JPWO2013012032A1 - 露光装置、露光方法、デバイス製造方法、プログラム、及び記録媒体 - Google Patents
露光装置、露光方法、デバイス製造方法、プログラム、及び記録媒体Info
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Abstract
Description
本願は、2011年7月21日に出願された日本特許出願第2011−159999号および2012年5月22日に出願された日本特許第2012−116713号に基づき優先権を主張する。上記出願の内容をここに援用する。
第1実施形態について説明する。図1は、第1実施形態に係る露光装置EXの一例を示す概略構成図である。本実施形態の露光装置EXは、液体LQを介して露光光ELで基板Pを露光する液浸露光装置である。本実施形態においては、露光光ELの光路の少なくとも一部が液体LQで満たされるように液浸空間LSが形成される。液浸空間とは、液体で満たされた部分(空間、領域)をいう。基板Pは、液浸空間LSの液体LQを介して露光光ELで露光される。本実施形態においては、液体LQとして、水(純水)を用いる。
回収口16は、例えば基板Pの露光時において液体LQを回収する。なお、供給口15は、基板Pの露光時及び非露光時の一方又は両方において液体LQを供給可能である。なお、回収口16は、基板Pの露光時及び非露光時の一方又は両方において液体LQを回収可能である。
なお、多孔部材19が配置されなくてもよい。
本実施形態において、液体LQに対する上面80Aの接触角は、例えば90度よりも大きい。液体LQに対する上面80Aの接触角は、例えば100度以上でもよいし、110度以上でもよい。
第1部分801の第1、第2側面80B、80Cは、ケース81で覆われていない。第1部分801の第1、第2側面80B、80Cは、間隙Gaに流入した液体LQと接触可能である。したがって、吸引口24の吸引動作が行われることによって、間隙Gaに流入した液体LQは、第1、第2側面80B、80Cから円滑に回収される。
これにより、例えば複数のショット領域Sに対して露光光ELが順次照射される第1期間の少なくとも一部において、間隙Ga上に液浸空間LSが形成され、その液浸空間LSの液体LQが間隙Gaに流入しても、間隙Gaに流入した液体LQは、第1期間において吸引口24(多孔部材80)から直ちに吸引される。また、間隙Gaを介して空間部23に流入した液体LQも、吸引口24(多孔部材80)から吸引される。
次に、第2実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
本実施形態において、温度調整装置305は、ケース81に接触するように配置されている。温度調整装置305は、ケース81を介して、多孔部材80の温度を調整する。温度調整装置305は、ケース81の温度も調整可能である。
次に、第3実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
次に、第4実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
本実施形態において、超音波発生装置85は、周壁部38と周壁部39との間の空間32Hにおいて、裏面Tbに接触するように配置される。本実施形態において、第2保持部32は、空間32Hに配置され、超音波発生装置85を支持する支持部86を有する。
多孔部材800を介して回収された液体LQの少なくとも一部は、吸引口24から吸引される。
次に、第5実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
回収口88は、空間部89の少なくとも一部と結ばれる。回収口88から回収された液体LQは、空間部89の少なくとも一部を流れる。
次に、第6実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
次に、第7実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
次に、第8実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
次に、第9実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
本実施形態において、第1内面Tc11及び第2内面Tc12は、上面Taの法線と実質的に平行である。
本実施形態において、上面800Laは、多孔部材800の上端である。本実施形態において、上面800Laは、カバー部材T10の上面Taよりも下方であって、第1保持部31の保持面36Sよりも上方に配置される。また、上面800Laは、第1内面Tc11の下端よりも下方に配置され、第2内面Tc12の下端よりも上方に配置される。また、図16のように、第1保持部31に基板Pが保持された状態において、上面800Laは、基板Pとカバー部材T10との間に配置される。また、多孔部材800Lの外側面の少なくとも一部は、間隙を介して第2内面Tc12と対向する。また、多孔部材800Lの内側面の少なくとも一部は、基板Pの側面Pcと対向する。本実施形態において、多孔部材800Lは、第1内面Tc11と対向しない。
次に、第10実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
空間部23の液体LQは、流路127Rとは異なる多孔部材800Rの内部流路を流れて、流体吸引装置128に回収される。
次に、第11実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
次に、第12実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
吸引口24のそれぞれは、基板Pとカバー部材Tとの間の間隙Gaに流入する液体LQの少なくとも一部を回収可能である。図22に示す例では、空間部23に多孔部材は配置されていない。
一方、制御装置8は、間隙Gaのうち、第4部分AR4の上に液浸空間LSが存在するとき、第1保持部31の周囲に複数配置された複数の吸引口24のうち、第1、第2、第3、第5、第6部分AR1、AR2、AR3、AR5、AR6に流入する液体LQを回収可能な位置に配置された吸引口24の吸引動作を実行しない(停止する)。
また、界面LGの位置は、液浸空間LSが形成された状態における物体の移動条件(移動速度、加速度、ある一方向に関する移動距離、及び移動軌跡等)に基づいて定められる。
例えば、液浸条件及び移動条件の少なくとも一方に基づいて定められる界面LGの位置は、予備実験又はシミュレーションによって求めることができる。本実施形態において、制御装置8は、記憶装置8Rを含み、液浸条件及び移動条件の少なくとも一方に基づいて定められる界面LGの位置に関する情報は、記憶装置8Rに記憶される。
次に、第13実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
次に、第14実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
次に、第15実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
次に、第16実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
カバー部材Qの上面は、計測部材Cの上面の周囲に配置される。
なお、その回収口が、計測部材Cに配置されてもよい。
X軸方向に隣り合う第1の凸部Tmaと第2の凸部TmaとのX軸方向に関する距離は、第2の凸部Tmaと第3の凸部TmaとのX軸方向に関する距離と実質的に等しい。
