JPWO2007032395A1 - 表示パネル - Google Patents

Abstract

液晶表示パネル（１）は、アクティブマトリクス基板（１０）と、対向基板（３０）と、液晶層（２０）と、シール（４０）とを備える。対向基板（３０）はアクティブマトリクス基板（１０）に対向して設けられている。液晶層（２０）はアクティブマトリクス基板（１０）と対向基板（３０）との間に設けられている。シール（４０）は、アクティブマトリクス基板（１０）と対向基板（３０）との間に液晶層（２０）を周回するように設けられ、アクティブマトリクス基板（１０）と対向基板（３０）とを接着すると共に液晶層（２０）を封止している。アクティブマトリクス基板（１０）における液晶表示パネル（１）周縁に位置する部分の液晶層（２０）側表面は平坦である。

Description

本発明は表示パネルに関する。

液晶表示パネルに代表される平面型表示パネルは、周縁がシールにより張り合わされた一対の基板と、一対の基板とシールとにより形成されたセルに注入された表示媒体層（例えば液晶層）とを備えている。このような平面型表示パネルの製造、特に比較的小型の平面型表示パネルの製造においては、一般的に、高い製造効率を実現する観点から、大判のマザーガラス基板の上に複数のセル（構成単位）を作製し、その後、マザーガラス基板に、作製された複数のセルを個別に分断するスクライブラインを形成し、そのスクライブラインでセル（構成単位）毎に別個に分断する製造工程が採用されている（例えば、特許文献１、２等）。

しかしながら、特許文献１、２に開示されるような従来のスクライブ方法では、ガラス基板にカケやクラックが発生してしまい、良品率が低下するという問題がある。言い換えれば、従来の平面型表示パネルは製造効率（良品率）が十分に高くないという問題がある。特に、近年の平面型表示パネルの薄型化に伴い、使用されるガラス基板もまた薄型化される傾向にあるところ、このような薄型ガラス基板（例えば、０．５ｍｍ以下、さらには０．４ｍｍ以下のガラス基板）を用いた平面型表示パネルでは上記問題は殊更顕著となる。
特開２００３−２２２９０４号公報 特開２００４−２１２６９０号公報

本発明の目的は、高い製造効率で製造可能な表示パネルを提供することである。

本発明に係る第１の表示パネルは、第１の基板と、第１の基板に対向して設けられた第２の基板と、第１の基板と第２の基板との間に設けられた表示媒体層と、第１の基板と第２の基板との間に表示媒体層を周回するように設けられ、第１の基板と第２の基板とを接着すると共に表示媒体層を封止するシールとを備えている。本発明に係る第１の表示パネルでは、第１の基板における表示パネル周縁に位置する部分の表示媒体層側表面は平坦である。第１の基板における表示パネル周縁に位置する部分の両表面（表示媒体層側表面、及び表示媒体層とは反対側の表面）が平坦であることが好ましく、それら両表面が平坦且つ平滑であることがさらに好ましい。

第１の基板は、第１の基板本体と、第１の基板本体における少なくとも表示パネル周縁に位置する部分の表示媒体層側表面全体を覆う平坦化膜とを有するものであってもよい。平坦化膜は樹脂膜であってもよい。尚、本明細書において「樹脂膜」とは、有機樹脂やシリコン樹脂を含む膜のことをいう。また、「表示媒体層」とは、互いに対向する電極間の電位差により光透過率又は光反射率が変調される層、若しくは互いに対向する電極間を流れる電流により自発光する層をいう。表示媒体層の具体例としては、例えば、液晶層、無機または有機エレクトロルミネッセンス層、発光ガス層、電気泳動層、エレクトロクロミック層等が挙げられる。従って、本発明に係る第１の表示パネルは液晶表示パネル、無機又は有機エレクトロルミネッセンス表示パネル等であってもよい。

また、本明細書において「平坦」とは、表面の微少変位量が０．３μｍ以下であることをいう。尚、表面の微少変位量は、ＫＬＡ−テンコール社製、触針式段差表面粗さ形状測定装置Ｐ−１５により測定することができる。

