JP6171293B2 - 露光装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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第1実施形態について説明する。図1は、第1実施形態に係る露光装置EXの一例を示す概略構成図である。本実施形態の露光装置EXは、液体LQを介して露光光ELで基板Pを露光する液浸露光装置である。本実施形態においては、露光光ELの光路の少なくとも一部が液体LQで満たされるように液浸空間LSが形成される。液浸空間とは、液体で満たされた部分(空間、領域)をいう。基板Pは、液浸空間LSの液体LQを介して露光光ELで露光される。本実施形態においては、液体LQとして、水(純水)を用いる。
具体的には、制御装置8は以下に示すような方法で間隙Gaにおける液体の量の変動を減らす。
流体吸引装置26の作動により、間隙Gaにおける液体を吸引して回収するとともに回収した液体の量を第1センサーで検出し、第1センサーで検出した液体の量が、予め設定した範囲から外れた場合に、第1センサーで検出した液体の量が設定した範囲内となる量を液体供給装置50により供給させる。第1センサーとしては、例えば上述した流体吸引装置26に設けられる流量計が例示できる。この場合、制御装置8は、流体吸引装置26の動作と液体供給装置50の動作とを同期制御して、間隙Gaにおける液体のうち、例えば液体供給装置50からの液体の量が、液浸空間LSから間隙Gaへ流入する液体の量よりも相対的に多くすることにより、基板Pの表面Paを経て間隙Gaに流入する液体供給装置18からの液体に含まれる異物等の悪影響を抑制できる。
流体吸引装置26の作動により、間隙Gaにおける液体を吸引して回収するとともに回収した液体の温度を第2センサーで検出し、第2センサーで検出した液体の温度が、予め設定した範囲から外れた場合に、間隙Gaにおける液体の量が変動して基板ステージ2の温度変動が生じた可能性があるため、第2センサーで検出した液体の温度が設定した範囲内となる量を液体供給装置50により供給させる。この場合についても、制御装置8は、流体吸引装置26の動作と液体供給装置50の動作とを同期制御して、間隙Gaにおける液体のうち、液体供給装置50からの液体の量が、液浸空間LSから間隙Gaへ流入する液体の量よりも相対的に多くすることにより、基板Pの表面Paを経て間隙Gaに流入する液体供給装置18からの液体に含まれる異物等の悪影響を抑制できる。なお、上記各例において、流体吸引装置26による液体回収(吸引)量が一定となるのであれば、必ずしも液体供給装置50からの液体の量を、液浸空間LSから間隙Gaに流入する液体の量よりも相対的に多くしなくともよい。
温度センサTS1、TS2の少なくとも一方の計測結果が予め設定した範囲から外れた場合には、液浸空間LSから間隙Gaに流入する液体の量が変動して基板ステージ2の温度変動が生じたと推定できる。よって、制御装置8は、温度センサTS1、TS2で計測される温度が設定した範囲内となるように、液体供給装置50により供給口51aから空間部23へ液体を供給させるように制御する。
基板Pの露光条件によっては、例えば、上述した各種センサーを用いない場合でも、液浸空間LSから間隙Ga内に流入する液体の量を推定することが可能である。そのため、露光条件に応じて液体供給装置50から供給する液体の量を調整することも可能である。この種の露光条件としては、例えば、基板Pの形状、基板Pの液体に対する撥液性、基板ステージ2の移動条件等が挙げられる。
次に、露光装置EXの第2実施形態について説明する。
第2実施形態では、液体回収装置21の液体回収量に基づいて、液体供給装置50からの液体供給量を調整する。
これにより、空間部23から流体吸引装置26へ吸引される流体(液体)の量を調整することができ、上述した気化熱の変動を抑制することができる。
なお、このようなエンコーダシステムは、例えば米国特許出願公開第2007/0288121号明細書に開示されている。
Claims (46)
- 液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、
前記射出面に対向可能な物体とギャップを介して配置される部材を有し、前記光学部材下を移動可能なステージと、
前記物体と前記光学部材との間に液体を供給する第1液体供給装置と、
前記ステージに少なくとも一部が配置されて、前記ギャップに液体を供給する第2液体供給装置と、
前記第1液体供給装置から供給された液体を、前記ステージの上方から回収する第1液体回収装置と、を備え、
前記第1液体回収装置で回収された液体の量に基づいて、前記第2液体供給装置が前記ギャップに供給する液体の量を調整する露光装置。 - 液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、
前記射出面に対向可能な物体とギャップを介して配置される部材を有し、前記光学部材下を移動可能なステージと、
前記物体と前記光学部材との間に液体を供給する第1液体供給装置と、
前記第1液体供給装置から供給された液体を、前記ステージの上方から回収する第1液体回収装置と、
前記ステージに少なくとも一部が配置されて、前記ギャップに液体を供給する第2液体供給装置と、
前記ギャップ内の液体を回収する第2液体回収装置と、を備え、
前記ステージの温度に基づいて、前記第2液体供給装置が前記ギャップに供給する液体の量を調整する露光装置。 - 前記第1液体回収装置で回収された液体の量に基づいて、前記第2液体供給装置が前記ギャップに供給する液体の量を調整する
請求項2記載の露光装置。 - 前記基板の露光条件に基づいて、前記第2液体供給装置が前記ギャップに供給する液体の量を調整する
請求項1〜3のいずれか一項記載の露光装置。 - 前記基板の露光条件は、前記基板の形状と前記液体に対する撥液性との少なくともいずれか一方の条件を含む
請求項4記載の露光装置。 - 液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、
前記射出面に対向可能な物体とギャップを介して配置される部材を有し、前記光学部材下を移動可能なステージと、
前記物体と前記光学部材との間に液体を供給する第1液体供給装置と、
前記第1液体供給装置から供給された液体を、前記ステージの上方から回収する第1液体回収装置と、
前記ステージに少なくとも一部が配置されて、前記ギャップに液体を供給する第2液体供給装置と、を備え、
前記基板の露光条件に基づいて、前記第2液体供給装置が前記ギャップに供給する液体の量が調整され、
前記基板の露光条件は、前記基板の形状と前記液体に対する撥液性との少なくともいずれか一方の条件を含む露光装置。 - 前記基板の露光条件は、前記ステージの移動条件を含む
請求項4〜6のいずれか一項記載の露光装置。 - 前記ステージの移動条件は、前記基板上の露光領域の分布に応じて設定される
請求項7記載の露光装置。 - 前記ギャップ内の液体を回収する第2液体回収装置をさらに備える
請求項1,4〜8のいずれか一項記載の露光装置。 - 前記第2液体回収装置が回収した液体の温度を検出する第1のセンサーを備え、
前記第1のセンサーの検出結果に応じて、前記第2液体供給装置が前記ギャップに供給する液体の量を調整する
請求項9記載の露光装置。 - 液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、
前記射出面に対向可能な物体とギャップを介して配置される部材を有し、前記光学部材下を移動可能なステージと、
前記物体と前記光学部材との間に液体を供給する第1液体供給装置と、
前記第1液体供給装置から供給された液体を、前記ステージの上方から回収する第1液体回収装置と、
前記ステージに少なくとも一部が配置されて、前記ギャップに液体を供給する第2液体供給装置と、
前記ギャップ内の液体を回収する第2液体回収装置と、
前記第2液体回収装置が回収した液体の温度を検出する第1のセンサーと、を備え、
前記第1のセンサーの検出結果に応じて、前記第2液体供給装置が前記ギャップに供給する液体の量を調整する露光装置。 - 前記第1のセンサーが検出した液体の温度が予め設定された範囲から外れた場合に、前記第2液体供給装置が前記ギャップに供給する液体の量を調整する
請求項10または11記載の露光装置。 - 前記第2液体回収装置が回収した液体の量を検出する第2のセンサーを備え、
前記第2のセンサーの検出結果に応じて、前記第2液体供給装置が前記ギャップに供給する液体の量を調整する
請求項9〜12のいずれか一項記載の露光装置。 - 前記第2液体供給装置は、前記第2のセンサーが検出した液体の量が予め設定された範囲から外れた場合に、前記第2液体供給装置が前記ギャップに供給する液体の量を調整する
請求項13記載の露光装置。 - 前記第2液体供給装置は、前記第1液体供給装置から供給されて前記ギャップに流入する液体を含む前記ギャップ内の液体の量の変動を減らすように、該ギャップに液体を供給する
請求項1〜14のいずれか一項記載の露光装置。 - 前記第2液体供給装置は、前記第1液体供給装置から供給される液体のうち、前記ギャップに流入する液体の量の変動を相殺するように液体を供給する
請求項1〜15のいずれか一項記載の露光装置。 - 予め設定された数の前記基板を露光するたびに、前記第2液体供給装置が前記ギャップに供給する液体の量を調整する
請求項1〜16のいずれか一項に記載の露光装置。 - 前記第1液体供給装置から供給される液体のうち、前記ギャップに流入することが推定される液体の量に基づいて、前記第2液体供給装置が前記ギャップに供給する液体の量を調整する
請求項1〜17のいずれか一項に記載の露光装置。 - 制御装置をさらに備え、
前記制御装置は、前記第2液体供給装置による前記ギャップへの液体供給量の調整を制御する
請求項1〜18のいずれか一項に記載の露光装置。 - 前記第2液体供給装置は、前記基板の露光の少なくとも一部において前記ギャップに液体を供給する
請求項1〜19のいずれか一項記載の露光装置。 - 前記第2液体供給装置は、前記基板の露光前と露光後との少なくとも一方において前記ギャップに液体を供給する
請求項1〜20のいずれか一項に記載の露光装置。 - 前記ステージは、前記物体を保持する第1保持部と、前記部材を保持する第2保持部とを備え、
前記ギャップは、前記第1保持部および前記第2保持部との間の空間の少なくとも一部を含む
請求項1〜21のいずれか一項に記載の露光装置。 - 前記ステージは、前記ギャップに配置された多孔部材を備え、
前記第2液体供給装置により供給された液体が前記多孔部材と接触する
請求項22記載の露光装置。 - 前記第2液体供給装置は、前記ギャップに臨んで前記ステージに設けられた供給口を介して、前記ギャップに液体を供給する
請求項1〜23のいずれか一項に記載の露光装置。 - 前記部材は、前記ステージが前記基板を保持する位置を規定する規定部材を含む
請求項1〜24のいずれか一項記載の露光装置。 - 前記物体は、前記ステージが前記基板を保持する位置を規定する規定部材を含む
請求項1〜24のいずれか一項記載の露光装置。 - 前記部材は、前記ステージを計測するための計測部材を含む
請求項25または26記載の露光装置。 - 前記部材は、前記露光光を計測するための計測部材を含む
請求項25〜27のいずれか一項記載の露光装置。 - 液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、
前記液体を供給可能な第1液体供給口を有する第1液体供給装置と、
前記基板を保持する保持部と、前記保持部に保持された前記基板との間に間隙を形成する部材と、前記第1液体供給口から供給された液体が前記間隙を介して流入可能な空間部と、を有し、前記第1液体供給口および前記光学部材の下で移動可能なステージと、
前記第1液体供給口から供給された液体を、前記ステージの上方から回収する第1液体回収装置と、
前記ステージに配置された第2液体供給口を有する第2液体供給装置と、
前記ステージの前記空間部から液体を回収する第2液体回収装置と、を備え、
前記部材は、前記保持部に保持される基板の表面とほぼ同一平面となるように配置される上面を有し、
前記第2液体供給装置は、前記第2液体供給口から前記空間部に液体を供給可能であり、
前記ステージの温度に基づいて、前記第2液体供給装置が前記空間部に供給する液体の量を調整する露光装置。 - 前記第1液体回収装置で回収された液体の量に基づいて、前記第2液体供給装置が前記空間部に供給する液体の量を調整する
請求項29記載の露光装置。 - 液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、
前記液体を供給可能な第1液体供給口を有する第1液体供給装置と、
前記基板を保持する保持部と、前記保持部に保持された前記基板との間に間隙を形成する部材と、前記第1液体供給口から供給された液体が前記間隙を介して流入可能な空間部と、を有し、前記第1液体供給口および前記光学部材の下で移動可能なステージと、
前記第1液体供給口から供給された液体を、前記ステージの上方から回収する第1液体回収装置と、
前記ステージに配置された第2液体供給口を有する第2液体供給装置と、を備え、
前記部材は、前記保持部に保持される基板の表面とほぼ同一平面となるように配置される上面を有し、
前記第2液体供給装置は、前記第2液体供給口から前記空間部に液体を供給可能であり、
前記第1液体回収装置で回収された液体の量に基づいて、前記第2液体供給装置が前記空間部に供給する液体の量を調整する露光装置。 - 前記基板の露光条件に基づいて、前記第2液体供給装置が前記空間部に供給する液体の量を調整する
請求項29〜31のいずれか一項記載の露光装置。 - 前記基板の露光条件は、前記基板の形状と前記液体に対する撥液性との少なくともいずれか一方の条件を含む
請求項32記載の露光装置。 - 液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、
前記液体を供給可能な第1液体供給口を有する第1液体供給装置と、
前記基板を保持する保持部と、前記保持部に保持された前記基板との間に間隙を形成する部材と、前記第1液体供給口から供給された液体が前記間隙を介して流入可能な空間部と、を有し、前記第1液体供給口および前記光学部材の下で移動可能なステージと、
前記第1液体供給口から供給された液体を、前記ステージの上方から回収する第1液体回収装置と、
前記ステージに配置された第2液体供給口を有する第2液体供給装置と、を備え、
前記部材は、前記保持部に保持される基板の表面とほぼ同一平面となるように配置される上面を有し、
前記第2液体供給装置は、前記第2液体供給口から前記空間部に液体を供給可能であり、
前記基板の露光条件に基づいて、前記第2液体供給装置が前記空間部に供給する液体の量が調整され、
前記基板の露光条件は、前記基板の形状と前記液体に対する撥液性との少なくともいずれか一方の条件を含む露光装置。 - 前記基板の露光条件は、前記ステージの移動条件を含む
請求項32〜34のいずれか一項記載の露光装置。 - 前記ステージの移動条件は、前記基板上の露光領域の分布に応じて設定される
請求項35記載の露光装置。 - 前記ステージの前記空間部から液体を回収する第2液体回収装置をさらに備えた
請求項31〜36のいずれか一項に記載の露光装置。 - 前記第2液体回収装置が回収した液体の温度を検出する第1のセンサーを備え、
前記第1のセンサーの検出結果に応じて、前記第2液体供給装置が前記空間部に供給する液体の量を調整する
請求項37記載の露光装置。 - 液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、
前記液体を供給可能な第1液体供給口を有する第1液体供給装置と、
前記基板を保持する保持部と、前記保持部に保持された前記基板との間に間隙を形成する部材と、前記第1液体供給口から供給された液体が前記間隙を介して流入可能な空間部と、を有し、前記第1液体供給口および前記光学部材の下で移動可能なステージと、
前記第1液体供給装置から供給された液体を、前記ステージの上方から回収する第1液体回収装置と、
前記ステージに配置された第2液体供給口を有する第2液体供給装置と、
前記ステージの前記空間部から液体を回収する第2液体回収装置と、
前記第2液体回収装置が回収した液体の温度を検出する第1のセンサーと、を備え、
前記部材は、前記保持部に保持される基板の表面とほぼ同一平面となるように配置される上面を有し、
前記第2液体供給装置は、前記第2液体供給口から前記空間部に液体を供給可能であり、
前記第1のセンサーの検出結果に応じて、前記第2液体供給装置が前記空間部に供給する液体の量を調整する露光装置。 - 前記第2液体回収装置が回収した液体の量を検出する第2のセンサーを備え、
前記第2のセンサーの検出結果に応じて、前記第2液体供給装置が前記空間部に供給する液体の量を調整する
請求項37〜39のいずれか一項記載の露光装置。 - 前記第1液体供給装置から供給される液体のうち、前記空間部に流入することが推定される液体の量に基づいて、前記第2液体供給装置が前記空間部に供給する液体の量を調整する
請求項29〜40のいずれか一項に記載の露光装置。 - 前記ステージに配置された温度センサをさらに備え、
前記温度センサの検出結果に基づいて前記第2液体供給装置が前記空間部に供給する液体の量を調整する請求項29〜41のいずれか一項記載の露光装置。 - 液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、
前記液体を供給可能な第1液体供給口を有する第1液体供給装置と、
前記基板を保持する保持部と、前記保持部に保持された前記基板との間に間隙を形成する部材と、前記第1液体供給口から供給された液体が前記間隙を介して流入可能な空間部と、を有し、前記第1液体供給口および前記光学部材の下で移動可能なステージと、
前記ステージに配置された温度センサと、
前記第1液体供給口から供給された液体を、前記ステージの上方から回収する第1液体回収装置と、
前記ステージに配置された第2液体供給口を有する第2液体供給装置と、
前記ステージの前記空間部から液体を回収する第2液体回収装置と、を備え、
前記部材は、前記保持部に保持される基板の表面とほぼ同一平面となるように配置される上面を有し、
前記第2液体供給装置は、前記第2液体供給口から前記空間部に液体を供給可能であり、
前記温度センサの検出結果に基づいて、前記第2液体供給装置が前記空間部に供給する液体の量を調整する露光装置。 - 前記温度センサは、前記保持部の温度を計測する請求項42または43記載の露光装置。
- 制御装置をさらに備え、
前記制御装置は、前記第2液体供給装置による前記空間部への液体供給量の調整を制御する
請求項29〜44のいずれか一項に記載の露光装置。 - 請求項1から45のいずれか一項に記載の露光装置を用いて基板を露光することと、
露光された前記基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
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