計測部材Cの凸部は、計測部材Cの中心の周方向に複数配置されてもよい。
部材B1の上面と部材B2の上面とは、間隙を介して並置される。すなわち、間隙を介して配置される部材B1のエッジ部及び部材B2のエッジ部の少なくとも一方に、所定方向に沿って複数の凸部を設けてもよい。また、その凸部が、傾斜する下面を有してもよい。
また、制御装置8は、コンピュータシステムと外部装置との通信を実行可能なインターフェースを含む。記憶装置8Rは、例えばRAM等のメモリ、ハードディスク、CD−ROM等の記録媒体を含む。記憶装置8Rには、コンピュータシステムを制御するオペレーティングシステム(OS)がインストールされ、露光装置EXを制御するためのプログラムが記憶されている。
Claims (109)
- 液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、
前記基板の下面をリリース可能に保持する第1保持部と、前記基板が配置可能な開口を規定し、前記基板が前記第1保持部に保持されている状態において前記基板の上面の周囲に配置される上面を有する第1部材と、を含む基板保持装置と、
少なくとも一部が前記基板と前記第1部材との間の間隙に配置され、前記液体に対して撥液性の上面を有する多孔部材と、を備え、
前記多孔部材を介して、前記間隙に流入する前記液体の少なくとも一部を回収する露光装置。 - 前記多孔部材の上面は、前記基板の上面及び前記第1部材の上面とほぼ面一である請求項1に記載の露光装置。
- 前記多孔部材は、前記基板の側面が対向可能な第1側面を有し、前記第1側面の孔から前記液体を回収する請求項1又は2に記載の露光装置。
- 前記多孔部材は、前記第1部材の内面が対向可能な第2側面を有し、
前記基板の側面と前記第1側面との距離は、前記第1部材の内面と前記第2側面との距離よりも大きい請求項3に記載の露光装置。 - 前記液体に対する前記多孔部材の上面の接触角は、前記第1側面の接触角よりも大きい請求項3又は4に記載の露光装置。
- 前記液体に対する前記基板の上面の接触角、及び前記第1部材の上面の接触角は、前記第1側面の接触角よりも大きい請求項3〜5のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記多孔部材の少なくとも一部は、前記間隙に通じる前記基板保持装置の空間部に配置される請求項1〜6のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記空間部に配置され、前記空間部が負圧になるように前記空間部の流体の少なくとも一部を吸引する吸引口を備え、
前記多孔部材を介して回収された前記液体の少なくとも一部は、前記吸引口から吸引される請求項7に記載の露光装置。 - 前記第1保持部の中心に対する放射方向に関して、前記間隙の寸法は、前記空間部の寸法よりも小さい請求項7又は8に記載の露光装置。
- 前記多孔部材は、前記間隙に配置される第1部分と、前記空間部に配置される第2部分と、を含み、
前記第1保持部の中心に対する放射方向に関して、前記第2部分の寸法は、前記第1部分の寸法よりも大きい請求項7〜9のいずれか一項に記載の露光装置。 - 前記多孔部材により、前記空間部の前記液体と気体とが分離して回収される請求項7〜10のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記多孔部材は、第1吸引装置に接続され、主に気体が流通し、液体の流通が制限される流路を有する請求項11に記載の露光装置。
- 前記多孔部材の温度を調整する温度調整装置を備える請求項1〜12のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記多孔部材は、前記基板の周囲の少なくとも一部に配置され、
前記液体の液浸空間が前記光学部材と前記基板及び前記第1部材の少なくとも一方との間に形成されている状態で前記基板及び前記第1部材が移動され、
前記液浸空間に対する前記間隙の位置、及び前記液浸空間に対する前記間隙の移動条件の一方又は両方に基づいて、前記多孔部材の一部から前記液体の回収が行われる請求項1〜11のいずれか一項に記載の露光装置。 - 液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、
前記基板の下面をリリース可能に保持する第1保持部と、前記基板が配置可能な開口を規定し、前記基板が前記第1保持部に保持されている状態において前記基板の上面の周囲に配置される上面を有する第1部材と、を含む基板保持装置と、
前記基板及び前記第1保持部の少なくとも一方の周囲に複数配置され、前記基板と前記第1部材との間の間隙に流入する前記液体の少なくとも一部を回収可能な回収口と、を備え、
前記液体の液浸空間が前記光学部材の射出面側に形成されている状態で前記基板及び前記第1部材が移動され、
前記液浸空間に対する前記間隙の位置、及び前記液浸空間に対する前記間隙の移動条件の一方又は両方に基づいて、前記複数の回収口のうち一部の回収口から前記液体の回収が行われる露光装置。 - 前記回収口は、前記間隙に通じる前記基板保持装置の空間部に配置される請求項15に記載の露光装置。
- 前記空間部に配置される第2部材を備え、
前記回収口は、前記第2部材に配置される請求項16に記載の露光装置。 - 前記第2部材の温度を調整する温度調整装置を備える請求項17に記載の露光装置。
- 前記回収口は、前記基板の側面と対向するように配置される請求項15〜18のいずれか一項に記載の露光装置。
- 液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、
前記基板の下面をリリース可能に保持する第1保持部と、前記基板が配置可能な開口を規定し、前記基板が前記第1保持部に保持されている状態において前記基板の上面の周囲に配置される上面を有する第1部材と、を含む基板保持装置と、
前記基板の側面と対向するように配置され、前記基板と前記第1部材との間の間隙に流入する前記液体の少なくとも一部を回収する回収口と、を備える露光装置。 - 前記回収口は、前記第1部材に配置される請求項19又は20に記載の露光装置。
- 前記第1部材の開口は、前記第1保持部の中心から第1距離に位置し、前記第1保持部に保持された前記基板の側面が対向可能な第1領域と、前記第1領域の隣に配置され、前記第1保持部の中心から前記第1距離よりも長い第2距離に位置する第2領域と、を含む請求項1〜21のいずれか一項に記載の露光装置。
- 液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、
前記基板の下面をリリース可能に保持する第1保持部と、前記基板が配置可能な開口を規定し、前記基板が前記第1保持部に保持されている状態において前記基板の上面の周囲に配置される上面を有する第1部材と、を含む基板保持装置と、を備え、
前記第1部材の開口は、前記第1保持部の中心から第1距離に位置し、前記第1保持部に保持された前記基板の側面が対向可能な第1領域と、前記第1領域の隣に配置され、前記第1保持部の中心から前記第1距離よりも長い第2距離に位置する第2領域と、を含む露光装置。 - 前記第2領域は、前記第1保持部の周方向に関して前記第1領域の隣に配置される請求項22又は23に記載の露光装置。
- 前記第1保持部の周方向に関する前記第1領域の寸法は、前記第1保持部の中心に対する放射方向に関する前記第1領域と前記第2領域との距離よりも小さい請求項24に記載の露光装置。
- 前記第1保持部の周方向に関する前記第2領域の寸法は、前記第1保持部の中心に対する放射方向に関する前記第1領域と前記第2領域との距離よりも小さい請求項24又は25に記載の露光装置。