また、第１の基板はアクティブマトリクス基板であってもよい。すなわち、第１の基板は、第１の基板本体の上に設けられた複数の薄膜トランジスタ素子と、複数の薄膜トランジスタ素子の上に設けられると共に、複数の薄膜トランジスタ素子に開口する複数のスルーホールが形成された層間絶縁膜と、層間絶縁膜の上に設けられ、各々複数のスルーホールを経由して薄膜トランジスタに電気的に接続された複数の画素電極とを有していてもよい。この場合、層間絶縁膜が、平坦化膜として、第１の基板本体における表示パネル周縁に位置する部分全体の上に設けられていることが好ましい。

本発明に係る第１の表示パネルでは、第２の基板における表示パネル周縁に位置する部分の表示媒体層側表面が平坦であることが好ましい。第２の基板における表示パネル周縁に位置する部分の両表面（表示媒体層側表面、及び表示媒体層とは反対側の表面）が平坦であることが好ましく、それら両表面が平坦且つ平滑であることがさらに好ましい。

本発明に係る第２の表示パネルは、複数の導電部材が設けられた第１の基板と、第１の基板に対向して設けられた第２の基板と、第１の基板と第２の基板との間に設けられた表示媒体層と、第１の基板と第２の基板との間に表示媒体層を周回するように設けられ、第１の基板と第２の基板とを接着すると共に表示媒体層を封止するシールとを備えている。本発明に係る第２の表示パネルでは、第１の基板における表示パネル周縁に位置する部分に、複数の導電部材のうち最も薄い導電部材と同一の膜からなる１又は複数のスクライブマークが形成されている。尚、本明細書において、「導電部材」とは、定常状態で１０^６Ｓ／ｍ以上の電気伝導度を示す部材をいう。尚、電気伝導度は四端子法等により測定することができる。

本発明に係る第２の表示パネルでは、第１の基板はアクティブマトリクス基板であってもよい。すなわち、第１の基板は、相互に並行に延びる複数のゲートラインと、複数のゲートラインの延びる方向に角度をなして相互に並行に延びる複数のソースラインと、各々複数のゲートラインと複数のソースラインとの双方に接続されたスイッチング素子と、スイッチング素子の上に設けられると共に、スイッチング素子に開口する複数のスルーホールが形成された層間絶縁膜と、複数の層間絶縁膜を経由してスイッチング素子に電気的に接続された複数の画素電極とを有していてもよい。この場合、複数の導電部材は複数のゲートラインと、複数のソースラインと、複数の画素電極とを含む。複数のゲートラインと、複数のソースラインと、複数の画素電極とのうち最も薄い導電部材と同一の膜からなる１又は複数のスクライブマークが形成されていてもよい。

また、複数の画素電極が実質的に導電性酸化物からなり、１又は複数のスクライブマークが複数の画素電極と同一の膜で形成されていてもよい。尚、導電性酸化物としては、例えばインジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）、酸化錫（ＳｎＯ）等が挙げられる。

１又は複数のスクライブマークは実質的に金属からなるものであってもよい。例えば、１又は複数のスクライブマークは、第１の基板に設けられた実質的に金属からなる電極ラインと同一の膜から形成されていてもよい。

１又は複数のスクライブマークは第１の基板の端面から離間するように設けられていることが好ましい。

１又は複数のスクライブマークは、平面視において、一辺が第１の基板の端辺と共通する平面視多角形状に形成されていてもよい。その場合、１又は複数のスクライブマークは、平面視において、第１の基板の端辺に垂直に接する少なくとも一つの端辺を有することが好ましい。

