JPWO2012108371A1 - 多層グラフェン被覆基板の製造方法 - Google Patents
多層グラフェン被覆基板の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2012108371A1 JPWO2012108371A1 JP2012556867A JP2012556867A JPWO2012108371A1 JP WO2012108371 A1 JPWO2012108371 A1 JP WO2012108371A1 JP 2012556867 A JP2012556867 A JP 2012556867A JP 2012556867 A JP2012556867 A JP 2012556867A JP WO2012108371 A1 JPWO2012108371 A1 JP WO2012108371A1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- multilayer graphene
- graphene
- substrate
- resin
- multilayer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 618
- 229910021389 graphene Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 508
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 232
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 128
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 78
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 105
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 105
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims description 70
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 54
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 54
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims description 44
- -1 N-diethylformamide Chemical compound 0.000 claims description 43
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 30
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 30
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 27
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 26
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 24
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 24
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 23
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 23
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 18
- 238000003475 lamination Methods 0.000 claims description 14
- 229910021397 glassy carbon Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 13
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 claims description 13
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 12
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 claims description 11
- 239000011888 foil Substances 0.000 claims description 11
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 claims description 10
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 claims description 10
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 claims description 10
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 10
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N Acetic anhydride Chemical compound CC(=O)OC(C)=O WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N benzonitrile Chemical compound N#CC1=CC=CC=C1 JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 9
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 claims description 8
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 claims description 8
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 claims description 7
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 claims description 7
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 6
- LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N nitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1 LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- XHXFXVLFKHQFAL-UHFFFAOYSA-N phosphoryl trichloride Chemical compound ClP(Cl)(Cl)=O XHXFXVLFKHQFAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 claims description 6
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 claims description 6
- 229920013716 polyethylene resin Polymers 0.000 claims description 6
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 claims description 6
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 claims description 6
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 claims description 6
- FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N thionyl chloride Chemical compound ClS(Cl)=O FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 230000004931 aggregating effect Effects 0.000 claims description 5
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 claims description 5
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 claims description 5
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 claims description 5
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 5
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical group ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- WDXYVJKNSMILOQ-UHFFFAOYSA-N 1,3,2-dioxathiolane 2-oxide Chemical compound O=S1OCCO1 WDXYVJKNSMILOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- AVFZOVWCLRSYKC-UHFFFAOYSA-N 1-methylpyrrolidine Chemical compound CN1CCCC1 AVFZOVWCLRSYKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- TXQPIYKVIOKFAB-UHFFFAOYSA-N 4,4,5,5-tetrachloro-1,3-dioxolan-2-one Chemical compound ClC1(Cl)OC(=O)OC1(Cl)Cl TXQPIYKVIOKFAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- HIGQQEOWQNDHJD-UHFFFAOYSA-N 4,4-dichloro-1,3-dioxolan-2-one Chemical compound ClC1(Cl)COC(=O)O1 HIGQQEOWQNDHJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- SGDKTJPVCKQTHK-UHFFFAOYSA-N 5-bromo-2-fluoro-3-nitropyridine Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC(Br)=CN=C1F SGDKTJPVCKQTHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- OIFBSDVPJOWBCH-UHFFFAOYSA-N Diethyl carbonate Chemical compound CCOC(=O)OCC OIFBSDVPJOWBCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- KMTRUDSVKNLOMY-UHFFFAOYSA-N Ethylene carbonate Chemical compound O=C1OCCO1 KMTRUDSVKNLOMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- AHVYPIQETPWLSZ-UHFFFAOYSA-N N-methyl-pyrrolidine Natural products CN1CC=CC1 AHVYPIQETPWLSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000004693 Polybenzimidazole Substances 0.000 claims description 3
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- WETWJCDKMRHUPV-UHFFFAOYSA-N acetyl chloride Chemical compound CC(Cl)=O WETWJCDKMRHUPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000012346 acetyl chloride Substances 0.000 claims description 3
- PASDCCFISLVPSO-UHFFFAOYSA-N benzoyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC=CC=C1 PASDCCFISLVPSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- HPMLGNIUXVXALD-UHFFFAOYSA-N benzoyl fluoride Chemical compound FC(=O)C1=CC=CC=C1 HPMLGNIUXVXALD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- KVNRLNFWIYMESJ-UHFFFAOYSA-N butyronitrile Chemical compound CCCC#N KVNRLNFWIYMESJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- NPAXBRSUVYCZGM-UHFFFAOYSA-N carbonic acid;propane-1,2-diol Chemical compound OC(O)=O.CC(O)CO NPAXBRSUVYCZGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229960001701 chloroform Drugs 0.000 claims description 3
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- IEJIGPNLZYLLBP-UHFFFAOYSA-N dimethyl carbonate Chemical compound COC(=O)OC IEJIGPNLZYLLBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- JBTWLSYIZRCDFO-UHFFFAOYSA-N ethyl methyl carbonate Chemical compound CCOC(=O)OC JBTWLSYIZRCDFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- LRDFRRGEGBBSRN-UHFFFAOYSA-N isobutyronitrile Chemical compound CC(C)C#N LRDFRRGEGBBSRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- AJFDBNQQDYLMJN-UHFFFAOYSA-N n,n-diethylacetamide Chemical compound CCN(CC)C(C)=O AJFDBNQQDYLMJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- LYGJENNIWJXYER-UHFFFAOYSA-N nitromethane Chemical compound C[N+]([O-])=O LYGJENNIWJXYER-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- SUSQOBVLVYHIEX-UHFFFAOYSA-N phenylacetonitrile Chemical compound N#CCC1=CC=CC=C1 SUSQOBVLVYHIEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229920002480 polybenzimidazole Polymers 0.000 claims description 3
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- FVSKHRXBFJPNKK-UHFFFAOYSA-N propionitrile Chemical compound CCC#N FVSKHRXBFJPNKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N propylene carbonate Chemical compound CC1COC(=O)O1 RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- STCOOQWBFONSKY-UHFFFAOYSA-N tributyl phosphate Chemical compound CCCCOP(=O)(OCCCC)OCCCC STCOOQWBFONSKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- WVLBCYQITXONBZ-UHFFFAOYSA-N trimethyl phosphate Chemical compound COP(=O)(OC)OC WVLBCYQITXONBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- XBWIAVHZEWSRJI-UHFFFAOYSA-N Cl.Cl.OP(O)(=O)OC1=CC=CC=C1 Chemical compound Cl.Cl.OP(O)(=O)OC1=CC=CC=C1 XBWIAVHZEWSRJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- DILJSNXGQARQSW-UHFFFAOYSA-N OP(O)(O)C1=CC=CC=C1 Chemical compound OP(O)(O)C1=CC=CC=C1 DILJSNXGQARQSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 claims description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 claims description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 claims description 2
