JPS6220895A - Cu又はCu合金母材にSn又はSn合金めつきを施す方法 - Google Patents

Cu又はCu合金母材にSn又はSn合金めつきを施す方法

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JPS6220895A
JPS6220895A JP16032085A JP16032085A JPS6220895A JP S6220895 A JPS6220895 A JP S6220895A JP 16032085 A JP16032085 A JP 16032085A JP 16032085 A JP16032085 A JP 16032085A JP S6220895 A JPS6220895 A JP S6220895A
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JP
Japan
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alloy
plating
alloy plating
thickness
bright
Prior art date
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Pending
Application number
JP16032085A
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English (en)
Inventor
Ryoichi Nobeyoshi
延吉 良一
Kazuhiko Fukamachi
一彦 深町
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Eneos Corp
Original Assignee
Nippon Mining Co Ltd
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Publication of JPS6220895A publication Critical patent/JPS6220895A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 本発明は、Cu又はCu合金母材にSn又はSn合金め
っきを施したCu−8nめっき材の製造方法に関するも
ので、特に外観に光沢をもたせ、ウィスカーの発生を防
止し、さらに耐食性を改善したものである。
〔従来の技術〕
Cu又はCu合金母材にSn又はSn合金を被覆した複
合材は電子、電気機器等に広く用いられているが、Sn
めっき被膜の光沢の良否は複合材の商品価値を左右して
いる。
このような複合材の製造方法としては、溶融めっき法、
光沢電気めっき法(光沢剤を用いて電気めっきをする方
法)、リフロー処理法(無光沢めっき後、加熱溶融処理
する方法)等が用いられ、それぞれに一長一短がある。
溶融めっき法及びリフロー処理法は光沢電気めっき法に
比ベライス力−の発生が少ない利点を有する。しかし溶
融めっき法はSnめっき被膜の偏肉が著しく、均質性が
劣り、またリフロー処理法には厚めつきをすると光沢が
低下するという問題がある。
リフロー材のSn(錫)被膜は無光沢浴を用いて電気め
っきされるが厚さ2μを越えて次第にめっき厚が増すに
従い、Sn電着面の平滑さを失い、この実表面積の大き
い電着面では加熱の際にSn○、Sn○2等の酸化物の
生成量が多くなり、その結果、溶融Snの流動が妨げら
れ平滑な光沢面を得ることができなくなる。
光沢電気めっき法は前記にようにウィスカーの発生が多
く、特に薄めつきの場合にはこのウィスカーの発生が著
しい。また外観の光沢の均一化が困雉で、特に巾広条の
場合には電流分布の違いにより不均一になり易い。更に
外観光沢は素材の表面粗さに依存するため光沢が出にく
い。
また、2μを越えるSn又はSn合金の光沢電気めっき
をリフローすると表面が、濡れ不良となる欠点がある。
、〔発明の構成〕 本発明は、これらの現状に鑑み鋭意研究を重ねた結果、
外観光沢、ウィスカー防止等に優れたCU又はCu合金
母材にSn又はSn合金めっきを施す方法を開発したも
のでCu又はCu合金母材に無光沢Sn又はSn合金め
っきし1次に2μ以下の光沢Sn又はSn合金めつきし
て、両めっき層の厚さが合計で2μ以上になるようにし
た後、リフロー処理を行うことを特徴とするCu又はC
U合金母材にSn又はSn合金めっきを施す方法あるい
はCu又はCu合金母材に予め下地めっきを施した後、
無光沢Sn又はSn合金めつきし、次に2μ以下の光沢
Sn又はSn合金めつきして、両めっき層の厚さが合計
で2μ以上になるようにした後、リフロー処理を行うこ
とを特徴とするCU又はCu合金母材にSn又はSn合
金めっきを施す方法に関する。
〔発明の詳細な説明〕
次に本発明をより詳細に説明する。
Cu又はCu合金をアルカリ脱脂、電解脱脂等の浄化処
理を公知の条件で施した後、必要に応じてCuを下地と
して電気めっきする。ついで、第1層として公知の条件
で無光沢Sn又はSn合金を電気めっきする。このSn
めっき浴はアルカリ浴、硫酸性浴、ホウフッ化浴等公知
の浴である。
又、Sn合金としては一般に半田材料として知られてい
る鉛、ビスマス、カドミウム、アンチモン、インジウム
、アルミニウム、亜鉛等を1種以上含むものを包含する
ものであり、最も一般的なのはホウフッ化浴より施され
る錫−鉛合金である。
次に第2層として2μ以下の光沢Sn又はSn合金をめ
っきし前記めっき層の厚さが合計で2μ以上になるよう
にした後、リフロー処理を行う。
なお、アルカリ浴には効果的な光沢剤がないので第2層
のめっき浴としてはアルカリ浴は通常用いられない。
リフロー処理はバーナ直火型炉、エレマ炉等の加熱炉に
おいて、Sn又はSn合金めっきの融点以上に3〜10
秒加熱することによって行なう。
これによってウィスカーの発生がなくしかも外観に優れ
、良好な光沢を有するSn又はSn合金めっき層を備え
たCu又はCu合金母材が得られた。
以下、実施例により説明する。
〔実 施 例〕
0 、2mm(t)、 200mm(巾)のりん青銅条
にアルカリ電解脱脂および酸洗を行なった。さらに、下
地めっきなし又はニッケル下地又は銅下地めっきを0.
5μm施した後、第1層として無光沢Sn又はSn合金
を電気めっきし、次に第2層として光沢Sn又はSn合
金を電気めっきした。このようにして得られたSn又は
Sn合金めっき条を850℃、5秒のりフロー処理を行
なった。めっき浴を第1−1表及び第1−2表に示す。
本発明の実施例及び比較例について処理を施した表面を
外観により評価した結果を第2表に示す。
第2表に示すように、本発明の条件を満足するものは光
沢があり、表面外観が良好でウィスカーの発生がなかっ
た。
これに対し比較例に示すものは、光沢不良あるいは濡れ
不良であるか又はウィスカーの発生がみられる。
〔効 果〕
以上、本発明方法において得られたS n又はSn合金
めっき複合材は光沢に富み表面外観が良好でありまた、
ウィスカーの発生もないので、電子・電気機器材として
好適であり、優れためっき方法である。
なお母材として、りん青銅の他に銅や他の銅合金例えば
黄銅、洋白を用いたが、リフロー後の外観はりん青銅の
場合と全く同じであることが確認され、本発明の効果は
母材の影響は受けないことが分った。
以下余白 手続補正書 昭Jtu30年 9月25日

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)Cu又はCu合金母材に無光沢Sn又はSn合金
    めっきし、次に2μ以下の光沢Sn又はSn合金めっき
    して、両めっき層の厚さが合計で2μ以上になるように
    した後、リフロー処理を行うことを特徴とするCu又は
    Cu合金母材にSn又はSn合金めっきを施す方法
  2. (2)Cu又はCu合金母材に予め下地めっきを施した
    後、無光沢Sn又はSn合金めっきし、次に2μ以下の
    光沢Sn又はSn合金めっきして、両めっき層の厚さが
    合計で2μ以上になるようにした後、リフロー処理を行
    うことを特徴とするCu又はCu合金母材にSn又はS
    n合金めっきを施す方法
JP16032085A 1985-07-22 1985-07-22 Cu又はCu合金母材にSn又はSn合金めつきを施す方法 Pending JPS6220895A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6229150A (ja) * 1985-07-30 1987-02-07 Mitsubishi Electric Corp Icソケツト用合金
JPH0397889A (ja) * 1989-09-11 1991-04-23 Mitsubishi Electric Corp 錫―鉛合金めっき付銅合金材料の製造方法
JPH06330351A (ja) * 1993-05-24 1994-11-29 Yuken Kogyo Kk 二層錫又は錫−鉛合金被覆形成方法

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