JPWO2006088079A1 - 有機無機複合体 - Google Patents
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Abstract
Description
本願は、2005年2月18日に出願された日本国特許出願第2005−43199号、2005年8月29日に出願された日本国特許出願第2005−248170号、及び2006年1月23日に出願された日本国特許出願第2006−13933号に対し優先権を主張し、その内容をここに援用する。
(1)式(I)
RnSiX4−n・・・(I)
(式中、Rは、式中のSiに炭素原子が直接結合するような有機基を表し、Xは、水酸基又は加水分解性基を表す。nは1又は2を表し、nが2のとき、Rは同一であっても異なっていてもよく、(4−n)が2以上のとき、Xは同一であっても異なっていてもよい。)で表される有機ケイ素化合物の縮合物を主成分とし、金属キレート化合物、金属有機酸塩化合物、2以上の水酸基若しくは加水分解性基を有する金属化合物、それらの加水分解物、及びそれらの縮合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の350nm以下の波長の光に感応する光感応性化合物、及び/又はそれから誘導される化合物を含有することを特徴とする有機無機複合体や、
(2)金属キレート化合物が、水酸基若しくは加水分解性基を有することを特徴とする上記(1)に記載の有機無機複合体や、
(3)金属有機酸塩化合物が、水酸基若しくは加水分解性基を有することを特徴とする上記(1)又は(2)に記載の有機無機複合体や、
(4)2以上の水酸基若しくは加水分解性基を有する金属化合物の加水分解物及び/又は縮合物が、2以上の水酸基若しくは加水分解性基を有する金属化合物1モルに対して、0.5モル以上の水を用いて加水分解した生成物であることを特徴とする上記(1)〜(3)のいずれかに記載の有機無機複合体や、
(5)金属キレート化合物の加水分解物及び/又は縮合物が、金属キレート化合物1モルに対して、5〜100モルの水を用いて加水分解した生成物であることを特徴とする上記(1)〜(4)のいずれかに記載の有機無機複合体や、
(6)金属有機酸塩化合物の加水分解物及び/又は縮合物が、金属有機酸塩化合物1モルに対して、5〜100モルの水を用いて加水分解した生成物であることを特徴とする上記(1)〜(5)のいずれかに記載の有機無機複合体や、
(7)金属キレート化合物が、β−ケトカルボニル化合物、β−ケトエステル化合物、又はα−ヒドロキシエステル化合物であることを特徴とする上記(1)〜(6)のいずれかに記載の有機無機複合体や、
(8)加水分解性基が、炭素数1〜4のアルコキシ基又は炭素数1〜6のアシルオキシ基であることを特徴とする上記(1)〜(7)のいずれかに記載の有機無機複合体や、
(9)金属化合物、金属キレート化合物又は金属有機酸塩化合物における金属が、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、ケイ素、ゲルマニウム、インジウム、スズ、タンタル、亜鉛、タングステン、鉛からなる群から選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする上記(1)〜(8)のいずれかに記載の有機無機複合体や、
(10)式(I)中、Rが、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数2〜10のアルケニル基又は炭素数1〜10のエポキシアルキル基であることを特徴とする上記(1)〜(9)のいずれかに記載の有機無機複合体に関する。
(11)薄膜であることを特徴とする上記(1)〜(10)のいずれかに記載の有機無機複合体や、
(12)膜表面から深さ方向10nmにおける膜表面部の炭素含有量が、膜裏面から深さ方向10nmにおける膜裏面部の炭素含有量の80%以下の薄膜であることを特徴とする上記(11)に記載の有機無機複合体や、
(13)膜の表面から所定深さまで炭素含有量が漸次増加していることを特徴とする上記(11)又は(12)に記載の有機無機複合体や、
(14)炭素含有量が漸次増加している深さが、膜厚の5〜80%であることを特徴とする上記(13)に記載の有機無機複合体や、
(15)炭素含有量が漸次増加している深さが、50〜2000nmであることを特徴とする上記(13)又は(14)に記載の有機無機複合体や、