- 前記第1領域と前記第2領域とは、前記第1保持部の周方向に関して交互に配置される請求項22〜26のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記第1保持部の周方向に関して隣り合う前記第1領域の距離は、前記第1保持部の中心に対する放射方向に関する前記第1領域と前記第2領域との距離よりも小さい請求項27に記載の露光装置。
- 前記基板の側面の少なくとも一部が対向する前記第1部材の内面の少なくとも一部は、前記第1保持部の中心に対して外側に向かって上方に傾斜する請求項1〜28のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記第1部材の内面は、第1内面と、前記第1内面の上方に配置され、前記基板の側面の少なくとも一部が対向し、下端が前記第1内面と結ばれ、上端が前記第1部材の上面と結ばれる第2内面と、を含み、
前記第1内面と前記第2内面とは、非平行であり、前記第1部材の上面の法線方向に関して、前記第2内面の寸法は、前記第1内面の寸法よりも大きく、
少なくとも前記第2内面が、前記第1保持部の中心に対して外側に向かって上方に傾斜する請求項29に記載の露光装置。 - 液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、
前記基板の下面をリリース可能に保持する第1保持部と、前記基板が配置可能な開口を規定し、前記基板が前記第1保持部に保持されている状態において前記基板の上面の周囲に配置される上面を有する第1部材と、を含む基板保持装置と、を備え、
前記第1部材の内面は、第1内面と、前記第1内面の上方に配置され、前記基板の側面の少なくとも一部が対向し、下端が前記第1内面と結ばれ、上端が前記第1部材の上面と結ばれる第2内面と、を含み、
前記第1内面と前記第2内面とは、非平行であり、前記第1部材の上面の法線方向に関して、前記第2内面の寸法は、前記第1内面の寸法よりも大きく、
少なくとも前記第2内面が、前記第1保持部の中心に対して外側に向かって上方に傾斜する露光装置。 - 前記第1保持部の中心に対する放射方向に関して、前記第2内面の寸法は、前記基板と前記第1部材との間の間隙の寸法よりも大きい請求項30又は31に記載の露光装置。
- 前記第1内面の下端は、前記第1部材の下面と結ばれる請求項30〜32のいずれか一項に記載の露光装置。
- 液体を介して露光光を基板の上面に照射する露光装置であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、
前記基板の下面をリリース可能に保持する第1保持部と、上面及び該上面の外縁の一部を規定するエッジ部を有する第1部材と、を含む基板保持装置と、を備え、
前記第1部材の前記エッジ部は、前記第1保持部に保持された前記基板のエッジ部が沿うように所定方向に延びており、
前記第1部材の前記エッジ部には、前記所定方向に沿って複数の凸部が形成されている露光装置。 - 前記複数の凸部は、前記所定方向に隣り合う第1凸部及び第2凸部を含む請求項34に記載の露光装置。
- 前記複数の凸部が前記所定方向に沿って一定間隔で配置されている請求項34又は35に記載の露光装置。
- 前記基板の前記エッジ部と前記第1部材の前記エッジ部との間には、前記所定方向に沿って間隙が形成される請求項34〜36のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記第1部材の前記エッジ部は、前記第1保持部の周囲に配置される請求項34〜37のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記第1部材は、前記基板を配置可能な開口を有し、
前記開口は、前記エッジ部で規定される請求項38に記載の露光装置。 - 前記第1部材の前記上面は、前記第1保持部に保持された前記基板の上面の周囲に配置される請求項38又は39に記載の露光装置。
- 前記第1部材の前記上面は、前記凸部の上面を含む請求項34〜40のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記凸部は、その先端部から、前記第1保持部に対して離れる方向に、かつ下方に向かって傾斜する下面を有する請求項34〜41のいずれか一項に記載の露光装置。
- 液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、
前記基板の下面をリリース可能に保持する第1保持部と、前記基板が配置可能な開口を規定し、前記基板が前記第1保持部に保持されている状態において前記基板の上面の周囲に配置される上面を有する第1部材と、を含む基板保持装置と、を備え、
前記第1部材の内面は、前記基板の側面が対向可能な第1内面と、前記第1内面の下方に配置され、前記第1保持部に対して前記第1内面よりも離れた第2内面と、を含み、
少なくとも一部が前記第2内面と対向するように配置される多孔部材を備え、
前記多孔部材を介して、前記基板と前記第1部材との間の間隙に流入する前記液体の少なくとも一部を回収する露光装置。 - 前記第1内面と前記第2内面とは実質的に平行である請求項43に記載の露光装置。
- 前記第1部材の上面の法線方向に関して、前記第1内面の寸法は、前記第2内面の寸法よりも小さい請求項44に記載の露光装置。
- 前記第1部材は、前記第1内面の下端と結ばれ、前記第1部材の上面の反対方向を向く下面を含み、
前記第2内面は、前記下面の外縁と結ばれる請求項43〜45のいずれか一項に記載の露光装置。 - 前記多孔部材の上端は、前記第1部材の上面よりも下方であって、前記第1保持部の保持面よりも上方に配置される請求項43〜46のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記多孔部材の上端は、前記第1内面の下端よりも下方に配置され、前記第2内面の下端よりも上方に配置される請求項47に記載の露光装置。
- 前記第1保持部に前記基板が保持された状態において、前記多孔部材の上端は、前記第1部材と前記基板との間に配置される請求項47又は48に記載の露光装置。
- 液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、
前記基板の下面をリリース可能に保持する第1保持部と、前記基板が配置可能な開口を規定し、前記基板が前記第1保持部に保持されている状態において前記基板の上面の周囲に配置される上面を有する第1部材と、を含む基板保持装置と、を備え、
前記第1部材は、前記基板の側面が対向可能な第1内面と、前記第1内面の下方に配置され、前記第1保持部に対して前記第1内面よりも離れた第2内面と、前記第1内面の下端及び前記第2内面の上端と結ばれ、前記第1部材の上面の反対方向を向く下面と、を含む露光装置。 - 少なくとも一部が前記第2内面と対向するように配置される多孔部材を備え、
前記多孔部材を介して、前記基板と前記第1部材との間の間隙に流入する前記液体の少なくとも一部を回収する請求項50に記載の露光装置。 - 前記液体に対する前記第1部材の内面の少なくとも一部の接触角は、前記第1部材の上面の接触角よりも小さい請求項1〜51のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記第1部材は、前記第1部材の上面の反対方向を向く下面を有し、
前記液体に対する前記第1部材の下面の接触角は、前記第1部材の上面の接触角よりも小さい請求項1〜52のいずれか一項に記載の露光装置。 - 前記第1部材の温度を調整する調整装置を備える請求項1〜53のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記第1部材に超音波を与える超音波発生装置を備える請求項1〜54のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記第1保持部の周囲に配置され、前記第1部材をリリース可能に保持する第2保持部を備える請求項1〜55のいずれか一項に記載の露光装置。
- 液浸空間の液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、
前記基板の下面をリリース可能に保持する第1保持部と、前記第1保持部の周囲の少なくとも一部に配置される計測部材と、前記計測部材に隣接して設けられ、前記液浸空間が形成可能な上面を有する第1部材と、を含む基板保持装置と、
少なくとも一部が前記計測部材と前記第1部材との間の間隙に配置され、前記液体に対して撥液性の上面を有する多孔部材と、を備え、
前記多孔部材を介して、前記間隙に流入する前記液体の少なくとも一部を回収する露光装置。 - 液浸空間の液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、
前記基板の下面をリリース可能に保持する第1保持部と、前記第1保持部の周囲の少なくとも一部に配置される計測部材と、前記計測部材に隣接して設けられ、前記液浸空間が形成可能な上面を有する第1部材と、を含む基板保持装置と、
前記計測部材と前記第1部材との間の間隙に流入する前記液体の少なくとも一部を回収可能な複数の回収口と、を備え、
前記光学部材の前記射出面側に前記液浸空間が形成されている状態で前記計測部材及び前記第1部材が移動され、
前記液浸空間に対する前記間隙の位置、及び前記液浸空間に対する前記間隙の移動条件の一方又は両方に基づいて、前記複数の回収口のうち一部の回収口から前記液体の回収が行われる露光装置。 - 液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、
前記基板の下面をリリース可能に保持する第1保持部と、前記第1保持部の周囲の少なくとも一部に配置され、前記液浸空間が形成可能な上面を有する計測部材と、前記計測部材に隣接して設けられ、前記液浸空間が形成可能な上面を有する第1部材と、を含む基板保持装置と、
前記計測部材の側面と対向するように配置され、前記計測部材と前記第1部材との間の間隙に流入する前記液体の少なくとも一部を回収する回収口と、を備える露光装置。 - 液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、
前記基板の下面をリリース可能に保持する第1保持部と、前記第1保持部の周囲の少なくとも一部に配置され、前記液浸空間が形成可能な上面を有する計測部材と、前記計測部材に隣接して設けられ、前記液浸空間が形成可能な上面を有する第1部材と、を含む基板保持装置と、を備え、
前記計測部材との間に間隙を形成する前記第1部材の側面は、前記計測部材の中心から第1距離に位置し、前記計測部材の側面が対向可能な第1領域と、前記第1領域の隣に配置され、前記計測部材の中心から前記第1距離よりも長い第2距離に位置する第2領域と、を含む露光装置。 - 液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、
前記光学部材の下方において移動可能であり、液浸空間が形成可能な第1上面を有する第1部材と、
前記光学部材の下方において前記第1部材と隣接した状態で移動可能であり、液浸空間が形成可能な第2上面を有する第2部材と、を備え、
前記第1部材の側面との間に間隙を形成する前記第2部材の側面は、前記第1部材の側面から第1距離に位置し、前記第1部材の側面が対向可能な第1領域と、前記第1領域の隣に配置され、前記第1部材の側面から前記第1距離よりも長い第2距離に位置する第2領域と、を含む露光装置。 - 前記第1部材及び前記第2部材は、前記光学部材の光軸と垂直な面内において移動する請求項61に記載の露光装置。
- 前記第1領域と前記第2領域とは、前記光学部材の光軸と垂直な面内において隣り合う請求項61又は62に記載の露光装置。
- 前記第1部材及び前記第2部材は、前記光学部材の下方において移動可能なステージに保持される請求項61〜63のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記ステージは、前記基板を保持可能である請求項64に記載の露光装置。
- 前記第1部材は、前記光学部材の下方において移動可能な第1ステージに保持され、
前記第2部材は、前記光学部材の可能において移動可能な第2ステージに保持される請求項61〜63のいずれか一項に記載の露光装置。 - 前記第1ステージ及び前記第2ステージの少なくとも一方は、前記基板を保持可能である請求項66に記載の露光装置。
- 前記第1部材及び前記第2部材の少なくとも一方は、計測部材を含む請求項61〜67のいずれか一項に記載の露光装置。
- 液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、
前記基板の下面をリリース可能に保持する第1保持部と、前記第1保持部の周囲の少なくとも一部に配置され、前記液浸空間が形成可能な上面を有する計測部材と、前記計測部材に隣接して設けられ、前記液浸空間が形成可能な上面を有する第1部材と、を含む基板保持装置と、を備え、
前記第1部材の内面は、第1内面と、前記第1内面の上方に配置され、前記計測部材の側面の少なくとも一部が対向し、下端が前記第1内面と結ばれ、上端が前記第1部材の上面と結ばれる第2内面と、を含み、
前記第1内面と前記第2内面とは、非平行であり、前記第1部材の上面の法線方向に関して、前記第2内面の寸法は、前記第1内面の寸法よりも大きく、
少なくとも前記第2内面が、前記計測部材の中心に対して外側に向かって上方に傾斜する露光装置。 - 光学部材の射出面側に形成される液浸空間の液体を介して露光光を基板の上面に照射する露光装置であって、
第1上面と、該第1上面の外縁の一部を規定する第1エッジ部とを有し、前記第1上面の少なくとも一部が前記液浸空間と接触するように前記光学部材の下方で動かされる第1部材と、
第2上面と、該第2上面の外縁の一部を規定する第2エッジ部とを有し、前記光学部材の下方で動かされる第2部材と、を備え、
前記第1エッジ部及び前記第2エッジ部は、所定方向に延びており、
前記第1エッジ部と前記第2エッジ部との間には、間隙が形成され、
前記第1エッジ部には、前記所定方向に沿って複数の凸部が形成されている露光装置。 - 前記複数の凸部は、前記所定方向に隣り合う第1凸部及び第2凸部を含む請求項70に記載の露光装置。
- 前記複数の凸部が前記所定方向に沿って一定間隔で配置されている請求項70又は71に記載の露光装置。
- 前記第1上面と前記第2上面とは、前記間隙を介して並置される請求項70〜72のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記所定方向は、直線である請求項73に記載の露光装置。
- 前記第2上面は、前記第1上面の周囲に配置される請求項73に記載の露光装置。
- 前記第1部材は、計測部材である請求項70〜75のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記第2部材は、計測部材である請求項70〜76のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記第1部材の前記上面は、前記凸部の上面を含む請求項70〜77のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記凸部は、その先端部から、前記第1保持部に対して離れる方向に、かつ下方に向かって傾斜する下面を有する請求項70〜78のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記第2エッジ部には、前記所定方向に沿って複数の凸部が形成されている請求項70〜79のいずれか一項に記載の露光装置。
- 請求項1〜80のいずれか一項に記載の露光装置を用いて基板を露光することと、
露光された前記基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。 - 液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、前記基板の下面をリリース可能に保持する第1保持部に保持された前記基板の上面、及び前記基板が配置可能な開口を規定し、前記基板が前記第1保持部に保持されている状態において少なくとも一部が前記基板の周囲に配置される第1部材の上面の少なくとも一方との間に、前記液体で液浸空間が形成されている状態で、前記基板を露光することと、
少なくとも一部が前記基板と前記第1部材との間の間隙に配置され、液体に対して撥液性の上面を有する多孔部材を介して、前記間隙に流入する前記液体の少なくとも一部を回収することと、を含む露光方法。 - 液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、前記光学部材の射出面側に液体の液浸空間を形成した状態で、前記基板の下面をリリース可能に保持する第1保持部に保持された前記基板、及び前記基板が配置可能な開口を規定し、前記基板が前記第1保持部に保持されている状態において少なくとも一部が前記基板の周囲に配置される第1部材を移動しながら前記基板を露光することと、
前記液浸空間に対する前記基板と前記第1部材との間の間隙の位置、及び前記液浸空間に対する前記間隙の移動条件の一方又は両方に基づいて、前記基板及び前記第1保持部の少なくとも一方の周囲に複数配置された回収口のうち一部の回収口から、前記間隙に流入する前記液体の少なくとも一部を回収することと、を含む露光方法。 - 液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、前記基板の下面をリリース可能に保持する第1保持部に保持された前記基板の上面、及び前記基板が配置可能な開口を規定し、前記基板が前記第1保持部に保持されている状態において少なくとも一部が前記基板の周囲に配置される第1部材の上面の少なくとも一方との間に、前記液体で液浸空間が形成されている状態で、前記基板を露光することと、
前記基板の側面と対向するように配置された回収口から、前記基板と前記第1部材との間の間隙に流入する前記液体の少なくとも一部を回収することと、を含む露光方法。 - 液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、前記基板の下面をリリース可能に保持する第1保持部に保持された前記基板の上面、及び前記基板が配置可能な開口を規定し、前記基板が前記第1保持部に保持されている状態において少なくとも一部が前記基板の周囲に配置される第1部材の上面の少なくとも一方との間に、前記液体で液浸空間が形成されている状態で、前記基板を露光すること、を含み、
前記第1部材の開口は、前記第1保持部の中心から第1距離に位置し、前記第1保持部に保持された前記基板の側面が対向可能な第1領域と、前記第1領域の隣に配置され、前記第1保持部の中心から前記第1距離よりも長い第2距離に位置する第2領域と、含む露光方法。 - 液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、前記基板の下面をリリース可能に保持する第1保持部に保持された前記基板の上面、及び前記基板が配置可能な開口を規定し、前記基板が前記第1保持部に保持されている状態において少なくとも一部が前記基板の周囲に配置される第1部材の上面の少なくとも一方との間に、前記液体で液浸空間が形成されている状態で、前記基板を露光すること、を含み、
前記第1部材の内面は、第1内面と、前記第1内面の上方に配置され、前記基板の側面の少なくとも一部が対向し、下端が前記第1内面と結ばれ、上端が前記第1部材の上面と結ばれる第2内面と、を含み、
前記第1内面と前記第2内面とは、非平行であり、前記第1部材の上面の法線方向に関して、前記第2内面の寸法は、前記第1内面の寸法よりも大きく、
少なくとも前記第2内面が、前記第1保持部の中心に対して外側に向かって上方に傾斜する露光方法。 - 液体を介して露光光を基板の上面に照射する露光方法であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、前記基板の下面をリリース可能に保持する第1保持部に保持された前記基板の上面、及び上面と該上面の外縁の一部を規定するエッジ部とを有する第1部材の上面の少なくとも一方との間に、前記液体で液浸空間が形成されている状態で、前記基板を露光すること、を含み、
前記第1部材の前記エッジ部は、前記第1保持部に保持された前記基板のエッジ部が沿うように所定方向に延びており、
前記第1部材の前記エッジ部には、前記所定方向に沿って複数の凸部が形成されている露光方法。 - 液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、前記基板の下面をリリース可能に保持する第1保持部に保持された前記基板の上面、及び前記基板が配置可能な開口を規定し、前記基板が前記第1保持部に保持されている状態において少なくとも一部が前記基板の上面の周囲に配置される第1部材の上面の少なくとも一方との間に、前記液体で液浸空間が形成されている状態で、前記基板を露光すること、を含み、
前記第1部材の内面は、前記基板の側面が対向可能な第1内面と、前記第1内面の下方に配置され、前記第1保持部に対して前記第1内面よりも離れた第2内面と、を含み、
少なくとも一部が前記第2内面と対向するように配置される多孔部材を介して、前記基板と前記第1部材との間の間隙に流入する前記液体の少なくとも一部を回収する露光方法。 - 液浸空間の液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、前記基板の下面をリリース可能に保持する第1保持部に保持された前記基板の上面、前記第1保持部の周囲の少なくとも一部に配置された計測部材の上面、及び前記計測部材に隣接して設けられた第1部材の上面の少なくとも一つとの間に、前記液浸空間が形成されている状態で、前記基板を露光することと、
少なくとも一部が前記計測部材と前記第1部材との間の間隙に配置され、前記液体に対して撥液性の上面を有する多孔部材を介して、前記間隙に流入する前記液体の少なくとも一部を回収することと、を含む露光方法。 - 液浸空間の液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、前記光学部材の射出面側に前記液浸空間をした状態で、前記基板の下面をリリース可能に保持する第1保持部に保持された前記基板、前記第1保持部の周囲の少なくとも一部に配置された計測部材、及び前記計測部材に隣接して設けられた第1部材を移動しながら前記基板を露光することと、
前記液浸空間に対する前記計測部材と前記第1部材との間の間隙の位置、及び前記液浸空間に対する前記間隙の移動条件の一方又は両方に基づいて、前記間隙に複数配置された回収口のうち一部の回収口から、前記間隙に流入する前記液体の少なくとも一部を回収することと、を含む露光方法。 - 液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、前記基板の下面をリリース可能に保持する第1保持部に保持された前記基板の上面、前記第1保持部の周囲の少なくとも一部に配置された計測部材の上面、及び前記計測部材に隣接して設けられた第1部材の上面の少なくとも一つとの間に、前記液体で液浸空間が形成されている状態で、前記基板を露光することと、
前記計測部材の側面と対向するように配置された回収口から、前記計測部材と前記第1部材との間の間隙に流入する前記液体の少なくとも一部を回収することと、を含む露光方法。 - 液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、前記基板の下面をリリース可能に保持する第1保持部に保持された前記基板の上面、前記第1保持部の周囲の少なくとも一部に配置された計測部材の上面、及び前記計測部材に隣接して設けられた第1部材の上面の少なくとも一つとの間に、前記液体で液浸空間が形成されている状態で、前記基板を露光すること、を含み、
前記計測部材との間に間隙を形成する前記第1部材の側面は、前記計測部材の中心から第1距離に位置し、前記計測部材の側面が対向可能な第1領域と、前記第1領域の隣に配置され、前記計測部材の中心から前記第1距離よりも長い第2距離に位置する第2領域と、を含む露光方法。 - 液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、前記基板の下面をリリース可能に保持する第1保持部に保持された前記基板の上面、前記第1保持部の周囲の少なくとも一部に配置された計測部材の上面、及び前記計測部材に隣接して設けられた第1部材の上面の少なくとも一つとの間に、前記液体で液浸空間が形成されている状態で、前記基板を露光すること、を含み、
前記第1部材の内面は、第1内面と、前記第1内面の上方に配置され、前記計測部材の側面の少なくとも一部が対向し、下端が前記第1内面と結ばれ、上端が前記第1部材の上面と結ばれる第2内面と、を含み、
前記第1内面と前記第2内面とは、非平行であり、前記第1部材の上面の法線方向に関して、前記第2内面の寸法は、前記第1内面の寸法よりも大きく、
少なくとも前記第2内面が、前記計測部材の中心に対して外側に向かって上方に傾斜する露光方法。 - 光学部材の射出面側に形成される液浸空間の液体を介して露光光を基板の上面に照射する露光方法であって、
第1上面と、該第1上面の外縁の一部を規定する第1エッジ部とを有する第1部材を、前記第1上面の少なくとも一部が前記液浸空間と接触するように前記光学部材の下方で動かすことと、
第2上面と、該第2上面の外縁の一部を規定する第2エッジ部とを有する第2部材を、前記光学部材の下方で動かすことと、を含み、
前記第1エッジ部及び前記第2エッジ部は、所定方向に延びており、
前記第1エッジ部と前記第2エッジ部との間には、間隙が形成され、
前記第1エッジ部には、前記所定方向に沿って複数の凸部が形成されている露光方法。 - 請求項82〜94のいずれか一項に記載の露光方法を用いて基板を露光することと、
露光された前記基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。 - コンピュータに、液体を介して露光光で基板を露光する露光装置の制御を実行させるプログラムであって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、前記基板の下面をリリース可能に保持する第1保持部に保持された前記基板の上面、及び前記基板が配置可能な開口を規定し、前記基板が前記第1保持部に保持されている状態において少なくとも一部が前記基板の周囲に配置される第1部材の上面の少なくとも一方との間に、前記液体で液浸空間が形成されている状態で、前記基板を露光することと、
少なくとも一部が前記基板と前記第1部材との間の間隙に配置され、液体に対して撥液性の上面を有する多孔部材を介して、前記間隙に流入する前記液体の少なくとも一部を回収することと、を実行させるプログラム。 - コンピュータに、液体を介して露光光で基板を露光する露光装置の制御を実行させるプログラムであって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、前記光学部材の射出面側に液体の液浸空間を形成した状態で、前記基板の下面をリリース可能に保持する第1保持部に保持された前記基板、及び前記基板が配置可能な開口を規定し、前記基板が前記第1保持部に保持されている状態において少なくとも一部が前記基板の周囲に配置される第1部材を移動しながら前記基板を露光することと、
前記液浸空間に対する前記基板と前記第1部材との間の間隙の位置、及び前記液浸空間に対する前記間隙の移動条件の一方又は両方に基づいて、前記基板及び前記第1保持部の少なくとも一方の周囲に複数配置された回収口のうち一部の回収口から、前記間隙に流入する前記液体の少なくとも一部を回収することと、を実行させるプログラム。 - コンピュータに、液体を介して露光光で基板を露光する露光装置の制御を実行させるプログラムであって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、前記基板の下面をリリース可能に保持する第1保持部に保持された前記基板の上面、及び前記基板が配置可能な開口を規定し、前記基板が前記第1保持部に保持されている状態において少なくとも一部が前記基板の周囲に配置される第1部材の上面の少なくとも一方との間に、前記液体で液浸空間が形成されている状態で、前記基板を露光することと、
前記基板の側面と対向するように配置された回収口から、前記基板と前記第1部材との間の間隙に流入する前記液体の少なくとも一部を回収することと、を実行させるプログラム。 - コンピュータに、液体を介して露光光で基板を露光する露光装置の制御を実行させるプログラムであって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、前記基板の下面をリリース可能に保持する第1保持部に保持された前記基板の上面、及び前記基板が配置可能な開口を規定し、前記基板が前記第1保持部に保持されている状態において少なくとも一部が前記基板の周囲に配置される第1部材の上面の少なくとも一方との間に、前記液体で液浸空間が形成されている状態で、前記基板を露光することと、を実行させ、
前記第1部材の開口は、前記第1保持部の中心から第1距離に位置し、前記第1保持部に保持された前記基板の側面が対向可能な第1領域と、前記第1領域の隣に配置され、前記第1保持部の中心から前記第1距離よりも長い第2距離に位置する第2領域と、を含むプログラム。 - コンピュータに、液体を介して露光光で基板を露光する露光装置の制御を実行させるプログラムであって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、前記基板の下面をリリース可能に保持する第1保持部に保持された前記基板の上面、及び前記基板が配置可能な開口を規定し、前記基板が前記第1保持部に保持されている状態において少なくとも一部が前記基板の周囲に配置される第1部材の上面の少なくとも一方との間に、前記液体で液浸空間が形成されている状態で、前記基板を露光すること、を実行させ、
前記第1部材の内面は、第1内面と、前記第1内面の上方に配置され、前記基板の側面の少なくとも一部が対向し、下端が前記第1内面と結ばれ、上端が前記第1部材の上面と結ばれる第2内面と、を含み、
前記第1内面と前記第2内面とは、非平行であり、前記第1部材の上面の法線方向に関して、前記第2内面の寸法は、前記第1内面の寸法よりも大きく、
少なくとも前記第2内面が、前記第1保持部の中心に対して外側に向かって上方に傾斜するプログラム。 - コンピュータに、液体を介して露光光を基板の上面に照射する露光装置の制御を実行させるプログラムであって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、前記基板の下面をリリース可能に保持する第1保持部に保持された前記基板の上面、及び上面と該上面の外縁の一部を規定するエッジ部とを有する第1部材の上面の少なくとも一方との間に、前記液体で液浸空間が形成されている状態で、前記基板を露光すること、を実行させ、
前記第1部材の前記エッジ部は、前記第1保持部に保持された前記基板のエッジ部が沿うように所定方向に延びており、
前記第1部材の前記エッジ部には、前記所定方向に沿って複数の凸部が形成されているプログラム。 - コンピュータに、液体を介して露光光で基板を露光する露光装置の制御を実行させるプログラムであって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、前記基板の下面をリリース可能に保持する第1保持部に保持された前記基板の上面、及び前記基板が配置可能な開口を規定し、前記基板が前記第1保持部に保持されている状態において少なくとも一部が前記基板の上面の周囲に配置される第1部材の上面の少なくとも一方との間に、前記液体で液浸空間が形成されている状態で、前記基板を露光すること、を実行させ、
前記第1部材の内面は、前記基板の側面が対向可能な第1内面と、前記第1内面の下方に配置され、前記第1保持部に対して前記第1内面よりも離れた第2内面と、を含み、
少なくとも一部が前記第2内面と対向するように配置される多孔部材を介して、前記基板と前記第1部材との間の間隙に流入する前記液体の少なくとも一部を回収することを実行させるプログラム。 - コンピュータに、液浸空間の液体を介して露光光で基板を露光する露光装置の制御を実行させるプログラムであって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、前記基板の下面をリリース可能に保持する第1保持部に保持された前記基板の上面、前記第1保持部の周囲の少なくとも一部に配置された計測部材の上面、及び前記計測部材に隣接して設けられた第1部材の上面の少なくとも一つとの間に、前記液浸空間が形成されている状態で、前記基板を露光することと、
少なくとも一部が前記計測部材と前記第1部材との間の間隙に配置され、前記液体に対して撥液性の上面を有する多孔部材を介して、前記間隙に流入する前記液体の少なくとも一部を回収することと、を実行させるプログラム。 - コンピュータに、液浸空間の液体を介して露光光で基板を露光する露光装置の制御を実行させるプログラムであって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、前記光学部材の射出面側に前記液浸空間をした状態で、前記基板の下面をリリース可能に保持する第1保持部に保持された前記基板、前記第1保持部の周囲の少なくとも一部に配置された計測部材、及び前記計測部材に隣接して設けられた第1部材を移動しながら前記基板を露光することと、
前記液浸空間に対する前記計測部材と前記第1部材との間の間隙の位置、及び前記液浸空間に対する前記間隙の移動条件の一方又は両方に基づいて、前記間隙に複数配置された回収口のうち一部の回収口から、前記間隙に流入する前記液体の少なくとも一部を回収することと、を実行させるプログラム。 - コンピュータに、液体を介して露光光で基板を露光する露光装置の制御を実行させるプログラムであって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、前記基板の下面をリリース可能に保持する第1保持部に保持された前記基板の上面、前記第1保持部の周囲の少なくとも一部に配置された計測部材の上面、及び前記計測部材に隣接して設けられた第1部材の上面の少なくとも一つとの間に、前記液体で液浸空間が形成されている状態で、前記基板を露光することと、
前記計測部材の側面と対向するように配置された回収口から、前記計測部材と前記第1部材との間の間隙に流入する前記液体の少なくとも一部を回収することと、を実行させるプログラム。 - コンピュータに、液体を介して露光光で基板を露光する露光装置の制御を実行させるプログラムであって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、前記基板の下面をリリース可能に保持する第1保持部に保持された前記基板の上面、前記第1保持部の周囲の少なくとも一部に配置された計測部材の上面、及び前記計測部材に隣接して設けられた第1部材の上面の少なくとも一つとの間に、前記液体で液浸空間が形成されている状態で、前記基板を露光すること、を実行させ、
前記計測部材との間に間隙を形成する前記第1部材の側面は、前記計測部材の中心から第1距離に位置し、前記計測部材の側面が対向可能な第1領域と、前記第1領域の隣に配置され、前記計測部材の中心から前記第1距離よりも長い第2距離に位置する第2領域と、を含むプログラム。 - コンピュータに、液体を介して露光光で基板を露光する露光装置の制御を実行させるプログラムであって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、前記基板の下面をリリース可能に保持する第1保持部に保持された前記基板の上面、前記第1保持部の周囲の少なくとも一部に配置された計測部材の上面、及び前記計測部材に隣接して設けられた第1部材の上面の少なくとも一つとの間に、前記液体で液浸空間が形成されている状態で、前記基板を露光すること、を実行させ、
前記第1部材の内面は、第1内面と、前記第1内面の上方に配置され、前記計測部材の側面の少なくとも一部が対向し、下端が前記第1内面と結ばれ、上端が前記第1部材の上面と結ばれる第2内面と、を含み、
前記第1内面と前記第2内面とは、非平行であり、前記第1部材の上面の法線方向に関して、前記第2内面の寸法は、前記第1内面の寸法よりも大きく、
少なくとも前記第2内面が、前記計測部材の中心に対して外側に向かって上方に傾斜するプログラム。 - コンピュータに、光学部材の射出面側に形成される液浸空間の液体を介して露光光を基板の上面に照射する露光装置の制御を実行させるプログラムであって、
第1上面と、該第1上面の外縁の一部を規定する第1エッジ部とを有する第1部材を、前記第1上面の少なくとも一部が前記液浸空間と接触するように前記光学部材の下方で動かすことと、
第2上面と、該第2上面の外縁の一部を規定する第2エッジ部とを有する第2部材を、前記光学部材の下方で動かすことと、を実行させ、
前記第1エッジ部及び前記第2エッジ部は、所定方向に延びており、
前記第1エッジ部と前記第2エッジ部との間には、間隙が形成され、
前記第1エッジ部には、前記所定方向に沿って複数の凸部が形成されているプログラム。 - 請求項96〜108のいずれか一項に記載のプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
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KR102099114B1 (ko) * | 2018-04-16 | 2020-04-10 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 방법 및 기판 처리 장치 |
CN113131711A (zh) * | 2021-03-23 | 2021-07-16 | 江西展耀微电子有限公司 | Vcm弹片及其制作方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2004112108A1 (ja) * | 2003-06-13 | 2006-07-27 | 株式会社ニコン | 露光方法、基板ステージ、露光装置、及びデバイス製造方法 |
JP2006202825A (ja) * | 2005-01-18 | 2006-08-03 | Jsr Corp | 液浸型露光装置 |
JPWO2005057636A1 (ja) * | 2003-12-15 | 2007-12-13 | 株式会社ニコン | ステージ装置、露光装置、及び露光方法 |
JP2010040702A (ja) * | 2008-08-04 | 2010-02-18 | Nikon Corp | ステージ装置、露光装置、及びデバイス製造方法 |
JP2010219525A (ja) * | 2009-03-13 | 2010-09-30 | Asml Netherlands Bv | 基板テーブル、液浸リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 |
Family Cites Families (27)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JP3626504B2 (ja) | 1997-03-10 | 2005-03-09 | アーエスエム リソグラフィ ベスローテン フェンノートシャップ | 2個の物品ホルダを有する位置決め装置 |
US6897963B1 (en) | 1997-12-18 | 2005-05-24 | Nikon Corporation | Stage device and exposure apparatus |
US6208407B1 (en) | 1997-12-22 | 2001-03-27 | Asm Lithography B.V. | Method and apparatus for repetitively projecting a mask pattern on a substrate, using a time-saving height measurement |
WO2001035168A1 (en) | 1999-11-10 | 2001-05-17 | Massachusetts Institute Of Technology | Interference lithography utilizing phase-locked scanning beams |
US6452292B1 (en) | 2000-06-26 | 2002-09-17 | Nikon Corporation | Planar motor with linear coil arrays |
WO2002069049A2 (en) | 2001-02-27 | 2002-09-06 | Asml Us, Inc. | Simultaneous imaging of two reticles |
TW529172B (en) | 2001-07-24 | 2003-04-21 | Asml Netherlands Bv | Imaging apparatus |
EP1532489A2 (en) | 2002-08-23 | 2005-05-25 | Nikon Corporation | Projection optical system and method for photolithography and exposure apparatus and method using same |
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AU2003289236A1 (en) | 2002-12-10 | 2004-06-30 | Nikon Corporation | Exposure apparatus and method for manufacturing device |
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US7589822B2 (en) | 2004-02-02 | 2009-09-15 | Nikon Corporation | Stage drive method and stage unit, exposure apparatus, and device manufacturing method |
CN1965389B (zh) * | 2004-06-09 | 2011-08-10 | 尼康股份有限公司 | 基板保持装置、具备其之曝光装置及方法、元件制造方法 |
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US20070132976A1 (en) | 2005-03-31 | 2007-06-14 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, exposure method, and method for producing device |
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US20080043211A1 (en) | 2006-08-21 | 2008-02-21 | Nikon Corporation | Apparatus and methods for recovering fluid in immersion lithography |
JP2008078623A (ja) * | 2006-08-25 | 2008-04-03 | Canon Inc | 露光装置及びデバイス製造方法 |
US20080100812A1 (en) | 2006-10-26 | 2008-05-01 | Nikon Corporation | Immersion lithography system and method having a wafer chuck made of a porous material |
JP2009260264A (ja) * | 2008-03-24 | 2009-11-05 | Canon Inc | 露光装置およびデバイス製造方法 |
JP2010140958A (ja) * | 2008-12-09 | 2010-06-24 | Canon Inc | 露光装置及びデバイス製造方法 |
US9329496B2 (en) | 2011-07-21 | 2016-05-03 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, exposure method, method of manufacturing device, program, and storage medium |
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2015
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-
2016
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPWO2004112108A1 (ja) * | 2003-06-13 | 2006-07-27 | 株式会社ニコン | 露光方法、基板ステージ、露光装置、及びデバイス製造方法 |
JPWO2005057636A1 (ja) * | 2003-12-15 | 2007-12-13 | 株式会社ニコン | ステージ装置、露光装置、及び露光方法 |
JP2006202825A (ja) * | 2005-01-18 | 2006-08-03 | Jsr Corp | 液浸型露光装置 |
JP2010040702A (ja) * | 2008-08-04 | 2010-02-18 | Nikon Corp | ステージ装置、露光装置、及びデバイス製造方法 |
JP2010219525A (ja) * | 2009-03-13 | 2010-09-30 | Asml Netherlands Bv | 基板テーブル、液浸リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 |
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