JPS5817112A - ポジ型ノボラツクホトレジスト組成物及びその調製物 - Google Patents
ポジ型ノボラツクホトレジスト組成物及びその調製物Info
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- JPS5817112A JPS5817112A JP10910282A JP10910282A JPS5817112A JP S5817112 A JPS5817112 A JP S5817112A JP 10910282 A JP10910282 A JP 10910282A JP 10910282 A JP10910282 A JP 10910282A JP S5817112 A JPS5817112 A JP S5817112A
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Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US27570781A | 1981-06-22 | 1981-06-22 | |
US275707 | 1981-06-22 | ||
US275883 | 1981-06-22 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5817112A true JPS5817112A (ja) | 1983-02-01 |
JPH0454221B2 JPH0454221B2 (da) | 1992-08-28 |
Family
ID=23053465
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10910282A Granted JPS5817112A (ja) | 1981-06-22 | 1982-06-22 | ポジ型ノボラツクホトレジスト組成物及びその調製物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5817112A (da) |
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