JPS61284593A - 接触子用銅合金条の製造方法 - Google Patents
接触子用銅合金条の製造方法Info
- Publication number
- JPS61284593A JPS61284593A JP12736585A JP12736585A JPS61284593A JP S61284593 A JPS61284593 A JP S61284593A JP 12736585 A JP12736585 A JP 12736585A JP 12736585 A JP12736585 A JP 12736585A JP S61284593 A JPS61284593 A JP S61284593A
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- Japan
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- tin
- copper alloy
- layer
- copper
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
この発明は接触子用銅合金条の製造方法に関し、更に詳
細には例えばりん青銅、黄銅等の銅合金条を母材として
その表面に錫或いは錫合金を所望部分に施す接触子用銅
合金条の製造方法に関する。
細には例えばりん青銅、黄銅等の銅合金条を母材として
その表面に錫或いは錫合金を所望部分に施す接触子用銅
合金条の製造方法に関する。
（従来の技術〕
第３図（ａ）は従来の銅合金条の母材上の所望部分に錫
或いは錫合金全電気めっきした銅合金条の断面図、およ
び第３図（ｂ）はその側面図であり、１は銅合金条の母
材、２は電気めっきされた銅下地層、３は銅下地層の上
に電気めっきされた錫或いは錫合金層である。このよう
な銅合金条は所望形状に打抜き加工され、接触子として
使用される。
或いは錫合金全電気めっきした銅合金条の断面図、およ
び第３図（ｂ）はその側面図であり、１は銅合金条の母
材、２は電気めっきされた銅下地層、３は銅下地層の上
に電気めっきされた錫或いは錫合金層である。このよう
な銅合金条は所望形状に打抜き加工され、接触子として
使用される。
この工うな構取の従来の銅合金条はめつき層の非所望部
分即ち接点金属付与以外の部分をマスキングテープまた
は被覆塗料で被覆し、銅下地層２お工び錫或いは錫合金
層３金電気めっきした後。
分即ち接点金属付与以外の部分をマスキングテープまた
は被覆塗料で被覆し、銅下地層２お工び錫或いは錫合金
層３金電気めっきした後。
マスキングテープま九は被覆塗料全除去することに工っ
て銅合金１の上に錫或いは錫合金＃３’に形成してい九
〇 （発明が解決しょうとする問題点） 上述の工うな従来の接触子用銅合金条の製造方法では■
経時変化にエフ錫または錫合金層ｌの表面に錫ウィスカ
や粒状突起物が発生することがあること、また＠電気め
っき条件にＬっては経時変化による銅合金条１と銅下地
層２または銅下地層２と錫或いは錫合金層３の密着性劣
化を招き、接触子としての信頼性を損うという問題があ
った。
て銅合金１の上に錫或いは錫合金＃３’に形成してい九
〇 （発明が解決しょうとする問題点） 上述の工うな従来の接触子用銅合金条の製造方法では■
経時変化にエフ錫または錫合金層ｌの表面に錫ウィスカ
や粒状突起物が発生することがあること、また＠電気め
っき条件にＬっては経時変化による銅合金条１と銅下地
層２または銅下地層２と錫或いは錫合金層３の密着性劣
化を招き、接触子としての信頼性を損うという問題があ
った。
この発明の目的は、かかる従来の問題点を解決するため
になされたもので、従来と同一の形状で、錫ウイスカ発
生がなく且つ経時変化による密着性劣化の少ない接触子
用銅合金条の製造方法を提供することにある。
になされたもので、従来と同一の形状で、錫ウイスカ発
生がなく且つ経時変化による密着性劣化の少ない接触子
用銅合金条の製造方法を提供することにある。
（問題点全解決するための手段）
この発明に係る接触子用銅合金条の製造方法に、公知の
錫ウイスカ防止対策及び密着性同上対策である錫表面を
加熱溶融する方法を銅合金上の部分錫めっき条に適用し
次ものであるが、従来の製造方法で製造した銅合金条を
加熱し、錫或いは錫合金層３會加熱溶融することは容易
であるけれど、この際に空気中で加熱溶融させるために
錫或いは錫合金を所望しない部分、すなわち銅合金条の
裸部が変色し、外観を損い且つ不活性化となり接触子と
しての信頼性を損う。
錫ウイスカ防止対策及び密着性同上対策である錫表面を
加熱溶融する方法を銅合金上の部分錫めっき条に適用し
次ものであるが、従来の製造方法で製造した銅合金条を
加熱し、錫或いは錫合金層３會加熱溶融することは容易
であるけれど、この際に空気中で加熱溶融させるために
錫或いは錫合金を所望しない部分、すなわち銅合金条の
裸部が変色し、外観を損い且つ不活性化となり接触子と
しての信頼性を損う。
この発明は係る従来の製造方法の接触子用銅合金条の欠
点お工び前述の裸部の変色防止を損うことのない銅合金
条を得るｔめに、銅合金条の母材表面の接点金属付与以
外の部分全被覆材料で被覆し、被覆されていない部分の
母材上に銅下地ｒｖｉ ’を電気めっきで施し、その上
に又は母材上に直接錫酸いは錫合金層を電気めっきで施
しｔ後、被覆材料を除去し、このめっき条を不活性ガス
中で加熱し、前記鎚或いは錫合金層を加熱溶融すること
にある。
点お工び前述の裸部の変色防止を損うことのない銅合金
条を得るｔめに、銅合金条の母材表面の接点金属付与以
外の部分全被覆材料で被覆し、被覆されていない部分の
母材上に銅下地ｒｖｉ ’を電気めっきで施し、その上
に又は母材上に直接錫酸いは錫合金層を電気めっきで施
しｔ後、被覆材料を除去し、このめっき条を不活性ガス
中で加熱し、前記鎚或いは錫合金層を加熱溶融すること
にある。
（作 用）
この発明に係る接触子用銅合金条の製造方法によると、
形成された銅合金上の錫或いは錫合金層が不活性ガス中
で加熱溶融されると、錫或いは錫合金中の残留有機物が
なくなる。そのため、錫ウイスカ発生がなくなフ、且つ
錫或いは錫合金層と銅合金条の母材間に拡散が起る。そ
の結果、密着性が高くなり、且つ不活性ガス中で加熱溶
融処理を行っているのでめっき非所望部分すなわち裸部
の活性化も加熱溶融処理前と同等に保てる。
形成された銅合金上の錫或いは錫合金層が不活性ガス中
で加熱溶融されると、錫或いは錫合金中の残留有機物が
なくなる。そのため、錫ウイスカ発生がなくなフ、且つ
錫或いは錫合金層と銅合金条の母材間に拡散が起る。そ
の結果、密着性が高くなり、且つ不活性ガス中で加熱溶
融処理を行っているのでめっき非所望部分すなわち裸部
の活性化も加熱溶融処理前と同等に保てる。
（実施例〕
第１図（ａ）ないし第１図（ｆ）はこの発明の一実施例
に係る接触子用銅合金条の製造方法における各工程ごと
の銅合金条の断面図、お工び第２図はその工程図であり
、工は銅合金条の母材、２は電気めっきされた銅下地層
、３は銅下地層の上に電気めっきされた錫層、１３は錫
層３を不活性ガス中で加熱溶融した後冷却凝固し友リフ
ロー錫層、４は銅合金条の母材上の上のめつき非所望部
分を被覆した非導電性のマスキング材である。
に係る接触子用銅合金条の製造方法における各工程ごと
の銅合金条の断面図、お工び第２図はその工程図であり
、工は銅合金条の母材、２は電気めっきされた銅下地層
、３は銅下地層の上に電気めっきされた錫層、１３は錫
層３を不活性ガス中で加熱溶融した後冷却凝固し友リフ
ロー錫層、４は銅合金条の母材上の上のめつき非所望部
分を被覆した非導電性のマスキング材である。
この実施例の方法では、＆ず第１工程として銅合金条の
母材ｌの表面のめっき非所望部分を例えばポリエステル
ｔｚはカプトンのマスキングテーゾ材４で被い１次に第
２工程として銅合金条の母材上のマスキング材４で被っ
ていない部分の表面上活性化するための脱脂お工び酸活
性等のめっき前処理全行い、その上に第３工程として公
知の硫酸銅浴にＬり電気めっきを行い銅下地層２’ｔ
Ｏ，５踊の膜厚に形成する。そして、第４工程としてこ
の上に公知の硫酸錫浴ま几はホウフッ化錫浴に＝り電気
めっきで錫層３を１．０１４ｍの膜厚に形成し、次に第
５工程としてマスキング材４を剥離除去した後、第６エ
程でこれ全窒素やアルビン等の不活性ガス中で電気炉や
赤外線ヒーター等の加熱平波で錫の溶融温匿以上に加熱
し、錫層３ｔ−溶融し窺後この溶融錫層を冷却凝固し、
加熱溶融した残留有機物の少ないリフロー錫層工３を形
成する。また、マスキング材４を剥離除去し几銅合金条
の母材ｌの非めっき部分は不活性ガス中で加熱され友の
で、銅合金条の母材１の表面そのままのクリーンな表面
を形成する。
母材ｌの表面のめっき非所望部分を例えばポリエステル
ｔｚはカプトンのマスキングテーゾ材４で被い１次に第
２工程として銅合金条の母材上のマスキング材４で被っ
ていない部分の表面上活性化するための脱脂お工び酸活
性等のめっき前処理全行い、その上に第３工程として公
知の硫酸銅浴にＬり電気めっきを行い銅下地層２’ｔ
Ｏ，５踊の膜厚に形成する。そして、第４工程としてこ
の上に公知の硫酸錫浴ま几はホウフッ化錫浴に＝り電気
めっきで錫層３を１．０１４ｍの膜厚に形成し、次に第
５工程としてマスキング材４を剥離除去した後、第６エ
程でこれ全窒素やアルビン等の不活性ガス中で電気炉や
赤外線ヒーター等の加熱平波で錫の溶融温匿以上に加熱
し、錫層３ｔ−溶融し窺後この溶融錫層を冷却凝固し、
加熱溶融した残留有機物の少ないリフロー錫層工３を形
成する。また、マスキング材４を剥離除去し几銅合金条
の母材ｌの非めっき部分は不活性ガス中で加熱され友の
で、銅合金条の母材１の表面そのままのクリーンな表面
を形成する。
上述の工うに構灰された銅合金条全所望形状に打抜き加
工することにエフ、錫ウィスカ発生の少ない、密着性の
優れ几且つめつき所望部分のみめつき処理され九接触子
を得ることができる。
工することにエフ、錫ウィスカ発生の少ない、密着性の
優れ几且つめつき所望部分のみめつき処理され九接触子
を得ることができる。
ところで、前記実施例は錫層全形底し友ものであるが、
錫合金層でも同様な効果が得られる。またマスキング材
にマスキングテープを使用したが被覆塗料金塗布する方
法でも同様な効果が得られる。
錫合金層でも同様な効果が得られる。またマスキング材
にマスキングテープを使用したが被覆塗料金塗布する方
法でも同様な効果が得られる。
（発明の効果ン
この発明は以上説明した通り、銅合金条の母材のめつき
非所望部分を被覆材料で被覆し、被覆されていない部分
の母材上に銅下地層を電気めっきで施し、その上に又は
母材上に直接錫酸いは錫合金ＷＩを電気めっきで施しｔ
仮被覆材料を除去し、次にこれを不活性ガス中で錫或い
は錫合金層全加熱溶融することで、錫或いは錫合金層が
所望部分のみ形成でき、その結果錫ウィスカの発生がな
く、密着性の優れた信頼性の高い接触子用銅合金条を得
るという効果がある。
非所望部分を被覆材料で被覆し、被覆されていない部分
の母材上に銅下地層を電気めっきで施し、その上に又は
母材上に直接錫酸いは錫合金ＷＩを電気めっきで施しｔ
仮被覆材料を除去し、次にこれを不活性ガス中で錫或い
は錫合金層全加熱溶融することで、錫或いは錫合金層が
所望部分のみ形成でき、その結果錫ウィスカの発生がな
く、密着性の優れた信頼性の高い接触子用銅合金条を得
るという効果がある。
第１図（ａ）ないし第１図げ）はそれぞれこの発明の一
実施例に係る接触子用銅合金条の製造方法における各工
程ごとの銅合金条の断面図、第２図は前記実施例の工程
図、第３図（ａ）は従来の銅合金条の断面図、第３図ら
）は従来の銅合金条の側面図である。 ■・・・銅合金条の母材、２・・・銅下地層、３・・・
錫或いは錫合金層、１３・・・不活性ガス中で加熱溶融
された錫層、４・・・マスキング材。 なお図中同一符号は同一部分または相当部分を示す。
実施例に係る接触子用銅合金条の製造方法における各工
程ごとの銅合金条の断面図、第２図は前記実施例の工程
図、第３図（ａ）は従来の銅合金条の断面図、第３図ら
）は従来の銅合金条の側面図である。 ■・・・銅合金条の母材、２・・・銅下地層、３・・・
錫或いは錫合金層、１３・・・不活性ガス中で加熱溶融
された錫層、４・・・マスキング材。 なお図中同一符号は同一部分または相当部分を示す。
Claims (2)
- （１）銅合金条を母材とし、その表面部分に接点金属と
して錫或いは錫合金を具備する接触子の製造方法におい
て、該銅合金条の母材表面における接点金属付与以外の
部分を被覆材料で被覆し、被覆されていない部分の母材
上に銅下地層を電気めつきで施し、その上に又は母材上
に直接錫或いは錫合金を電気めつきで施した後、前記被
覆材料を除去し、このめつき条を不活性ガス中で加熱し
、前記錫或いは錫合金層を加熱溶融することを特徴とす
る接触子用銅合金条の製造方法。 - （２）銅を下地層としてめつき膜厚１μｍ以下で電気め
つきし錫或いは錫合金層をめつき膜厚０．７〜１．５μ
ｍでその上に電気めつきしたことを特徴とする特許請求
の範囲第１項に記載の接触子用銅合金条の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12736585A JPS61284593A (ja) | 1985-06-12 | 1985-06-12 | 接触子用銅合金条の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12736585A JPS61284593A (ja) | 1985-06-12 | 1985-06-12 | 接触子用銅合金条の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61284593A true JPS61284593A (ja) | 1986-12-15 |
Family
ID=14958158
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12736585A Pending JPS61284593A (ja) | 1985-06-12 | 1985-06-12 | 接触子用銅合金条の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61284593A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6229150A (ja) * | 1985-07-30 | 1987-02-07 | Mitsubishi Electric Corp | Ｉｃソケツト用合金 |
| JPS6411996A (en) * | 1987-07-03 | 1989-01-17 | Nippon Mining Co | Production of cu-sn composite material for electronic parts |
| JPH02173293A (ja) * | 1988-12-26 | 1990-07-04 | Nippon Mining Co Ltd | 錫または錫合金めっき材のリフロー方法 |
| JP2004339605A (ja) * | 2003-05-12 | 2004-12-02 | Rohm & Haas Electronic Materials Llc | 改良されたスズめっき方法 |
-
1985
- 1985-06-12 JP JP12736585A patent/JPS61284593A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6229150A (ja) * | 1985-07-30 | 1987-02-07 | Mitsubishi Electric Corp | Ｉｃソケツト用合金 |
| JPS6411996A (en) * | 1987-07-03 | 1989-01-17 | Nippon Mining Co | Production of cu-sn composite material for electronic parts |
| JPH0510439B2 (ja) * | 1987-07-03 | 1993-02-09 | Nitsuko Kyoseki Kk | |
| JPH02173293A (ja) * | 1988-12-26 | 1990-07-04 | Nippon Mining Co Ltd | 錫または錫合金めっき材のリフロー方法 |
| JP2004339605A (ja) * | 2003-05-12 | 2004-12-02 | Rohm & Haas Electronic Materials Llc | 改良されたスズめっき方法 |
| JP4603812B2 (ja) * | 2003-05-12 | 2010-12-22 | ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ，エル．エル．シー． | 改良されたスズめっき方法 |
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