JPS6185360A - 複素環レチノイド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ この発明は、新規芳香族複素環誘導体、その製造方法な
らびにそのひとまたは動物治療および化粧用途に関する
ものである。

新規複素環誘導体は、「レヂノイド」の名称で知られて
いる化合物に見られる生物学的プロフィールを呈し、こ
れらの化合物のうち最らに＜知られている代表的なもの
がトランスおよびシスレヂノイン（トレヂノインおよび
イソトレヂノイン）酸およびエトレヂネ−１・である。

レヂノイドに比較して、この発明による芳香族複素環化
合物は、その構造」−１光および酸素に対して優れた安
定性を示し、他方角質化（分化−増殖）異常に結び付く
皮膚疾患および池の炎症および／または免疫アレルギー
性要素に結び付く皮膚疾患の局所的および全身的処置に
お１プる強い活性ならびに抗腫Ｊ：う活性を示す。他方
、これらの生成物は皮膚または呼吸系に起こるアトピー
の処置に使用され得る。

同様にこの化合物は、眼科領域にお（づる適用、特に角
膜症（ｃｏｒｎｅｏｐａｔｈｉｅｓ）の処置に適してい
る。

化学構造および活性を考慮して、この発明による芳香族
複素環化合物を「ヘテロージフェリン」という名称で以
後示すことにする。

この発明によるヘテロージフェリン類は、下記一般式： 〔式中、 ＲＩは、（ｉ）　　ＣＨ３ （ｉｉ）−ＣＩ４２Ｏｆ−１ ＝１５− （ｉｉｉ）　−〇−Ｒ，＋ （式中、Ｒ３は、水素原子、基−ＯＲ，（ここでＲ４は
水素原子、１〜２０個の炭素原子を有するアルギル基、
モノもしくはポリヒドロキシアルキル基であるか、また
は ｒ。

Ｒ，ｌは、基−Ｎ　　（ここで、ｒｏおよびｒ”は水素
ゝ、。

原子、低級アルキル基または一緒になって複素環を形成
する） を表ず） を表し、 Ｒ７は、水素原子または基−ＣＨｓを表し、Ａｒは、下
式： （式中、ＺはＯまたはＳである） （Ｃ） （式中、Ｒ５は、低級アルギル基を表す）および、 （式中、Ｒ８は、水素原子またはｌ−１０個の炭素原子
を有するアルキル基を表し、Ｒ７は、４〜１２個の炭素
原子を有する分枝状アルキル基また（よシクロアルキル
基を表す） で示される対応する芳香族基を表し、 Ｙは、ｃ　ｒ−ｒまたは窒素原子を表し、Ｘは、酸素原
子、硫黄原子または基−１１−Ｒ６（ここで、Ｔ（８は
、水素甲子、低級アルキル基、低級アルコキシカルボニ
ル店を表す）を表すか、ただし、’ｌ＜Ｃ１１を表し、
Ｘが酸素または硫黄原子を表−ａ′場合、Ａｒｔ、を式
（Ｃ）（ここてＲ１−ＣＩＬ）て示さＡ１ろＪｌ（以外
の乙のであり、またＹか窒素原子てＸが酸素ハ；（了を
表す場合、Ａｒは式（Ｃ）または式（Ｄ）（ここてＲ６
は１〜４個の炭素原子を有オろアルキルＪ１ζを表し、
Ｉｔ７は炭素原子４〜１２個を有オろ分枝状アルギル基
を衷オ）で示されろ基以外の乙のである〕 で表されろ。

低級アルキル基としては、１〜６側の炭素原子−をイ１
オろＪ、Ｒ５、特にメチル、エチル、イソプロピル、ブ
チルおよび第３級イソブチルか含まれろ。

モノヒト〔１ギンアルギル括としては、２または３個の
１対素原了を打オろ〕古、特に２−ヒドロキシエチルＪ
１１．および２−ヒドロキシプロピルＪλか含まれろ。

ポリヒトＣ！ギノアルキル基としては、グリセロール、
ペンタエリスリト−ルまたはマンニトールの誘導基が含
まれる。

低級アルコキシカルボニル店としては、１〜４個の炭素
原子の分枝状または非分岐状アルキル鎖を有する括が含
まれる。好ましい低級アルコキシカルボニル基としては
、メトキンカルボニル、エトキシカルボニル、イソプロ
ポキシカルボニルおよび第３級ブトキシカルボニルが挙
げられる。

基ｒ′およびｒ″が一緒になって複素環を形成する場合
、これらはピペリジノ、ピペラジノ、モルホリノまたは
ピロリジノ基であり得る。

基Ｒ７がシクロアルキル基を表す場合、これらは好まし
くはノクロヘキンル、１−メチルシクロヘキシルまたは
アダマンチル基である。

さらに具体的な形として、この発明によるヘテロ−シフ
ニリンは、下記一般式・ 〔式中、 Ｒ，は、−ＣＩ−１、ＯＮまたは一〇　　Ｒ３ｒ゛ （式中、Ｒ３は、−０Ｒ４または−Ｎ　　　（ここで＼
、。

「 、Ｒ２は、水素原子、基−ＣＨ３または一〇　８２　Ｃ
Ｈｔ　０１１を表し、ｒ”および「”は同一または異な
りて水素原子、低級アルギル基または一緒になってモル
ホリノ環を形成する）を表す） を表し、 Ｙは、Ｃ川または窒素原子を表し、 Ｘは、硫黄原子、酸素原子またはＮ　　Ｒｅ（ここてｒ
ｔ、は、水素原子、−ＣＩ　、、基または−ＣＯを第３
級ブチル基である）を表す〕 に対応する。

また別のらのとして下記一般式： 〔式中、 Ｒ４は、水素原子または一〇　〇　３基を表し、Ｙは、
ＣＩ−１または窒素原子を表し、Ｘは、硫黄原子、酸素
原子またはＮ　　Ｉｌｇ（ここでＲ８は、水素原子また
は−ＣＯ７第３級ブチル基である）を表す〕 で示されるものがある。

さらに別の例として下記一般式・ 〔式中、 Ｒ４は、水素原子または基−ＣＨｓを表し、Ｒ６は、基
−ＣＨ！ｌまたはＣ＋ｏＨｔ＋を表し、Ｒ７は、第３級
ブチル、１．１−ジメチルデシルまたはアダマンチル基
を表し、 Ｙは、ＣＩ−１または窒素原子を表し、Ｘは、硫黄原子
、酸素原子またはＮ　　Ｒｅ（ここでＲ８は水素原子で
ある）を表す〕 で示されるものがある。

式（１）で示される好ましいヘテローノフゴリン類とし
ては特に次のものが挙げられろ。

２−（ｐ−ｔ−ブチルフェニル）−６−ベンズ（ｂ）チ
オフェンカルボン酸メチル、 ２−　（ｐ　−ｔ−ブチルフェニル）−６−ベンゾ（ｂ
）ヂオフェンカルボン酸、 ２−（５，６，７，８−テトラヒトａ−５、５、８。

８−テトラメチル−２−ナフヂル）−６−ベンズ（ｂ）
チオフェンカルボン酸メチル、 ２−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８゜８
−テトラメチルー２−ナフヂル）−６〜ベンゾ（１））
ヂオフェンカルボン酸、 ２−（ｐ−１−ブチルフェニル）−ベンゾ（ｂ）フラン
カルボン酸メチル、 ２−（ｐ−ｔ−ブチルフェニル）−ベンズ（ｂ）フラン
カルボン酸、 ２−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８゜８
−テトラメチル−２−ナフチル）−６−ベンゾ（１ン）
フランカルボン酸メチル、 ２−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８゜８
−テトラメチル−２−ナフチル）−６−ベンゾ（ｂ）フ
ランカルボン酸、 １−ｔ−ブトキシカルボニル−２−（ｐ−ｔ−ブチルフ
ェニル）−６−インドールカルボン酸メチル、２−（ｐ
−ｔ−ブチルフェニル）−６−インドールカルボン酸、 １−ｔ−ブトキンカルボニル−２−（５，６，７゜８−
テトラヒドロ−５，５，８，８−テトラメチル−２−ナ
フチル）−６−インドールカルボン酸メチル、 ２、（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８゜８
−テトラメチル−２−ナフチル）−６−インドールカル
ボン酸メチル、 ２−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８゜８
−テトラメチル−２−ナフチル）−６−インドールカル
ボン酸、 １−メチルー２−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５
，５，８，８−テトラメチル−２−ナフチル）−〇−イ
ンドールカルボン酸メチル、 ＝２３− １−メチル−２−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５
，５，８，８−テトラメチル−２−ナフチル）−６−イ
ンド−ルカルホン酸、 ２−（ｐ−ｔ−ブチルフェニル）−５−ベンズイミダゾ
ールカルボン酸メチル、 ２−（ｐ−１−ブチルフェニル）−５−ベンズイミダゾ
ールカルボン酸、 ２−（５，６，７，８〜テトラヒドロ−５，５，８゜８
−テトラメチル−２−ナフチル）−ベンズイミダゾール
カルボン酸メチル、 ２−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８゜８
−テトラメチル−２−ナフチル）−ベンズイミダゾール
カルボン酸、 ２−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８゜８
−テトラメチル−２−ナフチル）−６−ペンズオキザゾ
ールカルボン酸メチル、 ２−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８゜８
−テトラメチル−２−ナフヂル）−６−ベンズオキサゾ
ールカルボン酸、 １−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５、５、８。

８−テトラメチル−２−ナフチル）−６−ベンズオキサ
ゾールカルボン酸モルホリ）・、２〜（５，６，７，８
−テトラヒドロ−５，５，８゜８−テトラメチル−２−
ナフヂル）−６−ペンズオキザゾールカルボン酸エヂル
アミド、２−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５
，８゜８−テトラメチル−２−ナフヂル）−６−ベンズ
オキサゾールカルボン酸・２−ヒドロキシェヂルエステ
ル、 ２−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８゜８
−テトラメチル−２−ナフチル）−Ｇ−ベンズオキサシ
リルメチルアルコール、 ２−（１（Ｉ−アダマンチル）−４−メトキシフェニル
〕−５−ベンズイミダゾールカルボン酸メチルエステル
、 ２−（３−（Ｉ−アダマンチル）−４−メトキンフェニ
ルクー６−ペンズオキザゾールカルボン酸メチルエステ
ル、 ２−［３−（１−アダマンチル）−４−メトキシフェニ
ルジ−６−ペンズオキザゾールカルボン酸、２−、−　
（３−（Ｉ−アクマンチル）−４−デノルオキンフｓ、
ｌ−ル〕−６−ペンズオキサゾールカルポン酸メチルエ
ステル、 ２−〔３−（１−アダマンチル）−４−デノルオキシフ
ゴニル〕−６−ヘンズオキサゾールカルボン酸、 ２−　（３−（Ｉ−−アダマンチル）−４−メトキノフ
ヱニル〕−６−ベンゾ（ｂ）フランカルボン酸メチルエ
ステル、 ２−（３−（１−アクマンチル）−４−メトキンフゴニ
ル〕−６−ベンゾ（ｂ）フランカルホン酸、２−（３−
（１−アダマンチル）−４−メトキノフェニル〕−６−
ベンゾ（ｂ）ヂオフェンカルホン酸メチルエステル、 ２−（３−（Ｉ−アダマンチル）−４−メトキンフェニ
ル〕−６−ベンゾ（ｂ）チオフェンカルボン酸、 ２−（３−−レープデル−４−メトギノフＪニル）−６
−ヘンゾ（１１）フランカルボン酸メチルエステル、 ２−（３−ｔ−ブチル−４−メトキンフｊニル）−６−
ヘンゾ（ｂ）フランカルボン酸、２−［：３−（１，１
−ジメチルデンル）−４−メトキンフェニル〕−６−ヘ
ンゾ（ｂ）フランカルホン酸メチルエステル、 ２−（３−（１，１−ジメチルデンル）−４−メトキソ
フェニル〕−６−ヘンゾ（ｂ）フランカルボン酸、 ２−（１（１−アダマンチル）−４−メトキンフェニル
〕−５−ベンズイミダゾールカルボン酸、２−（３−（
Ｉ−アダマンチル）−４−ヒドロキシフェニルツー５−
ベンズイミダゾールカルホン酸メチルエステル、 ２−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８゜８
−テトラメチル−２−ナフチル）−６−ペンゾヂアゾー
ルカルボン酸メチルエステル、２−（５，６，７，８−
テトラヒドロ−５，５，８゜８−テトラメチル−２−ナ
フチル）−６−ヘンゾヂアゾールカルボン酸および ２−（’４．４−ジメチルー２．３−ジヒドロ−１−ベ
ンゾピランー６−イル）−５−ベンズイミダゾールカル
ホン酸メチルエステル。

式（１）の化合物を得る様々な合成法が考えられる。こ
れらの方法として特に次のものを述へろことにする。

（Δ）第１方法（式Ｉ） この方法は、式（１）で示される芳香族カルボン酸誘導
体を、４位にアミノ基および３位にアミノ、ヒドロキシ
またはチオ基を有する式（２）で示される芳香族カルホ
ン酸エステルと反応させることからなる。

この方法は、式（１）の化合物において基Ｙが窒素原子
を表す場合に特に好ましい。

２８一 式１ ％式％ （Ｂ）第２方法（式■） この方法は、式（Ｉ）で示される芳香族カルボン酸誘導
体を、４位にメチル基および３位にアミノ、ヒドロキン
またはチオ基を有する式（４）で示される芳香族カルボ
ン酸エステルと反応させることからなる。次に、得頓れ
た中間化合物（５）の４位をブロモ化してプロモメチル
誘導体（６）とする。トリアリールもしくはトリアルキ
ルホスフィン、トリアリールらしくはトリアルギルホス
ファイトまたはアリールホスフィン酸オキンドと反応後
、化合物（７）を得、次いで閉環して式（８）て示され
る化合物となる。

この方法は、式（Ｔ）で示される化合物においてＹがＭ
　ＣＩ−１を表わす場合に特に好ましい。

Ｑ　＝　０１−１またはＣＱ Ｘ＝ＮＨ，ＯまたはＳ （■はアルキルまたはアリール） または−↓−（Ｗ）。

（Ｗはアリール、アルコキノまたはア リールオキシ） この最後の方法によると、閉環反応すなわち化合物（７
）から化合物（８）への過程は、塩基の存在下に行うが
、このような塩基としては、例えば酸化リヂウムもしく
は炭酸カリウムのようなアルカリ金属水酸化物もしくは
炭酸塩、例えば水素化ナトリウムのようなアルカリ金属
水素化物、例えばナトリウムメチレートもしくはカリウ
ム第３級ブトギノドのようなアルカリ金属アルコレート
、例えばトリエチルアミン、ノイソブロピルエヂルアミ
ンもしくはンアザビンクロウンデセン（ＤＢＵ）のよう
な第３級アミン、または例えばナトリウムアミドもしく
はりヂウムジイソプロピルアミドのようなアルカリアミ
ドか挙げられろ。反応ｔ１１ｎ′、！隻は一１０８Ｃ〜
＋１５０℃の範囲であり、溶媒として非プロトン双極性
溶媒（ジメチルスルポギノトまたはツメデルポルムアミ
ド）、アルコール、エーテル（ジオキサンまたはテトラ
ヒドロフラン）を用いろことができろ。テトラヒドロフ
ラン（１”　ＩＩ　Ｆ　）中、塩基としてトリエチルア
ミンまたはＩ）　１１　ｔｌを用いて０°Ｃ〜８０℃の
温度で反応を行えばｒｒＪＩＩである。

ブ〔Ｊモ化反応、すなわち式（６）の化合物を得る際に
（Ｊ、予め乾燥したベンゼンまたは四塩化炭素に溶かし
たＮ−ブロモスクシンイミドをｉ’ｒ”　ｉ’＋さｌ、
好ましくは７０８Ｃ〜９０℃の温度範囲で、ラジカル開
始剤として好ましくは過酸化ベンゾイルを用いて行う。

式Ｉによる脱水閉環に続くアノル化反応および式■によ
ろアノル化反応は１；；暮方法にしたがい行われろ。Ｘ
　Ｉ）＜Ｎ　ＩＩ　基を表す場合、第３級アミンの存在
下に酸クロライド（Ｑ＝Ｃ□の形で式（Ｉ）の化合物を
用いて反応を行なえば有利である。

３３一 式Ｉによる脱水閉環反応を、好ましくはキシレンのよう
な溶媒の還流温度で例えばｐ−）ルエンスルポン酸のよ
うな酸触媒を用いて行なうのが好ましい。

前述の方法により得られたエステルを、常法により基Ｒ
１の定義（ｉ）〜（ｉｉｉ）の対象となる様々な類似体
に変換する。

すなわち、これらのエステルの鹸化は対応する酸をもた
らす。これらを、次ぎに容易にアミドへ変換される酸ク
ロライドに変えることができる。

同様にアミンと前記で得られたエステルの直接作用によ
りこれらのアミドが得られる。適当な還元剤（例えば水
素化アルミニウムリチウム）を用いたエステル、アルデ
ヒドまたはアミドの還元により、対応するアルコールお
よびアミンに到達する。

この発明による化合物が塩形を呈する場合としては、式
（１）の化合物が遊離酸形を呈する場合には、アルカリ
もしくはアルカリ土類金属もしくは有機アミン類の塩が
問題となり、また式（１）の化合物が遊離ｙミノ形を呈
する場合には、鉱酸もし一３４＝ くけ有機酸の塩が問題となる。

この発明の化合物は、［テープ・ストリッピング（Ｌａ
ｐｅ　ｓｔｒｉｐｐｉｎｇ）−ｌにより誘発後、フード
ラットにおけるオルニヂンデカルボキンラーゼの抑制試
験において非常に優れた活性を示す。この試験により、
細胞増殖現象に関わるレチノイド類の活性を測定するこ
とことができろ。

特にこれらの化合物は、角質化（分化、増（Ｃ（）異常
に結びイ」＜皮膚疾但および炎症および／また（」免疫
アレルギー要因に結び付く他の皮膚疾■等特に皮膚また
（Ｊ呼吸器系のアトピーを処置するのに有効である。例
えばニ 一般的、面ぼう性または多形性さ疹、老人性日焼（Ｊざ
瘉、および薬物によるざ瘉または職業性さ疹。

広がりのあるおよび／または重症の乾病状態、および角
質化の他の障害、および特に魚鱗１および魚鱗１形症状
。

フリエ病。

手の平−足の裏におけるたこ。

白板症および白板形症状、否定変形。

良性または悪性、重症または広がりのある、あらゆる皮
膚増殖。

湿疹。

喘息。

同様にこれらの化合物は、ある種のリウマチ性疾小、特
に乾鼾性リウマチおよび角膜に関する眼科領域の諸症状
に対する活性を示す。

従って、この発明はまた、少なくとも式（Ｄで示される
化合物および／または前記で定義した塩を成分とする医
薬を対象とするものである。

従って、この発明は同様に、医薬的に許容される媒体中
に少なくとも１種の式（１）で示される化合物を含むこ
とを特徴とする特に前記疾患の処置を目的とした新規医
薬組成物を対象とするものである。

前述したように、この発明による複素理誘導体は、従来
のレチノイドと比較して、光および酸素に対して良好な
安定性を示すが、これは容易に異性化し得る二重結合を
有していないためである。

一般に、この発明による化合物は、約２１１９／（体重
）ｋｇ〜２Ｒｇ／（体重）ｋｇの一日用里で投すされろ
。

組成物の媒体として、従来からのあらゆる媒体を用いろ
ことができ、活性化合物は、担体中に溶けた状態または
分散した状態で存在する。

投与は、経腸経路、非経口経路、局所経路または目を通
して行い得る。経腸経路の場合、このような薬剤は、錠
剤、カプセル、糖衣錠、シロップ、懸濁液、溶液、散剤
、顆粒、乳剤の形態をとり得る。非経口経路の場合、こ
のような組成物（Ｊ、持続注入用または注射用溶液また
は懸濁液の形態をとり得る。

局所経路の場合、この発明による化合物を基礎とする医
薬組成物は、軟膏、チンキ剤、クリーム、ポマード、粉
末、タンブル（ｔｉｍｂｒｅ）、湿潤タンポン、溶液、
ローション、ゲル、噴霧剤または懸濁液の形を呈する。

局所用組成物は、式（１）の化合物を好ましくｌ−１：
０．０００５〜約５重量％含有する。

局部用組成物は、臨床適用方法により無水または含水形
態をとり得る。目を通しての投与は主として目薬の形を
とる。

同様に、この発明による式（１）の化合物は、化粧領域
、特に体および毛髪の衛生おＪ：び特にざ瘉、頭髪再生
、抗脱毛、皮膚または頭髪の脂肪分を抑え、または日光
の有害な影響の処置、または生理学的に乾燥した皮膚を
克服するために適用される。

同様にこの発明は、適当な化粧用媒体中に少なくとも式
（１）の化合物を含有する化粧組成物を目的とするもの
であり、このような組成物はローション、ゲル、石鹸、
シャンプーまたはクリームの形をとる。

化粧組成物にお（プる式（１）で示される化合物（群）
の濃度は、０．０００５〜２重量％、好ましくは０．０
１−１重量％である。

この発明による医薬および化粧組成物は、不活性な添加
剤または同時に薬効もしくは化粧成分および特にデアモ
ルホリンおよびその誘導体または尿素のような水和剤、
Ｓ−カルボキシメチル−システィン、Ｓ−ベンジル−シ
ステアミンおよびその誘導体、ヂオギソロンのような抗
脂漏剤、抗ざ療剤、エリスロマイシンおｊ；びそのエス
テル、ネオマイシン、テトラザイクリノ、４．５−ポリ
メチレン−３−イソデアシリノンのような抗生物質、「
ミノキシジル（Ｍｉｎｏｘｉｃｌｉｌ）ｊ（２、４−ジ
アミノ−６−ビペリジノー３−ピリミジンオキ７Ｆ）お
よびその誘導体、アントラリンおｊ；びその誘導体、ジ
アゾキシｌ；’（Ｄ　１ａｚｏｘｉｄｅ）（３−クロロ
メチル−１，２，４−ベンゾチアンアジン−１，１−ジ
オキシド）、フ、、　：　ｌ−イン（Ｐｈｅｎｙｔｏｉ
ｎＸ５　、５−ノフ。

ニル−２，４−イミダゾリノンジオン）およびよう化オ
キザブロバニウムのような頭髪再生助剤、カロチノイド
および特に−カロチン、ステロイド系および非ステロイ
ド系抗炎症剤、アントラリンおよびその誘導体、５．８
．＋　１．１４−エイコザテトライン酸および５，８，
１ｌ−１−リノイン酸、そのエステルおよびアミｌ’類
のような抗乾鮮剤を含有し得る。

同様にこの発明によろ組成物ｌｊ、呈味改良剤、保存剤
、安定剤、湿潤安定剤、ｐｔＩ調節剤、浸透圧修正剤、
乳化剤、ＬＪ　Ｖ　−ＡおよびＵＶ−Ｂフィルター、抗
酸化剤、例えばα−トコフェロール、ブチルヒドロキノ
アニソールまたはブチルヒドロキノトルエンを含有し得
る。

次に、この発明による式（１）の活性化合物の製造実施
例およびこれらを含有する組成物の製剤例を挙げて説明
するが、これらに限定するイっけてはない。

〔実施例〕

実施例１ ２−（ｐ−ｔ−ブチルフェニル）−６−ベンゾ（ｂ）ヂ
オフゴンカルホン酸メチル。

（ａ）　３−　（ｐ−ｔ−ブチルフェニルヂオ）−４−
メチル安息香酸メチル。

無水テトラヒドロフラン２（１＋ｆ！に、３−メルカプ
ト−４−メチル安息香酸メチル１．８０ｇ（ＩＱミリモ
ル）、トリエチルアミンｌ　、　Ｉ　Ｉ　ｌ？（１，５
＋ｌｌ！。

１１ミリモル）およびｐ−ｔ−ブチルベンゾイルクロラ
イト２．２０ｇ（ＩＩミリモル）を相次いで加える。２
０℃で２時間攪拌し、水（１００ｘＱ）に注ぎ、ツクｃ
ｌｏメ／ン（３Ｘ１００ＲＱ）て抽出４′ろ１、（Ｉ１
３’１川を乾燥し、濃縮オろ。次いて、溶離剤とし゛ご
ノクロ〔ｌメタン（５０％）およびヘキサン（５０％９
の混合物を用いて短いノリ力ヵラノ、（ニー＋　ｘ　ｌ
　Ｏｃｘ＋）に通し精製する。ＩＮ値−０、３５（溶離
剤シタ［Ｉ　１−１メタン）を示す生成物を回収オろ。

溶ｒ／を濃縮１２．３−（ｐ−Ｌ−ブチルフェニルヂオ
）　４　メチル安は４酸メチル（３，０８ｙ、９０％）
とし１′得ろ１、（ｂ）４−プロモメチル−１ｌｐ−１
ブチルフェニルヂオ）安叡香酸メチル。

実施例１（ａ）で７１１られたエステル２．８０９を１
菟流温度で１１１（水門塩化炭素に溶解オろ１．過酸化
ヘノジイル２０ｍｇおｊ、び分割してＮ−ブ［７モスタ
ンノイミド１．４５ｇ（８，１５ミリモル）を加えろ。

１０時間遍流温度に加熱し、Ｎ−プロモスクノンイミド
０．１４５１？（０，８ミリモル）を加え、更に４１１
’ｉ間還流’１Ｈ１一度に加熱する。溶媒を濃縮し、溶
離剤としてツク［１０メタンを用い、短いノリ力カラ１
１（５ＸＩＯＣＪＩ）を通して残留物を人ざ〜ぽに精製
する。

コ（Ｆ）　、’Ｉ−ウ＋、：　Ｌ−Ｃ１ｌ’Ｈ（ｌｌｉ
−０，３５，０４０，０４４ｌ− ５（溶離剤、ジクロロメタン）を示す３つの生成物の混
合物を得る。これらの生成物は、極性の少ない順に出発
生成物、モノブロモ生成物およびノブロモ生成物である
。この最後の生成物は、クロマトグラフィーにより除去
される〔「ウォーターズ（Ｗａｔｅｒｓ）Ｊプロプ５０
０、ンリカ力ラム、溶離剤ジクロロメタン（５０％）お
よびヘキサン（５０％）の混合物〕。

このようにして所望のエステル約８０％および出発生成
物的２０％を含有する油状物（３，２０９）を得る。

（ｃ）２−（ｐ　　ｔ−ブチルフェニル）−６−ベンゾ
（ｂ）チオフェンカルボン酸メチル。

テトラヒドロフラン２０ｘＱに、実施例１　（ｂ）て得
た混合物３１０ｇおよびトリフヱニルホスフィン１．８
５ｇ（７ミリモル）を溶解する。４時間窒素気流下還流
温度に加熱し、次いで、冷却し、ノアザビシクロウンデ
セン（ＤＢＵ）１．０６ｇ（７ミリモル）を滴下する。

毎滴時濃黄色のものが一時的に出現するのが認めら１す
る。滴下終了後、わずかな沈殿が見られる。１５分間で
５０°Ｃに加熱し、水（１００肩Ｑ）にｄぎ、ツク［１
０メタン（３ｘ　ｌ　Ｏｎ屑０．）で抽出し、乾燥して
溶媒を濃縮する。所望の生成物をクロマトグラフィーに
より得ろ〔ノリカカラム、溶離剤・ツク〔！ロメタン（
２０％）およびヘキサン（８０％）の混合物〕。得られ
た個体をヘキサンで再結晶させる。このようにして２−
　（ｐ−ｔ−ブチルフェニル）−６−ベンゾ（ｂ）チオ
フェンカルボン酸メチル（１，６０９、Ｉ　（ａ）で得
たエステルから６２％）を得る。ｍｐ：　１５５°ｃ、
ｎｒ値−０７０（溶離剤ジクロロメタン（２０％）およ
びヘキサン（８０％）の混合物）。

実施例２ ２〜（ｐ−ｔ−ブチルフェニル）−６−ベンゾ（ｂ）チ
オフェンカルボン酸。

実施例１　（ｃ）で得たエステル１．２９（３，７ミリ
モル）を、メタノールに溶かした２Ｎのソーダ溶液１０
０ｘｌ！に懸局する。４時間還流温度に加熱し、水（ｌ
ｏｏ＊ｃ）に注ぎ、濃塩酸でｐｒ−ｒｏまで酸性化し、
エチルエーテル（３ｘ１０Ｏｘρ）で抽出し、乾燥し、
濃縮する。得られた個体をアセトニトリルで再結晶する
。このようにして、２−（ｐ−Ｌ−ブチルフェニル）−
６−ベンゾ（ｂ）チオフェンカルボン酸（１，０５９，
９１％）を得る。

ｍｐ：３］８°Ｃ，［＝０．７（溶離剤ニジクロロメタ
ン（８０％）およびメタノール（２０％）の混合物）。

実施例３ ２−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８゜８
−テトラメチル−２−ナフチル）−６−ベンゾ（ｂ）チ
オフェンカルボン酸メチル。

（ａ）４−ブチル−３−（５，６，７，８−テトラヒド
ロ−５，５，８，８−テトラメチル−２−ナフトイルチ
オ）安息香酸メチル。

実施例１　（ａ）と同様に、３−メルカプト−４−メチ
ル安息香酸ブチル１．８３９（１０ミリモル）、トリエ
チルアミン］、５Ｊｌ（！および５，６．７．８−テト
ラヒドロ−５，５，８，８−テトラメチル−２−ナフト
イルクロライド２．７６９（ＩＩミリモル）から出発し
て、４−メチル−３−（５，６，７，８−テトラヒドロ
−５，５，８，８−テトラメチル−２−ナフトイルチオ
）安息香酸ブチル（３，５０ｇ、８８％）を得る。

ｍｐ：　Ｉ　２０℃、Ｒｆ＝０．７（溶離剤としてジク
（７ＣＪメタンを用いる）。

（ｂ）４−プロモメチル−３−（５，６，７，８−テト
ラヒドロ−（５，５，８，８−テトラメチルー２−ナフ
トイルヂオ）安曹、４酸メチル。

実施例１（ｂ）と同様に、実施例３（ａ）で得たエステ
ル３’、３０ｇ（８，３ミリモル）、Ｎ−ブロモスクシ
ンイミド１．．１８ｇ（８，３ミリモル）おにび過酸化
ベンゾイル２０ｍｇから出発して、クロマトグラフィー
後〔［ウォーターズ（Ｗａｔｅｒｓ）Ｊブレブ５００、
シリカカラム、溶離剤ジクロロメタン（６０％）および
ヘキサノ（４０％）の混合物〕、約ＩＯ％の出発生成物
および９０％の４−プロモメチルー３−（５，６，７゜
８−テトラヒドロ−５，５，８，８−テトラメチル−２
−ナフトイルチオ）安息香酸メチルを含有する混合物（
２，５０ｇ）を得る。

（Ｃ）実施例１　（ｃ）と同様に、３（ｂ）で得た混合
物２４０ｇとトリフェニルホスフィン１．６ｇをテトラ
ヒドロフラン＋５ｉ１２に溶かしたものから出発して、
６時間還流後、ホスホニウム塩を得、ただちにＤＢＵｏ
、９ｉＱで処理する。実施例１（Ｃ）と同様の処理およ
びクロマトグラフィー後（シリカカラム、溶離剤、ジク
ロロメタン３０％およびヘプタン７０％の混合物）、２
−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８，８−
テトラブチル−２−ナフチル）−６−ベンゾ（ｂ）チオ
フェンカルボン酸メチルを得る（１．５０ｇ、３（ａ）
で得たエステルから５０％）。

ｍｐ：　Ｉ　７０°Ｃ，Ｒｆ＝０．８（溶離剤・ジクロ
ロメタン） 実施例４ ２−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８゜８
−テトラメチル−２−ナフチル）−６−ベンゾ（ｂ）チ
オフェンカルボン酸。

実施例２と同様に、実施例３（ｃ）で得たエステル１．
１０９（２，９ミリモル）から出発して、２−（５，６
，７，８−テトラヒドロ−５，５，８，８−テトラブチ
ル−２−ナフチル）−６−ベンゾ（ｂ）チオフェンカル
ポン酸を得る（０．９９１７．９３％）。ｍ０２９７℃
、Ｒｒ＝０．７（溶離剤、ジクロロメタン（８０％）お
よびメタノール（２０％）の混合物）。

実施例５ ２−（ｐ−ｔ−ブチルフェニル）−６−ベンゾ（ｂ）フ
ランカルボン酸メチル。

（ａ）３−（ｒ）　　ｔ−ブチルベンゾイルオキシ）−
４−メチル安、け４酸メチル。

実施例１（ａ）と同様に、３−ヒドロキノ−４−メチル
安息香酸ブチル３．３０ｙ（２０ミリモル）、トリエヂ
ルアミン（２２０ｇ、２２ミリモル）およびｐ−ｔ−ブ
チルベンゾイルクロライド（３，９０ｇ、２０ミリモル
）をテトラヒドロフラン（Ｔ　Ｉ−１ｍｐ）　４０ｉＱ
に溶かしたものから出発して、２−（ｐ−ｔ−ブチルベ
ンゾイルオキシ）−４−メチル安息香酸ブチル（５，３
０ｇ、８１％）を得る。Ｒｆ＝Ｏ，／１５（溶離剤・エ
チルエーテル（３０％）およびヘキサノ（７０％）の混
合物）。

（ｂ）４−プロモメチル−３−（ｐ−ｔ−ブチルベンゾ
イルオキシ）安息香酸ブチル。

実施例１（ｂ）と同様に、５（ａ）で得たエステル１６
０ｇ（５ミリモル）、Ｎ−プロモスクノンイミド１３０
ｇおよび過酸化ベンゾイル（ｉｏ＋ｇ）から出発して、
四塩化炭素５ｘＱに溶かし、２０分かけて窒素気流下還
流温度にし、クロマトグラフィー〔高速液体クロマトグ
ラフィー（１−ＩＰＬｃ）、カラム「ゾルレバ・ソクス
・シル（ＺＯＲＢＡＸ　　ＳＩＬン」、溶離剤ジクロロ
メタン（８０％）およびヘキサン（２０％）の混合物〕
後、４−プロモメチル−３−（ｐ−１−ブチルベンゾイ
ルオキシ）安息香酸メチルを得る（０．９４９．４６％
）。

ｍｐ：　Ｉ　０７°Ｃ，Ｒｆ＝０．４０（溶離剤、エチ
ルエーテル（３０％）およびヘキサン（７０％）の混合
物）。

（ｃ）　２−　（ｐ−ｔ−ブチルフェニル）−６−ベン
ゾ（ｂ）フランカルボン酸メチル。

実施例１（Ｃ）と同様に、実施例５（ｂ）で得たエステ
ル０．５２ｇ（１，３０ミリモル）およびトリフェニル
ポスフィン（０，４０９）をＴ　Ｉ（ｍｐ　２　ｙＱに
溶かしたものから出発して、窒素気流下４時間還流温度
に加熱後、２０℃で１５分間さらに還流温度で１５分間
ＤＩＩＵ（０，３０１？）で処理すると所望の用エステ
ルが得られる。精製後（Ｉｔ　ＰＬ　Ｃ、カラＪ２「ゾ
ルハックス・シル」、溶離剤・ジインプ〔ｌピルＪ、　
−チル（１０％）およびヘプタン（９０％）の混合物）
、２−（ｐ−ｔ−ブチルフェニル）−６−ベンゾ（ｈ）
フランカルボン酸メチル（０，３５ｇ、８７％）を得ろ
。

ｍｐ：　Ｉ　ｉＩ　８℃、［＝０．５５（溶離剤エチル
エーテル（３０％）およびヘプタン（７０％）の混合物
）。

実施例６ ２−（ｐ−ｔ−ブチルフェニル）−６−ベンゾ（ｂ）フ
ランカルボン酸。

実施例５（ｃ）で得られたエステル０．３０Ｉ？（１３
９モル）をエタノールｌｏ＋Ｑに溶かす。水酸化カリウ
ム２ｍ＆（５Ｎ）を加え、２時間５０℃に加熱する。得
られた沈澱に水（３ｏＲＱ）を加えて溶解し、塩酸（Ｎ
）ＩＯｚｊを加える。エチルエーテル＋５０屑Ｑて抽出
し、川−６になるまで水洗し、濃縮′４′る。残留物を
乾燥し、Ｔ　Ｉ（Ｆ　（２０＊Ｃ）に溶解する。

Ｔ　ＨＦを留去して２−（ｐ−ｔ−ブチルフェニル）−
６−ベンゾ（ｂ）フランカルボン酸を得る＜０．２８９
、９８％）。

ｍｐ＋２９４℃、Ｒｆ＝０．６０（溶離剤、ジクｏｏメ
タン（８０％）およびメタノール（２０％）の混合物。

実施例７ ２−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８，８
−テトラメチル−２−ナフチル）−６−ベンゾ（ｂ）フ
ランカルボン酸メチル。

（ａ）　５　’−カルボキツメチルー２′−メチルフェ
ニル−５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８，８
−テトラメチル−２−ナフトエ酸メチル。

実施例５（ａ）と同様に、３−ヒドロキソ−４−メチル
安息香酸ブチル３．３２ｇ（２０ミリモル）および５．
６，７．８−テトラヒドロ−５，５，８，８−テトラメ
チル−２−ナフトイルクロライド５５１ｇ（２２ミリモ
ル）から出発して５′−カルボキソメチルー２′−メチ
ルフェニル−５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，
８，８−テトラメチル−２−ナフトエ酸メチルを得る（
７．１０ｇ、９３％）。

ｍｐ：　ｌ　５９℃、Ｒｆ＝０．６（溶離剤・エチルエ
ーテ＝５０− ル（５０％）およびヘキ→ノ゛ン（５０％）の混合物）
３、（ｂ）　２　’　−プロモメチルー５′−カルボキ
ノメチルフェニルー５．Ｇ、７．８−テトラヒトｒｙ　
−５。

５．８．８−テトラメチルー２−ナフトエ酸メチル。

実施例５（ｂ）と同様に、７（ａ）で得たエステル１３
３ｇ（３，５ミリモル）から出発して２′−プロモメチ
ルー５′−カルポキノメチルフＪニル−５゜６．７．８
−テトラヒドロ−５，５，８，８−テトラメチメチ２−
ナフトエ酸メチルを得ろ（１，ＯＯｙ、６２％）。ｍｐ
：１１９℃、［＝０．４（溶離剤エチルエーテル（３０
％）およびヘキサン（７０％）の混合物）。

（Ｃ）実施例５（ｃ）と同様に、７（ｂ）で得たエステ
ル０．７６ｇ（１，６６ミリモル）から出発して２−（
５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８，８−テト
ラメチル−２−ナフチル−６−ベンゾ（ｂ）フランカル
ボン酸メチルを得ろ（０，５１ｇ、８５％）。

ｍｐ：　Ｉ　Ｉ　２℃、［＝０．５５（溶離剤エチルエ
ーテル（３０％）、ヘプタン（７０％））。

実施例８ ２−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８゜８
−テトラメチル−２−ナフチル）−６−ベンゾ（ｂ）フ
ランカルボン酸。

実施例６と同様に、７（ｃ）で得たエステル３．００ｇ
（８，３ミリモル）を、メタノールに溶かしたソーダ溶
液（２Ｎ）２００ｇ＋＋２で処理する。還流温度に４時
間加熱後、濃縮し、水（１００１１りに注ぎ、濃塩酸に
よりｐＩ−Ｔｏに酸性化し、エーテルで抽出しく３ｘｌ
ｏＯｉｉり、乾燥し、濃縮する。残留物をアセトニトリ
ルで再結晶する。このようにして２−（５，６，７，８
−テトラヒドロ−５，５，８，８−テトラメチル−２−
ナフヂル）−６−ベンゾ（ｂ）フランカルボン酸を得る
（２．３０ｇ、８０％）。

ｍｐ：　２８０℃、Ｒｆ＝０．７５（溶離ｍｌ・エチル
エーテル）。

実施例９ ｌ−ｔ−ブトキシカルボニル−２−（ｐ−ｔ〜プヂルフ
ェニル）−６−インドールカルボン酸メチル。

（ａ）　３−　（１）　−ｔ−ブチルベンズアミド）−
４−メチル安息香酸メチル。

３−アミノ−４−メチル安息香酸ブチル３３０ｇ（２０
ミリモル）をＴＩ−ＴＦＭＯ好に溶かし、トリエヂルア
ミン２．２ｇ（２０ミリモル）の存在下０℃でｐ−ｔ−
ブチルベンゾイルクロライド３．９ｇ（２０ミリモル）
により処理する。２時間後、水１００ｘρを加え、得ら
れた沈澱物を集めて水洗する（３ｘ１００ｘＱ）。真空
乾燥し、四塩化炭素を用いて再結晶する。

このようにして３−（ｐ−ｔ−ブチルベンズアミド）−
４−メチル安息香酸ブチルを得る（５．７０ｇ、８８％
）。

ｍｐ：　Ｉ　９３°Ｃ，Ｒｆ＝０．８５（溶離剤・エチ
ルエーテル）。

（ｂ）３−［＋１−（ｔ−ブトキシカルボニル）−ｐ−
ｔ−ブチルベンズアミド］−４−メチル安息香酸メチル
。

９（ａ）で得たエステル０．９７ｇ（３ミリモル）をＴ
ＨＦ５Ｎ（！およびＤ　Ｍｍｐ　Ｉ　ｙ（ｌに溶かす。

水素化ナトリウム１０１００ＩＩ油中８０％、３．３ミ
リモル）を加えて１時間攪拌する。次いで重炭酸ジ第３
級ブチル０７２ｇを加え、２０℃で２時間攪拌する。

次に水（ｌｏｏｉｆりに注ぎ、ジクロロメタンで抽出し
く３　Ｘ　５０１１（り、濃縮し、乾燥する。得られた
残留物をソクロヘキザンで再結晶する。このにうにして
３−（ｔ−ブトキシカルボニル＝ｐ−ｔ−ブチルベンズ
アミド）−４−メチル安息香酸メチルを得る（１．１０
ｇ、８６％）。

ｍｐ＋　Ｉ　５３°Ｃ，［＝０．５（溶離剤Ｈエチルエ
ーテル（５％）およびジクロロメタン（（９５％）の混
合物）。

（Ｃ）４−ブロモメチル−３−（ｔ−ブトキノカルボニ
ル−ｐ−ｔ−ブチルベンズアミド）安息香酸メチル。

９（ｂ）で得たエステル４．３０ｇ（１０ミリモル）を
Ｎ−プロモースクンンイミド１．８０ｇ（１０ミリモル
）および過酸化ベンゾイル２０ｍｇを用いて２時間還流
下口塩化炭素中で処理する。Ｎ−プロモースクンンイミ
ド０．２０９を加え、１時間還流加熱する。溶媒を濃縮
し、混合物を、短いシリカカラム上溶離剤としてクロロ
ホルム（９０％）お上びヘギザン（１°Ｃ％）の混合物
を用いて濾過する。

クロマトグラフィー後（「ウォーターズ」ブレブ５００
、シリカカラム、溶離剤エチルエーテル（１０％）、ジ
クロロメタン（２０％）、ｌ＼キザン（７０％）の混合
物）、４〜プロモメチル−３−（ｔ−ブトキシカルボニ
ル−ｐ−ｔ−ブチルベンズアミト）安息香酸メチルを得
る（３．６０ｇ、７１％）。

ｍｐ：　Ｉ　３５℃、Ｒｆ＝０．６（溶離剤ジクロロメ
タン）。

（ｃｌ）　］　−］Ｌ−ブトキノカルボニルー２−ｐ−
ｔ−ブチルフェニル）−６−インドールカルボン酸メチ
ル。

９（ｃ）で得たエステル３．３０ｇ（６，５ミリモル）
をＴＨＦ’２０ｉ１１！に溶かず。トリフェニルホスフ
ィン２．０５ｇ（７，８ミリモル）を加え、６時間還流
温度に加熱する。２０℃に冷却し、ＤＢＵｌ、１７ｉ９
（７，８ミリモル）を加える。３０分還流下加熱し、水
（１００ｉのに注ぎ、濃塩酸溶液を用いて１）Ｈ＝０ま
で酸性化し、ジクロロメタンで抽出（３Ｘ１００ｉのす
る。水洗して中和し、乾燥後濃縮する。得られた残留物
をジクロロメタンに溶解し、シリカカラム（５Ｘ　Ｉ　
０ｃｉ）を通して大ざっばに精製する。溶媒を濃縮し、
ジクロヘキサンを用いて再結晶する。このようにして、
ｉｔ−ブトキシカルボニル−２−（ｐ−ｔ−ブチルフェ
ニル）−〇−インドールカルボン酸メチル（１，６０ｇ
、６１％）を得る。

ｍｐ：　Ｉ　６７℃、Ｒｆ＝０．７（溶離剤エチルエー
テル（５０％）、ヘキサジ（５０％））。

実施例１０ ２−（ｐ−ｔ−ブチルフェニル）−６−インドールカル
ボン酸。

９（ｄ）で得たエステル１．２５ｇ（３，１ミリモル）
を、還流下ソーダのメタノール溶液（２Ｎ）＋００ｚＱ
と２時間攪拌する。濃縮し、水（１００ｆｆＣ）に注ぎ
、エチルエーテルで抽出（３％１ｏｏＩｆ２）Ｌ、塩酸
溶液（Ｎ）を用いてＩ）Ｉ（４になるまて水相を酸性化
する。エーテルで抽出（３Ｘ　Ｉ　Ｏ０ＲＣ）Ｌ、、乾
燥し、有機相を濃縮する。得られた残留物をアセトニト
リルで再結晶する。このようにして、２−（ｐ−１−ブ
チルフェニル）−６−インドールカルボン酸（０，７５
ｇ、８４％）を得ろ。

ｍｐ：２９７℃、Ｒ「−０５（溶離剤ツク〔Ｚ「１メタ
ン（８０％）およびメタノール（２０％）の混合物）１
゜実施例１１ １−［−ブトキノカルボニル−２−（５，６，７゜８−
テトラヒドロ−５，５，８，８−テトラメチル−２−ナ
フヂル）−６−インドールカルボン酸メチル。

（ａ）３−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５゜
８．８−テトラメチル−２−ナフトアミド）　４−メチ
ル安息香酸ブチル。

実施例９（ａ）と同様に、３−アミノ−４−メチル安息
香酸メナル４．９５？（３０ミリモル）および２−（５
，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８，８−テトラ
メチル）ナフトイルクロライド（７，５０ｇ、３０ミリ
モル）から出発して、３−（５，６，７，８−テ）・ラ
ドドロー５．５，８．８−テトラメチル−２−ナフトア
ミド）−４−メチル安息香酸ブチル（９，６５ｇ、９３
％）を得ろ。

ｍｐ：　ｌ　５９℃、Ｒｆ＝０．７５（溶離剤・ツクｏ
ｏメタン（９５％）およびエチルエーテル（５％）の混
合物）。

（ｂ）３−（Ｎ−１−ブトキシカルボニル−（５，６゜
７．８−テトラヒドロ−５，５，８，８−テトラメチル
−２−ナフトアミド）〕−〕４−メチル安息香酸メチル 実施例９（ｂ）と同様に、ＩＩ（ａ）で得たエステル９
．８５９（２６ミリモル）から出発して、３−〔Ｎ−１
−ブトキシカルボニル−（５，６，７，８−テトラヒド
ロ−５，５，８，８−テトラメチル−２−ナフトアミド
）〕−〕４−メチル安息香酸メチル８５０９．６７％）
を得る。

ｍｐ：　ｌ　３２°Ｃ，Ｒｆ＝０．８（溶離剤：エチル
エーテル）。

（Ｃ）４−ブロモメチル−３−（Ｎ−ｔ−ブトキシカル
ボニル−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５゜５．８
．８−テトラメチル−２−ナフトアミド）〕安息香酸メ
チル。

Ｉｆ（ｂ）で得たエステル７．７５ｇ（１７，３ミリモ
ル）を、Ｎ−プロモスクノンイミト３０８９および過酸
化ベンゾイル４０肩９を四塩化炭素４０ｍ０に溶かした
乙のを用いて還流下２時間処理する。

濃縮乾固し、溶離剤としてジクロ〔Ｊメタンを用いて短
いソリカカラム（５Ｘ　Ｉ　０ｃｘ）でＩ＋静過する。

溶媒を留去し、残留物をクロマトグラフィーにより精製
する〔「ウォーターズ」ブレプ５００、ノリカカラム、
溶離剤：エチルエーテル（５％）、ジクロロメタン（１
５％）およびヘキサジ（８０％）からなる混合物〕。こ
のようにして、出発物質２０％および４−ブロモメチル
−３−（Ｎ−１−ブトキノカルボニル−（５，６，７，
８−テトラヒドロ−５゜５．８．８−テトラメチル−２
−ナフトアミド）〕安息香酸メメチル７．２ｇ）８０％
を含有する混合物を得る。

（ｄ）　Ｉ　Ｉ　（ｃ）で得た混合物７１０ｇを７Ｉ゛
１ｌＦ４０ｚＱに溶かし、トリフェニルポスフィン３．
２０ｇ（１２ミリモル）で処理する。４時間還流温度に
加熱し、冷却し、ＤＢｕ　１．ｓ　０ｙ（１２ミリモル
）をカ［１える。２０℃で２時間攪拌する。９（ｄ）と
同様の処理後、Ｉ−ｔ−ブトキノカルボニル−２−（５
゜６，７．８−テトラヒドロ−５，５，８，８−テ）・
ラメデル−２−ナフチル）−６−インドールカルボン酸
メチル（３，８０ｇ、ＩＩ（ｂ）で得たエステルから出
発、５６％）を得る。

ｍｐ：　Ｉ　Ｇ　２℃、Ｒｆ＝０．６（溶離剤・ジクロ
ロメタン）。

実施例１２ ２−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８，８
−テトラメチル−２−ナフチル）−６−インドールカル
ボン酸。

実施例１０と同様に、Ｉ　Ｉ　（ｄ）で得たエステル３
、／１０ｇ（７，３ミリモル）から出発して、２−（５
゜６．７．８−テトラヒドロ−５，５，８，８−テトラ
メチル−２−ナフチル）−６−インドールカルボン酸（
２，３０ｇ、９０％）を得る。

ｍｐ：２１５６Ｃ，Ｒｆ＝０．６（溶離剤：メタノール
（２０％、ジクロロメタン（８０％）の混合物）。

実施例１３ ２−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８゜８
−テトラメチルー２−ナフヂル）−６−インドールカル
ボン酸メチル。

実施例１２て得た酸１．６０ｇ（’Ｉ　、６　ミリモル
）をメタノール５０１１Ｑに溶かす。濃硫酸０　、５　
ｙ（ｌを加え、８時間加熱還流する。メタノールを蒸発
さＵ゛て、残渣をジクロロメタン（２００ｘＣ）に溶か
し、重炭酸ナトリウム溶液を用いて洗浄する。有機相を
集めて、乾燥濃縮する。残留物を溶離剤としてジクロロ
メタンを用いて短いノリカカラム（５×１０ｃｍ）を通
して精製する。こうして、２　　Ｃ５，Ｇ。

７．８−テトラヒドロ−５，５，８，８−テ）・ラメデ
ル−２−ナフチル）−６−インドールカルボン酸メチル
を得る（１．６０ｇ、９６％）。

ｍｐ：　２０２℃、Ｒｆ＝０．５（溶離剤。エチルエー
テル（５０％）およびヘプタン（５０％）の混合物）。

実施例Ｉ４ ■−メチルー２−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５
，５，８，８−テトラメチルー２−ナフヂル）−６−イ
ンドールカルボン酸メチル。

実施例Ｉ３で得たエステル１．／ｌ０ｆ（３，８ミリモ
ル）を無水ＴＩ−ＴＦ２０ｘ（ｌに溶かし、水素化ナト
リウム（油中８０％）０．１４ｇ（４，６ミリモル）を
用いて処理する。１時間攪拌し、よう化メチル０゜６５
ｇ（４，４ミリモル）を加える。２時間攪拌後、水（Ｉ
００Ｒのに注ぎ、ジクロロメタンで抽出（３ｘ１００＋
ｕ２）する。有機相を濃縮乾固する。得られた残留物を
ヘキサンで再結晶する。このようにして、１−メチル−
２−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８，８
−テトラメチル−２−ナフチル）−６−インドールカル
ボン酸メチルを得る（１゜３０ｇ、９１％）。

ｍｐ：　１５６℃、Ｒｆ＝０．６５（溶離剤：エチルエ
ーテル（５０％）、ヘキサン（５０％）の混合物）。

実施例ｌ５ １−メチル−１−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５
，５，８，８−テトラメチル−２−ナフチル）−６−イ
ンドールカルボン酸。

実施例１４て得たエステル１．００ｇ（２，６５ミリモ
ル）を実施例１２と同様に処理する。このようにして、
酢酸エチルおよびイソプロピルエーテ＝６２− ルの混合物で再結晶した後、１−メチル−２−（５，６
，７，８−テトラヒドロ−５，５，８，８−テトラメチ
ルー２−ナフチル）−６−イン）・−ルカルポン酸（０
，９０ｇ、９３％）を得ろ。

ｍｐ：　２５６℃、Ｒｆ＝０．８（溶離剤エチルエーテ
ル）。

実施例ｌ６ ２−（ｐ−［−ブチルフェニル）〜５−ベンズイミダゾ
ールカルボン酸メチル。

（ａ）４−アミノ−３〜（ｐ−Ｌ−プチルベノズアミド
）安息香酸メチル。

エチルエーテル１５０Ｍ１ｌｌに溶かした３、４−ジア
ミノ安息香酸メチルＩ　、６５ｙ（Ｉ　Ｏミリモル）お
よびトリエチルアミン１．１０９（Ｉ　Ｉ　ミリモル）
を、０℃の温度でｐ−ｔ−ブチルベンゾイルク〔１ライ
ド２．００ｇ（１０ミリモル）により滴下処理する。周
囲温度に戻るまで放置し、１時間攪拌する。水（Ｉ００
肩ρ）に注ぎ、ジクロロメタンで抽出（３Ｘ１００ＲＱ
）シ、乾燥濃縮オろ。イソプロピルエーテルお、にびジ
クロヘキザンの混合物で再結晶４−ろ。このようにして
、４−アミノ−３−（ｐ−ｔ−ブチルベンズアミド）安
息香酸メチル（２，４０ｇ、７３％）を得る。

ｍｐ：　１７５°ＣＳ［＝０．６（溶離剤：エチルエー
テル） （ｂ）　２−　（Ｉ）−ｔ−ブチルフェニル）−５−ペ
ンズイミグゾールカルホン酸メチル。

１６（ａ）で得た生成物２ｇをキンレンｌｏｏ＋ｆｆに
溶かし、ｐ−トルエンスルポン酸（１水和物）　２０１
（ｇを加える。１６時間還流下加熱し、水を生成次第除
去する。次に溶媒を濃縮し、ジクロロメタン（１００＋
Ｑ）に溶かし、飽和重炭酸ナトリウム溶液で洗浄する。

有機相を乾燥し、溶媒を留去し、残留物を、溶離剤とし
てジクロロメタン（９５％）およびエチルエーテル（５
％）の混合物を用いて短いシリカカラム（５ＸＩＯｃｘ
）を通して精製する。溶媒を留去し、残留物をジクロヘ
キザンおよびイソプロピルエーテルの混合物中で再結晶
する。このようにして、２−（ｐ−ｔ−ブチルフェニル
）−５−ベンズイミダゾールカルボン酸メチルを得る（
１．４０ｇ、７７１％）。

ｍｐ：２０８℃、■？ｆ＝０．６（溶離剤エチルエーテ
ル）。

実施例ｌ７ ２−（ｐ−ｔ−ブチルフェニル）−５−ベンズイミダゾ
ールカルボン酸。

実施例１６（ｂ）で得りｘス−ｒルＩ　、　２０１？（
３、９ミリモル）を、水酸化すＩ・リウノ・のメタノー
ル溶液（２Ｎ）７５ｘｐと４８時間攪７′１゛する。メ
タノールを蒸発させ、水１００１を加える。」−デルエ
ーテルで抽出後、塩酸溶液（Ｎ）を用いてｐ１目に酸ｆ
Ｉ化する。エチルエーテルで抽出（３ｘ　ｌ　Ｏ０ｘＱ
）Ｌ、乾燥濃縮ずろ。酢酸エチルおよびイソプ〔！ピル
エーテルの混合物で再結晶ずろ。このようにして、２−
（ｐ−ｉ−ブチルフェニル）−５−ベンズイミダゾール
カルボン酸を得る（０．７０ｇ、６１％〕。

ｍｐ：２１２℃、ｒｕ＝ｏ：６（溶離剤メタノール（２
０％）およびジクロロメタン（８０％）の混合物）。

実施例１８ ２−（５，６，７，８−テトラヒト（Ｊ−５、５、８。

８−テトラメチル−２−ナフチル）−５−ベンズイミダ
ゾールカルボン酸メチル。

（ａ）４−アミノ−３−（５，６，７，８−テトラヒド
ロ−５，５，８，８−テトラメチル−２−ナフトアミド
）安息香酸メチル。

実施例＋６（ａ）と同様に、３．４−ジアミノ安息香酸
メチル２．７０ｇ（１６，２ミリモル）および５゜６．
７．８−テトラヒドロ−５，５，８，８−テトラメチル
−２−ナフトイルクロライド４．０５ｇ（１６，２ミリ
モル）から出発して、酢酸エチルおよびイソプロピルエ
ーテルの混合物で再結晶後、４−アミノ−３−（５，６
，７，８−テトラヒドロ−５゜５．８．８−テトラメチ
ル−２−ナフトアミド）安息香酸メチル（５，２０ｇ、
８４％）を得る。

ｍｐ：２１６℃、Ｒｆ＝０．７（溶離剤：エチルエーテ
ル）。

（ｂ）実施例１６（ｂ）と同様に、実施例１８（ａ）で
得たエステル５．００ｇ（１３ミリモル）から出発して
、２−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８゜
８−テトラメチル−２−ナフチル）−５−ベンズ６ロー イミダゾールカルボン酸メチルを得る（３．７０ｙ、７
８％）。

ｍｐ：　２２３℃、［＝０．７５（溶離剤：エチルＪ−
−チル）。

実施例１つ ２−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８゜８
−テトラメチル−２−ナフヂル）−５−ベンズイミダゾ
ールカルボン酸。

実施例１７と同様に、実施例＋８（ｂ）でｉ−Ｉたエス
テル２．９０ｇ（８ミリモル）から出発して水酸化ナト
リウムのメタノール溶液（２Ｎ）１５０ｍρで処理し、
２−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５゜８．８
−テトラメチル−２−ナフチル）−５−ベンズイミダゾ
ールカルボン酸を得る（２．４０ｇ、８６％）。

ｍｐ：　２２８℃、［＝０．６（溶離剤、ツクＯ［７メ
タン（８０％）、メタノール（２０％）の混合物）。

実施例２０ １−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８゜８
−テトラメチル−２−ナフチル）−６−ペンズォキザゾ
ールカルボン酸メチル。

（ａ）３−ヒドロキノ−４−ニトロ安息香酸メチル。

丸底フラスコに、３−ヒドロキン−４−ニトロ安息香酸
３６．６ｇ（０，２モル）、メタノール４ｏｊＩρおよ
び濃硫酸５　、４　ｘ（ｌを注入する。８時間還流加熱
し、反応媒質を蒸発させ、残留物に水を注ぎ、中和し、
エチルエーテル１リツトルで抽出する。

有機相を傾斜で分離し、硫酸マグネシウムで乾燥後、濃
縮する。得られた固体をヘキサン／シクロヘキサン混合
物中で再結晶する（３８．５ｇ、９７７％）。

ｍｐ：、８９℃、Ｒｆ＝０．５５（溶離剤・エチルエー
テル（５０％）／ヘキサン（５０％））。

（ｂ）４−アミノ−３−ヒドロキシ安息香酸メ、チル。

丸底フラスコに、３−ヒドロキシ−４−ニトロ安息香酸
メチル５．９ｇ（０，０３モル）、エチルアルコール７
０ＲＩ２および鉄粉１０．１ｇ（０，１ｓモル）を入れ
る。１０℃に冷却し、濃塩酸１０ｘ（ｉを滴下し、周囲
温度で２時間攪拌する。反応媒質を濾過し、濾液を濃縮
する。残留物を重炭酸水／エチルエーテルに注ぎ、有機
相を傾斜で分離し、硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮す
る。得られた固体をシクロヘキサン／イソプロピルエー
テル混合物中で再結晶する（４５ｇ、９０％）。

ｍｐ：　１２１℃、Ｒ４＝０．５５（溶離剤、エチルエ
ーテル）。

（Ｃ）丸底フラスコに、４−アミノ−３−ヒドロキン安
息香酸メチル３．３４ｇ（０，０２モル）、５゜６．７
．８−テトラヒドロ−５，５，８，８−テトラメチルー
２−ナフトエ酸４．（ｉｇ（０，０２モル）、はう酸１
．２３ｇ（０，０２モル）およびキンレン２００ｊＩρ
を入れる。３０分間加熱還流し、ディージ・スターク法
により生成した水を分離する。濃縮乾固し、重炭酸水に
溶かし、メヂレンクロライドで抽出する。有機相を傾斜
て分離し、硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮する。生成物
を、メヂレンクロライトを溶離剤としてシリカカラムフ
ラソンユクロマトグラフィーにより精製する。ヘキサン
中＝６９− に晶出させる（３’、Ｏｆ！、４１，３％）。

ｍｐ：　１４９℃、［＝０．３（溶離剤、ヘキサジ（７
０％）／エチルエーテル（３０％）混合物）。

実施例２１ ２−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８゜８
−テトラメチル−２−ナフチル）−６−ベンズオキサゾ
ールカルボン酸。

丸底フラスコに、２０　（ｃ）で得たエステル２．５ｇ
（６，８８ミリモル）をメタノール性ソーダ（２Ｍ）２
００ｊＩρに溶かしたものを入れる。４時間加熱還流し
、濃縮乾固し、水に溶かし、濃塩酸を用いて１）Ｈ＝／
ｌとなるまで酸性化し、沈澱した固体を濾過し、無水燐
酸で乾燥しする。次に酢酸エチル／テトラヒドロフラン
混合物中で再結晶する（１．５９．６２５％）。

ｍｐ＋３１０℃、Ｒｆ＝０．７（溶離剤：エチルエーテ
ル）。

実施例２２ ２−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５’、８゜
８−テトラメチル−２−ナフチル）−６−ペンズオキザ
ゾールカルボン酸モルホリド。

（ａ）２−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５゜
８．８−テトラメチル−２−ナフヂル）−６−ベンズオ
キサゾールカルボン酸りロライド。

丸底フラスコに、実施例２１で得た酸６９８ｇ（２０ミ
リモル）を無水ジクロロメタン１００′ｌＩ＆ニ溶かし
たものを入れる。ジシクロｌ＼キシルアミン４ｄ（２０
ミリモル）を加え、２０℃で２時間攪拌する。溶媒を留
去し、無水エーテルで処理する。

このようにして得た塩（Ｉｏ、５ｇ）を濾過し、このま
まで用いる。

塩を丸底フラスコに入れ、乾燥ジクロロメタン１０「ｌ
および塩化ヂオニル１４５ｉρ（２０ミリモル）を加え
る。２０℃で４時間攪拌し、濃縮乾固して白色固体（７
，２５ｇ、９９％）を得ろ。

（ｂ）２−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５゜
８．８−テトラメチル−２−ナフヂル）−６−ペンズオ
キザゾールカルボン酸モルポリド。

丸底フラスコに、モルホリド１．０５ｉρ（１２ミリモ
ル）おにびジクロロメタン５０ａ（を入れろ。

市ｊ記で得た酸クロライド１．４９（４ミリモル）をジ
クロロメタン５０ｍＱに溶かして滴下する。２０°Ｃで
２時間攪拌し、水に注ぎ、有機相を傾斜で分離し、硫酸
マグネシウムで乾燥し、溶媒を濃縮する。

イソプロピルエーテル中で再結晶し、所望の化合物１．
２ｇを得ろ（７２％）。ｍ１ｌｌ：１４９〜１５０℃。

実施例２３ ２−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８゜８
−テトラメチル−２−ナフチル）−６−ペンズオキザゾ
ールカルポン酸エチルアミド。

実施例２２と同様に、エチルアミン１２３９モルおよび
実施例２２（ａ）で得た酸クロライド４ミリモルから出
発して２−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，
８，８−テトラメチル−２−ナフチル）−６−ベンズオ
キサゾールカルボン酸エヂルアミド（１，１ｇ、７４％
）を得る。

ｍｐ：１６４−１６５℃（酢酸エチル／イソプロピルエ
ーテル混合物て再結晶）。

実施例２４ ２−（５，６，７，８−テトラヒト「）−１’ｉ、５．
８゜８−テトラメチル−２ナフチル）−６へ７ズオキザ
ゾールカルポン酸・２−ヒト〔アギノ」、デルエステル
。

丸底フラスコに、エヂレングリコール６．’ｌｆｆ＆（
１１４ミリモル）、ピリジン１．９１１ｃ（２３ミリモ
ル）およびジクロロメタン５０屑Ｑを入れろ。０℃に冷
却し、実施例２２　（ａ）で得た酸り〔１ライｔ”１．
４ｙ（１１ミリモル）をジクロロメタン５０ｕ０１こ溶
かしノ二ものを滴下する。次いで、２０℃で２時間攪拌
し、水に溶かし、有機相を傾斜で分離し、硫酸マダイ。

ノウノ、で乾燥し、溶媒を濃縮−４゛ろ。演目１１削と
してジク四ロメタン９０％／エーテルＩｎ％混合物を用
いて生成物を急速にノリカカラムク〔！マドクラフィー
に付す（４，０ｇ、９１％）。

ｍｌ’）：１２Ｇ−１２７°Ｃ０ 実施例２５ ２−（５，６，７，８−テトラヒトＣ１−５、５、８。

８−テトラメチル−２−ナフチル）−６−ヘンズオキザ
ゾリルメチルアルコール。

丸底フラスコに、窒素気流下ＴＨＦ５０ｘ（！およびＬ
ＩＡ（！１１４を３３０ｉ＋ｙ入れる。実施例２０（ｃ
）で得たエステル２．０ｇ（５，７ミリモル）を少しず
つ加え、１時間加熱還流する。

酒石酸ナトリウムおよびカリウム複塩溶液で処理し、濾
過し、有機相を集める。硫酸マグネシウムで乾燥し、溶
媒を留去する。得られた残留物を、溶離剤としてジクロ
ロメタン（９５％）およびエーテル（５％）の混合物を
用いてシリカカラムクロマトグラフィーにより精製する
。生成物をシクロヘキザン（１ｇ、５２％）で再結晶す
る。ｍｐ：１２５〜１２６℃。

実施例２６ ２−［３−（１−アダマンチル）−４−メトキシフェニ
ル］−６−ペンズイミダゾールカルボン酸メチルエステ
ル。

（ａ）３−（１−アダマンチル）−４−メトキノ安息香
酸。

丸底フラスコに、マグネシウム屑５．４９（２２５ミリ
グラム原子）およびＴＨＦ３０ｘＱを入れる。

２−アダマンチル−４−ブロモアニソール４８３ｇ（１
５０ミリモル）および１．２−ノブ〔１モエタン６ｚＱ
（７０ミ’）モル）を１’　ＩＩ　Ｆ　３００　ｒｔ□
（コ溶がした溶液を滴下する。

２時間加熱還流し、−７０℃に冷却し、ｃｏ。

気流を１時間通ず。温度を２０’Ｃまだ」−昇させ、水
に注ぎ、濃塩酸により酸性化してｐｌ−１１にし、エチ
ルエーテルで抽出する。有機相を傾斜で分離し、硫酸マ
グネシウムで乾燥し、濃縮する。

得られた固体を酢酸エチルで再結晶する（３．７９．８
６％）。

ｍｐ：２３８〜２３９℃。

（ｂ）３−（１−アダマンチル）−４−メトキシ安息香
酸塩化物。

丸底フラスコに塩化チオニル２００ｕ（を入れ、前記で
得た酸３５ｇ（１２２ミリモル）を少量ずつ加える。気
体放出が止まるまで加熱還流する。濃縮乾固し、無水ベ
ンゼン１００ｄに溶かし、濃縮乾固する。このようにし
て３−（１−アダマンチル）−４−メトキシ安息香酸塩
化物を得る（３７ｇ）。

ｍｐ：１５３〜１５４℃。このままで用いる。

（ｃ）４−アミノ−３−［３−（Ｉ−アダマンチル）−
４−メトキノベンズアミトコ安息香酸メチルエステル。

丸底フラスコに、３．４−ジアミノ安息香酸メチルエス
テル３．３２ｇ（２０ミリモル）、トリエチルアミン３
．ＩＪ！１２（２２ミリモル）および無水エーテル１０
０ｕ（！を入れる。前記で得られた酸クロライド（６，
Ｉｇ、２０ミリモル）をエチルエーテル１０ＣＮｎＱに
溶かした溶液を０℃で滴下する。温度を２０℃に」−４
させ、２時間攪拌する。水に注ぎ、エーテル相を傾斜で
分離し、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を濃縮する。

得られた固体をイソプロピルエーテル１００ｚρに入れ
て１５分間加熱還流する。２０°Ｃに戻した後濾過する
。このようにして白色固体７．４ｇを得るが、これはこ
のまま次の合成に用いられる。

（ｄ）２−［３−（１−アダマンチル）−４−メトギノ
フェニル］−５−ベンズイミダゾールカルボン酸メチル
エステル。

丸底フラスコに、前記で得られたエステル１０５９Ｃ２
４ミリモル）、キシレン３０ｍρおよびｐトルエンスル
ホン酸４．６９（２７１ミリモル）を入れる。

生じた水を分離しながら１２時間加熱還流する。

濃縮乾固し、残留物を飽和重炭酸すｌ・リウム溶液に溶
かす。

固体を濾過後、溶離剤としてメヂレノク［ｌライド９５
％およびエーテル５％の混合物を用いてシリカカラムク
ロマトグラフィーにより精製する。

溶媒を留去し、得られた白色固体を酢酸エチル４００Ｊ
Ｉ０中短時間加熱還流する。放冷後、所望のエステルが
得られる（８．７ｇ、８７％）。

ｍｐ・２５７〜８℃。

実施例２７ ２−［１（１−アダマンチル）−４−メトキンフＪニル
１−６−ペンズオキザゾールカルポン酸メチルエステル
。

（ａ）４−アミノ−３−［３−（Ｉ−アダマンチル）−
４−メトキンベンゾイルオキン〕安息香酸メチルエステ
ル。

丸底フラスコに、４−アミノ−３−ヒドロキソ安息香酸
メチルエステル３　８ｇ（３０ミリモル）、トリエチル
アミン３．５ｘρ（２５ミリモル）およびエーテル１ｏ
ｏｉｆ！を入れる。０℃に冷却し、実施例２６　（ｂ）
で得た酸クロライド７９Ｃ２３ミリモル）をエチルエー
テル１００ｄに溶かして滴下する。

次いで２０°Ｃで４時間攪拌し、水に注ぎ、有機相を傾
斜で分離し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮する。得
られた残留物をシクロヘキザンで再結晶する。このよう
にして生成物８．５ｇを得るが、これはこのまま次の合
成に用いる。

（ｂ）２−［３−（Ｉ−アダマンチル）−４−メトキシ
フェニルコー６−ベンズオキザゾールカルボン酸メチル
エステル。

丸底フラスコに、前記で得たエステル８．５９（２０ミ
リモル）、キシレン４００３１７！およびｐ−ｔ−ルエ
ンスルポン酸３．７ｇ（２０ミリモル）を入れる。

生じた水を分離しながら１２時間加熱還流する。

濃縮乾固し、残留物を飽和重炭酸ナトリウム溶液７Ｒ− に溶かし、濾過して得られた固体を、ジクロロメタンを
溶離剤として用いたシリカカラムクロマ）・グラフィー
により精製ずろ。

酢酸エチルおよびイソプロピルエーテルの混合物で再結
晶さＵろと所望のエステル７．７９（９５％）が得られ
る。ｍｐ：Ｉ８３〜＋８７１’Ｃ８実施例２８ ２−［３−（１−アダマンチル）−４−メトキンフェニ
ルコー６−ペンズオキザゾールカルポン酸。

丸底フラスコに、実施例２７（ｂ）で得られたエステル
６．４ｇ（１５ミリモル）おｊ：びソーダ（ＩＧＩ／）
をＴＩ−ＩＦ　３００ｘｉ！および水５０ＪＩ夕に溶か
した溶液を入れる。

７２時間周囲温度で攪拌し、溶媒を留去し、水に溶かし
、塩酸（Ｎ）を用いてｐＨ５に酸性化する。

得られた固体を濾過し、水洗する。固体を酢酸エチル７
リットルで抽出し、硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮する
。次いて固体を、１時間還流下酢酸エチル５００１で処
理する。冷却し、固体を濾過する（５９ｇ、９５％）。

ｍｐ：　３１２〜３１／１°Ｃ８実施例２９ ２−［３−（１−アダマンチル）−４−デシルオキシフ
ェニル］−６−ヘンズオキザゾールカルボン酸メチルエ
ステル。

（ａ）２−（１−アダマンチル）−４−ブロモデノルオ
キシベンゼン。

丸底フラスコに、水素化ナトリウム（油中８０％）３．
２ｇ（１０４ミリモル）およびＮ、Ｎ−ツメチルホルム
アミド１００ｘｆｆを入れる。２−アダマンチル−４＝
ブロモフエノール（２９ｇ、９５ミリモル）をＮ、Ｎ−
ツメチルホルムアミドｌｏｏｍ（！に溶かした溶液を滴
下し、気体放出が止まるまで攪拌する。次いで、ｌ−ヨ
ードデカン２３ｘＱ（１０４ミリモル）を加え、２０℃
で８時間攪拌する。

水に注ぎ、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去する
。生成物をシリカカラムクロマトグラフィー（溶離剤・
ヘプタン）により精製する。

このようにして、２−（１−アダマンチル）−４−プロ
モデシルオキノヘンゼン４０．７９（９６％）を得る。

ｍｐ：６９〜７０℃。

（ｂ）３−（１−アダマンチル）−４−デノルオキシ安
息香酸。

実施例２６　（ａ）と同様に、実施例２９　（ａ）で１
１．１に誘導体Ｉ　７．９ｇ（４０ミリモル）から出発
して、酢酸エチルおよびイソプロピルエーテルの混合物
て品出後、３−（１−アクマンデル）−４−デノルオキ
シ安息香酸（Ｉ　３．５ｇ、８２％）を得ろ。ｍｐ・　
１５１〜１５２°ｃ。

（ｃ）３−（１−アダマンチル）−４−デノルオキシ安
息香酸塩化物。

実施例２６（ｂ）と同様に、３−（１−アクマンチル）
−４−デノルオギノ安は香酸７．４５ｇ（１８ミリモル
）から出発して対応する酸塩化物（１００％）を得ろ。

（ｄ）４−アミノ−３−［３−（Ｉ−アダマンチル）−
４−デシルオキシベンゾイルオキソ１安息香酸および４
−［３−（Ｉ−アダマンチル）−４−デシルオキノベン
ズアミド］−３−ヒドロキノ安息香酸メチルエステル。

丸底フラスコに、４−アミノ−３−ヒト［１ギシ−８１
＝ 安息香酸メチルエステル３．０９（１８ミリモル）、ト
リエチルアミン２．８ｘ＋２（２０ミリモル）およびエ
ーテル１００ｕρを入れる。　０℃に冷却し、前記で得
た酸クロライド（７７ｇ、１８ミリモル）をエーテル５
０ＲＱに溶かした溶液を滴下する。２００Ｃて２時間攪
拌し、水に注ぎ、有機相を傾斜で分離し、硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、濃縮する。溶離剤としてジクロロメタン
を用いてシリカカラムクロマトグラフィーにより精製し
、続いて４−［３−（１−アダマンチル）−４−デソル
オキノペンズアミド］−３−ヒドロキシ安息香酸メチル
エステル２．２ｇ、次いで４−アミノ−３−［３−（１
−アダマンチル）−４−デシルオキンベンゾイルオキシ
］安息香酸メチルエステル５ｇを得る。

（ｅ）２−［３−（１−アダマンチル）−４−デシルオ
キンフェニル］−６−ペンズオキザゾールカルポン酸メ
チルエステル。

丸底フラスコに、前記で得た混合物６．８ｇ（１２ミリ
モル）、キシレン３００ｘｆ！およびｐ−トルエンスル
ポン酸２．３ｇ（１２ミリモル）を入れる。

５時間ａ流１Ｍ４度に加熱し、生成する水を分離する。

濃縮乾固し、飽和重炭酸ナトワウノー３溶液に溶かし、
ジクロロメタンで抽出する。得られた残留物を酢酸エチ
ルおよびイソプロピルゴーチルの混合物で再結晶する。

このようにして、２−［３−（Ｉ　　アダマンチル）−
４−デノルオキンフ工ニル１−６−ペンズオキザゾール
カルボン酸メチルエステル５３ｇ（８１％）を得ろ。＋
ｎｐ：１２７〜！２８℃。

実施例３０ ２−［３−（Ｉ−アダマンチル）−４−デノルオキソフ
ェニル］−６−７＼ンズオキサゾールカルホン酸。

実施例２８と同様に、実施例２９　（ｅ）で得たエステ
ル４．６ｇ（８，５ミリモル）から出発して２−［３−
（Ｉ−アダマンチル）−４−デシルオキノフゴニル］−
６−ペンズオキザゾールカルボン酸３９ｇ（８８％）を
得る。

ｍｐ・　２００〜２０＋’Ｃ（酢酸エチルで再結晶）。

実施例３１ ２−［３−（１−アダマンチル）−４−メトキンフェニ
ルドローベンゾ（ｂ）フランカルボン酸メチルエステル
。

（ａ）３−［３−（１−アダマンチル）−４−メトキン
ベンゾイルオキン］−４−メチル安息香酸メチルエステ
ル。

実施例５（ａ）と同様に、３−ヒドロキン−４−メチル
安息香酸エステル４．９９９（３０ミリモル）および実
施例２６　（ｂ）で得た酸クロライド９１４ｇ（３０ミ
リモル）から出発して、シリカカラムクロマトグラフィ
ー（溶離剤６ジクロロメタン５０％／ヘキザン５０％の
混合物）後、所望のエステル（９２％）１２ｇを得る。

ｍ＋）：＋１０°Ｃ０（ｂ）３−［３−（１−アダマン
チル）−４−メトキシベンゾイルオキン］−４−ブロモ
メチル安息香酸メチルエステル。

実施例５（ｂ）と同様に、前記で得たエステル１゜７０
９（３，９ミリモル）、Ｎ−ブロモスクシンイミド０．
７０９おＪ：びベンゾイルベルオキノト２０ｘ＆を四塩
化炭素１５１１Ｉ２に溶かし、窒素気流下３時間還流温
度に加熱したものから出発して、シリカカラムクロマト
グラフィー（溶離剤６エヂルエーテル３０％およびヘキ
サジ７０％の混合物）後、所望の生成物および出発物質
の混合物を得るが、これはこのまま次の合成に使用する
。

（ｃ）２−［３−（１−アダマンチル）−４−メトキシ
フェニルヨー６−ベンゾ（ｂ）フランカルボン酸メチル
エステル。

前記で得た混合物を、無水ＴＩ−ＩＰ　Ｉ　００ｉｉ！
に溶かず。トリフェニル−ホスフィン４．１７ｇ　（Ｉ
　Ｇミリモル）を加え、４時間還流温度にＩｎｎ熱する
。

周囲温度に冷却し、ンアザビシクロウンデセン（ＤＢＵ
）２．４ｚρ（１６ミリモル）を滴下する。添加後３５
℃で３０分攪拌し、水に注ぎ、酸性化して（塩酸（６Ｎ
）により）　ｐｌ−１１にし、エーテルで抽出する。

有機相を水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮する
。

残留物をシリカカラムクロマ）・グラフィーに付す（溶
離剤　エチルエーテル２０％、およびヘキサジ８０％の
混合物）。蛍光フラクション（２５４ｎｍの紫外線照射
）を回収し、溶媒を濃縮する。このようにして所望のエ
ステル１．８２９（２７％、工程３１　（ｂ）および３
１　（ｃ）を合わせた収率）を得る。　ｍｐ・　１８０
℃。

実施例３２ ２−［３−（１−アダマンチル）−４−メトキシフェニ
ルヨー６−ベンゾ（ｂ）フランカルボン酸。

実施例８と同様に、実施例３　］　（Ｃ）で得たエステ
ル１．５２ｇ（３，６５ミリモル）から出発して、°　
２−［３−（Ｉ−アダマンチル）−４−メトキシフェニ
ルヨー６−ベンゾ（ｂ）フランカルボン酸（］　、３２
９．９０％）を得る。ｍｐ：２９０℃。

実施例３３ ２−［１−（Ｉ−アダマンチル）−４−メトキシフェニ
ルヨー６−ベンゾ（ｂ）チオフェンカルボン酸メチルエ
ステル。

（ａ）４−［３−（１−アダマンチル）−４−メトキシ
ベンゾイルチオ］−４−メチル安息香酸メチルエステル
。

実施例１　（ａ）と同様に、３−メルカプト−４−メチ
ル安息香酸メチル５．４　ｉ　（３０ミリモル）、トリ
エチルアミン４　６峠（３３ミリモル）および実施例２
６　（ｂ）で得た酸クロライド９．１４ｇ（３０ミリモ
ル）から出発して、４−［３−（１−アダマンチル）−
４−メトキシベンゾイルヂオ］−４−メチル安息香酸メ
チルエステル（］　２２．８３ｇ９５％）を得る。ｍｐ
：１４０℃。

（ｂ）’１−［３−（１−アダマンチル）−４−メトキ
シベンゾイルヂオコー４−プロモメチル安息香酸メチル
エステル。

実施例１（ｂ）と同様に、前記で得たエステル１２．５
０ｇ（２８ミリモル）、Ｎ−ブロモスクシンイミド４．
９４ｇ（２８ミリモル）および過酸化ベンゾイル１００
ｍｙを四塩化炭素２００！Ｉρに溶かしたしのから出発
して、シリカカラムクロマトグラフィー（溶離剤・エチ
ルエーテル４註 ０％の混合物）後、出発物質および所望の生成物を含有
する混合物を得るが、これはこのまま次の合成に用いる
。

（ｃ）２−［３〜（１−アダマンチル）−４−メトキノ
フＪニル］−６−ベンゾ（ｂ）チオフェンカルボン酸メ
チルエステル。

実施例１（Ｃ）と同様に、前記で得た混合物全部、ｌ・
リフェニルホスフィン４．５５ｇ（１７，５ミリモル）
およびＤＩ”３Ｕ２．６０ＲＱ　（１７，５ミリモル）
から出発して、シリカカラムク〔１マドグラフイー（溶
離剤、ジクロロメタン４０影／ヘキサン６０％の混合物
）後、所望のエステルを得る（１．６８ｇ、１４％一工
程３３　（ｂ）および３３　（ｃ）を合わせた収率）。

ｍｐ：１７２°Ｃ０ 実施例３４ ２−［３−（Ｉ−アクマンチル）−４−メトキシフェニ
ルヨー６−ベンゾ（ｂ）チオフェンカルホン酸。

実施例２と同様に、実施例３３　（ｃ）で得たエステル
１３２ｇから出発して、対応する酸１．１５ｇ（９０％
）を得ろ。ｍｐ：３０５℃。

実施例３５ ２−（３−１−ブチル−４−メトキンフェニル）＝６−
ベンゾ（ｂ）フランカルボン酸メチルエステル。

（ａ）３−Ｌ−ブチル−４−メト；）−ノ安は青酸。

実施例２６　（ａ）と同様に、４−ブしノモ　３ｔブチ
ル−メトキノベンゼン１２．１６＠（５０ミリモル）、
マグネシウム１．３４ｇ（５５ミリクラノ、原子）およ
び過剰量の炭酸ガスから出発して、融１．１ｉ。

１９０℃を有する　３−１−ブチル−４−メトキン安息
香酸８．３１１ｊ（８０％）を得る。

（ｂ）３−ｔ−−ブチル−４−メ１４ン安ｅ、香酸り【
フライド。

実施例２２　（ａ）と同様に、前記で得た酸１９．０ｇ
（９２ミリモル）およびジンクロヘギノルアミン１８．
３ｚＱ（９２ミリモル）から出発して、得られた塩を塩
化ヂオニル６．７１＋Ｑ　（９２ミリモル）で処理し、
酸クロライド（油状淡黄色）ｌ　９．８９　（９５％）
を得るが、これはこのＪ：ま次の合成に用いろ。

（ｃ）３−［３−ｔ−ブチル−４−メトキンベンゾイル
オキノコ−４−メチル安息香酸メチルＪ−，ステル。

実施例５（ａ）と同様に、３−ヒドロキノ−４−メチル
安１、青酸メチルｌ　４．５ｇ（８７ミリモル）および
前記で得た酸クロライド１９．８ｇ（８７ミリモル）か
ら出発して、シリカカラムクロマトグラフィー（溶離剤
・ジクロロメタン６０形／ヘキザン４０％の混合物）後
、　３−［３−Ｌ−ブチル−４−メトキノベンゾイルオ
キシ］−４−メチル安息香酸メチルエステル（２７，７
ｇ、９４％）を得る。

ｍｐ：１５２℃。

（ｄ）４−ブロモメチル−３−（３−ｔ−ブチル−４−
メトキンベンゾイルオキシ）安息香酸メチルエステル。

実施例３１　（ｂ）と同様に、前述のエステル２７゜：
３ｇ（７６，５ミリモル）およびＮ−プロモスクンンイ
ミド１３．６９Ｃ７６，５ミリモル）から出発して、触
媒として過酸化ベンゾイルＩ００＋ｒｇを用いて、シリ
カカラムクロマトグラフィー（溶離剤ニジクロロメタン
６０兄／ヘキサン４０％の混合物）後、痕跡量の二臭化
物を含む出発物質と一臭化物の混合物を得る。この混合
物は、このまま次の合成に用いられる。

（ｅ）２−（３−ｔ−ブチル−４−メトキソフエニル）
−６−ベンゾ（ｂ）フランカルボン酸メチルエステル。

前記で得た混合物（２７，６ｇ）を無水’ｒｌｌＦＩ０
０ｙｔＱに溶かす。トリフヱニルホスフィン１６６９（
６３ミリモル）を加え、４時間加熱還流する。２０°Ｃ
に冷却し、窒素気流下Ｄ　ＢＬＪ　９　、５肩Ｑ（６３
ミリモル）を滴下する。滴下終了後、８０°Ｃで２０分
間攪拌する。水に注入し、叶■１に酸性化（塩酸（６Ｎ
）を用いる）し、ジクロロメタン２００奸で３回抽出す
る。

有機相を飽和塩化ナトリウム溶液で洗浄し、硫酸マグネ
シウムで乾燥し、溶媒を留去し、残留物をシリカカラム
クロマトグラフィーにより　（溶離剤二ノクロロメタン
４０％／ヘキサン６０％の混合物）精製する。

蛍光フラクションを回収（２５４ｎｍの紫外線照射）し
、溶媒を濃縮すると、　２−（３−ｔ−ブチル−４−メ
トキンフェニル）−６−ベンゾ（ｂ）−フランカルボン
酸メチルエステル（１１，２ｇ、４３％）が得られる。

ｍｐ・　１７９℃。

実施例３６ ２−（３−Ｌ−ブチル−４−メトキノフェニル）−６−
ヘツノ（ｈ）フランカルボン酸。

実施例８と同様に、実施例３５（ｅ）で得たエステル７
．６４ｇ（２２，５ミリモル）をメタノール（５００ｍ
ρ）および水性ソーダ（１３５ｍＬ　　５Ｎ）の混合物
で処理したちのから出発して、２−（３−ｔ−ブチル−
４−メトキシフエニルノ）−６−ベンゾ（ｌｌ）フラン
カルボン酸（６，７４ｇ、９２％）を得る。

ｍｐ＋２３５°ｃ。

実施例３７ ２−［３−（１，１−ジメチルデシル）−４−メトキン
フェニル］−６−ベンゾ（ｂ）フランカルボン酸メチル
エステル。

（ａ）４−ブロモ−２−（１、Ｉ−ジメチルデシル）フ
ェノニル。

２−メチル−１−ウンデンセン（３５，６ｇ、２１１ミ
リモル）、パラブロモフェノール（３６，０ｇ。

２１１ミリモル）および予め水洗い、アセトンですすぎ
、８０℃で３時間乾燥器で乾燥したグラエックス（Ｄｏ
ｔｖｃｘ）樹脂５×１２（１００〜２００メ’ソノユ）
からなる混合物を７１８時間１００〜＋＋００Ｃに加熱
ずろ。周囲ｌ’ｕ：１度に冷却し、ノリ方力うムクロマ
トグラフィー（溶離剤　ジクロロメタン４０火／ヘキザ
ン６０％の混合物）にイτ１すと、淡黄色油状物の形で
４−ブロモ−２−（１，１−ジメチルデシル））フェノ
ールが得られる（３０．８５＠、４３％）。

この生成物はこのまま次の合成で用いる。

（ｂ）４−ブロモ−２−（１，１−ジメチルデシル）ア
ンソール。

前記で得た化合物（３０，８５ｇ、９０ミリモル）を無
水ＴＩＩＰ　Ｉ　００ｍｆ２に溶解し、次に水素化すト
リウム（油中８０％）２．７ｇ（９０ミリモル）を少徂
ずつ分割して添加処理する。添加終了後、周囲温度で３
０分撹拌し、次いてよう化メチル１２８ｇ（９０ミリモ
ル）を加えろ。２０℃で２時間撹拌し、溶媒を留去し、
残留物をシリカカラムタ〔３７トグラフイー（溶離剤ジ
クロロメタン４０％／／＼ギサン６０％の混合物）によ
り、精製する。

溶媒を留去後、黄色油状形態で所望の生成物を得る。

（ｃ）３−（１，１−ジメチルデシル）−４−メメトキ
シ安息香酸。

前記で得たブロモ誘導体（２８，４６ｇ、８０ミリモル
）を無水ＴＨＦ８０ｍ（に溶かしたものを、マグネンウ
ム屑（２，３４ｇ、９６ミリグラム原子）およびよう素
結晶上にゆっくりと加える。添加を始めるにあたり、反
応が始まるまで（還流が明らかになる）加熱する。次い
でブロモ誘導体を加える速度によりこの還流状態を一定
に保つ。

添加終了後、５０℃で３０分撹拌を続け、０°Ｃに冷却
し、炭酸ガス流を３時間流す。

次いでＴ　Ｉ（Ｆを留去し、水３００ｍＱを加え、ＰＨ
］に酸性化（塩酸（６Ｎ）を用いる）する。エチルエー
テル（３Ｘ３００ｍρ）で抽出する。有機相を飽和Ｎａ
Ｃｆ２溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒
を留去する。

得られた固体を水ヘキサン５０ｍＱで洗浄し、８０℃で
乾燥器により乾燥する。

３−（１、１−ジメチルデシル）−４−メトギノ安、け
青酸］　５．２５ｇ（５９％）を得ろ。ｍｐ：Ｉ１２Ｃ
０ （ｄ）３−（１，１−ジメチルデシル）−４−メトギノ
安息香酸クロライド゛。

実施例２２（ａ）と同様に、前記で得た酸１４．４＆（
７１４，８ミリモル）およびシンクロヘキシルアミン９
ｍｇ（４４，８ミリモル）から出発し得られた塩を塩化
ヂオニル３．２６ｍＱ（４４，８ミリモル）により２０
℃で１６時間処理し、をロ酸クロライドを得るが、この
まま次Ｉ程で用いる。

（ｅ）３−［３−（１、Ｉ−ジメチルデシル）−４−メ
トキシベンゾイルオギノ］−４−メチル安息香酸メチル
エステル。

実施例３５（ｃ）と同様に、３−ヒドロキノ−４−メチ
ル安息青酸ブチル６．９８ｇ（４２ミリモル）、実施例
２７　（ｄ）でえた粗酸りロライド全肇お、Ｊ−びトリ
エチルアミン４．２５ｇ（４２ミリモル）から出発して
１−Ｃ３−（１，１−ツメチルデシル）−４−メトキノ
ベンゾイルオキノ］−４−メチル安４Ω香酸メチルエス
テル（１７，８４ｇ、工程３７　（ｄ）および３７　（
ｅ）を合わせたときの収率９１％）を黄色油状物の形で
得、これを結晶化する。ｍｐ：９０℃。

（ｆ）４−ブロモメチル−［１（１，１−ジメチルデシ
ル）−４−メトキシベンゾイルオキシ］安息香酸メチル
エステル。

実施例３５（ｄ）と同様に、前記で得たエステル１７．
４ｇ（３７ミリモル）およびＮ−プロモスクノンイミド
６．６０１７（３７ミリモル）から出発して、カラムク
ロマトグラフィー（溶離剤、エチルエーテル４註 した後、所望のモノブロモ生成物、出発物質および痕跡
量のジブロモ誘導体を含有する混合物を得る。そのまま
この混合物を次工程に用いる。

（ｇ）２−［３−（Ｉ　、　Ｉ−ジメチルデシル）−４
−メトキシフェニルヨー６−ベンゾ（ｂ）フランカルボ
ン酸メチルエステル。

実施例３５（ｅ）と同様に、前記で得た混合物全部、ト
リフェニルホスフィン９．７３９＜３７ミリモル）およ
びＤＢＵ５．５−（３７ミリモル）から出発して、ヘキ
サジで３回再結晶後２−［３−（１。

１−ジメチルデシル）−４−メ）・キノフＪニル１６−
ベンゾ（ｂ）フランカルボン酸メチルエステル３　０２
ｇを、工程３７（ｆ）および３　７　（ｇ）を合わｌて
収率１８％て得る。ｍｐ・９５°ｃ。

実施例３８ ２−［３−（１．１−ジメチルデシル）−４−メトキン
フェニル］−６−ベンゾ（ｂ）フランカルボン酸。

実施例３６と同様に、実施例３７（ｇ）て得たＪ。

ステルＩ　、８　５ｇ（４　ミリモル）から出発して、
２−［３−（１．１−ジメチルデシル）−４−メトキン
フＪニル］−６−ヘンゾ（ｂ）フランカルボン酸（１　
、４　７９、８２％）を得る。ｍｐ：　Ｉ　５　０°Ｃ
０実施例３９ ２−［３−（Ｉーアダマンチル）−４−メトキノフェニ
ル］ー５ーベンズイミダゾールカルボン酸。

丸底フラスコに、実施例２６（ｄ）で得たエステル７、
８ｇ（１９ミリモル）およびメタノール性ソーダ液（２
　Ｎ）３　０　０ｍρを入れる。２４時間還流ｌＫＡ度
に加熱し、濃縮乾固し、水に溶かし、塩酸を用いてＩ）
Ｉ−１５に酸性化し、固体を濾過し、水洗する。

次いで固体をＰ，０５の存在下真空乾燥する。固体をＴ
　Ｉ−Ｉ　Ｆ　Ｃ　１リツトル）を用いて抽出し、次に
不溶物を濾過後Ｔ　Ｉ−Ｉ　Ｆ’を留去する。生成物を
、Ｔ　ｌ−Ｉ　Ｆ（３００ｍρ）および酢酸エチル（３
００ｍ（りの混合物中で１時間還流温度に加熱する。冷
却後、固体を濾過し、２−［３−（Ｉーアダマンチル）
−４−メトキシフェニル］ー５ーベンズイミダゾールカ
ルボン酸７ｇ（９３％）を得る。ｍｐ・３５８〜３５９
℃。

実施例４０ ２−［３−（Ｉーアダマンチル）−４−ヒドロキシフェ
ニル］ー５ーベンズイミダゾールカルボン酸メチルエス
テル。

（ａ）２−（Ｉーアダマンチル）−４−ブロモ−ｔ−ブ
チルジメチルノリルオキシベンゼン。

丸底フラスコに、２−（１−アダマンチル）−４−ブロ
モフェノール３　０．７ｇ（Ｉ　Ｏ　Ｏミリモル）、ト
リエチルアミン１５．４ｍρ（１１０ミリモル）、４−
ＣＮ，Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン５００ｍｇ（４ミ
リモル）およびＴＨＦ　２　０　０ｍρをいれる。

−９８＝ 窒素気流Ｆ，　Ｉ）ＭＦ　ｌ　０　０ｍＣに溶かしたｔ
−ブチルジメチルンリルクロライｔ”！　５．７ｙ（Ｉ
　Ｏ４ミリモル）の溶液を滴下し、４時間撹拌し、水に
溶かし、エーテルで抽出し、有機相を傾斜で分離する。

水洗後、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去し、得
られた残留物を溶離剤としてヘキサジを用いてシリカカ
ラムに通して精製する。

このようにして、所望の生成物３．６２９を得ろ。

ｍｐ：ｌ　Ｉ　Ｉ〜Ｉ　ｌ　２℃。

（ｂ）３−（］−アダマンチル）−　４　−１−ブチル
ノメチルンリルオキン安息香酸。

丸底フラスコに、マグネシウム１．１８ｇ（４８８ミリ
グラム原子）およびＴＨＦ５０ｍＣを入れ、前記で得た
生成物１　３．７ｇ（３　２．５　ミリモル）をＴＩ−
ＩＰｌｏｏｍｇに溶かしたものを滴下し、２時間還流温
度に加熱する。−７８℃に冷却し、反応媒質に炭酸ガス
を流す。周囲温度に放暖し、水に溶かし、塩酸（５Ｎ）
を用いてＩ）Ｈｌまで酸性化ずろ。

エーテルで抽出し、常法で処理した後、得られた固体を
イソプロピルエーテル２０ＯｍＱ中で還流温度に加熱す
る。

冷却後、固体を濾過すると３−（ｌ−アダマンチル）−
４−１−ブチルジメチルシリルオキシ安息香酸８．．２
９（６５％）をえる。ｍｐ＋２４５〜２４６℃。

（ｃ）３−（１−アダマンチル）−４−ｔ−プチルジメ
チルンリルオキン安息香酸クロライド。

丸底フラスコに、前記で得た酸６．４５ｇ（１６゜７ミ
リモル）、ジシクロヘキシルアミン３．３ｍ（！（１６
，７ミリモル）および塩化メチル１００ｍ１２を入れる
。周囲温度で２時間撹拌した後、塩化チオニル１．３５
ｍＱ（１８，４ミリモル）を加え、２時間撹拌する。濃
縮乾固し、エーテル２００ｍρに溶かし、ジンクロヘキ
シルアンモニウムクロライトを濾過し、溶媒を留去する
。このようにして固体６．９９を得るが、このまま次工
程にもちいる。

（ｄ）４−アミノ−３−［３−（］−アダマンチル）＝
４−［−ブチルジメチルシリルオキシベンズアミドコ安
息香酸メチルエステル。

丸底フラスコに、３４−ジアミノ安息香酸メチル２．７
７ｇ（１６，７ミリモル）、トリエチルアミン２．６ｍ
ｆ！（１８，４ミリモル）おｊ；びエーテル１００ｍＣ
を入れる。前記で得た酸クロライド６７５ｇ（１６，７
ミリモル）をエーテル１００ｍ１ｌ！に溶かした溶液滴
下し、２０℃で２時間撹拌する。水に溶かし、メチレン
クロライド抽出し、有機相を傾斜で分離し、硫酸マグネ
シウムで乾燥し、溶媒を留去する。得られた残留物を、
溶離剤としてジクロロメタン９５％−エーテル５％の混
合物を用い、シリカカラムに通して精製する。このよう
にして所望のエステル６．９ｇ（７８％）を得る。ｍｐ
：２１６〜２１７℃。

（ｅ）２−［３−（１−アダマンチル）−４−ｔ−ブチ
ルジメチルンリルオキンフェニル］−５−ベンズイミダ
ゾールカルボン酸メチルエステル。

丸底フラスコに、前記で得た生成物６．３９（ＩＩ　６
ミリモル）、ｐ−ｔ−ルエンスルホン酸２　、２　ｇ（
１１，６ミリモル）およびキシレン１００ｍＣを入れる
。

還流温度に２時間加熱し、濃縮乾固し、飽和重炭酸ナト
リウム溶液に溶かし、メチレンクロライド−１０１，− で抽出し、有機相を傾斜で分離し、硫酸マグネシウムで
乾燥し、濃縮する。残留物をシリカカラム（溶離剤ノッ
ク四ロメタン９５％およびエーテル５％の混合物）に通
して精製する。このようにして所望のエステル５．５ｇ
（９２％）を得る。ｍｐ：２７７〜２７８℃。

（ｆ）２−［３−（１−アダマンチル）−４−ヒドロキ
ソ］−５−ペンジイミダゾールカルボン酸メチルエステ
ル。

丸底フラスコに、前記で得たエステル５．２ｙ（１０ミ
リモル）およびＴＨＦｌｏｏｍ（！を入れる。ぶつ化テ
トラブチルアンモニウム］Ｉｍｆ２（Ｉ］ミリモル）を
ＴＨＦ（Ｍ）に溶かした溶液を滴下し、２時間撹拌する
。水に溶かし、固体を濾過し、水洗し、Ｔ　Ｉ−Ｔ　Ｆ
で抽出する。Ｔ　ＨＦを留去し、白色固体を回収し、こ
れを酢酸エチル６００ｍ１２およびＴ　Ｉ−Ｉ　ＦＬｏ
ｏｍ（！の混合物に入れて加熱する。周囲温度に放冷後
、得られた固体を濾過する（３．８ｇ９５％）。

ｍｐ＋３２８〜３３０℃。

実施例４１ ２−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８゜８
−テトラメチル−２−ナフチル）−６−ペンゾヂアゾー
ルカルボン酸メチルエステル。

（ａ）４−アミノ−３−（５，６，７，８−テトラヒド
ロ−５，５，８，８−テトラメチル−２−ナフトイルヂ
オ）安息香酸メチルエステル。

丸底フラスコに、４，４′−ジアミノ−３，３′−ジヂ
オン安息青酸メチル５．４ｇＣｌ　／１．８　ミリモル
）、ｌ・リフェニルホスフィン３．９ｇ（１７１，８ミ
リモル）、ジオキサン７５ｍρおよび水５ｍρを入れる
。窒素気流下４時間還流温度に加熱する。２０℃に冷却
後、ｌ・リエチルアミン６．２ｍｆ！（ｔ／１．５ミリ
モル）、続いて５０ｍＣのエーテルに溶かした５、６，
７．８−テトラヒドロ−５，５，８，８−テトラメチル
ー２−ナフトエ酸クロライド７、／１９（２９，６ミリ
モル）を滴下する。２０℃で１時間撹拌し、混合物を水
に溶かし、エーテルで抽出し、有機相を傾斜で分離し、
硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮する。イソプロピルエ
ーテル６６％−酢酸エチル３３％の混合物で再結晶し所
望のエステル８ｇ（６８％）を得る。ｍｐ・１５４〜１
５５℃。

（ｂ）２−（５，６，７，８〜テトラヒドロ−５，５゜
８．８−テトラメチル−２−ナフチル）−６−ペンゾヂ
アゾールカルボン酸メチルエステル。

丸底フラスコに、前記で得たエステル９ｇ（２２６ミリ
モル）、ｐ−トルエンスルホン酸４．３ｇ（２２，６ミ
リモル）およびキソレノ２００ｍ１２を入れる。

２時間還流温度に加熱し、濃縮乾固し、ジクロロメタン
に溶かし、飽和重炭酸ナトリウムで洗浄する。通常の処
理をした後、残留物を得、これをイソプロピルエーテル
で再結晶する。このようにして２−（５，６，７，８−
テトラヒドロ−５，５，８゜８−テトラメチル−２−ナ
フチル）−６〜ベンゾデアゾールカルボン酸メチルエス
テル８．２ｇ（９５％）を得る。ｍｐ＋１４３−１４４
°Ｃ０実施例４２ ２−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８゜８
−テトラメチル−２−ナフチル）−６−ペンゾヂアゾー
ルカルボン酸。

丸底フラスコに、実施例４１　（ｂ）で得たエステル５
．６９（１４，７ミリモル）、メタノールに溶かしたソ
ーダ２Ｎ溶液２００ｍ１！およびＴ　ＩＩ　Ｆ　Ｉ　Ｏ
（１ｍＱを入れろ。２０℃で４時間撹拌し、濃縮乾固し
、水に溶かし、Ｎ塩酸を用いてｐＨ５に酸性化し、得ら
れた固体を濾過し、これを中性になる↓で水洗する。固
体をエーテルで抽出し、硫酸マグオ／ウムで乾燥し、濃
縮し、酢酸エチルて再結晶オろ３゜このようにして、２
−（５，６，７，８−テ］・ラヒ）・ロー５，５．８．
８−テトラメチル　２−ナフチル）−６−ベンゾチアゾ
ールカルホン酸４ｙ（７５％）を得る。ｍｐ：　２９２
〜２９３℃。

実施例４３ ２−（Ｌ４−ツメチル−２，３−ノヒｌ；［１１−ベン
ゾピラン−６−イル）−５−ベンズイミダゾールカルボ
ン酸メチルエステル。

（ａ）４．４−ツメデル−２，３−ジヒト〔ノー１−ベ
ンゾビラン−６−カルボン酸。

１］Ｏｍｆ２の水にソーダ（２１ｇ）を溶かして一５℃
に冷却した溶ｊＵこ、臭素９ｍρを滴下する。１５分後
、ノオキザン（５０ｍＱ）に溶かした６−アセチルー４
．４−ジメチル−２，３−ジヒドロー１−ベンゾピラン
６ｇを加える。

２０℃に放暖した後、５０℃に加熱し、冷却し、メタ重
亜硫酸ナトリウム９．２ｇを含む溶液７０−１続いて濃
塩酸４２ｍ１２を加える。水で希釈し、濾過し、沈澱が
中性になるまで洗浄する。アセトンと水の混合物で結晶
化後、９０％の収率で所望の酸を得る。

（ｂ）４．４−ジメチル−２，３−ジヒドロー１＝ベン
ゾピラン−６−カルボン酸クロライド。

丸底フラスコ中で、実施例４２（ａ）で得た酸９０１１
１９（０，４，３ミリモル）を無水ジクロロメタン０゜
８ｍＱにけん濁する。

シンクロヘキシルアミン８７μｇ（０，４３ミリモル）
を滴下すると、反応媒質は澄明になる。周囲温度で３０
分撹拌し、塩化チオニル３２μｇ（０゜４３ミリモル）
を加える。

周囲温度で一夜撹拌後、塩酸ジシクロヘキシルアミンを
濾過し、ジクロロメタンを留去し、生成物をそのまま次
の工程で使用する。

ＩＨ− （ｃ）４−アミノ−３−（４，４−ジメチル−２，３−
ジヒドロー１−ヘンゾピラン−６−カルホキノアミト）
安息香酸メチルエステル。

前記で得た組成物を２ｍｆ２のエチルエーテルに溶かし
、３．４−ジアミノ安息香酸メチルエステル７２．５ｍ
１ｉ＋（０，４３ミリモル）、トリエチルアミン６１μ
Ｑの混合物を滴下する。

周囲温度で２時間撹拌後、水（２０ｍＣ）に溶かず。

エチルエーテル１０ｍＱで３回抽出し、有機相を飽和水
素ナトリウム溶液で洗浄し、硫酸マグネンウムで乾燥し
、濾過後濃縮ずろ。得られた残留物をシリカカラムクロ
マトフラフィー（溶離剤エーテル８０％およびヘキサン
２０％の混合物）に付す。

このようにして所望の生成物８２ｍｇ（５３％）をえる
。ｍｐ＋２１３℃。

（ｄ）２−（４，４−ジメチル−２，３−ジヒドロ−■
−ベベンピラン−６−イル）−５−ベンズイミダゾール
カルボン酸メチルエステル。

丸底フラスコに、前記で得たエステル（８２ｍｇ、０２
３ミリモル）、ｐ−トルエンスルホン酸−水和物４４ｍ
１（０，２３ミリモル）およびギシレン５ｍＱを入れる
。混合物を１時間還流上加熱し、２０℃に冷却し、シリ
カカラムクロマトフラフイ−（溶離剤−エーテル８０％
およびヘギサン２０％）を行う。

このようにして、２−（４，４−ジメチル−２゜３−ジ
ヒドロ−１−ベンゾピラン−６−イル）−５−ベンズイ
ミダゾールカルボン酸メチルエステル２０ｍ１ｉ（２６
％）を得る。ｍｐ：Ｉ　Ｉ　Ｏ〜Ｉ　１５℃。

（組成物の実施例） （Δ）経［１経路 製剤例１　　：　０．２ｇの錠剤 実施例４の化合物　　　　　　０．００＋１ｉ澱　　　
　粉　　　　　　　　　　　０．１１４ｇ燐酸二カルシ
ウム　　　　　０．０２０９ン　　リ　　ブノ　　　　
　　　　　　　　　　　０．０２０　ｇラクトース　　
　　　　　　０．０３０ｇタ　　ル　　り　　　　　　
　　　　　　　　　Ｑ、ＯＩ　　０９ステアリン酸マグ
ネノウム　０．００５９この製剤例において実施例４の
化合物の代わりに等量の実施例３４の化合物を用いるこ
とらできる。

製剤例２　０５ｇの錠剤、粉末形態 実施例１の化合物　　　　　０．００＋Ｉｌとうもろこ
し澱粉　　　　　０．１５０ｇステアリン酸マグネノウ
ム　０．２５０ｇしょ糖　　適量加えて合計　０．５０
０ｇ粉末をゼラチンおよび二酸化チタンを成分とするカ
プセルに調製する。この製剤例において、実施例１の化
合物の代わりに等量の実施例３５の化合物を用いること
もできる。

製剤例３　：懸濁液を含有する０゜／ＩＩ？のカプセル
実施例８の化合物　　　　　　　０．００５ｇグリセリ
ン　　　　　　　　　０．２００１？しょ糖　　　　　
　　　　　　　０．０５０ｇポリエヂレンングリコール
４００　０．０５０ｇ精製水　　　適量加えて合計　　
０．４００ｇこの懸濁液をゼラチン、グリセリン、二酸
化チタンおよび水を成分とするカプセルに調製する。こ
の製剤例において、実施例８の化合物の代わりに等量の
実施例３Ｉの化合物を用いることもできる。

−ＩＯ！） 製剤例４　・飲用懸濁液、５ｍρｍファンプル中例１つ
の化合物　　　　　　０．００１１？グリセリン　　　
　　　　　　　０．５００ｇソルヒトール（〜７０％）
　　　　　０．５００ｇ糖酸ナトリウム　　　　　　　
　０．０１０ｇバラヒドロキン安息香酸メチル　０．０
４０ｇ着香ｔ）　　　　　　　　　　　　　　適　量精
製水　　　適量加えて合計　　５．０００ｍ１２この製
剤例において、実施例１９の化合物の代わりに等量の実
施例３９の化合物を用いることもできる。

（Ｂ）局所経路 製剤例５　、軟膏 実施例４の化合物　　　　　　　　０．００１ｇステア
リルアルコール　　　　　３．０００９ラノリン　　　
　　　　　　　　　５．０００９ワセリン　　　　　　
　　　　　１５．０００１１蒸留水　　　適量加えて合
計１００．００（Ｊ９製剤例６　　油クリーム、非イオ
ン水中実施例２の化合物　　　　　　　０．０５０ｆ？
セヂルアルコール　　　　　　　３．ＯＯＯ＆ステアリ
ルアルコール　　　　　３．４００ｇ才ギンエチレン化
セチル アルコール（２０モル）　　　　　　０．６３Ｊオキン
エヂレン化ステアリル アルコール（２０モル）　　　　　　Ｉ　、／Ｉ　７０
ｆ／モノステアリン酸クリセロール　２．０００ｇワセ
リン１ｌｌｌ　　　　　　　　　　　　１５．ｏｏ０１
ｊグリセリン　　　　　　　　　ｔｏ、ｏｏｏｇ保存剤
　　　　　　　　　　　　　適　債蒸留水　　　適量加
えて合計１００．０００ｙこの製剤例において、実施例
２の化合物の代わりに等量の実施例３４の化合物を用い
てムよい。

製剤例７　軟膏 実施例Ｉの化合物　　　　　　　０．０２０ｇミリスヂ
ン酸イソプロピル　　８１．７００９流動ワセリン′Ａ
４（９，１００ｇ アエロノル（Δｅｒｏｓｉｌ）２００　　９　、　Ｉ　
８０ｇ（デグツザ社市販のノリ力） この製剤において、実施例１の化合物の代イつりに等１
１にの実施例３５の化合物を用いろことムできろ。

製剤例８　　油状クリーム、陰イオン水中実施例１４の
化合物　　　　　　０．０１　ｏｙｌ・デノル硫酸すト
リウム　　　　０．８０　ｏｙクリセロール　　　　　
　　　　２．０００ｇステアリルアルコール　　　　２
０．０００タミクリオール（Ｍ　１ｇ１ｙｏｌ） ８１２（グイナミット・ノー ベル″ｆ１市販のカプリン／ カプリル酸トリクリセリト）　　　２０．０００ｇ保存
剤　　　　　　　　　　　　適　量脱鉱物質水　　　　
　　　　　１０．０００ｇ製剤例９　　ゲル 実施例１９の化合物　　　　　　０．００５ｇクルセル
（Ｋ　Ｉｕｃｅｌ）　１１　Ｆ　　　　　　２　、　Ｏ
ＯＯｇ（エルギュール社市販のヒド ロキンプロピルセル［１−ス） 水／エタノール（５０：５０） 適量加えて合計　　１００．０００ｇ この製剤例において、実施例１９の化合物の代わりに筒
型の実施例３つの化合物を用いることもてきる。

製剤例ＩＯ、目薬 実施例１９の化合物＊　　　　００２５ｇＮａｐ　　Ｈ
ＰＯ４、Ｏ，ＩＭ　　　　８０．０００！７Ｎａ、ＰＯ
，、Ｏ，１Ｍ　　　　２０．０００ｇ＊この化合物の粒
子の１００％が直径２５ミクロン以下でなくてはならな
い。

この目薬はｐＨ＝７．４（涙液のｐ＋−１）のけんたく
液であり、涙に対して等張性である。

適当なアンプルに調製後、ツソ剤を減菌する。この製品
は使用前に強く振らな（Ｊれげならない。

特許出願人　サンドル・アンテルナンヨナル・ド・ルン
エルンユ・デルマトロジソク ・セイエールデ。

Claims (17)

【特許請求の範囲】
1. （１）下記一般式： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 〔式中、 Ｒ＿１は、（ｉ）−ＣＨ＿３ （ｉｉ）−ＣＨ＿２ＯＨ （ｉｉｉ）▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿３は、水素原子、基−ＯＲ＿４（ここでＲ
   ＿４は水素原子、１〜２０個の炭素原子を有するアルキ
   ル基、モノもしくはポリヒドロキシアルキル基であるか
   、または Ｒ＿３は、基▲数式、化学式、表等があります▼（ここ
   で、ｒ′およびＲ″は水素原子、低級アルキル基または
   一緒になって複素環を形成する） を表す） を表し、 Ｒ＿２は、水素原子または基−ＣＨ＿３を表し、Ａｒは
   、下式： （ａ）▲数式、化学式、表等があります▼（Ａ） （ｂ）▲数式、化学式、表等があります▼（Ｂ） （式中、ＺはＯまたはＳである） （ｃ）▲数式、化学式、表等があります▼（Ｃ） （式中、Ｒ＿５は、低級アルキル基を表す）および、 （ｄ）▲数式、化学式、表等があります▼（Ｄ） （式中、Ｒ＿６は、水素原子または１〜１０個の炭素原
   子を有するアルキル基を表し、Ｒ＿７は、４〜１２個の
   炭素原子を有する分枝状アルキル基またはシクロアルキ
   ル基を表す） で示される対応する芳香族基を表し、 Ｙは、ＣＨまたは窒素原子を表し、 Ｘは、酸素原子、硫黄原子または基−Ｎ−Ｒ＿８（ここ
   で、Ｒ＿８は、水素原子、低級アルキル基、低級アルコ
   キシカルボニル基を表す）を表すが、ただし、ＹがＣＨ
   を表し、Ｘが酸素または硫黄原子を表す場合、Ａｒは式
   （Ｃ）（ここでＲ＿５＝−ＣＨ＿３）で示される基以外
   のものであり、またＹが窒素原子でＸが酸素原子を表す
   場合、Ａｒは式（Ｃ）または式（Ｄ）（ここでＲ＿６は
   １〜４個の炭素原子を有するアルキル基を表し、Ｒ＿７
   は炭素原子４〜１２個を有する分枝状アルキル基を表す
   ）で示される基以外のものである〕 に対応することを特徴とする、芳香族複素環化合物。
2. （２）低級アルキル基が１〜６個の炭素原子を有する基
   であり、メチル、エチル、イソプロピル、ブチルおよび
   第３級ブチル基からなる群から選ばれることを特徴とす
   る、特許請求の範囲第１項記載の化合物。
3. （３）低級モノヒドロキシアルキル基が２または３個の
   炭素原子を有する基であり、２−ヒドロキシエチルおよ
   び２−ヒドロキシプロピル基からなる群から選ばれるこ
   と、ならびにポリヒドロキシアルキル基がグリセロール
   、ペンタエリスリトールまたはマンニトールから誘導さ
   れた基であることを特徴とする、特許請求の範囲第１項
   記載の化合物。
4. （４）低級アルコキシカルボニル基がメトキシカルボニ
   ル、エトキシカルボニル、イソプロポキシカルボニルま
   たは第３級ブトキシカルボニル基であることを特徴とす
   る特許請求の範囲第１項記載の化合物。
5. （５）基ｒ′およびｒ″が一緒になって、ピペリジノ、
   ピペラジノ、モルホリノまたはピロリジノ基からなる群
   から選ばれる複素環を形成することを特徴とする、特許
   請求の範囲第１項記載の化合物。
6. （６）シクロアルキル基が、シクロヘキシル、１−メチ
   ルシクロヘキシルまたはアダマンチル基であることを特
   徴とする、特許請求の範囲第１項記載の化合物。
7. （７）下式： ▲数式、化学式、表等があります▼（II） 〔式中、 Ｒ＿１は、−ＣＨ＿２ＯＨまたは▲数式、化学式、表等
   があります▼ （式中、Ｒ＿３は、−ＯＲ＿４または▲数式、化学式、
   表等があります▼（ここで、Ｒ＿４は、水素原子、基−
   ＣＨ＿３または−ＣＨ＿２ＣＨ＿２ＯＨを表し、ｒ′お
   よびｒ″は同一または異なって水素原子、低級アルキル
   基または一緒になってモルホリノ環を形成する）を表す
   ） を表し、 Ｙは、ＣＨまたは窒素原子を表し、 Ｘは、硫黄原子、酸素原子またはＮ−Ｒ＿８（ここでＲ
   ＿８は、水素原子、−ＣＨ＿３基または−ＣＯ＿２第３
   級ブチル基である）を表す〕 で示されることを特徴とする、特許請求の範囲第１〜６
   項のいずれか１項記載の化合物。
8. （８）下式： ▲数式、化学式、表等があります▼（III） 〔式中、 Ｒ＿４は、水素原子または−ＣＨ＿３基を表し、Ｙは、
   ＣＨまたは窒素原子を表し、 Ｘは、硫黄原子、酸素原子またはＮ−Ｒ＿６（ここでＲ
   ＿６は、水素原子または−ＣＯ＿２第３級ブチル基であ
   る）を表す〕 で示されることを特徴とする、特許請求の範囲第１〜６
   項のいずれか１項記載の化合物。
9. （９）下式： ▲数式、化学式、表等があります▼（IV） 〔式中、 Ｒ＿４は、水素原子または基−ＣＨ＿３を表し、Ｒ＿６
   は、基−ＣＨ＿３またはＣ＿１＿ＯＨ＿２＿１を表し、
   Ｒ＿７は、第３級ブチル、１，１−ジメチルデシルまた
   はアダマンチル基を表し、 Ｙは、ＣＨまたは窒素原子を表し、 Ｘは、硫黄原子、酸素原子またはＮ−Ｒ＿８（ここでＲ
   ＿８は水素原子である）を表す〕 で示されるとを特徴とする、特許請求の範囲第１〜６項
   のいずれか１項記載の化合物。
10. （１０） ２−（ｐ−ｔ−ブチルフェニル）−６−ベンゾ（ｂ）チ
    オフェンカルボン酸メチル、 ２−（ｐ−ｔ−ブチルフェニル）−６−ベンゾ（ｂ）チ
    オフェンカルボン酸、 ２−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８，８
    −テトラメチル２−ナフチル）−６−ベンゾ（ｂ）チオ
    フェンカルボン酸メチル、 ２−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８，８
    −テトラメチルー２−ナフチル）−６−ベンゾ（ｂ）チ
    オフェンカルボン酸、 ２−（ｐ−ｔ−ブチルフェニル）−ベンゾ（ｂ）フラン
    カルボン酸メチル、 ２−（ｐ−ｔ−ブチルフェニル）−ベンゾ（ｂ）フラン
    カルボン酸、 ２−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８，８
    −テトラメチル−２−ナフチル）−６−ベンゾ（ｂ）フ
    ランカルボン酸メチル、 ２−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８，８
    −テトラメチル−２−ナフチル）−６−ベンゾ（ｂ）フ
    ランカルボン酸、 １−ｔ−ブトキシカルボニル−２−（ｐ−ｔ−ブチルフ
    ェニル）−６−インドールカルボン酸メチル、２−（ｐ
    −ｔ−ブチルフェニル）−６−インドールカルボン酸、 １−ｔ−ブトキシカルボニル−２−（５，６，７，８−
    テトラヒドロ−５，５，８，８−テトラメチル−２−ナ
    フチル）−６−インドールカルボン酸メチル、 ２−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８，８
    −テトラメチル−２−ナフチル）−６−インドールカル
    ボン酸メチル、２−（５，６，７，８−テトラヒドロ−
    ５，５，８，８−テトラメチル−２−ナフチル）−６−
    インドールカルボン酸、 １−メチル−２−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５
    ，５，８，８−テトラメチル−２−ナフチル）−６−イ
    ンドールカルボン酸メチル、 １−メチル−２−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５
    ，５，８，８−テトラメチル−２−ナフチル）−６−イ
    ンドールカルボン酸、 ２−（ｐ−ｔ−ブチルフェニル）−５−ベンズイミダゾ
    ールカルボン酸メチル、 ２−（ｐ−ｔ−ブチルフェニル）−５−ベンズイミダゾ
    ールカルボン酸、 ２−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８，８
    −テトラメチル−２−ナフチル）−ベンズイミダゾール
    カルボン酸メチル、 ２−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８，８
    −テトラメチル−２−ナフチル）−ベンズイミダゾール
    カルボン酸、 ２−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８，８
    −テトラメチル−２−ナフチル）−６−ベンズオキサゾ
    ールカルボン酸メチル、 ２−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８，８
    −テトラメチル−２−ナフチル）−６−ベンズオキサゾ
    ールカルボン酸、 ２−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８，８
    −テトラメチル−２−ナフチル）−６−ベンズオキサゾ
    ールカルボン酸モルホリド、 ２−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８，８
    −テトラメチル−２−ナフチル）−６−ベンズオキサゾ
    ールカルボン酸エチルアミド、 ２−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８，８
    −テトラメチル−２−ナフチル）−６−ベンズオキサゾ
    ールカルボン酸・２−ヒドロキシエチルエステル、 ２−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８，８
    −テトラメチル−２−ナフチル）−６−ベンズオキサゾ
    リルメチルアルコ−ル、 ２−〔３−（１−アダマンチル）−４−メトキシフェニ
    ル〕−５−ベンズイミダゾールカルボン酸メチルエステ
    ル、 ２−〔３−（１−アダマンチル）−４−メトキシフェニ
    ル〕−６−ベンズオキサゾールカルボン酸メチルエステ
    ル、 ２−〔３−（１−アダマンチル）−４−メトキシフェニ
    ル〕−６−ベンズオキサゾールカルボン酸、２−〔３−
    （１−アダマンチル）−４−デシルオキシフェニル〕−
    ６−ベンズオキサゾールカルボン酸メチルエステル、 ２−〔３−（１−アダマンチル）−４−デシルオキシフ
    ェニル〕−６−ベンズオキサゾールカルボン酸、 ２−〔３−（１−アダマンチル）−４−メトキシフェニ
    ル〕−６−ベンゾ（ｂ）フランカルボン酸メチルエステ
    ル、 ２−〔３−（１−アダマンチル）−４−メトキシフェニ
    ル〕−６−ベンゾ（ｂ）フランカルボン酸、２−〔３−
    （１−アダマンチル）−４−メトキシフェニル〕−６−
    ベンゾ（ｂ）チオフェンカルボン酸メチルエステル、 ２−〔３−（１−アダマンチル）−４−メトキシフェニ
    ル〕−６−ベンゾ（ｂ）チオフェンカルボン酸、 ２−（３−ｔ−ブチル−４−メトキシフェニル）−６−
    ベンゾ（ｂ）フランカルボン酸メチルエステル、 ２−（３−ｔ−ブチル−４−メトキシフェニル）−６−
    ベンゾ（ｂ）フランカルボン酸、 ２−〔３−（１，１−ジメチルデシル）−４−メトキシ
    フェニル〕−６−ベンゾ（ｂ）フランカルボン酸メチル
    エステル、 ２−〔３−（１，１−ジメチルデシル）−４−メトキシ
    フェニル〕−６−ベンゾ（ｂ）フランカルボン酸、 ２−〔３−（１−アダマンチル）−４−メトキシフェニ
    ル〕−５−ベンズイミダゾールカルボン酸、２−〔３−
    （１−アダマンチル）−４−ヒドロキシフェニル〕−５
    −ベンズイミダゾールカルボン酸メチルエステル、 ２−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８，８
    −テトラメチル−２−ナフチル）−６−ベンゾチアゾー
    ルカルボン酸メチルエステル、 ２−（５，６，７，８−テトラヒドロ−５，５，８，８
    −テトラメチル−２−ナフチル）−６−ベンゾチアゾー
    ルカルボン酸および ２−（４，４−ジメチル−２，３−ジヒドロ−１−ベン
    ゾピラン−６−イル）−５−ベンズイミダゾールカルボ
    ン酸メチルエステル からなる群から選ばれることを特徴とする、特許請求の
    範囲第１〜９項のいずれか１項記載の化合物。
11. （１１）特許請求の範囲第１〜１０項のいずれか１項記
    載の式（ I ）で示される化合物であることを特徴とす
    る薬剤。
12. （１２）約２ｍｇ〜２μｇ／ｋｇ（体重）の１日用量で
    投与することを特徴とする、特許請求の範囲第１１項記
    載の薬剤。
13. （１３）少なくとも特許請求の範囲第１〜１０項のいず
    れか１項記載の式（ I ）で示される化合物を、腸溶、
    腸管外、局所投与または点眼するために適当な担体中に
    含むことを特徴とする医薬組成物。
14. （１４）局所適用に適した形態で存在し、式（ I ）の
    化合物を０．０００５〜約５重量％含有することを特徴
    とする、特許請求の範囲第１３項記載の組成物。
15. （１５）皮膚，リウマチ性，呼吸器系および眼の疾病の
    処置における、特許請求の範囲第１１および１２項記載
    の薬剤または特許請求の範囲第１３および１４項のいず
    れか１項に記載の医薬組成物の適用。
16. （１６）少なくとも特許請求の範囲第１〜１０項のいず
    れか１項記載の式（ I ）で示される化合物を適当な化
    粧用担体中に含むことを特徴とする、体および毛髪の衛
    生用化粧組成物。
17. （１７）式（ I ）の化合物を０．０００５ないし２重
    量％、好ましくは０．０１ないし１重量％の濃度で含有
    することを特徴とする、特許請求の範囲第１６項記載の
    化粧組成物。