- BYMMIQCVDHHYGG-UHFFFAOYSA-N Cl.OP(O)(O)=O Chemical compound Cl.OP(O)(O)=O BYMMIQCVDHHYGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- HHVIBTZHLRERCL-UHFFFAOYSA-N sulfonyldimethane Chemical compound CS(C)(=O)=O HHVIBTZHLRERCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 103
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 98
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 98
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 92
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 46
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 40
- 239000000463 material Substances 0.000 description 40
- 239000000047 product Substances 0.000 description 37
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 35
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 31
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 31
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 30
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 30
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 30
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 22
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 21
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 19
- 230000008569 process Effects 0.000 description 19
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 18
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 17
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 17
- HBBGRARXTFLTSG-UHFFFAOYSA-N Lithium ion Chemical compound [Li+] HBBGRARXTFLTSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 229910001416 lithium ion Inorganic materials 0.000 description 16
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 16
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 15
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 14
- 239000007770 graphite material Substances 0.000 description 14
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 14
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 14
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 13
- 238000009830 intercalation Methods 0.000 description 13
- 230000002687 intercalation Effects 0.000 description 13
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 12
- 238000001513 hot isostatic pressing Methods 0.000 description 12
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 12
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 11
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 11
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 11
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 11
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 10
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 10
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 10
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 9
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 9
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 description 9
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 8
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 8
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 8
- 230000012010 growth Effects 0.000 description 8
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 8
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 8
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 8
- HMUNWXXNJPVALC-UHFFFAOYSA-N 1-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]-2-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethanone Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)N1CCN(CC1)C(CN1CC2=C(CC1)NN=N2)=O HMUNWXXNJPVALC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 7
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 7
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 7
- 239000003575 carbonaceous material Substances 0.000 description 7
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 7
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 7
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 7
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 7
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 7
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 7
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 7
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 6
- 238000000635 electron micrograph Methods 0.000 description 6
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 6
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 6
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 6
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 6
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 5
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 5
- 239000002585 base Substances 0.000 description 5
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 5
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 5
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 5
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 5
- 238000007731 hot pressing Methods 0.000 description 5
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 5
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 5
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 4
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920000742 Cotton Polymers 0.000 description 4
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 4
- 229910021383 artificial graphite Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 4
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 4
- 238000000445 field-emission scanning electron microscopy Methods 0.000 description 4
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 4
- 229910021385 hard carbon Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 4
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 4
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 4
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid Substances OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M Sodium laurylsulphate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCCOS([O-])(=O)=O DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 3
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 3
- 238000005411 Van der Waals force Methods 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 3
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 3
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 3
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 3
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 3
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 3
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 3
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 3
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 3
- 239000003779 heat-resistant material Substances 0.000 description 3
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 3
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 3
- 239000002932 luster Substances 0.000 description 3
- 239000004570 mortar (masonry) Substances 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 3
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 3
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 3
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 3
- 235000019333 sodium laurylsulphate Nutrition 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- YJLUBHOZZTYQIP-UHFFFAOYSA-N 2-[5-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]-1,3,4-oxadiazol-2-yl]-1-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethanone Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C1=NN=C(O1)CC(=O)N1CC2=C(CC1)NN=N2 YJLUBHOZZTYQIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 102000008186 Collagen Human genes 0.000 description 2
- 108010035532 Collagen Proteins 0.000 description 2
- DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N Glycine Chemical compound NCC(O)=O DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N Magnesium oxide Chemical compound [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- 238000001069 Raman spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 238000001237 Raman spectrum Methods 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 2
- 229910003481 amorphous carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 2
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 2
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 2
- 238000003763 carbonization Methods 0.000 description 2
- 239000005018 casein Substances 0.000 description 2
- BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N casein, tech. Chemical compound NCCCCC(C(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CC(C)C)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(C(C)O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(COP(O)(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(N)CC1=CC=CC=C1 BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000021240 caseins Nutrition 0.000 description 2
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 2
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 2
- 239000003610 charcoal Substances 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 238000005097 cold rolling Methods 0.000 description 2
