JPH1171450A - α−アミノアセトフェノンからのアミンの光発生 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】塩基で架橋される組成物の感光性塩基触媒を提
供する。 【解決手段】下式Ｉ、IIまたはIII で表される化合物ま
たはそれらの酸付加塩 【化１】 〔Ｘは２価の基；Ｙは炭素原子数１ないし６のアルキレ
ン基、シクロヘキシレン基または直接結合；Ａｒ₁ は請
求項１で定義の芳香族基を表し；Ｒ₁ とＲ₂ は互いに独
立して、特に式−（ＣＨＲ₁₃）_p −Ｃ（Ｒ₁₄）＝Ｃ（Ｒ
₁₅）（Ｒ₁₆）（式中、ｐは０または１を表す）で表され
る基または式−Ｃ（Ｒ₁₃）Ｈ−Ａｒ₂ で表されるを表
し；Ｒ₃ は特に水素原子、炭素原子数１ないし１２のア
ルキル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基
またはフェニル−炭素原子数１ないし３のアルキル基；
Ｒ₄ は特に炭素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素
原子数５ないし１２のシクロアルキル基、フェニル−炭
素原子数１ないし３のアルキル基またはフェニル基を表
す〕。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は潜在性塩基（latent
bases) としてのα−アミノケトン化合物を含む塩基で
触媒される（base catalysed) 硬化性組成物ならびにこ
のような組成物を硬化する方法、特にラジカル重合性成
分との組合せによる方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】熱硬化性樹脂の中でエポキシ樹脂は硬化
のために使用できる化学反応および材料の多様性および
その結果としての多くの種々の特性により極めて広範囲
の用途が見いだされている。さらに特別には、それらの
優れた機械的および化学的特性、高い接着力、および良
好な耐熱性および高い電気抵抗性はそれらを極めて有益
にしている。それらは接着剤、塗料、熱硬化性樹脂また
はフォトレジストとしての用途に広く使用される（例え
ばC.A.May,Epoxy Resins,Chemistry and Technology, 2
nd Ed. Marcel Dekker,New York,1988 参照) 。エポキ
シ樹脂の硬化はカップリングおよび架橋をもたらす重付
加反応によって行うことができる。この目的に最も広範
囲に使用される薬剤は例えばポリアミン、多酸(polyaci
d)、ポリメルカプタン、ポリフェノール、無水物、イソ
シアネート等である。これらの反応は主に硬化剤の活性
水素およびエポキシ基間の化学量論的反応であり、その
ため硬化剤は通常比較的高濃度に存在する。これらの重
付加反応はもちろん適当な触媒によって触媒させること
ができる。例えばカルボン酸とのエポキシドの反応のた
めの触媒としてジシアンジアミド、ベンゾグアナミンま
たはイミダゾール誘導体が使用できる。

【０００３】エポキシドのアニオンおよびカチオン重合
は種々のルイス塩基および酸によりならびに多くの塩お
よび錯体開始剤により起こる。塩基で触媒される重合の
場合、ベンジルジメチルアミンのようなアミン、または
２，４，６−トリス（ジメチルアミノメチル）フェノー
ルおよびイミダゾール誘導体は最も有益な開始剤であ
る。最初にそれらの反応活性性の水素を介してエポキシ
基へ付加され次いで開始剤として作用するピペリジン、
ジエタノールアミンおよびイミダゾール誘導体のような
第二アミンもまた使用されている。カチオン重合の場
合、トリフルオロメタン、スルホン酸のような強いブレ
ンステッド酸、広範囲のルイス酸、それらの最も有用で
ある三フッ化ホウ素錯体はエポキシドのカチオン重合を
触媒できる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】エポキシドの独自の特
性は適当な感光性組成物が利用可能ならば光画像形成用
途（photoimaging applications)に使用できることであ
る。本来エポシドは典型的なフリーラジカル化学によっ
ては硬化できず、そして、そのためビニルエーテルまた
はアクリレートのような適当な反応性グループもまた存
在する場合にそれらはラジカル光重合系において使用で
きるのみである。これはいつも望ましいとは限らない。
エポキシ基の光化学的に開始される反応は適当な開始物
質（initiating species) を発生できる光開始剤を必要
とする。オニウムタイプのカチオン系開始剤、例えばジ
アリールヨードニウム塩またはトリアリールスルホニウ
ム塩は良く知られており、そしてエポキシドの光開始さ
れるカチオン重合のために使用できる。このカチオン重
合機構は酸素への非感受性のような現実的利点があるに
もかかわらず、紫外線硬化性配合物において塩基性の物
質が存在する場合にはそれを使用することができない。
従って、エポキシ基含有感光性組成物を硬化させるため
に使用できる有効な光発生性塩基触媒が必要とされてい
る。本発明の目的は、まずエポキシドへの重付加の塩基
性触媒用に使用できる第三アミン触媒を光化学的に発生
させるための新規な方法を提供することであり、第二に
相当する組成物を提供することである。

【０００５】光発生した(photogenerated)塩基触媒は既
に技術的によく知られており（例えば、Pureand Appl.C
hem.1992,64,1239) そしてフォトレジスト技術に適用さ
れている（例えば欧州特許第599 571 号公開公報、特開
平4-330444および欧州特許第555 749号公開公報) 。ア
ミンは現在まで最も有用な光発生される塩基である。し
かし、アミンの幾つかの公知の光発生剤、例えば置換さ
れたベンジルカルバメート（具体例はJ.Org.Chem.1990,
55,5919)は近紫外領域おける不十分な吸収という欠点を
もち、それは多くの用途にとってかなりの制限になる。
３００および４００ｎｍの間の領域でのより高い吸収に
よってアミンを発生させる光触媒が提案されているが、
例えばPolym. Mat. Sci. Eng. 1991,64 ,55 またはMacr
omol.1995,28,365参照、それらはイミンを形成する自由
アミンおよびカルボニル副産物の再結合が配合物の酸性
度に依存して起こり得るため、いつでも使用できるもの
ではない。さらにまた、それはエポキシドへの重付加に
対してまたはエポキシドアニオン重合に対してさほど有
効な触媒ではない第一または第二アミンを発生できるの
みである。

【０００６】第三アミンがエポキシドの反応に使用でき
る有効な塩基触媒であるということは良く知られている
が、それらを光化学的に発生させるための試みはあまり
記載されていない。テトラアルキルアンミニウム塩の光
分解は光化学的に第三アミンを発生させる方法として提
案されている（Polym. Mat. Sci. Eng.1995,72,201)。
これらの化合物は長い照射時間を要求し、好ましくない
吸収スペクトルを有しそしてそれらの構造は辛うじて変
化できるのみである。従って第三アミンの有効な光発生
剤に対する必要性が存在する。有用であるために、この
様な化合物は紫外線への曝露前の配合物に対して低い反
応性を示さなければならない。特にそれらを含む感光性
組成物の貯蔵安定性は高くあるべきで、かつそれらは溶
媒を除去するために通常必要な予備乾燥段階の後により
少なく現像可能となるべきではない。それらは光画像形
成工業(photoimaging industry) において通常使用され
る曝露条件下で有効に自由アミンを発生させるため、近
紫外領域において高い吸収性をもつべきである。最後
に、照射の後発生された塩基は熱硬化反応において高い
触媒活性を示すべきである。

【０００７】特定のα−アミノケトン化合物のラジカル
への光分解開裂および該ケトン化合物を使用するオレフ
ィン性不飽和モノマーおよびオリゴマーの光重合法は公
知であり、特に米国特許第 4 582 862号、米国特許第4
992 547 号、米国特許第5 077 402 号に記載されてい
る。欧州特許出願第555 749 号はハイブリッド系、即ち
ラジカルおよびカチオン重合性成分を含む系、における
潜在性塩基の使用を開示している。米国特許第4 943 51
6 号はラジカル重合性成分のための開始剤および特にエ
ポキシ成分のための硬化剤からなるハイブリッド系、な
らびにこの様な組成物を硬化する方法について開示して
いる。（４−メチルチオベンゾイル）−１−メチル−１
−モルホリノ−エタンはフリーラジカル重合性成分のた
めの光開始剤の例として示されている。

【０００８】

【課題を解決するための手段】ラジカル重合性組成物の
光硬化のための開始剤として既に公知である、特定の化
合物が塩基を発生させる（base generating)化合物、即
ち照射されると塩基を発生する化合物 (" 光塩基発生剤
(photobase generator) ” )としても適当であり、その
ため塩基で触媒される反応において使用できることが今
や見いだされた。

【０００９】従って本発明は （Ａ）潜在性塩基触媒として、次式Ｉ，IIまたはIII ：

【化１１】 ｛式中、Ａｒ₁ は次式IV，Ｖ，VIもしくはVII ：

【化１２】 で表される芳香族基を表し；Ｘは

【化１３】 、−Ｎ（Ｒ₁₁）−または−Ｎ（Ｒ₁₁）−Ｒ₁₂−Ｎ
（Ｒ₁₁）−で表される２価の基を表し；Ｙは炭素原子数
１ないし６のアルキレン基、シクロヘキシレン基もしく
は直接結合を表し、Ｕは−Ｏ−，−Ｓ−もしくは−Ｎ
（Ｒ₁₇）−を表し、ＶはＵで定義された意味の１つまた
は−ＣＯ−，−ＣＨ₂ −，−ＣＨ₂ ＣＨ₂−，炭素原子
数２ないし６のアルキリデン基もしくは直接結合を表
し、Ｗは枝分かれしていないまたは枝分れした炭素原子
数１ないし７のアルキレン基もしくは炭素原子数２ない
し６のアルキリデン基を表し、Ｒ₁ 及びＲ₂ はおのおの
互いに独立して （ａ）未置換であるかまたはＯＨ、炭素原子数１ないし
４のアルコキシ基、ＳＨ、ＣＮ、−ＣＯＯ（炭素原子数
１ないし８のアルキル）、（炭素原子数１ないし４のア
ルキル）−ＣＯＯ−、フェノキシ基、ハロゲン原子もし
くはフェニル基によって置換された炭素原子数１ないし
１２のアルキル基を表すか；あるいはシクロペンチル基
またはまたはシクロヘキシル基を表すか； （ｂ）式

【化１４】 （式中、ｐは０もしくは１を表す。）で表される基を表
すか；または （ｃ）式

【化１５】 （式中、ｑは０，１，２もしくは３を表す。）で表され
る基を表すか；または （ｄ）式

【化１６】 で表される基を表すか； （ｅ）未置換であるかまたはハロゲン原子、炭素原子数
１ないし１２のアルキル基もしくは炭素原子数１ないし
１２のアルコキシ基によって置換されたフェニル基を表
すか； （ｆ）Ｒ₁ およびＲ₂ は一緒になって、枝分かれしてな
いまたは枝分かれした、炭素原子数２ないし９のアルキ
レン基または炭素原子数３ないし９のオキサアルキレン
基を表すか、または次式：

【化１７】 で表される基を形成し〔上記基中、Ａｒ₂ は各々が、未
置換であるかまたはハロゲン原子、ＯＨ基、炭素原子数
１ないし１２のアルキル基によって置換された、または
ＯＨ基で、ハロゲン原子で、炭素原子数１ないし１２の
アルコキシ基で、−ＣＯＯ（炭素原子数１ないし１８の
アルキル）で、−ＣＯ（ＯＣＨ₂ ＣＨ₂ )_n ＯＣＨ₃ で
もしくは−ＯＣＯ（炭素原子数１ないし４）アルキル基
で置換された炭素原子数１ないし４のアルキル基によっ
て置換された、フェニル基、ナフチル基、チエニル基ま
たはフリル基；あるいは炭素原子数１ないし１２のアル
コキシ基によって、または−ＣＯＯ（炭素原子数１ない
し１８のアルキル）でもしくは−ＣＯ（ＯＣＨ₂ ＣＨ₂
)_n ＯＣＨ₃ で置換された炭素原子数１ないし４のアル
コキシ基によって置換された、フェニル基、ナフチル
基、チエニル基またはフリル基；あるいは−（ＯＣＨ₂
ＣＨ₂ )_n ＯＨで、−（ＯＣＨ₂ ＣＨ₂ )_n ＯＣＨ
₃ で、炭素原子数１ないし８のアルキルチオ基で、フェ
ノキシ基で、−ＣＯＯ（炭素原子数１ないし１８のアル
キル）で、−ＣＯ（ＯＣＨ₂ ＣＨ₂ )_n ＯＣＨ₃ で、フ
ェニル基でもしくはベンゾイル基で置換された、フェニ
ル基、ナフチル基、フリル基、チエニル基またはピリジ
ル基を表し、ｎは１−２０を表し、ｍは１もしくは２を
表す。〕；Ｒ₃ は炭素原子数１ないし１２のアルキル
基；−ＯＨ、−炭素原子数１ないし４のアルコキシ、−
ＣＮもしくは−ＣＯＯ（炭素原子数１ないし４のアルキ
ル）で置換された炭素原子数２ないし４のアルキル基を
表すか、または、Ｒ₃ は炭素原子数３ないし５のアルケ
ニル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基ま
たはフェニル−炭素原子数１ないし３のアルキル基を表
し；Ｒ₄ は炭素原子数１ないし１２のアルキル基；また
は−ＯＨ、−炭素原子数１ないし４のアルコキシ基、−
ＣＮもしくは−ＣＯＯ（炭素原子数１ないし４のアルキ
ル）で置換された炭素原子数２ないし４のアルキル基を
表すかまたはＲ₄ は炭素原子数３ないし５のアルケニル
基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、フェ
ニル−炭素原子数１ないし３のアルキル基、または、未
置換であるかまたは炭素原子数１ないし１２のアルキル
基、炭素原子数１ないし４のアルコキシ基もしくは−Ｃ
ＯＯ（炭素原子数１ないし４のアルキル）によって置換
されたフェニル基を表すか、あるいはＲ₄ はＲ₂ と一緒
になって炭素原子数１ないし７のアルキレン基、フェニ
ル−炭素原子数１ないし４のアルキレン基、ｏ−キシリ
レン基、２−ブテニレン基または炭素原子数２もしくは
３のオキサアルキレン基を表すか、あるいはＲ₃ 及びＲ
₄ は一緒になって−Ｏ−、−Ｓ−もしくは−ＣＯ−で中
断され得る炭素原子数４ないし７のアルキレン基を表す
か、またはＲ₃ およびＲ₄ は一緒になってＯＨ、炭素原
子数１ないし４のアルコキシ基もしくは−ＣＯＯ（炭素
原子数１ないし４のアルキル）で置換され得る炭素原子
数３ないし７のアルキレン基を表し；Ｒ₅ ，Ｒ₆ ，
Ｒ₇ ，Ｒ₈ 及びＲ₉ は、各々互いに独立して水素原子、
ハロゲン原子、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、
シクロペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ベ
ンジル基、ベンゾイル基、または基−ＯＲ₁₇、−Ｓ
Ｒ₁₈、−ＳＯＲ₁₈、−ＳＯ₂ Ｒ₁₈、−Ｎ（Ｒ₂₀）
（Ｒ₁₉）、−ＮＨ−ＳＯ₂ Ｒ₂₁または次式：

【化１８】 （式中、Ｚは−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ（Ｒ₁₁）−、−Ｎ
（Ｒ₁₁）−Ｒ₁₂−Ｎ−（Ｒ₁₁）−もしくは

