JP2979477B2 - 水素化アモルファスカーボン膜形成方法、該膜を形成した気体動圧軸受、スピンドルモータ及び回転体装置 - Google Patents
水素化アモルファスカーボン膜形成方法、該膜を形成した気体動圧軸受、スピンドルモータ及び回転体装置Info
- Publication number
- JP2979477B2 JP2979477B2 JP10106980A JP10698098A JP2979477B2 JP 2979477 B2 JP2979477 B2 JP 2979477B2 JP 10106980 A JP10106980 A JP 10106980A JP 10698098 A JP10698098 A JP 10698098A JP 2979477 B2 JP2979477 B2 JP 2979477B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hydrogenated amorphous
- amorphous carbon
- film
- dynamic pressure
- carbon film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Carbon And Carbon Compounds (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
- Sliding-Contact Bearings (AREA)
Description
素化アモルファスカーボン膜を形成する方法、該膜を形
成してなる気体動圧軸受、スピンドルモータ及び回転体
装置に関する。
としては、潤滑性及び耐摩耗性に富む材料が要求され
る。近年、材料表面に硬質皮膜を形成して材料表面の潤
滑性及び耐摩耗性を向上させる表面処理技術が確立され
ており、このいわゆる硬質皮膜被覆法を用いて形成され
る硬質皮膜として代表的なものに水素化アモルファスカ
ーボン膜がある。この水素化アモルファスカーボン膜は
非常に硬く、耐摩耗性・潤滑性に優れ、電気抵抗が大き
く且つ化学的安定性に優れており、エレクトロニクス部
品、オプトエレクトロニクス部品、機械部品、光学部品
等への応用が種々検討されている。
に形成する方法としてプラズマCVD法があり、この方
法は図9に示す如き装置を用いて実施されるものであ
る。即ち、減圧した真空槽21内に2つの電極22、2
3を設置し、被処理体24を一方の電極23に支持し、
反応ガス導入口25よりメタン、アセチレン、ベンゼン
等の反応ガスを導入し、両電極22、23間に高電圧を
印加する。直流の電圧又は高周波の電圧により反応ガス
をプラズマ状態にし、活性なラジカルやイオンを生成さ
せ、被処理体24の表面に炭素(水素も含まれている)
で構成された膜(水素化アモルファスカーボン膜)を堆
積させる。このようにして積層形成される水素化アモル
ファスカーボン膜は微細結晶構造又は非晶質構造を有す
る。尚、図中、26、27は真空バルブ、28は高真空
ポンプ、29はロータリーポンプ、30は電源、31は
電源スイッチを示す。
D法によるときは、プラズマが発生した領域のみに水素
化アモルファスカーボン膜が形成されるため、被処理体
の部位によっては水素化アモルファスカーボン膜が形成
されないか、或いは形成されても所定厚みのものが得ら
れないという問題点があった。また電流密度の不均一さ
により水素化アモルファスカーボン膜厚のバラツキが発
生する虞れもあった。
層形成は短時間では終了せず、或る程度の時間がかかる
ものである上、処理前の工程である真空槽21内を真空
に引いたり、或いは処理後の工程である真空槽21内の
減圧状態を大気圧に戻したりする操作にもかなりの時間
を要するものであり、全体として処理時間が長くかかる
という欠点があった。
処理体の数も制約され、一度に大量の処理を行なうこと
は困難であり、それ故、処理効率が低く処理コストの上
昇を招くという欠点を有していた。
水素化アモルファスカーボン膜を被処理体表面に均一に
付着形成することができ、且つ膜形成を容易にして処理
効率に優れた水素化アモルファスカーボン膜形成方法を
提供することを目的とする。また本発明は、本発明の水
素化アモルファスカーボン膜形成方法を適用して、気体
動圧軸受の動圧発生部に水素化アモルファスカーボン膜
を形成した気体動圧軸受を提供することを目的とする。
更に本発明は、上記水素化アモルファスカーボン膜を形
成した気体動圧軸受を備えたスピンドルモータを提供す
ることを目的とする。本発明の今一つの目的は、上記ス
ピンドルモータを駆動源とする回転体装置を提供するこ
とにある。
に水素化アモルファスカーボンを接触させた状態で圧着
体又は被処理体に摺動運動又は回転運動を与え、この圧
着体又は被処理体の摺動運動又は回転運動により被処理
体に水素化アモルファスカーボンをこすり付け、被処理
体に水素化アモルファスカーボン膜を形成するに当り、
表面に水素化アモルファスカーボン膜を形成してなる圧
着体を用いて水素化アモルファスカーボンを被処理体に
接触させることを特徴とする被処理体への水素化アモル
ファスカーボン膜形成方法、(2)被処理体に水素化ア
モルファスカーボンを接触させた状態で圧着体又は被処
理体に摺動運動又は回転運動を与え、この圧着体又は被
処理体の摺動運動又は回転運動により被処理体に水素化
アモルファスカーボンをこすり付け、被処理体に水素化
アモルファスカーボン膜を形成するに当り、回転子の表
面を水素化アモルファスカーボン膜により被覆してなる
被覆体を被処理体と圧着体との間に供給して水素化アモ
ルファスカーボンを被処理体に接触させることを特徴と
する被処理体への水素化アモルファスカーボン膜形成方
法、(3)被処理体がスピンドルモータの気体動圧軸受
である前記(1)又は(2)記載の被処理体への水素化
アモルファスカーボン膜形成方法、(4)気体動圧軸受
であって、前記(1)ないし(3)の何れか一項に記載
の方法によって、前記気体動圧軸受の動圧発生部に水素
化アモルファスカーボン膜を形成してなることを特徴と
する気体動圧軸受、(5)気体動圧軸受を設けたスピン
ドルモータであって、前記(1)ないし(3)の何れか
一項に記載の方法によって、前記気体動圧軸受の動圧発
生部に水素化アモルファスカーボン膜を形成してなるこ
とを特徴とするスピンドルモータ、(6)気体動圧軸受
を設けたスピンドルモータを駆動源とする回転体装置で
あって、前記(1)ないし(3)の何れか一項に記載の
方法によって、前記気体動圧軸受の動圧発生部に水素化
アモルファスカーボン膜を形成してなることを特徴とす
る回転体装置を要旨とする。
に説明する。図1には本発明の第1の実施例が示されて
おり、この実施例においては粉末状の水素化アモルファ
スカーボン(以下、DLCという)を用いるものであ
る。即ち、被処理体1と圧着体2との間にDLCの粉末
3を所定量供給し、圧着体2を被処理体1側に押圧しな
がら水平方向に往復摺動させる。繰り返し往復摺動させ
ることによりDLC粉末3が被処理体1表面に付着し、
その付着量の増大に伴い次第に膜が形成され、その厚み
も次第に均一化する。このように圧着体2によって、被
処理体1にDLC粉末3をこすり付けることによって、
図4に示すように、被処理体1表面に均一な厚みを有す
るDLC膜4が形成される。
り付ける方法として、圧着体2を押圧状態で水平方向に
摺動させることに限定されず、圧着体2を押圧状態で回
転運動させてもよい。また圧着体2を摺動運動又は回転
運動させる代りに、被処理体1を圧着体2側に押圧して
摺動運動又は回転運動させてもよい。
平滑面であっても、或いは微細凹凸面であってもよく、
また圧着体2の形態としては角形平板状、円形平板状で
あっても或いは厚みのあるブロック体状であってもよ
い。圧着体2の材質としては金属、セラミックス、プラ
スチック等が挙げられる。
形態を有する製品、半製品、部品であっても或いはかか
る形態を備えない原材料としての基材であってもよい。
被処理体1の材質としては金属、セラミックス、プラス
チック等が挙げられる。
粒子、円柱状粒子、角形粒子、不定形粒子等種々のもの
が妥当する。
場合に限られず、以下に述べるように、DLCを膜状に
形成してなるものを用いてもよい。
で、この実施例においては予めDLC膜4を表面に形成
してなる圧着体2を用いる。圧着体2の表面に予めDL
C膜4を形成する方法として、プラズマCVD法がある
が、本発明はこれに限定されず、例えばスパッタリング
法によりDLC膜4を形成してもよい。DLC膜の膜厚
は0.2μm〜3μmが好ましい。
面を被処理体1表面に接触し、前記第1実施例と同様、
圧着体2又は被処理体1を押圧状態で摺動運動又は回転
運動させることにより、被処理体1の表面にDLC膜4
をこすり付ける。このような操作により圧着体2に形成
されているDLC膜4は被処理体1表面に転写され、図
4に示すように被処理体1の表面に所定厚みのDLC膜
4が形成される。
で、この実施例においては回転子5の表面に、プラズマ
CVD法、スパッタリング法等によりDLC膜4を形成
し、該膜4により回転子5表面を被覆してなる被覆体6
を用いる。回転子5は球状、円柱状等の形状を有し、要
は平面状を転がる性質のものであればよい。回転子5の
材質としては金属、セラミックス等が挙げられる。回転
子5を被覆するDLC膜4の膜厚は0.2μm〜3μm
が好ましい。
2の間に多数の被覆体6を供給し、前記実施例と同様、
圧着体2又は被処理体1を押圧状態で摺動運動又は回転
運動させ、被処理体1表面にDLC膜4をこすり付けて
転写させ、図4に示すように、被処理体1表面にDLC
膜4を形成する。
である場合に限らない。例えば図5、図6に示すように
DLC膜を形成すべき部位が被処理体1の凹陥部1aで
