JPS61194040A - 不飽和脂環式誘導体、その治療および化粧用途 - Google Patents

Abstract

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め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［技術分野］ この発明は、新規不飽和脂環式誘導体、その製造方法お
よびその治療および化粧用途に関する。

［発明の記載コ この発明による新規不飽和脂環式誘導体は、角質化（分
化−増殖）異常に関係する皮膚疾患または炎症性および
／または免疫アレルギー要因による皮膚疾患の局所およ
び全身処置および結合組織の変質疾患の処置における活
性および抗腫傷活性ならびに眼科領域における角膜疾患
の処置に活性を呈することがわかった。

同様にこれらの新規化合物は、化粧組成物の活性成分ま
たは主成分としての適用性も有する。

この発明による不飽和脂環式誘導体は、下式：Ｒ３−Ｒ
７は、同一または異なって、水素原子または低級アルキ
ル基を表わし、 Ｒ，は、基−Ｃ＝Ｎ、オキサゾリニル基または下式： ％式％ （式中、 Ｒ８は、水素原子、低級アルキル基、シクロペンチル基
、シクロヘキシル基、モノもしくはポリヒドロキシアル
キル基またはテトラヒドロピラニル基を表わし、 Ｒ１０は、水素原子、低級アルキル基、−ＯＲ，。

基または基−ｒ−ｒ’（式中・ｒｏおよｒ”は・同一ま
たは異なって、水素原子、直鎖状もしくは分枝状アルキ
ル、モノもしくはポリヒドロキシアルキル基、アルケニ
ル基、シクロペンチルもしくはシクロヘキシル基、場合
により置換されたアリールもしくはアラルキル基または
一緒になって複素環を形成するか、またはｒｏは水素原
子を表わし、ｒ”はアミノ酸もしくはグルコサミンの残
基を表わし、ｒ”はアミノ酸もしくはグルコサミンの残
基を表わし、 ａｌｌは、水素原子、アルキル基、低級モノもしくはポ
リヒドロキシアルキル基または糖の残基を表わす） を表わす） で表わされる化合物のうち一方に対応する基を表わし、 Ｚは、場合により置換された、炭素原子８〜１２個を有
する飽和モノ脂環式基の残基または二もしくは三環式基
を表わすが、ただしＺ基はカルボニル官能基を含まない
ものとし、 ａおよびｅは、０、ｌまたは２、ｂＳｃおよびｄは０ま
たはｌであり、 ａ＋ｃ＋ｅ≧１およびｂおよび／またはｄ＝１である］ で示され得、式（Ｉ）で示される前記化合物の幾何およ
び光学異性体およびその塩も含まれる。

この発明の場合、アルキル基としては、１〜１８個の炭
素原子を有する基、すなわちメチル、エチル、プロピル
、２−エチルヘキシル、オクチル、ドデシル、ヘキサデ
シル、オクタデシルが挙げられる。

低級アルキル基としては、１〜４個の炭素原子を有する
基、すなわちメチル、エチル、イソプロピル、ブチルお
よびｔ−ブチルが挙げられる。

基Ｒ＋　’＝　Ｒ？が低級アルキル基を表す場合、好ま
しくはメチル基である。

アリール基としては、場合により塩素、臭素もしくはふ
っ素のようなハロゲン原子、ヒドロキシまたは低級アル
コキシ、好ましくはメトキシ、エトキシもしくはイソプ
ロポキシにより置換（複数でもよい）されたフェニル基
が挙げられる。

アラルキル基としては、場合１こよりヒドロキシまたは
低級アルコキシにより置換された、ベンジル基およびフ
ェネチル基が挙げられる。

アルケニル基としては、炭素原子２〜１８個、好ましく
は３〜６個を有する不飽和基、すなわちプロペニル、ブ
テニルおよびイソペンテニル基が挙げられる。

低級モノヒドロキシアルキル基としては、２〜３個の炭
素原子を有する基、すなわち２−ヒドロキシエチルおよ
び２−ヒドロキシプロピルが挙げられる。

ポリヒドロキシアルキル基としては、３〜６個の炭素原
子および２〜５個のヒドロキシ基を有する基、すなわち
２．３−ジヒドロキシプロピル、２．３．４−トリヒド
ロキシブチル、２，３，４．５−テトラヒドロキシペン
チル基およびペンタエリスリトール残基が挙げられる。

基ｒ′およびｒ″が一緒になって複素環を形成する場合
、ピペリジノ、ピペラジノ、モルホリノ、ピロリジノま
たは４−（２−ヒドロキシエチル）ピペラジノであり得
る。

「糖の残基」という表現は、グルコース、マンニトール
、エリスリトールまたはガラクトースのような糖から誘
導された基を包含する。

この発明によると、基Ｚは好ましくはノルボルナン、２
．２−ジメチルノルボルナン、アダマンタンおよびシク
ロドデカンの誘導脂環式残基である。

この発明による化合物が塩形で存在するとき、少なくと
も１個の遊離酸官能基を含む場合亜鉛、アルカリ金属も
しくはアルカリ土類金属塩または有機アミン塩が問題と
なり、また少なくとも１個のアミン官能基を含む場合鉱
酸もしくは有機酸塩すなわち塩酸塩、臭化水素酸塩また
はクエン酸塩が問題となる。

この発明による特に好ましい式（１）の化合物としては
、下式： ［式中、 ！（、およびＲ５は水素原子を表し、 Ｉｔｔは水素原子または低級アルキルＪ１１を表し、ｒ
ｔａは基−腎−１’ｔ、、を表し、 ｒｔｔｏはＯＲ５，または−Ｎ　−ｒ’を表し、ｌ。

「 Ｒｏは水素原子、アルキル法または低級ヒドロ：！ｂ　
Ｓ／　？　＋Ｉ、Ａ　＋しＥＭ　ｋ、ハ　　　ｒ’　十
武十ｒド、＋＋けｙｋ　’Ｉ：　［−７−＝Ｆたは低級
アルキル基を表し、 Ｚはノルボルナン、２．２−ジメチルノルボルナンまた
はアダマンクンの誘導脂環式残基を表ず］”Ｉ　　　　
　　　（ＺＸり ［式中、 Ｒ１、Ｒ６、Ｒ６、Ｒ１およびｎ”ｔは水素原子を表し
、 Ｒ４は低級アルキル基を表し、 Ｒ′。は水素原子または低級アルキル基を表し、ｉｔ、
は基ニーｇ−Ｏｒｔｌｏを表し、Ｉ也＋ｕは−ＯＲｔ　
＋または兇−ｒｏを表し、ｎ　ｌｒは水素原子、アルキ
ル基、低級ヒドロキシアルキル基を表し、 ｒｏは水素原子を表し、ｒ”は低級アルキル基またはア
ミノ酸残基を表し、 Ｚはノルボルナン、アダマンタンまたはシクロドデカン
誘導脂環式残基を表し、 Ｃは０または１である］ （Ｃ） ［式中、 ＩＺ、および１１５は水素原子を表し、Ｒ４は低級アル
キル基を表し、 Ｒ１１は水素原子、アルキル基または低級ヒト【１キシ
アルキル基を表し、 Ｚはアダマンタンの誘導脂璋式基を表すコ［式中、 Ｒ＋１Ｒｔ、Ｒ３およびＲｓ’は水素原子を表し、Ｒ″
、は低級アルキル基を表し、 ａｌｌは水素原子、アルキル基または低級ヒドロキシア
ルキル基を表し、 Ｚは２．２−ジメチルノルボルナン誘導脂環式残基を表
わすコ で示される化合物が挙げられる。

式（１）の化合物としては、下記化合物が挙げられる： （１）　　３−［３−（４’−メトキシカルボニルフェ
ニル）−２−プロペン］イリデンー２．２−ジメチルノ
ルボルナン （２）３−［３−（４’−カルボキシフェニル）−２−
プロペン］イリデンー２．２−ジメチルノルボルナン （３）２−［３−（４°−メトキシカルボニルフェニル
）−２−メチル−２−プロペン］イリデンアダマンタン （４）２−［３−（４°−カルボキシフェニル）−２−
メチル−２−プロペンコイリデンアダマンタン（５）２
−［３−（４’−メトキシカルボニルフェニル）−２−
メチル−２−プロペンコイリデンノルボルナン （８）２−［３−（４°−カルボキシフェニル）−２＝
メチル−２−プロペンコイリデンノルボルナン（７）２
−［４°−（４−エトキシカルボニル−３−メチル−１
，３−ブタジェン）イル］ベンジリデンアダマンタン （８）２−［４°−（４−カルボキシ−３−メチル＝１
゜３−ブタジェン）イルコベンジリデンアダマンタン（
９）２−［４°−（４−エトキシカルボニル−３−メチ
ル−１，３−ブタジェン）イルコベンジリデソノルボル
ナン （１０）　２−　［４°−（４−カルボキシ−３−メチ
ル−１，３−ブタジェン）イルコベンジリデンノルボル
ナン （ｌＤ２−［ａ−（４°−Ｎ−エチルアミノカルボニル
フェニル）］−］２−メチルー２−プロペンコイリデン
アダマンタ ン２）４°−（４−エトキシカルボニル−３−メチル−
１，３−ブタジェン）イルベンジリデンシクロドデカン （１３）４°−（４−カルボキシ−３−メチル−Ｌ、３
−ブタジェン）イルベンジリデンシクロドデカン（１４
）　２−　［４’　−（６−ニトキシカルボニルー１．
５−ジメチル−１，３，５−ヘキサトリエン）イル］ベ
ンジリデンアダマンクン （１５）　２−　［４°−（６−カルボキシ−１，５−
ジメチル−１，３，５−ヘキサトリエン）イルコベンジ
リデンアダマンタン （１６）　２−　［３−（４°−エトキシカルボニルフ
ェニル）−２−プロペン］ベンジリデンアダマンクン（
１７）　２−　［３−（４°−カルボキシフェニル）−
２−プロペン］ベンジリデンアダマンタン （１８）３−［５−（４°−メトキシカルボニルフェニ
ル）−４−メチル−２，４−ペンタジエンコイリデン−
２，２−ジメチルノルボルナン （１９）３−［５−（４’−カルボキシフェニル）−４
−メチル−２，４−ペンタジェンコイリチン−２，２−
ジメチルノルボルナン （２０）　２−　［４°−（４−エチルアミノカルボニ
ル−３−メチル−１，３−ブタジェン）イル］ベンジリ
デンアダマンタン （２１）２−［４’−（４−（２−エチル）へキシルア
ミノカルボニル−３−メチル−１，３−ブタジェン）イ
ル］ベンジリデンアダマンタン （２２）　２−　［４°−（４−（ジー０−１．２，３
．４−イソプロピリデン）−Ｄ−ガラクトピラノシルオ
キシ−３−メチル−１，３−ブタジェン）イルコベンジ
リデンアダマンタン （２３）２−［４’−（４−エトキシカルボニル−１，
３−ブタジェン）イル］ベンジリデンアダマンタン（２
４）　２−　［４”−（４−カルボキシ−１，３−ブタ
ジェン）イルコベンジリデンアダマンクン（２５）　２
−　［４°−（４−（１−エトキシカルボニル−３−メ
チルチオ）プロピルアミノカルボニル−３−メチル−１
，３−ブタジェン）イル］ベンジリデンアダマンタン （２６）３−［３−（４’−エチルアミノカルボニルフ
ェニル）−２−プロペン］イリデンー２．２−ジメチル
ノルボルナン。

式（１）の化合物を得るための様々な合成方法がある。

これらの方法は下記のものである。

八−第１方法 この方法は、式（１）の化合物を式（２）と縮合するこ
とからなる。

この方法によると、式（２）の化合物の様々な基は、一
般式（Ｉ）に関して前述した意味を有するが、Ｒ６は、
　ＣＲｈｏ（Ｒｈｏは、水素原子またはアルキルを表す
）ではあり得ない。

Ａ、は、式：　　−Ｐ［Ｘ］！”　Ｙ−（式中、Ｘはア
リール、Ｙは有機または無機酸のアニオンである）で示
されるトリアリールホスホニウム基または式ニーｐ［ｚ
ｌｔ（式中、Ｚはアルコキシである）で示さ↓ れるジアルコキシホスフィニル基を表す。

Ａ１が−Ｐ［Ｘ］３″″Ｙ−を表す場合、縮合はナトリ
ウムメチレートのようなアルカリ金属アルコレートの存
在下または場合によってアルキル基により置換された酸
化アルキレンの存在下、メチレンクロライドまたはジメ
チルホルムアミドのような溶媒中で行われる。反応温度
は、周囲温度ないし反応混合物の沸点温度の範囲内であ
る。

Ａ、が−ｐ　［ｚｌｔを表す場合、縮合は、塩基の存在
下および好ましくは不活性有機溶媒の存在下、例えばベ
ンゼン、トルエン、ジメチルホルムアミド、テトラヒド
ロフラン、ジオキサンまたはｌ。

２−ジメトキシエタン中Ｎａ水素化物により、または同
様にアルコレート、例えばメタノール中ナトリウムメチ
レートにより、０℃ないし反応混合物の沸点の温度範囲
内で行われる。綜合は、同様にテトラヒドロフランのよ
うな有機溶媒中水酸化カリまたはソーダのような無機塩
基を用いて実施され得る。反応混合物に前記塩基中に含
まれる金属カチオンを錯体化し易い環状エーテルを加え
ると、これの解離度を増加することができる。この方法
は特に式（■）の化合物の合成に適している。

Ｋ３−第２方法 この方法は、式（３）の化合物を式（４）の化合物と縮
合することからなる。

（丘） この方法によると、式（３）および（４）の化合物の様
々な基は一般式（１）に関して定義された意味を有し得
るが、Ｒｓは、　ＣＲｔ。（式中、Ｒ３゜は水素原子ま
たはアルキル基を表す）では有り得ない。

式（３）または（４）において、ＡまたはＢはオキソ基
を表し、他は式ニーＰ［Ｘ］３”　Ｙ−で示されるトリ
アリールホスホニウム基または式ニーＰ［Ｚｂ↓ で示されるジアルコキシホスフィニル括を表し、Ｘ、Ｙ
およびＺは第１方法の場合と同意義を何する。

縮合の反応条件は、Δおよび１３の意義に応じ、第１方
法で既述し）こらのと同じである。

Ｃ−第３方法 この方法は、一般式（５）の化合物と一般式（６）の（
旦） この方法によると、式（５）および（６）の化合物の様
々な基は、一般式（１）に関して記載した意義を有し得
るが、Ｒ，は−Ｃ−Ｒｔ。（Ｉｔ、。は水素原子または
アルキルを表す）ではあり得ない。

式（５）または（６）の一方において、ＡまたはＢはオ
キソＪｏｌｔを表し、他は式−ｔ）［ｘｌａ”ｙ−で示
されるトリアリールホスホニウム基または式ニーｐ［ｚ
］ｔで示されるジアルコキシホスフィニル↓ 基を表し、ｘ、ｙおよびＺは前記と同意義である。

縮合の反応条件は、ＡおよびＢの意義に応じ、第１方法
で記載したものと同じである。

この方法は、特に式（ＩＩＩ）および（ＩＶ）の化合物
の製造に適している。

前述の方法により得られた化合物の場合、置換基Ｒ８の
官能性修飾、例えば、カルボン酸エステルの鹸化または
ヒドロキシメチル基へのカルボン酸エステル基の還元が
なされる。ヒドロキシメチル基も同様にホルミル基へ酸
化されるか、またはエステル化またはエーテル化される
。他方、カルボキシ基は、塩、エステル、アミド、アル
コール、アセチル基または対応する酸塩化物に変換され
得る。カルボン酸エステル基は、アセチル基に変換され
得る。アセチル基は還元により第２アルコール基に変換
され得、第２アルコール基はそれ自体アルキルまたはア
シル化され得る。これらの官能性修飾はすべて、自体公
知の操作方法により実施され得る。

式（１）の化合物は、シス／トランス混合物の状態で得
られ、これらは自体公知の方法でシスおよびトランス化
合物に分離されまたは完全なトランス化合物に異性化さ
れ得る。

同様にこの発明は下式 ％式％ Ｅ式中、 Ｒ１は水素原子を表し、 Ｒ１は−ＣＩ−１、ＯＨまたは基−Ｃ−Ｒｌｏを表し、
ＲＩＧは水素原子、低級アルキル基または基−０−Ｒ１
，（式中、ａｌｌは水素原子またはアルキル基を表す）
を表し、 Ｚはアダマンタン、ノルボルナンまたはシクロドデカン
誘導脂環式残基を表す］ で示される合成用中間体生成物を目的とするものである
。

前記式（Ｖｌ）の化合物としては、次のものが挙げられ
る： ２−（４’−エトキシカルボニル）ベンジリデンアダマ
ンタン、 ２−（４°−カルボキシ）ベンジリデンアダマンタン、 ２−（４°−ホルミル）ベンジリデンアダマンタン、２
−（４°−エトキシカルボニル）ベンジリデンノルボル
ナン、 ２−（４’−ホルミル）ベンジリデンノルボルナン、２
−（４’−エトキシカルボニル）ベンジリデンシクロド
デカン、 ２−（４°−ヒドロキシメチル）ベンジリデンシクロド
デカン、 ２−（４°−ホルミル）ベンジリデンシクロドデカン、 ２−（４°−メトキシカルボニル）ベンジリデンアダマ
ンタン。

これらの化合物はさらに日焼けどめ組成物の活性成分ま
たは主成分として化粧領域で適用される中間体でもある
。

この発明によると、式（Ｉ）の化合物は特に角質化（分
化−増殖）異常に関係する皮膚疾患および炎症性および
／または免疫アレルギー要因に関係する他の皮膚疾患の
処置、すなわち一般的面ぼう性または多形性ざ癒、老人
性・日焼けざ癒、および薬物によるざ癒または職業性ざ
癒、広がりのあるおよび／または重症の乾癖状態、およ
び角質化の他の障害、および特に魚鱗癖および魚鱗癖形
症状、ダリエ病、手の平−足の裏におけるたこ、白板症
および白板形症状、苔癖変形、良性または悪性、重症ま
たは広がりのあるあらゆる皮膚増殖の処置に有用である
。同様に乾癖性リウマチに対する活性も示す。同様にこ
れらの化合物は、眼科領域における特に角膜の処置およ
び皮膚または呼吸器系のアトピーの処置に適している。

したがって、この発明は式（Ｉ）の化合物を含有する医
薬組成物をもたらす。

したがって、この発明はまた、医薬として許容される担
体中に少なくとも上記式（１）の化合物および／または
その異性体および／またはその塩類の１種を含有するこ
とを特徴とする、上記疾患の処置に特に適した新規医薬
組成物をも目的とするものである。

この発明の化合物では、極めて高度の希釈率においても
良好な活性が見られる。すなわち、有効成分を約０．０
００５〜２重量％の濃度範囲で用いることができる。勿
論、特定の治療用途に対して必要な場合にはそれ以上の
濃度でも用い得る。

しかし、好ましい有効成分濃度は０．０１〜１重量％で
ある。

この発明の化合物を局所用に用いる場合、軟膏、ゲル、
クリーム、ポマード、粉末、チンク剤、液剤、懸濁剤、
乳剤、ローション、スプレィ、タンブル（ｔ　ｉｍｂｒ
ｅ）または湿潤タンポンの形で適用する。

この発明による化合物を、局所処置に適した、一般に液
体またはパテのような非毒性不活性媒体と混合する。

活性物質約０．０１−０．３重量％を含む溶液および活
性物質約０．０２−０．５重量％を含むクリームの形で
有利に用いることができる。

この発明による化合物は腸溶経路で使用され得る。経口
経路の場合、この発明の化合物を１日当たり体重１＆９
につき約２μｇ〜２ｊ１９の割合で投与する。過剰量を
投与すると、徴候を認め得るビタミンＡ過剰症の症状が
現れる。必要量を１回または複数回の摂取で投与すべき
である。経口経路で投与する場合、適当な網形は、例え
ば錠剤、カプセル、糖衣錠、シロップ、懸濁液、乳液、
溶液、散剤、顆粒である。好ましい投与方法は、活性物
質０　、１　ｍｇ〜約１１９を含有するカプセルを使用
することからなる。

同様にこの発明による化合物は、持続注入または静脈も
しくは筋肉注射用の溶液または懸濁液の形で非経口投与
され得る。この場合、この発明の化合物を１日当たり体
重１＆９につき約２μ９〜２１９の割合で投与する。好
ましい投与方法は、１ｘＱ当たり活性物質約０．０１ｊ
１９〜ｌＲ９を含有する溶液または懸濁液を用いること
からなる。

許容される医薬用媒体には、水、ゼラチン、ラクトース
、澱粉、タルク、ワセリン、アラビアゴム、ポリアルキ
レングリコールまたはステアリン酸マグネシウムがある
。錠剤、散剤、糖衣錠、顆粒またはカプセルは、結合剤
、増量剤、粉末媒体を含有し得る。溶液、クリーム、懸
濁液、乳液またはシロップは、希釈剤、溶剤、濃化剤を
含有し得る。

角質化異常の処置の場合、前記医薬組成物に用いられる
この発明の化合物は、非粘着細胞のろ胞産生増進、移行
およびざ衝面ぼうの内容物の排出に役立つ。これらの化
合物は皮脂腺の切り込みを減らし、部分的に皮脂の分泌
を抑制する。

したがって、この発明による化合物は、溶液または分散
剤の形（目薬）で点眼され得る。

同様にこの発明による式（１）の化合物は、化粧領域特
に体および毛髪の衛生および特にざ癒傾向のある皮膚、
脂漏および頭髪脱毛の処置および毛髪再生ならびに生理
学的に乾燥した皮膚の処置において適用性を有する。

したがって、この発明は、許容される化粧用媒体中に少
なくとも式（Ｉ）の化合物および／またはその異性体お
よび／またはその塩を含有することを特徴とする、新規
化粧用組成物を目的とするものである。これらの組成物
はローション、ゲル、クリーム、石鹸、シャンプーまた
はこれらの類似物の形を呈する。