【化１９】 を表す。）を表し；Ｒ₁₀は水素原子、炭素原子数１ない
し１２のアルキル基、ハロゲン原子または炭素原子数２
ないし８のアルカノイル基を表し；Ｒ₁₁は炭素原子数１
ないし８のアルキル基、炭素原子数３ないし５のアルケ
ニル基、フェニル−炭素原子数１ないし３のアルキル
基、炭素原子数１ないし４のヒドロキシアルキル基もし
くはフェニル基を表し；Ｒ₁₂は１もしくはそれ以上の−
Ｏ−または−Ｓ−により中断され得る枝分かれしていな
いまたは枝分かれした炭素原子数２ないし１６のアルキ
レン基を表し；Ｒ₁₃は水素原子、炭素原子数１ないし８
のアルキル基またはフェニル基を表し；Ｒ₁₄，Ｒ₁₅及び
Ｒ₁₆は互いに独立して水素原子もしくは炭素原子数１な
いし４のアルキル基を表すか、あるいはＲ₁₄及びＲ₁₅は
一緒になって炭素原子数３ないし７のアルキレン基を表
し；Ｒ₁₇は水素原子、炭素原子数１ないし１２のアルキ
ル基；−ＳＨ、−ＣＮ、−ＯＨ、炭素原子数１ないし４
のアルコキシ基、炭素原子数３ないし６のアルケノキシ
基、−ＯＣＨ₂ ＣＨ₂ ＣＮ、−ＯＣＨ₂ ＣＨ₂ ＣＯＯ
（炭素原子数１ないし４のアルキル）、−ＣＯＯＨまた
は未置換であるかもしくはＳＨで置換された−Ｏ−ＣＯ
−炭素原子数１ないし４のアルキル基によって置換され
た炭素原子数２ないし６のアルキル基を表すか、あるい
はＲ₁₇は−ＣＯＯ（炭素原子数１ないし４のアルキル）
を表すか、あるいはＲ₁₇は１以上の−Ｏ−により中断さ
れた炭素原子数１ないし６のアルキル基を表すか、ある
いはＲ₁₇は−（ＣＨ₂ ＣＨ₂ Ｏ )_n Ｈ、炭素原子数２な
いし８のアルカノイル基、炭素原子数３ないし１２のア
ルケニル基、シクロヘキシル基、ヒドロキシシクロヘキ
シル基；未置換であるかまたはハロゲン原子、炭素原子
数１ないし１２のアルキル基もしくは炭素原子数１ない
し４のアルコキシ基で置換されたフェニル基を表すか、
あるいはＲ₁₇はフェニル−炭素原子数１ないし３のアル
キル基または−Ｓｉ（炭素原子数１ないし８のアルキル
基 )_r (フェニル)_3-r（式中、ｒは１、２または３を表
す。）を表し；Ｒ₁₈は水素原子、炭素原子数１ないし１
２のアルキル基、炭素原子数３ないし１２のアルケニル
基、シクロヘキシル基；−ＳＨ、−ＯＨ、−ＣＮ、−Ｃ
ＯＯＨ、−ＣＯＯ（炭素原子数１ないし４のアルキ
ル）、炭素原子数１ないし４のアルコキシ基、−ＯＣＨ
₂ ＣＨ₂ ＣＮもしくは、未置換であるかもしくはＳＨで
置換された−Ｏ−ＣＯ−炭素原子数１ないし４のアルキ
ル基によって置換された炭素原子数２ないし１２のアル
キル基を表すか、あるいはＲ₁₈は−ＯＣＨ₂ ＣＨ₂ −Ｃ
ＯＯ（炭素原子数１ないし４のアルキル）を表すか、あ
るいはＲ₁₈は−Ｓ−もしくは−Ｏ−で中断された炭素原
子数１ないし１２のアルキル基を表すか、あるいはＲ₁₈
は未置換であるかまたはハロゲン原子、ＳＨ、炭素原子
数１ないし１２のアルキル基もしくは炭素原子数１ない
し４のアルコキシ基で置換されたフェニル基を表すか、
あるいはＲ₁₈はフェニル−炭素原子数１ないし３のアル
キル基を表し；Ｒ₁₉およびＲ₂₀は各々互いに独立して、
炭素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子数２な
いし４のヒドロキシアルキル基、炭素原子数２ないし１
０のアルコキシアルキル基、炭素原子数３ないし５のア
ルケニル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル
基、フェニル−炭素原子数１ないし３のアルキル基；未
置換のもしくはハロゲン原子、炭素原子数１ないし１２
のアルキル基もしくは炭素原子数１ないし４のアルコキ
シ基で置換されたフェニル基を表すか、あるいはＲ₁₉お
よびＲ₂₀は炭素原子数２ないし３のアルカノイル基また
はベンゾイル基を表すか；あるいはＲ₁₉およびＲ₂₀は一
緒になって−Ｏ−もしくは−Ｓ−により中断され得る炭
素原子数２ないし８のアルキレン基を表すか；あるいは
Ｒ₁₉およびＲ₂₀は一緒になってヒドロキシル基、炭素原
子数１ないし４のアルコキシ基もしくは−ＣＯＯ（炭素
原子数１ないし４のアルキル）により置換され得る炭素
原子数２ないし８のアルキレン基を表し；およびＲ₂₁は
炭素原子数１ないし１８のアルキル基；未置換であるか
またはハロゲン原子、炭素原子数１ないし１２のアルキ
ル基もしくは炭素原子数１ないし８のアルコキシ基によ
り置換されたフェニル基を表すか、あるいはＲ₂₁はナフ
チル基を表す。｝で表される化合物、または式Ｉ、式II
もしくはIII で表される化合物の酸付加塩、の少なくと
も１種； （Ｂ）塩基で触媒される反応中で反応可能な有機化合物
の少なくとも１種；ならびに （Ｃ）所望により、増感剤からなる組成物に関する。

【００１０】本発明の他の目的は塩基で触媒される重合
反応における塩基を光化学的に発生させる方法であっ
て、重合される混合物に潜在性塩基として上記で定義さ
れた式Ｉ、式IIまたは式III で表される化合物を添加し
そして２００ないし７００ｎｍの波長の光で照射して塩
基を発生させることを特徴とする方法である。

【００１１】

【発明の実施の形態】式Ｉ、式IIまたは式III で表され
る化合物の少なくとも１種が本発明の組成物に存在す
る。従って式Ｉ、式IIまたは式III で表される化合物の
混合物が組成物中に存在してよく、例えば式Ｉ、式IIま
たは式III で表される化合物の１ないし４種、好ましく
は１ないし２種が存在する。

【００１２】炭素原子数１ないし４のアルキル基Ｒ₁₄，
Ｒ₁₅及びＲ₁₆は、例えばメチル基、エチル基、プロピル
基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、第二ブ
チル基もしくは第三ブチル基であることができる。更に
炭素原子数１ないし８のアルキル基Ｒ₂ ，Ｒ₁₁及びＲ₁₃
は例えばペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチ
ル基、２−エチルヘキシル基もしくは２，２，４，４−
テトラメチルブチル基であることができる。炭素原子数
１ないし１２のアルキル基Ｒ₃ 、Ｒ₄ 、Ｒ₅ 、Ｒ₆ 、Ｒ
₇ 、Ｒ₈ 、Ｒ₉ 、Ｒ₁₀、Ｒ₁₇、Ｒ₁₈、Ｒ₁₉およびＲ₂₀は
更に例えばノニル基、デシル基、イソデシル基、ウンデ
シル基もしくはドデシル基でありうる。炭素原子数３な
いし５のアルケニル基Ｒ₃ 、Ｒ₄ 、Ｒ₁₁、Ｒ₁₉およびＲ
₂₀は、例えばアリル基、メタリル基、クロチル基もしく
はジメチルアリル基であることができるが、アリル基が
好ましい。炭素原子数３ないし１２のアルケニル基Ｒ₁₇
及びＲ₁₈は更に例えばヘキセニル基、オクテニル基もし
くはデセニル基でありうる。シクロアルキル基としての
Ｒ₂ 、Ｒ₅ 、Ｒ₆ 、Ｒ₇ 、Ｒ₈ 及びＲ₉ は特にシクロヘ
キシル基である。炭素原子数５ないし１２のシクロアル
キル基Ｒ₃ 、Ｒ₄ 、Ｒ₁₉及びＲ₂₀は更に例えばシクロオ
クチル基もしくはシクロドデシル基でありうる。フェニ
ル−炭素原子数１ないし３のアルキル基Ｒ₃ 、Ｒ₄ 、Ｒ
₁₇、Ｒ₁₈、Ｒ₁₉およびＲ₂₀は特にベンジル基である。炭
素原子数１ないし６のアルキレン基Ｙは、例えばメチレ
ン基またはジ−、トリ−、テトラ−、ペンタ−もしくは
ヘキサメチレン基である。炭素原子数１ないし７のアル
キレン基Ｗは、例えばメチレン基、エチレン基、１，２
−プロピレン基もしくは１，２−ヘキシレン基でありう
る。アルキリデン基は１つの炭素原子に２つの自由電子
価を有する枝分かれしていないまたは枝分かれしたアル
キル鎖

【化２０】 である。従って炭素原子数２ないし６のアルキリデン基
Ｖ及びＷは例えばエチリデン基、プロピリデン基、イソ
プロピリデン基、ブチリデン基、イソブチリデン基もし
くはヘキシリデン基でありうる。

【００１３】Ａｒ₂ の例は、フェニル基、１−ナフチル
基、２−ナフチル基、２−フリル基、２−チエニル基、
４−クロロフェニル基、トリル基、４−イソプロピルフ
ェニル基、４−オクチルフェニル基、３−メトキシフェ
ニル基、４−フェノキシフェニル基、４−フェニルフェ
ニル基、４−ベンゾイルフェニル基および４−クロロ−
１−ナフチル基の群である。

【００１４】置換されたアルキル基Ｒ₂ の例は、２−メ
トキシエチル基、３−ブトキシプロピル基、２−イソプ
ロポキシエチル基、４−フェノキシブチル基、２−クロ
ロエチル基、３−クロロプロピル基、２−フェニルエチ
ル基もしくは３−フェニルプロピル基である。置換され
たフェニル基Ｒ₂ の例は、４−クロロフェニル基、３−
メトキシフェニル基、４−トリル基もしくは４−ブチル
フェニル基の群である。置換されたアルキル基Ｒ₃ 及び
Ｒ₄ は、例えば２−ヒドロキシエチル基、２−ヒドロキ
シプロピル基、２−ヒドロキシイソブチル基、２−エト
キシエチル基、２−メトキシプロピル基、２−ブトキシ
エチル基、２−シアノエチル基、２−エトキシカルボニ
ルエチル基もしくは２−メトキシカルボニルエチル基で
ありうる。

【００１５】置換されたフェニル基Ｒ₄ は例えば３−ク
ロロフェニル基、４−クロロフェニル基、４−トリル
基、４−第三ブチルフェニル基、４−ドデシルフェニル
基、３−メトキシフェニル基もしくは３−メトキシカル
ボニルフェニル基でありうる。Ｒ₄ がＲ₂ と一緒になっ
てアルキレン基もしくはフェニルアルキレン基を表すと
き、該基は、それらが結合しているＣ原子及びＮ原子と
一緒になって５−もしくは６員の複素環を形成するのが
好ましい。Ｒ₃ 及びＲ₄ が一緒になってアルキレン基も
しくは中断されたアルキレン基を表すとき、該基は、そ
れらが結合しているＮ原子と一緒になって、５−もしく
は６員の複素環を形成するのが好ましく、例えば１もし
くはそれ以上のアルキル基、ヒドロキシル基、アルコキ
シ基もしくはエステル基により置換され得るピロリジ
ン、ピペリジン、モルホリン、チオモルホリンまたはピ
ペリドン環である。

【００１６】炭素原子数２ないし８のアルカノイル基Ｒ
₁₀およびＲ₁₇は、例えばプロピオニル基、ブチリル基、
イソブチリル基、ヘキサノイル基もしくはオクタノイル
基でありうるが、特にアセチル基である。炭素原子数１
ないし４のヒドロキシアルキル基もしくは炭素原子数２
ないし４のヒドロキシアルキル基Ｒ₁₁、Ｒ₁₉およびＲ₂₀
は、例えば２−ヒドロキシエチル基、２−ヒドロキシプ
ロピル基もしくは４−ヒドロキシブチル基でありうる。
アルキレン基もしくは中断されたアルキレン基Ｒ₁₂は、
例えばエチレン基、トリ−、テトラ−、ペンタ−、ヘキ
サ−、オクタ−もしくはドデカメチレン基、２，２−ジ
メチルトリメチレン基、１，３，３−トリメチルテトラ
メチレン基、３−オキサ−ペンタメチレン基、３−オキ
サ−ヘプタメチレン基、４，７−ジオキサ−デカメチレ
ン基、４，９−ジオキサドデカメチレン基、３，６，
９，１２−テトラオキサ−テトラデカメチレン基または
４−チア−ヘプタメチレン基でありうる。炭素原子数１
ないし６のアルキル基が１以上のＯ原子で中断されてい
る場合は例えば１ないし３、あるいは１または２のＯ原
子で中断されている。Ｒ₁₄及びＲ₁₅が一緒になって炭素
原子数３ないし７のアルキレン基を表すとき、それらは
特に１，３−もしくは１，４−アルキレン基であり、例
えば１，３−プロピレン基、１，３−ブチレン基、２，
４−ペンチレン基、１，３−ヘキシレン基、１，４−ブ
チレン基、１，４−ペンチレン基もしくは２，４−ヘキ
シレン基である。

【００１７】置換されたフェニル基Ｒ₁₇、Ｒ₁₈、Ｒ₁₉お
よびＲ₂₀は、例えば４−クロロフェニル基、３−クロロ
フェニル基、４−トリル基、４−第三ブチルフェニル
基、４−ノニルフェニル基、４−ドデシルフェニル基、
３−メトキシフェニル基もしくは４−エトキシフェニル
基でありうる。−Ｓｉ（炭素原子数１ないし８のアルキ
ル）_r （フェニル）_3-r 基Ｒ₁₇は、特に−Ｓｉ（Ｃ
Ｈ₃ ）₃ ，−Ｓｉ（フェニル）₂ ＣＨ₃ ，−Ｓｉ（ＣＨ
₃ ）₂ フェニル，−Ｓｉ（ＣＨ₃ ）₂ −〔Ｃ（ＣＨ₃ ）
₂ ＣＨ（ＣＨ₃ ）₂ 〕もしくは−Ｓｉ（フェニル）₃ で
ある。置換された炭素原子数１ないし６のアルキル基Ｒ
₁₇は、例えば２−ヒドロキシエチル基、２−メトキシエ
チル基もしくは２−アリルオキシエチル基である。置換
された炭素原子数１ないし６のアルキル基Ｒ₁₈は、例え
ば２−メルカプトエチル基、２−ヒドロキシエチル基、
２−ヒドロキシプロピル基、２−メトキシエチル基、−
ＣＨ₂ ＣＨ₂ ＯＣＨ₂ ＣＨ₂ ＣＮもしくは−ＣＨ₂ ＣＨ
₂ ＯＣＨ₂ＣＨ₂ ＣＯＯＣＨ₃ でありうる。

【００１８】アルコキシアルキル基Ｒ₁₉及びＲ₂₀は、例
えばメトキシエチル基、エトキシエチル基、２−エトキ
シプロピル基、２−ブトキシエチル基、３−メトキシプ
ロピル基もしくは２−ヘキシルオキシエチル基である。
炭素原子数２もしくは３のアルカノイル基Ｒ₁₉およびＲ
₂₀は特にアセチル基である。置換されたフェニル基もし
くはナフチル基Ｒ₂₁は、例えば４−トリル基、４−ブロ
モフェニル基、３−クロロフェニル基、４−ブチルフェ
ニル基、４−オクチルフェニル基、４−デシルフェニル
基、４−ドデシルフェニル基、３−メトキシフェニル
基、４−イソプロポキシフェニル基、４−ブトキシフェ
ニル基、４−オクチルオキシフェニル基、クロロナフチ
ル基、ノニルナフチル基もしくはドデシルナフチル基で
ありうる。Ｒ₁₉およびＲ₂₀が一緒になってアルキレン基
もしくは中断されたアルキレン基を表すとき、該基は、
それが結合しているＮ原子と一緒になって複素環を形成
するが、好ましくはアルキル基、ヒドロキシル基、アル
コキシ基もしくはエステル基により置換され得る５もし
くは６員環である。そのような環の例は、ピロリジン、
ピペリジン、４−ヒドロキシピペリジン、３−エトキシ
カルボニルピペリジン、モルホリンまたは２，６−ジメ
チル−モルホリン環である。

【００１９】全てのこれらの化合物は、少なくとも１種
の塩基性アミノ基を有し、それを故酸を添加することに
より相当する塩に変換することができる。酸は無機もし
くは有機酸でありうる。そのような酸の例は、ＨＣｌ，
ＨＢｒ，Ｈ₂ ＳＯ₄ ，Ｈ₃ ＰＯ₄ ，モノ−もしくはポリ
カルボン酸、例えば酢酸、オレイン酸、コハク酸、セバ
シン酸、酒石酸もしくはＣＦ₃ ＣＯＯＨ，及びスルホン
酸、例えばＣＨ₃ ＳＯ₃ Ｈ，Ｃ₁₂Ｈ₂₅ＳＯ₃ Ｈ，ｐ−Ｃ
₁₂Ｈ₂₅−Ｃ₆ Ｈ₄ −ＳＯ₃ Ｈ，ｐ−ＣＨ₃ −Ｃ₆ Ｈ₄ −
ＳＯ₃ ＨもしくはＣＦ₃ ＳＯ₃ Ｈである。

【００２０】式Ｉで表される好ましい化合物は、Ａｒ₁
が基IVで表される基を表し；Ｒ₅ 及びＲ₆ が水素原子、
ハロゲン原子、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、
または基−ＯＲ₁₇、−ＳＲ₁₈、−ＳＯＲ₁₈、−ＳＯ₂ −
Ｒ₁₈、−Ｎ（Ｒ₁₉）（Ｒ₂₀）、−ＮＨ−ＳＯ₂ −Ｒ₂₁、
または次式；

【化２１】 （式中、Ｚは−Ｏ−，−Ｓ−，−Ｎ（Ｒ₁₁）−もしくは
−Ｎ（Ｒ₁₁）−Ｒ₁₂−Ｎ（Ｒ₁₁）−を表す。）で表され
る基を表し；Ｒ₇ 及びＲ₈ が水素原子を表し；Ｒ₉ が水
素原子、ハロゲン原子もしくは炭素原子数１ないし１２
のアルキル基を表し；並びにＲ₁ 、Ｒ₂ 、Ｒ₃ 、Ｒ₄ 、
Ｒ₁₁、Ｒ₁₂、Ｒ₁₇、Ｒ₁₈、Ｒ₁₉およびＲ₂₀が上記で定義
した意味を表すものである。

【００２１】Ａｒ₁ が式IVで表される基を表し；Ｒ₅ が
基−ＯＲ₁₇、−ＳＲ₁₈、−Ｎ（Ｒ₁₉）（Ｒ₂₀）もしくは
基

【化２２】 を表す式Ｉで表される化合物のうち、好ましい化合物
は、Ｒ₆ が水素原子、ハロゲン原子もしくは炭素原子数
１ないし４のアルキル基、またはＲ₅ で定義された意味
のうちのひとつを表し；Ｒ₇ 及びＲ₈ は水素原子もしく
はハロゲン原子を表し；Ｒ₉ が水素原子もしくは炭素原
子数１ないし４のアルキル基を表し；Ｚが−Ｏ−，−Ｓ
−もしくは−Ｎ（Ｒ₁₁）−を表し；Ｒ₁ およびＲ₂ が各
々互いに独立して （ａ）炭素原子数１ないし６のアルキル基； （ｂ）式

【化２３】 で表される基、または （ｄ）式−ＣＨ（Ｒ₁₃）−Ａｒ₂ （式中、Ａｒ₂ は未置
換またはハロゲン原子、炭素原子数１ないし４のアルキ
ル基、メチルチオ基、メトキシ基もしくはベンゾイル基
により置換されたフェニル基を表し；Ｒ₃ 及びＲ₄ が互
いに独立して炭素原子数１ないし１２のアルキル基、ま
たは炭素原子数１ないし４のアルコキシ基、−ＣＮもし
くは−ＣＯＯ（炭素原子数１ないし４のアルキル）によ
り置換された炭素原子数２ないし４のアルキル基、また
はＲ₃ およびＲ₄ はアリル基、シクロヘキシル基もしく
はベンジル基を表すか、またはＲ₃ 及びＲ₄ が一緒にな
って−Ｏ−により中断され得る炭素原子数４ないし６の
アルキレン基を表し；Ｒ₁₁が炭素原子数１ないし４のア
ルキル基、アリル基、ベンジル基もしくは炭素原子数２
ないし４のアルカノイル基を表し；Ｒ₁₂が炭素原子数２
ないし６のアルキレン基を表し；Ｒ₁₃、Ｒ₁₄、Ｒ₁₅およ
びＲ₁₆が互いに独立して水素原子もしくはメチル基を表
し；Ｒ₁₇が未置換であるかまたはＳＨ−置換された、炭
素原子数１ないし４のアルキル基、２−ヒドロキシエチ
ル基、２−メトキシエチル基、２−アリルオキシエチル
基、アリル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ベンジ
ル基もしくは−Ｓｉ（ＣＨ₃ ）₃ を表し；Ｒ₁₈が水素原
子、未置換のもしくはＳＨ−置換された炭素原子数１な
いし１２のアルキル基、２−ヒドロキシエチル基、２−
メトキシエチル基、未置換のもしくはＳＨ−置換された
フェニル基を表すか、またはｐ−トリル基もしくはベン
ジル基を表し；並びにＲ₁₉及びＲ₂₀が互いに独立して炭
素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子数２ない
し６のアルコキシアルキル基、アセチル基、アリル基も
しくはベンジル基を表すか、またはＲ₂₀及びＲ₁₂が一緒
になって−Ｏ−により中断され得る炭素原子数４ないし
６のアルキレン基を表すものである。

【００２２】特に好ましい式Ｉで表される化合物はＡｒ
₁ が、式IVで表される基を表し；Ｒ₅ が基−ＯＲ₁₇、−
ＳＲ₁₈またはＮ（Ｒ₁₉）（Ｒ₂₀）を表し；Ｒ₆ が水素原
子、クロロ基もしくは炭素原子数１ないし４のアルキル
基を表すか、またはＲ₅ に対して与えられた意味の一つ
をもち；Ｒ₇ およびＲ₈ が水素原子またはクロロ基を表
し；Ｒ₉ が水素原子または炭素原子数１ないし４のアル
キル基を表し；Ｒ₁ が（ａ）式

【化２４】 で表される基または（ｂ）−ＣＨ₂ −Ａｒ₂ （基中、Ａ
ｒ₂ は未置換であるかまたはハロゲン原子、炭素原子数
１ないし４のアルキル基、ＣＨ₃ Ｓ−、ＣＨ₃ Ｏ−もし
くはベンジル基で置換されたフェニル基を表す。）で表
される基の何れかを表し；Ｒ₂ はＲ₁ に対して与えられ
た意味の一つを表すか、または炭素原子数１ないし４の
アルキル基を表し；Ｒ₃ およびＲ₄ は各々互いに独立し
て炭素原子数１ないし６のアルキル基、２−メトキシエ
チル基、アリル基またはベンジル基を表すか、またはＲ
₃ およびＲ₄ は一緒になって、テトラメチレン基、ペン
タメチレン基または３−オキサペンタメチレン基を表
し；Ｒ₁₄およびＲ₁₅は水素原子またはメチルを表し；Ｒ
₁₇は未置換のもしくはＳＨで置換された炭素原子数１な
いし４のアルキル基、２−ヒドロキシエチル基、２−メ
トキシエチル基またはフェニル基を表し；Ｒ₁₈は未置換
のもしくはＳＨで置換された炭素原子数１ないし１２の
アルキル基、２−ヒドロキシエチル基、２−メトキシエ
チル基または未置換のもしくはＳＨで置換されたフェニ
ル基を表すかまたはｐ−トリル基を表し；ならびにＲ₁₉
およびＲ₂₀は水素原子、炭素原子数１ないし４のアルキ
ル基、２−メトキシエチル基、アセチル基またはアリル
基を表すか、またはＲ₁₉およびＲ₂₀は一緒になって−Ｏ
−により中断され得る炭素原子数４ないし５のアルキレ
ン基を表す化合物である。

【００２３】特別に好ましいものは式Ｉで表される化合
物が（４−モルホリノ−ベンゾイル）−１−ベンジル−
１−ジメチルアミノプロパンであるものである。

【００２４】さらにＡｒ₁ が式IVで表される基を表し；
Ｒ₅ が基−ＳＲ₁₈を表し；Ｒ₁ がベンジル基またはアリ
ル基を表し；Ｒ₆ が水素原子またはメトキシ基を表し；
およびＲ₇ 、Ｒ₈ およびＲ₉ が水素原子を表す式Ｉで表
される化合物が好ましい。

【００２５】さらにまた、Ａｒ₁ が式IVで表される基を
表し；Ｒ₁ およびＲ₂ が各々互いに独立して炭素原子数
１ないし８のアルキル基、アリル基、ベンジル基を表
し；およびＲ₅ が基−ＯＲ₁₇、−Ｎ（Ｒ₂₀）（Ｒ₁₉）ま
たは−ＳＲ₁₈を表す式Ｉで表される化合物が好ましく、
特に（４−メチルチオベンゾイル）−１−メチル−１−
モルホリノエタンである。

【００２６】好ましいものはＡｒ₁ が、式IVで表される
基であり；Ｒ₁ およびＲ₂ が各々互いに独立して炭素原
子数１ないし４のアルキル基またはベンジル基を表し；
Ｒ₃ およびＲ₄ は各々互いに独立して炭素原子数１ない
し４のアルキル基を表すかまたは一緒になってモルホリ
ノ基を表し；Ｒ₅ がモルホリノ基または炭素原子数１な
いし４のアルキルチオ基を表し；ならびにＲ₆ 、Ｒ₇ 、
Ｒ₈ およびＲ₉ が水素原子を表す式Ｉで表される化合物
である。

【００２７】Ａｒ₁ が式IVで表される基であり、Ｒ₅ が
基−Ｎ（Ｒ₁₉）（Ｒ₂₀）である式Ｉで表される化合物の
うち、Ｒ₇ およびＲ₈ が水素原子を表すものが好まし
く、およびＲ₆ 、Ｒ₇ 、Ｒ₈ およびＲ₉ が水素原子を表
すものも好ましく、ならびにＲ₁ がアリル基およびベン
ジル基を表すものが好ましい。

【００２８】式Ｉで表される好ましい化合物はさらにＡ
ｒ₁ が式IVで表される基を表し；Ｒ₅ は水素原子、ハロ
ゲン原子または炭素原子数１ないし１２のアルキル基を
表し、およびＲ₆ 、Ｒ₇ 、Ｒ₈ およびＲ₉ は水素原子を
表し；Ｒ₁ はアリル基またはベンジル基を表し；Ｒ₂ は
炭素原子数１ないし６のアルキル基、アリル基またはベ
ンジル基を表し；Ｒ₃ およびＲ₄ は互いに独立して炭素
原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子数１ないし
４のアルコキシ基で、−ＣＮでまたは−ＣＯＯ（炭素原
子数１ないし４のアルキル）で置換された炭素原子数２
ないし４のアルキル基を表すか、またはＲ₃ およびＲ₄
はアリル基、シクロヘキシル基またはベンジル基を表す
かあるいはＲ₃ およびＲ₄ は一緒になって−Ｏ−によっ
て中断され得る炭素原子数４ないし６のアルキレン基を
表す）で表される基である化合物である。

【００２９】式Ｉで表される個々の化合物の例は米国特
許第 5 077 402号公報、第７欄，第６５行ないし第１６
欄，第１５行ならびにこの参照文献の表１に記載され
る。

【００３０】式Ｉ、IIおよびIII で表される化合物の製
造方法は公知であり、および特に米国特許第4 582 862
号、米国特許第4 992 547 号および米国特許 5 077 402
号公報に記載されている。

【００３１】本発明によれば、式Ｉ、IIおよびIII で表
される化合物は潜在性塩基触媒、即ちそれは輻射線硬化
性系において光化学的に活性化される塩基の発生剤とし
て使用できる。硬化できる系は例えば置換反応、付加反
応または縮合反応であってよい塩基触媒反応において反
応できる有機化合物である。

【００３２】塩基は組成物の曝露された領域においての
み光発生し、そのため例えば光塩基触媒によって硬化さ
れる光画像形成可能な熱硬化性組成物が、さらにラジカ
ル重合工程の必要性も全くなく容易に製造できる。その
ため本発明の方法はエチレン性不飽和二重結合を必ずし
も含まない組成物を硬化するために有益であり、そして
アニオンの機構により硬化される新しい光画像形成可能
な熱硬化性の組成物を提供する。

【００３３】潜在性塩基でまたは記載した方法において
それぞれ硬化される成分（Ｂ）は一般的に少なくとも１
つのエポキシド基と塩基の存在下でエポキシドと反応可
能な基の少なくとも１つを含む化合物である。成分
（Ｂ）は少なくとも１つのエポキシド化合物と塩基の存
在下でエポキシドと反応可能な化合物の少なくとも１つ
を含む化合物との混合物であってもよい。

【００３４】塩基の存在下でエポキシドと反応できる化
合物は特にカルボン酸のようなカルボキシル化合物およ
び酸無水物およびチオールである。アルコール、アミン
およびアミド、一般に”活性な”Ｈ原子を含む化合物も
また適当である。本発明による潜在性塩基により硬化で
きるエポキシド化合物は一般にエポキシド基を含むいず
れかの化合物、単量体もしくは二量体エポキシドならび
にエポキシドをもつ低重合性または重合性化合物であ
る。代表例は、エポキシド化アクリレート、ビスフェノ
ールＡのグリシジルエーテル例えば２，２−ビス［４−
（２，３−エポキシプロポキシ）フェニル］プロパン、
フェノールおよびクレゾールエポキシノボラック、脂肪
族ジオールのグリシジルエーテル、水素化ビスフェノー
ルＡのジグリシジルエーテル代表的には２，２−ビス
［２，−（２，３−エポキシプロポキシ）シクロヘキシ
ル］プロパン、１，１，２，２−テトラキス［４−
（２，３−エポキシプロポキシ）フェニル］エタン、ト
リグリシジルイソシアヌレートおよび当業者によく知ら
れた多くの他のものである。好ましいものは少なくとも
２つのエポキシド基をもつ化合物である。

【００３５】エポキシド化合物は、特にウルマン工業化
学大辞典（Ullmann's Encyclopediaof Industrial Chem
istry),第５版，Ａ９巻、Weinheim, New York, 547-553
頁に記載されている。本発明においてはエポキシドと
反応できる化合物として、少なくとも１つのカルボン酸
基をもつカルボン酸のいずれかの種類、例としてはジカ
ルボン酸または高分子の酸（polymeric acids)を使用で
きる。特別な例はマロン酸、コハク酸、グルタル酸、ア
ジピン酸、セバシン酸、フタル酸、テレフタル酸、マレ
イン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、部分的にケン化
されたポリアクリレートのような高分子の酸、例えばGo
odrich,USA提供のCarboset樹脂である。酸機能をもつま
たはもたない不飽和化合物のコポリマーを使用すること
も可能である。具体例は登録商標名Scripsetの下にモン
サント社から販売されている部分的にエステル化された
スチレン−マレイン酸無水物コポリマーである。エポキ
シドおよび酸基の両方を含むコポリマーもまた、本発明
において使用できる。適当な酸無水物は、特に二塩基酸
無水物である。特別な例はフタル酸無水物、メチルテト
ラヒドロフタル酸無水物、テトラヒドロフタル酸無水
物、ヘキサヒドロフタル酸無水物、メチルヘキサヒドロ
フタル酸無水物、コハク酸無水物、マレイン酸無水物、
イタコン酸無水物およびナド酸無水物である。具体例は
とりわけ、米国特許第 5 009 982号および特開平1-1419
04に開示される。好ましいものは架橋可能であるため少
なくとも２個の酸基をもつ化合物である。代表的な適当
なチオールは単量体の、低重合体の、脂肪族のまたは芳
香族のチオールである。このようなチオールの特別な例
はペンタエリトリトールテトラ（メルカプトアセテー
ト）、ペンタエリトリトールテトラ（メルカプトプロピ
オネート）、４，４′−チオビスベンゼンチオール、ジ
チオトレイトール、メルカプトエタノール、ドデカンチ
オール、チオグリコル酸、３−メルカプトプロピオン酸
またはエチレングリコールジメルカプトアセテートであ
る。

【００３６】本発明の成分（Ｂ）として適当な系の他の
例は、特に、欧州特許第 706 091号、欧州特許第 747 7
70号、国際公開 96/41240 および独国特許第 196 22 46
4 号に記載される。本発明の潜在性塩基により硬化でき
る樹脂のより他の例は、特に米国特許第 4 943 516号に
記載されている。

【００３７】重要な組成物は、成分（Ｂ）が塩基で触媒
されて重合可能なまたは硬化可能な有機材料である。有
機材料は一もしくは多官能性モノマー、オリゴマーまた
はポリマーであってよい。好ましい低重合性／重合性系
は以下に示すものである： １． アルコキシシラン側基もしくはアルコキシシロキ
サン側基をもつアクリレートコポリマー、例えば米国特
許第 4 772 672号または米国特許第 4 444 974号に記載
のポリマー； ２． ヒドロキシル基を含むポリアクリレート、ポリエ
ステルおよび／またはポリエーテルと脂肪族もしくは芳
香族ポリイソシアネートとの二成分系； ３． 官能性ポリアクリレートおよびポリエポキシドと
の二成分系であって、該ポリアクリレートがカルボキシ
ル基、酸無水物基、チオール基もしくはアミノ基を含む
もの； ４． ヒドロキシル基を含むフルオロ変性もしくはシリ
コン変性ポリアクリレート、ポリエステルおよび／また
はポリエーテルと脂肪族もしくは芳香族ポリイソシアネ
ートとの二成分系； ５． （ポリ）ケチミンと脂肪族もしくは芳香族ポリイ
ソシアネートとの二成分系； ６． （ポリ）ケチミンと不飽和アクリレート樹脂もし
くはアセトアセテート樹脂もしくはメチル−α−アクリ
ルアミド−メチルグリコレートとの二成分系； ７． 酸無水物を含むポリアクリレートとポリアミンと
の二成分系； ８． （ポリ）オキサゾリジンと酸無水物基を含むポリ
アクリレートもしくは不飽和アクリレート樹脂またはポ
リイソシアネートとの二成分系； ９． エポキシ基とカルボキシル基もしくはアミノ基を
含むポリアクリレートとの二成分系； １０． アリル／グリシジルエーテルをベースとするポ
リマー； １１． （ポリ）アルコールと（ポリ）イソシアネート
との二成分系。 これらの系の内、項１−３は特に好ましい。適当なもの
はまた上述した化合物のいずれかの混合物または組合せ
である。

【００３８】塩基によって触媒される系の成分は室温ま
たは高められた温度で反応しそして多くの用途に適当な
架橋されたコーティング系を形成する。

【００３９】新規な組成物中の成分（Ａ）は通常０．１
−２０重量％、好ましくは１−１０重量％、例えば１−
５重量％で存在する。

【００４０】輻射線に対する光塩基発生材の感受性は上
記化合物と適当な増感剤（Ｃ）を組合せることによりさ
らに増強できる。このような増感剤の例は、特に２２５
−３１０ｋＪ／ｍｏｌの三重項エネルギーをもつカルボ
ニル化合物の群からの増感剤である。さらに、適当な増
感剤化合物の例はキサントン、チオキサントン、フタル
イミド、アントラキノン、アセトフェノン、プロピオフ
ェノン、ベンゾフェノン、アシルナフタレン、２（アシ
ルメチレン）チアゾリン、３−アシルクマリンおよび
３，３′−カルボニルビスクマリンである。好ましい増
感剤はチオキサントン、３−アシルクマリンおよび２
（アロイルメチレン）−チアゾリンであり、チオキサン
トンおび３−アシルクマリンが特に好ましい。本発明に
よる成分（Ｃ）として使用できる個々の化合物の例はUS
4 992 547,第16欄第58行ないし第17欄第51行に開示さ
れ、参照によりそのまま本明細書に編入される。これら
の成分（Ｃ）の増感剤は組成物の保存寿命を短くするこ
となく発生したアミン塩基を反応性を増強する。組成物
における増感剤（Ｃ）の量は０．０１ないし５重量％、
好ましくは０．０２５ないし２重量％である。

【００４１】式Ｉ、IIおよびIII で表される潜在性塩基
発生剤化合物の光開裂がまたラジカルを発生するという
事実は特に、ラジカル開始剤および塩基触媒の両方が必
要とされる二重の硬化系（dual curing systems)（＝ハ
イブリッド系）において特に有益である。従って、式
Ｉ、IIおよびIII で表される化合物はまた二重の硬化系
において潜在性塩基としてと同時にラジカル開始剤とし
ても使用できる。

【００４２】従って、本発明は成分（Ｂ）の他にラジカ
ル重合性化合物（Ｄ）をさらに含む系にもまた関する。
このような化合物（Ｄ）は１もしくはそれ以上のオレフ
ィン性二重結合を含んでいてよい不飽和化合物である。
それらは低い（モノマーの）または高い（オリゴマー
の）分子量であってよい。二重結合を含むモノマーの例
はアルキルもしくはヒドロキシアルキルアクリレートま
たはメタクリレートであり、たとえばメチル、エチル、
ブチル、２−エチルヘキシルおよび２−ヒドロキシエチ
ルアクリレート、イソボルニルアクリレート、メチルメ
タクリレートおよびエチルメタクリレートである。シリ
コンアクリレートもまた有利である。他の例はアクリロ
ニトリル、アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−置
換（メタ）アクリルアミド、ビニルエステル例えば、酢
酸ビニル、ビニルエーテル例えば、イソブチルビニルエ
ーテル、スチレン、アルキル−およびハロスチレン、Ｎ
−ビニルピロリドン、塩化ビニルまたは塩化ビニリデン
である。

【００４３】２もしくはそれ以上の二重結合を含むモノ
マーの実例は、エチレングリコール、プロピレングリコ
ール、ネオペンチルグリコール、ヘキサメチレングリコ
ールのまたはビスフェノールＡのジアクリレート、およ
び４，４’−ビス（２−アクリロイルオキシエトキシ）
ジフェニルプロパン、トリメチロールプロパントリアク
リレート、ペンタエリトリトールトリアクリレートもし
くはテトラアクリレート、ビニルアクリレート、ジビニ
ルベンゼン、ジビニルコハク酸、ジアリルフタレート、
トリアリルホスフェート、トリアリルイソシアヌレート
またはトリス（２−アクロイルエチル）イソシアヌレー
トである。

【００４４】比較的高分子量（オリゴマー）のポリ不飽
和化合物の例はアクリル化エポキシ樹脂、アクリル化ポ
リエステル、ビニルエーテルもしくはエポキシ基を含む
ポリエステルおよび、またポリウレタンおよびポリエー
テルである。不飽和オリゴマーの他の例は通常マレイン
酸、フタル酸および１もしくはそれ以上のジオール類か
ら製造され、そして約５００ないし３０００の分子量を
有する不飽和ポリエステル樹脂である。それに加えてま
た、ビニルエーテルモノマーおよびオリゴマー、ならび
にポリエスルテル、ポリウレタン、ポリエーテル、ポリ
ビニルエーテルおよびエポキシ主鎖によるマレエート末
端オリゴマーを使用することもできる。特に適当なもの
はビニルエーテル基をもつオリゴマーの組合せおよび国
際公開90/01512に記載されたポリマーの組合せである。
しかし、ビニルエーテルおよびマレイン酸官能性（male
ic-functionalized)モノマーもまた適当である。この種
類の不飽和オリゴマーはまた、プレポリマーとしても言
及できるものである。

【００４５】特に適当な例は、エチレン性不飽和カルボ
ン酸とポリオールもしくはポリエポキシドとのエステ
ル、および鎖または側鎖中にエチレン性不飽和基をもつ
ポリマーであり、例えば不飽和ポリエステル、ポリアミ
ドおよびポリウレタンおよびそれらのコポリマー、アル
キド樹脂、ポリブタジエンおよびブタジエンコポリマ
ー、ポリイソプレンおよびイソプレンコポリマー、およ
び側鎖に（メタ）アクリル基を含むポリマーおよびコポ
リマーならびにこれらのポリマーの１もしくはそれ以上
の混合物である。

【００４６】不飽和カルボン酸の例は、アクリル酸、メ
タクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、ケイヒ酸および
不飽和脂肪酸例えば、リノレン酸もしくはオレイン酸で
ある。アクリル酸およびメタクリル酸が好ましい。

【００４７】適当なポリオールは芳香族の、ならびに特
に脂肪族のおよび脂環式のポリオールである。芳香族ポ
リオールの例はヒドロキノン、４，４’−ジヒドロキシ
ジフェニル、２，２−ジ（４−ヒドロキシフェニル）プ
ロパンおよびまたノボラックおよびクレゾールである。
ポリエポキシドの例は上述したポリオール、特に芳香族
ポリオールおよびエピクロロヒドリンをベースとするも
のである。他の適当なポリオールはポリマー鎖または側
鎖にヒドロキシル基を含むポリマーおよびコポリマーで
あり、例としてポリビニルアルコールおよびそのコポリ
マーまたはポリヒドロキシアルキルメタクリレートまた
はそのコポリマーである。適当な他のポリオールはヒド
ロキシ末端基をもつオリゴエステルである。

【００４８】脂肪族および脂環式ポリオールの例は好ま
しくは２ないし１２個の炭素原子を有するアルキレンジ
オール、例えばエチレングリコール、１，２−または
１，３−プロパンジオール、１，２−，１，３−もしく
は１，４−ブタンジオール、ペンタンジオール、ヘキサ
ンジオール、オクタンジオール、ドデカンジオール、ジ
エチレングリコール、トリエチレングリコール、好まし
くは２００ないし１５００の分子量をもつポリエチレン
グリコール、１，３−シクロペンタンジオール、１，２
−，１，３−もしくは１，４−シクロヘキサンジオー
ル、１，４−ジヒドロキシメチルシクロヘキサン、グリ
セロール、トリス（β−ヒドロキシエチル）アミン、ト
リメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタ
エリトリトール、ジペンタエリトリトールおよびソルビ
トールである。

【００４９】ポリオールは１つの不飽和カルボン酸また
は数種の不飽和カルボン酸により部分的または全体的に
エステル化されていてもよく、そして部分エステル中自
由ヒドロキシル基は変性されていてもよく、例えば他の
カルボン酸とエーテル化またはエステル化されていても
よい。

【００５０】エステルの例は以下のものである：トリメ
チルプロパントリアクリレート、トリメチロールエタン
トリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタク
リレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、
テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチ
レングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリ
コールジアクリレート、ペンタエリトリトールジアクリ
レート、ペンタエリトリトールトリアクリレート、ペン
タエリトリトールテトラアクリレート、ジペンタエリト
リトールジアクリレート、ジペンタエリトリトールトリ
アクリレート、ジペンタエリトリトールテトラアクリレ
ート、ジペンタエリトリトールペンタアクリレート、ジ
ペンタエリトリトールヘキサアクリレート、トリペンタ
エリトリトールオクタアクリレート、ペンタエリトリト
ールジメタクリレート、ペンタエリトリトールトリメタ
クリレート、ジペンタエリトリトールジメタクリレー
ト、ジペンタエリトリトールテトラメタクリレート、ト
リペンタエリトリトールオクタメタクリレート、ペンタ
エリトリトールジイタコネート、ジペンタエリトリトー
ルトリスイタコネート、ジペンタエリトリトールペンタ
イタコネート、ジペンタエリトリトールヘキサイタコネ
ート、エチレングリコールジアクリレート、１，３−ブ
タンジオールジアクリレート、１，３−ブタンジオール
ジメタクリレート、１，４−ブタンジオールジイタコネ
ート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテ
トラアクリレート、ペンタエリトリトール−変性トリア
クリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ソル
ビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアク
リレート、オリゴエステルアクリレートおよびメタクリ
レート、グリセロールジアクリレートおよびトリアクリ
レート、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、分子
量２００ないし１５００をもつポリエチレングリコール
のビスアクリレートおよびビスメタクリレート、あるい
はそれらの混合物である。

【００５１】成分（Ｄ）としてまた適当なものは、好ま
しくは２ないし６個の、特に２ないし４個のアミノ基を
有する芳香族、脂環式および脂肪族ポリアミンとの、同
じかまたは異なる、不飽和カルボン酸のアミドである。
このようなポリアミンはエチレンジアミン、１，２−も
しくは１，３−プロピレンジアミン、１，２−、１，３
−または１，４−ブチレンジアミン、１，５−ペンチレ
ンジアミン、１，６−ヘキシレンジアミン、オクチレン
ジアミン、ドデシレンジアミン、１，４−ジアミノシク
ロヘキサン、イソホロンジアミン、フェニレンジアミ
ン、ジフェニレンジアミン、ジ−β−アミノエチルエー
テル、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラアミ
ン、ジ（β−アミノエトキシ−）またはジ（β−アミノ
プロポキシ）エタンである。他の適当なポリアミンは好
ましくは側鎖に他のアミノ基をもつポリマーおよびコポ
リマー、およびアミノ末端基をもつオリゴアミドであ
る。このような不飽和アミドの例はメチレンビスアクリ
ルアミド、１，６−ヘキサメチレンビスアクリルアミ
ド、ジエチレントリアミントリスメタクリルアミド、ビ
ス（メタクリルアミドプロポキシル）エタン、β−メタ
クリルアミドエチルメタクリレートおよびＮ［（β−ヒ
ドロキシエトキシ）エチル］アクリルアミドである。

【００５２】適当な不飽和ポリエステルおよびポリアミ
ドは例えばマレイン酸からおよびジオールもしくはジア
ミンから誘導される。マレイン酸のあるものは他のジカ
ルボン酸によって置換されていてよい。それらはエチレ
ン性不飽和コモノマー、例えばスチレンと一緒に使用し
てよい。ポリエステルおよびポリアミドはジカルボン酸
からおよびエチレン性不飽和ジオールまたはジアミンか
ら、特に比較的長鎖の、例えば６ないし２０個の炭素原
子のものから誘導されてもよい。ポリウレタンの例は飽
和もしくは不飽和ジイソシアネートおよび不飽和または
飽和されたジオールをそれぞれ含むものである。

【００５３】ポリブタジエンおよびポリイソプレンおよ
びそれらのコポリマーは公知である。適当なコモノマー
はオレフィン例えばエチレン、プロピレン、ブテンおよ
びヘキセン、（メタ）アクリレート、アクリロニトリ
ル、スチレンまたは塩化ビニルである。側鎖に（メタ）
アクリレート基をもつポリマーは同様に公知である。そ
れらは、例えばノボラックをベースとするエポキシ樹脂
と（メタ）アクリル酸との反応生成物であるか、あるい
は（メタ）アクリル酸によりエステル化された、ビニル
アルコールまたはそのヒドロキシアルキル誘導体のホモ
−もしくはコポリマーであるか、あるいはヒドロキシア
ルキル（メタ）アクリレートによりエステル化された
（メタ）アクリレートのホモ−及びコポリマーであって
よい。

【００５４】光重合性化合物は単独でまたは何れかの所
望の混合物で使用できる。ポリオール（メタ）アクリレ
ートの混合物を使用することは好ましい。

【００５５】バインダーもまたこれらの新規な組成物に
添加でき、そして、このことは光重合性化合物が液体ま
たは粘稠性物質である場合に特に都合がよい。バインダ
ーの量は、例えば全ての総固形分量に関して５−９５
％、好ましくは１０−９０％および特に４０−９０％で
あってよい。バインダーの選択は適用の分野およびこの
分野のために要求される特性、例えば水性および有機溶
媒系での現像に対する能力、支持体への接着および酸素
への感受性によってなされる。

【００５６】適当なバインダーの例は約５０００ないし
２００００００、好ましくは１００００ないし１０００
０００の分子量をもつポリマーである。具体例は次のも
のである：アクリレートおよびメタクリレートのホモお
よびコポリマー、例えばメチルメタクリレート／エチル
アクリレート／メタクリル酸、ポリ（アルキルメタクリ
レート）、ポリ（アルキルアクリレート）のコポリマ
ー；セルロースエステルおよびセルロースエーテル例え
ばセルロースアセテート、セルロースアセトブチレー
ト、メチルセルロース、エチルセルロース；ポリビニル
ブチラール、ポリビニルホルマール、環化ゴム、ポリエ
ーテル例えば、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレン
オキシドおよびポリテトラヒドロフラン；ポリスチレ
ン、ポリカーボネート、ポリウレタン、塩素化ポリオレ
フィン、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル／ビニリデンコポ
リマー、塩化ビニリデンとアクリロニトリル、メチルメ
タクリレートおよび酢酸ビニルとのコポリマー、ポリ酢
酸ビニル、コポリ（エチレン／酢酸ビニル）、ポリカプ
ロラクタムおよびポリ（ヘキサメチレンアジパミド）の
ようなポリマー、およびポリエステル例えば、ポリ（エ
チレングリコールテフタレート）およびポリ（ヘキサメ
チレングリコールスクシネート）。

【００５７】不飽和化合物はまた、光重合性でない、塗
膜形成成分との混合物としてもまた使用できる。これら
は例えば、自然に乾燥するポリマーまたは有機溶媒、例
えばニトロセルロースまたはセルロースアセトブチレー
ト中のそれらの溶液であってもよい。しかし、それらは
また、化学的および／または熱的に硬化しうる（熱硬化
性）樹脂であってもよく、具体例はポリイソシアネー
ト、ポリエポキシドおよびメラミン樹脂である。熱硬化
性樹脂の使用は同時に、第一段階で光重合され、次いで
第二段階で熱後処理によって架橋されるような系（ハイ
ブリッド系とも呼ばれる）での使用のため重要である。

【００５８】ハイブリッド系（アニオンおよびラジカル
硬化性組成物からなるものも、一方が化学的および熱的
硬化性化合物をからなるものも）においては、光重合可
能な混合物は光開始剤に加えて種々の添加剤を含むこと
ができる。

【００５９】早期重合を防止を意図する熱抑制剤（ther
mal inhibitor)、例えばヒドロキノン、ヒドロキノン誘
導体、ｐ−メトキシフェノール、β−ナフトールまたは
立体障害性フェノール、例えば２，６−ジ−第三ブチル
−ｐ−クレゾールである。暗所での貯蔵の安定性を増加
させるため、例えば、銅化合物例えば、銅ナフタレー
ト、ステアレートもしくはオクトエート、リン化合物例
えば、トリフェニルホスフィン、トリエチルホスフィッ
ト、トリフェニルホスフィットまたはトリベンジルホス
フィットである。ハイブリッド系の重合中に大気酸素を
除くため、ポリマー中に充分に溶解せず、重合の開始に
おいて表面に移動し、空気の進入を防ぐ透明な表層を形
成するパラフィンまたは同等のワックス様物質を加える
こともできる。酸素不透過性の層を適用することも可能
である。少量で添加できる光安定剤は紫外線吸収剤、例
えばヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール、ヒドロキ
シフェニルベンゾフェノン、オキサルアミドまたはヒド
ロキシフェニル−ｓ−トリアジンタイプのものである。
これらの化合物は個別にまたは適当の（低）塩基度の立
体障害性アミン（ＨＡＬＳ）、例えばビス（１−オクチ
ルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）
スクシネートを含むまたは含まない混合物で使用でき
る。

【００６０】このような紫外線吸収剤および光安定剤の
例は次のものである：１． ２−( ２′−ヒドロキシフ
ェニル) ベンゾトリアゾール、例えば、２−（２’−ヒ
ドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾー
ル、２−（３’，５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロ
キシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（５’−第三
ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾー
ル、２−（２’−ヒドロキシ−５’−（１，１，３，３
−テトラメチルブチル) フェニル）ベンゾトリアゾー
ル、２−（３’，５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロ
キシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−
（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチル
フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−
（３’−第二ブチル−５’−第三ブチル−２’−ヒドロ
キシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒド
ロキシ−４’−オクトキシフェニル）ベンゾトリアゾー
ル、２−（３’，５’−ジ−第三アミル−２’−ヒドロ
キシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’
−ビス（α，α−ジメチルベンジル）−２’−ヒドロキ
シフェニル）ベンゾトリアゾール；２−（３’−第三ブ
チル−２’−ヒドロキシ−５’−（２’−オクチルオキ
シカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾト
リアゾール、２−（３’−第三ブチル−５’−［２−
（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−
２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリア
ゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−
５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）−
５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチ
ル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニ
ルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’
−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクト
キシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾー
ル、２−（３’−第三ブチル−５’−［２−（２−エチ
ルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロ
キシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ドデ
シル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベン
ゾトリアゾール、および２−（３’−第三ブチル−２’
−ヒドロキシ−５’−（２−イソオクチルオキシカルボ
ニルエチル）フェニルベンゾトリアゾールの混合物、
２，２’−メチレン−ビス［４−（１，１，３，３−テ
トラメチルブチル）−６−ベンゾトリアゾール−２−イ
ルフェノール］；２−［３’−第三ブチル−５’−（２
−メトキシカルボニルエチル）−２’−ヒドロキシフェ
ニル］ベンゾトリアゾールとポリエチレングリコール３
００とのエステル交換生成物；［Ｒ−ＣＨ₂ ＣＨ₂ −Ｃ
ＯＯ（ＣＨ₂ ）₃ −］₂ −（式中，Ｒ＝３’−第三ブチ
ル−４’−ヒドロキシ−５’−２Ｈ−べンゾトリアゾー
ル−２−イル−フェニルである。）。

【００６２】２． ２−ヒドロキシ−ベンゾフェノン、
例えば４−ヒドロキシ−、４−メトキシ−、４−オクト
キシ−、４−デシルオキシ−、４−ドデシルオキシ−、
４−ベンジルオキシ−、４，２′，４′−トリヒドロキ
シ−または２′−ヒドロキシ−４，４′−ジメトキシ誘
導体。

【００６３】３． 置換されたおよび非置換安息香酸の
エステル、例えば４−第三ブチルフェニルサリチレー
ト、フェニルサリチレート、オクチルフェニルサリチレ
ート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス（４−第三ブ
チルベンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシ
ノール、２，４−ジ−第三ブチルフェニル３，５−ジ−
第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシ
ル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエー
ト、オクタデシル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロ
キシベンゾエート、２−メチル−４，６−ジ第三ブチル
フェニル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベン
ゾエート。

【００６４】４． アクリレート、例えばイソオクチル
またはエチルα−シアノ−β, β−ジフェニル−アクリ
レート、メチルα−カルボメトキシ−シンナメート、ブ
チルまたはメチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキ
シ−シンナメート、メチルα−カルボメトキシ−ｐ−メ
トキシシンナメート、およびＮ−（β−カルボメトキシ
−β−シアノビニル) −２−メチルインドリン。

【００６５】５． ２−（２−ヒドロキシフェニル）−
１，３，５−トリアジン、例えば２，４，６−トリス
（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル) −
１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−
オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジ
メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−
（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス
（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジ
ン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキ
シフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−
１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−
オクチルオキシフェニル) −４，６−ビス（４−メチル
フェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒド
ロキシ−４−ドデシルオキシフェニル) −４，６−ビス
（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジ
ン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３
−ブチルオキシ−プロポキシ）フェニル］−４，６−ビ
ス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリア
ジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−
３−オクチルオキシ−プロピルオキシ）フェニル］−
４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，
５−トリアジン、２−［４−（ドデシル／トリデシル−
オキシ−（２−ヒドロキシプロピル）オキシ−２−ヒド
ロキシ−フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル
フェニル）−１，３，５−トリアジン、

【００９４】６． ホスフィットおよびホスホナイト、
例えばトリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキル
ホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリ
ス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホス
フィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリ
ルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス（２，
４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット、ジイソデ
シルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，
４−ジ−第三ブチルフェニル）−ペンタエリトリトール
ジホスフィット、ビス（２，６−ジ−第三ブチル−４−
メチルフェニル）−ペンタエリトリトールジホスフィッ
ト、ビス−イソデシルオキシ−ペンタエリトリトールジ
ホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メ
チルフェニル）−ペンタエリトリトールジホスフィット
ビス（２，４，６−トリ−第三ブチル−ブチルフェニ
ル）−ペンタエリトリトールジホスフィット、トリステ
アリルソルビチルトリホスフィット、テトラキス（２，
４−ジ−第三ブチルフェニル）−４，４′−ビフェニレ
ンジホスホナイト、６−イソオクチルオキシ−２，４，
８，１０−テトラ−第三ブチル−１２Ｈ−ジベンズ
［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、６−フ
ルオロ−２，４，８，１０−テトラ−第三ブチル−１２
−メチル−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサ
ホスホシン、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチ
ルフェニル）メチルホスフィット、およびビス（２，４
−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスフ
ィット。

【００６７】本発明による組成物のための他の慣用の添
加剤は意図する用途によるが、蛍光増白剤、充填剤、顔
料、染料、湿潤剤、均展剤、流れ調整剤および定着剤で
ある。

【００６８】厚いおよび着色した塗膜の硬化のために
は、米国特許第5,013,768 号公報に記載されているよう
にガラス微小球または粉末化したガラス繊維の添加が適
当である。

【００６９】ある場合には、特に異なる機構により硬化
され得る成分からなる系に対しては、成分（Ａ）に加え
て１もしくはそれ以上の公知の光開始剤（Ｅ）、例えば
ベンゾフェノン、ベンゾフェノン誘導体、アセトフェノ
ン、アセトフェノン誘導体フェニルグリオキサレート、
ジケトン（例えばカンファーキノン）、アントラキノ
ン、チオキサントン、アクリジン、電子移動開始剤（例
えばボレート／染料系）、α−ヒドロキシシクロアルキ
ルフェニルケトン、ジアルコキシアセトフェノン、α−
ヒドロキシアセトフェノン、４−アロイル−１，３−ジ
オキソラン、ベンゾインアルキルエーテルおよびベンン
ジルケタール、モノアシルホスフィンオキシド、ビスア
シルホスフィンオキシド、トリスアシルホスフィンオキ
シド、チタノセンもしくはフェロセニウム化合物、トリ
アジンおよびケトオキシム、を添加することは有利であ
ろう。特に適当な光開始剤は：１−（４−ドデシルベン
ゾイル）−１−ヒドロキシ−１−メチルエタン、１−
（４−イソプロピルベンゾイル）−１−ヒドロキシ−１
−メチルエタン、１−ベンゾイル−１−ヒドロキシ−１
−メチルエタン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキ
シ）−ベンゾイル］−１−ヒドロキシ−１−メチルエタ
ン、１−［４−（アクリロイルオキシエトキシ）−ベン
ゾイル］−１−ヒドロキシ−１−メチルエタン、ジフェ
ニルケトン、フェニル−１−ヒドロキシ−シクロヘキシ
ルケトン、ベンジルジメチルケタール、ビス（シクロペ
ンタジエニル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−ピリ
ル−フェニル）チタン、シクロペンタジエニル−アレー
ン−鉄（II）錯塩、例えば、（η⁶ −イソプロピルベン
ゼン）−（η⁵ −シクロペンタジエニル）−鉄（II）ヘ
キサフルオロホスフェート、トリメチルベンゾイルジフ
ェニルホスフィンオキシド、ビス（２，６−ジメトキシ
−ベンゾイル）−（２，４，４−トリメチル−ペンチ
ル）−ホスフィンオキシド、ビス（２，４，６−トリメ
チルベンゾイル）−２，４−ジペントキシフェニルホス
フィンオキシドまたはビス（２，４，６−トリメチルベ
ンゾイル）フェニル−ホスフィンオキシドである。

【００７０】従って本発明はまた潜在性塩基光開始剤
（Ａ）に加えてラジカル重合用の別の光開始剤（Ｅ）の
少なくとも１つおよび／または他の慣用の添加剤をも含
む組成物をも提供する。

【００７１】式Ｉ、IIおよびIII で表される化合物は光
塩基発生剤としても適当である。従ってそれらは塩基で
触媒される反応を行う方法において使用できる。この方
法は上述された組成物を波長２００ないし７００ｎｍを
もつ光で照射することを特徴とする。本発明はそのた
め、重合される混合物に上述した式Ｉ、IIおよびIII で
表される化合物を潜在性塩基として添加し、そして波長
２００ないし７００ｎｍの光で照射して塩基を発生させ
ることを特徴とする、塩基で触媒される重合反応におい
て塩基を光化学的に発生させる方法に関する。上記方法
は２２５−３１０ｋＪ／ｍｏｌの三重項エネルギーをも
つカルボニル化合物の群から選択される増感剤の存在下
で行われて良い。このような増感剤化合物は上述された
ものであり新規な組成物の成分（Ｃ）として言及したも
のである。ある場合では、照射の間または後に組成物を
加熱することが有利である。架橋反応はしばしば促進で
き、このためその様相の別の面において本発明は（Ａ）
上記で定義した式Ｉ、IIおよびIII で表される化合物、
（Ｂ）塩基で触媒される付加反応または置換反応で反応
可能な有機化合物の少なくとも１種；および（Ｃ）所望
により、増感剤からなる組成物を硬化する方法であっ
て、（１）該組成物を波長２００ないし７００をもつ光
で照射して式Ｉ、IIおよびIII で表される化合物の感光
性前駆体から塩基触媒を発生させそして（２）次いで段
階（１）において光発生した塩基を触媒として使用して
それを熱的硬化させることからなる方法に関する。

【００７２】新規な組成物の感光性は、一般に約２００
ｎｍから７００ｎｍまで拡がっている。適当な輻射線は
例えば日光または人工光源からの光である。結論とし
て、膨大な非常に種々のタイプの光源が使用できる。点
光源および配列（ランプカーペット）の両方が適当であ
る。具体例はカーボンアークランプ、キセノンアーク灯
または金属ハライドでドープ塗布されていてもよい中
圧、高圧および低圧の水銀ランプ（金属ハライドラン
プ）、マイクロウェーブ励起金属蒸気ランプ（microwav
e-excited metal vapour lamps) 、エキシマーランプ(e
xcimer lamps) 、スーパーアクチニック蛍光灯(superac
tinic fluoresent tubes) 、蛍光ランプ、アルゴン白熱
灯、電子閃光ランプ、写真投光ランプ、シンクロトロン
またはレーザープラズマによる電子ビームおよびＸ線で
ある。ランプと本発明によって露光される支持体との距
離は意図する用途およびランプのタイプおよび強度によ
り変化でき、例えば２ｃｍないし１５０ｃｍである。レ
ーザー光源、例えばエキシマーレーザーは特に好適な光
源である。可視領域におけるレーザーもまた使用でき
る。この場合、新規な材料の高い感受性は非常に有利で
ある。この方法により、電子工業におけるプリント回
路、リソグラフィーによるオフセット印刷版または凸版
印刷版ならびにまた写真による画像記録材料を製造でき
る。

【００７３】熱処理段階（thermal step) （２）の温度
は室温(ambient temperature) （約２５℃）ないし１８
０℃である。好ましい温度範囲は特に塩基で触媒される
反応に依存する。例えば、酸／エポキシ系に対しては、
温度範囲は７０℃ないし１６０℃であり、エポキシ／チ
オール反応に対しては温度範囲は室温ないし１２０℃で
ある。

【００７４】本発明はまた熱硬化段階（２）の後に現像
段階（３）が続く上記に記載した方法に関する。現像
は、組成物の架橋されていない部分を除去することを意
味する。当業者によって適当な現像法はよく知られてい
る。光化学的段階（１）の後、熱硬化段階（２）の前に
現像段階（３）を続けるか、または段階（１）、（２）
および（３）の後に第二の熱硬化段階（４）を続けるよ
うな上記方法を行うことも可能である。

【００７５】式Ｉ、IIおよびIII で表される化合物以外
の他の塩基触媒またはこのような触媒の前駆体を熱段階
（２）のための補助触媒として前記組成物に添加するこ
とももちろん可能である。このような触媒は例えばイミ
ダゾール誘導体、トリアジン誘導体、グアニジン誘導体
である。特別な例は２ＰＨＺ、２Ｅ４ＭＺ−ＣＮＳ（Sh
ikoku Chemicalsからのイミダゾール誘導体) 、アセト
グアナミン、ベンゾグアナミン、ジシアンジアミンであ
る。これらの加熱触媒はたとえば米国特許4 943 516 、
特願平7-278266、特願平1-141904、特願平3-71137 、特
願平6-138655、特願平5-140251、特願平6-67430 、特願
平3-172317、特願平6-161108、特願平7-26183 に記載さ
れる。

【００７６】式Ｉ、IIおよびIII で表される化合物が上
記で既に述べたようにまたラジカル光開始剤としてまた
有用であるため、方法はハイブリッド系、主にアニオン
およびラジカル硬化性成分の混合物においても行うこと
ができる。従って、この方法では組成物はラジカル重合
性モノマー、オリゴマーもしくはポリマー（Ｄ）をさら
に含んでいてもよい。

【００７７】本発明による光塩基発生剤は高温安定性お
よび／または良好な溶媒耐性、低導電性、良好な機械特
性が必要とされる用途で、例えばソルダーレジスト、相
似被覆、電気装置の封入、ステレオリソグラフィー等に
おけるような場合に特に有用である。さらにそれらは塩
基触媒された機構または、α−アミノケトン化合物が同
時にラジカル光開始剤と光塩基発生剤である、二重の硬
化（ラジカル系およびアニオン系の）を使用する組成物
（このような組成物は上述されている。）の光画像形成
のために有用である。

【００７８】本発明はまた、成分（Ａ）および（Ｂ）の
他に水中に乳化、分散または溶解されるエチレン性不飽
和光重合性化合物の少なくとも１つを含む組成物を提供
する。

【００７９】このタイプの輻射線硬化性水性プレポリマ
ー分散物はの多くの変形において市販で入手できる。こ
の用語は水とその中で分散される少なくとも１つのプレ
ポリマーの分散物を意味する。これらの系における水の
濃度は例えば５ないし８０重量％、特には３０ないし６
０重量％である。輻射線硬化性プレポリマーまたはプレ
ポリマー混合物は例えば９５ないし２０重量％、特に７
０ないし４０重量％の濃度で存在する。これらの組成物
における水およびプレポリマーに対するパーセントの総
計はそれぞれの場合１００でありそれに意図される用途
により変化する量で補助剤および添加剤が添加される。

【００８０】水性プレポリマー分散物に対し、しばしば
また溶解される輻射線硬化性水分散性塗膜形成プレポリ
マーは、それ自体公知の、一もしくは多官能価のエチレ
ン性不飽和プレポリマーの水性プレポリマーであって、
フリーラジカルにより反応開始され得、そして例えばプ
レポリマー１００ｇ当り重合可能な二重結合を０．０１
ないし１．０ｍｏｌを含みおよび、例えば少なくとも４
００、特に５００ないし１００００の平均分子量を有す
るものである。しかし意図される用途によってより高分
子量をもつプレポリマーもまた、適当であろう。欧州特
許第12 339号公開公報に記載されるように、例えば重合
性Ｃ−Ｃ二重結合を含むおよび最大酸価１０を有するポ
リエステル、重合性Ｃ−Ｃ二重結合を含むポリエーテ
ル、１分子当たり少なくとも２つのエポキシド基を含む
ポリエポキシドと少なくとも１つのα，β−エチレン性
不飽和カルボン酸との反応によるヒドロキシル含有生成
物、ポリウレタン、（メタ）アクリレート、ならびに、
アクリル基を含むα，β−エチレン性不飽和アクリルコ
ポリマーが使用される。これらのプレポリマーの混合物
もまた使用できる。また適当なものは、欧州特許第33 8
96号公開公報に記載された平均分子量少なくとも６０
０、プレポリマー１００ｇにつきカルボキシル基含量
０．２ないし１５％および重合性Ｃ−Ｃ二重結合０．０
１ないし０．８ｍｏｌ含量の重合性プレポリマーのチオ
エーテルの付加物である重合性プレポリマーである。他
の適当な、特定のアルキル（メタ）アクリレートポリマ
ーをベースとする水性分散物は欧州特許第41 125号公開
公報に記載され；適当なウレタンアクリレートから作ら
れた水−分散性輻射線硬化性プレポリマーは独国特許第
2 936039 号公開公報に記載される。水で希釈できるま
たは水由来のレジスト組成物は例えば特開平4-169985、
特開平4-169986、特開平4-169987および特開平4-31361
に記載される。輻射線−硬化性水性プレポリマー分散物
は他の添加剤として、分散助剤、乳化剤、抗酸化剤、光
安定剤、染料、顔料、充填剤例えば、タルク、ジプサ
ム、珪酸、ルチル、カーボンブラック、酸化亜鉛および
酸化鉄、反応促進剤、均展剤、潤滑剤、湿潤剤、増粘
剤、艶消剤、消泡剤および塗料技術において慣用される
他の補助剤を含み得る。適当な分散助剤は高分子量であ
りおよび極性基を含む水溶性有機化合物であり、例えば
ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドンまたはセ
ルロースエーテルである。使用できる乳化剤は非イオン
性乳化剤および場合により同様にイオン系乳化剤であ
る。

【００８１】本発明の組成物はまた輻射線硬化性粉体塗
料のために使用できる。粉体塗料はハイブリッド系を含
む記載した樹脂組成物に基づくものであってよい。紫外
線硬化性粉体塗料はカルボン酸基をもつポリマーをエポ
キシドと混合し、光塩基発生剤（またはその混合物）を
添加することによって配合できる。ハイブリッド粉体塗
料はまた、反応性二重結合を含む固体樹脂およびモノマ
ーを、カルボン酸基をもつポリマーおよびエポキシドお
よび光塩基発生剤（単独でまたはラジカル開始剤と一緒
に）に添加することによってもまた配合できる。反応二
重結合を含む樹脂およびモノマーは例えばマレエート、
ビニルエーテル、アクリレート、アクリルアミドおよび
それらの混合物である。粉体塗料はまた例えば、例えば
独国特許第4 228 514 号公開公報および欧州特許第636
669 号公開公報に記載されたようにバインダーを含むこ
ともできる。粉体塗料は加えて、白色または有色顔料を
含んでいてよい。例えば、良好な隠蔽力の硬化した粉体
塗膜を得るために二酸化チタン、好ましくはルチル型二
酸化チタンを５０重量％までの濃度で使用できる。方法
は通常、支持体、例えば、金属または木材上への粉体の
静電的もしくは摩擦静電的(tribostatic) 吹付、加熱に
よる粉体の溶融、ならびに平滑な塗膜が形成された後
の、例えば中圧水銀ランプ、金属ハライドランプまたは
キセノンランプを使用する紫外線および／または可視光
線を用いる塗膜の輻射線−硬化からなる。照射は硬化を
促進するために塗布した物がまだ温かいままで行われる
が、冷却後の照射および（異なる場所でまたは異なる部
品の組み立ての後での）第二の熱処理もまた可能であ
る。熱硬化性対応品を超える輻射線−硬化性粉体塗料の
特別な利点は、粉体粒子を溶融後、滑らかな、高光沢性
塗膜の形成を確実にするために流れ時間を遅らせ得るこ
とである。熱硬化性系と比較して、輻射線−硬化性粉体
塗料はそれらの保存期間を短くする所望しない作用を伴
うことなく、より低温で溶融するように配合することが
できる。この理由のため、それらはまた感熱性支持体、
例えば、木材またはプラスチックスのための被覆材とし
ても適当である。さらに粉体塗料配合物はまた紫外線吸
収剤および他の添加剤を含んでいてもよい。適当な実例
は上記で列挙したものである。

【００８２】光重合性組成物は例えば、印刷インキとし
て、透明仕上材として、例えば木材または金属用の白色
仕上材（white finish) として、特に紙、木材、金属ま
たはプラスチック用の塗料材料として；路面標識および
建築物のマーキングのための昼光−硬化性（daylight c
urable) 塗料として、写真による複製技術のため、ホロ
グラフィー記録材料のため、画像記録技術のためまたは
有機溶媒または水性アルカリにより現像できる印刷版を
製造するため、スクリーン印刷用のマスクを製造するた
め、歯科充填材組成物として、感圧接着剤を含む接着剤
として、積層樹脂として、エッチレジストまたは永久レ
ジストとして、および電子回路用のソルダーマスクおよ
び光画像形成可能な電子回路用の誘電体として、塊状硬
化(masscuring) （透明成形品の紫外線硬化）によりま
たはステレオリソグラフィー技術による三次元製品を製
造するため、複合材料および他の肉厚組成物を製造する
ため、電子部品を被覆または封止するため、あるいは光
ファイバーのための被覆材(coatings)として、種々の目
的に使用できる。

【００８３】ハイブリッド系の塗料材料ではモノ不飽和
モノマーをさらに同様に含むことのできるポリ不飽和モ
ノマーとプレポリマーとの混合物をしばしば使用する。
ここではそれは最初に塗膜の特性を規定するプレポリマ
ーでありそれを変化させることにより当業者は硬化した
塗膜の特性に影響を与えることができる。ポリ不飽和モ
ノマーは塗膜を不溶にする架橋剤として作用する。モノ
不飽和モノマーは溶媒の必要なく粘度を減少するのに使
用される反応性希釈剤として作用する。

【００８４】新規な光硬化性組成物は例えば、木材、織
物、紙、セラミックス、ガラス、プラスチックス例え
ば、特にはフィルムの形態におけるポリエステル、ポリ
エチレンテレフタレート、ポリオレフィンまたはセルロ
ースアセテート、ならびにまた金属、例えばＡｌ、Ｃ
ｕ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｚｎ、ＭｇまたはＣｏおよびＧａＡ
ｓ、ＳｉまたはＳｉＯ₂ のような、保護層を塗布するこ
とまたは、画像用露光の方法により、複製画像を生じさ
せることを意図する、あらゆる種類の支持体のための塗
料として適当である。

【００８５】支持体の塗布は液体組成物、溶液または懸
濁液を塗布することにより行うことができる。溶媒の選
択および濃度は主に組成物の種類および塗布技術に依存
する。溶媒は、不活性、即ち成分との化学反応を受けず
および塗布後、乾燥の間に再度除去可能なものであるべ
きである。適当な溶媒の例は、メチルエチルケトン、イ
ソブチルメチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキ
サノン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、２−メトキ
シエタノール、２−エトキシエタノール、１−メトキシ
−２−プロパノール、１，２−ジメトキシエタン、酢酸
エチル、ｎ−ブチルアセテートおよびエチル３−エトキ
シプロピオネートである。溶液は公知の塗布技術、例え
ばスピン塗布、浸漬被覆、ナイフ塗布、カーテン塗布、
刷毛塗り、吹付特に静電吹付による吹付、ならびにリバ
ースロール塗布によって、およびまた電気泳動塗装によ
って支持体に均一に塗布される。また感光性層を一時的
に可撓性の支持体に塗布して次いで積層を介して層を転
写することにより最終的な支持体、例えば銅張回路板に
塗布することもできる。

【００８６】塗布される量（塗膜厚）および支持体の性
質（層支持材）は所望の適用分野による。塗布厚の範囲
は一般に約０．１μｍないし１００μｍ以上の値を含
む。

【００８７】新規な輻射線感受性組成物は光に対して非
常に高い感受性をもち、そして膨潤することなく水性ア
ルカリ媒体中で現像され得るネガ型レジストとしての適
用が見いだされる。それらはエレクトロニクス（電気メ
ッキレジスト、エッチングレジストもしくはソルダーレ
ジスト）のためのフォトレジストとして、オフセット、
フレキソグラフィーおよび凸版印刷版またはスクリーン
印刷版のような印刷版の製造および／またはダイの製造
に、および蝕刻で使用するために、あるいは集積回路の
製造のマイクロレジストとして適している。可能な層支
持材、ならびに被覆支持体の加工条件は適当に変化でき
る。

【００８８】本発明の化合物はまた、単彩色または多彩
色が可能である画像記録または画像複製（複写、電子複
写）のための単層または多層された材料の製造への適用
が見いだされている。さらにまた、材料は変色防止シス
テム（color proofing systems) に適当である。この技
術においてはマイクロカプセルを含む配合物が適用で
き、画像形成のために輻射線硬化は熱処理させることが
できる。

【００８９】写真による情報記録のために使用される支
持体は、例えば、ポリエステルまたはセルロースアセテ
ートのフィルム、またはポリマー塗被紙を含み；オフセ
ット印刷型（offset printing formes) のための支持体
は特別処理されたアルミニウムであり、プリント回路を
製造するための支持体は銅張積層体であり、ならびに集
積回路を製造するための支持体はシリコンウエハであ
る。写真材料およびオフセット印刷型のための層厚は一
般に約０．５μｍないし１０μｍであり、同時にプリン
ト回路のためでは層圧は１．０μｍないし約１００μｍ
である。

【００９０】支持体の塗布に続いて、一般には乾燥によ
り溶媒が除去され、支持体上にフォトレジストの塗膜が
残る。温度範囲は特に塩基触媒反応に依存し、触媒され
ない反応の最初の温度よりも低くあるべきである。

【００９１】用語「画像様（image-wise) 」露光は予め
決められたパターン例えばスライドからなるフォトマス
クを通す露光および例えばコンピューター制御下で、塗
布された支持体の表面上を動きそしてこれにより画像を
生成するレーザービームによる露光の両方、ならびにコ
ンピューター制御された電子ビームによる照射を含む。

【００９２】材料の画像様照射に続いておよび現像の前
に短時間に熱処理を行うことは有利であろう。この場合
には露光した領域のみが熱硬化される。この露光後焼付
のための温度は室温（約２５℃）ないし２００℃範囲で
ありそして特に塩基で触媒される反応に依存する。エポ
キシド酸反応のための好ましい温度は１００−１６０℃
およびチオールエポキシド反応のための好ましい温度は
室温ないし１２０℃である。熱処理の時間は一般に０．
２５ないし１０分間である。

【００９３】光硬化性組成物はさらに例えば独国特許第
４０１３３５８号公報に記載されたと同様の印刷版また
はフォトレジストを製造する方法に使用できる。

【００９４】露光、および行う場合には熱処理の後、感
光性塗膜の露光されない領域はそれ自体公知の方法によ
り現像液によって除去される。

【００９５】既に言及したように、新規な組成物は水性
アルカリで現像できる。特に適当な水性アルカリ現像液
は水酸化テトラアルキルアンモニウム水溶液、アルカリ
金属シリケート、ホスフェート、水酸化物および炭酸塩
の水溶液である。所望ならばこれらの溶液に湿潤剤およ
び／または有機溶媒のごく少量をまた添加することも可
能である。現像液に少量で加えることのできる代表的な
有機溶媒の例はシクロヘキサノン、２−エトキシエタノ
ール、トルエン、アセトンおよびこれらの溶媒の混合物
である。

【００９６】光硬化が使用される他の分野は金属の塗
装、例えば、金属板および管、缶または瓶の蓋の塗装お
よび例えばＰＶＣをベースとする床または壁仕上材のよ
うなポリマー被覆材の光硬化である。紙用塗料の光硬化
の例は、ラベル、レコード入れおよびブックカバーの無
色の仕上材である。

【００９７】本発明による組成物および化合物は導波
管、光学スイッチ（optical swiches)の製造のために使
用でき、そこでの利点は照射されたおよび照射されない
領域の間の屈折率の違いが得られることである。

【００９８】画像形成技術および情報用の光学製品のた
めの光硬化性組成物の使用はまた重要である。このよう
な適用においては、既に上述したとおり、支持材に塗布
された層（湿潤または乾燥）はフォトマスクを通して紫
外線または可視光線により照射され、そして層の露光さ
れない領域は溶媒（現像液）による処理により除去され
る。金属への光硬化性層の塗布は電着によっても行われ
る。露光領域は架橋により重合されそしてそのため不溶
となりそして支持材上に残る。適当な着色は可視画像を
製造する。支持材が蒸着層の場合、金属は、露光および
現像に続いて露光されない領域において腐蝕して取り去
るかまたは電気めっきにより強化する。この様にして電
子回路およびフォトレジストを製造することができる。

【００９９】本発明はさらに着色されたまたは着色され
ない塗料およびワニス、印刷インキ、粉体塗料、印刷
版、接着剤、歯科材料組成物、導波管、光学スイッチ、
褪色防止系（color proofing systems) 、複合材料組成
物、ガラス繊維ケーブル用被覆材、スクリーン印刷用ス
テンシル、レジスト材料を製造するための、写真による
複製のための、電気および電子部品を封入するための、
磁気記録材料製造のための、ステレオリソグラフィーに
よる三次元物体の製造のためのならびに、特にホログラ
フィー記録のための画像記録材料としての上述した組成
物の使用を提供する。組成物は好ましくはレジスト材
料、ソルダーマスク、相似被覆、保護被覆、粉体被覆、
オーバープリント用ワニス、ガラス繊維被覆、導波管、
印刷版、接着剤、インク、スクリーン印刷ステンシル、
強化複合材料、光学スイッチ、褪色防止系(color proof
ing system) 、磁気記録媒体、歯科用材料の製造に、ス
テレオリソグラフィー法またはホログラフィー法におい
て使用され；ならびにレジスト材料、ソルダーマスク、
相似被覆、保護被覆、粉体被覆、オーバープリント用ワ
ニス、ガラス繊維被覆、導波管、印刷版、接着剤、イン
ク、スクリーン印刷ステンシル、強化複合材料、光学ス
イッチ、褪色防止系、磁気記録媒体、歯科用材料の製造
方法のために、またはステレオリソグラフィー法または
ホログラフィー法として行う方法のために使用される。

【０１００】式Ｉ、IIおよびIII で表される化合物は光
化学的に活性化できる塩基の発生材であり、紫外線に曝
露する前に驚くべき優れた潜在性を示す。それらさらに
近紫外領域で高い吸収ならびに分子の置換されたベンゾ
イル部分の光開裂後の後に高い触媒活性をもつ。

【０１０１】

【実施例】以下の実施例は本発明をより詳細に記載す
る。明細書の残りの部分および請求の範囲では部および
％は特に記載しない限り重量に基づく。３より大きい炭
素数をもつアルキル基は特定の異性体について言及がな
されていない場合には、おのおの場合ｎ−異性体を意味
する。

【０１０２】実施例１：光塩基活性：照射前のα−アミ
ノケトンの潜在性および照射後の触媒活性の試験 １．（ａ） ３−５％のカルボキシル官能性をもつポリ
アクリレート（登録商標カルボセット(Carboset)５２５
Goodrich,(USA) より提供）２００部およびエポキシフ
ェノールノボラック（ＧＹ１１８０,Ciba Specialty Ch
emicals より提供）１００部を混合することによって配
合物を製造する。この配合物の試料を示差走査熱量計
（Differenticial Scanning Calorimetry：ＤＳＣ）に
かける。ＤＳＣ曲線（加熱速度１０℃／分）は２４２℃
のピーク温度を示す。 １．（ｂ） ３−５％のカルボキシル官能性をもつポリ
アクリレート（登録商標カルボセット(Carboset)５２５
Goodrich,(USA) より提供）２００部およびエポキシフ
ェノールノボラック（ＧＹ１１８０,Ciba Specialty Ch
emicals より提供）１００部、４−（メチルチオベンゾ
イル）−１−メチル−１−モルホリノエタン（登録商標
イルガキュア（Irgacure) ９０７,Ciba Specialty Chem
icals により提供) ６部を混合することによって配合物
を製造する。この配合物の試料をＤＳＣ（加熱速度１０
℃／分）にかける。ＤＳＣ曲線は２４３℃のピーク温度
を示す。第二の試料を金属ハライドランプ（ＯＲＣ Ｓ
ＭＸ３０００，３ｋＷ）で４０秒間照射すると、ピーク
は１６９℃に示される。 １．（ｃ） ３−５％のカルボキシル官能性をもつポリ
アクリレート（登録商標カルボセット(Carboset)５２５
Goodrich,(USA) より提供）２００部およびエポキシフ
ェノールノボラック（ＧＹ１１８０,Ciba Specialty Ch
emicals より提供）１００部、（４−モルホリノベンゾ
イル）−１−ベンジル−１−ジメチルアミノプロパン
（登録商標イルガキュア（Irgacure) ３６９,Ciba Spec
ialty Chemicals により提供) ６部を混合することによ
って配合物を製造する。この配合物の試料をＤＳＣ（加
熱速度１０℃／分）にかける。ＤＳＣ曲線は２１２℃の
ピーク温度を示す。第二の試料を金属ハライドランプ
（ＯＲＣ ＳＭＸ３０００，３ｋＷ）で４０秒間照射す
ると、ピークは１５２℃に示される。

【０１０３】実施例２： ２．（ａ） ３−５％のカルボキシル官能性をもつポリ
アクリレート（登録商標カルボセット(Carboset)５２５
Goodrich,(USA) より提供）２００部およびエポキシフ
ェノールノボラック（ＧＹ１１８０,Ciba Specialty Ch
emicals より提供）１００部、４−（メチルチオベンゾ
イル）−１−メチル−１−モルホリノエタン（登録商標
イルガキュア（Irgacure) ９０７,Ciba Specialty Chem
icals により提供) ９部、アセトン４５０部を混合する
ことによって配合物を製造する。 ２．（ｂ） ３−５％のカルボキシル官能性をもつポリ
アクリレート（登録商標カルボセット(Carboset)５２５
Goodrich,(USA) より提供）２００部およびエポキシフ
ェノールノボラック（ＧＹ１１８０,Ciba Specialty Ch
emicals より提供）１００部、（４−モルホリノベンゾ
イル）−１−ベンジル−１−ジメチルアミノプロパン
（登録商標イルガキュア（Irgacure) ３６９,Ciba Spec
ialty Chemicals により提供) ９部、アセトン４５０部
を混合することによって配合物を製造する。配合物の試
料を１００μｍ線巻バーコーター(wire-wound bar coat
er) を使用してアルミニウム板に塗布しそして空気中、
５０℃で１５分間乾燥させる。約２５μｍ厚をもつ得ら
れたレジスト層をポリエステル箔できちんと張るように
被覆し、これを２１ステップの異なる光学濃度をもつ標
準化された試験ネガ（a standardized test negative，
Stoufferウエッジ) で覆い、そして最後に最上部におい
て第二のポリエステルフィルムによって被覆し、得られ
た積層体を金属板上に固定する。試料を３ｋＷの金属ハ
ライドランプ（ＯＲＣ ＳＭＸ３０００）を用いて６０
ｃｍの距離で、第一の試験組において８０秒間、第二の
試験組において１６０秒間、第三の試験組において３２
０秒間照射する。照射後、試料は配合物（ａ）の場合に
は１５０℃でおよび配合物（ｂ）の場合には１３０℃で
５分間加熱する。次いで試料を超音波浴に入ったエタノ
ールで５分間現像する。レジストのもっとも高い不粘着
ステップ（highest tack-free step) をレジストの感度
に関する尺度として測定する。より高いステップ数はよ
り大きい反応性がレジスト形成にあったことを示す。結
果を表１にまとめる。

【０１０４】実施例３：（光塩基活性：照射前のα−ア
ミノケトンの潜在性および照射後の触媒活性の試験） 配合物３．（ａ）：エポキシフェノールノボラック（Ｇ
Ｙ１１８０, 旭チバ（日本）より提供）２００部 ４，４′−チオビスベンゼンチオール（シグマ−アルド
リッチ（Sigma-Aldrich)（日本）提供）５０部 ＤＳＣ曲線（加熱速度１０℃／分）は１７５℃のピーク
温度を示す。 配合物３．（ｂ）：エポキシフェノールノボラック（Ｇ
Ｙ１１８０, 旭チバ（日本）より提供）２００部 ４，４′−チオビスベンゼンチオール（シグマ−アルド
リッチ（Sigma-Aldrich)（日本）提供）５０部 ４−（メチルチオベンゾイル）−１−メチル−１−モル
ホリノエタン（登録商標イルガキュア（Irgacure) ９０
７,Ciba Specialty Chemicals により提供) ６部露光な
しでのＤＳＣ曲線（加熱速度１０℃／分）は１６７℃の
ピーク温度を示す。試料を金属ハライドランプ（ＯＲＣ
ＳＭＸ３０００，３ｋＷ）で４０秒間照射した後ＤＳ
Ｃ曲線は７１℃でピークを示す。 配合物３．（ｃ）：エポキシフェノールノボラック（Ｇ
Ｙ１１８０, 旭チバ（日本）より提供）２００部 ４，４′−チオビスベンゼンチオール（シグマ−アルド
リッチ（Sigma-Aldrich)（日本）提供）５０部 （４−モルホリノベンゾイル）−１−ベンジル−１−ジ
メチルアミノプロパン（登録商標イルガキュア（Irgacu
re) ３６９,Ciba Specialty Chemicals により提供) ６
部、露光なしでのＤＳＣ曲線（加熱速度１０℃／分）は
１７２℃のピーク温度を示す。試料を金属ハライドラン
プ（ＯＲＣ ＳＭＸ３０００，３ｋＷ）で４０秒間照射
した後ＤＳＣ曲線は４４℃でピークを示す。

【０１０５】実施例４：（光塩基活性：照射前のα−ア
ミノケトンの潜在性および照射後の触媒活性の試験） 配合物４．（ａ）：エポキシクレゾールノボラック（Ｅ
ＣＮ１２９９，旭チバ（日本）より提供）２００部 ４，４′−チオビスベンゼンチオール（シグマ−アルド
リッチ（Sigma-Aldrich)（日本）提供）５０部 ＤＳＣ曲線（加熱速度１０℃／分）は１４８℃のピーク
温度を示す。 配合物４．（ｂ）：エポキシクレゾールノボラック（Ｅ
ＣＮ１２９９，旭チバ（日本）より提供）２００部 ４，４′−チオビスベンゼンチオール（シグマ−アルド
リッチ（Sigma-Aldrich)（日本）提供）５０部 ４−（メチルチオベンゾイル）−１−メチル−１−モル
ホリノエタン（登録商標イルガキュア（Irgacure) ９０
７,Ciba Specialty Chemicals により提供) ６部露光な
しでのＤＳＣ曲線（加熱速度１０℃／分）は１４９℃の
ピーク温度（開始温度１０５℃）を示しおよび試料を金
属ハライドランプ（ＯＲＣ ＳＭＸ３０００，３ｋＷ）
で４０秒間照射した後ＤＳＣ曲線は１３５℃でピークを
示す（開始温度５０℃）。 配合物４．（ｃ） エポキシクレゾールノボラック（ＥＣＮ１２９９，旭チ
バ（日本）より提供）２００部 ４，４′−チオビスベンゼンチオール（シグマ−アルド
リッチ（Sigma-Aldrich)（日本）提供）５０部 （４−モルホリノベンゾイル）−１−ベンジル−１−ジ
メチルアミノプロパン（登録商標イルガキュア（Irgacu
re) ３６９,Ciba Specialty Chemicals により提供) ６
部、露光なしでのＤＳＣ曲線（加熱速度１０℃／分）は
１４５℃のピーク温度を示す。試料を４０秒間照射した
後ＤＳＣ曲線は８７℃でピークを示す。

【０１０６】実施例５：（光塩基活性：照射前のα−ア
ミノケトンの潜在性および照射後の触媒活性の試験） 配合物５．（ａ）：エポキシフェノールノボラック（Ｇ
Ｙ１１８０, 旭チバ（日本）より提供）２００部 ＤＬ−ジチオトレイトール（東京化成（日本）提供）５
０部 ＤＳＣ曲線（加熱速度１０℃／分）は１２１℃のピーク
温度を示す。 配合物５．（ｂ）：エポキシフェノールノボラック（Ｇ
Ｙ１１８０, 旭チバ（日本）より提供）２００部 ＤＬ−ジチオトレイトール（東京化成（日本）提供）５
０部 （４−モルホリノベンゾイル）−１−ベンジル−１−ジ
メチルアミノプロパン（登録商標イルガキュア（Irgacu
re) ３６９,Ciba Specialty Chemicals により提供) ６
部、露光なしでのＤＳＣ曲線（加熱速度１０℃／分）は
１２１℃のピーク温度を示す。試料を４０秒間照射した
後ＤＳＣ曲線は６９℃でピークを示す。

【０１０７】実施例６：（光塩基活性：照射前のα−ア
ミノケトンの潜在性および照射後の触媒活性の試験） 配合物６．（ａ）：エポキシクレゾールノボラック（Ｅ
ＣＮ１２９９，旭チバ（日本）より提供）２００部 ＤＬ−ジチオトレイトール（東京化成（日本）提供）５
０部 ＤＳＣ曲線（加熱速度１０℃／分）は１３８℃のピーク
温度を示す。 配合物６．（ｂ）：エポキシクレゾールノボラック（Ｅ
ＣＮ１２９９，旭チバ（日本）より提供）２００部 ＤＬ−ジチオトレイトール（東京化成（日本）提供）５
０部 （４−モルホリノベンゾイル）−１−ベンジル−１−ジ
メチルアミノプロパン（登録商標イルガキュア（Irgacu
re) ３６９,Ciba Specialty Chemicals により提供) ６
部、露光なしでのＤＳＣ曲線（加熱速度１０℃／分）は
１３５℃のピーク温度を示す。試料を４０秒間照射した
後ＤＳＣピークは９１℃に示される。

【０１０８】実施例７：（光塩基活性：照射前のα−ア
ミノケトンの潜在性および照射後の触媒活性の試験） 配合物７．（ａ）：エポキシフェノールノボラック（Ｇ
Ｙ１１８０, 旭チバ（日本）より提供）２００部 ペンタエリトリトールテトラ（メルカプトアセテート）
（東京化成（日本）提供）１００部 ＤＳＣ曲線（加熱速度１０℃／分）は２４０℃のピーク
温度を示す。 配合物７．（ｂ）：エポキシフェノールノボラック（Ｇ
Ｙ１１８０, 旭チバ（日本）より提供）２００部 ペンタエリトリトールテトラ（メルカプトアセテート）
（東京化成（日本）提供）１００部 ４−（メチルチオベンゾイル）−１−メチル−１−モル
ホリノエタン（登録商標イルガキュア（Irgacure) ９０
７,Ciba Specialty Chemicals により提供) ６部露光な
しでのＤＳＣ曲線（加熱速度１０℃／分）は２４３℃の
ピーク温度を示す。試料を金属ハライドランプ（ＯＲＣ
ＳＭＸ３０００，３ｋＷ）で４０秒間照射した後ＤＳ
Ｃピークは１６１℃に示される。 配合物７．（ｃ）：エポキシフェノールノボラック（Ｇ
Ｙ１１８０, 旭チバ（日本）より提供）２００部 ペンタエリトリトールテトラ（メルカプトアセテート）
（東京化成（日本）提供）１００部 （４−モルホリノベンゾイル）−１−ベンジル−１−ジ
メチルアミノプロパン（登録商標イルガキュア（Irgacu
re) ３６９,Ciba Specialty Chemicals により提供) ６
部、露光なしでのＤＳＣ曲線（加熱速度１０℃／分）は
２４２℃のピーク温度を示す。試料を４０秒間照射した
後ＤＳＣピークは１２４℃に示される。