ある場合には、その凹陥部1aの形状に相応した形状の
圧着体2を用いる。ここで、凹陥部1aが筒状の凹陥部
である場合を例にとり説明すると、該凹陥部1aに嵌合
できる棒状の圧着体2を用い、該圧着体2の嵌合部に予
めプラズマCVD法、スパッタリング法等によりDLC
膜4を形成しておく。
を凹陥部1aに圧入し、垂直方向に摺動させるか或いは
軸回転方向に回転させる。それによりDLC膜4は凹陥
部1a内壁にこすり付けられ、転写されて、図6に示す
ように被処理体1の凹陥部1a内壁にDLC膜4が形成
される。
着体2を棒状又は板状に形成し、溝に沿って往復摺動さ
せればよい。
れるDLC膜4の膜厚は0.1μm〜0.5μmであ
る。
挙げられるが、被処理体が軸受である場合において特に
スピンドルモータのスラスト軸受又はラジアル軸受に本
発明を適用することが好ましい。
スク等の記憶媒体或いはポリゴンミラー等の回転体の回
転駆動源として用いられる。近年、軸受に起因する振動
や回転ムラをなくし、高速耐久性を向上するために、定
格回転時に非接触回転を実現できる気体動圧軸受を備え
たスピンドルモータが広く採用されている。気体動圧を
発生させるために軸受部にヘリングボーン溝やスパイラ
ル溝が形成される。図7はスピンドルモータの一例を示
し、図中14aはスピンドルモータを示す。7はベース
プレート、8は円柱状軸受部材、9は円筒状軸受部材、
10は円筒状軸受部材9に一体に設けられたスラスト部
材、11はスラスト押え部材、12はステータコイル、
13はロータ磁石、15aはポリゴンミラーである。
発生溝が形成され、気体動圧軸受としての気体スラスト
軸受及び気体ラジアル軸受が構成される。スラスト軸受
においては、スラスト部材10の上面とスラスト押え部
材11の下面との相互対向面のいずれか一方の面に気体
動圧発生溝が形成され、該相互対向面の他方の面に本発
明方法により形成されたDLC膜が設けられ、このよう
にして気体スラスト軸受の動圧発生部にDLC膜が設け
られる。またラジアル軸受においては、円柱状軸受部材
8の外周面と円筒状軸受部材9の内周面との相互対向面
のいずれか一方の面に気体動圧発生溝が形成され、該相
互対向面の他方の面に本発明方法により形成されたDL
C膜が設けられ、このようにして気体ラジアル軸受の動
圧発生部にDLC膜が設けられる。図中、4aはDLC
膜形成部を示す。尚、DLC膜はスラスト軸受のみに設
けてもよい。
すれば、該膜が耐摩耗性、潤滑性に優れるものであると
ころから、回転起動時のスラスト部材10とスラスト押
え部材11との接触抵抗を小さくして起動負荷トルクを
低減でき、高速耐久性を向上できる。またラジアル軸受
にもDLC膜を形成すれば、上記作用の他に、回転時の
ブレが発生しても円滑な回転が可能であり、しかも軸受
部材8又は9における擦過傷の発生も防止できる。
くは該先端上面とは対向位置関係にある円筒状軸受部材
9の内空部天板面9aのいずれか一方の面にDLC膜を
形成してもよい。本発明において、スピンドルモータは
上記ポリゴンミラーの回転駆動用として構成されるもの
に限定されず、磁気ディスクその他の回転駆動用として
構成されるものも妥当する。図8は本発明のスピンドル
モータを駆動源とする回転体装置を示す。この回転体装
置16はディスク装置として構成した場合の例を示すも
のであり、スピンドルモータ14bのスピンドルに、磁
気ディスク又は光ディスク等の回転体15を複数枚支持
してなるものである。
被処理体に接触させ、圧着体又は、被処理体の摺動運動
又は回転運動により被処理体にDLCをこすり付け、D
LC膜を形成するものであるから、被処理体へのDLC
膜形成が容易であり、しかも均一厚みの膜を形成するこ
とができる。また、従来のプラズマCVD法では膜形成
が困難な部位、例えば凹陥部の如き部位にも容易確実に
DLC膜を形成できる利点がある。更にプラズマCVD
法に比べて処理時間が短時間で済み、処理効率が高く、
従って処理コストも安価となる効果がある。本発明は、
上記したDLC膜形成方法を気体動圧軸受の動圧発生部
におけるDLC膜形成に適用することができ、それによ
り動圧発生部に容易にDLC膜を形成することができ、
気体動圧軸受及び該気体動圧軸受を備えたスピンドルモ
ータ、更には該スピンドルモータを駆動源とする回転体
装置の製造コストを低減できる効果がある。
示す略図である。
略図である。
す略図である。
モータの軸受部に適用した例を示す略図である。
斜視図である。
す略図である。
Claims (6)
- 【請求項1】 被処理体に水素化アモルファスカーボン
を接触させた状態で圧着体又は被処理体に摺動運動又は
回転運動を与え、この圧着体又は被処理体の摺動運動又
は回転運動により被処理体に水素化アモルファスカーボ
ンをこすり付け、被処理体に水素化アモルファスカーボ
ン膜を形成するに当り、表面に水素化アモルファスカー