(16)ガラス基板に形成したときの、JIS K 5600−5−4鉛筆法に規定する鉛筆硬度が、5H以上の薄膜であることを特徴とする上記(11)〜(15)のいずれかに記載の有機無機複合体や、
(17)式(I)
RnSiX4−n・・・(I)
(式中、Rは、式中のSiに炭素原子が直接結合するような有機基を表し、Xは、水酸基又は加水分解性基を表す。nは1又は2を表し、nが2のとき、Rは同一であっても異なっていてもよく、(4−n)が2以上のとき、Xは同一であっても異なっていてもよい。)で表される有機ケイ素化合物の縮合物を主成分とする薄膜であって、膜表面から深さ方向10nmにおける膜表面部の炭素含有量が、膜裏面から深さ方向10nmにおける膜裏面部の炭素含有量の80%以下であることを特徴とするポリシロキサン系薄膜や、
(18)膜の表面から所定深さまで炭素含有量が漸次増加していることを特徴とする上記(17)に記載のポリシロキサン系薄膜や、
(19)炭素含有量が漸次増加している深さが、膜厚の5〜80%であることを特徴とする上記(18)に記載のポリシロキサン系薄膜や、
(20)炭素含有量が漸次増加している深さが、50〜2000nmであることを特徴とする上記(18)又は(19)に記載のポリシロキサン系薄膜に関する。
(21)ガラス基板に形成したときの、JIS K 5600−5−4鉛筆法に規定する鉛筆硬度が、5H以上であることを特徴とする上記(17)〜(20)のいずれかに記載のポリシロキサン系薄膜や、
(22)さらに350nm以下の波長の光に感応する光感応性化合物、及び/又はそれから誘導される化合物を含有することを特徴とする(17)〜(21)のいずれかに記載のポリシロキサン系薄膜や、
(23)金属キレート化合物、金属有機酸塩化合物、2以上の水酸基若しくは加水分解性基を有する金属化合物、それらの加水分解物、及びそれらの縮合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の350nm以下の波長の光に感応する光感応性化合物、及び/又はそれから誘導される化合物を含有することを特徴とする上記(22)に記載のポリシロキサン系薄膜や、
(24)金属キレート化合物が、水酸基若しくは加水分解性基を有することを特徴とする上記(23)に記載のポリシロキサン系薄膜や、
(25)金属有機酸塩化合物が、水酸基若しくは加水分解性基を有することを特徴とする上記(23)又は(24)に記載のポリシロキサン系薄膜や、
(26)2以上の水酸基若しくは加水分解性基を有する金属化合物の加水分解物及び/又は縮合物が、2以上の水酸基若しくは加水分解性基を有する金属化合物1モルに対して、0.5モル以上の水を用いて加水分解した生成物であることを特徴とする上記(23)〜(25)のいずれかに記載のポリシロキサン系薄膜や、
(27)金属キレート化合物の加水分解物及び/又は縮合物が、金属キレート化合物1モルに対して、5〜100モルの水を用いて加水分解した生成物であることを特徴とする上記(23)〜(26)のいずれかに記載のポリシロキサン系薄膜や、
(28)金属有機酸塩化合物の加水分解物及び/又は縮合物が、金属有機酸塩化合物1モルに対して、5〜100モルの水を用いて加水分解した生成物であることを特徴とする上記(23)〜(27)のいずれかに記載のポリシロキサン系薄膜や、
(29)金属キレート化合物が、β−ケトカルボニル化合物、β−ケトエステル化合物、又はα−ヒドロキシエステル化合物であることを特徴とする上記(23)〜(28)のいずれかに記載のポリシロキサン系薄膜や、
(30)加水分解性基が、炭素数1〜4のアルコキシ基又は炭素数1〜6のアシルオキシ基であることを特徴とする上記(23)〜(29)のいずれかに記載のポリシロキサン系薄膜や、
(31)金属化合物、金属キレート化合物又は金属有機酸塩化合物における金属が、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、ケイ素、ゲルマニウム、インジウム、スズ、タンタル、亜鉛、タングステン、鉛からなる群から選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする上記(23)〜(30)のいずれかに記載のポリシロキサン系薄膜に関する。
(32)式(I)中、Rが、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数2〜10のアルケニル基又は炭素数1〜10のエポキシアルキル基であることを特徴とする上記(17)〜(31)のいずれかに記載のポリシロキサン系薄膜や、