化粧用組成物中の式（１）の化合物の濃度は、組成物の
全重量の０．０００５〜２重量％好ましくは０．０１〜
１重量％の割合である。

この発明の組成物は、不活性な添加剤または同時に薬効
もしくは化粧成分および特に尿素、チアモルホリンおよ
びその誘導体のような水和剤、Ｓ−カルボキシメチル−
システィン、Ｓ−ベンジル−システアミン、その塩およ
び誘導体、チオキソロンまたは過酸化ベンゾイルのよう
な抗脂漏剤、エリスロマイシンおよびそのエステル、ネ
オマイシン、テトラサイクリンまたは４，５−ポリメチ
レンイソチアゾリノンのような抗生物質、「ミノキシジ
ル（Ｍ　１ｎｏｘｉｄｉｌ）Ｊ（２、４−ジアミノ−６
−ビペリジノー３−ピリミジンオキシド）およびその誘
導体、ジアゾキシド（Ｄ　１ａｚｏｘｉｄｅ）（３−ク
ロロメチル−１，２，４−ベンゾチアジアジン−１゜１
−ジオキシド）およびフヱニトイン（Ｐ　ｈｅｎｙｔｏ
ｉｎ）（５，５−ジフェニル−２，４−イミダゾリジン
ジオン）のような頭髪再生助剤、ステロイド系および非
ステロイド系抗炎症剤、カロチノイドおよび特にβ−カ
ロチン、並びにアントラリンおよｑその誘導体、５，８
，１１．１４−エイコサテトライン酸および５　、８．
１１−エイコサトリツイン酸、そのエステルおよびその
アミドのような抗乾癖剤を含有し得る。

同様にこの発明による組成物は、呈味改良剤、保存剤、
安定剤、湿潤調節剤、ｐＨ調節剤、浸透圧修正剤、乳化
剤、ＵＶ−ＢおよびＵＶ−Ａフィルター、抗酸化剤例え
ばα−トコフェロール、ブチルヒドロキシアニソールま
たはブチルヒドロキシトルエンを含有し得る。

この発明を説明するために、出発化合物および式（１）
の化合物の製造実施例ならびに医薬および化粧組成物の
実施例を以下に挙げる。

〔実施例〕

（出発原料の製造） 製造ＰＪ’Ａ ２−（４°−エトキシカルボニル）ベンジリデンアダマ
ンタンの製造。

［式（ＶＩ）において、Ｒｌ＝　Ｈ−Ｒａ　＝　　ＣＯ
ｔ　Ｃｔ　Ｈａ、Ｚ＝アダマンタン誘導残基の化合物］ １．４．７，１０．１３−ペンタオキサシクロペンタデ
カン０．５ｇを含有するテトラヒドロフラン６０ｗ１中
に入れた水素化ナトリウム６．４ｇに４−エトキシカル
ボニルベンジルホスホン酸ジエチル４０ｇを３０分間に
滴下する。

テトラフラン１００＋ｎｌ中２−アダマンタン２０ｇの
溶液を１時間に加える。室温で３時間撹拌後、水５０ｍ
１を加える。反応混合物をエーテルで抽出し、有機層を
硫酸ナトリウムで乾燥する。溶媒留去後、残留物をシリ
カゲルクロマトグラフィー（溶離剤：トルエン）で精製
する。

標記化合物１４ｇを得、これは下記特性を有する。

ｍｐ＝　６０℃ ＵＶスペクトル（クロロホルム） λｎ＋ａｘ＝　２８４　ｎｍ、ξ＝１３１００元素分析 計算値　Ｃ８１，０４、Ｈ８，１６，０１０，７９実験
値　Ｃ８１，０１、Ｈ８，１４，０１０，８９製造例Ｂ ２−（４°−カルボキシ）ベンジリデンアダマンクンの
製造。

［式（ＶＩ）において、Ｒｒ＝ＨＳＲｓ＝ＣＯｔＨＳＺ
＝アダマンタン誘導残基の化合物コ この化合物は、製造例Ａの化合物を２Ｎ−エタノール性
ソーダ溶液の存在下に１時間還流して得られる。冷浸溶
媒留去し、酸性にし、沈澱を水洗する。

アセトンから再結晶して標記化合物を得、これは下記特
性を有する。

ｍｐ＝　２３６℃ ＵＶスペクトル（クロロホルム） λｍａｘ＝　２８６　ｎｍ、ξ＝１７３００元素分析 計算値　Ｃ８０，５６、Ｈ７，５１，０１１，９２実験
値　Ｃ８０Ｊ６、Ｈ７，４９，０１１，８７製造例Ｃ ２−（４’−ホルミル）ベンジリデンアダマンクンの製
造。

［式（ＶＩ）において、Ｒｌ＝　Ｈ、Ｒ＊　＝　−ＣＨ
ＯＳＺ＝アダマンタン誘導残基の化合物］ 製造例Ａで得られた化合物１５ｇをエーテル２００ａ＋
１中に水素化リチウムおよび水素化アルミニウム３ｇ含
んだものに加える。

３０℃で１時間撹拌し、−３０℃に冷却し、酢酸エチル
１００＋ｅｌおよび水２００ＩＩｌを加える。

セライトを介してろ過し、水層を酢酸エチルで洗浄し、
有機層を硫酸ナトリウムで乾燥する。溶媒を留去し、残
留物をエーテル１００ｍ１に溶解する。二酸化マンガン
３０ｇを加え、室温で一夜撹拌する。

セライトを介してろ過し、溶媒を留去し、エタノールか
ら再結晶させる。

標記化合物３ｇを得、これは下記特性を有する。

ｍｐ＝　７８℃ ＵＶスペクトル（クロロホルム） λａ＋ａｘ＝　３０８　ｎ１１　ξ＝１４３００元素分
析 計算値　Ｃ８５，６７、Ｈ７，９８，０６，３４実験値
　ＣＢ５．４８、Ｈ８，０１，０６，６Ｇ製造例Ｄ ２−（４’−エトキシカルボニル）ベンジリデンノルボ
ルナンの製造。

［式（ＶＩ）において、Ｒｔ　＝　Ｈ、Ｒ＠　＝　ＣＯ
ｔ　Ｃｔ　Ｈｓ　１Ｚ＝ノルボルナン誘導残基の化合物
］ この化合物は、２−アダマンタノンをノルガンフルに代
える以外は製造例Ａに記載と同様の方法によって得られ
る。

得られた化合物をシリカゲル上でクロマトグラフィーに
付す。（溶離剤＝ヘキサン：酢酸エチル＝９：１） これは下記特性を有する。

ＵＶスペクトル（クロロホルム） λｍａｘ＝　２９３　ｎｍ、ξ＝２４８００製造例Ｅ ２−（４’−ホルミル）ベンジリデンノルボルナンの製
造。

［式（Ｖｌ）において、Ｒｒ　＝　Ｈ、Ｒｓ　＝　−Ｃ
Ｈ０１Ｚ＝ノルボルナン誘導残基の化合物コ この化合物は、製造例Ａの化合物を製造例りの化合物に
代える以外は製造例Ｃに記載と同様の方法によって得ら
れる。

得られた化合物をシリカゲル上でクロマトグラフィーに
付す。（溶離剤ヘキサン：酢酸エチル＝９＝１） 製造例Ｆ ２−（４°−エトキシカルボニル）ベンジリデンシクロ
ドデカンの製造法。

［式（ＶＩ）において、Ｒｔ　＝　Ｈ、Ｒｓ　＝　　Ｃ
Ｏｔ　Ｃ＊　Ｈｓ、Ｚ＝シクロドデカン誘導残基の化合
物コこの化合物は、２−アダマンタノンをシクロドデカ
ノンに代える以外は製造例Ａに記載と同様の方法によっ
て得られる。

得られた化合物をエタノールで繰返し再結晶する。これ
は下記特性を有する。

ｍｐ＝　５５℃ ＵＶスペクトル（クロロホルム） λｍａｘ＝　２８２１Ｌ　ξ＝１５６００元素分析 計算値　Ｃ８０，４９、Ｈ９，７６，０９，７６実験値
　ＣＢｏ、３８、Ｈ９，８６，０９，７５製造例Ｇ ２−（４’−ヒドロキシメチル）ベンジリデンシクロド
デカンの製造。

［式（ＶＩ）において、ＲＩ＝Ｈ，Ｒｓ六−ＣＨｔｏＨ
。

Ｚ＝シクロドデカン誘導残基の化合物］水素化アルミニ
ウムと水素化リチウムをエーテル７０ｍ１中に懸濁させ
る。製造例Ｆで得られた化合物８ｇのエーテル２０ｍ１
溶液を１０℃附近で徐々に滴下する。セライトを介して
ろ過し、次にその溶液を減圧下で蒸留する。残留物をシ
リカゲル上でクロマトグラフィーに付す（溶離剤＝ヘキ
サン：酢酸エチル＝９：１）。ヘキサンで再結晶後、標
記化合物５．５ｇを得、これは下記特性を有する。

ｍｐ＝６８℃ ＵＶスペクトル（クロロホルム） λ＝　２５４　ｎｍ、ξ＝１４４００ 元素分析 計算値　Ｃ８３，９２、ＨＬｏ、４９．０５．５９実験
値　Ｃ８４，１Ｌ　Ｈｌｏ、４８．０５．８４製造例Ｈ ２−（４°−ホルミル）ベンジリデンシクロドデカンの
製造。

［式（Ｖｌ）において、Ｒｈ　＝　Ｈ、Ｒ＠　＝　　Ｃ
Ｈ０１Ｚ＝シクロドデカン誘導残基の化合物］ 製造例Ｇで得た化合物５．４ｇと活性二酸化マンガンｌ
１ｇのエーテル１ｏＯａ＋１中混合物を室温で１８時間
撹拌する。セライトを介してろ過し、溶媒を留去する。

ヘキサンで再結晶させた後、標記化合物５ｇを得、これ
は下記特性を有する。

ｍｐ＝　５８℃ ＵＶスペクトル（クロロホルム） λｍａｘ＝３０２ｎＩ＋）、ξ＝１６６００元素分析 計算値　Ｃ８４，５１、Ｈ９，８６，０５，６３実験値
　Ｃ８４，５５、Ｈ９，８３，０５，８４製造例ｌ ２−（４’−メチルカルボニル）ベンジリデンアダマン
タンの製造。

［式（Ｖｌ）において、Ｒｌ＝　Ｈ−Ｒｓ　＝　−Ｃ−
ＣＨａ、Ｚ＝アダマンタン誘導残基の化合物］ アルゴンガス下で、テトラヒドロフラン１５０ｍＩ中に
製造例Ｂで得た化合物２０ｇを懸濁させる。

０℃に冷却し、１．６モルメチルリチウム９３ｎｌを徐
々に加える。徐々に温度を再び上げる。改めて０℃に冷
却し、クロロトリメチルシラン６５ｍ１を徐々に滴下し
、次いでＩＮ−塩酸３５ｍ１を滴下する。水１５０ｍ１
で希釈し、エーテルで抽出する。

水混合物で再結晶させ、化合物１９．９ｇを得る。

再結した化合物は下記特性を有する。

ｍｐ＝７２℃ ＵＶスペクトル（クロロホルム） λｔａａｘ＝　２９８　ｎｍ１　ξ＝１７８００元素分
析 計算値　Ｃ８５，７１、Ｈ８，２７，０６，０２実験値
　Ｃ８５，２１ＳＨ８，３Ｇ、０６．３０（この発明の
化合物の製造） 実施例１ ３−［３−（４°−メトキシカルボニルフェニル）−２
−プロペン］イリデンー２．２−ジメチルノルボルナン ［式（Ｉｔ）において、Ｒｔ、Ｒｔ、Ｒｓ　＝　Ｈ、Ｒ
ｓ　＝−ＣＯｅ　ＣＨｓ、Ｚ＝２．２−ジメチルノルボ
ルナン誘導残基の化合物コ ２．２−ジメチル−３−トリフェニルホスホニオエチリ
デンビシクロ［２，２，１］ヘプタンプロミド３０ｇの
無水エーテル６００ｍ１中懸濁液を一７０℃に冷却する
、 １．６Ｍブチルリチウム溶液６８ｍ１およびテトラヒド
ロフラン１５．０ｍｌを加える。温度をＯｏＣまで徐々
に上昇させる。−７０℃に冷却し、２０分間に４−メト
キシカルボニルベンズアルデヒド１０ｇとテトラヒドロ
フラン５０Ｉｌ＋１およびエーテル５０ｍ１の溶液を加
える。