１又は複数のスクライブマークは実質的に導電性酸化物からなるものであってもよい。

本実施形態１に係る液晶表示パネル１の斜視図である。 図１中の切り出し線ＩＩ−ＩＩで切り出された部分の概略断面図である。 液晶表示パネル１の部分断面図である。 図４は図１中のＩＶで示した部分の拡大図であって、詳細には、図４（ａ）が図１中のＩＶで示した部分の拡大平面図であり、図４（ｂ）が拡大斜視図である。 実施形態１に係る液晶表示パネル１の製造工程を表す平面図である。 図５中のＶＩで囲った部分の構成を表す拡大平面図である。 実施形態１に係る液晶表示パネル１の製造工程を表す平面図である。 従来の基板構造体８０の部分平面図である。 図８中の切り出し線ＩＸ−ＩＸで切り出された部分の概略断面図である。 図６中の切り出し線Ｘ−Ｘで切り出された部分の概略断面図である。 層厚の厚いスクライブマーク５０を形成した場合のスクライブ工程を説明する概略断面図である。 実施形態１のスクライブ工程を表す、図６中の切り出し線ＸＩＩ−ＸＩＩで切り出された部分の概略断面図である。 変形例１に係る液晶表示パネルの部分平面図である。 変形例２に係る液晶表示パネルの一部を拡大した概略平面図である。 変形例２に係る液晶表示パネルの製造工程を表す平面図である。 実施形態２に係る液晶表示パネル２の構成を表す概略平面図である。 本実施形態２に係る液晶表示パネル２の製造工程を表す平面図である。

以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。

（実施形態１）
図１〜４は、本実施形態１に係る液晶表示パネル１を示す。

本実施形態１に係る液晶表示パネル１は、第１の基板としてのアクティブマトリクス基板１０と、第２の基板としての対向基板３０と、アクティブマトリクス基板１０と対向基板３０との間に設けられた、表示媒体層としての液晶層２０とを備えている。尚、説明の便宜上、図４（ｂ）には対向基板３０は描画していない。

アクティブマトリクス基板１０と対向基板３０との間には、液晶層２０を周回するようにシール４０が設けられている。このシール４０によりアクティブマトリクス基板１０と対向基板３０とが接着されており、且つ、液晶層２０が封止されている。

図３に示すように、アクティブマトリクス基板１０は、例えばガラス製の第１基板本体１１と、相互に並行に延びる複数のゲートライン１２と、相互に並行に延びる複数のソースライン１３と、複数の薄膜トランジスタ素子（以下、「ＴＦＴ素子」とすることがある。）１４と、層間絶縁膜１５と、実質的に透明導電性酸化物（例えば、インジウムスズ酸化物、インジウム亜鉛酸化物等）からなる複数の画素電極１６と、第１基板本体１１の周縁部分に、第１基板本体１１の端面から離間するように形成された平面視略台形状のスクライブマーク５０と、第１ラビング膜（配向膜）１７と、第１基板本体１１の液晶層２０とは反対側の表面上に設けられた第１偏光板１８とを備えている。

複数のゲートライン１２は第１基板本体１１上に形成されている。複数のソースライン１３はゲートライン１２の上に、ゲートライン１２の延びる方向と交差する方向に（典型的には、直交して）相互に並行に延びるように形成されている。尚、ゲートライン１２及びソースライン１３は、例えば、タングステン（Ｗ）やタンタル（Ｔａ）等の金属により形成することができる。また、ゲートライン１２とソースライン１３との間には絶縁膜（例えば、酸化シリコン膜やチッ化シリコン膜等）が形成されており、相互に絶縁されている。

複数のゲートライン１２と複数のソースライン１３との交差部近傍のそれぞれには、ゲートライン１２とソースライン１３との双方に電気的に接続されたスイッチング素子としてのＴＦＴ素子１４が設けられている。複数のＴＦＴ素子１４の上には有機樹脂（例えば、エポキシアクリレート樹脂、ウレタンアクリレート樹脂、オルソジアゾナフトキノン−ノボラック系の樹脂等を主成分とした樹脂）製の層間絶縁膜１５が設けられている。尚、層間絶縁膜１５に用いる樹脂は、高い光透過率を有し、比誘電率が低く、比抵抗値が大きく、且つ高い機械的強度を有するものであることが好ましい。

層間絶縁膜１５の上には、所定配列で配列された（典型的には、マトリクス配列で配列された）複数の画素電極１６、及びスクライブマーク５０が形成されている。層間絶縁膜１５には、ＴＦＴ素子１４に開口するスルーホール１５ａが形成されており、そのスルーホール１５ａを経由して画素電極１６とＴＦＴ素子１４とが電気的に接続されている。尚、本明細書においてスクライブマーク５０とは、分断を精度よく行うためのアライメントマークのことである。

本実施形態１に係る液晶表示パネル１では、ゲートライン１２、ソースライン１３といった電極線、画素電極１６等を含む導電部材の中で、画素電極１６が最も層厚が薄くなるように形成されている。スクライブマーク５０は導電部材の中で最も薄い導電性酸化物（例えば、ＩＴＯ）製の画素電極１６と同一の膜から形成されている。

図４に示すように、ＴＦＴ素子１４と画素電極１６とを離間すると共に絶縁する層間絶縁膜１５は、第１基板本体１１のシール４０の一部（例えば、屈曲部と重畳する部分の一部）を露出させると共に、第１基板本体１１における液晶表示パネル１の周縁に位置する部分の液晶層２０側表面全体を覆うように形成されている。この層間絶縁膜１５は第１基板本体１１における液晶表示パネル１の周縁に位置する部分の液晶層２０側表面を平坦にする所謂平坦化膜としての機能を兼ね備えており、液晶表示パネル１では、アクティブマトリクス基板１０は液晶表示パネル１周縁に位置する部分の液晶層２０側表面を含む両方の表面が平坦且つ平滑となるように形成されている。

尚、層間絶縁膜１５を、第１基板本体１１のシール４０の一部（例えば、屈曲部と重畳する部分の一部）を露出させるのは、一般的に無機物に対して良好な接着性を示す、例えば、エポキシ系熱硬化性樹脂や紫外線硬化樹脂等を主成分とする材料により形成されるシール４０とアクティブマトリクス基板１０との接着性を向上させるためである。

一方、対向基板３０は、例えばガラス製の第２基板本体３１と、カラーフィルタ層３２と、上部共通電極３３と、第２ラビング膜（配向膜）３４と、第２基板本体３１の液晶層２０側とは反対側の表面上に設けられた第２偏光板３５とを備えている。カラーフィルタ層３２は、第２基板本体３１の上に形成されており、相互に透過させる光の色調が異なる複数種類のフィルタ層と、それらフィルタ層をそれぞれに分断するブラックマトリクス層とにより構成されている。カラーフィルタ層３２の上には上部共通電極３３が形成されており、さらに上部共通電極３３の上には、液晶層２０に接する第２ラビング膜３４が形成されている。尚、対向基板３０は液晶表示パネル１周縁に位置する部分の液晶層２０側表面を含む両方の表面が平坦且つ平滑となるように形成されている。

次に、このような液晶表示パネル１の製造工程について図５〜図１２を参照しながら詳細に説明する。

まず、図５に示すように、アクティブマトリクス基板１０の基材となる第１マザーガラス基板６０を用意する。第１マザーガラス基板６０はアクティブマトリクス基板１０が複数枚（例えば、縦１０列、横１２列にマトリクス状に配列された計１２０枚程度のアクティブマトリクス基板１０が）切り出せるような大判のガラス基板である。第１マザーガラス基板６０の上に、ゲートライン１２、ソースライン１３、ＴＦＴ素子１４、画素電極１６、スクライブマーク５０等を順次形成し、第１マザーガラス基板６０を第１基板本体１１として相互に連結されたアクティブマトリクス基板１０の複数の構成単位を同時に形成する。

尚、アクティブマトリクス基板形成工程では、画素電極１６を形成する工程において、画素電極１６と同一の膜からスクライブマーク５０を同時形成する。

また、上記工程と並行して、対向基板３０の基材となる第２マザーガラス基板７０を用意する。第２マザーガラス基板７０は対向基板３０が複数枚（例えば、一方向に配列された１０枚程度の対向基板３０が）切り出せるような、第１マザーガラス基板６０よりも小さい中判のガラス基板である。その第２マザーガラス基板７０の上に、カラーフィルタ層３２、上部共通電極３３、及び第２ラビング膜３４等を順次形成し、一方向に配列された一連の対向基板３０の複数の構成単位を同時に形成する。

その後、第１マザーガラス基板６０上に、例えばスクリーン印刷法によって、開口（液晶注入口）を有する環状の複数のシール４０を形成する。そして、そのシール４０の上に第２マザーガラス基板７０を配置・接着し、図５に表される、複数の構成単位が所定配列で（典型的には、マトリクス配列で）形成された基板構造体（貼り合わせ基板）８０を作製する。

