JPWO2012161185A1 - シロキサンオリゴマーの製造方法 - Google Patents
シロキサンオリゴマーの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2012161185A1 JPWO2012161185A1 JP2012524971A JP2012524971A JPWO2012161185A1 JP WO2012161185 A1 JPWO2012161185 A1 JP WO2012161185A1 JP 2012524971 A JP2012524971 A JP 2012524971A JP 2012524971 A JP2012524971 A JP 2012524971A JP WO2012161185 A1 JPWO2012161185 A1 JP WO2012161185A1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- siloxane oligomer
- line segment
- carbon atoms
- point
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 132
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 31
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 13
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 claims description 28
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 26
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 25
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 18
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 15
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 13
- 229930195735 unsaturated hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 13
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 claims description 12
- -1 polysiloxane Polymers 0.000 claims description 12
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 claims description 11
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 claims description 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 9
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 8
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 7
- 238000005033 Fourier transform infrared spectroscopy Methods 0.000 claims description 6
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 6
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims description 6
- 238000001028 reflection method Methods 0.000 claims description 6
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 claims description 5
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 claims description 5
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 claims description 4
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 claims description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 3
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 claims description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 2
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 claims description 2
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 claims description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 2
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 6
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 abstract description 27
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 51
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 31
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 27
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 25
- 238000000034 method Methods 0.000 description 23
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 20
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 19
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 19
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 18
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 16
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 13
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 12
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 11
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 11
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 10
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 9
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 9
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 8
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 7
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 235000002597 Solanum melongena Nutrition 0.000 description 6
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 6
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 6
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 6
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 6
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 6
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 6
- IWYDHOAUDWTVEP-ZETCQYMHSA-N (S)-mandelic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)C1=CC=CC=C1 IWYDHOAUDWTVEP-ZETCQYMHSA-N 0.000 description 5
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 5
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 5
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 5
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JVTAAEKCZFNVCJ-REOHCLBHSA-N L-lactic acid Chemical compound C[C@H](O)C(O)=O JVTAAEKCZFNVCJ-REOHCLBHSA-N 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 244000061458 Solanum melongena Species 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 4
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 3
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical compound CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 3
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- XPFVYQJUAUNWIW-UHFFFAOYSA-N furfuryl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CO1 XPFVYQJUAUNWIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 3
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 3
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- WHBMMWSBFZVSSR-VKHMYHEASA-N (S)-3-hydroxybutyric acid Chemical compound C[C@H](O)CC(O)=O WHBMMWSBFZVSSR-VKHMYHEASA-N 0.000 description 2
- QQZOPKMRPOGIEB-UHFFFAOYSA-N 2-Oxohexane Chemical compound CCCCC(C)=O QQZOPKMRPOGIEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BWLBGMIXKSTLSX-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyisobutyric acid Chemical compound CC(C)(O)C(O)=O BWLBGMIXKSTLSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCFAJYNVAYBARA-UHFFFAOYSA-N 4-heptanone Chemical compound CCCC(=O)CCC HCFAJYNVAYBARA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229920006353 Acrylite® Polymers 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000297 Rayon Polymers 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005102 attenuated total reflection Methods 0.000 description 2
- 238000007611 bar coating method Methods 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N ethyl propionate Chemical compound CCOC(=O)CC FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 2
- CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N heptan-2-one Chemical compound CCCCCC(C)=O CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 2
- MLFHJEHSLIIPHL-UHFFFAOYSA-N isoamyl acetate Chemical compound CC(C)CCOC(C)=O MLFHJEHSLIIPHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N lactic acid Chemical compound CC(O)C(O)=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- XNLICIUVMPYHGG-UHFFFAOYSA-N pentan-2-one Chemical compound CCCC(C)=O XNLICIUVMPYHGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N pentan-3-one Chemical compound CCC(=O)CC FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N pentyl acetate Chemical compound CCCCCOC(C)=O PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N silanol Chemical compound [SiH3]O SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QBYIENPQHBMVBV-HFEGYEGKSA-N (2R)-2-hydroxy-2-phenylacetic acid Chemical compound O[C@@H](C(O)=O)c1ccccc1.O[C@@H](C(O)=O)c1ccccc1 QBYIENPQHBMVBV-HFEGYEGKSA-N 0.000 description 1
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AAWZDTNXLSGCEK-LNVDRNJUSA-N (3r,5r)-1,3,4,5-tetrahydroxycyclohexane-1-carboxylic acid Chemical compound O[C@@H]1CC(O)(C(O)=O)C[C@@H](O)C1O AAWZDTNXLSGCEK-LNVDRNJUSA-N 0.000 description 1
- BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N (S)-malic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- LZDKZFUFMNSQCJ-UHFFFAOYSA-N 1,2-diethoxyethane Chemical compound CCOCCOCC LZDKZFUFMNSQCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDXHBFHOEYVPED-UHFFFAOYSA-N 1-(2-butoxyethoxy)butane Chemical compound CCCCOCCOCCCC GDXHBFHOEYVPED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWOZZTWBWQMEPD-UHFFFAOYSA-N 1-(2-ethoxypropoxy)propan-2-ol Chemical compound CCOC(C)COCC(C)O QWOZZTWBWQMEPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-ethoxyethoxy)ethane Chemical compound CCOCCOCCOCC RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-ol Chemical compound CCOCC(C)O JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPIUIOXAFBGMNB-UHFFFAOYSA-N 1-hexoxyhexane Chemical compound CCCCCCOCCCCCC BPIUIOXAFBGMNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HFZLSTDPRQSZCQ-UHFFFAOYSA-N 1-pyrrolidin-3-ylpyrrolidine Chemical compound C1CCCN1C1CNCC1 HFZLSTDPRQSZCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXQBJTKSVGFQOL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOCCOC(C)=O VXQBJTKSVGFQOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPZWZCWUIYYYBU-UHFFFAOYSA-N 2-(2-ethoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound CCOCCOCCOC(C)=O FPZWZCWUIYYYBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- INFFATMFXZFLAO-UHFFFAOYSA-N 2-(methoxymethoxy)ethanol Chemical compound COCOCCO INFFATMFXZFLAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQLKZWRSOHTERR-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylbutyl acetate Chemical compound CCC(CC)COC(C)=O HQLKZWRSOHTERR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTTPXKJBFFKCEK-UHFFFAOYSA-N 2-Methyl-4-heptanone Chemical compound CC(C)CC(=O)CC(C)C PTTPXKJBFFKCEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WAEVWDZKMBQDEJ-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-methoxypropoxy)propoxy]propan-1-ol Chemical compound COC(C)COC(C)COC(C)CO WAEVWDZKMBQDEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOC(C)=O NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940093475 2-ethoxyethanol Drugs 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOYWLLHHWAMFCB-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexyl acetate Chemical compound CCCCC(CC)COC(C)=O WOYWLLHHWAMFCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004200 2-methoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- CRWNQZTZTZWPOF-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-4-phenylpyridine Chemical compound C1=NC(C)=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1 CRWNQZTZTZWPOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHFKYDMBUMLWDA-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethyl acetate Chemical compound CC(=O)OCCOC1=CC=CC=C1 WHFKYDMBUMLWDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCAHUFWKIQLBNB-UHFFFAOYSA-N 3-(3-methoxypropoxy)propan-1-ol Chemical compound COCCCOCCCO QCAHUFWKIQLBNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KSCAZPYHLGGNPZ-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCCl KSCAZPYHLGGNPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCl OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FMGBDYLOANULLW-UHFFFAOYSA-N 3-isocyanatopropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN=C=O FMGBDYLOANULLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QMYGFTJCQFEDST-UHFFFAOYSA-N 3-methoxybutyl acetate Chemical compound COC(C)CCOC(C)=O QMYGFTJCQFEDST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCS DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDQWJFXZTAWJST-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C=C XDQWJFXZTAWJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C=C KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGVHNLRUAMRIEW-UHFFFAOYSA-N 4-methylcyclohexan-1-one Chemical compound CC1CCC(=O)CC1 VGVHNLRUAMRIEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AAWZDTNXLSGCEK-UHFFFAOYSA-N Cordycepinsaeure Natural products OC1CC(O)(C(O)=O)CC(O)C1O AAWZDTNXLSGCEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 1
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSRJKNPTNIJEKV-UHFFFAOYSA-N Guaifenesin Chemical compound COC1=CC=CC=C1OCC(O)CO HSRJKNPTNIJEKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RJUFJBKOKNCXHH-UHFFFAOYSA-N Methyl propionate Chemical compound CCC(=O)OC RJUFJBKOKNCXHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- AAWZDTNXLSGCEK-ZHQZDSKASA-N Quinic acid Natural products O[C@H]1CC(O)(C(O)=O)C[C@H](O)C1O AAWZDTNXLSGCEK-ZHQZDSKASA-N 0.000 description 1
- IWYDHOAUDWTVEP-UHFFFAOYSA-N R-2-phenyl-2-hydroxyacetic acid Natural products OC(=O)C(O)C1=CC=CC=C1 IWYDHOAUDWTVEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N Tetrahydropyran Chemical compound C1CCOCC1 DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001089 [(2R)-oxolan-2-yl]methanol Substances 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N alpha-hydroxysuccinic acid Natural products OC(=O)C(O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 229940043232 butyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 229940019778 diethylene glycol diethyl ether Drugs 0.000 description 1
- 229940028356 diethylene glycol monobutyl ether Drugs 0.000 description 1
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940075557 diethylene glycol monoethyl ether Drugs 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)OC JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N dimethyldiethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)OCC YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZLBDYMWFAHSOQ-UHFFFAOYSA-N diphenyliodanium Chemical class C=1C=CC=CC=1[I+]C1=CC=CC=C1 OZLBDYMWFAHSOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POLCUAVZOMRGSN-UHFFFAOYSA-N dipropyl ether Chemical compound CCCOCCC POLCUAVZOMRGSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 1
- 238000007610 electrostatic coating method Methods 0.000 description 1
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- DFJDZTPFNSXNAX-UHFFFAOYSA-N ethoxy(triethyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC)(CC)CC DFJDZTPFNSXNAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSIHJDGMBDPTIM-UHFFFAOYSA-N ethoxy(trimethyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(C)C RSIHJDGMBDPTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940093499 ethyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 238000007775 flexo coating Methods 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007863 gel particle Substances 0.000 description 1
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 229940035429 isobutyl alcohol Drugs 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N isopropanol acetate Natural products CC(C)OC(C)=O JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940011051 isopropyl acetate Drugs 0.000 description 1
- GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-N isovaleric acid Chemical compound CC(C)CC(O)=O GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000004310 lactic acid Substances 0.000 description 1
- 235000014655 lactic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 239000001630 malic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011090 malic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229960002510 mandelic acid Drugs 0.000 description 1
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- POPACFLNWGUDSR-UHFFFAOYSA-N methoxy(trimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)C POPACFLNWGUDSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARYZCSRUUPFYMY-UHFFFAOYSA-N methoxysilane Chemical compound CO[SiH3] ARYZCSRUUPFYMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940017219 methyl propionate Drugs 0.000 description 1
- YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N n-Propyl acetate Natural products CCCOC(C)=O YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 150000001282 organosilanes Chemical class 0.000 description 1
- JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N oxolane-2,4-dione Chemical compound O=C1COC(=O)C1 JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001139 pH measurement Methods 0.000 description 1
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 1
- DLRJIFUOBPOJNS-UHFFFAOYSA-N phenetole Chemical compound CCOC1=CC=CC=C1 DLRJIFUOBPOJNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N phenyl(114C)methanol Chemical compound O[14CH2]C1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N 0.000 description 1
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 229940090181 propyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- DCKVNWZUADLDEH-UHFFFAOYSA-N sec-butyl acetate Chemical compound CCC(C)OC(C)=O DCKVNWZUADLDEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
- ZZIZZTHXZRDOFM-XFULWGLBSA-N tamsulosin hydrochloride Chemical compound [H+].[Cl-].CCOC1=CC=CC=C1OCCN[C@H](C)CC1=CC=C(OC)C(S(N)(=O)=O)=C1 ZZIZZTHXZRDOFM-XFULWGLBSA-N 0.000 description 1
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 1
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 1
- BSYVTEYKTMYBMK-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofurfuryl alcohol Chemical compound OCC1CCCO1 BSYVTEYKTMYBMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRGPKMWIYVTFIQ-UHFFFAOYSA-N triethoxy(3-isocyanatopropyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN=C=O FRGPKMWIYVTFIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(ethyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC)(OCC)OCC DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOCC1CO1 JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HUZZQXYTKNNCOU-UHFFFAOYSA-N triethyl(methoxy)silane Chemical compound CC[Si](CC)(CC)OC HUZZQXYTKNNCOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WLOQLWBIJZDHET-UHFFFAOYSA-N triphenylsulfonium Chemical class C1=CC=CC=C1[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 WLOQLWBIJZDHET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N valeric acid Chemical compound CCCCC(O)=O NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000010792 warming Methods 0.000 description 1
- 239000003643 water by type Substances 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D183/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D183/04—Polysiloxanes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0834—Compounds having one or more O-Si linkage
- C07F7/0838—Compounds with one or more Si-O-Si sequences
- C07F7/0872—Preparation and treatment thereof
- C07F7/0874—Reactions involving a bond of the Si-O-Si linkage
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/045—Polysiloxanes containing less than 25 silicon atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/06—Preparatory processes
- C08G77/08—Preparatory processes characterised by the catalysts used
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
本発明の目的は、環状体の量が少なく、かつ分子量が高いシロキサンオリゴマーの製造方法を提供することにある。本発明の一形態は、所定式で示される2−ヒドロキシカルボン酸化合物を触媒として使用し、アルコキシシランを加水分解及び縮合させることを特徴とするシロキサンオリゴマーの製造方法である。本発明の製造方法により、環状体構造を有するシロキサンの含有量が少なく、かつ分子量が高いシロキサンオリゴマーを合成することができる。
Description
本発明は、主にシロキサンオリゴマーの製造方法に関する。
近年、透明ガラスの代替として、耐破砕性、軽量性に優れるアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂等の透明プラスチック材料が広く使用されるようになってきた。しかし、透明プラスチック材料はガラスに比較して表面硬度が低いため、表面に傷を受け易いという問題を有している。これらの欠点を改良するために、表面にハードコート剤をコーティングすることが一般的に行われている。このハードコート剤としてはメラミン系塗料、多官能アクリレート系塗料、シリコン系塗料等が広く用いられている。これらのうちシリコン系塗料では、ハードコート膜を形成した時の基本骨格としてガラスと同じシロキサン結合が形成される。シロキサン結合の結合エネルギーは、有機物ポリマーの基本骨格である炭素−炭素間結合や炭素−酸素間結合の結合エネルギーより高いため、シリコン系塗料を用いたハードコート膜はより高い耐擦傷性と耐候性を付与することが可能であると期待されている。
シリコン系塗料では、一般的に、オルガノシランをゲル化しない程度に重合させたシロキサンオリゴマーが原料に用いられている。また、このシロキサンオリゴマーの構造によって、製造されるハードコート膜の耐擦傷性や耐クラック性等の性質が大きく変わることが知られている。
シロキサンオリゴマーの製造方法として、ギ酸を触媒として用いる手法が知られている(特許文献1)。特許文献1には、ギ酸を用いることで、縮合反応が促進されると記載されている。しかし、ギ酸を触媒として用いた場合、シロキサンオリゴマーの縮合反応のみならず、加水分解反応も同じく促進される。一般的に、シロキサンオリゴマーの構造を制御するには、加水分解反応と縮合反応において、反応速度差が現れる合成手法を用いることが有効であると考えられている。したがって、ギ酸を触媒として用いた方法においては、他の一般的な酸を用いた場合に比べて、特段特異的な構造を有するシロキサンオリゴマーが得られるわけではない。
また、別の研究グループからは、アルコキシシランに加える酸性水溶液の添加量、及び酸性水溶液のpHによって、生成するオリゴマーの構造にどのような影響があるかについての報告がなされている(非特許文献1)。非特許文献1において、ネットワーク構造と呼ばれるオリゴマーは直鎖構造を有するシロキサンオリゴマーにあたり、ケージ構造と呼ばれるオリゴマーは環状構造を有するシロキサンオリゴマーにあたる。非特許文献1によると、pHが3または4となるように調整された水溶液を用い、かつその添加量を少なくすることで、環状構造を有するシロキサンオリゴマーの生成量が減少するとの報告されている。
Long−Hua Leeら、Journal of Polymer Science:PartA:Polymer Chemistry,Vol.40,ページ1560−1571(2002年).
しかしながら、非特許文献1のデータを見ると、シロキサンオリゴマーの環状体量とシロキサンオリゴマーの分子量には相関があり、環状体量が少ないものほど、分子量が低くなっている。したがって、環状体量の少なさと分子量の大きさは、トレードオフの関係にあるといえる。
環状体量が少ないシロキサンオリゴマーを原料として用いて作製した硬化被膜は優れた耐擦傷性を有する。しかし、分子量が低いシロキサンオリゴマーを原料として用いて硬化被膜を作製すると、硬化時の重合収縮が大きくなるため、硬化被膜における残留応力が大きくなる。その結果、硬化被膜にクラックが発生しやすくなるという問題が発生する場合がある。
上述の通り、これまでの手法では、硬化被膜の原料として好適な、環状体量が少なく、かつ高い分子量を有するシロキサンオリゴマーを製造することは困難であった。
そこで、本発明の目的は、硬化被膜の原料として好適な、環状体の量が少なく、かつ分子量が高いシロキサンオリゴマーの製造方法を提供することにある。
本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意研究を重ねた結果、シロキサンオリゴマーの合成時に用いる酸触媒として、特定の構造を有するものを使用することで、環状体量が少なく、分子量が高いシロキサンオリゴマーを製造することができることに成功し、本発明に至った。また、この製造方法により製造されたシロキサンオリゴマーを原料として用いた硬化被膜は、耐擦傷性と耐クラック性に優れていることを見出した。
本発明の一形態は、
式(1)で示される2−ヒドロキシカルボン酸化合物を触媒として使用し、アルコキシシランを加水分解及び縮合させることを特徴とするシロキサンオリゴマーの製造方法である。
式(1)で示される2−ヒドロキシカルボン酸化合物を触媒として使用し、アルコキシシランを加水分解及び縮合させることを特徴とするシロキサンオリゴマーの製造方法である。
(式(1)中、R1及びR2は、それぞれ独立に、水素原子、ヒドロキシ基、置換基を有してもよい総炭素数が1〜20の飽和炭化水素基、置換基を有してもよい総炭素数が1〜20の不飽和炭化水素基、置換基を有してもよい総炭素数が6〜20の芳香族炭化水素基、カルボキシル基、総炭素数が2〜20のエステル基、又は総炭素数が2〜20のアシル基である。また、R1とR2が置換基を有していてもよい飽和炭化水素鎖または不飽和炭化水素鎖を介して結合していてもよい。R1とR2における置換基は、ヒドロキシ基、飽和炭化水素基、不飽和炭化水素基、芳香族炭化水素基、エステル基、カルボキシ基、またはアシル基の中から選択され、1個であっても、複数であってもよい。)。
本発明の一形態は、
FT−IRによる全反射法により測定される赤外線吸収スペクトルにおける下記で表されるピーク面積A1、A2及びA3について、(A1+A2)/A3をZとし、A1/A2をYとしたZY座標空間において、以下の関係を満たすシロキサンオリゴマーである。
FT−IRによる全反射法により測定される赤外線吸収スペクトルにおける下記で表されるピーク面積A1、A2及びA3について、(A1+A2)/A3をZとし、A1/A2をYとしたZY座標空間において、以下の関係を満たすシロキサンオリゴマーである。
Y≦0.065Z+0.99 かつ 4.0≦Z
(前記赤外線吸収スペクトルにおいて、1240cm−1での吸光度を示す点を点Aと、960cm−1での吸光度を示す点を点Bと、線分AB上の1050cm−1における点を点Cと、1050cm−1での吸光度を示す点を点Eと、860cm−1での吸光度を示す点を点Dと、規定する。前記A1は、線分ACと線分CEと線分ACよりも上側にあるスペクトル曲線とで囲まれる面積である。前記A2は、線分CBと線分CEと線分CBよりも上側にあるスペクトル曲線とで囲まれる面積である。前記A3は、線分BDと線分BDよりも上側にあるスペクトル曲線とで囲まれる面積である。)。
本発明の一形態は、
前記シロキサンオリゴマーの製造方法にて得られたシロキサンオリゴマーを含む硬化性組成物である。
前記シロキサンオリゴマーの製造方法にて得られたシロキサンオリゴマーを含む硬化性組成物である。
本発明の一形態は、
前記硬化性組成物を基材に配置させて被膜を形成し、活性エネルギー線の照射又は加熱により前記被膜を硬化させるポリシロキサン硬化被膜の製造方法である。
前記硬化性組成物を基材に配置させて被膜を形成し、活性エネルギー線の照射又は加熱により前記被膜を硬化させるポリシロキサン硬化被膜の製造方法である。
本発明の一形態は、
前記シロキサンオリゴマーを含む硬化性組成物を基材に配置させて被膜を形成し、活性エネルギー線の照射又は加熱により前記被膜を硬化させて得られるポリシロキサン硬化被膜である。
前記シロキサンオリゴマーを含む硬化性組成物を基材に配置させて被膜を形成し、活性エネルギー線の照射又は加熱により前記被膜を硬化させて得られるポリシロキサン硬化被膜である。
本発明の製造方法により、環状体構造を有するシロキサンの含有量が少なく、かつ分子量が高いシロキサンオリゴマーを合成することができる。
本発明のシロキサンオリゴマーの製造方法は、下記式(1)で表される2−ヒドロキシカルボン酸化合物を触媒として、溶剤の存在下で、アルコキシシランを加水分解及び縮合することで合成される。
式(1)中、R1及びR2は、それぞれ独立に、水素原子、ヒドロキシ基、置換基を有してもよい総炭素数が1〜20の飽和炭化水素基、置換基を有してもよい総炭素数が2〜20の不飽和炭化水素基、置換基を有してもよい総炭素数が6〜20の芳香族炭化水素基、カルボキシル基、総炭素数が2〜20のエステル基、又は総炭素数が2〜20のアシル基である。また、R1とR2が置換基を有していてもよい飽和炭化水素鎖または不飽和炭化水素鎖を介して結合していてもよい。R1とR2における置換基は、ヒドロキシ基、飽和炭化水素基、不飽和炭化水素基、芳香族炭化水素基、エステル基、カルボキシ基、及びアシル基の中から選択され、1個であっても、複数であってもよい。
R1及びR2において、飽和炭化水素基の総炭素数は、1〜12であることが好ましく、1〜8であることがより好ましく、1〜4であることがさらに好ましい。不飽和炭化水素基の総炭素数は、2〜12であることが好ましく、2〜8であることがより好ましく、2〜4であることがさらに好ましい。芳香族炭化水素基の総炭素数は、6〜14であることが好ましく、6〜12であることがより好ましく、6〜10であることがさらに好ましい。エステル基の総炭素数は、2〜12であることが好ましく、2〜8であることがより好ましく、2〜4であることがさらに好ましい。アシル基の総炭素数は、2〜12であることが好ましく、2〜8であることがより好ましく、2〜4であることがさらに好ましい。
また、R1及びR2において、エステル基は−COORaで表され、Raとしては飽和炭化水素基、不飽和炭化水素基又は芳香族炭化水素基が好ましく挙げられる。アシル基は−CORbで表され、Rbとしては飽和炭化水素基、不飽和炭化水素基又は芳香族炭化水素基が好ましく挙げられる。
本発明に触媒として用いる2−ヒドロキシカルボン酸化合物として、具体的には、例えば、乳酸、マンデル酸、酒石酸、クエン酸、2−ヒドロキシイソ酪酸、キナ酸、リンゴ酸等が挙げられる。
本発明において、2−ヒドロキシカルボン酸化合物を触媒として用いることで環状体の生成量が抑制される理由は、特に本発明を限定するものではないが、2−ヒドロキシカルボン酸化合物が他の酸に比べて加水分解反応よりも縮合反応を促進する性質を有するためと考えられる。ここで、2−ヒドロキシカルボン酸化合物の存在下でアルコキシシランを加水分解反応及び縮合反応を行なう系(1)と、2−ヒドロキシカルボン酸化合物を含まずに系(1)と等しいpHに調整したこと以外は、系(1)と同一条件で加水分解及び縮合反応を行う系(2)とを比較すると、2−ヒドロキシカルボン酸化合物を用いた系(1)の方が、アルコキシシランの加水分解速度を大きく変化させることなく、縮合反応を促進させる。そのため、2−ヒドロキシカルボン酸化合物を用いてシロキサンオリゴマーを合成することで、シラノール量が少ない状態で、アルコキシシランの縮合が進行することになり、環状体量の少ないシロキサンオリゴマーが合成される。
アルコキシシランの加水分解反応及び縮合反応において、2−ヒドロキシカルボン酸化合物が縮合反応を優先的に促進する理由については、以下のように推測される。非特許文献2によると、酸触媒条件下では、シラノールが一旦プロトン化し、Siの電子密度が下がることにより、縮合が促進されると記載されている。本発明の2−ヒドロキシカルボン酸化合物を用いた場合、シラノールのヒドロキシ基に対して、α位のヒドロキシル基とカルボニル基によって2−ヒドロキシカルボン酸化合物が配位した構造体が形成される。この配位構造体の形成によって、Siの電子密度がさらに下げられ、縮合がより促進されるものと考えられる。なお、本発明は以上の推測により限定されるものではない。
Sol−Gel Science The Physics and Chemistry of Sol−Gel Processing,Chapter3,148ページ(C.Jeffrey Brinker and George W.Scherer著、Academic Press社(1990年))
本発明に用いることができるアルコキシシランは、特に制限されるものではないが、例えば、下記式(2)で表されるアルコキシシランが挙げられる。
式(2)中、R5は、置換されていてもよい、総炭素数1〜10の、アルキル基、フェニル基、ビニル基、(メタ)アクリロイル基、エポキシ基、アミド基、メルカプト基、イソシアネート基、又は炭素数2〜4のアシル基を表す。R6は、炭素数1〜10のアルキル基を表す。mは0〜3の整数を表す。なお、アシル基は−CORcで表され、Rcとしては飽和炭化水素基又は不飽和炭化水素基が挙げられる。
アルコキシシランの具体例としては、例えば、メチルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、3−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、3−アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、3−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、p−ビニルフェニレントリエトキシシラン、p−ビニルフェニレントリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン、3−クロロプロピルトリエトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、3−イソシアネートプロピルトリメトキシシラン、3−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、トリエチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリエチルエトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラメトキシシラン等が挙げられる。これらのうち、シロキサンオリゴマーの合成段階における反応性、硬化被膜を製造した時の耐擦傷性と耐クラック性のバランスから考えて、メチルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、フェニルトリメトキシシランが好ましい。アルコキシシランは、1種で又は2種以上を併せて用いることができる。
反応溶液中のアルコキシシランの濃度としては、0.1〜5mol/lとすることが好ましく、0.2〜4mol/lとすることがより好ましい。反応溶液中のアルコキシシランの濃度を0.1mol/l以上とすることで、シロキサンオリゴマーの生産に必要な反応容器を大きなものとすることなく、生産性を向上させることができる。また、5mol/l以下とすることで、反応が穏やかに進行するため、反応を容易に制御することができる。
2−ヒドロキシカルボン酸化合物は、アルコキシシランの加水分解に用いる水に溶解させ用いてもよい。また、反応容器にあらかじめ2−ヒドロキシカルボン酸化合物を仕込んでおき、後にモノマーや、溶剤、水等を投入してもよい。また、2−ヒドロキシカルボン酸化合物を溶剤又はモノマーに溶解させて用いてもよい。2−ヒドロキシカルボン酸化合物の反応溶液中の濃度は、0.001〜0.5mol/lであることが好ましく、0.05〜0.3mol/lであることがより好ましい。2−ヒドロキシカルボン酸化合物の濃度が0.001mo/l以上であれば、シロキサンオリゴマーの環状体の生成が抑制され易くなる。また、2−ヒドロキシカルボン酸化合物の濃度が0.5mol/l以下であれば、シロキサンオリゴマーを原料として作製した硬化被膜に残存する2−ヒドロキシカルボン酸化合物の量が多くならず、硬化被膜の耐擦傷性がより向上する。
アルコキシシランの理論加水分解量は、アルコキシシラン中のアルコキシ基を加水分解するのに必要な水のモル量のことであると定義される。アルコキシシランの加水分解に用いる水の量は、アルコキシシランの理論加水分解量に対して、3/4〜13/6倍量であることが望ましい。
アルコキシシランの加水分解に用いる水は、一括で添加してもよく、分割して添加してもよい。また、アルコキシシランの加水分解に用いる水は、滴下して添加してもよい。環状体量の形成をより抑制するためには、水を分割して添加することが好ましい。
例えば、水を2回に分割して添加する場合、溶剤、アルコキシシランを仕込んだ反応容器に対して、1回目の添加として水を添加し、一定時間の経過後にさらに2回目の添加として水を添加することが考えられる。
2回に分割して水を添加する場合、1回目に添加する水の量は、アルコキシシランの理論加水分解量に対して、1/4〜3/2倍量であることが好ましく、1/3〜1倍量であることがより好ましい。1回目の水の添加量が1/4倍量以上であると、生産性が向上する。また、1回目の水の添加量が3/2倍量以下であると、得られる硬化被膜の耐擦傷性が向上する。
2回に分割して水を添加する場合の2回目に添加する水の量については、1回目に添加した水の量と2回目に添加した水とを合わせた量が、アルコキシシランの理論加水分解量に対して、3/4〜5/2倍量であることが好ましく、1〜3/2倍量であることがより好ましい。1回目と2回目に添加した水の合計量が3/4倍量以上であれば、シロキサンオリゴマーへの加水分解が十分に行なわれるため、得られる硬化被膜の耐擦傷性が向上する。5/2倍量以下であれば、シロキサンオリゴマーの環状体の生成が抑制され、得られる硬化被膜の耐擦傷性が向上する。
シロキサンオリゴマーを合成する際の温度は、40℃から95℃であることが好ましく、60℃から90℃であることがより好ましい。温度が40℃より高いと反応速度が速くなるため、生産性が向上する。また、95℃より低いと沸騰が激しく起こることがなくなり、反応を制御しやすくなる。尚、第一段階目の反応と第二段階目の反応とで温度を変えてシロキサンオリゴマーを合成することも可能である。
シロキサンオリゴマーの反応時間は、10分〜12時間であることが好ましく、30分〜6時間であることがより好ましい。
シロキサンオリゴマーは、オリゴマー構造の制御やオリゴマーの固形分濃度の調整のために、例えば、合成途中で発生する蒸気を反応容器外へ出し、該蒸気を冷却管を用いて冷却することで、留出液として取り出すことが可能である。
なお、本明細書において、固形分とは、完全に加水分解・縮合させたと仮定した際に得られるシロキサン化合物の質量である。固形分濃度とは、溶液全体に対する固形分の質量百分率を意味する。
本発明の製造方法により得られたシロキサンオリゴマーは、透明ハードコート膜の原料として好適に使用することができる。得られたシロキサンオリゴマーを硬化させる方法としては、活性エネルギー線を利用する方法や、加熱により硬化させる方法を挙げることができる。高い生産性を得るためには、得られたシロキサンオリゴマーは活性エネルギー線を用いる方法により硬化されることが好ましい。
シロキサンオリゴマーを活性エネルギー線を用いて硬化させる場合、活性エネルギー線感応性酸発生剤を用いることができる。活性エネルギー線感応性酸発生剤とは、可視光線、紫外線、熱線、電子線等の活性エネルギー線により酸が発生する開始剤である。この中でも、可視光線、紫外線により酸を発生する光感応性酸発生剤、熱線により酸を発生する熱感応性酸発生剤が好ましい。これらのうち、活性が高い点、プラスチック材料に熱劣化を与えない点から、光感応性酸発生剤がより好ましい。
光感応性酸発生剤としては、特に制限されるものではないが、例えば、ジフェニルヨードニウム系化合物、トリフェニルスルホニウム系化合物、芳香族スルホニウム系化合物、ジアゾジスルホン系化合物等が挙げられる。光感応性酸発生剤の具体例としては、上市されているイルガキュア250(チバ・ジャパン(株)製、製品名)、アデカオプトマーSP−150及びSP−170(ADEKA社製、製品名)、サイラキュアUVI−6970、サイラキュアUVI−6974、サイラキュアUVI−6990、サイラキュアUVI−6950、及びサイラキュアUVI−6992(ダウケミカル日本(株)製、製品名)、DAICATII(ダイセル化学工業(株)製、製品名)、UVAC1591(ダイセル・サイテック(株)製、製品名)、CI−2734、CI−2855、CI−2823及びCI−2758(日本曹達(株)製、製品名)、SI−60L、SI−80L及びSI−100L、SI−110L、SI−150L、SI−180L(三新化学工業(株)製、製品名)、並びにCPI−100P及びCPI−101A(サンアプロ(株)製、製品名)が挙げられる。光感応性酸発生剤は1種を単独で又は2種以上を組み合わせて使用できる。
活性エネルギー線感応性酸発生剤の配合量は、特に制限されるものではないが、硬化性成分合計量100質量部に対して、0.01〜10質量部の範囲内が好ましい。0.01質量部以上であれば、活性エネルギー線の照射によって十分に組成物が硬化し、ハードコート膜に好適な硬度が得られる傾向にある。また、10質量部以下であれば、硬化物の着色が抑制され、表面硬度や耐擦傷性が良好となる傾向にある。
本発明の製造方法で得られるシロキサンオリゴマーを原料として含む硬化性組成物には、その他、必要に応じて、有機物ポリマー、有機物ポリマー微粒子、コロイダルシリカ、コロイド状金属、充填剤、染料、顔料、顔料分散剤、流動調整剤、レベリング剤、消泡剤、紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤、ゲル粒子、微粒子粉等を含有させてもよい。
本発明の製造方法で得られるシロキサンオリゴマーを原料として含む硬化性組成物には、固形分濃度の調整、分散安定性の向上、塗布性の向上、基材への密着性の向上等を目的として、有機溶剤を含有させることが好ましい。有機溶媒としては、特に制限されるものではないが、例えば、アルコール類、ケトン類、エーテル類、エステル類、セロソルブ類、芳香族化合物類等を挙げることができる。具体的には、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、2−ブタノール、イソブチルアルコール、t−ブチルアルコール、ベンジルアルコール、2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノール、2−(メトキシメトキシ)エタノール、2−ブトキシエタノール、フルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、1−エトキシ−2−プロパノール、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジアセトンアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、2−ペンタノン、3−ペンタノン、2−ヘキサノン、メチルイソブチルケトン、2−ヘプタノン、4−ヘプタノン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、アセトフェノン、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジヘキシルエーテル、アニソール、フェネトール、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、1,2−ジメトキシエタン、1,2−ジエトキシエタン、1,2−ジブトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、グリセリンエーテル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸sec−ブチル、酢酸ペンチル、酢酸イソペンチル、3−メトキシブチルアセテート、2−エチルブチルアセテート、2−エチルヘキシルアセテート、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸ブチル、γ−ブチロラクトン、2−メトキシエチルアセテート、2−エトキシエチルアセテート、2−ブトキシエチルアセテート、2−フェノキシエチルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられる。これらの有機溶媒は、単独で用いてもよいし、2種以上を混合して用いてもよい。
硬化性組成物中の有機溶剤の含有量は、固形分の合計100質量部に対して10〜1000質量部の範囲が好ましい。有機溶剤の含有量が固形分の合計100質量部に対して10質量部以上であれば、組成物の保存安定性が良好となる。また、組成物が高粘度となることが抑制され、良好に被膜を形成することができる。また、有機溶剤の含有量が固形分の合計100質量部に対して1000質量部以下であれば、硬化させた際、充分な厚さを有する被膜を得ることができ、優れた耐擦傷性を有する被膜を得ることができる。
ポリシロキサン硬化物の被膜の厚さは、好ましくは、0.5〜100μmである。
本発明の製造方法で得られるシロキサンオリゴマーを原料として含む硬化性組成物は、フィルム等の平面形状を有する基材に塗布した後に、活性エネルギーを照射して、硬化させることができる。また、立体形状を有する基材に塗布した後に、活性エネルギーを照射することにより、硬化性組成物を硬化させることも可能である。
被膜を成形するには、例えば、スプレーコート法、ロールコート法、グラビアコート法、フレキソコート法、スクリーン法、スピンコート法、フローコート法、静電塗装法、浸漬法等を使用することができる。
被膜の硬化に用いる活性エネルギー線としては、例えば、真空紫外線、紫外線、可視光線、近赤外線、赤外線、遠赤外線、マイクロ波、電子線、β線、γ線等が挙げられる。これらのうち、重合速度が速い点、基材の劣化が比較的少ない点から、紫外線又は可視光線を光感応性の酸発生剤と組み合わせて使用することが好ましい。活性エネルギー線としては、具体的には、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、白熱電球、キセノンランプ、ハロゲンランプ、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、蛍光灯、タングステンランプ、ガリウムランプ、エキシマーランプ、エキシマレーザー、太陽等を光源とする活性エネルギー線を挙げることができる。これらの活性エネルギー線は、一種類を単独で使用してもよく、異なるものを複数種使用してもよい。異なる複数種の活性エネルギー線を使用する場合は、同時に照射してもよく、順番に照射してもよい。
本発明において、被膜を設ける基材としては、特に制限されるものではないが、有機質、無機質を問わず、各種プラスチック、金属、紙、木質材、無機質材、電着塗装板、ラミネート板等の様々な基材を挙げることができる。これらのうち、基材としては、プラスチックが好ましい。プラスチックとしては、例えば、具体的には、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリメタクリルスチレン等が好適に挙げられる。
また、基材には、被膜との接着性を向上させるため、基材の表面にプライマー層を形成することもできる。プライマー層としては、光ラジカル重合性ビニル系化合物と光ラジカル重合開始剤を含有する組成物を光硬化させて得られる層が好ましい。プライマー層としては、例えば、具体的には、分子内に2個以上の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する多官能(メタ)アクリレートと活性エネルギー線感応性ラジカル重合開始剤とを含む組成物を用いることができる。
シロキサンオリゴマーの赤外吸収スペクトルの測定は、基材にシロキサンオリゴマー溶液を塗布し、室温あるいは30℃以下の温度に設定した乾燥機にて、2時間から6時間かけて溶剤を乾燥させてから、FT−IRによる全反射法(ATR;Attenuated Total Reflectance)により行うことができる。
(シロキサンオリゴマーの構造)
シロキサンオリゴマーを原料として含む硬化性組成物を用いて硬化被膜を形成した場合、使用したシロキサンオリゴマーの構造が、硬化被膜の構造に大きな影響を及ぼし、硬化被膜のハードコートとしての性能にも大きく影響することが分かっている。シロキサンオリゴマー中の環状体量と得られる硬化被膜中の環状体量には相関があり、高い耐擦傷性を得るためには、環状体量が少ない方が有利である。また、高い分子量を有するシロキサンオリゴマーを用いて硬化被膜を作製した方が重合時の収縮が小さいため、硬化被膜にクラックが入りにくい。したがって、高分子量を有しかつ環状体量の少ないシロキサンオリゴマーが透明ハードコート材料の原料として好ましい。
シロキサンオリゴマーを原料として含む硬化性組成物を用いて硬化被膜を形成した場合、使用したシロキサンオリゴマーの構造が、硬化被膜の構造に大きな影響を及ぼし、硬化被膜のハードコートとしての性能にも大きく影響することが分かっている。シロキサンオリゴマー中の環状体量と得られる硬化被膜中の環状体量には相関があり、高い耐擦傷性を得るためには、環状体量が少ない方が有利である。また、高い分子量を有するシロキサンオリゴマーを用いて硬化被膜を作製した方が重合時の収縮が小さいため、硬化被膜にクラックが入りにくい。したがって、高分子量を有しかつ環状体量の少ないシロキサンオリゴマーが透明ハードコート材料の原料として好ましい。
シロキサン結合は960〜1240cm−1に吸収を持っており、そのうち1050cm−1よりも高波数側の吸収は環状シロキサン結合に由来し、低波数側の吸収は直鎖状シロキサン結合に由来する。なお、環状シロキサン結合とは、シロキサン結合のうち環状構造を形成しているものであり、直鎖状シロキサン結合とは、環状構造を形成していないものである。
図1は上記のFT−IRによる全反射法で測定した、シロキサンオリゴマーの赤外線吸収スペクトルの一例である。なお、図1は、本実施例1で得られたシロキサンオリゴマーについて測定した赤外線吸収スペクトルである。赤外線吸収スペクトルの測定は、基材にシロキサンオリゴマー溶液を塗布し、30℃以下の温度に設定した乾燥機にて2時間から6時間かけて溶剤を乾燥させてから、FT−IRによる全反射法により行った。図1において、1240cm−1での吸光度を示す点Aと、960cm−1での吸光度を示す点を点Bと、線分AB上の1050cm−1における点を点Cと、1050cm−1での吸光度を示す点を点Eと規定する。環状シロキサン結合に由来するピーク面積A1は、線分ACと線分CEと線分ACよりも上側にあるスペクトル曲線とで囲まれる面積である。また、直鎖状シロキサン結合に由来するピーク面積A2は、線分CBと線分CEと線分CBよりも上側にあるスペクトル曲線とで囲まれる面積である。
また、シラノール基は860〜960cm−1に吸収を持っており、点Bと860cm−1における吸光度を示す点Dとを結ぶ線分を線分BDとすると、シラノール基に由来するピーク面積A3は、線分BDと線分BDよりも上側にあるスペクトル曲線とで囲まれる面積である。
シロキサンオリゴマーは、公知の手法で製造した場合、シロキサン結合を増加させて、高分子量化する程、環状体が多く生成する。しかしながら、本発明による方法で合成されたシロキサンオリゴマーは、シロキサン結合を増加させて高分子量化しても、環状体の生成は限定的である。
そこで、本発明者らは、鋭意検討したところ、後述の関係を満たすシロキサンオリゴマーを用いた場合、耐擦傷性と耐クラック性に優れる硬化被膜を得ることができることがわかった。
本発明におけるシロキサンオリゴマーは、上記(A1+A2)/A3をZ、上記A1/A2をYとしたZY座標において、以下の関係を満たす。
Y≦0.065Z+0.99 かつ 4.0≦Z
この関係を満たすシロキサンオリゴマーを用いて作製した硬化被膜は、耐擦傷性と耐クラック性のバランスが取れたものとなるため、上記の範囲内のシロキサンオリゴマーが好ましい構造である。
また、本発明におけるシロキサンオリゴマーは、GPC法によるポリスチレン換算の重量平均分子量MwをX、環状体生成量の指標であるA1/A2をYとしたXY座標において、以下の関係を満たすことが好ましい。
Y≦(0.7/2400)X+1.025かつ
600≦X
600≦X
これらの関係を満たすシロキサンオリゴマーを用いて作製した硬化被膜は、耐擦傷性と耐クラック性のバランスが取れたものとなる。
本発明におけるシロキサンオリゴマーは、GPC法によるポリスチレン換算の重量平均分子量Mwが600以上であることが好ましい。Mw(X)の上限は、特に限定されないが、3000以下であることが好ましい。Mwは700〜2500の範囲内であることがより好ましい。Mwが600以上であれば、これを原料として硬化被膜を作製した際、重合収縮が小さくなるため、耐クラック性が良好となる。また、3000以下であれば、オリゴマー中の環状体の生成量は限定的であるため、これを原料として作製した硬化被膜の耐擦傷性が良好となる。また、Yは0.9以上であることが好ましい。
一般に、シロキサンオリゴマーにおいて、シロキサン結合の量と分子量との間にはおおよその相関がある。また、シロキサン結合が多いもの程、硬化被膜を作製した際の重合収縮が小さくなり、耐クラック性に優れる硬化被膜が得られる。シロキサン結合の量は、前述の赤外線吸収スペクトルより得られるピーク面積A1,A2,A3を用いて計算される(A1+A2)/A3を指標として評価することが可能である。シロキサン結合が多くなるほど、(A1+A2)/A3は大きくなる。
本発明におけるシロキサンオリゴマーにおいて、(A1+A2)/A3が4.0〜14.0の範囲内であることが好ましく、5.0〜11.0の範囲内であることがより好ましい。(A1+A2)/A3が4.0以上であれば、これを原料として硬化被膜を作製した際、重合収縮が小さくなるために、耐クラック性が良好となる。また、14.0以下であれば、オリゴマー中の環状体の生成量は限定的であるため、これを原料として作製した硬化被膜の耐擦傷性が良好となる。
本発明におけるシロキサンオリゴマーの環状体の量は、赤外線吸収スペクトルから求められるピーク面積A1とA2との比(A1/A2)を指標として評価することが可能である。環状体量の少ないものほど、A1/A2は小さくなる。
A1/A2の範囲が0.9以上のシロキサンオリゴマーであれば、例えば本発明の手法により容易に合成できる。また、A1/A2の上限値は、1.9以下であることが好ましく、1.6以下であることがより好ましい。A1/A2が1.9以下であれば、これを原料として作製した硬化被膜の耐擦傷性が良好となる。
上記関係式を満たすシロキサンオリゴマーを得る方法としては、特に限定されなるものではなく、本発明の一形態の製造方法により好適に製造することができる。また、他にも、例えば、反応容器にアルコキシシラン、溶剤を混合したものを加温した後、水を徐々に反応容器内へ添加することで、アルコキシシランのアルコキシ基がある程度残った状態で縮合させることにより、シロキサンオリゴマーを合成する方法が挙げられる。また、反応容器内でアルコキシシラン、溶剤、水を混合したものを加温した後、初めに酸性触媒を導入し、合成の後期において塩基性の触媒を導入することにより、シロキサンオリゴマーを合成する方法も挙げられる。また、反応容器内でアルコキシシラン、溶剤、水を混合したものを加温した後、合成の途中で反応系から水を徐々に取り除きながら反応を行うことにより、シロキサンオリゴマーを合成する方法も挙げられる。
以下、本発明について実施例を用いて詳述する。
[実施例1]
<酸水溶液のpH測定>
pH計(メトラー・トレド株式会社製、MP230)を用いて、オリゴマー合成に用いた酸水溶液のpHを測定した。pHの測定結果を表1に示す。
<酸水溶液のpH測定>
pH計(メトラー・トレド株式会社製、MP230)を用いて、オリゴマー合成に用いた酸水溶液のpHを測定した。pHの測定結果を表1に示す。
<シロキサンオリゴマー(1)の合成>
アルコキシシランとしてメチルトリメトキシシラン(信越化学工業株式会社製、分子量136)100gに、溶剤としてイソプロピルアルコール85.78gをナス型フラスコに加え、ナス型フラスコの上部を還流しつつ、80℃熱浴中で攪拌しながら加温した。溶液が80℃に達した後、そのナス型フラスコに1.0mol/Lのマンデル酸水溶液を13.23g加えて、反応を開始した。反応の開始から110分経過後、さらに26.45gの水を加えて、さらに反応を進めた。反応の開始から120分経過後、ナス型フラスコを熱浴から取り出し、直ちに0℃の氷浴中で冷却して反応を終了させ、シロキサンオリゴマー(1)を得た。
アルコキシシランとしてメチルトリメトキシシラン(信越化学工業株式会社製、分子量136)100gに、溶剤としてイソプロピルアルコール85.78gをナス型フラスコに加え、ナス型フラスコの上部を還流しつつ、80℃熱浴中で攪拌しながら加温した。溶液が80℃に達した後、そのナス型フラスコに1.0mol/Lのマンデル酸水溶液を13.23g加えて、反応を開始した。反応の開始から110分経過後、さらに26.45gの水を加えて、さらに反応を進めた。反応の開始から120分経過後、ナス型フラスコを熱浴から取り出し、直ちに0℃の氷浴中で冷却して反応を終了させ、シロキサンオリゴマー(1)を得た。
[実施例2〜5、比較例1]
1.0mol/Lマンデル酸水溶液の代わりに、表1に記載の化合物の1.0mol/L水溶液を添加したこと以外は、実施例1と同様にしてシロキサンオリゴマー(2)〜(6)を得た。
1.0mol/Lマンデル酸水溶液の代わりに、表1に記載の化合物の1.0mol/L水溶液を添加したこと以外は、実施例1と同様にしてシロキサンオリゴマー(2)〜(6)を得た。
[比較例2]
アルコキシシランとしてメチルトリメトキシシラン(信越化学工業株式会社製、分子量136)100gに、溶剤としてイソプロピルアルコール85.78gをナス型フラスコに加え、ナス型フラスコの上部を還流しつつ、80℃熱浴中で攪拌しながら加温した。溶液が80℃に達した後、そのナス型フラスコに0.1mol/Lの塩酸13.23gを加えて、反応を開始した。反応の開始から110分経過後、さらに26.45gの水を加えて、さらに反応を進めた。反応の開始から120分経過後、ナス型フラスコを熱浴から取り出し、直ちに0℃の氷浴中で冷却して反応を終了させ、シロキサンオリゴマー(7)を得た。
アルコキシシランとしてメチルトリメトキシシラン(信越化学工業株式会社製、分子量136)100gに、溶剤としてイソプロピルアルコール85.78gをナス型フラスコに加え、ナス型フラスコの上部を還流しつつ、80℃熱浴中で攪拌しながら加温した。溶液が80℃に達した後、そのナス型フラスコに0.1mol/Lの塩酸13.23gを加えて、反応を開始した。反応の開始から110分経過後、さらに26.45gの水を加えて、さらに反応を進めた。反応の開始から120分経過後、ナス型フラスコを熱浴から取り出し、直ちに0℃の氷浴中で冷却して反応を終了させ、シロキサンオリゴマー(7)を得た。
[実施例6]
アルコキシシランとしてメチルトリメトキシシラン(信越化学工業株式会社製、分子量136)100gに、溶剤としてイソプロピルアルコール85.78gをナス型フラスコに加え、ナス型フラスコの上部を還流しつつ、80℃熱浴中で攪拌しながら加温した。溶液が80℃に達した後、そのナス型フラスコに1.0mol/Lのマンデル酸水溶液26.45g加えて、反応を開始した。反応の開始から80分経過後、さらに13.23gの水を加えて、さらに反応を進めた。反応の開始から90分経過後、ナス型フラスコを熱浴から取り出し、直ちに0℃の氷浴中で冷却して反応を終了させ、シロキサンオリゴマー(8)を得た。
アルコキシシランとしてメチルトリメトキシシラン(信越化学工業株式会社製、分子量136)100gに、溶剤としてイソプロピルアルコール85.78gをナス型フラスコに加え、ナス型フラスコの上部を還流しつつ、80℃熱浴中で攪拌しながら加温した。溶液が80℃に達した後、そのナス型フラスコに1.0mol/Lのマンデル酸水溶液26.45g加えて、反応を開始した。反応の開始から80分経過後、さらに13.23gの水を加えて、さらに反応を進めた。反応の開始から90分経過後、ナス型フラスコを熱浴から取り出し、直ちに0℃の氷浴中で冷却して反応を終了させ、シロキサンオリゴマー(8)を得た。
[比較例3]
アルコキシシランとしてメチルトリメトキシシラン(信越化学工業株式会社製、分子量136)100gに、溶剤としてイソプロピルアルコール85.78gをナス型フラスコに加え、ナス型フラスコの上部を還流しつつ、80℃熱浴中で攪拌しながら加温した。溶液が80℃に達した後、そのナス型フラスコに1.0mol/Lの3−ヒドロキシ酪酸水溶液26.45g加えて、反応を開始した。反応の開始から170分経過後、さらに13.23gの水を加えて、さらに反応を進めた。反応の開始から180分経過後、ナス型フラスコを熱浴から取り出し、直ちに0℃の氷浴中で冷却して反応を終了させ、シロキサンオリゴマー(9)を得た。
アルコキシシランとしてメチルトリメトキシシラン(信越化学工業株式会社製、分子量136)100gに、溶剤としてイソプロピルアルコール85.78gをナス型フラスコに加え、ナス型フラスコの上部を還流しつつ、80℃熱浴中で攪拌しながら加温した。溶液が80℃に達した後、そのナス型フラスコに1.0mol/Lの3−ヒドロキシ酪酸水溶液26.45g加えて、反応を開始した。反応の開始から170分経過後、さらに13.23gの水を加えて、さらに反応を進めた。反応の開始から180分経過後、ナス型フラスコを熱浴から取り出し、直ちに0℃の氷浴中で冷却して反応を終了させ、シロキサンオリゴマー(9)を得た。
[比較例4]
1.0mol/L 3−ヒドロキシ酪酸水溶液の代わりに、表1に記載の化合物(酢酸の1.0mol/L水溶液を添加したこと以外は、比較例3と同様にしてシロキサンオリゴマー(10)を得た。
1.0mol/L 3−ヒドロキシ酪酸水溶液の代わりに、表1に記載の化合物(酢酸の1.0mol/L水溶液を添加したこと以外は、比較例3と同様にしてシロキサンオリゴマー(10)を得た。
[実施例7]
アルコキシシランとしてメチルトリメトキシシラン(信越化学工業株式会社製、分子量136)100gに、溶剤としてイソプロピルアルコール85.78gをナス型フラスコに加え、ナス型フラスコの上部を還流しつつ、80℃熱浴中で攪拌しながら加温した。溶液が80℃に達した後、そのナス型フラスコに1.0mol/Lの乳酸水溶液26.45g加えて、反応を開始した。反応の開始から230分経過後、さらに13.23gの水を加えて、さらに反応を進めた。反応の開始から240分経過後、ナス型フラスコを熱浴から取り出し、直ちに0℃の氷浴中で冷却して反応を終了させ、シロキサンオリゴマー(11)を得た。
アルコキシシランとしてメチルトリメトキシシラン(信越化学工業株式会社製、分子量136)100gに、溶剤としてイソプロピルアルコール85.78gをナス型フラスコに加え、ナス型フラスコの上部を還流しつつ、80℃熱浴中で攪拌しながら加温した。溶液が80℃に達した後、そのナス型フラスコに1.0mol/Lの乳酸水溶液26.45g加えて、反応を開始した。反応の開始から230分経過後、さらに13.23gの水を加えて、さらに反応を進めた。反応の開始から240分経過後、ナス型フラスコを熱浴から取り出し、直ちに0℃の氷浴中で冷却して反応を終了させ、シロキサンオリゴマー(11)を得た。
[比較例5]
1.0mol/Lの乳酸水溶液の代わりに、表1に記載の化合物(ギ酸)の1.0mol/L水溶液を添加したこと以外は、実施例7と同様にして、シロキサンオリゴマー(12)を得た。
1.0mol/Lの乳酸水溶液の代わりに、表1に記載の化合物(ギ酸)の1.0mol/L水溶液を添加したこと以外は、実施例7と同様にして、シロキサンオリゴマー(12)を得た。
[実施例8]
アルコキシシランとしてメチルトリメトキシシラン(信越化学工業株式会社製、分子量136)100gに、溶剤としてイソプロピルアルコール85.78gをナス型フラスコに加えた。そして、ナス型フラスコの上部を2又に分岐した管を取り付け、一方の管に入った蒸気は全てナス型フラスコに戻るように第一の冷却管を設置し、もう一方の管に入った蒸気は全てフラスコ外に出るように第二の冷却管を設置した。溶液が80℃に達した後、そのナス型フラスコに1.0mol/Lのマンデル酸水溶液を26.45g加えて、反応を開始した。取り出す側の第二の冷却管に入る蒸気の温度が65℃から70℃の範囲に入るように、ナス型フラスコの上部に保温用のジャケットを取り付けた。反応の開始から230分経過後、さらに13.23gの水を加えて、さらに反応を進めた。反応の開始から240分経過後、ナス型フラスコを熱浴から取り出し、直ちに0℃の氷浴中で冷却して反応を終了し、シロキサンオリゴマー(13)を得た。また、ナスフラスコから取り出した留出液の質量を測定したところ、13.73gであった。
アルコキシシランとしてメチルトリメトキシシラン(信越化学工業株式会社製、分子量136)100gに、溶剤としてイソプロピルアルコール85.78gをナス型フラスコに加えた。そして、ナス型フラスコの上部を2又に分岐した管を取り付け、一方の管に入った蒸気は全てナス型フラスコに戻るように第一の冷却管を設置し、もう一方の管に入った蒸気は全てフラスコ外に出るように第二の冷却管を設置した。溶液が80℃に達した後、そのナス型フラスコに1.0mol/Lのマンデル酸水溶液を26.45g加えて、反応を開始した。取り出す側の第二の冷却管に入る蒸気の温度が65℃から70℃の範囲に入るように、ナス型フラスコの上部に保温用のジャケットを取り付けた。反応の開始から230分経過後、さらに13.23gの水を加えて、さらに反応を進めた。反応の開始から240分経過後、ナス型フラスコを熱浴から取り出し、直ちに0℃の氷浴中で冷却して反応を終了し、シロキサンオリゴマー(13)を得た。また、ナスフラスコから取り出した留出液の質量を測定したところ、13.73gであった。
[比較例6]
1.0mol/Lのマンデル酸水溶液の代わりに、表1に記載の化合物(ギ酸)の1.0mol/L水溶液を添加したこと以外は、実施例8と同様にして、シロキサンオリゴマー(14)を得た。また、ナスフラスコから取り出した留出液の質量を測定したところ、10.53gであった。
1.0mol/Lのマンデル酸水溶液の代わりに、表1に記載の化合物(ギ酸)の1.0mol/L水溶液を添加したこと以外は、実施例8と同様にして、シロキサンオリゴマー(14)を得た。また、ナスフラスコから取り出した留出液の質量を測定したところ、10.53gであった。
<硬化被膜(1)の作製>
実施例1で得たシロキサンオリゴマー(1)100gに、1−メトキシ−2−プロパノール(以下「PGM」という)9.5g、γ−ブチロラクトン9.5g、光感応性酸発生剤(三新化学工業(株)製、サンエイドSI−100L):0.8g、レベリング剤としてシリコン系界面活性剤(東レ・ダウコーニング(株)製、L−7001):0.02gを混合し、コーティング用組成物を得た。
実施例1で得たシロキサンオリゴマー(1)100gに、1−メトキシ−2−プロパノール(以下「PGM」という)9.5g、γ−ブチロラクトン9.5g、光感応性酸発生剤(三新化学工業(株)製、サンエイドSI−100L):0.8g、レベリング剤としてシリコン系界面活性剤(東レ・ダウコーニング(株)製、L−7001):0.02gを混合し、コーティング用組成物を得た。
このコーティング用組成物を、長さ10cm、幅10cm、厚さ3mmのアクリル板(三菱レイヨン株式会社製、商品名アクリライトL)上に適量滴下し、バーコーティング法(バーコーターNo.26使用)にて塗布し、乾燥機にて90℃で10分間乾燥した。
さらに、高圧水銀灯(株式会社オーク製作所製、紫外線照射装置、ハンディーUV−1200、QRU−2161型)にて、約1,000mJ/cm2の紫外線を照射し、膜厚約5μmの硬化被膜を得た。なお、紫外線照射量は、紫外線光量計(株式会社オーク製作所製、UV−351型、ピーク感度波長360nm)にて測定した。硬化被膜サンプルを、乾燥機にて90℃で10分間乾燥し、硬化被膜(1)を得た。
<硬化被膜(2)〜(12)の作製>
シロキサンオリゴマー(1)の代わりに他の実施例、比較例で得たシロキサンオリゴマー(2)〜(12)を使用したこと以外は硬化被膜(1)と同様にして、それぞれ硬化被膜(2)〜(12)を得た。
シロキサンオリゴマー(1)の代わりに他の実施例、比較例で得たシロキサンオリゴマー(2)〜(12)を使用したこと以外は硬化被膜(1)と同様にして、それぞれ硬化被膜(2)〜(12)を得た。
<硬化被膜(13)の作製>
シロキサンオリゴマー(1)の代わりに実施例8で得たシロキサンオリゴマー(13)86.47gにメタノールを13.53g加えて、固形分濃度をシロキサンオリゴマー(1)と同じにしたもの100gを用いたこと以外は、硬化膜(1)と同様にして、硬化被膜(13)を調製した。
シロキサンオリゴマー(1)の代わりに実施例8で得たシロキサンオリゴマー(13)86.47gにメタノールを13.53g加えて、固形分濃度をシロキサンオリゴマー(1)と同じにしたもの100gを用いたこと以外は、硬化膜(1)と同様にして、硬化被膜(13)を調製した。
<硬化被膜(14)の作製>
シロキサンオリゴマー(1)の代わりに比較例6で得たシロキサンオリゴマー(14)89.62gにメタノールを10.38g加えて、固形分濃度をシロキサンオリゴマー(1)と同じにしたもの100gを用いたこと以外は、硬化膜(1)と同様にして、硬化被膜(14)を調製した。
シロキサンオリゴマー(1)の代わりに比較例6で得たシロキサンオリゴマー(14)89.62gにメタノールを10.38g加えて、固形分濃度をシロキサンオリゴマー(1)と同じにしたもの100gを用いたこと以外は、硬化膜(1)と同様にして、硬化被膜(14)を調製した。
[シロキサンオリゴマーの評価]
1)赤外線吸収測定
FT−IR(商品名:「NEXUS470」、サーモニコレー社製)による全反射法(ATR;Attenuated Total Reflectance)により、シロキサンオリゴマーの赤外吸収スペクトルの測定を行なった。シロキサンオリゴマーのスペクトル測定は、長さ10cm、幅10cm、厚さ3mmのアクリル板(三菱レイヨン株式会社製、商品名アクリライトL)上に適量滴下し、バーコーティング法(バーコーターNo.26使用)にて塗布し、乾燥機にて30℃で4時間放置して溶剤を乾燥させて得られたシロキサンオリゴマー層について測定を実施することにより行った。測定は、ATR測定用アクセサリー(商品名「FOUNDATION ThunderDome」、スペクトラック社製)を用いて、分解能4cm−1、積算回数32回で実施した。また、ピーク面積の解析には、FT−IR解析ソフト(商品名「OMNIC」,サーモニコレー社製)の積分ツールを用いて、線分AB、線分BDを引き、点Cを決めて、ピーク面積A1、A2、A3を求めた。得られた赤外線吸収スペクトルから、ピーク面積比A1/A2、及びピーク面積比A3/(A1+A2)を求めた。
1)赤外線吸収測定
FT−IR(商品名:「NEXUS470」、サーモニコレー社製)による全反射法(ATR;Attenuated Total Reflectance)により、シロキサンオリゴマーの赤外吸収スペクトルの測定を行なった。シロキサンオリゴマーのスペクトル測定は、長さ10cm、幅10cm、厚さ3mmのアクリル板(三菱レイヨン株式会社製、商品名アクリライトL)上に適量滴下し、バーコーティング法(バーコーターNo.26使用)にて塗布し、乾燥機にて30℃で4時間放置して溶剤を乾燥させて得られたシロキサンオリゴマー層について測定を実施することにより行った。測定は、ATR測定用アクセサリー(商品名「FOUNDATION ThunderDome」、スペクトラック社製)を用いて、分解能4cm−1、積算回数32回で実施した。また、ピーク面積の解析には、FT−IR解析ソフト(商品名「OMNIC」,サーモニコレー社製)の積分ツールを用いて、線分AB、線分BDを引き、点Cを決めて、ピーク面積A1、A2、A3を求めた。得られた赤外線吸収スペクトルから、ピーク面積比A1/A2、及びピーク面積比A3/(A1+A2)を求めた。
2)GPC法による分子量の測定
シロキサンオリゴマーの分子量としては、GPC法により、ポリスチレン換算の分子量を求めた。GPC法における測定サンプルは、測定対象のシロキサンオリゴマーをTHFによって、固形分濃度が1重量%となるように希釈して作製した。また、GPC法の測定には、分析カラムとして、TSK−GEL GMHXL(東ソー(株)社製)2本、TSK−GEL G1000HXL(東ソー(株)社製)1本を連結して使用した。また、溶離液としてはテトラヒドロフラン(流速1.0ml/min)を用い、カラム温度は40℃に設定し、検出器としてはRefractive Index検出器2414(Waters社製)を使用した。
シロキサンオリゴマーの分子量としては、GPC法により、ポリスチレン換算の分子量を求めた。GPC法における測定サンプルは、測定対象のシロキサンオリゴマーをTHFによって、固形分濃度が1重量%となるように希釈して作製した。また、GPC法の測定には、分析カラムとして、TSK−GEL GMHXL(東ソー(株)社製)2本、TSK−GEL G1000HXL(東ソー(株)社製)1本を連結して使用した。また、溶離液としてはテトラヒドロフラン(流速1.0ml/min)を用い、カラム温度は40℃に設定し、検出器としてはRefractive Index検出器2414(Waters社製)を使用した。
[硬化被膜の評価]
1)耐擦傷性
硬化被膜を有するアクリル板の表面を、#0000スチールウールで、9.8×104Paの圧力を加えて10往復擦り、1cm×3cmの範囲に発生した傷の程度を観察した。評価は、以下の基準で行った。結果を表1に示す。
1)耐擦傷性
硬化被膜を有するアクリル板の表面を、#0000スチールウールで、9.8×104Paの圧力を加えて10往復擦り、1cm×3cmの範囲に発生した傷の程度を観察した。評価は、以下の基準で行った。結果を表1に示す。
A:ほとんど傷が付かない。
B:1〜9本のキズが付く。光沢面あり。
C:10〜49本のキズが付く。光沢面あり。
B:1〜9本のキズが付く。光沢面あり。
C:10〜49本のキズが付く。光沢面あり。
2)耐クラック性
硬化被膜を有するアクリル板の表面を温度90℃の熱水に4時間放置して、クラックの発生状況を目視で確認した。
硬化被膜を有するアクリル板の表面を温度90℃の熱水に4時間放置して、クラックの発生状況を目視で確認した。
○:サンプルの全面においてクラックが発生しない。
△:サンプルの一部分においてクラックが発生する。
×:サンプルの全面においてクラックが発生する。
△:サンプルの一部分においてクラックが発生する。
×:サンプルの全面においてクラックが発生する。
表1に示すとおり、実施例1〜8のように、触媒として2−ヒドロキシカルボン酸化合物を用いて得られたシロキサンオリゴマー(環状体量が少なく、かつ分子量が高い)を用いた場合、耐擦傷性と耐クラック性に優れた硬化被膜を製造することができた。
しかしながら、比較例1〜6のように、2−ヒドロキシカルボン酸化合物以外の触媒を用いて得られたシロキサンオリゴマーを用いた場合、作製した硬化被膜は、実施例と比較して、耐擦傷性や耐クラック性に劣っていた。
よって、本発明により、耐擦傷性と耐クラック性に優れた硬化被膜を製造することが可能となることが示された。
本発明の製造方法により製造されたシロキサンオリゴマー、又は本発明の関係式を満たすシロキサンオリゴマーを原料として含む硬化性組成物は、耐擦傷性と耐クラック性に優れたコーティング材料として用いることができる。
本発明に係るシロキサンオリゴマーは、特に限定されないが、例えば、自動車窓用樹脂部材へのコーティング材料、自動車ヘッドランプ部材へのコーティング材料、携帯電話やデジタルカメラ等の液晶ディスプレイ保護板へのコーティング材料、タッチパネル部材への表面コーティング材料、高速道路の樹脂製防音壁へのコーティング材料等に適用可能である。
Claims (7)
- 式(1)で示される2−ヒドロキシカルボン酸化合物を触媒として使用し、アルコキシシランを加水分解及び縮合させることを特徴とするシロキサンオリゴマーの製造方法;
- FT−IRによる全反射法により測定される赤外線吸収スペクトルにおける下記で表されるピーク面積A1、A2及びA3について、(A1+A2)/A3をZとし、A1/A2をYとしたZY座標において、以下の関係を満たすシロキサンオリゴマー;
Y≦0.065Z+0.99 かつ 4.0≦Z
(前記赤外線吸収スペクトルにおいて、1240cm-1での吸光度を示す点を点Aと、960cm-1での吸光度を示す点を点Bと、線分AB上の1050cm-1における点を点Cと、1050cm-1での吸光度を示す点を点Eと、860cm-1での吸光度を示す点を点Dと、規定する。前記A1は、線分ACと線分CEと線分ACよりも上側にあるスペクトル曲線とで囲まれる面積である。前記A2は、線分CBと線分CEと線分CBよりも上側にあるスペクトル曲線とで囲まれる面積である。前記A3は、線分BDと線分BDよりも上側にあるスペクトル曲線とで囲まれる面積である。)。 - GPCを用いて測定されるポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)をX、前記赤外線吸収スペクトルにおける前記ピーク面積A1とA2の比(A1/A2)をYとしたXY座標において、以下の関係を満たす、請求項3に記載のシロキサンオリゴマー;
Y≦(0.7/2400)X+1.025かつ
600≦X - 請求項1又は2に記載のシロキサンオリゴマーの製造方法にて得られたシロキサンオリゴマーを含む硬化性組成物。
- 請求項5に記載の硬化性組成物を基材に配置させて被膜を形成し、活性エネルギー線の照射又は加熱により前記被膜を硬化させるポリシロキサン硬化被膜の製造方法。
- 請求項3又は4に記載のシロキサンオリゴマーを含む硬化性組成物を基材に配置させて被膜を形成し、活性エネルギー線の照射又は加熱により前記被膜を硬化させて得られるポリシロキサン硬化被膜。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011116841 | 2011-05-25 | ||
JP2011116841 | 2011-05-25 | ||
PCT/JP2012/063035 WO2012161185A1 (ja) | 2011-05-25 | 2012-05-22 | シロキサンオリゴマーの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2012161185A1 true JPWO2012161185A1 (ja) | 2014-07-31 |
Family
ID=47217261
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012524971A Pending JPWO2012161185A1 (ja) | 2011-05-25 | 2012-05-22 | シロキサンオリゴマーの製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20140094565A1 (ja) |
EP (1) | EP2716645A4 (ja) |
JP (1) | JPWO2012161185A1 (ja) |
CN (1) | CN103562211A (ja) |
WO (1) | WO2012161185A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105713033B (zh) * | 2016-02-29 | 2018-08-03 | 山东东岳有机硅材料股份有限公司 | 制备烷氧基有机硅低聚物的方法 |
CN106674521B (zh) * | 2017-01-17 | 2019-11-26 | 荆州市江汉精细化工有限公司 | 一种环氧硅烷低聚物的制备方法 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07126388A (ja) * | 1993-08-25 | 1995-05-16 | Agency Of Ind Science & Technol | オキシカルボン酸類−シリカ複合体及びその製造方法 |
JP2004303870A (ja) * | 2003-03-31 | 2004-10-28 | Toshiba Corp | 微細パターン形成方法 |
JP2006516065A (ja) * | 2002-08-01 | 2006-06-15 | モレキュラー・インプリンツ・インコーポレーテッド | インプリント・リソグラフィの散乱計測アラインメント |
WO2007066597A1 (ja) * | 2005-12-06 | 2007-06-14 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | 光架橋硬化のレジスト下層膜を形成するためのケイ素含有レジスト下層膜形成組成物 |
JP2008116493A (ja) * | 2006-10-31 | 2008-05-22 | Sanyo Chem Ind Ltd | 感光性樹脂組成物 |
JP2008134612A (ja) * | 2006-10-31 | 2008-06-12 | Sanyo Chem Ind Ltd | 感光性樹脂組成物 |
WO2008149544A1 (ja) * | 2007-06-04 | 2008-12-11 | Scivax Corporation | 型、微細加工品およびそれらの製造方法 |
JP2010251434A (ja) * | 2009-04-14 | 2010-11-04 | Nissan Chem Ind Ltd | 光インプリント用被膜形成用組成物 |
WO2011013630A1 (ja) * | 2009-07-29 | 2011-02-03 | 日産化学工業株式会社 | ナノインプリント用レジスト下層膜形成組成物 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0638605B1 (en) * | 1993-08-10 | 1998-12-09 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Process for preparing a polyester-modified silicone resin and a curable composition comprising the polyester-modified silicone resin |
US20070196667A1 (en) * | 2004-03-09 | 2007-08-23 | Teijin Dupont Films Japan Limited | Anti-Reflection Film And Manufacturing Process Thereof |
CA2615010A1 (en) * | 2005-07-15 | 2007-01-25 | Dow Corning Corporation | Hydrophobing minerals and filler materials |
TWI380132B (en) * | 2006-10-31 | 2012-12-21 | Sanyo Chemical Ind Ltd | Photosensitive resin composition |
KR101077274B1 (ko) * | 2007-05-28 | 2011-10-27 | 코오롱인더스트리 주식회사 | 폴리알킬실세스퀴옥산 미립자 및 그 제조방법 |
WO2008156680A1 (en) * | 2007-06-15 | 2008-12-24 | Sba Materials, Inc. | Low k dielectric |
JP2009108109A (ja) | 2007-10-26 | 2009-05-21 | Arakawa Chem Ind Co Ltd | 熱硬化性樹脂組成物、当該硬化物、およびこれらから誘導される発光ダイオード |
JP2011246702A (ja) * | 2010-04-28 | 2011-12-08 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | オルガノシロキサンオリゴマー組成物の製造方法、オルガノシロキサンオリゴマー組成物、ポリオルガノシロキサン硬化被膜の製造方法、及びポリオルガノシロキサン硬化被膜 |
-
2012
- 2012-05-22 US US14/119,680 patent/US20140094565A1/en not_active Abandoned
- 2012-05-22 EP EP20120788707 patent/EP2716645A4/en not_active Withdrawn
- 2012-05-22 JP JP2012524971A patent/JPWO2012161185A1/ja active Pending
- 2012-05-22 WO PCT/JP2012/063035 patent/WO2012161185A1/ja active Application Filing
- 2012-05-22 CN CN201280025277.9A patent/CN103562211A/zh active Pending
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07126388A (ja) * | 1993-08-25 | 1995-05-16 | Agency Of Ind Science & Technol | オキシカルボン酸類−シリカ複合体及びその製造方法 |
JP2006516065A (ja) * | 2002-08-01 | 2006-06-15 | モレキュラー・インプリンツ・インコーポレーテッド | インプリント・リソグラフィの散乱計測アラインメント |
JP2004303870A (ja) * | 2003-03-31 | 2004-10-28 | Toshiba Corp | 微細パターン形成方法 |
WO2007066597A1 (ja) * | 2005-12-06 | 2007-06-14 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | 光架橋硬化のレジスト下層膜を形成するためのケイ素含有レジスト下層膜形成組成物 |
JP2008116493A (ja) * | 2006-10-31 | 2008-05-22 | Sanyo Chem Ind Ltd | 感光性樹脂組成物 |
JP2008134612A (ja) * | 2006-10-31 | 2008-06-12 | Sanyo Chem Ind Ltd | 感光性樹脂組成物 |
WO2008149544A1 (ja) * | 2007-06-04 | 2008-12-11 | Scivax Corporation | 型、微細加工品およびそれらの製造方法 |
JP2010251434A (ja) * | 2009-04-14 | 2010-11-04 | Nissan Chem Ind Ltd | 光インプリント用被膜形成用組成物 |
WO2011013630A1 (ja) * | 2009-07-29 | 2011-02-03 | 日産化学工業株式会社 | ナノインプリント用レジスト下層膜形成組成物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2012161185A1 (ja) | 2012-11-29 |
CN103562211A (zh) | 2014-02-05 |
EP2716645A1 (en) | 2014-04-09 |
EP2716645A4 (en) | 2014-06-04 |
US20140094565A1 (en) | 2014-04-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101643262B1 (ko) | 실록산 수지 조성물 및 그것을 사용한 터치 패널용 보호막 | |
JP6256858B2 (ja) | ハードコート層を有する積層体及びその製造方法 | |
JP5266248B2 (ja) | エポキシ基含有オルガノシロキサン化合物 | |
JP4951337B2 (ja) | 活性エネルギー線硬化性コーティング用組成物および保護被膜形成方法 | |
US8241707B2 (en) | Silsesquioxane resins | |
JP2011116975A (ja) | シロキサンオリゴマーの製造方法、成形体の製造方法及び成形体 | |
KR101885404B1 (ko) | 활성 에너지선 경화성 조성물, 적층체, 및 적층체의 제조 방법 | |
JP2007046008A (ja) | 活性エネルギー線硬化性低屈折率コーティング用組成物および成形品 | |
JP2008088300A (ja) | 活性エネルギー線硬化性組成物及び積層体 | |
WO2012161185A1 (ja) | シロキサンオリゴマーの製造方法 | |
JP2010253767A (ja) | ハードコート成形品及びその製造方法、ならびに活性エネルギー線硬化性コーティング組成物 | |
JP2013147451A (ja) | 新規シラン化合物、シルセスキオキサン化合物とその製造方法、硬化性組成物、硬化物、透明フィルムおよび積層体 | |
JP6971968B2 (ja) | 積層体、その中間体、およびその製造方法、それに用いる硬化性樹脂組成物 | |
JP2004284221A (ja) | 硬化被膜付き透明基材及びそのための硬化性組成物 | |
US9000086B2 (en) | Thermally curable resin composition for protective film | |
JP2008038086A (ja) | 活性エネルギー線硬化性組成物及び積層体 | |
JP2005298754A (ja) | 活性エネルギー線硬化性コーティング用組成物および保護被膜形成方法 | |
JP2014240372A (ja) | シラン化合物、シルセスキオキサン化合物とその製造方法、硬化性組成物、硬化物、透明フィルムおよび積層体 | |
JP2014015560A (ja) | 耐擦傷性に優れたシロキサン系硬化被膜 | |
JP2012224672A (ja) | シルセスキオキサン化合物とその製造方法、硬化性組成物、硬化物、透明フィルムおよび積層体 | |
JP2005255718A (ja) | 活性エネルギー線硬化性コーティング用組成物および保護被膜形成方法 | |
JP2014046240A (ja) | 積層体の製造方法 | |
JP5207280B2 (ja) | 活性エネルギー線硬化性組成物、硬化被膜の形成方法及び積層体 | |
TW202405090A (zh) | 聚矽氧烷系化合物、皮膜形成用組成物、積層體、觸控面板、及硬化皮膜之形成方法 | |
JP2023081087A (ja) | ポリシロキサン系化合物、皮膜形成用組成物、該皮膜形成用組成物を塗工してなる積層体、該積層体を用いてなるタッチパネル、及び、硬化皮膜の形成方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20140521 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150522 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160419 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20161129 |