ボン膜を形成してなる圧着体を用いて水素化アモルファ
スカーボンを被処理体に接触させることを特徴とする被
処理体への水素化アモルファスカーボン膜形成方法。 - 【請求項2】 被処理体に水素化アモルファスカーボン
を接触させた状態で圧着体又は被処理体に摺動運動又は
回転運動を与え、この圧着体又は被処理体の摺動運動又
は回転運動により被処理体に水素化アモルファスカーボ
ンをこすり付け、被処理体に水素化アモルファスカーボ
ン膜を形成するに当り、回転子の表面を水素化アモルフ
ァスカーボン膜により被覆してなる被覆体を被処理体と
圧着体との間に供給して水素化アモルファスカーボンを
被処理体に接触させることを特徴とする被処理体への水
素化アモルファスカーボン膜形成方法。 - 【請求項3】 被処理体がスピンドルモータの気体動圧
軸受である請求項1又は2記載の被処理体への水素化ア
モルファスカーボン膜形成方法。 - 【請求項4】 気体動圧軸受であって、請求項1ないし
請求項3の何れか一項に記載の方法よって、前記気体動
圧軸受の動圧発生部に水素化アモルファスカーボン膜を
形成してなることを特徴とする気体動圧軸受。 - 【請求項5】 気体動圧軸受を設けたスピンドルモータ
であって、請求項1ないし請求項3の何れか一項に記載
の方法によって、前記気体動圧軸受の動圧発生部に水素
化アモルファスカーボン膜を形成してなることを特徴と
するスピンドルモータ。 - 【請求項6】 気体動圧軸受を設けたスピンドルモータ
を駆動源とする回転体装置であって、請求項1ないし請
求項3の何れか一項に記載の方法によって、前記気体動
圧軸受の動圧発生部に水素化アモルファスカーボン膜を
形成してなることを特徴とする回転体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10106980A JP2979477B2 (ja) | 1998-04-02 | 1998-04-02 | 水素化アモルファスカーボン膜形成方法、該膜を形成した気体動圧軸受、スピンドルモータ及び回転体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10106980A JP2979477B2 (ja) | 1998-04-02 | 1998-04-02 | 水素化アモルファスカーボン膜形成方法、該膜を形成した気体動圧軸受、スピンドルモータ及び回転体装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11292526A JPH11292526A (ja) | 1999-10-26 |
JP2979477B2 true JP2979477B2 (ja) | 1999-11-15 |
Family
ID=14447433
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10106980A Expired - Fee Related JP2979477B2 (ja) | 1998-04-02 | 1998-04-02 | 水素化アモルファスカーボン膜形成方法、該膜を形成した気体動圧軸受、スピンドルモータ及び回転体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2979477B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3985023B2 (ja) | 2001-03-19 | 2007-10-03 | 彰三 勝倉 | ポンプ装置 |
JP4554254B2 (ja) * | 2004-03-31 | 2010-09-29 | 本田技研工業株式会社 | ローラーチェーン及びサイレントチェーン |
CA2800269A1 (en) | 2011-02-09 | 2012-08-16 | Incubation Alliance, Inc. | Method for producing multilayer graphene-coated substrate |
CN103449402B (zh) * | 2013-08-23 | 2015-10-14 | 吉林大学 | 一种氢化碳纳米球及其制备方法和用途 |
-
1998
- 1998-04-02 JP JP10106980A patent/JP2979477B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH11292526A (ja) | 1999-10-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4578979B2 (ja) | 少なくとも1つの基板の表面を処理する方法および装置 | |
JP2979477B2 (ja) | 水素化アモルファスカーボン膜形成方法、該膜を形成した気体動圧軸受、スピンドルモータ及び回転体装置 | |