徐々に室温にもどし、希酢酸５０ｍ１を加える。

有機層を傾斜で分け、炭酸水素ナトリウム水溶液ついで
水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥する。

溶媒留去後、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（溶
離剤＝ヘキサン：酢酸エチル＝９９：１）に付す。

標記化合物４ｇを得る。これは下記特性を有する。

ｍｐ＝　１２８℃ ＵＶスペクトル（クロロホルム） λｍａｘ＝　３３３　ｎｍ、ξ＝３５５００元素分析 計算値　Ｃ８１，０４、Ｈ８，１６，０１０，７９実験
値　Ｃ８Ｌ、２Ｑ、Ｈ８，２９、ＯＬｏ、６６実施例２ ３−［３−（４’−カルボキシフェニル）−２−プロペ
ン］イリデンー２．２−ジメチルノルボルナン［式（Ｉ
Ｉ）において、Ｒ１、Ｒ７、Ｒ３＝　Ｈ、Ｒｓ　＝−Ｃ
ＯＯＨ，Ｚ＝２．２−ジメチルノルボルナン誘導残基の
化合物］ 実施例１で得た化合物１．２ｇのエタノール３０ｍ１お
よび２Ｎソーダ３ｎ＋１溶液を１時間加熱還流する。

溶媒を留去し、酸性にし、沈澱を水洗する。アセトン２
０ｎ＋１から再結晶して標記化合物０．５ｇを得る。こ
れは下記特性を有する。

ｍｐ＝２２６℃ ＵＶスペクトル（メタノール） λｍａｘ＝　３１９　ｎｍ、ξ＝３８０００元素分析 計算値　Ｃ８０，８１、Ｈ７，８５，０１１，３３実験
値　Ｃ８０゜８２、Ｈ７，８０，０１１，０９実施例３ ２−［４°−（４−エトキシカルボニル−３−メチル−
１，３−ブタジェン）イル］ベンジリデンアダマンタン ［式（ＩＩＩ）において、Ｃ＝Ｏｓ　Ｒｌｓ　Ｒｓ、Ｒ
７、Ｒ？’＝Ｈ，Ｒ，’＝−ＣＨ３、Ｒｇ＝−ＣＯｔＣ
ｔＨ＊、Ｚ＝アダマンタン誘導残基の化合物］ ３−エトキシカルボニル−２−メチル−２−プロペニル
ホスホン酸ジエチル３．８５ｇを、粉末カリ１．５ｇの
テトラヒドロフラン１０ｍ１中懸濁液に加える。

１０分後、製造例Ｃで得た化合物３ｇを加える。

室温で１時間撹拌後トルエン１００ｍ１で希釈する。

セライトを介してろ過し、ろ液を濃縮する。

得られた生成物をエタノールから再結晶して標記化合物
３ｇを得、これは下記特性を有する。

ｍｐ＝　７６℃ ＵＶスペクトル（ＣＨＣｌ！＋） λｍａｘ＝　３４０　ｎｍ、　ξ＝３５４００元素分析 計算値　Ｃ８２，８３、Ｈ８Ｊ４．０８．８２中ｕｑ古
　　ｒＯリ　＾Ｊ　　　ｙｒｏ　　／Ｉｆｆ　　　＾ｎ
　　Ａｌ’実施例４ ２−［４°−（４−カルボキシ−３−メチル−１，３−
ブタジェン）イル］ベンジリデンアダマンタン［式（Ｉ
ＩＩ）において、Ｃ＝Ｏ１Ｒ，、Ｒｏ、Ｒ７°＝Ｈ１Ｒ
８°”　　ＣＨａ、Ｒ８＝−ＧＯ２Ｈ，Ｚ＝アダマンタ
ン誘導残基の化合物コ この化合物は、実施例３の化合物を実施例２記載と同様
の方法により加水分解して得た。

アセトン・ヘキサン混合物から再結晶して得た生成物は
下記特性を有する。

ｍｐ＝　２１８°Ｃ ＵＶスペクトル（ＣＨＣＬ３） λｍａｘ＝　３４２１１１１１％　ξ＝３６２５０元素
分析 計算値　Ｃ８２，５９、Ｈ７，８３，０９，５６実験値
　Ｃ８１，８４、Ｈ７，５０，０９，３６実施例５ ２−［３−（４°−メトキシカルボニルフェニル）−２
−メチル−２−プロペン］イリデンアダマンタン ［式（ＩＴ）において、Ｒ８、Ｒ３＝Ｈ１Ｒ２−ＣＨ３
、Ｒ，＝−Ｃｏ、ＣＨ３、Ｚ−アダマンクン誘導残基の
化合物］ この化合物は、４−エトキシカルボニルベンジルホスホ
ン酸ジエチルの代りに３−（４−メトキンカルボニルフ
ェニル）−２−メチル−２−プロペニルホスホン酸ジエ
チルを用いるほかは製造例Ａ記載と同様の方法により操
作して得た。

得られた生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶離
剤＝ヘキサン：酢酸エチル−９：Ｉ）に付して精製した
ものは下記特性を有する。

ｍｐ＝　５６−５８℃ ＵＶスペクトル（ＣＨＣ１３） λｍａｘ＝　３１０　ｎｍ、　　ξ＝１８１００元素分
析 計算値　Ｃ８１，９５、Ｈ８，］、３．０９．９２実験
値　ｃｇｔ、ｏ、Ｈ８１５，０ｌ−ｆ）、０３実施例６ ２−［３−（４°−カルボキシフェニル）−２−メチル
−２−プロペンコイリデンアダマンタン［式（ＩＩ）に
おいて、Ｒ１、Ｒ３＝Ｈ，Ｒ２＝−ＣＨ３、Ｒ，、＝−
ｃｏｔＨ，Ｚ＝アダマンクン誘導残基の化合物］ この化合物は、実施例５の化合物を実施例２記載と同様
の方法により加水分解して得た。

酢酸から再結晶して得た生成物は下記特性を有する。

ｍｐ＝　１８８°Ｃ ＵＶスペクトル（ＣＯＣｌ３） λｍａｘ＝　３１３　ｎｍ、　ξ＝１９４００元素分析 計算値　Ｃ８１，７８、Ｈ７，８４，０１０゜３８実験
値　Ｃ８１，６７、Ｈ７，９８，０１０，２９実施例７ ２−［１（４°−メトキシカルボニルフェニル）−２−
メチル−２−プロペン］イリデンノルボルナン ［式（Ｉｆ）において、Ｒ１、Ｒ３＝＝Ｈ１Ｒ２＝−Ｃ
Ｈ３、Ｒ，−−ＣＯｔＣＨ３、Ｚ＝ノルボルナン誘導残
基の化合物］ この化合物は、４−エトキンカルボニルベンジルホスホ
ン酸ジエチルの代りに３−（４−メトキンカルボニルフ
ェニル）−２−メチル−２−プロペニルホスホン酸ジエ
チルを用い、２−アダマンタノンの代りにノルカンフル
を用いるほかは製造例Ａ記載と同様の方法により操作し
て得た。

得られた生成物をシリカゲルクロマトグラフィ＝（溶離
剤＝ヘキサン：酢酸エチル＝９：１）に付して精製する
。

実施例８ １−［３−（４’−カルボキンフェニル）−２−メチル
−２−プロペン」イリデンノルボルナン［式（ｎ）にお
いて、Ｒ１、Ｒ３＝　Ｈ、Ｒ２−−ＣＨ３、Ｒ８＝−ｃ
ｏ、ＨＳＺ＝ノルボルナン誘導残基の化合物］ この化合物は、実施例７の化合物を実施例２記載と同様
の方法により加水分解して得た。

アセトンから再結晶して得た生成物は下記特性を有する
。

ＵＶスペクトル（ＣＯＣｌ２） λｍａｘ＝　３２３　ｎｍ、　　ξ＝２３８００元素分
析 計算値　Ｃ８０，５６、Ｈ７，５１，０１１，９２実験
値　Ｃ８０，４７、Ｈ７，５４、Ｏｌｌ、、８７実施例
９ ２−［４’−（４−エトキシカルボニル−３−メチル−
１，３−ブタジェン）イル］ベンジリデンノルボルナン ［式（ＩＩＩ）において、Ｃ＝Ｏ１Ｒ１、Ｒ８、Ｒ７、
Ｒ７＝ＨＳＲ，’＝ＣＨ３、Ｒａ　＝　　ＣＯ２Ｃｔ　
Ｈｓ、Ｚ−ノルボルナン誘導残基の化合物］ この化合物は、製造例Ｃの化合物の代りに製造例Ｅの化
合物を用いるほかは実施例３記載と同様の方法により操
作して得た。

エタノールから再結晶して得た生成物は下記特性を有す
る。

ｍｐ＝５８℃ ＵＶスペクトル（ＣＨＣＩｔ） 元素分析 計算値　Ｃ８１，９５、Ｈ８，１３，０９，９２実験値
　Ｃ８２，０４、Ｈ８，１５，０９，９７実施例１０ ２−［４”（４−カルボキシ−３−メチル−１，３＝ブ
タジエン）イル］ベンジリデンノルボルナン［式（ＩＩ
Ｉ）において、Ｃ＝Ｏ１Ｒ１、Ｒ８、Ｒ７、Ｒ７゜＝Ｉ
−１、Ｒ８′＝　　ＣＨ３、Ｒａ＝−ＧＯ２Ｈ，Ｚ＝ノ
ルボルナン誘導残基の化合物］ この化合物は、実施例９の化合物を実施例２記載と同様
の方法により加水分解して得た。

アセトンから再結晶して得た生成物は下記特性を有する
。

ｍｐ＝　２２５℃ ＵＶスペクトル（Ｃ）（３０Ｈ） λｍａｘ＝　３４０　ｎｍ、　ξ＝４２２００元素分析 計算値　Ｃ８１，６０、Ｈ７，５３，０１０，８７実験
値　Ｃ８１，６７、Ｈ７，５７，０１０，６６実施例！
！ ２−［３−（４°−Ｎ−エチルアミノカルボニルフェニ
ル）−２−メチル−２−ブロペンコイリデンアダマンタ
ン ［式（Ｉｔ）において、ＲＩ、　Ｒ３＝　Ｈ、Ｒｔ　＝
　ＣＨ３、Ｒ，−ＣＯＮＨＣ，）（５、Ｚ＝アダマンタ
ン誘導残基の化合物］ 実施例６で得た化合物０．６ｇおよびカルボニルジイミ
ダゾール０．３１ｇをジメチルホルムアミド１０ｍ１中
に懸濁する。これを７０℃に２時間加熱する。

０℃に冷却し、エチルアミン１ｍｌを加える。２時間撹
拌し、水で希釈し、エーテルで抽出する。

エーテル留去後、油状残渣を９６°のアルコールから再
結晶する。標記化合物０．２ｇを得、これは下記特性を
有する。

ｍｐ＝９４−９６℃ ＵＶスペクトル（クロロホルム） λ１ａｘ＝　３０５　ｎｍ、ξ＝１８７００元素分析 計算値　Ｃ８２，３４、Ｈ８，７Ｌ　Ｈ４，１８，０４
，７７ 実験値　Ｃ８２，２６、Ｈ８，９６、Ｈ４，１１゜０５
．０３ 実施例１２ ４°−（４−エトキシカルボニル−３−メチル−１゜３
−ブタジェン）イルベンジリデンシクロドデカン ［式（ＩＩ［）において、Ｃ＝Ｏ１Ｒ，、Ｒｅ５Ｒ？、
Ｒ９゜＝Ｈ，Ｒ，°＝ＣＨ，、Ｒ，＝−ＧＯ，Ｃ，Ｈ５
、Ｚニジクロドデカン誘導残基の化合物］ ２．５Ｍブチルリチウム２０ｍ１を、アルゴン気流下、
テトラヒドロフラン２０ｍ１およびヘキサメチルホスホ
ルアミド２０ｍ１の混合物に０℃で徐々に加える。−３
０℃に冷却し、ジイソプロピルアミン１．７ｍｌを徐々
に導入する。−６０℃に冷却し、３−エトキシカルボニ
ル−２−メチル−２＝プロペニルホスホン酸ジエチル２
，７ｇのテトラヒドロフラン１０ｍ１溶液を徐々に加え
る。この温度で撹拌を４５分間続け、製造例Ｈで得た化
合物つ　ＯＲ爪二しニレＬ’　ｘ−をニーノリｎ−１祿
ツ六九ｋｂ＋−導入する。

一１０℃で２時間撹拌し、飽和塩化アンモニウム溶液を
加える。エーテルで抽出し、エーテル層を水洗し、硫酸
ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧留去する。

ヘキサンから再結晶して標記化合物２．４ｇを得る。こ
れは下記特性を有する。

ｍｐ＝　８０℃ ＵＶスペクトル（クロロホルム） λｍａｘ＝　３２６　ｎｍ、ξ＝３３９００元素分析 計算値　Ｃ８２，２３、Ｈ９，６４，０８，１２実験値
　Ｃ８２，４４、Ｈ９，７０，０８，２８実施例１３ ４°−（４−カルボキシ−３−メチル−１，３−ブタジ
ェン）イルベンジリデンシクロドデカン［式（ＩＩＩ）
において、Ｃ＝Ｏ１Ｒ１、Ｒ８、Ｒ？、Ｒ？’＝Ｈ、Ｒ
ｓ°＝−ＣＨ３、Ｒ８＝−Ｃｏｔ）Ｉ、Ｚ−シクロドデ
カン誘導残基の化合物］ この化合物は、実施例１３の化合物を実施例２記載と同
＋、Ｇの方法により加水分解して得た。

＾′１酸から１１１結晶して得た生成物は下記特性を有
４゛ろ、１ ｍｐ＝＞２（ｉ０℃ Ｌ）Ｖスペクトル（１）ＭＳＯ＋Ｃ１１３０＋−１）λ
ｍａｘ二３３５　ｎｍ 元素分析（＋　０．４　Ｃｌｌ５ＣＯＪＩ）計算値　Ｃ
７９４８、ｌ−１９，１３，０１１，４９実験値　Ｃ７
９，２０、Ｈ８，９４，０１１，８６実施例１４ ２−［４°−（３−シアノ−２−プロペン）イル］ベン
ジリデンアダマンクン ［下式の化合物］ 製造例！で得た化合物ｌｕｇをテトラヒドロフラン４０
ｍ１にけんだく４−る。シアツメデルホスホン酸ジエチ
ル６．７２ｇを加え、ついで粉末カリ５ｇを加える。１
時間撹拌する。トルエンで希釈し、シリカゲル＋セライ
トを介してろ過４°ろ。溶媒を減圧留去する。エタノー
ルから再結晶して淡黄色結晶６６７ｇを得る。これは下
記特性をｆｆする。

Ｂ９Ｇ℃ ＵＶスペクトル（クロロホルム） λｎａｘ＝　３１　ＯｎＩ＋＋、　ξ＝　２　：（２７
５元素分析 計算値　Ｃ８？、７６、ｔ１７．３６．０４．８７実験
値　Ｃ８７，６９、Ｈ７，３ｇ、０４．９１実施例１５ ２−［４°−（３−ホルミル−２−プロペン）イル］ベ
ンジリデンアダマンクン ［下式の化合物］ 実施例１４で得た化合物６ｇを無水トルエン１００ｍ１
にけんだくする。−７０’Ｃに冷却し、１Ｍ水素化ジイ
ソブチルアルミニウム・ヘキザン溶液２６ｓ＋１を加え
る。希塩酸を徐々に加え、セライトを介してろ過する。

トルエン層を傾斜して分け、水洗、乾燥、濃縮乾固する
。黄色の生成物５．１ｇを得る。

実施例ｌ６ ２−［４°−（６−ニトキシカルボニルー１，５−ジメ
チル−１，３，５−ヘキサトリエン）イルコベンジリデ
ンアダマンタン ［式（Ｉ［［）において、ｃ＝　Ｌ　Ｒ＋＝Ｒｓ＝Ｒｓ
＝Ｒｙ＝Ｒ７°＝Ｈ，Ｒ，＝Ｒ，’＝ＣＨ３、Ｒ，＝−
Ｇｏ、Ｃ。

Ｈ６、Ｚ＝アダマンタン誘導残基の化合物コ２．５Ｍブ
チルリチウム８ｍｌを、アルゴン気流中θ℃においてテ
トラヒドロフラン５０ｍ１およびヘキサメチルホスホル
アミド５０ｍ１に加える。−３０℃に冷却し、ジイソプ
ロピルアミン２　、８　ｍｌを急速に導入する。−６０
℃に冷却し、３−エトキシカルボニル−２−メチル−２
−プロペニルホスホン酸ジエチル４．６ｇのテトラヒド
ロフラン２０ｍ１溶液を加える。３０分間撹拌し、実施
例１５で得た化合物５ｇのテトラヒドロフラン３’Ｏｍ
ｌ溶液を加える。０℃に昇温させ、３０分間撹拌する。

飽和塩化アンモニウム溶液を加え、有機層をエーテルで
抽出し、水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥する。

溶媒を減圧留去後残渣をエタノールから再結晶し、標記
化合物４．９ｇを得る。これは下記特性を有する。

溶媒を減圧留去後残渣をエタノールから再結晶し、標記
化合物４．９ｇを得る。これは下記特性を有する。

ｍｐ＝　１０８℃ ＵＶスペクトル（ＣＨＣ１，） λｍａｘ＝　３６０　ｎｍ、　ξ＝４５２００元素分析 計算値　Ｃ８３，５４、Ｈ８，５１，０７，９５実験値
　Ｃ８３，３５、Ｈ８，４１，Ｃ）８．０６実施例１７ ２−［４’−（６−カルボキシ−１，５−ジメチル−１
，３，５−ヘキサトリエン）イル］ベンジリデンアダマ
ンタン ［式（Ｉ［Ｉ）において、ｃ＝ｌ、ＲＩ、Ｒｓ、Ｒ８、
Ｒ１、Ｒ，”＝Ｈ％　Ｒ４、Ｒ８’＝　　ＣＨ３、Ｒ８
＝−ＣＯ２Ｈ１Ｚ−アダマンタン誘導残基の化合物コ この化合物は、実施例１６の化合物を実施例２記載と同
様の方法により加水分解して得た。

メタノールから再結晶して得た生成物は下記特性を有す
る。

ｍｐ＝　２０７°Ｃ ＵＶスペクトル（ＣＨ３０Ｈ） λｍａｘ＝　３４７　ｎｍ、ξ＝４２７７０元素分析 計算値　Ｃ８３，４２、Ｈ８，０２，０１１，５６実験
値　Ｃ８３ＪＯ１Ｈ７，８０，０８３γ０実施例ｌ８ ３−［５−（４°−メトキシカルボニルフェニル）＝４
−メチル−２，４−ペンタジェン］イリデン−２゜２−
ジメチルノルボルナン ［式（Ｖ）において、Ｒ＋　＝　Ｒｔ　＝　Ｒ３＝　Ｒ
ｓ°＝Ｈ。

Ｒ，’＝−ＣＨ３、Ｒｓ　＝　　ＣＯｔ　ＣＨｓ、Ｚ＝
２．２−ジメチルノルボルナン誘導残基の化合物コこの
化合物は、４−メトキシカルボニルベンズアルデヒドの
代りに３−（４−メトキンカルボニルフェニル）−２−
メチル−２−プロペナールを用いるほかは実施例１記載
と同様の方法により操作して得た。

得られた生成物をヘキサンから再結晶して精製したもの
は下記特性を有する。

ｍｐ＝　９４°Ｃ ＵＶスペクトル（ＣＨＣＬ３） λｍａｘ＝　３４８　ｎｍ、　ξ＝３４４００元素分析 計算値　Ｃ８２，１，０、Ｈ８，３８，０９，５Ｌ実験
値　Ｃ８２，２１、Ｈ８，４１，○９，７５実施例ｌ９ ３−［’５−（４’−カルボキシフェニル）−４−メチ
ル−２，４−ペンタジェンコイリチン−２，２−ジメチ
ルノルボルナン ［式（Ｖ）において、Ｒｔ、Ｒｔ、Ｒ３、Ｒ３’＝Ｈ１
Ｒｔ　’　＝　　ＣＨｓ、Ｒ８＝−Ｃｏ、Ｈ，Ｚ＝２．
２−ジメチルノルボルナン誘導残基の化合物］この化合
物は、実施例１８の化合物を実施例２記載と同様の方法
により加水分解して得た。

アセトンから再結晶して得た生成物は下記特性を有する
。

ｍｐ＝　２２８℃ ＵＶスペクトル（Ｃ＊　Ｈｓ　ＯＨ） λｍａｘ＝　３４４　ｎｍ、ξ＝３８９００元素分析 計算値　Ｃ８１，９４、Ｈ８，１２，０９，９２実験値
　Ｃ８１，８８、Ｈ８，１５，０９，７７実施例２０ ２−［４°−（４−エチルアミノカルボニル−３−メチ
ル−１，３−ブタジェン）イル］ベンジリデンアダマン
タン ［式（１）において、Ｃ＝Ｏ１Ｒ１、Ｒ，、Ｒ７、Ｒ７
゜−Ｈ，Ｒ，°＝−ＣＨ３、Ｒ，＝−ＣＯＮＨＣ，Ｈ５
、Ｚ−アダマンタン誘導残基の化合物］ 実施例４で得た化合物３．３４ｇ、カルボニルジイミダ
ゾール１．７８ｇおよびテトラヒドロフラン５０ｍ１の
混合物を、室温で２時間撹拌する、エチ＋！、７　　Ｓ
　　’／　　９　−１メ−ｈｎ　；　　　　’；ｌ　’
ｉ”　Ｉ　Ａ　　賎凹階Ｓ＝トス、　　　＋で希釈後、
エーテルで抽出する。有機層を水洗し、硫酸ナトリウム
で乾燥する。溶媒を減圧留去後、残渣をエタノールから
再結晶すると、白色結晶２゜３ｇを得る。これは下記特
性を有する。

ｍｐ＝　１２０℃ ＵＶスペクトル（メタノール） λｍａｘ＝　３２８　ｎｍ、　ξ＝４２２００元素分析
（０，３３ＨｔＯ） 計算値　Ｃ８１，７４、Ｈ８，６３、Ｎ３．８１０５．
８０ 実験値　Ｃ８１，７４、Ｈ８，７１、Ｎ３．７６０５．
８９ 実施例２１ ２−［４’−（４−（２−エチル）へキシルアミノカル
ボニル−３−メチル−１，３−ブタジェン）イル］ベン
ジリデンアダマンタン ［式（Ｉ）において、ｃ＝０、Ｒ１、Ｒ８、Ｒ７、Ｒ？
’＝Ｈ１Ｒ’ｓ’　＝ＣＨ３、Ｒ，＝Ｃ０ＮＨＣＩ（１
ＣＨ（Ｃｔ　Ｈｓ　）　ＣＨｙ　ＣＨ２ＣＨｔ　ＣＨ３
、Ｚ＝アダマンタン誘導残基の化合物］ この化合物は、エチルアミンの代りに！−エチルー２−
ヘキシルアミンを用い、実施例２０と同様に操作して得
た。エタノール・水混合物から再結晶し、淡黄色の結晶
として標記化合物を得た。

これは下記の特性を有する。

ｍｐ＝　Ｉ　０２°Ｃ ＵＶスペクトル（ＣＨＣｌａ） λｍａｘ＝　３３４　ｎｍ、　ξ＝３８０００元素分析 計算値　Ｃ８３，５４、Ｈ９，７２、Ｎ３．１４．０３
．５９ 実験値　Ｃ８３，４６、Ｈ９，８１、Ｎ３．２１．０３
．９８ 実施例２２ ２−［４’−（４−（ジー０−１．２，３．４−イソプ
ロピリデン）−Ｄ−ガラクトピラノシルオキシ−３−メ
チル−１，３−ブタジェン）イル］ベンジリデンアダマ
ンタン ［式（ＩＩＩ）において、ｃ＝０、Ｒ８、Ｒ８、Ｒ７、
Ｒ７゜＝ＨＳＲ，’＝−ＣＨ３、Ｒｓ　＝ 、Ｚ＝アダマンクン誘導残括の化合物１実施例４で得た
化合物１．５ｇ、カルボニルジイミダゾール０．８７ｇ
およびツク【ｊロスタン５０＋ｎｌの混合物を室温で３
０分間撹拌゛４°る。ツクＣＩ　Ｃｌメタンを留去し、
Ｉ　、　２　、３　、４−ジー０−イソプロピリデン−
Ｄ−ガラクトピラノースのテトラヒドロフラン溶液（水
素化ナトリウム０．２　ｅｇ含ｒＴ　）を加える。室温
で１時間撹拌後、酢酸エチル５０ｍ１で希釈する。有機
層を飽和塩化アンモニウム溶液、ついで水で洗浄する。

硫酸すトリウノ・で乾燥後、溶媒を減圧留去して標記化
合物１ｇを得る。これは下記特性を有する。

ｍｐ＝　７８℃ ＵＶスペクトル（ＣＩＩ　ＣＨ３） λｍａｘ＝　３４２　ｎｍ、ξ＝３７８００元素分析 計算値　Ｃ７２，８９，１１７，６９，０１９，４２実
験値　Ｃ７３，０１、Ｈ７，６８，０１９，２４実施例
２３ ２−［４’−（４−エトキシカルボニル−１，３−ブタ
ジェン）イル］ベンジリデンアダマンタン［式（■）に
おいて、ｃ＝０、Ｒ，、Ｒ，、Ｒｓ’、Ｒ７、Ｒ７°＝
　Ｈ、Ｒｓ　＝　　ＣＯｔ　Ｃ＊　Ｈｓ、Ｚ＝アダマン
タン誘導残基の化合物］ ジイソプロピルアミン４ｍｌのテトラヒドロフラン２０
ｆｆｉ１溶液を一３０℃に冷却する。１．６Ｍブチルリ
チウム・ヘキサン溶液３５ｍ１およびヘキサメチルホス
ホルアミド７ｍｌを加える。

＝６０℃に冷却し、４−ホスホノクロトン酸トリエチル
１０．８ｇを加える。この温度で３０分間撹拌後、製造
例Ｃで得た化合物９ｇのテトラヒドロフラン４０ｍ１溶
液を加える。徐々に０℃まで昇温させる。１．５時間反
応後、反応混合物を飽和塩化アンモニウム溶液にあける
。エーテルで抽出し、有機層を水洗し、硫酸ナトリウム
で乾燥する。

溶媒留去後、ヘキサンから再結晶し、淡黄色結晶として
標記化合物を得る。これは下記特性を有すｍｐ＝８０℃ ＵＶスペクト）ＩｉＣＣＨＣ１３） λｍａｘ＝　３３４　ｎｍ、ξ＝３９０００元素分析 計算値　Ｃ８２，７１、Ｈ８，０９，０９，１ｇ実験値
　Ｃ８２゜７０、Ｈ８，１４，０９，１２実施例２４ ２−［４°−（４−カルボキシ−１，３−ブタジェン）
イル］ベンジリデンアダマンクン ［式（Ｉ）において、ｃ−０、Ｒ８、Ｒ６、Ｒ６°、Ｒ
７、Ｒ，’＝Ｈ，Ｒ８＝−Ｃｏ、Ｈ，Ｚ＝アダマンタン
誘導残基の化合物］ この化合物は、実施例２３の化合物を実施例２記載と同
様の方法により加水分解して得た。

得られた生成物は下記特性を有する。

ｍｐ＝　２４０℃ Ｕ■スペクト／しくＤＭＳＯ＋〇Ｈ３０Ｈ）λｍａｘ＝
　３３５　ｔ＋＋＋＋、ξ＝３９０００元素分析 計算値　Ｃ８２，４６、Ｉ−（７，５４，０９，９８実
験値　Ｃ８２，５Ｌ　Ｈ７，４３，０１０，０３実施例
２５ ２−［４°−（４−（１−エトキシカルボニル−３−メ
チルチオ））プロピルアミノカルボニル−３−メチル−
１，３−ブタジェン）イルコベンジリデンアダマンタン 「式（ＩＩＩ）において、Ｃ＝Ｏ１Ｒｌ、　Ｒｔ＋、Ｒ
７、Ｒ７゛＝Ｈ、Ｒａ’　＝　ＣＨ３、Ｒａ　＝　　Ｃ
ＯＮ　ＨＣＨ（ＣＯｔＣｔＨｓＸＣＨｔ）ｔｓＣＨ３、
Ｚ＝アダマンタン誘導残基の化合物コ ０℃において、クロロギ酸エチル０．６５ｍ１を、実施
例４で得た化合物２ｇのテトラヒドロフラン５０ｍ１溶
液（トリエチルアミン２　、６１１１ｆ含有）に加える
。１５分間撹拌後、トリエチルアミン塩酸塩をろ去する
。Ｌ−メチオニンエチルエステル塩酸塩２ｇのテトラヒ
ドロフラン３０ａ＋１溶液（トリエチルアミン１．８ｍ
ｌ含有）を作る。室温で１５分間撹拌後、トリエチルア
ミン塩酸塩をろ去する。この溶液を前記溶液に０℃を維
持しつつ加える。０℃で２時間撹拌後、室温で２４時間
撹拌する。反応混合物を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出す
る。有機層を水洗し、硫酸ナトリウムで乾燥する。溶媒
を減圧留去する。再結晶して標記化合物を得る。これは
下記特性を有する。

ｍｐ＝　９８℃ ＵＶスペクトル（ＣＨｚＣｌｔ） λｍａｘ＝　３３６　ｎｍ、ξ＝４０２００元素分析 計算値　Ｃ７２，９８、Ｈ７，９６、Ｈ９，７２，０２
，８３、Ｓ　６．４９ 実験値　Ｃ７２，９５、Ｈ７，９０、Ｈ９，８１０２，
９０、Ｈ６，５４ 実施例２６ ３−［３−（４’−二チルアミノカルボニルフェニル）
−２−プロペン］イリデンー２．２−ジメチルノルボル
ナン ［式（ｆ［）において、ＲＩＳＲｔ、Ｒ３＝　Ｈ、Ｒａ
　＝−ＣＯＮ　ＨＣｔ　Ｈｓ、Ｚ＝２．２−ジメチルノ
ルボルナン誘導残基の化合物］ 実施例２で得た化合物１．５ｇ、カルボニルジイミダゾ
ールＩｇおよびジクロロメタン２５ｍ１の混合物を３０
℃で１５分間加温する。溶媒留去後、残渣にテトラヒド
ロフラン２５ｍ１を加える。つぎに、ジエチルアミン１
ｍｌを加え、室温で１５分間撹拌する。溶媒を留去し、
残留物を酢酸エチルに溶かす。有機層を水洗し硫酸ナト
リウムで乾燥後濃縮する。残渣をエタノールから再結晶
して白色結晶の標記化合物を得る。これは下記特性を有
する。

ｍｐ＝　１３６℃ ＵＶスペクトル（ＣＨｔＣＩＪ λｍａｘ＝　３２６　ｎｍ、　　ξ＝３６８００元素分
析 計算値　Ｃ８１，５１、Ｈ８，７９、Ｈ４，５３，０５
，１７ 実験値　Ｃ８１，６０、Ｈ８，７４、Ｈ４，６１，０５
，０１ （組成物） 製剤例Ｉ 下記組成を有するゲルを製造する。

実施例２の化合物　　　　　　　　　０．Ｏｓｒエリス
ロマイシン塩基　　　　　　　４．０００ｙブチルヒド
ロキシトルエン　　　　　０．０５０９ヒドロキシプロ
ピルセルロース （ソシエテ・エル・キュル社から ［クルセルＨＦの名で市販Ｊ）　　　　２．０００９エ
タノール（９５°）適量加えて１００．０００９とする
。

このゲルは皮ふ病の皮ふまたはざそう（Ｂｃｎｅｓ）の
皮ふに夏日３回適用する。

製剤例２ 下記組成物をカプセル剤に調製する。

実施例１の化合物　　　　　　　　　０．０６９とうも
ろこしでんぷん　　　　　　　０．０６０９ラクトース
　　　　　　適量加えて２０．３００９とする。

使用するカプセルはゼラチン、酸化チタンおよび防腐剤
で構成されている。

乾癖治療中の成人１人に１日３カプセル投与す製剤例３ 下記成分を混合して抗脂漏ローションを調製する。

実施例６の化合物　　　　　　　　　０．０３ｇプロピ
レングリコール　　　　　　　５．０００９ブチルヒド
ロキシトルエン　　　　　０．１００９エタノール（９
５°）適量加えてｌ　ＯＯ，０００９とする。

このローションは脂漏性有毛頭皮上に１日２回適用する
。

製剤例４ 下記成分を混合して日焼は止め化粧品組成物を調製する
。

実施例１０の化合物　　　　　　　　１９ベンジリデン
カンフル　　　　　　　４ｇ脂肪酸トリグリセリド　　
　　　　３１９グリセロールモノステアレート　　　６
ｇステアリン酸　　　　　　　　　　　２９セチルアル
コール　　　　　　　　　１．２９ラノリン　　　　　
　　　　　　　　４．０９防腐剤　　　　　　　　　　
　　　　０．３ｇプロパンジオール　　　　　　　　　
２．０ｇトリエタノールアミン　　　　　　　　０．５
９着香料　　　　　　　　　　　　　　０．４９脱イオ
ン水　　　　　適量加えてｔ　ｏ　０．０９とする。

製剤例５ 下記成分を混合して局所適用ゲルを調製する。

実施例４の化合物　　　　　　　　　０．０５９エタノ
ール　　　　　　　　　　　　４３．００９α−トコフ
ェロール　　　　　　　　０．０５ｇカルボボール９４
１　　　　　　　　０．０５９トリエタノールアミン 水溶液（２０％）　　　　　　　　　　　３．８０９水
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　９．３０
９プロピレングリコール適量加えて１００．００９とす
る。

製剤例６ 下記物質を混合して不溶性の錠剤０．５９を調製する。

実施例３の化合物　　　　　　　　　０．０２５９ラク
トース　　　　　　　　　　　　０．０８２９ステアリ
ン酸　　　　　　　　　　　　０．００３９精製タルク
　　　　　　　　　　　　０００１５ｇ甘味料　　　　
　　　　　　　　　　　適　量着色剤　　　　　　　　
　　　　　　適　量米でんぷん　　　　　　　適量加え
て０．５００９とする。

製剤例７ 下記組成を有する０、２０％溶液を調製する。

実施例２０の化合物　　　　　　　　０．２９ポリエチ
レングリコール （分子量４００）　　　　　　　　　　８０．０ｇエタ
ノール（９５°）適量加えて１００．０９とする。

この溶液はざそうの皮ふに１日３回適用する。

処置される症状の重さに応じた６〜１２週間の間の適当
な期間内での適用で明白な効果が認められる７ 製剤例８ 下記組成を有する抗脂漏クリームを製造する。

ポリオキシエチレンステアレート （オキシエチレン４０モル） （アトラス（Ａｔｌａｓ）社により商品名ミルク（Ｍ　
１ｒｊ）　５２として市販されている）　　　　　　　
　　　　　４９ソルビトールラウリン酸エステルと ソルビタンラウリン酸エステルの混 合物がオキシエチレン２０モルでポ リオキシエチレン化されたもの （アトラス社により商品名トウィー ン（Ｔ　ｗｅｅｎ）　２０として市販されている）　　
　　　　　　　　　　　　　　１．８ｇグリセロールモ
ノおよびジステアレ ートの混合物 （ソシエテ・ガツト・フォスにより 商品名ゲロール（ＧＥＬＥＯＬ）として市販されている
）　　　　　　　　　　　４．２９プロピレングリコー
ル　　　　　　ｌ　Ｏ，０９ブチルヒドロキンアニソー
ル　　　　００Ｉ９ブチルヒドロキノトルエン　　　　
　００２ｇセトーステアリルアルコール　　　　６．２
ｇ防腐剤　　　　　　　　　　　　　適　量ベルヒドロ
スクアレン　　　　　　１８．０ｇカプリル酸カプリン
酸トトリリセリ ド混合物 （ディナミ・ノベル（Ｄｙｎａｍｉｔ Ｎｏｂｅｌ）社より商品名ミグリオール（Ｍｉｇｌｙｏ
ｌ）８１２として市販されている）４９ Ｓ−カルボキシメチルシスティン　　３９トリエタノー
ルアミン（９９％）　　　２゜５９実施例２６の化合物
　　　　　　　　０．０２９水　　　　　　　　　適量
加えて１００゜００ｇとする。

製剤例９ 下記組成を有する抗脂漏クリームを製造する。

ポリオキシエチレンステアレート （オキシエチレン４０モル） （アトラス（Ａｔｌａｓ）社により商品名ミルジ（Ｍｉ
ｒｊ）５２として市販されている）４９ ソルビトールラウリン酸エステルと ソルビタンラウリン酸エステルの混 合物がオキシエチレン２０モルでポ リオキシエチレン化されたもの （アトラス（Ａｔｌａｓ）社により商品名トウィーン（
Ｔ　ｗｅｅｎ）　２０として市販されている）　　　　
　　　　　　　１．８９グリセロールモノおよびジステ
アレ ートの混合物 （ソシエテ・ガツト・フォス（ＳｏｃｉｅｔｅＧＡＴＴ
Ｅ　ＦＯ８ＳＥ）により商品名ゲロール（ＧＥＬＥＯＬ
）として市販されている）４゜２９プロピレングリコー
ル　　　　　　１０．０？ブチルヒドロキシアニソール
　　　　０．０１ｇブチルヒドロキシトルエン　　　　
　０．０２ｇセトーステアリルアルコール　　　　６．
２ｇ防腐剤　　　　　　　　　　　　　適　量ペルヒド
ロスクアレン　　　　　　１８ｇかプリル酸カプリン酸
トリグリセリ ド混合物 （ディナミ・ノベル（Ｄｙｎａｍｉｔ Ｎｏｂｅｌ）社により商品名ミグリオール（Ｍｉｇｌｙ
ｏｌ）　８１２として市販されている）４ｇ ５−アミノ−５−カルボキシ−３−チ アペンタン酸２−ベンジルチオエチ ルアンモニウム塩　　　　　　　　　　３Ｌｊ実施例２
６の化合物　　　　　　　　０．０２９水　　　　　　
　　　適量加えて１００ｇとする。

製剤例１０ 下記組成を混合して抗ざそうクリームを調製する。

グリセロールステアレートとポリ エチレングリコール（７５モル）の混 合物 （ソンエテ・ガツト・フォス（ＳｏｃｉｅｔｅＧＡＴＴ
Ｅ　ＦＯ３ＳＥ）により商品名ゲロ（Ｇｅｌｏｔ）　　
６４とし、て市販されている）　　　　　　　　　　　
　　　１５９才キシエチレン６モルでポリオキシ エチレン化された種子油 （ソシエテ・ガツト・フォス（ＳｏｃｉｅｔｅＧＡＴＴ
Ｅ　ＦＯ３ＳＥ）により商品名ラブラフィーユ・エム（
Ｌａｂｒａｆｉｌ　Ｍ）２１３０として市販されている
）８ｇ ベルヒドロスクアレン　　　　　　１０ｇ着色剤　　　
　　　　　　　　　　適　量防腐剤　　　　　　　　　
　　　　　適　量着香料　　　　　　　　　　　　　適
　量チオキソロン　　　　　　　　　　　０，４ｇポリ
エチレングリコール４００　　　８９精製水　　　　　
　　　　　　　　５８．５ｇエチレンジアミン四四散 酸ナトリウム塩　　　　　　　　　　　ｏ、ｏ５ｇ実施
例４の化合物　　　　　　　　　ｏ、ｏ　５ｙこの実施
例において実施例４の化合物は同じ割合の実施例２の化
合物と換えることができる。

製剤例１１ 下記成分を混合して抗脱毛および髪の発育のための頭髪
ローションを調製する。

プロピレングリコール　　　　　　２０９エタノール　
　　　　　　　　　　　３４．９２９ポリエチレングリ
コール４００　　４０９水　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　４ｇブチルヒドロキシアニソール　　　
　０．０１９ブチルヒドロキシトルエン　　　　　００
２ｇ実施例４の化合物　　　　　　　　　０．０５９ミ
ンオキシジル　　　　　　　　　　１ｇ製剤例１２ 下記成分を混合して髪の発育のためのローションを調製
する。

プロピレングリコール　　　　　　１３．９６９ポリエ
チレングリコール３００　　４０９ポリエチレングリコ
ール１５００　３２９イソプロパツール　　　　　　　
　１２９ブチルヒドロキシアニソール　　　　０．０１
９ブチルヒドロキシトルエン　　　　　０．０２９実施
例２０の化合物　　　　　　　　０□０５９ミンオキシ
ジル　　　　　　　　　　　２ｇ製剤例１３ ２つの部分を包含する抗ざそうキット ａ）下記組成を有するゲルを製造する。

エチルアルコール　　　　　　　　４８４ｇプロピレン
グリコール　　　　　　５０ｇカルボボール９４０　　
　　　　　　１ｇジイソプロパツールアミン（９９％）
　　０．３ｇブチルヒドロキシアニソール　　　　０．
０５９ブチルヒドロキシトルエン　　　　　００５９ト
コフエロール　　　　　　　　　　０．１１／実施例２
０の化合物　　　　　　　　０．１ｇこの部分において
実施例２０の化合物は実施例２の化合物と換えることか
できる。

ｂ）下記組成を有するゲルを製造する。

エチルアルコール　　　　　　　　　５ｇプロピレング
リコール　　　　　　　５９エチレンジアミン四酢酸 ジナトリウム塩　　　　　　　　　　　０．０５９カル
ボボール９４０　　　　　　　　１９トリエタノールア
ミン（９９％）　　　　１ｇラウリル硫酸ナトリウム　
　　　　　０、！？精製水　　　　　　　　　　　　　
７５．０５９ペンゾイルベルオキシドヒドラート （２５％’）　　　　　　　　　　　　　　１２．８９
２つのゲル混合物を使用時に等しい重量を用いて調製す
る。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、 Ｒ＿１〜Ｒ＿７は、同一または異なって、水素原子また
   は低級アルキル基を表わし、 Ｒ＿８は、基−Ｃ＝Ｎ、オキサゾリニル基または下式： （ｉ）−ＣＨ＿２ＯＲ＿９ （ｉｉ）▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、 Ｒ＿９は、水素原子、低級アルキル基、シクロペンチル
   基、シクロヘキシル基、モノもしくはポリヒドロキシア
   ルキル基またはテトラヒドロピラニル基を表わし、 Ｒ＿１＿０は、水素原子、低級アルキル基、−ＯＲ＿１
   ＿１基または基▲数式、化学式、表等があります▼（式
   中、ｒ′およｒ″は、同一または異なって、水素原子、
   直鎖状もしくは分枝状アルキル、モノもしくはポリヒド
   ロキシアルキル基、アルケニル基、シクロペンチルもし
   くはシクロヘキシル基、場合により置換されたアリール
   もしくはアラルキル基または一緒になって複素環を形成
   するか、またはｒ′は水素原子を表わし、ｒ″はアミノ
   酸もしくはグルコサミンの残基を表わし、ｒ″はアミノ
   酸もしくはグルコサミンの残基を表わし、 Ｒ＿１＿１は、水素原子、アルキル基、低級モノもしく
   はポリヒドロキシアルキル基または糖の残基を表わす） を表わす） で表わされる化合物のうち一方に対応する基を表わし、 Ｚは、場合により置換された、炭素原子８〜１２個を有
   する飽和モノ脂環式基の残基または二もしくは三環式基
   を表わすが、ただしＺ基はカルボニル官能基を含まない
   ものとし、 ａおよびｅは、０、１または２、ｂ、ｃおよびｄは０ま
   たは１であり、 ａ＋ｃ＋ｅ≧１およびをおよび／またはｄ＝１である］ で示されることを特徴とする不飽和脂環式化合物および
   式（ I ）で示される前記化合物の幾何および光学異性
   体およびその塩。 （２）アルキル基が１〜１８個の炭素原子を有し、メチ
   ル、エチル、プロピル、２−エチルヘキシル、オクチル
   、ドデシル、ヘキサデシルまたはオクタデシルからなる
   群から選ばれることを特徴とする、特許請求の範囲第１
   項記載の化合物。 （３）アリール基が場合により、ハロゲン原子、ヒドロ
   キシまたは低級アルコキシにより置換されたフェニル基
   であることを特徴とする、特許請求の範囲第１項記載の
   化合物。 （４）アラルキル基が場合によりヒドロキシ官能基、ア
   ルコキシ基または第４級アンモニウム基により置換され
   たベンジルまたはフェネチル基であることを特徴とする
   、特許請求の範囲第１項記載の化合物。 （５）アルケニル基が３〜６個の炭素原子を有し、プロ
   ペニル、ブテニルおよびイソペンテニルからなる群から
   選ばれることを特徴とする、特許請求の範囲第１項記載
   の化合物。 （６）低級モノヒドロキシアルキル基が２または３個の
   炭素原子を有し、２−ヒドロキシエチルおよび２−ヒド
   ロキシプロピル基からなる群から選ばれることを特徴と
   する、特許請求の範囲第１項記載の化合物。 （７）ポリヒドロキシアルキル基が３〜６個の炭素原子
   および２〜５個のヒドロキシ基を有し、２，３−ジヒド
   ロキシプロピル、２，３，４−トリヒドロキシブチル、
   ２，３，４，５−テトラヒドロキシペンチルおよびペン
   タエリスリトールの残基からなる群から選ばれることを
   特徴とする、特許請求の範囲第１項記載の化合物。 （８）ｒ′およびｒ″基が一緒になってピペリジノ、ピ
   ペラジノ、モルホリノ、ピロリジノまたは４−（２−ヒ
   ドロキシエチル）ピペラジノ基からなる群から選ばれた
   複素環を形成することを特徴とする、特許請求の範囲第
   １項記載の化合物。 （９）Ｚ基が、ノルボルナン、２，２−ジメチルノルボ
   ルナン、アダマンタンまたはシクロドデカンの誘導脂環
   式残基を表わすことを特徴とする、特許請求の範囲第１
   項記載の化合物。 （１０）下記一般式： ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、 Ｒ＿１およびＲ＿３は水素原子を表し、 Ｒ＿２は水素原子または低級アルキル基を表し、Ｒ＿９
   は基▲数式、化学式、表等があります▼を表し、 Ｒ＿１＿０はＯＲ＿１＿１または▲数式、化学式、表等
   があります▼を表し、Ｒ＿１＿１は水素原子、アルキル
   基または低級ヒドロキシアルキル基であり、ｒ′および
   ｒ″は水素原子または低級アルキル基を表し、 Ｚはノルボルナン、２，２−ジメチルノルボルナンまた
   はアダマンタンの誘導脂環式残基を表す］で示されるこ
   とを特徴とする、特許請求の範囲第１〜９項のいずれか
   １項記載の化合物。 （１１）下記一般式： ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、 Ｒ＿１、Ｒ＿５、Ｒ＿６、Ｒ＿７およびＲ′＿７は水素
   原子を表し、 Ｒ＿４は低級アルキル基を表し、 Ｒ′＿８は水素原子または低級アルキル基を表し、Ｒ＿
   ５は基▲数式、化学式、表等があります▼を表し、 Ｒ＿１＿０は−ＯＲ＿１＿１または▲数式、化学式、表
   等があります▼を表し、Ｒ＿１＿１は水素原子、アルキ
   ル基、低級ヒドロキシアルキル基を表し、 ｒ′は水素原子を表し、ｒ″は低級アルキル基またはア
   ミノ酸残基を表し、 Ｚはノルボルナン、アダマンタンまたはシクロドデカン
   誘導脂環式残基を表し、 ｃは０または１である］ で示されることを特徴とする、特許請求の範囲第１〜９
   項のいずれか１項記載の化合物。 （１２）下記一般式： ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、 Ｒ＿１およびＲ＿５は水素原子を表し、 Ｒ＿４は低級アルキル基を表し、 Ｒ＿６は基▲数式、化学式、表等があります▼を表し、 Ｒ＿１＿１は水素原子、アルキル基または低級ヒドロキ
   シアルキル基を表し、 Ｚはアダマンタンの誘導脂環式基を表す］で示されるこ
   とを特徴とする、特許請求の範囲第１〜９項のいずれか
   １項記載の化合物。 （１３）下記一般式： ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、 Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３およびＲ＿３′は水素原子を表
   し、Ｒ′＿２は低級アルキル基を表し、 Ｒ＿８は基▲数式、化学式、表等があります▼を表し、 Ｒ＿１＿１は水素原子、アルキル基または低級ヒドロキ
   シアルキル基を表し、 Ｚは２，２−ジメチルノルボルナン誘導脂環式残基を表
   わす］ で示されることを特徴とする、特許請求の範囲第１〜９
   項のいずれか１項記載の化合物。 （１４） （１）３−［３−（４′−メトキシカルボニルフェニル
   ）−２−プロペン］イリデン−２，２−ジメチルノルボ
   ルナン （２）３−［３−（４′−カルボキシフェニル）−２−
   プロペン］イリデン−２，２−ジメチルノルボルナン （３）２−［３−（４′−メトキシカルボニルフェニル
   ）−２−メチル−２−プロペン］イリデンアダマンタン （４）２−［３−（４′−カルボキシフェニル）−２−
   メチル−２−プロペン］イリデンアダマンタン（５）２
   −［３−（４′−メトキシカルボニルフェニル）−２−
   メチル−２−プロペン］イリデンノルボルナン （６）２−［３−（４′−カルボキシフェニル）−２−
   メチル−２−プロペン］イリデンノルボルナン（７）２
   −［４′−（４−エトキシカルボニル−３−メチル−１
   ，３−ブタジエン）イル］ベンジリデンアダマンタン （８）２−［４′−（４−カルボキシ−３−メチル−１
   ，３−ブタジエン）イル］ベンジリデンアダマンタン（
   ９）２−［４′−（４−エトキシカルボニル−３−メチ
   ル−１，３−ブタジエン）イル］ベンジリデンノルボル
   ナン （１０）２−［４′−（４−カルボキシ−３−メチル−
   １，３−ブタジエン）イル］ベンジリデンノルボルナン （１１）２−［３−（４′−Ｎ−エチルアミノカルボニ
   ルフェニル）］−２メチル−２−プロペン］イリデンア
   ダマンタン （１２）４′−（４−エトキシカルボニル−３−メチル
   −１，３−ブタジエン）イルベンジリデンシクロドデカ
   ン （１３）４′−（４−カルボキシ−３−メチル−１，３
   −ブタジエン）イルベンジリデンシクロドデカン（１４
   ）２−［４′−（６−エトキシカルボニル−１，５−ジ
   メチル−１，３，５−ヘキサトリエン）イル］ベンジリ
   デンアダマンタン （１５）２−［４′−（６−カルボキシ−１，５−ジメ
   チル−１，３，５−ヘキサトリエン）イル］ベンジリデ
   ンアダマンタン （１６）２−［３−（４′−エトキシカルボニルフェニ
   ル）−２−プロペン］ベンジリデンアダマンタン（１７
   ）２−［３−（４′−カルボキシフェニル）−２−プロ
   ペン］ベンジリデンアダマンタン （１８）３−［５−（４′−メトキシカルボニルフェニ
   ル）−４−メチル−２，４−ペンタジエン］イリデン−
   ２，２−ジメチルノルボルナン （１９）３−［５−（４′−カルボキシフェニル）−４
   −メチル−２，４−ペンタジエン］イリデン−２，２−
   ジメチルノルボルナン （２０）２−［４′−（４−エチルアミノカルボニル−
   ３−メチル−１，３−ブタジエン）イル］ベンジリデン
   アダマンタン （２１）２−［４′−（４−（２−エチル）ヘキシルア
   ミノカルボニル−３−メチル−１，３−ブタジエン）イ
   ル］ベンジリデンアダマンタン （２２）２−［４′−（４−（ジ−Ｏ−１，２，３，４
   −イソプロピリデン）−Ｄ−ガラクトピラノシルオキシ
   −３−メチル−１，３−ブタジエン）イル］ベンジリデ
   ンアダマンタン （２３）２−［４′−（４−エトキシカルボニル−１，
   ３−ブタジエン）イル］ベンジリデンアダマンタン（２
   ４）２−［４′−（４−カルボキシ−１，３−ブタジエ
   ン）イル］ベンジリデンアダマンタン （２５）２−［４′−（４−（１−エトキシカルボニル
   −３−メチルチオ）プロピルアミノカルボニル−３−メ
   チル−１，３−ブタジエン）イル］ベンジリデンアダマ
   ンタン （２６）３−［３−（４′−エチルアミノカルボニルフ
   ェニル）−２−プロペン］イリデン−２，２−ジメチル
   ノルボルナン からなる群から選ばれたことを特徴とする、特許請求の
   範囲第１〜１３項のいずれか１項記載の化合物。 （１５）下記一般式： ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、 Ｒ＿１は水素原子を表し、 Ｒ＿８は−ＣＨ＿２ＯＨまたは基▲数式、化学式、表等
   があります▼を表し、Ｒ＿１＿０は水素原子、低級アル
   キル基または基−Ｏ−Ｒ＿１＿１（式中、Ｒ＿１＿１は
   水素原子またはアルキル基を表す）を表し、 Ｚはアダマンタン、ノルボルナンまたはシクロドデカン
   誘導脂環式残基を表す］ で示されることを特徴とする、特許請求の範囲第１〜１
   ４項のいずれか１項記載の化合物の合成用中間体化合物
   。 ２−（４′−エトキシカルボニル）ベンジリデンアダマ
   ンタン、 ２−（４′−カルボキシ）ベンジリデンアダマンタン、 ２−（４′−ホルミル）ベンジリデンアダマンタン、２
   −（４′−エトキシカルボニル）ベンジリデンノルボル
   ナン、 ２−（４′−ホルミル）ベンジリデンノルボルナン、２
   −（４′−エトキシカルボニル）ベンジリデンシクロド
   デカン、 ２−（４′−ヒドロキシメチル）ベンジリデンシクロド
   デカン、 ２−（４′−ホルミル）ベンジリデンシクロドデカン、 ２−（４′−メトキシカルボニル）ベンジリデンアダマ
   ンタン からなる群から選ばれたことを特徴とする、特許請求の
   範囲第１５項記載の化合物。 （１７）特許請求の範囲第１〜１４項のいずれか１項記
   載の化合物であることを特徴とする医薬。 （１８）経口、非経口、局所投与または点眼に用いる適
   当な担体中に、少なくとも特許請求の範囲第１〜１４項
   のいずれか１項記載の化合物を含有することを特徴とす
   る医薬組成物。 （１９）化合物を０．０００５〜２重量％の割合で含有
   することを特徴とする、特許請求の範囲第１８項記載の
   組成物。 （２０）適当な担体中に、少なくとも特許請求の範囲第
   １〜１４項のいずれか１項記載の化合物または特許請求
   の範囲第１５および１６項のいずれか１項記載の化合物
   を含有することを特徴とする化粧用組成物。 （２１）化粧用担体中に化合物を０．０００５〜２重量
   ％の割合で含有することを特徴とする、特許請求の範囲
   第２０項記載の化粧用組成物。