次に、その基板構造体８０を切断し、図７に示す、複数の構成単位が一方向に配列された短冊状の基板構造体８１を作製する（以下、この工程を「第１分断工程」とすることがある。）。具体的には、まず、対向配置された一対のスクライブマーク５０を目印として、カッターホイールを用いて、図５及び図６に示すような、一対のスクライブマーク５０の間隙中央を通過する第１スクライブライン（線状のクラック）６１ａをアクティブマトリクス基板１０及び対向基板３０の双方に形成する。そして、その第１スクライブライン６１ａに沿って基板を分断することにより、図７に示すような短冊状の基板構造体８１を作製する。

一般的には、製造工程簡略化の観点から、この状態で、短冊状に配置された複数の空セルに同時に液晶を注入することにより液晶層２０を形成する。液晶層２０形成後、短冊状に配置された複数の構成単位をそれぞれに分断することにより、複数の液晶表示パネル１を完成させる（以下、この工程を「第２分断工程」とすることがある。）。具体的には、アクティブマトリクス基板１０及び対向基板３０の双方に、短冊状に配列された構成単位をそれぞれに分断するための第２スクライブライン６１ｂ（以下、第１スクライブライン６１ａと第２スクライブライン６１ｂとを合わせてスクライブライン６１とすることがある。）を対向配置された一対のスクライブマーク５０の間隙中央を通過するように形成する。そして、その第２スクライブライン６１ｂに沿って基板を分断することにより液晶表示パネル１を完成させる。従来は、この第１及び第２分断工程において、アクティブマトリクス基板１０や対向基板３０に割れやカケが高い確率で発生するという問題がある。

上述の通り、シール４０は有機部材と比較して無機部材に高い接着性を示す。このため、アクティブマトリクス基板１０と対向基板３０とを高強度に接着する観点から、図８に示すように、従来、液晶表示パネルの角部近傍には層間絶縁膜１５を形成せず、シール４０の一部（例えば、屈曲部）を露出させるのが通常である。この場合、スクライブライン６１上に層間絶縁膜１５が形成されている部分と層間絶縁膜１５が形成されていない部分とが形成される。従って、図９に示すように、層間絶縁膜１５が形成されている部分と形成されていない部分との境界に段差１５ｂが形成されることとなる。

スクライブライン６１は段差１５ｂを横切って形成されることとなるが、その場合、段差部１５ｂには比較的大きな応力が加わるため、段差１５ｂ近傍で不要なクラックや欠け等が発生する可能性が高く、その不要なクラックに起因してアクティブマトリクス基板１０や対向基板３０に割れやカケが発生する虞がある。このため、従来の基板構造体８０からは高い製造効率で液晶表示パネルを得ることは困難である。

一方、本実施形態１では、スクライブライン６１上には段差が形成されず、平坦であるため、アクティブマトリクス基板１０や対向基板３０に割れやカケが発生する確率が低い。

本実施形態１では、図６に示すように、層間絶縁膜１５は、シール４０の一部（例えば、屈曲部と重畳する一部）を露出させると共に、スクライブライン６１上部を被覆するように形成されている。このため、図１０に示すように、第１マザーガラス基板６０のスクライブライン６１上近傍部分の液晶層２０側表面は平坦である。すなわち、層間絶縁膜１５は、分断されて液晶表示パネル１となった後の、第１基板本体１１の周縁部分の液晶層２０側表面を覆うように設けられており、第１基板本体１１の周縁部分の液晶層２０側表面は平坦である。よって、本実施形態１では、第１分断工程及び第２分断工程において、第１マザーガラス基板６０にスクライブライン６１を形成する際に、アクティブマトリクス基板１０の液晶層２０側表面から不要なクラックが発生することが効果的に抑制される。従って、液晶表示パネル１を高い製造効率で製造することが可能となる。

第１マザーガラス基板６０のスクライブライン６１上近傍部分の液晶層２０側表面を平坦化するための平坦化膜は、本実施形態１のように樹脂（好ましくは有機樹脂）製であることが好ましい。樹脂によりスクライブライン６１上を被覆することによって、スクライブ工程における不要なクラックの発生をより効果的に抑制することができる。

同様に、本実施形態１においては、分断されて液晶表示パネル１となった後の、対向基板３０の液晶表示パネル１周縁に位置する部分の液晶層２０側表面も平坦である。すなわち、第２マザーガラス基板７０上のスクライブライン６１上近傍部分の液晶層２０側表面は平坦である。このため、本実施形態１では、第１分断工程及び第２分断工程において、第２マザーガラス基板７０にスクライブライン６１を形成する際に、対向基板３０の液晶層２０側表面から不要なクラックが発生することが効果的に抑制される。従って、液晶表示パネル１を高い製造効率で製造することが可能となる。

次に、本実施形態１におけるスクライブマーク５０についてさらに詳細に説明する。

本実施形態１では、スクライブマーク５０はスクライブライン６１上に形成されておらず、スクライブライン６１を挟んで対峙するように形成されている。言い換えれば、スクライブマーク５０は、分断された後の液晶表示パネル１のアクティブマトリクス基板１０の端面から離間するように形成されている。例えば、スクライブマーク５０がスクライブライン６１上を横切るように形成されている場合は、スクライブマーク５０と第１マザーガラス基板６０との材質特性（例えば、硬度等）の相違に起因して、スクライブ工程において、スクライブマーク５０の形成された箇所近傍に不要なクラックが発生してしまう可能性が高い。しかしながら、本実施形態１では、スクライブマーク５０がスクライブライン６１上に形成されていないため、このような不要なクラックの発生を抑制することができる。従って、液晶表示パネル１を高い製造効率で製造することが可能となる。

また、本実施形態１では、スクライブマーク５０は各種電極ライン（ゲートライン１２、ソースライン１３等）や画素電極１６といった導電部材の中で最も層厚の薄い画素電極１６と同一の膜から形成されている。言い換えれば、本実施形態１では、スクライブマーク５０は比較的薄く形成されている。このため、効果的に対向基板３０の割れやカケを抑制することができる。

対向基板３０側にスクライブマーク５０を形成する場合、対向基板３０側にカッターホイール８０が押圧・走査される。対向基板３０はアクティブマトリクス基板１０と比較して層厚が比較的薄いため、カッターホイール８０の押圧によりアクティブマトリクス基板１０に対して凸状に変形する。ここで、スクライブライン６１が形成されるラインを挟んで対峙して設けられたスクライブマーク５０の層厚が比較的厚い場合は、図１１に示すように、変形した対向基板３０がスクライブマーク５０に当接する虞がある。対向基板３０がスクライブマーク５０に当接した場合、対向基板３０は一対のスクライブマーク５０とカッターホイール８０との合計３部材により押圧されることとなり、対向基板３０に割れやカケが発生する可能性が高くなる。このため、製造効率が低下してしまう虞がある。

それに対して、本実施形態１では、スクライブマーク５０が比較的薄く形成されているため、図１２に示すように、スクライブマーク５０が対向基板３０に当接することが抑制される。このため、対向基板３０に不要なクラック等が発生することを抑制することができるので、液晶表示パネル１を高い製造効率で製造することが可能となる。すなわち、アクティブマトリクス基板１０に形成されたスクライブマーク５０は、スクライブ工程において対向基板３０と接触しないような層厚に形成しておくことが好ましい。

尚、本実施形態１では、スクライブマーク５０は導電性酸化物からなる画素電極１６と同一の膜から形成されているが、本発明はこの構成に限定されるものではなく、例えば、スクライブマーク５０は実質的に金属材料により形成されていてもよい。その場合、例えばゲートライン１２やソースライン１３といった各種電極線と同一の膜から形成されていてもよい。金属材料により形成されたスクライブマーク５０は視認性に優れるため、より高精度な分断を可能にせしめる。

（変形例１：実施形態１の変形例）
図１３は本変形例１に係る液晶表示パネルを示す。

図１３に示すように、カラーフィルタ層３２に含まれるブラックマトリクス層３２ａが第２基板本体の液晶表示パネル周縁に位置する部分の液晶層２０側表面を被覆するように形成されていることによって、液晶層２０側表面が平坦化されていてもよい。言い換えれば、ブラックマトリクス層３２ａが第２マザーガラス基板７０のスクライブライン６１が形成される部分の上を被覆するように形成されていてもよい。

（変形例２：実施形態１の変形例）
図１４は本変形例２に係る液晶表示パネルを示す。図１５はその製造工程を表す。

図１４及び図１５に示すように、スクライブマーク５０を平面視略（正）三角形状の複数のマークにより構成してもよい。

（実施形態２）
図１６は本実施形態２に係る液晶表示パネル２を示す。図１７はその製造工程を表す。

本実施形態２に係る液晶表示パネル２は、スクライブマーク５０の配置構成を除いては、上記実施形態１に係る液晶表示パネル１と同様の形態を有する。ここでは、本実施形態２におけるスクライブマーク５０の配置構成について詳細に説明する。尚、本実施形態２の説明において、実質的に同じ機能を有する構成要素を上記実施形態１と共通の参照符号で説明し、説明を省略する。

本実施形態２に係る液晶表示パネル２では、スクライブマーク５０が平面視において一辺がアクティブマトリクス基板１０の短辺と共通する平面視略矩形状に形成されている。すなわち、図１７に示すように、平面視略矩形状のスクライブマーク５０がスクライブライン６１上に形成されている。この場合、スクライブマーク５０は金属材料により形成されていてもよいが、導電性酸化物により（例えば、画素電極１６と同一の膜から）形成されていることが好ましい。ガラス製の第１基板本体１１とは材料特性が大きく異なる金属材料により形成されたスクライブマーク５０の上部がスクライブされるとスクライブマーク５０の近辺から不要なクラック等が発生しやすい。しかしながら、本実施形態２のように、ガラスと材料特性が比較的類似するインジウムスズ酸化物やインジウム亜鉛酸化物等の導電性酸化物によりスクライブマーク５０を形成することによって、スクライブマーク５０近辺からクラック等が発生することを効果的に抑制することができる。従って、高い製造効率で製造可能な液晶表示パネル２を実現することができる。

また、本実施形態２においては、スクライブマーク５０の辺５０ａがアクティブマトリクス基板１０の端面（スクライブライン６１）と直交する。この構成を採用することによって、例えば、スクライブマーク５０の辺５０ａとスクライブライン６１とが傾斜する場合と比較して、スクライブマーク５０付近からクラック等が発生することを効果的に抑制することができる。

尚、上記実施形態１、２及び変形例１、２で例示したスクライブマーク５０は単なる例示であって、本発明において、スクライブマークはこれらの形態に限定されるものではない。

以上、実施形態１、２及び変形例１、２に係るアクティブマトリクス方式の液晶表示パネルを例に挙げて本発明に係る表示パネルの好ましい形態を説明してきたが、本発明に係る表示パネルはアクティブマトリクス方式の表示パネルに限定されない。例えば、パッシブマトリクス方式やセグメント方式の表示パネルであってもよい。また、平坦化膜も層間絶縁膜１５に限定されるものではなく、他の膜であってもよい。例えば、パッシブマトリクス方式の表示パネルである場合は金属反射膜（例えば、特開平１１−２４２２１５号公報等）やカラーフィルタ平坦化膜（例えば、特開平４−６０５１７号公報等）等であってもよい。

また、本発明に係る表示パネルは、液晶表示パネルに限定されず、無機エレクトロルミネッセンス表示パネル、有機エレクトロルミネッセント表示パネル、フィールドエミッション表示パネル、プラズマ表示パネル等の各種表示パネルであってもよい。さらに本発明は各種電子部品一般にも応用適用することができるものである。

以上説明したように、本発明に係る表示パネルは、高い製造効率で製造可能であるため、携帯電話やＰＤＡ等のモバイル機器、テレビ、電子ブック、モニター、電子ポスター、時計、電子棚札、非常案内等に有用である。

Claims (15)

1. 第１の基板と、該第１の基板に対向して設けられた第２の基板と、該第１の基板と該第２の基板との間に設けられた表示媒体層と、該第１の基板と該第２の基板との間に該表示媒体層を周回するように設けられ、該第１の基板と該第２の基板とを接着すると共に該表示媒体層を封止するシールとを備えた表示パネルであって、
   上記第１の基板における上記表示パネル周縁に位置する部分の上記表示媒体層側表面は平坦である表示パネル。
2. 請求項１に記載された表示パネルにおいて、
   上記第１の基板は、第１の基板本体と、該第１の基板本体における少なくとも上記表示パネル周縁に位置する部分の上記表示媒体層側表面全体を覆う平坦化膜とを有する表示パネル。
3. 請求項２に記載された表示パネルにおいて、
   上記第１の基板は、上記第１の基板本体の上に設けられた複数の薄膜トランジスタ素子と、該複数の薄膜トランジスタ素子の上に設けられると共に、該複数の薄膜トランジスタ素子に開口する複数のスルーホールが形成された層間絶縁膜と、該層間絶縁膜の上に設けられ、各々上記複数のスルーホールを経由して上記薄膜トランジスタに電気的に接続された複数の画素電極とをさらに有し、且つ、上記層間絶縁膜は、上記平坦化膜として、上記第１の基板本体における上記表示パネル周縁に位置する部分全体の上に設けられている表示パネル。
4. 請求項２に記載された表示パネルにおいて、
   上記平坦化膜は樹脂膜である表示パネル。
5. 請求項１に記載された表示パネルにおいて、
   上記第２の基板における上記表示パネル周縁に位置する部分の上記表示媒体層側表面は平坦である表示パネル。
6. 複数の導電部材が設けられた第１の基板と、該第１の基板に対向して設けられた第２の基板と、該第１の基板と該第２の基板との間に設けられた表示媒体層と、該第１の基板と該第２の基板との間に該表示媒体層を周回するように設けられ、該第１の基板と該第２の基板とを接着すると共に該表示媒体層を封止するシールとを備えた表示パネルであって、
   上記第１の基板における上記表示パネル周縁に位置する部分に、上記複数の導電部材のうち最も薄い導電部材と同一の膜からなる１又は複数のスクライブマークが形成されている表示パネル。
7. 請求項６に記載された表示パネルにおいて、
   上記第１の基板は、相互に並行に延びる複数のゲートラインと、該複数のゲートラインの延びる方向に角度をなして相互に並行に延びる複数のソースラインと、各々該複数のゲートラインと該複数のソースラインとの双方に接続されたスイッチング素子と、該スイッチング素子の上に設けられると共に、該スイッチング素子に開口する複数のスルーホールが形成された層間絶縁膜と、該複数の層間絶縁膜を経由して上記スイッチング素子に電気的に接続された複数の画素電極とを有し、
   上記複数の導電部材は上記複数のゲートラインと、上記複数のソースラインと、上記複数の画素電極とを含む表示パネル。
8. 請求項７に記載された表示パネルにおいて、
   上記複数の画素電極は実質的に導電性酸化物からなり、上記１又は複数のスクライブマークは上記複数の画素電極と同一の膜で形成されている表示パネル。
9. 請求項６に記載された表示パネルにおいて、
   上記１又は複数のスクライブマークは実質的に金属からなる表示パネル。
10. 請求項６に記載された表示パネルにおいて、
    上記第１の基板は実質的に金属からなる電極ラインを有し、上記１又は複数のスクライブマークは該電極ラインと同一の膜から形成されている表示パネル。
11. 請求項６に記載された表示パネルにおいて、
    上記１又は複数のスクライブマークは上記第１の基板の端面から離間するように設けられている表示パネル。
12. 請求項６に記載された表示パネルにおいて、
    上記１又は複数のスクライブマークは、平面視において、一辺が上記第１の基板の端辺と共通する平面視多角形状に形成されている表示パネル。
13. 請求項１２に記載された表示パネルにおいて、
    上記１又は複数のスクライブマークは、平面視において、上記第１の基板の端辺に垂直に接する少なくとも一つの端辺を有する表示パネル。
14. 請求項１２に記載された表示パネルにおいて、
    上記１又は複数のスクライブマークは実質的に導電性酸化物からなる表示パネル。
15. 請求項１又は６に記載された表示パネルにおいて、
    上記表示媒体層は液晶層である表示パネル。

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