(33)金属キレート化合物、金属有機酸塩化合物、2以上の水酸基若しくは加水分解性基を有する金属化合物、それらの加水分解物、及びそれらの縮合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の光感応性化合物の存在下、
式(I)
RnSiX4−n・・・(I)
(式中、Rは、式中のSiに炭素原子が直接結合するような有機基を表し、Xは、水酸基又は加水分解性基を表す。nは1又は2を表し、nが2のとき、Rは同一であっても異なっていてもよく、(4−n)が2以上のとき、Xは同一であっても異なっていてもよい。)で表される有機ケイ素化合物及び/又はその縮合物に、350nm以下の波長の光を照射することを特徴とする有機無機複合体の製造方法や、
(34)金属キレート化合物が、水酸基若しくは加水分解性基を有することを特徴とする上記(33)に記載の有機無機複合体の製造方法や、
(35)金属有機酸塩化合物が、水酸基若しくは加水分解性基を有することを特徴とする上記(33)又は(34)に記載の有機無機複合体の製造方法や、
(36)2以上の水酸基若しくは加水分解性基を有する金属化合物の加水分解物及び/又は縮合物が、2以上の水酸基若しくは加水分解性基を有する金属化合物1モルに対して、0.5モル以上の水を用いて加水分解した生成物であることを特徴とする上記(33)〜(35)のいずれかに記載の有機無機複合体の製造方法や、
(37)金属キレート化合物の加水分解物及び/又は縮合物が、金属キレート化合物1モルに対して、5〜100モルの水を用いて加水分解した生成物であることを特徴とする上記(33)〜(36)のいずれかに記載の有機無機複合体の製造方法や、
(38)金属有機酸塩化合物の加水分解物及び/又は縮合物が、金属有機酸塩化合物1モルに対して、5〜100モルの水を用いて加水分解した生成物であることを特徴とする上記(33)〜(37)のいずれかに記載の有機無機複合体の製造方法や、
(39)金属キレート化合物が、β−ケトカルボニル化合物、β−ケトエステル化合物、又はα−ヒドロキシエステル化合物であることを特徴とする上記(33)〜(38)のいずれかに記載の有機無機複合体の製造方法や、
(40)加水分解性基が、炭素数1〜4のアルコキシ基又は炭素数1〜6のアシルオキシ基であることを特徴とする上記(33)〜(39)のいずれかに記載の有機無機複合体の製造方法や、
(41)金属化合物、金属キレート化合物又は金属有機酸塩化合物における金属が、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、ケイ素、ゲルマニウム、インジウム、スズ、タンタル、亜鉛、タングステン、鉛からなる群から選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする上記(33)〜(40)のいずれかに記載の有機無機複合体の製造方法に関する。
(42)式(I)中、Rが、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数2〜10のアルケニル基又は炭素数1〜10のエポキシアルキル基であることを特徴とする上記(33)〜(41)のいずれかに記載の有機無機複合体の製造方法や、
(43)有機ケイ素化合物の縮合物の平均粒径が、10nm以下であることを特徴とする上記(33)〜(42)のいずれかに記載の有機無機複合体の製造方法や、
(44)光感応性化合物の平均粒径が、10nm以下であることを特徴とする上記(33)〜(43)のいずれかに記載の有機無機複合体の製造方法や、
(45)照射する光が、150〜350nmの範囲のいずれかの波長の光を主成分とする光であることを特徴とする上記(33)〜(44)のいずれかに記載の有機無機複合体の製造方法や、
(46)照射する光が、250〜310nmの範囲のいずれかの波長の光を主成分とする光であることを特徴とする上記(45)に記載の有機無機複合体の製造方法や、
(47)薄膜を製造することを特徴とする上記(33)〜(46)のいずれかに記載の有機無機複合体の製造方法や、
(48)製造される薄膜における、膜表面から深さ方向10nmにおける膜表面部の炭素含有量が、膜裏面から深さ方向10nmにおける膜裏面部の炭素含有量の80%以下の薄膜であることを特徴とする上記(47)に記載の有機無機複合体の製造方法や、
(49)製造される薄膜が、膜の表面から所定深さまで炭素含有量が漸次増加していることを特徴とする上記(48)に記載の有機無機複合体の製造方法や、
(50)炭素含有量が漸次増加している深さが、膜厚の5〜80%であることを特徴とする上記(49)に記載の有機無機複合体の製造方法や、
(51)炭素含有量が漸次増加している深さが、50〜2000nmであることを特徴とする上記(49)又は(50)に記載の有機無機複合体の製造方法に関する。
(52)製造される薄膜が、ガラス基板に形成したときの、JIS K 5600−5−4鉛筆法に規定する鉛筆硬度が、5H以上であることを特徴とする上記(47)〜(51)のいずれかに記載の有機無機複合体の製造方法や、
(53)上記(33)〜(52)のいずれかに記載の製造方法により製造されたことを特徴とする有機無機複合体や、
(54)式(I)
RnSiX4−n・・・(I)
(式中、Rは、式中のSiに炭素原子が直接結合するような有機基を表し、Xは、水酸基又は加水分解性基を表す。nは1又は2を表し、nが2のとき、Rは同一であっても異なっていてもよく、(4−n)が2以上のとき、Xは同一であっても異なっていてもよい。)で表される有機ケイ素化合物及び/又はその縮合物と、金属キレート化合物、金属有機酸塩化合物、2以上の水酸基若しくは加水分解性基を有する金属化合物、それらの加水分解物、及びそれらの縮合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の光感応性化合物とを含有することを特徴とする有機無機複合体形成用組成物や、
(55)さらに、水及び溶媒を含むことを特徴とする上記(54)に記載の有機無機複合体形成用組成物や、
(56)金属キレート化合物が、水酸基若しくは加水分解性基を有することを特徴とする上記(54)又は(55)に記載の有機無機複合体形成用組成物や、
(57)金属有機酸塩化合物が、水酸基若しくは加水分解性基を有することを特徴とする上記(54)〜(56)のいずれかに記載の有機無機複合体形成用組成物や、
(58)2以上の水酸基若しくは加水分解性基を有する金属化合物の加水分解物及び/又は縮合物が、2以上の水酸基若しくは加水分解性基を有する金属化合物1モルに対して、0.5モル以上の水を用いて加水分解した生成物であることを特徴とする上記(54)〜(57)のいずれかに記載の有機無機複合体形成用組成物や、
(59)金属キレート化合物の加水分解物及び/又は縮合物が、金属キレート化合物1モルに対して、5〜100モルの水を用いて加水分解した生成物であることを特徴とする上記(54)〜(58)のいずれかに記載の有機無機複合体形成用組成物や、
(60)金属有機酸塩化合物の加水分解物及び/又は縮合物が、金属有機酸塩化合物1モルに対して、5〜100モルの水を用いて加水分解した生成物であることを特徴とする上記(54)〜(59)のいずれかに記載の有機無機複合体形成用組成物や、
(61)金属キレート化合物が、β−ケトカルボニル化合物、β−ケトエステル化合物、又はα−ヒドロキシエステル化合物であることを特徴とする上記(54)〜(60)のいずれかに記載の有機無機複合体形成用組成物に関する。
(62)加水分解性基が、炭素数1〜4のアルコキシ基又は炭素数1〜6のアシルオキシ基であることを特徴とする上記(54)〜(61)のいずれかに記載の有機無機複合体形成用組成物や、
(63)金属化合物、金属キレート化合物又は金属有機酸塩化合物における金属が、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、ケイ素、ゲルマニウム、インジウム、スズ、タンタル、亜鉛、タングステン、鉛からなる群から選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする上記(54)〜(62)のいずれかに記載の有機無機複合体形成用組成物や、
(64)式(I)中、Rが、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数2〜10のアルケニル基又は炭素数1〜10のエポキシアルキル基であることを特徴とする上記(54)〜(63)のいずれかに記載の有機無機複合体形成用組成物や、
(65)有機ケイ素化合物の縮合物の平均粒径が、10nm以下であることを特徴とする上記(54)〜(64)のいずれかに記載の有機無機複合体形成用組成物や、
(66)光感応性化合物の平均粒径が、10nm以下であることを特徴とする上記(54)〜(65)のいずれかに記載の有機無機複合体形成用組成物や、
(67)光感応性化合物における金属原子が、式(I)で表される有機ケイ素化合物及び/又はその縮合物におけるケイ素原子に対して、0.01〜0.5モル当量含有されていることを特徴とする上記(54)〜(66)のいずれかに記載の有機無機複合体形成用組成物や、
(68)膜表面から深さ方向10nmにおける膜表面部の炭素含有量が、膜裏面から深さ方向10nmにおける膜裏面部の炭素含有量の80%以下の薄膜を形成し得ることを特徴とする上記(54)〜(67)のいずれかに記載の有機無機複合体形成用組成物や、
(69)膜の表面から所定深さまで炭素含有量が漸次増加している薄膜を形成し得ることを特徴とする上記(54)〜(68)のいずれかに記載の有機無機複合体形成用組成物や、
(70)炭素含有量が漸次増加している深さが、膜厚の5〜80%であることを特徴とする上記(69)に記載の有機無機複合体形成用組成物や、
(71)炭素含有量が漸次増加している深さが、50〜2000nmであることを特徴とする上記(69)又は(70)に記載の有機無機複合体形成用組成物や、
(72)ガラス基板に形成したときの、JIS K 5600−5−4鉛筆法に規定する鉛筆硬度が、5H以上である薄膜を形成し得ることを特徴とする上記(54)〜(71)のいずれかに記載の有機無機複合体形成用組成物に関する。
図1に示すようにして、実施例1に係る有機無機複合体形成用組成物を製造した。
1.光感応性化合物の合成
ジイソプロポキシビスアセチルアセトナートチタン(日本曹達株式会社製、T−50、酸化チタン換算固形分量16.5重量%)30.3gをエタノール/酢酸エチル=50/50の混合溶媒58.4gに溶解後、イオン交換水11.3g(10倍モル/TiO2のモル)を攪拌しながらゆっくり滴下し、加水分解した。1日後に、溶液をろ過し、黄色透明なTiO2濃度5wt%のTiO2ナノ粒子溶液(A−1)を得た。ナノ粒径の平均粒子径は4.1nmで単分散性であった。
有機ケイ素化合物として、ビニルトリメトキシシラン(信越化学工業株式会社製KBM−1003)(B−1)を用いた。
元素比(Ti:Si)が(1:9)になるように、上記A−1溶液とB−1を混合し、コーティング液とした(C−1溶液)。固形分量(CH2=CHSiO1.5+TiO2)は27wt%とした。溶液中の粒子の平均粒径は、1.0nmと4.0nmの2峰性を示した。4.0nmはTiO2ナノ粒子であり、1.0nmはビニルトリメトキシシランの加水分解縮合物粒子であると推測された。この溶液の保存安定性は非常に良好で、2ヶ月後もゲル化することなく使用することができた。
1.光感応性化合物の合成
実施例1と同様に、黄色透明なTiO2濃度5wt%のTiO2ナノ粒子溶液(A−1)を得た。
有機ケイ素化合物として、メチルトリメトキシシラン(信越化学工業株式会社製KBM−13)(B−2)を用いた。
元素比(Ti:Si)が(1:9)になるように、上記A−1溶液とB−2を混合し、コーティング液とした(C−2溶液)。固形分量(CH3SiO1.5+TiO2)は24.2wt%とした。溶液中の粒子の平均粒径は、1.2nmと4.5nmの2峰性を示した。4.5nmはTiO2ナノ粒子であり、1.2nmはメチルトリメトキシシランの加水分解縮合物粒子であると推測された。この溶液の保存安定性は非常に良好で、2ヶ月後もゲル化することなく使用することができた。
1.光感応性化合物の合成
実施例1と同様に、黄色透明なTiO2濃度5wt%のTiO2ナノ粒子溶液(A−1)を得た。
有機ケイ素化合物として、ビニルトリメトキシシラン(信越化学工業株式会社製KBM−1003)(B−1)、及び3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業株式会社製KBM−403)(B−3)を用いた。
5wt%のTiO2ナノ粒子溶液(A−1)164.95g、ビニルトリメトキシシラン(B−1)130.0gを加え、室温で30分間攪拌して得られた溶液と、5wt%のTiO2ナノ粒子溶液(A−1)70.69g、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(B−3)88.83gを加え室温で30分攪拌して得られた溶液とを混合し、12時間攪拌したものをコーティング液とした(C−3溶液)。元素比(Ti:Si)は(1:9)、固形分量(RSiO1.5(Rは、ビニル基又は3−グリシドキシプロピル基)+TiO2)は24.2wt%とした。溶液中の粒子の平均粒径は、1.6nmと6.4nmの2峰性を示した。6.4nmはTiO2ナノ粒子に、1.6nmはシランの加水分解縮合物粒子と推測された。この溶液の保存安定性は非常に良好で、2ヶ月後もゲル化することなく使用することができた。
1.光感応性化合物の合成
実施例1と同様に、黄色透明なTiO2濃度5wt%のTiO2ナノ粒子溶液(A−1)を得た。
有機ケイ素化合物として、ビニルトリメトキシシラン(信越化学工業株式会社製KBM−1003)(B−1)、及び3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業株式会社製KBM−503)(B−4)を用いた。
5wt%のTiO2ナノ粒子溶液(A−1)327.31g、ビニルトリメトキシシラン(B−1)273.20gを加え、室温で24時間攪拌後、ロータリーエバポレータにより溶液を減圧濃縮し固形分濃度55〜65wt%とした。この濃縮溶液100gに、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(B−4)を加え、24時間攪拌したものをコーティング液とした(C−4溶液)。元素比(Ti:Si)は(1:9)、固形分量(RSiO1.5(Rは、ビニル基又は3−メタクリロキシプロピル基))は24.2wt%とした。溶液中の粒子の平均粒径は、1.1nmと4.4nmの2峰性を示した。4.4nmはTiO2ナノ粒子であり、1.1nmはシランの加水分解縮合物粒子であると推測された。この溶液の保存安定性は非常に良好で、2ヶ月後もゲル化することなく使用することができた。
1.光感応性化合物
ジルコニウムアセチルジアセトナート(日本曹達株式会社製、ZR−181、酸化ジルコニウム換算固形分量15.00重量%)(A−2)を使用した。
有機ケイ素化合物として、ビニルトリメトキシシラン(信越化学工業株式会社製KBM−1003)(B−1)、及び3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業株式会社製KBM−503)(B−4)を用いた。
ビニルトリメトキシシラン(B−1)190gと3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(B−4)212.08gを混合し、ジルコニウムアセチルジアセトナート(A−2)36.29gをエタノール114gで希釈した液を加えた。この溶液を攪拌しながら、イオン交換水76.95g(2倍モル/Siモル)をエタノール114gで希釈した液をゆっくり滴下し、室温で24時間攪拌したものをコーティング液とした(C−5溶液)。元素比(Zr:Si)は(2:98)、固形分量(RSiO1.5(Rは、ビニル基又は3−メタクリロキシプロピル基))は35.0wt%とした。溶液中の粒子の平均粒径は、3.37nmをピークとするブロードな粒径分布を示した。この溶液の保存安定性は非常に良好で、2ヶ月後もゲル化することなく使用することができた。
1.光感応性化合物
トリスアセチルアセトナートアルミニウム(ACROS ORGANICS社製)10.00gをエタノール200gに溶解し、無色透明な溶液(酸化アルミニウム換算固形分濃度0.78wt%)(A−3)を調製した。
有機ケイ素化合物として、ビニルトリメトキシシラン(信越化学工業株式会社製KBM−1003)(B−1)、及び3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業株式会社製KBM−503)(B−4)を用いた。
アルミニウムアセチルアセトナート溶液(A−3)38.35gにイオン交換水10.13g(2倍モル/Siモル)を添加した。この溶液にビニルトリメトキシシラン(B−1)25.0gと3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(B−4)27.9gを加え、室温で24時間攪拌したものをコーティング液とした(C−6溶液)。元素比(Al:Si)は(2:98)、固形分量(RSiO1.5(Rは、ビニル基又は3−メタクリロキシプロピル基))は38.6wt%とした。溶液中の粒子の平均粒径は、1.95nmをピークとするブロードな粒径分布を示した。この溶液の保存安定性は非常に良好で、2ヶ月後もゲル化することなく使用することができた。
A.殺菌灯(GL−15:254nmの波長の光を主成分とするUV光、東芝社製)
B.ブラックライト(FL15BLB:365nmの波長の光を主成分とするUV光、東芝社製)
C.集光型高圧水銀灯(365nm、313nm、254nmの波長の光を主成分とするUV光、アイグラフィックス社製、160W/cm、1灯型、ランプ高10cm、コンベア速度5m/分)
4.塗膜形成
塗膜形成用組成物であるC−1溶液を、下記D−1〜D−3に係る基板に、バーコーターでコートし、60℃で30分間乾燥した。続いて、殺菌灯のUVを照射して、透明な薄膜(膜厚:2μm)を得た。
1.ソーダライムガラス(SLG)基板(D−1)
2.アクリル基板(D−2)
3.ポリカーボネート(PC)基板(D−3)
4.塗膜形成
塗膜形成用組成物であるC−2溶液を、上記D−1に係る基板に、バーコーターでコートし、60℃で30分間乾燥した。続いて、殺菌灯の紫外線(254nm、4mW/cm2)を照射して、透明な薄膜(膜厚:2μm)を得た。
4.塗膜形成
塗膜形成用組成物であるC−3溶液を、上記D−3に係る基板に、バーコーター(Rod No.10)でコートし、60℃で30分間乾燥した後、殺菌灯の紫外線を照射(8mW/cm2、30分)してハードコート膜(膜厚:4μm)を得た。
4.塗膜形成
塗膜形成用組成物であるC−4溶液を、上記D−3に係る基板に、スピナー(回転数1000rpm)でコートし、60℃で30分間乾燥した後、殺菌灯の紫外線を照射(8mW/cm2、30分)してハードコート膜(膜厚:2μm)を得た。
4.塗膜形成
塗膜形成用組成物であるC−4溶液を、上記D−3に係る基板に、スピナー(回転数1000rpm)でコートし、60℃で30分間乾燥した後、コンベアータイプ高圧水銀灯(アイグラフィックス製、160W/cm、ランプ高10cm、照射時間5秒)を用いてハードコート膜(膜厚:2μm)を得た。
4.塗膜形成
塗膜形成用組成物であるC−5溶液を、上記D−3に係る基板に、ディップコーティング(60cm/分)で成膜し、120℃で30分間乾燥した後、コンベアータイプ集光型高圧水銀灯(アイグラフィックス製、160W/cm、1灯型、ランプ高10cm、コンベア速度5m/分)を用いて6パス照射し、ハードコート膜(膜厚:4μm)を得た。
4.塗膜形成
塗膜形成用組成物であるC−6溶液を、上記D−3に係る基板に、ディップコーティング(60cm/分)で成膜し、120℃で30分間乾燥した後、コンベアータイプ集光型高圧水銀灯(アイグラフィックス製、160W/cm、1灯型、ランプ高10cm、コンベア速度5m/分)を用いて6パス照射し、ハードコート膜(膜厚:4μm)を得た。
上記実施例1−1(SLG基板)及び実施例1−2(アクリル基板)に係る薄膜について、以下に示す膜評価方法で、密着性及び硬度を評価した。その結果を表1に示す。
(1)セロテープ(登録商標)剥離試験(密着性評価)
各試料にセロテープを貼り付け、指の腹で複数回擦りつけ、その後、テープを引き剥がした際、基板上の膜が剥離しているかを評価した。
評価 ○:剥離しない
評価 ×:剥離する
JIS K 5600−5−4鉛筆法に準じて行った。
スチールウール試験(耐殺傷性評価)
スチールウール(SW)#0000で10回擦った前後でのヘイズの測定を行った。
(1)テープ剥離試験(密着性評価)
JISK5600に準拠し、塗膜に1mm間隔の切込みを縦横11本ずついれて100個の碁盤目を作成した。各試料にセロテープ(登録商標)を貼り付け指の腹で複数回擦りつけて密着させた後、テープを引き剥がし、塗膜が剥離せずに残存した格子の目数で評価した。
(2)スチールウール試験(耐殺傷性評価)
ラビングテスタ(太平理科工業製 RUBBING TESTER)にスチールウール(#0000)を取り付け、荷重500gの条件下で30往復させた後のヘイズ率を測定した。
(3)テーバー式磨耗試験
テーバー磨耗試験機(東洋テスター工業株式会社製 TABER’Abrasion Tester)に磨耗輪(C-10F))を装着し、荷重500gの条件下で500回転の試験を行った後のヘイズ率を測定した。
(4)表面抵抗測定
表面抵抗測定器(三菱化学株式会社製 Hiresta-UP MCP-HT4500)を用いて、印加電圧1000V、測定時間10秒にて測定した。
Claims (11)
- 式(I)
RnSiX4−n・・・(I)
(式中、Rは、式中のSiに炭素原子が直接結合するような有機基を表し、Xは、水酸基又は加水分解性基を表す。nは1又は2を表し、nが2のとき、Rは同一であっても異なっていてもよく、(4−n)が2以上のとき、Xは同一であっても異なっていてもよい。)で表される有機ケイ素化合物の縮合物を主成分とし、金属キレート化合物、金属有機酸塩化合物、2以上の水酸基若しくは加水分解性基を有する金属化合物、それらの加水分解物、及びそれらの縮合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の350nm以下の波長の光に感応する光感応性化合物、及び/又はそれから誘導される化合物を含有することを特徴とする有機無機複合体。 - 金属キレート化合物が、水酸基若しくは加水分解性基を有することを特徴とする請求項1に記載の有機無機複合体。
- 金属有機酸塩化合物が、水酸基若しくは加水分解性基を有することを特徴とする請求項1又は2に記載の有機無機複合体。
- 2以上の水酸基若しくは加水分解性基を有する金属化合物の加水分解物及び/又は縮合物が、2以上の水酸基若しくは加水分解性基を有する金属化合物1モルに対して、0.5モル以上の水を用いて加水分解した生成物であることを特徴とする請求項1又は2に記載の有機無機複合体。
- 金属キレート化合物の加水分解物及び/又は縮合物が、金属キレート化合物1モルに対して、5〜100モルの水を用いて加水分解した生成物であることを特徴とする請求項1又は2に記載の有機無機複合体。
- 金属有機酸塩化合物の加水分解物及び/又は縮合物が、金属有機酸塩化合物1モルに対して、5〜100モルの水を用いて加水分解した生成物であることを特徴とする請求項1又は2に記載の有機無機複合体。
- 式(I)
RnSiX4−n・・・(I)
(式中、Rは、式中のSiに炭素原子が直接結合するような有機基を表し、Xは、水酸基又は加水分解性基を表す。nは1又は2を表し、nが2のとき、Rは同一であっても異なっていてもよく、(4−n)が2以上のとき、Xは同一であっても異なっていてもよい。)で表される有機ケイ素化合物の縮合物を主成分とする薄膜であって、膜表面から深さ方向10nmにおける膜表面部の炭素含有量が、膜裏面から深さ方向10nmにおける膜裏面部の炭素含有量の80%以下であることを特徴とするポリシロキサン系薄膜。 - さらに350nm以下の波長の光に感応する光感応性化合物、及び/又はそれから誘導される化合物を少なくとも1種含有することを特徴とする請求項7に記載のポリシロキサン系薄膜。
- 当該光感応性化合物、及び/又はそれから誘導される化合物が、金属キレート化合物、金属有機酸塩化合物、2以上の水酸基若しくは加水分解性基を有する金属化合物、それらの加水分解物、及びそれらの縮合物からなる群より選ばれることを特徴とする請求項8に記載のポリシロキサン系薄膜。
- 金属キレート化合物、金属有機酸塩化合物、2以上の水酸基若しくは加水分解性基を有する金属化合物、それらの加水分解物、及びそれらの縮合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の光感応性化合物の存在下、
式(I)
RnSiX4−n・・・(I)
(式中、Rは、式中のSiに炭素原子が直接結合するような有機基を表し、Xは、水酸基又は加水分解性基を表す。nは1又は2を表し、nが2のとき、Rは同一であっても異なっていてもよく、(4−n)が2以上のとき、Xは同一であっても異なっていてもよい。)で表される有機ケイ素化合物及び/又はその縮合物に、350nm以下の波長の光を照射することを特徴とする有機無機複合体の製造方法。 - 式(I)
RnSiX4−n・・・(I)
(式中、Rは、式中のSiに炭素原子が直接結合するような有機基を表し、Xは、水酸基又は加水分解性基を表す。nは1又は2を表し、nが2のとき、Rは同一であっても異なっていてもよく、(4−n)が2以上のとき、Xは同一であっても異なっていてもよい。)で表される有機ケイ素化合物及び/又はその縮合物と、金属キレート化合物、金属有機酸塩化合物、2以上の水酸基若しくは加水分解性基を有する金属化合物、それらの加水分解物、及びそれらの縮合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の光感応性化合物とを含有することを特徴とする有機無機複合体形成用組成物。
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