- 229920001436 collagen Polymers 0.000 description 2
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 2
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 2
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 2
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 238000005098 hot rolling Methods 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 2
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 2
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 2
- VUZPPFZMUPKLLV-UHFFFAOYSA-N methane;hydrate Chemical compound C.O VUZPPFZMUPKLLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 239000007773 negative electrode material Substances 0.000 description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 2
- 238000000879 optical micrograph Methods 0.000 description 2
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 2
- CMPQUABWPXYYSH-UHFFFAOYSA-N phenyl phosphate Chemical compound OP(O)(=O)OC1=CC=CC=C1 CMPQUABWPXYYSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011295 pitch Substances 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 2
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 2
- 229920001955 polyphenylene ether Polymers 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 229920002215 polytrimethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 235000018102 proteins Nutrition 0.000 description 2
- 102000004169 proteins and genes Human genes 0.000 description 2
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 description 2
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 2
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 2
- 238000007514 turning Methods 0.000 description 2
- KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 1-naphthol Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=CC2=C1 KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDXJRKWFNNFDSA-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)-1-[4-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]ethanone Chemical compound C1CN(CC2=NNN=C21)CC(=O)N3CCN(CC3)C4=CN=C(N=C4)NCC5=CC(=CC=C5)OC(F)(F)F LDXJRKWFNNFDSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003821 2-(trimethylsilyl)ethoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si](C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C(OC([H])([H])[*])([H])[H] 0.000 description 1
- AWFYPPSBLUWMFQ-UHFFFAOYSA-N 2-[5-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]-1,3,4-oxadiazol-2-yl]-1-(1,4,6,7-tetrahydropyrazolo[4,3-c]pyridin-5-yl)ethanone Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C1=NN=C(O1)CC(=O)N1CC2=C(CC1)NN=C2 AWFYPPSBLUWMFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- APLNAFMUEHKRLM-UHFFFAOYSA-N 2-[5-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]-1,3,4-oxadiazol-2-yl]-1-(3,4,6,7-tetrahydroimidazo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethanone Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C1=NN=C(O1)CC(=O)N1CC2=C(CC1)N=CN2 APLNAFMUEHKRLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 6-phenyl-1,3,5-triazine-2,4-diamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(C=2C=CC=CC=2)=N1 GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Natural products C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920002972 Acrylic fiber Polymers 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102000007469 Actins Human genes 0.000 description 1
- 108010085238 Actins Proteins 0.000 description 1
- 240000000972 Agathis dammara Species 0.000 description 1
- 102000009027 Albumins Human genes 0.000 description 1
- 108010088751 Albumins Proteins 0.000 description 1
- 229920000049 Carbon (fiber) Polymers 0.000 description 1
- 102000011632 Caseins Human genes 0.000 description 1
- 108010076119 Caseins Proteins 0.000 description 1
- 229920003043 Cellulose fiber Polymers 0.000 description 1
- LZZYPRNAOMGNLH-UHFFFAOYSA-M Cetrimonium bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C LZZYPRNAOMGNLH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920002871 Dammar gum Polymers 0.000 description 1
- 239000004641 Diallyl-phthalate Substances 0.000 description 1
- RUPBZQFQVRMKDG-UHFFFAOYSA-M Didecyldimethylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCC[N+](C)(C)CCCCCCCCCC RUPBZQFQVRMKDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 241000196324 Embryophyta Species 0.000 description 1
- SNGVEVGTKFQUJT-UHFFFAOYSA-N F.F.OP(O)OC1=CC=CC=C1 Chemical compound F.F.OP(O)OC1=CC=CC=C1 SNGVEVGTKFQUJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N Gallium nitride Chemical compound [Ga]#N JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004471 Glycine Substances 0.000 description 1
- 244000043261 Hevea brasiliensis Species 0.000 description 1
- 102000011782 Keratins Human genes 0.000 description 1
- 108010076876 Keratins Proteins 0.000 description 1
- ZDXPYRJPNDTMRX-VKHMYHEASA-N L-glutamine Chemical compound OC(=O)[C@@H](N)CCC(N)=O ZDXPYRJPNDTMRX-VKHMYHEASA-N 0.000 description 1
- AYFVYJQAPQTCCC-GBXIJSLDSA-N L-threonine Chemical compound C[C@@H](O)[C@H](N)C(O)=O AYFVYJQAPQTCCC-GBXIJSLDSA-N 0.000 description 1
- OUYCCCASQSFEME-QMMMGPOBSA-N L-tyrosine Chemical compound OC(=O)[C@@H](N)CC1=CC=C(O)C=C1 OUYCCCASQSFEME-QMMMGPOBSA-N 0.000 description 1
- 229910013063 LiBF 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- 102000003505 Myosin Human genes 0.000 description 1
- 108060008487 Myosin Proteins 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 description 1
- 229930182556 Polyacetal Natural products 0.000 description 1
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 description 1
- 229920000297 Rayon Polymers 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N Rosin Natural products O(C/C=C/c1ccccc1)[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O1 KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 108010073771 Soybean Proteins Proteins 0.000 description 1
- 229920002472 Starch Polymers 0.000 description 1
- AYFVYJQAPQTCCC-UHFFFAOYSA-N Threonine Natural products CC(O)C(N)C(O)=O AYFVYJQAPQTCCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004473 Threonine Substances 0.000 description 1
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002978 Vinylon Polymers 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N [(2s,3r,4s,5r,6r)-2-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-dinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-trinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-3-yl]oxy-3,5-dinitrooxy-6-(nitrooxymethyl)oxan-4-yl] nitrate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O1)O[N+]([O-])=O)CO[N+](=O)[O-])[C@@H]1[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O[C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N 0.000 description 1
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 description 1
- 239000011149 active material Substances 0.000 description 1
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 239000003570 air Substances 0.000 description 1
- 239000000783 alginic acid Substances 0.000 description 1
- 235000010443 alginic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229920000615 alginic acid Polymers 0.000 description 1
- 229960001126 alginic acid Drugs 0.000 description 1
- 150000004781 alginic acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 1
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000005211 alkyl trimethyl ammonium group Chemical group 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000002280 amphoteric surfactant Substances 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 239000004760 aramid Substances 0.000 description 1
- 229920003235 aromatic polyamide Polymers 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 150000001555 benzenes Chemical class 0.000 description 1
- 235000013361 beverage Nutrition 0.000 description 1
- QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC=C QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005422 blasting Methods 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 239000004917 carbon fiber Substances 0.000 description 1
- 239000002134 carbon nanofiber Substances 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 235000010980 cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000012461 cellulose resin Substances 0.000 description 1
- 239000002812 cholic acid derivative Substances 0.000 description 1
- 239000003245 coal Substances 0.000 description 1
- 239000011335 coal coke Substances 0.000 description 1
- 239000011300 coal pitch Substances 0.000 description 1
- 239000011362 coarse particle Substances 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZPUCINDJVBIVPJ-LJISPDSOSA-N cocaine Chemical compound O([C@H]1C[C@@H]2CC[C@@H](N2C)[C@H]1C(=O)OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 ZPUCINDJVBIVPJ-LJISPDSOSA-N 0.000 description 1
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 1
- 239000008710 crystal-8 Substances 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 1
- 229960004670 didecyldimethylammonium chloride Drugs 0.000 description 1
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- GPLRAVKSCUXZTP-UHFFFAOYSA-N diglycerol Chemical compound OCC(O)COCC(O)CO GPLRAVKSCUXZTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ASMQGLCHMVWBQR-UHFFFAOYSA-M diphenyl phosphate Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(=O)([O-])OC1=CC=CC=C1 ASMQGLCHMVWBQR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N dodecyl benzenesulfonate;sodium Chemical compound [Na].CCCCCCCCCCCCOS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000009429 electrical wiring Methods 0.000 description 1
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000002657 fibrous material Substances 0.000 description 1
- 239000010794 food waste Substances 0.000 description 1
- 239000002803 fossil fuel Substances 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- ZDXPYRJPNDTMRX-UHFFFAOYSA-N glutamine Natural products OC(=O)C(N)CCC(N)=O ZDXPYRJPNDTMRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007646 gravure printing Methods 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 230000036541 health Effects 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 229910000833 kovar Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007561 laser diffraction method Methods 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000001000 micrograph Methods 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000010813 municipal solid waste Substances 0.000 description 1
- 229920003052 natural elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229910021382 natural graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001194 natural rubber Polymers 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000013021 overheating Methods 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- 239000002006 petroleum coke Substances 0.000 description 1
- 239000011301 petroleum pitch Substances 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 description 1
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 1
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 229920001195 polyisoprene Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000002964 rayon Substances 0.000 description 1
- 238000004064 recycling Methods 0.000 description 1
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 1
- 239000003870 refractory metal Substances 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 238000012827 research and development Methods 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 238000010079 rubber tapping Methods 0.000 description 1
- 238000004626 scanning electron microscopy Methods 0.000 description 1
- 238000000790 scattering method Methods 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- NRHMKIHPTBHXPF-TUJRSCDTSA-M sodium cholate Chemical compound [Na+].C([C@H]1C[C@H]2O)[C@H](O)CC[C@]1(C)[C@@H]1[C@@H]2[C@@H]2CC[C@H]([C@@H](CCC([O-])=O)C)[C@@]2(C)[C@@H](O)C1 NRHMKIHPTBHXPF-TUJRSCDTSA-M 0.000 description 1
- BTURAGWYSMTVOW-UHFFFAOYSA-M sodium dodecanoate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCC([O-])=O BTURAGWYSMTVOW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940080264 sodium dodecylbenzenesulfonate Drugs 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 229940001941 soy protein Drugs 0.000 description 1
- 241000894007 species Species 0.000 description 1
- 239000012798 spherical particle Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 239000008107 starch Substances 0.000 description 1
- 235000019698 starch Nutrition 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 238000009628 steelmaking Methods 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 229920003051 synthetic elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229920002994 synthetic fiber Polymers 0.000 description 1
- 239000012209 synthetic fiber Substances 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 239000005061 synthetic rubber Substances 0.000 description 1
- 238000002230 thermal chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N trans-cinnamyl beta-D-glucopyranoside Natural products OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OCC=CC1=CC=CC=C1 KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OUYCCCASQSFEME-UHFFFAOYSA-N tyrosine Natural products OC(=O)C(N)CC1=CC=C(O)C=C1 OUYCCCASQSFEME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006337 unsaturated polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
- 235000013311 vegetables Nutrition 0.000 description 1
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 1
- 238000010792 warming Methods 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B32/00—Carbon; Compounds thereof
- C01B32/15—Nano-sized carbon materials
- C01B32/182—Graphene
- C01B32/184—Preparation
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y30/00—Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y40/00—Manufacture or treatment of nanostructures
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B32/00—Carbon; Compounds thereof
- C01B32/15—Nano-sized carbon materials
- C01B32/182—Graphene
- C01B32/184—Preparation
- C01B32/19—Preparation by exfoliation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B32/00—Carbon; Compounds thereof
- C01B32/15—Nano-sized carbon materials
- C01B32/182—Graphene
- C01B32/194—After-treatment
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B13/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing conductors or cables
- H01B13/32—Filling or coating with impervious material
- H01B13/321—Filling or coating with impervious material the material being a powder
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B2204/00—Structure or properties of graphene
- C01B2204/04—Specific amount of layers or specific thickness
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B2204/00—Structure or properties of graphene
- C01B2204/20—Graphene characterized by its properties
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
- Y10T428/24942—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including components having same physical characteristic in differing degree
- Y10T428/2495—Thickness [relative or absolute]
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/30—Self-sustaining carbon mass or layer with impregnant or other layer
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Composite Materials (AREA)
- Carbon And Carbon Compounds (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Electric Double-Layer Capacitors Or The Like (AREA)
- Non-Insulated Conductors (AREA)
- Manufacturing Of Electric Cables (AREA)
- Battery Electrode And Active Subsutance (AREA)
Abstract
Description
〔1〕多層グラフェン被覆基板の製造方法であって,多層グラフェン集合体から,これを構成する多層グラフェンを基板表面に積層させることを含んでなる,製造方法,
〔2〕多層グラフェン集合体が,内側から外方へと延びた多層グラフェンが集合してなる多層グラフェン塊である,上記〔1〕の製造方法,
〔3〕多層グラフェン集合体を構成する多層グラフェンが,0.34〜10nmの厚さのものである,上記〔1〕又は〔2〕の製造方法,
〔4〕積層が,多層グラフェン集合体を基板表面に擦り付けることにより実施されるものである,上記〔1〕〜〔3〕のいずれかの製造方法,
〔5〕積層が,多層グラフェン集合体から調製された多層グラフェン分散液に基板表面を接触させた後,基板表面から溶媒を除去することにより実施されるものである,上記〔1〕〜〔3〕のいずれかの製造方法,
〔6〕積層が,多層グラフェン集合体から調製された多層グラフェン分散液で基板表面をディップコーティングすることにより実施されるものである,上記〔1〕〜〔3〕のいずれかの製造方法,
〔7〕積層が,多層グラフェン集合体から調製された多層グラフェン分散液で基板表面をスプレーコーティングすることにより実施されるものである,上記〔1〕〜〔3〕のいずれかの製造方法,
〔8〕溶媒が,1,2ジクロロエタン,ベンゼン,塩化チオニル,塩化アセチル,炭酸テトラクロロエチレン,炭酸ジクロロエチレン,フッ化ベンゾイル,塩化ベンゾイル,ニトロメタン,ニトロベンゼン,無水酢酸,オキシ塩化リン,ベンゾニトリル,オキシ塩化セレン,アセトニトリル,テトラメチルスルホン,ジオキサン,炭酸−1,2−プロパンジオール,シアン化ベンジル,亜硫酸エチレン,イソブチロニトリル,プロピオニトリル,ジメチルカーボネート,プロピレンカーボネート,エチルメチルカーボネート,ジエチルカーボネート,エチレンカーボネート,フェニル亜リン酸二フッ化物,酢酸メチル,n−ブチロニトリル,アセトン,酢酸エチル,水,フェニルリン酸二塩化物,ジエチルエーテル,テトラヒドロフラン,ジフェニルリン酸塩化物,リン酸トリメチル,リン酸トリブチル,ジメチルホルムアミド,N−メチルピロリジン,n−ジメチルアセトアミド,ジメチルスルホキシド,N−ジエチルホルムアミド,N−ジエチルアセトアミド,ピリジン,ヘキサメチルリン酸アミド,ヘキサン,四塩化炭素,ジグライム,トリクロロメタン,2−プロパノール,メタノール,エタノール,プロパノール,エチレングリコール,メチルエチルケトン,2−メトキシエタノール,ジメチルアセトアミド,トルエン及びポリベンズイミダゾールから成る群から選ばれる1の溶媒若しくは2以上の混合溶媒;又は分散剤を添加した該溶媒若しくは該混合溶媒である,上記〔5〕〜〔7〕のいずれかの製造方法,
〔9〕ディップコーティングにおいて,多層グラフェン分散液の温度が40℃以上であり,多層グラフェン分散液に浸漬させた基板を該液から引き上げる際の引上速度が1〜1000μm/秒である,上記〔6〕又は〔8〕の製造方法,
〔10〕多層グラフェン被覆基板における,多層グラフェンが被覆された層の厚みが,0.5〜10000nmである,上記〔1〕〜〔9〕のいずれかの製造方法,
〔11〕基板が,ポリエステル樹脂,アクリル樹脂,ポリスチレン樹脂,ポリカーボネート樹脂,ポリプロピレン樹脂,ポリエチレン樹脂,ポリ塩化ビニル樹脂及びポリテトラフルオロエチレン樹脂から選ばれる樹脂からなる樹脂フィルム;ポリエステル樹脂,アクリル樹脂,ポリスチレン樹脂,ポリカーボネート樹脂,ポリプロピレン樹脂,ポリエチレン樹脂,ポリ塩化ビニル樹脂及びポリテトラフルオロエチレン樹脂から選ばれる1の樹脂又は2以上を混合した樹脂を表面に被覆したガラス基板;銅,ニッケル,鉄,アルミ及びチタンから選ばれる金属からなる金属箔,金属板若しくは金属フィルム;紙;ガラス状カーボン基板;又はサファイア基板である,上記〔1〕〜〔10〕のいずれかの製造方法,
〔12〕被加工物表面に多層グラフェンをコーティングするための工具であって,被加工物表面と接触させる工具表面を有し,該工具表面に多層グラフェン集合体を保持してなる,グラフェンコーティング用工具,
〔13〕多層グラフェン被覆基板の製造方法であって,該多層グラフェン被覆基板が多層グラフェンの被覆層の厚薄によるパターンを有するものであり,
該パターンに一致する表面の凸凹を備えた転写型を準備し,該転写型の表面に基板の裏面を重ね合わせ,該基板の表面に多層グラフェン集合体からこれを構成する多層グラフェンを擦り付けることを含んでなる,製造方法,
〔14〕多層グラフェン被覆基板の製造方法であって,多層グラフェン集合体から,これを構成する多層グラフェンを基板表面に積層させたのち,該基板表面をプレス加工することを含んでなる製造方法,
〔15〕積層が,多層グラフェン集合体から調製された多層グラフェン分散液,多層グラフェン粉砕液または残渣グラフェン分散液で基板表面をスプレーコーティングすることにより実施されるものである,上記〔14〕記載の製造方法,
〔16〕多層グラフェン被覆基板の製造方法であって,多層グラフェン集合体から,これを構成する多層グラフェンを基板表面に積層させることを含んでなり,
該積層が,多層グラフェン集合体から調製された多層グラフェン分散液,多層グラフェン粉砕液または残渣グラフェン分散液で基板表面を1流体方式スプレーコーティングすることにより実施されるものである製造方法,
〔17〕多層グラフェン集合体から,これを構成する多層グラフェンを基板表面に積層させることにより製造される,多層グラフェン被覆基板
に関する。
多層グラフェン集合体からの多層グラフェン分散液の調製は,例えば,多層グラフェン集合体を予め粉砕してから溶媒に投入し,超音波印加し,遠心分離した後に,得られた上澄みを採取することにより実施することができる。あるいは,同調製は,多層グラフェン集合体を溶媒に投入してから粉砕し,超音波印加し,遠心分離した後に,得られた上澄みを採取することによっても実施することができる。
多層グラフェン粉砕液は,多層グラフェン集合体を予め粉砕してから溶媒に投入するか,あるいは,多層グラフェン集合体を溶媒に投入してから粉砕することにより調製することができる。使用する溶媒および分散剤,粉砕の手段,投入する多層グラフェン集合体の量など諸条件は,多層グラフェン分散液の項に記載のとおりである。
残渣グラフェン分散液は,多層グラフェン分散液を調製する際に得られる,遠心分離後の残渣(遠心分離後の上澄みを除去したのちに残るもの)に,上記溶媒および必要に応じ分散剤等を添加することにより調製することができる。残渣グラフェン分散液における残渣グラフェンの濃度は,1重量%〜90重量%であることが好ましい。
本発明に係る多層グラフェン被覆基板のうち,多層グラフェンの被覆層の厚薄によるパターンを有する多層グラフェン被覆基板(パターン付多層グラフェン被覆基板)は,該パターンに一致する表面の凸凹を備えた転写型を準備し,該転写型の表面に基板(樹脂フィルム,不織布,紙など)の裏面を重ね合わせ,該基板の表面に多層グラフェン集合体からこれを構成する多層グラフェンを擦り付けることにより,製造することができる。
開気孔率(%)={(見掛比重−かさ比重)/見掛比重}×100
見掛比重:粉砕しない状態の試料を用いて,ヘリウムガス置換ピクノメータ法により,島津製作所製密度計AccuPyc1330−PCWを使用して測定した値
かさ比重:試料重量を,試料の外形寸法より算出した体積で除した値
全気孔率(%)={(真比重−かさ比重)/真比重}×100
真比重:測定対象物に含まれる空隙による影響を最小化すべく,これを微粉末に粉砕した状態で測定した比重であり,本発明中の実施例や製造例では74μmの篩を通過した粉末試料で測定している。
本明細書において,数値の範囲を,例えば,1200〜1900と表した場合には,1200以上1900以下を意味するものである。
製造例1で得た多層グラフェン塊から,大きさが数mm〜数十mmであり,手で保持できるものを選び出した。該グラフェン塊の表面のSEMを図15に示す。大きさが数μmで厚さが極めて薄い花びら状の多層グラフェンから成り,それらが多数集合した構造であることが分かる。
製造例2−1〜同2−6の多層グラフェン塊,及び,製造例2で用意した人造黒鉛A(新日本テクノカーボン社,IGS895),人造黒鉛B(東邦カーボン社,MGY−72)を,黒鉛材料として準備した。これらの真密度,見掛密度,嵩密度及び全気孔率を表2−1に示す。
厚さが300μmのPET樹脂フィルム,厚さが500μmのアクリル樹脂フィルム,厚さ200μmのポリスチレン樹脂フィルム,厚さ1mmのポリカーボネート樹脂フィルム,厚さ50μmのポリプロピレン樹脂フィルム,厚さ100μmのポリエチレン樹脂フィルム,厚さ50μmのポリ塩化ビニルフィルム,厚さ500μmのテフロン(登録商標)樹脂フィルム,厚さ500μmのガラス板を30mm×30mmの形状に切り出し,それぞれの表面を綿棒に浸したエチルアルコールでふき取り洗浄・脱脂処理をおこない,基板とした。
厚さが300μmの銅板,厚さが70μmの銅箔,厚さが30μmのアルミ箔,及び厚さが200μmのチタン板については30mm×30mmの形状に,厚さが125μmのシリコンウエハ,厚さが150μmのSiC基板,厚さが125μmの窒化アルミ基板,厚さが100μmのGaN基板,厚さが125μmのガラス状カーボン基板,及び厚さが100μmのサファイヤ基板についてはφ50mmの形状に切り出し,表面を綿棒に浸したエチルアルコールで,ふき取り洗浄・脱脂処理をおこない,基板とした。
松浪ガラス社製のスライドガラス(幅26mm×長さ76mm×厚さ0.8mm)の全面を,エタノールを使用して,ふき取り洗浄・脱脂処理した。ポリエステル樹脂(ユニチカ社製)とアクリル樹脂を1:1の重量比で混合し,N,N−ジメチルホルムアミドに浸漬して,樹脂濃度が5000ppmの溶液を調製した。株式会社SDI製のマイクロスピードディップコーターを使用して,50℃の温度にて,10μm/秒の引き上げ速度で,ガラス表面に樹脂をコーティングした。作製した樹脂コートガラスを,24時間風乾させ,多層グラフェン被覆層形成用の基板とした。
0.1重量%のラウリル硫酸ナトリウムを含む水(水+界面活性剤),N,N−ジメチルホルムアミド(DMF),2−メトキシエタノールの三種類の溶媒を準備した。製造例1で得た多層グラフェン塊を,各溶媒に対する重量比が0.1重量%になるようにそれぞれ秤量し,混合した後に,金属製のカッターを有する湿式ミキサーにより,回転数1000rpmで15分間の解砕処理をおこない,多層グラフェン塊が解砕された,3種類の多層グラフェン分散液を得た。各分散液を,市販の超音波洗浄機(卓上型超音波洗浄機W−113,本多電子社製)に装填し,42kHz,100Wの出力で,30分間,超音波印加した。超音波印加後の溶液は,多層グラフェン塊から花弁状の多層グラフェンが溶媒中に分散したため,黒色を呈していた。次いで,この分散液を,800Gの加速度で,30分間,遠心分離し,薄い黒色の上澄み液を回収し,グラフェンディップコート用の分散液とした。
製造例11で得られた多層グラフェン塊をメノウ乳鉢で粉砕し,粉砕後の試料をジメチルホルムアミドに投入し,黒鉛量が5重量%の混合溶液を作成した。この混合溶液を超音波洗浄機(W−113,本多電子社製)により超音波を印加(42kHzの周波数で30分間,出力100W)した後に,遠心分離(700Gの加速度で30分)により固形分を沈降させた。得られた溶液の上澄みを使用して,溶液中に分散しているグラフェンをTEM観察用のマイクログリッドで濾過し,マイクログリッド上に捕捉された成分についてのTEM観察をおこなった。TEM観察の結果,図23のように薄いシート状で存在しているもの(多層グラフェン)が多数観察された。図24に薄いシート状でえられた多層グラフェンの端部のTEMによる格子像を示したが,グラフェン層が7層程度積層した様子が確認でき,このことから厚さ約2.1nmの多層グラフェンが得られていることを確認した。
0.1重量%のラウリル硫酸ナトリウムを含む水(水+界面活性剤)を準備し,実施例6と同様に処理して,多層グラフェン分散液を得た。該分散液を,グラフェンスプレーコーティング用の分散液とした。
製造例11で得られた多層グラフェン塊を,概略3〜5mmの形状にカッターで切りだし小片とした。外径20mmの円盤形状の表面(工具表面)を有する台座を,鋼鉄製のφ3mm×長さ30mmの回転軸に接合した工具を準備し,該工具表面に,多層グラフェン塊の小片を接着した(但し,工具表面の中心部からφ約9mmの部分には,多層グラフェン塊を接着しなかった。)。接着には,エポキシ樹脂系弾性接着剤(セメダイン社 EP001N)を使用した。十分に接着剤を硬化させるために24時間放置した。完成したグラフェンコーティング用工具の外観写真を図54に示す。工具表面に,小片とした多層グラフェン塊が接着している様子が見て取れる。製作した工具をリョービ株式会社製のホビールーター(HR100)に取り付け,回転制御メモリ1にて,30mm×30mm×厚さ300μmのPET樹脂フィルムに,3分間押しつけながらフィルム全面を移動させて,多層グラフェン被覆基板を得た。
厚さが120μm,幅150mm,長さ150mmのPET樹脂フィルムの表面を綿棒に浸したエチルアルコールでふき取り洗浄・脱脂処理をおこない基板とした。また,幅160mm,長さ160mm,厚さが3mmであり,径5mmの円形の穴が,孔の中心位置間のピッチ9mmで全面に加工されたアルミ板を,転写型として準備した(図55)。
紙厚約90μm,白色度約84%,坪量70g/m2のコピー用紙(アスクル社製,商品名マルチペーパー スーパーセレクトスムース)を,幅150mm,長さ150mmに切り出し基板とした。また,径10μmのポリエステル繊維からなる,厚さ70μmのポリエステル不織布を,幅150mm,長さ150mmに切り出し,他の基板とした。これらの基板の表面に,それぞれ,製造例13で得た多層グラフェン塊をこすりつけながら,多層グラフェンを被覆した。被覆は,各基板の表面において,テスターでの抵抗測定値が1000Ωを切るまで繰り返し実施した。基板を裏返し,裏面についても同様の被覆をおこない,表と裏の両面につき,それぞれ任意の10箇所で測定した抵抗値がいずれも1000Ω未満になり,なおかつ表面と裏面での導通が得られるまで実施した。加工に要した時間は,コピー紙では約6分,ポリエステル不織布では約8分であった。なお,テスターはELPA社製のアナログテスター EAT−01Bを使用した。
実施例12
(1)厚さ110μm,秤量75g/m2のポリエステル不織布をホットプレート上に固定し,ホットプレート温度を80℃に設定した。製造例13で得た多層グラフェン塊をポリエステル不織布にこすりつけながら積層を行った(処理物1)。
(2)上記処理物1を,送り速度2cm/sec,荷重280N,ロール温度80℃でホットロールプレスした(処理物2)。
(3)上記処理物2を,熱板温度80℃,荷重10000N,時間10minのホットプレス処理に付した(処理物3)。
(4)上記処理物1〜3のそれぞれについて,厚さ,かさ密度,抵抗率を測定した。また処理1,2,3の多層グラフェン被覆基板の外観写真を図60に示した。処理物1は黒色の外観であったが,処理物2,処理物3は金属光沢を示し,処理物3の多層グラフェン被覆基板は最も金属的な光沢を呈した。処理物1,2,3の被覆後の厚さは各々83μm,66μm,61μm,形状と重量から算出した嵩密度(単位:g/cm3)は各々1.0,1.3,1.5であり,ロールプレス,ホットプレス処理により高密度化が実現した。高密度化により固有電気抵抗は減少し,処理物1,処理物2,処理物3で各々3.5Ω・cm,1.5Ω・cm,0.1Ω・cmであった。なお固有電気抵抗の測定は表面抵抗計(ダイアインスツルメンツ社製ハイレスタ−UP)で実施した。
(5)上記処理物3を,直径10mmの円盤状に切り出した。120℃で1時間乾燥後の多層グラフェン被覆基板を作用極として,アルゴンガス雰囲気のグローブボックス内で,金属リチウムを対極に,電解液にLiBF4を使用して二極セルを構成し,電位範囲0〜3V,電流密度40mA/gにて充放電特性を測定した。測定された充放電35サイクル目の可逆容量は210mAh/g,クーロン効率は90.1%であり,リチウムオン電池負極材および集電体として十分に機能した。
(6)上記処理物1〜3と,上記ポリエステル不織布の熱拡散率をアルバック理工社製の熱拡散率測定装置(MODEL LaserPIT−M2)を使用して測定した。ポリエステル不織布の熱拡散率(10-6m2/S)は0.02であったが,処理物1〜3では各々0.318,0.635,2.502に向上した,ポリエステル不織布に比較して,処理物3では約1000倍の熱拡散率が得られた。
実施例13
(1)試薬特級グレード(和光純薬)の2−プロパノールの溶媒を準備した。製造例1で得た多層グラフェン塊を,溶媒に対する重量比が0.1重量%になるようにそれぞれ秤量し,混合した後に,金属製のカッターを有する湿式ミキサーにより,回転数1000rpmで15分間の解砕処理をおこない,多層グラフェン塊を解砕した後,混合液を,市販の超音波洗浄機(卓上型超音波洗浄機W−113,本多電子社製)に装填し,42kHz,100Wの出力で,30分間,超音波印加した。超音波印加後の混合液は,多層グラフェン塊から花弁状の多層グラフェンが溶媒中に分散したため,黒色を呈していた。次いで,この分散液を,800Gの加速度で,30分間,遠心分離し,上澄み液を除去した。黒色の残渣を回収し,該残渣に,2−プロパノールを,グラフェン分散量が30wt%となるように注いで攪拌し,残渣グラフェン分散液を作成した。
(2)厚さ110μm,秤量75g/m2のポリエステル不織布E,厚さ50μm,秤量40g/m2のポリエステル不織布Fを準備し,80℃に設定されたホットプレート上に設置した。上記(1)で作製した残渣グラフェン分散液を手塗りでコーティングした後,送り速度1cm/sec,荷重500N,ロール温度80℃でホットロールプレスを実施,次いで熱板温度80℃,荷重10000N,時間10minのホットプレス処理を実施した。表面抵抗計(ダイアインスツルメンツ社製ハイレスタ−UP)を使用して,コーティング面および裏面の抵抗率を測定したところ,不織布Eではコーティング面で測定した場合は10Ω・cm,裏面で測定した場合は測定不能(電気抵抗が過大でオーバーレンジ)であり,厚い不織布を使用することにより片面が絶縁面である,導電性および熱伝導性のシートが得られた。同様に測定した不織布Fでは両面とも0.1Ω・cm未満であり,嵩密度は1.7まで向上していた。
実施例14
(1)試薬特級グレード(和光純薬)の2−プロパノールの溶媒を準備した。製造例1で得た多層グラフェン塊を,溶媒に対する重量比が0.1重量%になるようにそれぞれ秤量し,混合した後に,金属製のカッターを有する湿式ミキサーにより,回転数1000rpmで15分間の解砕処理をおこない,多層グラフェン塊を解砕した後,混合液を,市販の超音波洗浄機(卓上型超音波洗浄機W−113,本多電子社製)に装填し,42kHz,100Wの出力で,30分間,超音波印加した。超音波印加後の混合液は,多層グラフェン塊から花弁状の多層グラフェンが溶媒中に分散したため,黒色を呈していた。次いで,この分散液を,800Gの加速度で,30分間,遠心分離し,上澄み液を回収し分散量が0.05mg/mlの多層グラフェン分散液を得た。
(2)株式会社キソパワーツールのミニコンプレッサー(TYPE226)を準備し,同社のエアーブラシ(E1307N)に接続した。エアーブラシの液体容器に,上記(1)で調製した多層グラフェン分散液を装填し,0.2MPaの空気圧にて,分散液を噴出できるように調整した。なお,エアーブラシのノズル径は,内径0.4mmとした。80℃の温度に設定した金属製のホットプレートの表面に50mm角で厚さ100μmのPETフィルム設置し,エアブラシと基板との距離を110mmに設定し,20mlの分散液をスプレーした。スプレーコーティング後に,120℃に設定したロール間で荷重400Nでのロールプレスをおこない,次いで140℃に設定した熱板にて荷重10000Nで5分間のホットプレスを行った。スプレーコーティング後およびホットプレス後の多層グラフェン積層フィルムの表面抵抗をダイアインスツルメンツ社製 ハイレスタ−UPを使用して,波長550nmでの光透過率を紫外可視光分光光度計(CECIL社製 Aurius CE2021)を使用して測定した。スプレーコート直後の光透過率は70%,表面抵抗は800000Ω/□であったが,ホットプレス後には光透過率は55%に低下したが,表面抵抗は1500Ω/□に向上した。スプレーコーティング後のフィルム,および,さらにホットロールプレスおよびホットプレスを実施した後のフィルムのそれぞれについて,表面をFE−SEMで観察した(図61(a):スプレーコーティング後のフィルム,同(b):さらに,ホットロールプレスおよびホットプレス実施後のフィルム)。全般的にグラフェンが凝集した状態が観察されたが,ホットロールとホットプレス処理によりグラフェンが平面的にフィルム上に接着され,なおかつグラフェン間の接触点が増え,導電パス形成が促進されていた。
実施例15
実施例14(1)で調製した多層グラフェン分散液を用いて,空気圧でシリンダー内の分散液を先端が微細なノズルから微量突出させる,精密ディスペンサーにより,1流体方式のスプレーコーティングを実施した。すなわち,内径100μmのノズルを使用して,分散液を供給する電磁弁の開閉時間,開閉距離,印加空気圧力を調整し,大凡500μmサイズの微量液滴を0.5mm間隔で加熱された基板上に滴下した。基板としては,PETフィルムおよび銅板を用い,加熱温度は90℃とした。滴下部分の各基板表面の状況をFE−SEMで観察した(図62(a):PETフィルム表面の状況,同(b):(a)の拡大図,図63(a):銅板表面の状況,同(b):(a)の拡大図)。10μm前後の大きさで厚さの薄いグラフェンがロール状に収縮しつつ被覆された部分が多数観察された。実施例14などの2流体方式でのスプレーコーティングではこのように薄いグラフェンは観察されなかったため,2流体方式では,薄いグラフェンが空気の流れにより吹飛ばされてしまっている部分が多いと考えられる。これに対し,1流体方式の場合は,突出した液滴がほぼ全て基板やフィルム表面に着地するため,薄いグラフェンを被覆するのに適切なプロセスであることが確認された。
(製造例1)
ペレット状のPET樹脂(平均粒子径3mm)を不活性ガス雰囲気中で600℃の最高到達温度で仮焼きした。仮焼後の原料の残留水素量は22000ppmであった。仮焼きした仮焼原料を,嵩密度1.80,開気孔率10%の材質で構成されたねじ式(三角ねじ)の黒鉛坩堝に装填し,ねじ式の上蓋を旋回しながらねじを締め,仮焼き原料を密閉した。該黒鉛坩堝を熱間静水圧加圧装置に装填した後にアルゴンガスを使用して600℃,70MPaの温度,圧力まで1時間で到達させ,その後時間あたり500℃の昇温速度で加熱,加圧して190MPaの最高到達圧力にて,1500℃の各最高到達温度で昇温昇圧し,最高到達温度圧力にて1時間保持し,室温まで降温,降圧した。処理後の試料として,多層グラフェン塊(真密度2.08,見掛密度1.33,嵩密度0.75,全気孔率63.9)を得た。
原料としてPET樹脂に代えてフェノールホルムアルデヒド樹脂(平均粒子径20μm)を使用し,かつ,表6に示した処理条件を用いる以外は,製造例1と同様に処理して,各試料を得た(製造例2−1〜製造例2−6)。
平均粒子径20μmのフェノールホルムアルデヒド樹脂粉末を不活性ガス雰囲気中で600,700,900,1000℃の各最高到達温度で仮焼きした。仮焼後の原料の残留水素量を分析し表7に結果を示した。各温度で仮焼きした仮焼原料を嵩密度1.80,開気孔率10%の材質で構成されたねじ式(三角ねじ)の黒鉛坩堝に装填し,ねじ式の上蓋を旋回しながらねじを締め,仮焼き原料を密閉した。該黒鉛坩堝を熱間静水圧加圧装置に装填した後にアルゴンガスを使用して600℃,70MPaの温度,圧力まで1時間で到達させ,その後時間あたり500℃の昇温速度で加熱,加圧して190MPaの最高到達圧力にて,1400℃,1800℃,2000℃,2500℃の各最高到達温度で昇温昇圧し,最高到達温度圧力にて1時間保持し,室温まで降温,降圧した。黒鉛坩堝挿入から取り出しまでの所要時間は8〜12時間であった。処理後の試料の嵩密度,気孔率,真密度を測定し表7に示した。
平均粒子径500μmのフェノールホルムアルデヒド樹脂粉末を不活性ガス雰囲気中で600℃の最高到達温度で仮焼きした。仮焼原料を,以後,熱間静水圧加圧処理時の最高到達温度を1400℃とすること以外は,製造例3と同様に処理した。黒鉛坩堝挿入から取り出しまでの所要時間は12時間であった。処理後の試料の電子顕微鏡写真を図32,その表面の拡大写真を図33に示した。球状の粒子の全表面に放射状に成長した気相成長黒鉛が確認されたが,粒子が結合したバルク構造体は得られなかった。得られた試料の真密度は1.80であった。
飲料用ペットボトルの廃棄材料を細かく裁断して,平均で約200μm(縦横で一番長い部分の寸法)程度とし,不活性ガス雰囲気中で600℃の最高到達温度で仮焼きした。仮焼きした原料をステンレス乳鉢で粉砕し粒状にし,これを,以後,製造例4と同様に処理した。黒鉛坩堝挿入から取り出しまでの所要時間は12時間であった。処理後の試料の電子顕微鏡写真を図34に示した。不定形の粒子の全表面に概略放射状に成長したグラフェンが確認された。得られた試料の真密度は1.90であった。
平均粒子径20μmのフェノールホルムアルデヒド樹脂粉末を不活性ガス雰囲気中で700℃の最高到達温度で仮焼きした。仮焼原料を表8に示した各黒鉛坩堝に装填し,ねじ式の上蓋を締め,仮焼原料を密閉した。該黒鉛坩堝を,熱間静水圧加圧処理時の最高到達温度を1500℃とする以外は,製造例4と同様に処理した。
(製造例7)
平均粒子径20μmのフェノールホルムアルデヒド樹脂粉末を,不活性ガス雰囲気中で500℃の最高到達温度で仮焼した。仮焼後の原料の残留水素量は40000ppmであった。仮焼原料を嵩密度1.80,開気孔率10%の材質で構成されたねじ式の黒鉛坩堝に,ガラス状カーボン製のスペーサで挟む形態で密閉した。なお図35に示すように黒鉛坩堝の上蓋のねじを締めることにより,上部スペーサが黒鉛坩堝のガイド部に,ねじの締めつけ力により圧接し密閉度を高めるようにした。この黒鉛坩堝を熱間静水圧加圧装置に装填した後にアルゴンガスを使用して700℃,70MPaの温度,圧力まで1時間で到達させ,その後時間あたり500℃の昇温速度で加熱,加圧して190MPaの最高到達圧力にて,1800℃の最高到達温度で昇温昇圧し,最高到達温度,圧力にて1時間保持し,室温まで降温,降圧した。なお,ガラス状カーボン製のスペーサは鏡面研磨を実施したものを使用した。
(製造例8)
平均粒子径20μmのフェノールホルムアルデヒド樹脂粉末を不活性ガス雰囲気中で600℃の最高到達温度で焼成した。仮焼した仮焼原料を嵩密度1.80,開気孔率10%の材質で構成されたねじ式の黒鉛坩堝に装填し,ねじ式の上蓋を旋回しながらねじを締め,仮焼き原料を密閉した。密閉後の黒鉛坩堝を熱間静水圧加圧装置に装填した後にアルゴンガスを使用して700℃,70MPaの温度,圧力まで1時間で到達させ,その後時間あたり300℃の昇温速度で加熱,加圧して190MPaの最高到達圧力にて1400℃の最高到達温度で昇温昇圧し,最高到達温度,圧力にて1時間保持し,室温まで降温,降圧した。処理後の試料の見かけ密度は1.60,真密度は2.09であった。
HIP処理の条件において,700℃以降の昇温速度を時間あたり700℃とし,最高到達温度を1450℃とする以外は,直前の製造例と同様に処理した。処理後の試料の見かけ密度は1.66,真密度は2.05であった。
処理後の試料には,直前の製造例の生成物と同じ形態のものが,同様に生成していた(図45〜図46)。
仮焼の最高到達温度を500℃,HIP処理の条件において,700℃以降の昇温速度を時間あたり500℃,最高到達温度を1800℃とする以外は,直前の製造例と同様に処理した。処理後の試料の見かけ密度は1.77,真密度は2.07であった。
処理後の試料には,直前の製造例の生成物と同じ形態のものが,同様に生成していた(図47〜図48)。
(製造例11)
平均粒子径20μmのフェノールホルムアルデヒド樹脂粉末を,不活性ガス雰囲気中で600℃の最高到達温度で仮焼した。仮焼後の原料の残留水素量は20000ppmであった。この仮焼原料を嵩密度1.80,開気孔率10%の材質で構成されたねじ式の黒鉛坩堝に装填し,ねじ式の上蓋を旋回しながらねじを締め,仮焼き原料を密閉した。密閉後の黒鉛坩堝を熱間静水圧加圧装置に装填した後にアルゴンガスを使用して700℃,70MPaの温度,圧力まで1時間で到達させ,その後時間あたり500℃の昇温速度で加熱,加圧して190MPaの最高到達圧力にて,1800℃の最高到達温度で昇温昇圧し,最高到達温度,圧力にて1時間保持し,室温まで降温,降圧した。得られたバルク状の生成物の真密度は,2.17であった。また,得られた気相成長黒鉛のSEMを図49に,その拡大したものを図50に示したが,内側から外方へと延びた,多層グラフェンが集合して,塊を形成していた。
(製造例12)
製造例3−2の多層グラフェン塊5gをガラス製三角フラスコに秤量し,濃硫酸80ml,濃硝酸20mlの混合溶液を加えて,テフロン(登録商標)製のスターラーにて撹拌させながら24時間反応させた。塊状の試料は,反応開始後30分程度から,黒鉛層間に硫酸イオンが侵入した黒鉛硫酸層間化合物の生成により,徐々に崩壊し,反応終了後には微粒の粒子が溶液中に分散した状態に至った。反応後の試料を乾燥後にセラミックス製の磁性ルツボに装填し,700℃に加熱した電気炉中に磁性ルツボごと投じて急熱処理をした。700℃に設定した電気炉での急激な熱処理により,熱処理後の試料は3倍程度の容積に膨張した。図51,図52には,熱処理後の試料のSEMを示したが,熱処理により多層グラフェン層間から急激に硫酸イオンが分解し放出されたことにより,より薄い多層グラフェンに劈開された状態が観察された。
(製造例13)
ペレット状のPET樹脂(平均粒子径3mm)を不活性ガス雰囲気中で600℃の最高到達温度で仮焼きした。仮焼後の原料(仮焼原料)を粉砕,分級して,平均粒子径約10μm〜100μmの仮焼原料を得た。仮焼後の原料の残留水素量は22000ppmであった。仮焼きした仮焼原料を,嵩密度1.80,開気孔率10%の材質で構成されたねじ式(三角ねじ)の黒鉛坩堝に装填し,ねじ式の上蓋を旋回しながらねじを締め,仮焼き原料を密閉した。該黒鉛坩堝を熱間静水圧加圧装置に装填した後にアルゴンガスを使用して600℃,70MPaの温度,圧力まで1時間で到達させ,その後時間あたり500℃の昇温速度で加熱,加圧して190MPaの最高到達圧力にて,1500℃の各最高到達温度で昇温昇圧し,最高到達温度圧力にて1時間保持し,室温まで降温,降圧した。処理後の試料として,多層グラフェン塊(真密度2.08,見掛密度1.33,嵩密度0.75,全気孔率63.9)を得た。
1a 坩堝蓋部の外周部
2 坩堝本体
2a 坩堝本体の上部の内壁
3 仮焼原料
4 スペーサ
5 スリーブ
6 仮焼原料粒子
6a 気体
6s 仮焼原料粒子の表面
7 グラフェン
7a 黒鉛六角網面の面内方向(黒鉛結晶のa軸方向)
7c 黒鉛結晶のc軸方向
8 多層グラフェン集合体
9 台座
10 把持部(手で持つ部分)
11 回転軸
12 接着層(多層グラフェン集合体を台座に接着している接着材の層)
Claims (17)
- 多層グラフェン被覆基板の製造方法であって,多層グラフェン集合体から,これを構成する多層グラフェンを基板表面に積層させることを含んでなる,製造方法。
- 多層グラフェン集合体が,内側から外方へと延びた多層グラフェンが集合してなる多層グラフェン塊である,請求項1の製造方法。
- 多層グラフェン集合体を構成する多層グラフェンが,0.34〜10nmの厚さのものである,請求項1又は2の製造方法。
- 積層が,多層グラフェン集合体を基板表面に擦り付けることにより実施されるものである,請求項1〜3のいずれかの製造方法。
- 積層が,多層グラフェン集合体から調製された多層グラフェン分散液に基板表面を接触させた後,基板表面から溶媒を除去することにより実施されるものである,請求項1〜3のいずれかの製造方法。
- 積層が,多層グラフェン集合体から調製された多層グラフェン分散液で基板表面をディップコーティングすることにより実施されるものである,請求項1〜3のいずれかの製造方法。
- 積層が,多層グラフェン集合体から調製された多層グラフェン分散液で基板表面をスプレーコーティングすることにより実施されるものである,請求項1〜3のいずれかの製造方法。
- 溶媒が,1,2ジクロロエタン,ベンゼン,塩化チオニル,塩化アセチル,炭酸テトラクロロエチレン,炭酸ジクロロエチレン,フッ化ベンゾイル,塩化ベンゾイル,ニトロメタン,ニトロベンゼン,無水酢酸,オキシ塩化リン,ベンゾニトリル,オキシ塩化セレン,アセトニトリル,テトラメチルスルホン,ジオキサン,炭酸−1,2−プロパンジオール,シアン化ベンジル,亜硫酸エチレン,イソブチロニトリル,プロピオニトリル,ジメチルカーボネート,プロピレンカーボネート,エチルメチルカーボネート,ジエチルカーボネート,エチレンカーボネート,フェニル亜リン酸二フッ化物,酢酸メチル,n−ブチロニトリル,アセトン,酢酸エチル,水,フェニルリン酸二塩化物,ジエチルエーテル,テトラヒドロフラン,ジフェニルリン酸塩化物,リン酸トリメチル,リン酸トリブチル,ジメチルホルムアミド,N−メチルピロリジン,n−ジメチルアセトアミド,ジメチルスルホキシド,N−ジエチルホルムアミド,N−ジエチルアセトアミド,ピリジン,ヘキサメチルリン酸アミド,ヘキサン,四塩化炭素,ジグライム,トリクロロメタン,2−プロパノール,メタノール,エタノール,プロパノール,エチレングリコール,メチルエチルケトン,2−メトキシエタノール,ジメチルアセトアミド,トルエン及びポリベンズイミダゾールから成る群から選ばれる1の溶媒若しくは2以上の混合溶媒;又は分散剤を添加した該溶媒若しくは該混合溶媒である,請求項5〜7のいずれかの製造方法。
- ディップコーティングにおいて,多層グラフェン分散液の温度が40℃以上であり,多層グラフェン分散液に浸漬させた基板を該液から引き上げる際の引上速度が1〜1000μm/秒である,請求項6又は8の製造方法。
- 多層グラフェン被覆基板における,多層グラフェンが被覆された層の厚みが,0.5〜10000nmである,請求項1〜9のいずれかの製造方法。
- 基板が,ポリエステル樹脂,アクリル樹脂,ポリスチレン樹脂,ポリカーボネート樹脂,ポリプロピレン樹脂,ポリエチレン樹脂,ポリ塩化ビニル樹脂及びポリテトラフルオロエチレン樹脂から選ばれる樹脂からなる樹脂フィルム;ポリエステル樹脂,アクリル樹脂,ポリスチレン樹脂,ポリカーボネート樹脂,ポリプロピレン樹脂,ポリエチレン樹脂,ポリ塩化ビニル樹脂及びポリテトラフルオロエチレン樹脂から選ばれる1の樹脂又は2以上を混合した樹脂を表面に被覆したガラス基板;銅,ニッケル,鉄,アルミ及びチタンから選ばれる金属からなる金属箔,金属板若しくは金属フィルム;紙;ガラス状カーボン基板;又はサファイア基板である,請求項1〜10のいずれかの製造方法。
- 被加工物表面に多層グラフェンをコーティングするための工具であって,被加工物表面と接触させる工具表面を有し,該工具表面に多層グラフェン集合体を保持してなる,グラフェンコーティング用工具。
- 多層グラフェン被覆基板の製造方法であって,該多層グラフェン被覆基板が多層グラフェンの被覆層の厚薄によるパターンを有するものであり,
該パターンに一致する表面の凸凹を備えた転写型を準備し,該転写型の表面に基板の裏面を重ね合わせ,該基板の表面に多層グラフェン集合体からこれを構成する多層グラフェンを擦り付けることを含んでなる,製造方法。 - 多層グラフェン被覆基板の製造方法であって,多層グラフェン集合体から,これを構成する多層グラフェンを基板表面に積層させたのち,該基板表面をプレス加工することを含んでなる製造方法。
- 積層が,多層グラフェン集合体から調製された多層グラフェン分散液,多層グラフェン粉砕液または残渣グラフェン分散液で基板表面をスプレーコーティングすることにより実施されるものである,請求項14記載の製造方法。
- 多層グラフェン被覆基板の製造方法であって,多層グラフェン集合体から,これを構成する多層グラフェンを基板表面に積層させることを含んでなり,
該積層が,多層グラフェン集合体から調製された多層グラフェン分散液,多層グラフェン粉砕液または残渣グラフェン分散液で基板表面を1流体方式スプレーコーティングすることにより実施されるものである製造方法。 - 多層グラフェン集合体から,これを構成する多層グラフェンを基板表面に積層させることにより製造される,多層グラフェン被覆基板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012556867A JP5728031B2 (ja) | 2011-02-09 | 2012-02-06 | 多層グラフェン被覆基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011025710 | 2011-02-09 | ||
JP2011025710 | 2011-02-09 | ||
JP2011044523 | 2011-03-01 | ||
JP2011044523 | 2011-03-01 | ||
PCT/JP2012/052587 WO2012108371A1 (ja) | 2011-02-09 | 2012-02-06 | 多層グラフェン被覆基板の製造方法 |
JP2012556867A JP5728031B2 (ja) | 2011-02-09 | 2012-02-06 | 多層グラフェン被覆基板の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2012108371A1 true JPWO2012108371A1 (ja) | 2014-07-03 |
JP5728031B2 JP5728031B2 (ja) | 2015-06-03 |
Family
ID=46638586
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012556867A Active JP5728031B2 (ja) | 2011-02-09 | 2012-02-06 | 多層グラフェン被覆基板の製造方法 |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9208928B2 (ja) |
EP (1) | EP2567938A4 (ja) |
JP (1) | JP5728031B2 (ja) |
KR (2) | KR101606401B1 (ja) |
CN (1) | CN102906015B (ja) |
CA (1) | CA2800269A1 (ja) |
SG (1) | SG186696A1 (ja) |
TW (1) | TWI517774B (ja) |
WO (1) | WO2012108371A1 (ja) |
Families Citing this family (113)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102008010746A1 (de) * | 2008-02-20 | 2009-09-03 | I-Sol Ventures Gmbh | Wärmespeicher-Verbundmaterial |
JP5735442B2 (ja) * | 2012-03-02 | 2015-06-17 | コリア インスティチュート オブ エナジー リサーチ | 炭素ナノ物質でコーティングされた天然纎維補強材と高分子とを含むナノバイオ複合体 |
US20140332796A1 (en) * | 2012-03-31 | 2014-11-13 | Ocean's King Lighting Science & Technology Co.,Ltd | Organic electroluminescence device and method for manufacture thereof |
KR102126098B1 (ko) * | 2012-10-04 | 2020-06-23 | 켄지 나카무라 | 항균성 화장용 브러시 모재, 그 모재를 사용한 항균성 화장용 브러시 및 그 제조방법 |
CN103779576B (zh) * | 2012-10-24 | 2015-12-02 | 清华大学 | 电化学电池集流体的制备方法及电化学电池电极的制备方法 |
JP5426002B1 (ja) * | 2012-11-20 | 2014-02-26 | 清二 加川 | 電磁波吸収フィルムの製造方法 |
US8766258B1 (en) * | 2012-12-12 | 2014-07-01 | International Business Machines Corporation | Authentication using graphene based devices as physical unclonable functions |
JP5980673B2 (ja) * | 2012-12-25 | 2016-08-31 | 加川 清二 | 放熱フィルム、並びにその製造方法及び装置 |
CN103011149B (zh) * | 2012-12-27 | 2014-10-22 | 上海交通大学 | 一种多层还原石墨烯薄膜的制备方法及其应用 |
US10163576B2 (en) * | 2013-02-06 | 2018-12-25 | Apaq Technology Co., Ltd. | Capacitor cathode foil structure and manufacturing method thereof |
TWI573158B (zh) * | 2013-02-06 | 2017-03-01 | 鈺邦科技股份有限公司 | 電容器陰極箔結構之製造方法 |
CN103123830A (zh) * | 2013-03-14 | 2013-05-29 | 南京科孚纳米技术有限公司 | 一种制备石墨烯电线电缆的方法 |
KR101421974B1 (ko) * | 2013-04-17 | 2014-07-24 | 한양대학교 산학협력단 | 그래핀 옥사이드/담즙산 또는 그의 염 코팅층을 포함하는 복합 분리막 및 그 제조방법 |
EP2816144B1 (en) * | 2013-04-19 | 2019-01-02 | Incubation Alliance, Inc. | Carbon fiber and method for producing same |
US9546294B2 (en) | 2013-04-19 | 2017-01-17 | Incubation Alliance, Inc. | Carbon fiber and method for producing same |
KR20140128158A (ko) * | 2013-04-26 | 2014-11-05 | 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 캄파니 | 방열 시트 |
JP2014225508A (ja) * | 2013-05-15 | 2014-12-04 | 住友電気工業株式会社 | 蓄電デバイス用電極、蓄電デバイスおよび蓄電デバイス用電極の製造方法 |
JP6313547B2 (ja) * | 2013-06-13 | 2018-04-18 | 株式会社カネカ | 層間熱接続部材、層間熱接続部材の製造方法、および、層間熱接続方法 |
JP6055729B2 (ja) * | 2013-07-10 | 2016-12-27 | 株式会社豊田自動織機 | リチウムイオン二次電池用負極及びリチウムイオン二次電池 |
LT6154B (lt) * | 2013-08-02 | 2015-05-25 | Uab "Mokslinių Tyrimų Plėtros Laboratorija" | Dangų, pasižyminčių antimikrobinėmis savybėmis, gamybos būdas ir įrenginys |
PL405154A1 (pl) * | 2013-08-28 | 2015-03-02 | Instytut Technologii Materiałów Elektronicznych | Sposób wytwarzania papieru grafenowego |
KR101778270B1 (ko) * | 2013-09-17 | 2017-09-14 | 타타 스틸 리미티드 | 기재 상에 씨드락 유래의 환원된 그래핀 산화물을 합성하는 방법 |
JP6304988B2 (ja) * | 2013-09-20 | 2018-04-04 | 大阪瓦斯株式会社 | グラフェンシート有機分散体の製造方法、並びにそれにより得られるグラフェンシート有機分散体及び放熱性グラフェンシート構造体 |
TWI637907B (zh) * | 2013-10-04 | 2018-10-11 | 綠點高新科技股份有限公司 | Graphene circuit pattern forming method and product thereof |
KR101669952B1 (ko) * | 2013-12-10 | 2016-10-27 | 국민대학교산학협력단 | 연료전지용 알루미늄 분리판 |
KR102142333B1 (ko) * | 2013-12-27 | 2020-08-07 | 주식회사 동진쎄미켐 | 그래핀 복합체 및 그 제조방법 |
US20170051185A1 (en) * | 2014-02-20 | 2017-02-23 | 3M Innovative Properties Company | Multi-layer cover tape constructions with graphite coatings |
KR102181422B1 (ko) * | 2014-02-27 | 2020-11-23 | (주)월드튜브 | 고이방성 흑연 시트 및 이의 제조방법 |
WO2015138752A1 (en) * | 2014-03-12 | 2015-09-17 | Lockheed Martin Corporation | Coating of a porous substrate for disposition of graphene and other two-dimensional materials thereon |
US10072196B2 (en) | 2014-03-26 | 2018-09-11 | Amogreentech Co., Ltd. | Method of preparing graphene-graphene fused material and method of preparing graphene-substrate composite using the same |
US20150280207A1 (en) * | 2014-03-26 | 2015-10-01 | NANO CAST TECH Co., Ltd. | Method of preparing graphene-graphene fused material and method of preparing graphene-substrate composite using the same |
JP6333601B2 (ja) * | 2014-03-31 | 2018-05-30 | 大阪瓦斯株式会社 | 植物抽出物を用いた薄片状カーボンの製造方法 |
JP6679839B2 (ja) * | 2014-05-09 | 2020-04-15 | Dic株式会社 | 粘着テープ及びその製造方法ならびに放熱フィルム |
WO2016002277A1 (ja) * | 2014-07-04 | 2016-01-07 | 国立大学法人東北大学 | 多孔質体およびその製造方法、構造体、蓄電装置、触媒、トランジスタ、センサー、太陽電池、リチウム電池および気化装置 |
KR101795743B1 (ko) * | 2014-07-21 | 2017-11-08 | 한양대학교 산학협력단 | 담즙산 또는 담즙산염으로 코팅된 그래핀 옥사이드 필름 및 그 제조방법 |
CN104130735B (zh) * | 2014-07-22 | 2016-01-06 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 石墨烯球导电胶的制备方法及该石墨烯球导电胶 |
CN104231295B (zh) * | 2014-09-10 | 2017-03-01 | 中国科学院金属研究所 | 一种石墨烯预浸料的制备方法 |
CN104320741B (zh) * | 2014-10-22 | 2018-11-02 | 李亚宁 | 带有石墨烯复合音膜的音频装置 |
KR102242028B1 (ko) * | 2014-11-11 | 2021-04-21 | 한국전기연구원 | 그래핀 나노 패턴 인쇄 방법,그에 사용되는 장치 및 잉크 |
CN105783576B (zh) * | 2014-12-24 | 2019-03-22 | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 | 一种复合导热片 |
CN104485177B (zh) * | 2014-12-04 | 2017-02-01 | 华中科技大学 | 一种摩擦制备柔性透明导电膜的方法 |
KR20170127410A (ko) | 2014-12-22 | 2017-11-21 | 코닝 인코포레이티드 | 플렉시블 유리 기판상으로 단층 그래핀의 전사 |
KR102251415B1 (ko) * | 2014-12-24 | 2021-05-12 | 주식회사 두산 | 연성 인쇄회로기판용 전자파 차폐 필름의 제조방법 |
ES2575711B2 (es) * | 2014-12-31 | 2016-11-03 | Universidade De Santiago De Compostela | Método para la obtención de láminas de grafeno |
KR102198212B1 (ko) * | 2015-03-02 | 2021-01-06 | 한국전기연구원 | 그래핀 나노 패턴 인쇄 방법,그에 사용되는 장치 및 잉크 |
JP6530952B2 (ja) * | 2015-04-17 | 2019-06-12 | 旭化成株式会社 | 導電性グラファイトの製造方法及び導電膜 |
JP6539483B2 (ja) * | 2015-04-17 | 2019-07-03 | 旭化成株式会社 | 導電膜の製造方法 |
CN106190051A (zh) * | 2015-05-05 | 2016-12-07 | 赖中平 | 具热导性的石墨烯叠层膜 |
CN104866156B (zh) * | 2015-06-12 | 2019-03-22 | 中国电子科技集团公司第十三研究所 | 一种蓝宝石基板石墨烯表面式电容屏及制备方法 |
EP3310863B1 (en) * | 2015-06-22 | 2024-05-22 | Università degli Studi di Roma "La Sapienza" | Water-based piezoresistive conductive polymeric paint containing graphene for electromagnetic and sensor applications |
CN104934146A (zh) * | 2015-06-26 | 2015-09-23 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 石墨烯/pedot:pss混合溶液的制备方法及基板的制备方法 |
US10156726B2 (en) | 2015-06-29 | 2018-12-18 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Graphene in optical systems |
JP2018531865A (ja) | 2015-09-01 | 2018-11-01 | コーニング インコーポレイテッド | グラフェン膜の転写方法およびグラフェン膜を含む基板 |
KR101802601B1 (ko) | 2015-10-22 | 2017-11-30 | 한양대학교 산학협력단 | 기능화된 그래핀 구조체, 및 그 제조 방법 |
KR101730416B1 (ko) * | 2015-11-26 | 2017-04-27 | 재단법인대구경북과학기술원 | 연필 흑연을 이용한 이차전지용 음극과 그 제조방법 및 이를 이용한 리튬이차전지 |
BR112018011432B1 (pt) * | 2015-12-17 | 2022-11-22 | Essilor International | Revestimento múltiplo rígido em artigo óptico |
WO2017116657A1 (en) * | 2015-12-28 | 2017-07-06 | Nanotek Instruments, Inc. | Graphene-Carbon Hybrid Foam |
US20170191498A1 (en) * | 2015-12-30 | 2017-07-06 | General Electric Company | Graphene ultra-conductive casing wrap |
US9962914B2 (en) * | 2016-01-21 | 2018-05-08 | King Abdulaziz University | Method for transferring a large-area graphene sheet |
CN105752965B (zh) * | 2016-01-26 | 2018-10-19 | 无锡格菲电子薄膜科技有限公司 | Cvd方法制备石墨烯中直接形成多层石墨烯薄膜的刻蚀方法 |
US10388964B2 (en) * | 2016-03-04 | 2019-08-20 | Xg Sciences, Inc. | Graphene-based coating on lead grid for lead-acid batteries |
WO2017180901A1 (en) * | 2016-04-14 | 2017-10-19 | Massachusetts Eye And Ear Infirmary | Medical device comprising graphene coating |
CN106003911A (zh) * | 2016-05-16 | 2016-10-12 | 江苏悦达新材料科技有限公司 | 铝合金/石墨烯-碳纤维薄膜复合速冻板及其制备方法 |
EP3466877B1 (en) * | 2016-05-31 | 2024-02-28 | Tokyo Metropolitan Industrial Technology Research Institute | Multilayered graphene dispersion, blackening agent for thermophysical property measurement, and mold release agent/lubricant for powder sintering |
US11180236B1 (en) * | 2016-06-02 | 2021-11-23 | X Development Llc | Carbon pressure vessels for gas storage |
WO2018044978A1 (en) * | 2016-08-30 | 2018-03-08 | Harris Mareo Alexander | Illuminating helmet |
EP3541184A4 (en) | 2016-11-16 | 2020-05-13 | The Regents of The University of California | IDENTIFICATION AND OPTIMIZATION OF CARBON RADICALS ON HYDRATED GRAPHENOXIDE FOR UBIQUITARY ANTIBACTERIAL COATINGS |
JP6759070B2 (ja) * | 2016-11-21 | 2020-09-23 | 大阪瓦斯株式会社 | 薄片状カーボンの製造方法 |
KR102096448B1 (ko) * | 2017-01-02 | 2020-05-28 | 한양대학교 에리카산학협력단 | 그래핀 코팅 동박 제조방법 및 제조장치 |
US10697552B2 (en) | 2017-01-26 | 2020-06-30 | Toto Ltd. | Faucet valve |
CN108511752B (zh) * | 2017-02-24 | 2021-11-09 | 宁德新能源科技有限公司 | 改性石墨负极材料及其制备方法及二次电池 |
TWI618481B (zh) * | 2017-03-21 | 2018-03-11 | 崑山科技大學 | 石墨烯電磁防護結構以及石墨烯電磁防護結構之製造方法 |
US11511997B2 (en) | 2017-04-05 | 2022-11-29 | Lyten, Inc. | Electrophoretic display |
CN117623294A (zh) * | 2017-04-24 | 2024-03-01 | 奥拉石墨烯声学股份有限公司 | 可调节的石墨烯基膜及其制造方法 |
GB201707428D0 (en) | 2017-05-09 | 2017-06-21 | Applied Graphene Mat Plc ] | Composite moulding materials |
US20180330842A1 (en) * | 2017-05-15 | 2018-11-15 | The Trustees Of Columbia University In The City Of New York | Layered metal-graphene-metal laminate structure |
GB2562804B (en) * | 2017-05-26 | 2019-09-25 | Graphitene Ltd | Multilayer film for packaging and method of manufacture thereof |
KR101977472B1 (ko) * | 2017-07-21 | 2019-05-13 | 주식회사 다운울슐레트 | 장섬유 부직포를 포함하는 다층 부직포 보온재 및 이의 제조방법 |
WO2019046647A1 (en) * | 2017-08-30 | 2019-03-07 | San Diego State University Research Foundation | GRAPHENE MATERIAL AND VITREOUS CARBON, MICROFABRICATION METHOD, AND ENERGY STORAGE DEVICE |
JP7346395B2 (ja) * | 2017-10-11 | 2023-09-19 | シングル・ブイ・ムーリングス・インコーポレイテッド | 電気活性ポリマーデバイスおよびその製造方法 |
CN109961904B (zh) * | 2017-12-22 | 2022-05-31 | 重庆元石盛石墨烯薄膜产业有限公司 | 刮刀涂布式石墨烯透明导电膜基材功能层设置方法 |
CN209917010U (zh) | 2018-04-03 | 2020-01-10 | 东莞永胜医疗制品有限公司 | 改进的湿气驱散筒匣以及包含该筒匣的呼吸回路及呼吸系统 |
CN108521717A (zh) * | 2018-06-04 | 2018-09-11 | 南京大学 | 一种石墨烯改性的ptfe基pcb覆铜板及制备方法 |
CN110759331A (zh) * | 2018-07-25 | 2020-02-07 | 张文跃 | 一种石墨烯镀丝卷材制备装置及生产工艺 |
FR3087432B1 (fr) * | 2018-10-19 | 2021-04-30 | Centre Nat Rech Scient | Methode de fabrication d'un composite conducteur comprenant au moins une couche superficielle comprenant du graphene multi-feuillets |
CN109385135A (zh) * | 2018-11-09 | 2019-02-26 | 常州常发制冷科技有限公司 | 吹胀式换热器加工用阻轧乳液及其制备工艺和使用方法 |
CN111254312A (zh) * | 2018-11-30 | 2020-06-09 | 上海电机学院 | 一种耐腐蚀复合铜基微细线及其制备方法 |
JP7457307B2 (ja) | 2018-12-19 | 2024-03-28 | 株式会社カネカ | グラファイトの薄板状構造物の製造方法、並びに、薄片化グラファイトおよびその製造方法 |
JP7104919B2 (ja) * | 2019-06-15 | 2022-07-22 | 博 小林 | グラフェンの扁平面同士が重なり合って接合した該グラフェンの集まりからなるグラフェン接合体を、合成樹脂の透明フィルムに熱圧着させた透明導電性基材を製造する方法 |
US11299397B2 (en) | 2019-07-30 | 2022-04-12 | Lyten, Inc. | 3D self-assembled multi-modal carbon-based particles integrated into a continuous electrode film layer |
JP6845602B1 (ja) * | 2019-07-30 | 2021-03-17 | 積水ポリマテック株式会社 | 導電性組成物、導電性膜、接点部材および導電性組成物の製造方法 |
US11539074B2 (en) | 2019-10-25 | 2022-12-27 | Lyten, Inc. | Artificial solid electrolyte interface (A-SEI) cap layer including graphene layers with flexible wrinkle areas |
US11398622B2 (en) | 2019-10-25 | 2022-07-26 | Lyten, Inc. | Protective layer including tin fluoride disposed on a lithium anode in a lithium-sulfur battery |
US11489161B2 (en) | 2019-10-25 | 2022-11-01 | Lyten, Inc. | Powdered materials including carbonaceous structures for lithium-sulfur battery cathodes |
US11508966B2 (en) | 2019-10-25 | 2022-11-22 | Lyten, Inc. | Protective carbon layer for lithium (Li) metal anodes |
US11127942B2 (en) * | 2019-10-25 | 2021-09-21 | Lyten, Inc. | Systems and methods of manufacture of carbon based structures incorporated into lithium ion and lithium sulfur (li s) battery electrodes |
US11631893B2 (en) | 2019-10-25 | 2023-04-18 | Lyten, Inc. | Artificial solid electrolyte interface cap layer for an anode in a Li S battery system |
US11127941B2 (en) | 2019-10-25 | 2021-09-21 | Lyten, Inc. | Carbon-based structures for incorporation into lithium (Li) ion battery electrodes |
US11309545B2 (en) | 2019-10-25 | 2022-04-19 | Lyten, Inc. | Carbonaceous materials for lithium-sulfur batteries |
US11342561B2 (en) | 2019-10-25 | 2022-05-24 | Lyten, Inc. | Protective polymeric lattices for lithium anodes in lithium-sulfur batteries |
US11133495B2 (en) | 2019-10-25 | 2021-09-28 | Lyten, Inc. | Advanced lithium (LI) ion and lithium sulfur (LI S) batteries |
CN111010848A (zh) * | 2019-11-25 | 2020-04-14 | 苏州盈顺绝缘材料有限公司 | 一种ghp导热散热材料的制备方法 |
CN112322834B (zh) * | 2020-09-29 | 2022-06-17 | 南京钢铁股份有限公司 | 一种铋锰铁合金包芯线 |
CN112625251B (zh) * | 2020-12-09 | 2023-04-07 | 乐福之家纳米材料有限责任公司 | 一种改性树脂聚合物制备方法及石墨烯远红外电热膜浆料 |
WO2022191695A1 (es) * | 2021-03-11 | 2022-09-15 | Grijalva Varillas Sergio Fernando | Empaque para frutas y verduras con barrera antipatógena y proceso de fabricación |
CN113299870B (zh) * | 2021-05-17 | 2023-02-24 | 深圳市合壹新能技术有限公司 | 柔性电极的制备方法、柔性电极及全固态电池 |
US11735745B2 (en) | 2021-06-16 | 2023-08-22 | Lyten, Inc. | Lithium-air battery |
KR102647411B1 (ko) * | 2021-11-29 | 2024-03-14 | 한국생산기술연구원 | 열간등방가압 탄소 표면처리 용기 및 이를 이용한 열간등방가압 탄소 표면처리 방법 |
CN114182128A (zh) * | 2021-12-13 | 2022-03-15 | 哈尔滨东大高新材料股份有限公司 | 一种高强高导石墨烯/铜铝复合材料及其制备方法 |
US11839916B2 (en) | 2022-01-20 | 2023-12-12 | Additive Technologies Llc | Device and method for cleaning an orifice in a metal drop ejecting three-dimensional (3D) metal object |
CN114907135B (zh) * | 2022-05-16 | 2023-04-07 | 江苏富乐华半导体科技股份有限公司 | 一种氮化铝覆铜陶瓷基板的制备方法 |
CN115167049B (zh) * | 2022-07-27 | 2024-05-07 | 香港理工大学 | 一种电致发射率调控器件及其制备方法 |
US11870063B1 (en) | 2022-10-24 | 2024-01-09 | Lyten, Inc. | Dual layer gradient cathode electrode structure for reducing sulfide transfer |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20080248275A1 (en) * | 2007-04-09 | 2008-10-09 | Jang Bor Z | Nano-scaled graphene plate films and articles |
WO2009089268A2 (en) * | 2008-01-07 | 2009-07-16 | Wisys Technology Foundation, Inc. | Method and apparatus for identifying and characterizing material solvents and composite matrices and methods of using same |
WO2010110153A1 (ja) * | 2009-03-27 | 2010-09-30 | 独立行政法人科学技術振興機構 | グラフェン膜の製造方法、電子素子の製造方法および基板へのグラフェン膜の転写方法 |
WO2010128650A2 (ja) * | 2009-05-06 | 2010-11-11 | 株式会社インキュベーション・アライアンス | 炭素材料及びその製造方法 |
WO2010137592A1 (ja) * | 2009-05-26 | 2010-12-02 | 株式会社インキュベーション・アライアンス | 炭素材料及びその製造方法 |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2979477B2 (ja) * | 1998-04-02 | 1999-11-15 | セイコーインスツルメンツ株式会社 | 水素化アモルファスカーボン膜形成方法、該膜を形成した気体動圧軸受、スピンドルモータ及び回転体装置 |
US6350520B1 (en) * | 1998-08-26 | 2002-02-26 | Reticle, Inc. | Consolidated amorphous carbon materials, their manufacture and use |
US20020157818A1 (en) | 2001-04-04 | 2002-10-31 | Julian Norley | Anisotropic thermal solution |
US6538892B2 (en) * | 2001-05-02 | 2003-03-25 | Graftech Inc. | Radial finned heat sink |
US20020166654A1 (en) * | 2001-05-02 | 2002-11-14 | Smalc Martin D. | Finned Heat Sink Assemblies |
JP4483152B2 (ja) * | 2001-11-27 | 2010-06-16 | 富士ゼロックス株式会社 | 中空グラフェンシート構造体及び電極構造体とそれら製造方法並びにデバイス |
US7071258B1 (en) | 2002-10-21 | 2006-07-04 | Nanotek Instruments, Inc. | Nano-scaled graphene plates |
JP4713978B2 (ja) * | 2005-08-02 | 2011-06-29 | 株式会社東海理化電機製作所 | 電気接点材料製造方法及び電気接点材料 |
US7449133B2 (en) | 2006-06-13 | 2008-11-11 | Unidym, Inc. | Graphene film as transparent and electrically conducting material |
US20100140792A1 (en) | 2006-10-31 | 2010-06-10 | The Regents Of The University Of California | Graphite nanoplatelets for thermal and electrical applications |
FI20085113A0 (fi) * | 2008-02-08 | 2008-02-08 | Valtion Teknillinen | Menetelmä grafiinirakenteiden valmistamiseksi alustoille |
US8057863B2 (en) | 2008-12-05 | 2011-11-15 | The Regents Of The University Of California | Electrostatic force assisted deposition of graphene |
FR2962121B1 (fr) | 2009-11-03 | 2012-07-13 | Centre Nat Rech Scient | Preparation de graphene par amincissement mecanique de materiaux graphitiques |
KR101603766B1 (ko) * | 2009-11-13 | 2016-03-15 | 삼성전자주식회사 | 그라펜 적층체 및 그의 제조방법 |
JP5733938B2 (ja) * | 2009-12-08 | 2015-06-10 | キヤノン株式会社 | アクチュエータ |
CN104030273B (zh) | 2010-02-19 | 2017-05-17 | 创业发展联盟技术有限公司 | 碳材料及其制造方法 |
-
2012
- 2012-02-06 EP EP12744187.1A patent/EP2567938A4/en not_active Withdrawn
- 2012-02-06 US US13/698,796 patent/US9208928B2/en active Active
- 2012-02-06 JP JP2012556867A patent/JP5728031B2/ja active Active
- 2012-02-06 SG SG2012086062A patent/SG186696A1/en unknown
- 2012-02-06 WO PCT/JP2012/052587 patent/WO2012108371A1/ja active Application Filing
- 2012-02-06 CA CA2800269A patent/CA2800269A1/en not_active Abandoned
- 2012-02-06 KR KR1020147031183A patent/KR101606401B1/ko active IP Right Grant
- 2012-02-06 KR KR1020127030005A patent/KR20130018881A/ko active Application Filing
- 2012-02-06 TW TW101103723A patent/TWI517774B/zh active
- 2012-02-06 CN CN201280001425.3A patent/CN102906015B/zh not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20080248275A1 (en) * | 2007-04-09 | 2008-10-09 | Jang Bor Z | Nano-scaled graphene plate films and articles |
WO2009089268A2 (en) * | 2008-01-07 | 2009-07-16 | Wisys Technology Foundation, Inc. | Method and apparatus for identifying and characterizing material solvents and composite matrices and methods of using same |
WO2010110153A1 (ja) * | 2009-03-27 | 2010-09-30 | 独立行政法人科学技術振興機構 | グラフェン膜の製造方法、電子素子の製造方法および基板へのグラフェン膜の転写方法 |
WO2010128650A2 (ja) * | 2009-05-06 | 2010-11-11 | 株式会社インキュベーション・アライアンス | 炭素材料及びその製造方法 |
WO2010137592A1 (ja) * | 2009-05-26 | 2010-12-02 | 株式会社インキュベーション・アライアンス | 炭素材料及びその製造方法 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
XIAOGAN LIANG,ET AL.: "Graphene Transistors Fabricated via Transfer-Printing In Device Active-Areas on Large Wafer", NANO LETTERS, vol. 7, no. 12, JPN6012019998, 2007, pages 3840 - 3844, XP002527634, ISSN: 0002795099, DOI: 10.1021/NL072566S * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201242468A (en) | 2012-10-16 |
KR20130018881A (ko) | 2013-02-25 |
CA2800269A1 (en) | 2012-08-16 |
US20130065034A1 (en) | 2013-03-14 |
US9208928B2 (en) | 2015-12-08 |
KR20140146175A (ko) | 2014-12-24 |
JP5728031B2 (ja) | 2015-06-03 |
SG186696A1 (en) | 2013-02-28 |
WO2012108371A1 (ja) | 2012-08-16 |
CN102906015A (zh) | 2013-01-30 |
TWI517774B (zh) | 2016-01-11 |
KR101606401B1 (ko) | 2016-03-25 |
CN102906015B (zh) | 2015-04-08 |
EP2567938A1 (en) | 2013-03-13 |
EP2567938A4 (en) | 2015-03-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5728031B2 (ja) | 多層グラフェン被覆基板の製造方法 | |
JP6209641B2 (ja) | 薄片状黒鉛結晶集合物 | |
Wang et al. | Tailoring the thermal and mechanical properties of graphene film by structural engineering | |
KR101922400B1 (ko) | 단일 그래핀 층 또는 그래핀 단결정 | |
Loh et al. | Direct ink writing of graphene-based solutions for gas sensing | |
Štengl | Preparation of graphene by using an intense cavitation field in a pressurized ultrasonic reactor | |
Ruoff | Personal perspectives on graphene: New graphene-related materials on the horizon | |
Rakshe et al. | Synthesis and characterization of graphene based nanomaterials for energy applications | |
Azam et al. | Critical considerations of high quality graphene synthesized by plasma-enhanced chemical vapor deposition for electronic and energy storage devices | |
TWI508916B (zh) | 碳纖維及其製造方法 | |
CN106882795A (zh) | 一种规模化超声剥离制备石墨烯的方法及石墨烯的应用 | |
JP2004323345A (ja) | 炭素粒子およびその製造方法 | |
Wang et al. | Simultaneously environmental-friendly exfoliation of boron nitride nanosheets and graphene and the preparation of high thermal conductivity nano-mixture composite membranes | |
Al Nasim et al. | Substrate-dependent deposition behavior of graphite particles dry-sprayed at room temperature using a nano-particle deposition system | |
CN112938951B (zh) | 石墨烯以及石墨烯的制法 | |
Abd-Elrahim et al. | One-step mechanical exfoliation and deposition of layered materials (graphite, MoS2, and BN) by vacuum-kinetic spray process | |
Tiwari et al. | Direct synthesis of vertically interconnected 3-D graphitic nanosheets on hemispherical carbon particles by microwave plasma CVD | |
Shen et al. | Charging of nanostructured and partially reduced graphene oxide sheets | |
Park et al. | Compressive mechanical response of graphene foams and their thermal resistance with copper interfaces | |
Mieda et al. | Nanoprobe characterization of MoS2 nanosheets fabricated by Li-intercalation | |
An et al. | Characterization of graphene nanoplatelets prepared from polyimide-derived graphite | |
Srinivasanaik et al. | Tractable synthesis of graphene oxide by electrochemical exfoliation method | |
Myekhlai et al. | Synthesis and characterization of the graphene-Fe3O4 hybrid composite | |
Cao et al. | The ripple's enhancement in graphene sheets by spark plasma sintering |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140422 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140617 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20140617 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20141111 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150108 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20150108 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150331 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150403 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5728031 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |