JPWO2013008645A1 - 成形材料、塗料組成物および成形材料の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
1)支持基材の少なくとも1方の面に層を有する成形材料であって、
前記層が、フッ素含有化合物を含み、JIS Z8741(1997年版)で規定する60度鏡面光沢度が60%以上であり、
原子間力顕微鏡(AFM)によって観察される2乗平均粗さ(Rq)を超えるピーク数が、25μm2あたり500個以上1500個以下である、表面特性を有する成形材料。
2)支持基材の少なくとも1方の面に層を有する成形材料であって、
前記層が、JIS Z8741(1997年版)で規定する60度鏡面光沢度が60%以上であり、以下の模擬指紋を付着した前後のJIS Z8730(2009年版)およびJIS Z8722(2009年版)で規定するΔE* ab(di:8°)Sb10W10が0.4以下、かつ、ΔE* ab(de:8°)Sb10W10が4以下である、表面特性を有する成形材料。
3)前記層表面への前記模擬指紋の付着量が0.1g/m2以下である前記2)の成形材料。
4)前記層表面上の前記模擬指紋を構成する油滴の、面積基準頻度分布から算出したメジアン径が80μm以下である前記2)または3)の成形材料。
5)前記層の、原子間力顕微鏡(AFM)によって観察される2乗平均粗さを超えるピーク数が25μm2あたり500個以上1500個以下である、前記2)から4)のいずれかの成形材料。
6)前記層が、フルオロアルキル基、フルオロオキシアルキル基、フルオロアルケニル基、フルオロアルカンジイル基およびフルオロオキシアルカンジイル基からなる群より選ばれる少なくとも一つを含む部位と反応性部位を有する化合物であるフッ素化合物Aと、バインダー成分と、数平均粒子径が5nm以上250nm以下の粒子とを、主成分とする、前記1)から5)のいずれかの成形材料。
7)前記フッ素化合物Aのハンセンの溶解度パラメーターの分散項をσd、極性項をσp、水素結合項をσhとし、前記バインダー成分のハンセン溶解度パラメーターの分散項をσBd、極性項をσBp、水素結合項をσBhとしたとき、以下の条件を満たす前記6)の成形材料。
条件1:
R=[(σd−σBd)2+(σp−σBp)2+(σh−σBh)2]1/2
により定義されるパラメーターRが3(MPa)1/2以上、12(MPa)1/2以下の値を有する。
条件2:
σd<σBd
8)前記粒子が数珠状に連結したおよび/または分岐したシリカである、前記6)または7)の成形材料。
9)前記フッ素化合物Aが含フッ素デンドリマーである、前記6)から8)のいずれかの成形材料。
10)前記フッ素化合物Aがフルオロポリエーテル部位を有する化合物である前記6)から8)のいずれかの成形材料。
11)フルオロアルキル基、フルオロオキシアルキル基、フルオロアルケニル基、フルオロアルカンジイル基およびフルオロオキシアルカンジイル基からなる群より選ばれる少なくとも一つを含む部位と反応性部位を有する化合物であるフッ素化合物Aと、バインダー原料と、数平均粒子径が5nm以上250nm以下の粒子とを含む塗料組成物。
12)前記フッ素化合物Aのハンセンの溶解度パラメーターの分散項をσd、極性項をσp、水素結合項をσhとし、前記バインダー原料のハンセン溶解度パラメーターの分散項をσBd、極性項をσBp、水素結合項をσBhとしたとき、以下の条件を満たす前記11)の塗料組成物。
条件1:
R=[(σd−σBd)2+(σp−σBp)2+(σh−σBh)2]1/2
により定義されるパラメーターRが3(MPa)1/2以上、12(MPa)1/2以下の値を有する。
条件2:
σd<σBd
13)前記粒子が数珠状に連結したおよび/または分岐したシリカである前記11)または12)の塗料組成物。
14)前記フッ素化合物Aが含フッ素デンドリマーである前記11)から13)のいずれかの塗料組成物。
15)前記フッ素化合物Aがフルオロポリエーテル構造を有する前記11)から13)のいずれかの塗料組成物。
16)前記11)から15)のいずれかの塗料組成物を塗工する塗工工程と乾燥工程を経て、支持基材の少なくとも一方の面に層を形成する成形材料の製造方法。
17)前記乾燥工程における加熱方式に輻射伝熱方式を含む、前記16)の成形材料の製造方法
R=[(σd−σBd)2+(σp−σBp)2+(σh−σBh)2]1/2により定義されるパラメーターRが3(MPa)1/2以上12(MPa)1/2以下の値を有することが好ましく、3(MPa)1/2以上8(MPa)1/2以下の値を有することがより好ましく、4(MPa)1/2以上、6(MPa)1/2以下の値を有することが特に好ましい。このパラメーターRは、ハンセンの溶解度パラメーターの分散項、極性項、および水素結合項を軸とした3次元座標軸における、フッ素化合物Aの座標点(σd、σp、σh)とバインダー成分の座標点(σBd、σBp、σBh)の距離に対応する。そして、この距離が遠いほど両者の混合は困難となり、近いほど両者は容易に混ざり合う。従って、パラメーターRが12(MPa)1/2を超える場合にはフッ素化合物Aとバインダー成分が十分に混ざり合わず、透明性や光沢感が低下する場合があり、一方パラメーターRが3(MPa)1/2に満たない場合にはフッ素化合物Aとバインダー成分が完全に混ざり合い、層の形成が困難となり、指紋付着量が増加する場合がある。
σd<σBd
の関係を満たすことが望ましい。前述のフッ素化合物Aの膜表面への分離、層形成はファンデルワールス相互作用による効果であり、すなわち分散項に由来すると考えられる。従って、上記条件を満たさない場合には、前記模擬指紋の付着量を一定値以下にする層を最表面に構成することが困難となり、指紋付着量が増加する場合がある。
本発明の成形材料の形状は本発明の特性を満たす層をその表面に有していれば平面状(フィルム、シート、プレート)、3次元形状(成形体)のいずれであってもよい。ここで、本発明における「層」とは、前記成形材料の表面から厚み方向に向かい、隣接する部位とは元素組成、含有物(粒子等)の形状、物理特性が不連続な境界面を有することにより区別できる層をいい、有限の厚さを有する部位を指す。より具体的には、前記成形材料を表面から厚み方向に各種組成/元素分析装置(IR、XPS,XRF、EDAX、SIMS等)、電子顕微鏡(透過型、走査型)または光学顕微鏡にて断面観察した際、前記不連続な境界面により区別され、有限の厚さを有する部位を指す。
本発明の塗料組成物は、塗工工程、乾燥工程、および硬化工程からなる一般的な塗工プロセスにより前記「層」を成形材料表面に形成可能な常温にて液状の組成物を指し、ハンセンの溶解度パラメーターの分散項、極性項、および水素結合項を軸とした3次元座標軸における距離に相当するパラメーターRが3(MPa)1/2以上12(MPa)1/2以下の値を有し、かつσd<σBdを満たすフッ素化合物Aとバインダー原料、および数平均粒子系が250nm以下の粒子を含んでいることが好ましく、このほかに溶媒や、光重合開始剤、硬化剤、触媒などの各種添加剤を含んでもよい。フッ素化合物A、バインダー原料、および粒子の詳細については後述する。
フッ素化合物Aとは、フルオロアルキル基、フルオロオキシアルキル基、フルオロアルケニル基、フルオロアルカンジイル基およびフルオロオキシアルカンジイル基からなる群より選ばれる少なくとも一つを含む部位と反応性部位を有する化合物を指す。
Rf1−R2−D1 ・・・一般式(1)
(Rf1はフルオロアルキル基、フルオロオキシアルキル基、フルオロアルケニル基、フルオロアルカンジイル基、フルオロオキシアルカンジイル基を含む部位を、R2はアルカンジイル基、アルカントリイル基、およびそれらから導出されるエステル構造、ウレタン構造、エーテル構造、トリアジン構造を、D1は反応性部位を示す。
CFn1H(3−n1)−(CFn2H(2−n2))kO−
−(CFn3H(2−n3))mO−
・・・一般式(2)
−(CFn4H(2−n4))pO−(CFn5H(2−n5))sO−
・・・一般式(3)
ここで、n1は1〜3の整数を、n2〜n5は1または2の整数を、k、m、p、sは0以上の整数を指す。好ましくはn1は2以上、n2〜n5は1または2の整数であり、より好ましくはn1は3、n2とn4は2、n3とn5は1または2の整数である。
前記成形材料は「バインダー成分」を含む層を有することが好ましく、前記塗料組成物は、「バインダー原料」を含むことが好ましい。
一方、多官能アクリレートオリゴマーの例としては、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレートなどが挙げられるが、本発明の成形材料の表面形状を得るためにはウレタンアクリレートが好ましい。さらに粒子の分散の観点から、ウレタンアクリレートのうちポリオール骨格に脂環式炭化水素(シクロヘキシル、トリシクロデカニル、イソボニル骨格)を有し、かつ1分子中に9(より好ましくは12)個以上の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する単位構造からなるものが特に好ましい。
R=[(σd−σBd)2+(σp−σBp)2+(σh−σBh)2]1/2
により定義されるパラメーターRが3(MPa)1/2以上12(MPa)1/2以下の値を有することが好ましく、3(MPa)1/2以上8(MPa)1/2以下の値を有することがより好ましく、4(MPa)1/2以上6(MPa)1/2以下の値を有することが特に好ましい。パラメーターRが12(MPa)1/2を超える場合には透明性や光沢感が低下する場合がある。一方パラメーターRが3(MPa)1/2に満たない場合、またはσd<σBdを満たさない場合には指紋付着量が増加する場合がある。
本発明の成形材料が有する層、および塗料組成物は粒子を含むことが好ましい。ここで、粒子とは無機粒子、有機粒子のいずれでもよいが、耐久性の観点から無機粒子が好ましい。
本発明の塗料組成物は溶媒を含んでもよい。溶媒の種類数としては1種類以上20種類以下が好ましく、より好ましくは1種類以上10種類以下、さらに好ましくは1種類以上6種類以下である。ここで「溶媒」とは、塗工工程後の乾燥工程にてほぼ全量を蒸発させることが可能な常温、常圧で液体である物質を指す。
本発明の塗料組成物としては、更に光重合開始剤や硬化剤や触媒を含むことが好ましい。
本発明の塗料組成物は、フッ素化合物A、バインダー原料、粒子を含むが、塗料組成物中のそれぞれの質量関係について説明する。
本発明の成形材料は、支持基材上に前記「層」が設けられたものである。かかる支持基材としては平面状であるものが好ましい。支持基材の材質には、特に限定はなく、ガラス板、プラスチックフィルム、プラスチックシート、プラスチックレンズ、金属板のいずれでもよい。
本発明の支持基材の少なくとも一方の面に前記「層」を形成する方法は、塗料組成物を塗工する塗工工程と乾燥工程を有する塗工プロセスを含む方法であることがより好ましい。
本発明の塗料組成物は、フッ素化合物A、粒子、バインダー原料に加えて溶媒や他添加物(開始剤、硬化剤、触媒等)を混合して得られる。その製造方法は前記成分の処方量を質量、または体積で計量し、これらを攪拌により混合することにより得られる。この際、加えて減圧や逆浸透膜による脱溶媒処理、モレキュレーシーブによる脱水処理、イオン交換樹脂によるイオン交換処理などを行ってもよい。
固形分濃度 =(W3−W1)/(W2−W1)×100
得られた塗料組成物は、塗工する前に適当なろ過処理を行ってもよい。この適当なろ過処理とは、溶媒、粒子の表面の極性状態に合わせたフィルター材料、フィルター目開きを選択し、粒子分散物の分散状態を破壊しないせん断速度、フィルター構造に合わせた圧力条件にてろ過することがより好ましい。
[フッ素化合物A1]
フッ素化合物A1として、含フッ素デンドリマーを使用した。その合成法は以下の通りである。
フッ素化合物A2として、含フッ素デンドリマーを使用した。その合成法は以下の通りである。
フッ素化合物A3として含フッ素デンドリマー(FA−200、日産化学工業株式会社製)を使用した。
フッ素化合物A4としてフルオロポリエーテル部位を含む化合物
CF3OC2F4OCF2CH2OCOCH=CH2を使用した。
フッ素化合物A5としてフルオロポリエーテル部位を含む化合物
C4F9O(C2F4O)2CF2CH2OCOCH=CH2を使用した。
フッ素化合物A6としてフルオロポリエーテル部位を含む化合物
C6F13OC2F4OCF2CH2OCOCH=CH2を使用した。
フッ素化合物A7としてフルオロポリエーテル部位を含む化合物(RS−75、DIC株式会社製)を使用した。
フッ素化合物A8としてフルオロアルキル部位を含む化合物(トリアクリロイル−ヘプタデカフルオロノネニル−ペンタエリスリトール、共栄社化学株式会社製)を使用した。
フッ素化合物A9としてフルオロアルキル部位を含む化合物(パーフルオロオクチルエチルアクリレート、ダイキン工業株式会社製)を使用した。
[塗料組成物1]以下の材料を混合し塗料組成物1を得た。
フッ素化合物A: フッ素化合物A1 0.04質量部
粒子: 連鎖状オルガノシリカゾル MEK−ST−UP
(日産化学工業株式会社製 固形分濃度20%)
40 質量部
バインダー: KAYARAD DPHA(日本化薬株式会社)
32 質量部
溶媒: MIBK 27.1質量部
光重合開始剤: 1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
(イルガキュア184 BASF社製) 1 質量部
[塗料組成物2〜9]表1に示すように前記塗料組成物1に対して、フッ素化合物A1を前記フッ素化合物A2〜A9に置き換えた以外は同様にして塗料組成物2〜9を得た。
フッ素化合物A: フッ素化合物A7 0.04質量部
粒子: 連鎖状オルガノシリカゾル MEK−ST−UP
(日産化学工業株式会社製 固形分濃度20%)
40 質量部
バインダー: ウレタンアクリレート KRM8655
(ダイセル・サイテック株式会社) 32 質量部
溶媒: MIBK 27.1質量部
光重合開始剤: 1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
(イルガキュア184 BASF社製) 1 質量部
[塗料組成物11]以下の材料を混合し塗料組成物11を得た。
フッ素化合物A: フッ素化合物A3 0.03質量部
粒子: オルガノアルミナゾル GA−10P
(日産化学工業株式会社製 固形分濃度10%)
59.9質量部
バインダー: KAYARAD DPHA(日本化薬株式会社)
24 質量部
溶媒: MIBK 15.3質量部
光重合開始剤: 1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
(イルガキュア184 BASF社製) 0.7 質量部
[塗料組成物12]以下の材料を混合し塗料組成物12を得た。
フッ素化合物A: フッ素化合物A3 0.04質量部
粒子: 連鎖状オルガノシリカゾル MEK−ST−UP
(日産化学工業株式会社製 固形分濃度20%)
40 質量部
バインダー: KAYARAD PET30(日本化薬株式会社)
32 質量部
溶媒: MIBK 27.1質量部
光重合開始剤: 1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
(イルガキュア184 BASF社製) 1 質量部
[塗料組成物13]以下の材料を混合し塗料組成物13を得た。
フッ素化合物A: フッ素化合物A3 0.04質量部
粒子: オルガノシリカゾル MEK−ST−UP
(日産化学工業株式会社製 固形分濃度20%)
40 質量部
バインダー: ウレタンアクリレート KRM8655
(ダイセル・サイテック株式会社) 32 質量部
溶媒: MIBK 27.1質量部
光重合開始剤: 1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
(イルガキュア184 BASF社製) 1 質量部
[塗料組成物14]以下の材料を混合し塗料組成物14を得た。
フッ素化合物A: フッ素化合物A3 0.04質量部
粒子: オルガノシリカゾル IPA−ST−ZL
(日産化学工業株式会社製 固形分濃度30%)
8 質量部
バインダー: KAYARAD DPHA(日本化薬株式会社)
32 質量部
溶媒: MIBK 40 質量部
光重合開始剤: 1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
(イルガキュア184 BASF社製) 1 質量部
[塗料組成物15]以下の材料を混合し塗料組成物15を得た。
フッ素化合物A: フッ素化合物A3 0.04質量部
粒子: オルガノシリカゾル IPA−ST−L
(日産化学工業株式会社製 固形分濃度30%)
8 質量部
バインダー: KAYARAD DPHA(日本化薬株式会社)
32 質量部
溶媒: MIBK 40 質量部
光重合開始剤: 1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
(イルガキュア184 BASF社製) 1 質量部
[塗料組成物16]以下の材料を混合し塗料組成物16を得た。
フッ素化合物A: フッ素化合物A3 0.04質量部
粒子: オルガノシリカゾル MIBK−SD−L
(日産化学工業株式会社製 固形分濃度30%)
8 質量部
バインダー: KAYARAD DPHA(日本化薬株式会社)
32 質量部
溶媒: MIBK 40 質量部
光重合開始剤 1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
(イルガキュア184 BASF社製) 1 質量部
[塗料組成物17]以下の材料を混合し塗料組成物17を得た。
フッ素化合物A: フッ素化合物A3 0.04質量部
粒子: オルガノシリカゾル MIBK−SD
(日産化学工業株式会社 固形分濃度30%)8 質量部
バインダー: KAYARAD DPHA(日本化薬株式会社)
32 質量部
溶媒: MIBK 40 質量部
光重合開始剤: 1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
(イルガキュア184 BASF社製) 1 質量部
[塗料組成物18]以下の材料を混合し塗料組成物18を得た。
フッ素化合物A: フッ素化合物A3 0.03質量部
粒子: オルガノシリカゾル OSCAL
(日揮触媒化成株式会社製固形分濃度5%)59.9質量部
バインダー: KAYARAD DPHA(日本化薬株式会社)
27 質量部
溶媒: MIBK 12.3質量部
光重合開始剤: 1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
(イルガキュア184 BASF社製) 0.81質量部
[塗料組成物19]以下の材料を混合し塗料組成物19を得た。
フッ素化合物A: フッ素化合物A3 0.04質量部
粒子: シリカ粒子 ハイプレシカSP 300nm
(宇部日東化成株式会社 粉末) 4 質量部
バインダー: KAYARAD DPHA(日本化薬株式会社)
36 質量部
溶媒: MIBK 58.9質量部
光重合開始剤: 1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
(イルガキュア184 BASF社製) 1.1 質量部
[塗料組成物20]以下の材料を混合し塗料組成物20を得た。
フッ素化合物A: フッ素化合物A3 0.04質量部
粒子: 連鎖状オルガノシリカゾル MEK−ST−UP
(日産化学工業株式会社 固形分濃度20%)
10 質量部
バインダー : KAYARAD DPHA(日本化薬株式会社)
38 質量部
溶媒: MIBK 50.9質量部
光重合開始剤: 1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
(イルガキュア184 BASF社製) 1.1 質量部
[塗料組成物21]以下の材料を混合し塗料組成物21を得た。
フッ素化合物A: フッ素化合物A3 0.03質量部
粒子: 連鎖状オルガノシリカゾル MEK−ST−UP
(日産化学工業株式会社 固形分濃度30%)
80 質量部
バインダー: KAYARAD DPHA(日本化薬株式会社)
15 質量部
溶媒: MIBK 9.6 質量部
光重合開始剤: 1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
(イルガキュア184 BASF社製) 0.4 質量部
[塗料組成物22]以下の材料を混合し塗料組成物22を得た。
粒子: 連鎖状オルガノシリカゾル MEK−ST−UP
(日産化学工業株式会社 固形分濃度20%)
40 質量部
バインダー: KAYARAD DPHA(日本化薬株式会社)
32 質量部
溶媒: MIBK 27 質量部
光重合開始剤: 1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
(イルガキュア184 BASF社製) 1 質量部
[塗料組成物23]以下の材料を混合し塗料組成物23を得た。
フッ素化合物A: フッ素化合物A3 0.04質量部
バインダー: KAYARAD DPHA(日本化薬株式会社)
40 質量部
溶媒: MIBK 58.8質量部
光重合開始剤: 1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
(イルガキュア184 BASF社製) 1.2 質量部
[塗料組成物24]以下の材料を混合し塗料組成物24を得た。
フッ素化合物A: フッ素化合物A3 0.04質量部
粒子: 連鎖状オルガノシリカゾル MEK−ST−UP
(日産化学工業株式会社 固形分濃度20%)
99.1質量部
[塗料組成物25]以下の材料を混合し塗料組成物25を得た。
フッ素化合物A: フッ素化合物A3 0.04質量部
粒子: シリカ粒子 ハイプレシカSP 600nm
(宇部日東化成株式会社 粉末) 4 質量部
バインダー: KAYARAD DPHA(日本化薬株式会社)
36 質量部
溶媒: MIBK 58.9質量部
光重合開始剤: 1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
(イルガキュア184 BASF社製) 1.1 質量部
[塗料組成物26]以下の材料を混合し塗料組成物26を得た。
フッ素化合物A: フッ素化合物A9 0.04質量部
粒子: オルガノシリカゾル MEK−ST−UP
(日産化学工業株式会社製 固形分濃度20%)
40 質量部
バインダー: “デナコール”アクリレート DA−314
(ナガセケムテックス株式会社) 32 質量部
溶媒: MIBK 27.1質量部
光重合開始剤: 1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
(イルガキュア184 BASF社製) 1 質量部
[塗料組成物27]以下の材料を混合し塗料組成物27を得た。
フッ素化合物A: フッ素化合物A8 0.04質量部
粒子: オルガノシリカゾル MEK−ST−UP
(日産化学工業株式会社製 固形分濃度20%)
40 質量部
バインダー: XAFF−701
(ディーエイチ・マテリアル株式会社) 32 質量部
溶媒: MIBK 27.1質量部
光重合開始剤: 1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
(イルガキュア184 BASF社製) 1 質量部
[塗料組成物28]以下の材料を混合し塗料組成物28を得た。
フッ素化合物A: フッ素化合物A3 0.04質量部
粒子: 連鎖状オルガノシリカゾル MEK−ST−UP
(日産化学工業株式会社製 固形分濃度20%)
40 質量部
バインダー: XAFF−701
(ディーエイチ・マテリアル株式会社) 32 質量部
溶媒: MIBK 27.1質量部
光重合開始剤 : 1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
(イルガキュア184 BASF社製) 1 質量部。
支持基材としてPET樹脂フィルム上に易接着性塗料が塗工されている“ルミラー”U46(東レ(株)製)を用いた。前記塗料組成物1〜23を搬送速度10m/分の条件で、小径グラビアコーターおよび乾燥室前半部に赤外線パネルヒーターを有する連続塗工装置を用い、固形分塗工膜厚が2μmになるようにグラビア線数、およびグラビアロール速度比を調整して塗工した。塗工から乾燥、硬化までの間に液膜にあたる風の条件は以下の通りである。
・第1乾燥
送風温湿度 : 温度:45℃、 相対湿度:10%
風速 : 塗工面側:5m/秒、反塗工面側:5m/秒
風向 : 塗工面側:基材に対して平行、反塗工面側:基材に対して垂直
滞留時間 : 1分間
パネルヒーター設定温度:−(使用しない)
・第2乾燥
送風温湿度 : 温度:100℃、相対湿度:1%
風速 : 塗工面側:5m/秒、反塗工面側:5m/秒
風向 : 塗工面側:基材に対して垂直、反塗工面側:基材に対して垂直
滞留時間 : 1分間
硬化工程
照射出力 600W/cm2 積算光量120mJ/cm2
酸素濃度 0.1体積%
なお、風速、温湿度は熱線式風速計(日本カノマックス株式会社 アネモマスター風速・風量計 MODEL6034)による測定値を使用した。以上の方法により、実施例1〜21、比較例1〜7については赤外線パネルヒーター使用せずに成形材料を作成した。
前記成形材料の作成方法1に対して、塗料組成物4を用い、第1乾燥の条件を以下のように、赤外線パネルヒーターを用いた輻射伝熱を併用する乾燥方法に変更した以外は同様にして、実施例22を作成した。
・第1乾燥
送風温湿度 : 温度:45℃、 相対湿度:10%
風速 : 塗工面側:5m/秒、反塗工面側:5m/秒
風向 : 塗工面側:基材に対して平行、反塗工面側:基材に対して垂直
滞留時間 : 1分間
パネルヒーター設定温度:80℃
[塗料組成物の評価]
[数平均粒子径(一次粒子)]
走査型電子顕微鏡(SEM)にて観察、測定した。観察試料は前記塗料組成物を分散媒(イソプロピルアルコール)に固形分濃度0.5質量%に希釈し、超音波にて分散後、導電テープ上に滴下、乾燥して調製した。数平均粒子径は、1視野あたり一次粒子の集合体としての個数が10個以上50個以下になる倍率にて観察を行い、得られた画像から一次粒子の外接円の直径を求めてこれを等価粒子径とし、観察数を増やし一次粒子100個について測定した値からJIS Z8819−2(2001年版)記載の個数基準算術平均長さ径に基づき、数平均粒子径を求めた。
フッ素化合物Aおよびバインダー成分に、溶解度の異なる15種の溶媒、水、アセトン、 2−ブタノン、シクロペンタノン、イソプロピルアルコール、エタノール、1−オクタノール、トルエン、ヘキサン、酢酸、酢酸ブチル、アニリン、メタンアミド、2−アミノエタノール、および2−ブトキシエタノールを、それぞれ少量ずつ、完全に溶けきるまで添加した。このときの飽和溶液濃度を元に各溶媒への溶解度を6段階(6:不溶、5:質量パーセント濃度5%未満、4:質量パーセント濃度5%以上10%未満、3:質量パーセント濃度10%以上30%未満、2:質量パーセント濃度30%以上50%未満、1:質量パーセント濃度50%以上)に分類した。こうして得られた各溶媒への溶解度の情報を元にHansen Solubility Parameter in Practice(HSPiP)ver.3.1.17(http://www.hansen−solubility.com/index.php?id)によってハンセンの溶解度パラメーターを計算した。
フッ素化合物Aのハンセンの溶解度パラメーターの分散項をσd、極性項をσp、水素結合項をσhとし、バインダー成分のハンセンの溶解度パラメーターの分散項をσBd、極性項をσBp、水素結合項をσBhとしたとき
R=[(σd−σBd)2+(σp−σBp)2+(σh−σBh)2]1/2
をパラメーターRの定義とした。前述の方法で算出されたフッ素化合物Aおよびバインダー成分のハンセンの溶解度パラメーターを用いて計算した。
作製した成形材料について、次に示す性能評価を実施し、得られた結果を表2に示す。特に断りのない場合を除き、測定は各実施例・比較例において一つのサンプルについて場所を変えて3回測定を行い、その平均値を用いた。
成形材料の対象とする面の光沢度は、日本電色工業製 VG7000を用いて、成形材料表面の光沢度をJIS Z8741(1997年版)に準拠した方法で60度鏡面光沢度を測定し、60%以上を合格とした。
反射防止部材に500g/cm2荷重となるスチールウール(#0000)を垂直にあて、1cmの長さを20往復した際に目視される傷の概算本数を記載し、以下のクラス分けを行い3点以上を合格とした。
5点: 0本
4点: 1本以上 5本未満
3点: 5本以上 10本未満
2点: 10本以上 20本未満
1点: 20本以上。
本発明の成形材料への模擬指紋の付着は、1.模擬指紋液の調製、2.模擬指紋シートの作成、3.模擬指紋液の前記模擬指紋シートからシリコーンゴムへの転写、4.模擬指紋の前記シリコーンゴムから成形材料表面への付着からなる。
オレイン酸 14質量部
シリカ(数平均粒子径 2μm) 6質量部
イソプロピルアルコール 80質量部
なお、前記シリカの数平均粒子径は前記シリカ粒子を分散媒(イソプロピルアルコール)に固形分濃度5質量%にて混合、超音波にて分散後、導電テープ上に滴下して観察サンプルを調製した以外は前記方法と同様にして求めた。
成形材料の対象とする面の反対面に黒ビニールテープを貼り付け、前述の模擬指紋の付着前と後の反射色をコニカミノルタ株式会社製分光測色計CM−3600Aを使用して、JIS Z8722(2009年版)に基づき、正反射光除去の反射色を鏡面反射光トラップを用いた(de:8°)Sb10W10条件で、正反射光入りの反射色を鏡面反射光トラップを用いない(di:8°)Sb10W10条件で、JIS Z8730(2009年版)に記載のCIE1976(L*a*b*)にて測定した。
模擬指紋の成形材料表面への付着量は、波長分散型蛍光X線装置(理学電機製走査型蛍光X線分析装置 ZSX−PrimusII)を使用し、模擬指紋液に含まれるケイ素のKα線強度を測定することにより測定した。具体的には、まずPETフィルム上に模擬指紋液を一定量塗工したサンプルについて前記装置にてケイ素のKα線強度の測定を行うことにより、模擬指紋付着量−ケイ素Kα線強度の検量線を作成した。次いで前記方法にて付着させた模擬指紋のケイ素のKα線強度を測定し、前記検量線から付着量を算出した。この結果から得られた指紋の付着量が0.1g/m2以下を合格とした。
成形材料を任意の場所で切り出した後、原子間力顕微鏡(Digital Instruments社製、NanoScope IIIa ver.5.31R1)を用いて、観察モード=DFMモード、スキャナー=FS−20A、カンチレバー=DF−3、観察視野=5×5μm2、画素数512×512にて表面形態観察を行い、観察像を得た。次いで2乗平均粗さの100%をピーク閾値にするため、「Peak Thrsh (%rms)」を100%に設定して解析を行い、ピーク数を求めた。なお、上記rmsはRqと同義で2乗平均粗さを示唆する。また、同観察像を元に、同様にして算術平均粗さ(Ra)も求めた。
指紋付着防止性は、成形材料の評価する面を上にして黒画用紙上に置き、指紋を押し付ける指(人差し指)と親指を3回こすってから、前記層の表面にをゆっくりと押し付け、付着した指紋の視認性を10点満点で評価した。評価基準は以下の通りである。
10点: 指紋が視認されない、もしくは未付着部との差がわからない。
7点 : 指紋がほとんど視認できない、もしくは指紋だとは認識されない。
5点 : 指紋が僅かに視認されるが、ほとんど気にならない
3点 : 指紋が視認される
1点 : 指紋が明確に視認され、非常に気になる。
上記評価を10人の対象者について行い、その平均値を求めた。小数点以下については四捨五入して取り扱い、5点以上を合格とした。
前述の模擬指紋付着と同様の方法で成形材料表面に付着させた模擬指紋を対象に、その油滴の表面投影像を、微分干渉顕微鏡を用いて撮影し、得られた画像に対して画像処理ソフトを用いて油滴径dpを求め、この結果を基に面積基準頻度分布、およびその累積頻度の推移を求めた。
まず模擬指紋を付着させた防指紋成形材料の表面を微分干渉顕微鏡により100倍の倍率で画像を撮影した。続いて画像処理ソフトEasyAccess Ver6.7.1.23 にて画像をグレースケールに変換し、ホワイトバランスを最明部と最暗部が8bitのトーンカーブに収まるように調整、さらに油滴の境界が明確に見分けられるようにコントラストを調節した。次いで画像解析ソフト「ImageJ 1.45s」を用いて前述の境界を境に画素の2値化を行い、個々の油滴のなす面積を算出し、そこから該当領域の面積を円形近似したときの直径として油滴径を求めた。
面積基準頻度分布の算出では、まず前述の処理により得られた油滴径dpをもとにそのヒストグラムを作成した。この時油滴径は5μm毎に区分し、これに基づいてMicrosoft Excel 2003のヒストグラム機能を用いて層別をおこなった。次いで得られたヒストグラムに対し表面投影像の面積による重み付けをするため、ヒストグラムの各層別の代表面積を各基数の中心値を代表径とした円と仮定して求め、これに各層別の頻度を乗じ、再度総面積で割ることにより、面積基準頻度分布を求めた。さらに前記の面積基準頻度分布について、縦軸を頻度、横軸を油滴径としてその累積頻度をグラフ化し、累積頻度50%における油滴径の値からメジアン径D50を求めた。具体的には、累積頻度50%となる点を挟む2つの層をヒストグラムから特定し、該当層の油滴径の中心値と累積頻度とで特定される2座標間を直線で結び、この直線上で累積頻度50%となる点の油滴径としてメジアン径D50を算出した。
Claims (17)
- 支持基材の少なくとも1方の面に層を有する成形材料であって、
前記層が、フッ素含有化合物を含み、JIS Z8741(1997年版)で規定する60度鏡面光沢度が60%以上であり、
原子間力顕微鏡(AFM)によって観察される2乗平均粗さ(Rq)を超えるピーク数が、25μm2あたり500個以上1500個以下である、表面特性を有する成形材料。 - 支持基材の少なくとも1方の面に層を有する成形材料であって、
前記層が、JIS Z8741(1997年版)で規定する60度鏡面光沢度が60%以上であり、
以下の模擬指紋を付着した前後のJIS Z8730(2009年版)およびJIS Z8722(2009年版)で規定するΔE* ab(di:8°)Sb10W10が0.4以下、かつ、ΔE* ab(de:8°)Sb10W10が4以下である、表面特性を有する成形材料。
模擬指紋:オレイン酸70質量%と数平均粒子径2μmのシリカ30質量%からなる分散物を、JIS B0601(2001年版)のRa3μmで、JIS K6253(1997年版)のゴム硬度50のシリコーンゴムに1.0g/m2付着させ、これを対象とする面に30KPaで付着させたもの。 - 前記層表面への前記模擬指紋の付着量が0.1g/m2以下である請求項2に記載の成形材料。
- 前記層表面上の前記模擬指紋を構成する油滴の、面積基準頻度分布から算出したメジアン径が80μm以下である請求項2または3に記載の成形材料。
- 前記層の、原子間力顕微鏡(AFM)によって観察される2乗平均粗さを超えるピーク数が25μm2あたり500個以上1500個以下である、請求項2から4のいずれかに記載の成形材料。
- 前記層が、フルオロアルキル基、フルオロオキシアルキル基、フルオロアルケニル基、フルオロアルカンジイル基およびフルオロオキシアルカンジイル基からなる群より選ばれる少なくとも一つを含む部位と反応性部位を有する化合物であるフッ素化合物Aと、バインダー成分と、数平均粒子径が5nm以上250nm以下の粒子とを、主成分とする、請求項1から5のいずれかに記載の成形材料。
- 前記フッ素化合物Aのハンセンの溶解度パラメーターの分散項をσd、極性項をσp、水素結合項をσhとし、前記バインダー成分のハンセン溶解度パラメーターの分散項をσBd、極性項をσBp、水素結合項をσBhとしたとき、以下の条件を満たす請求項6に記載の成形材料。
条件1:
R=[(σd−σBd)2+(σp−σBp)2+(σh−σBh)2]1/2
により定義されるパラメーターRが3(MPa)1/2以上、12(MPa)1/2以下の値を有する。
条件2:
σd<σBd - 前記粒子が数珠状に連結したおよび/または分岐したシリカである、請求項6または7に記載の成形材料。
- 前記フッ素化合物Aが含フッ素デンドリマーである、請求項6から8のいずれかに記載の成形材料。
- 前記フッ素化合物Aがフルオロポリエーテル部位を有する化合物である請求項6から8のいずれかに記載の成形材料。
- フルオロアルキル基、フルオロオキシアルキル基、フルオロアルケニル基、フルオロアルカンジイル基およびフルオロオキシアルカンジイル基からなる群より選ばれる少なくとも一つを含む部位と反応性部位を有する化合物であるフッ素化合物Aと、バインダー原料と、数平均粒子径が5nm以上250nm以下の粒子とを含む塗料組成物。
- 前記フッ素化合物Aのハンセンの溶解度パラメーターの分散項をσd、極性項をσp、水素結合項をσhとし、前記バインダー原料のハンセン溶解度パラメーターの分散項をσBd、極性項をσBp、水素結合項をσBhとしたとき、以下の条件を満たす請求項11に記載の塗料組成物。
条件1:
R=[(σd−σBd)2+(σp−σBp)2+(σh−σBh)2]1/2
により定義されるパラメーターRが3(MPa)1/2以上、12(MPa)1/2以下の値を有する。
条件2:
σd<σBd - 前記粒子が数珠状に連結したおよび/または分岐したシリカである請求項11または12に記載の塗料組成物。
- 前記フッ素化合物Aが含フッ素デンドリマーである請求項11から13のいずれかに記載の塗料組成物。
- 前記フッ素化合物Aがフルオロポリエーテル構造を有する請求項11から13のいずれかに記載の塗料組成物。
- 請求項11から15のいずれかに記載の塗料組成物を塗工する塗工工程と乾燥工程を経て、支持基材の少なくとも一方の面に層を形成する成形材料の製造方法。
- 前記乾燥工程における加熱方式に輻射伝熱方式を含む、請求項16に記載の成形材料の製造方法。
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