US8556681B2 (en) | Ultra smooth face sputter targets and methods of producing same | |
JP2007002268A (ja) | 研磨用部材の表面処理方法及びその物品 | |
JP5400007B2 (ja) | ロール製造方法、被膜形成ロール、被膜形成装置 | |
RU2423214C1 (ru) | Способ восстановления прецизионных деталей | |
JPH07122132B2 (ja) | 薄膜形成方法および薄膜形成装置 | |
KR20180131035A (ko) | 플라즈마 나노질화 처리방법 및 그에 따른 캠 펌프 부재 | |
JP2002363747A (ja) | 硬質炭素膜形成装置および方法 | |
CN115864766B (zh) | 一种微电机的制造方法 | |
US3684678A (en) | Methods of machining | |
JP3184789B2 (ja) | 動圧軸受を備えたモータ、及び該モータを駆動源とする回転体装置 | |
JP2000213533A (ja) | 動圧軸受装置及びそれを用いたモ―タ | |
JP4399611B2 (ja) | 研磨方法および研磨装置 | |
JP4831428B2 (ja) | 圧縮機摺動部材の非晶質硬質炭素皮膜の成膜方法とその方法で成膜された圧縮機摺動部材及びその製造装置 | |
RU2101145C1 (ru) | Способ электроискрового легирования и устройство для его осуществления | |
JP2000120664A (ja) | セラミックス製動圧軸受 | |
JP5862776B2 (ja) | 電気接点構造及び電動機 | |
JPH11223213A (ja) | 気体軸受装置およびその加工方法 | |
JP4471561B2 (ja) | 表面処理方法および機械部品の製造方法 | |
WO1999044780A1 (fr) | Procede et appareil de fabrication de chapeau de palier | |
CN115161451A (zh) | 转轴及其表面处理设备、表面处理方法、电子设备 | |
JP2002070844A (ja) | 軸受機構 | |
JP3216214B2 (ja) | 超精密鏡面加工方法及びその装置 | |
JP2001263346A (ja) | 流体軸受 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070917 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080917 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090917 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100917 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100917 Year of fee payment: 11 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R3D03 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100917 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110917 Year of fee payment: 12 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110917 Year of fee payment: 12 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110917 Year of fee payment: 12 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110917 Year of fee payment: 12 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120917 Year of fee payment: 13 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130917 Year of fee payment: 14 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |