・・・基材
２・・・ブロック層
３・・・接着層
７・・・染料層
８・・・ヒートシール層
１０・・・熱転写シート
３１・・・支持体
３２・・・離型層
３５・・・受容層
３６・・・保護層
４０・・・転写層
５０・・・中間転写媒体
６０・・・被転写体
７０・・・熱転写画像
１００・・・印画物
Ａ・・・転写層の周辺端部
Ｂ・・・ＩＣチップ配置予定域

また、上記課題を解決するための本開示の実施の形態に係る熱転写シートは、転写層を有する中間転写媒体と組み合わせて用いられる熱転写シートであって、基材上に、当該基材から剥離可能にブロック層が設けられ、前記ブロック層は、前記中間転写媒体の転写層上に転写でき、前記中間転写媒体の転写層上に前記ブロック層を転写後、前記中間転写媒体の転写層が被転写体に転写される際のマスキング部材として前記ブロック層が用いられ、前記ブロック層が、活性光線硬化性樹脂の硬化物、シリコーン樹脂の硬化物、及び熱可塑性樹脂の硬化物の群の中から選択される少なくとも１種を含有している。

Claims (12)

1. 中間転写媒体と組み合わせて用いられる熱転写シートであって、
   基材上に、当該基材から剥離可能にブロック層が設けられ、
   前記ブロック層は、前記中間転写媒体上に転写されるものであり、
   前記ブロック層が、カルナバワックスを含有している、熱転写シート。
2. 前記ブロック層が、さらにポリエチレンワックス、及び熱可塑性エラストマーを含有している、請求項１に記載の熱転写シート。
3. 中間転写媒体と組み合わせて用いられる熱転写シートであって、
   基材上に、当該基材から剥離可能にブロック層が設けられ、
   前記ブロック層は、前記中間転写媒体上に転写されるものであり、
   前記ブロック層が、活性光線硬化性樹脂の硬化物、シリコーン樹脂の硬化物、及び熱可塑性樹脂の硬化物の群の中から選択される少なくとも１種を含有している、熱転写シート。
4. 前記基材の同一面上に、染料層、及びヒートシール層の何れか一方、又は双方が、前記ブロック層と面順次に設けられている、請求項１乃至３の何れか１項に記載の熱転写シート。
5. 前記基材の同一面上に、前記染料層、前記ブロック層、前記ヒートシール層がこの順で面順次に設けられている、請求項４に記載の熱転写シート。
6. 前記基材の同一面上に、前記染料層、前記ヒートシール層、前記ブロック層がこの順で面順次に設けられている、請求項４に記載の熱転写シート。
7. 熱転写シートと中間転写媒体との組合せであって、
   前記熱転写シートが請求項１乃至６の何れか１項に記載の熱転写シートであり、
   前記中間転写媒体が、支持体上に、受容層からなる単層構成の転写層、又は前記支持体から最も遠くに受容層が位置する積層構成の転写層が設けられた中間転写媒体である、熱転写シートと中間転写媒体の組合せ。
8. 前記支持体と前記転写層との間に、離型層が設けられ、
   前記離型層が、シルセスキオキサンを含有している、請求項７に記載の熱転写シートと中間転写媒体の組合せ。
9. 前記離型層が、さらにガラス転移温度（Ｔｇ）が５０℃以下のウレタン変性ポリエステルを含有している、請求項８に記載の熱転写シートと中間転写媒体の組合せ。
10. 前記転写層が、前記支持体側から、保護層、前記受容層がこの順で積層されてなる積層構造を呈しており、
    前記保護層が、活性光線硬化性樹脂の硬化物を含有している、請求項７乃至９の何れか１項に記載の熱転写シートと中間転写媒体の組合せ。
11. 印画物の製造方法であって、
    請求項７乃至１０の何れか１項に記載の熱転写シートと中間転写媒体の組合せを用い、
    前記中間転写媒体の前記転写層上に熱転写画像を形成する工程と、
    前記熱転写画像が形成された前記転写層上の一部に、前記熱転写シートの前記ブロック層を転写する第１転写工程と、
    被転写体上に前記中間転写媒体の前記転写層を転写する第２転写工程と、を含み、
    前記第２転写工程が、前記転写層上の一部に転写されたブロック層をマスキング部材として用い、前記ブロック層と重ならない前記転写層を、前記被転写体上に転写する工程である、印画物の製造方法。
12. 請求項１１に記載の印画物の製造方法に用いられる、エネルギー印加手段を備える熱転写プリンタ。

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