【０１０９】実施例８：（光塩基活性：照射前のα−ア
ミノケトンの潜在性および照射後の触媒活性の試験） 配合物８．（ａ）：エポキシクレゾールノボラック（Ｅ
ＣＮ１２９９，旭チバ（日本）より提供）２００部 ペンタエリトリトールテトラ（メルカプトアセテート）
（東京化成（日本）提供）５０部 ＤＳＣ曲線（加熱速度１０℃／分）は１９９℃のピーク
温度を示す。 配合物８．（ｂ）：エポキシクレゾールノボラック（Ｅ
ＣＮ１２９９，旭チバ（日本）より提供）２００部 ペンタエリトリトールテトラ（メルカプトアセテート）
（東京化成（日本）提供）５０部 ４−（メチルチオベンゾイル）−１−メチル−１−モル
ホリノエタン（登録商標イルガキュア（Irgacure) ９０
７,Ciba Specialty Chemicals により提供) ６部露光な
しでのＤＳＣ曲線（加熱速度１０℃／分）は２１２℃の
ピーク温度を示す。試料を金属ハライドランプ（ＯＲＣ
ＳＭＸ３０００，３ｋＷ）で４０秒間照射した後ピー
クは１６７℃に示される。 配合物８．（ｃ）：エポキシクレゾールノボラック（Ｅ
ＣＮ１２９９，旭チバ（日本）より提供）２００部 ペンタエリトリトールテトラ（メルカプトアセテート）
（東京化成（日本）提供）５０部 （４−モルホリノベンゾイル）−１−ベンジル−１−ジ
メチルアミノプロパン（登録商標イルガキュア（Irgacu
re) ３６９,Ciba Specialty Chemicals により提供) ６
部、露光なしでのＤＳＣ曲線（加熱速度１０℃／分）は
２０１℃のピーク温度を示す。試料を金属ハライドラン
プ（ＯＲＣ ＳＭＸ３０００，３ｋＷ）で４０秒間照射
した後ピークは１２４℃に示される。

【０１１０】実施例９：（光塩基活性：照射前のα−ア
ミノケトンの潜在性および照射後の触媒活性の試験） 以下の配合物を混合により製造する（重量部）。 配合物９．（ａ）：エポキシクレゾールノボラック（Ｅ
ＣＮ１２９９，旭チバ（日本）より提供）２００部 ４，４′−チオビスベンゼンチオール（シグマ−アルド
リッチ（Sigma-Aldrich)（日本）提供）５０部 （４−モルホリノベンゾイル）−１−ベンジル−１−ジ
メチルアミノプロパン（登録商標イルガキュア（Irgacu
re) ３６９,Ciba Specialty Chemicals により提供) ６
部、テトラヒドロフラン２５０部 配合物９．（ｂ）：エポキシクレゾールノボラック（Ｅ
ＣＮ１２９９，旭チバ（日本）より提供）２００部 ＤＬ−ジチオトレイトール（東京化成（日本）提供）５
０部 （４−モルホリノベンゾイル）−１−ベンジル−１−ジ
メチルアミノプロパン（登録商標イルガキュア（Irgacu
re) ３６９,Ciba Specialty Chemicals により提供) ６
部、テトラヒドロフラン２５０部 配合物９．（ｃ）：エポキシクレゾールノボラック（Ｅ
ＣＮ１２９９，旭チバ（日本）より提供）２００部 ペンタエリトリトールテトラ（メルカプトアセテート）
（東京化成（日本）提供）５０部 （４−モルホリノベンゾイル）−１−ベンジル−１−ジ
メチルアミノプロパン（登録商標イルガキュア（Irgacu
re) ３６９,Ciba Specialty Chemicals により提供) ６
部、テトラヒドロフラン２５０部 配合物９．（ｄ）：エポキシフェノールノボラック（Ｇ
Ｙ１１８０, 旭チバ（日本）より提供）２００部 ４，４′−チオビスベンゼンチオール（シグマ−アルド
リッチ（Sigma-Aldrich)（日本）提供）５０部 （４−モルホリノベンゾイル）−１−ベンジル−１−ジ
メチルアミノプロパン（登録商標イルガキュア（Irgacu
re) ３６９,Ciba Specialty Chemicals により提供) ６
部、テトラヒドロフラン１５０部 配合物９．（ｅ）：エポキシフェノールノボラック（Ｇ
Ｙ１１８０, 旭チバ（日本）より提供）２００部 ４，４′−チオビスベンゼンチオール（シグマ−アルド
リッチ（Sigma-Aldrich)（日本）提供）５０部 ４−（メチルチオベンゾイル）−１−メチル−１−モル
ホリノエタン（登録商標イルガキュア（Irgacure) ９０
７,Ciba Specialty Chemicals により提供) ６部テトラ
ヒドロフラン１５０部 配合物９．（ｆ）：エポキシフェノールノボラック（Ｇ
Ｙ１１８０, 旭チバ（日本）より提供）２００部 ＤＬ−ジチオトレイトール（東京化成（日本）提供）５
０部 （４−モルホリノベンゾイル）−１−ベンジル−１−ジ
メチルアミノプロパン（登録商標イルガキュア（Irgacu
re) ３６９,Ciba Specialty Chemicals により提供) ６
部、テトラヒドロフラン１５０部

【０１１１】配合物９．（ａ）ないし９．（ｆ）を線巻
バーコーターを使用してアルミニウム板に塗布し（配合
物（ａ−ｃ）に対する湿潤厚み５０μｍおよび配合物
（ｄ−ｆ）に対する湿潤厚み３６μｍ）そして空気中、
４５℃で１０分間乾燥させる。配合物（ａ−ｃ）および
（ｄ−ｆ）に対して、それぞれ約２３μｍ厚および１８
μｍ厚の結果として得られたレジスト層をポリエステル
箔できちんと張るように被覆し、そして６０ｃｍの距離
に配置された３ｋＷ金属ハライドランプ（ＯＲＣＳＭＸ
３０００）で３２０秒間照射する。試料は２１ステップ
濃度ウエッジ（Stouffer Graphic Arts)および減圧にし
た箔（vacuum foil)を通して３０℃で照射される。照射
後試料を種々の露光後焼付（post-exposure bake) 条件
下で加熱する（表２に集約される）。試料を超音波浴中
のエタノールおよびメチルエチルケトン（１：１）の混
合物で現像する。もっとも高い不粘着性ステップをレジ
ストの感度の尺度として使用する。より高いステップ数
はより良い配合物の硬化の有効性である。得られた感度
を以下の表２に列挙する。 −：僅かに重合した；×：重合せず；nt：試験せず；r.t.：２２−２３℃ −：僅かに重合した；×：重合せず；nt：試験せず；r.t.：２２−２３℃

フロントページの続き (72)発明者 マルティン クンツ ドイツ連邦共和国，79588 エフリンゲン −キルヒェンバーゼラーシュトラーセ 13 ／５ (72)発明者 木村 昭 兵庫県宝塚市末成町13−14 (72)発明者 倉 久稔 兵庫県宝塚市小林５−３−15−205 (72)発明者 岡 英隆 兵庫県宝塚市末成町18−27 (72)発明者 中島 容子 大阪府豊中市待兼山町１−12石橋２宿舎４ −３

Claims (15)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （Ａ）潜在性塩基触媒として、次式Ｉ，
   IIまたはIII ： 【化１】 ｛式中、 Ａｒ₁ は次式IV，Ｖ，VIもしくはVII ： 【化２】 で表される芳香族基を表し；Ｘは 【化３】 、−Ｎ（Ｒ₁₁）−または−Ｎ（Ｒ₁₁）−Ｒ₁₂−Ｎ
   （Ｒ₁₁）−で表される２価の基を表し；Ｙは炭素原子数
   １ないし６のアルキレン基、シクロヘキシレン基もしく
   は直接結合を表し、 Ｕは−Ｏ−，−Ｓ−もしくは−Ｎ（Ｒ₁₇）−を表し、 ＶはＵで定義された意味の１つまたは−ＣＯ−，−ＣＨ
   ₂ −，−ＣＨ₂ ＣＨ₂−，炭素原子数２ないし６のアル
   キリデン基もしくは直接結合を表し、 Ｗは枝分かれしていないまたは枝分れした炭素原子数１
   ないし７のアルキレン基もしくは炭素原子数２ないし６
   のアルキリデン基を表し、 Ｒ₁ 及びＲ₂ はおのおの互いに独立して （ａ）未置換であるかまたはＯＨ、炭素原子数１ないし
   ４のアルコキシ基、ＳＨ、ＣＮ、−ＣＯＯ（炭素原子数
   １ないし８のアルキル）、（炭素原子数１ないし４のア
   ルキル）−ＣＯＯ−、フェノキシ基、ハロゲン原子もし
   くはフェニル基によって置換された炭素原子数１ないし
   １２のアルキル基を表すか；あるいはシクロペンチル基
   またはまたはシクロヘキシル基を表すか； （ｂ）式 【化４】 （式中、ｐは０もしくは１を表す。）で表される基を表
   すか；または （ｃ）式 【化５】 （式中、ｑは０，１，２もしくは３を表す。）で表され
   る基を表すか；または （ｄ）式 【化６】 で表される基を表すか； （ｅ）未置換であるかまたはハロゲン原子、炭素原子数
   １ないし１２のアルキル基もしくは炭素原子数１ないし
   １２のアルコキシ基によって置換されたフェニル基を表
   すか； （ｆ）Ｒ₁ およびＲ₂ は一緒になって、枝分かれしてな
   いまたは枝分かれした、炭素原子数２ないし９のアルキ
   レン基または炭素原子数３ないし９のオキサアルキレン
   基を表すか、または次式： 【化７】 で表される基を形成し〔上記基中、Ａｒ₂ は各々が、未
   置換であるかまたはハロゲン原子、ＯＨ基、炭素原子数
   １ないし１２のアルキル基によって置換された、または
   ＯＨ基で、ハロゲン原子で、炭素原子数１ないし１２の
   アルコキシ基で、−ＣＯＯ（炭素原子数１ないし１８の
   アルキル）で、−ＣＯ（ＯＣＨ₂ ＣＨ₂ )_n ＯＣＨ₃ で
   もしくは−ＯＣＯ（炭素原子数１ないし４）アルキル基
   で置換された炭素原子数１ないし４のアルキル基によっ
   て置換された、フェニル基、ナフチル基、チエニル基ま
   たはフリル基；あるいは炭素原子数１ないし１２のアル
   コキシ基によって、または−ＣＯＯ（炭素原子数１ない
   し１８のアルキル）でもしくは−ＣＯ（ＯＣＨ₂ ＣＨ₂
   )_n ＯＣＨ₃ で置換された炭素原子数１ないし４のアル
   コキシ基によって置換された、フェニル基、ナフチル
   基、チエニル基またはフリル基；あるいは−（ＯＣＨ₂
   ＣＨ₂ )_n ＯＨで、−（ＯＣＨ₂ ＣＨ₂ )_n ＯＣＨ
   ₃ で、炭素原子数１ないし８のアルキルチオ基で、フェ
   ノキシ基で、−ＣＯＯ（炭素原子数１ないし１８のアル
   キル）で、−ＣＯ（ＯＣＨ₂ ＣＨ₂ )_n ＯＣＨ₃ で、フ
   ェニル基でもしくはベンゾイル基で置換された、フェニ
   ル基、ナフチル基、フリル基、チエニル基またはピリジ
   ル基を表し、ｎは１−２０を表し、ｍは１もしくは２を
   表す。〕；Ｒ₃ は炭素原子数１ないし１２のアルキル
   基；−ＯＨ、−炭素原子数１ないし４のアルコキシ、−
   ＣＮもしくは−ＣＯＯ（炭素原子数１ないし４のアルキ
   ル）で置換された炭素原子数２ないし４のアルキル基を
   表すか、または、Ｒ₃ は炭素原子数３ないし５のアルケ
   ニル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基ま
   たはフェニル−炭素原子数１ないし３のアルキル基を表
   し；Ｒ₄ は炭素原子数１ないし１２のアルキル基；また
   は−ＯＨ、−炭素原子数１ないし４のアルコキシ基、−
   ＣＮもしくは−ＣＯＯ（炭素原子数１ないし４のアルキ
   ル）で置換された炭素原子数２ないし４のアルキル基を
   表すかまたはＲ₄ は炭素原子数３ないし５のアルケニル
   基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、フェ
   ニル−炭素原子数１ないし３のアルキル基、または、未
   置換であるかまたは炭素原子数１ないし１２のアルキル
   基、炭素原子数１ないし４のアルコキシ基もしくは−Ｃ
   ＯＯ（炭素原子数１ないし４のアルキル）によって置換
   されたフェニル基を表すか、あるいはＲ₄ はＲ₂ と一緒
   になって炭素原子数１ないし７のアルキレン基、フェニ
   ル−炭素原子数１ないし４のアルキレン基、ｏ−キシリ
   レン基、２−ブテニレン基または炭素原子数２もしくは
   ３のオキサアルキレン基を表すか、あるいはＲ₃ および
   Ｒ₄ は一緒になって−Ｏ−、−Ｓ−もしくは−ＣＯ−で
   中断され得る炭素原子数４ないし７のアルキレン基を表
   すか、またはＲ₃ 及びＲ₄ は一緒になってＯＨ、炭素原
   子数１ないし４のアルコキシ基もしくは−ＣＯＯ（炭素
   原子数１ないし４のアルキル）で置換され得る炭素原子
   数３ないし７のアルキレン基を表し；Ｒ₅ ，Ｒ₆ ，
   Ｒ₇ ，Ｒ₈ 及びＲ₉ は、各々互いに独立して水素原子、
   ハロゲン原子、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、
   シクロペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ベ
   ンジル基、ベンゾイル基、または基−ＯＲ₁₇、−Ｓ
   Ｒ₁₈、−ＳＯＲ₁₈、−ＳＯ₂ Ｒ₁₈、−Ｎ（Ｒ₂₀）
   （Ｒ₁₉）、−ＮＨ−ＳＯ₂ Ｒ₂₁または次式： 【化８】 （式中、Ｚは−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ（Ｒ₁₁）−、−Ｎ
   （Ｒ₁₁）−Ｒ₁₂−Ｎ−（Ｒ₁₁）−もしくは 【化９】 を表す。）を表し；Ｒ₁₀は水素原子、炭素原子数１ない
   し１２のアルキル基、ハロゲン原子または炭素原子数２
   ないし８のアルカノイル基を表し；Ｒ₁₁は炭素原子数１
   ないし８のアルキル基、炭素原子数３ないし５のアルケ
   ニル基、フェニル−炭素原子数１ないし３のアルキル
   基、炭素原子数１ないし４のヒドロキシアルキル基もし
   くはフェニル基を表し；Ｒ₁₂は１もしくはそれ以上の−
   Ｏ−または−Ｓ−により中断され得る枝分かれしていな
   いまたは枝分かれした炭素原子数２ないし１６のアルキ
   レン基を表し；Ｒ₁₃は水素原子、炭素原子数１ないし８
   のアルキル基またはフェニル基を表し；Ｒ₁₄，Ｒ₁₅及び
   Ｒ₁₆は互いに独立して水素原子もしくは炭素原子数１な
   いし４のアルキル基を表すか、あるいはＲ₁₄及びＲ₁₅は
   一緒になって炭素原子数３ないし７のアルキレン基を表
   し；Ｒ₁₇は水素原子、炭素原子数１ないし１２のアルキ
   ル基；−ＳＨ、−ＣＮ、−ＯＨ、炭素原子数１ないし４
   のアルコキシ基、炭素原子数３ないし６のアルケノキシ
   基、−ＯＣＨ₂ ＣＨ₂ ＣＮ、−ＯＣＨ₂ ＣＨ₂ ＣＯＯ
   （炭素原子数１ないし４のアルキル）、−ＣＯＯＨまた
   は未置換であるかもしくはＳＨで置換された−Ｏ−ＣＯ
   −炭素原子数１ないし４のアルキル基によって置換され
   た炭素原子数２ないし６のアルキル基を表すか、あるい
   はＲ₁₇は−ＣＯＯ（炭素原子数１ないし４のアルキル）
   を表すか、あるいはＲ₁₇は１以上の−Ｏ−により中断さ
   れた炭素原子数１ないし６のアルキル基を表すか、ある
   いはＲ₁₇は−（ＣＨ₂ ＣＨ₂ Ｏ )_n Ｈ、炭素原子数２な
   いし８のアルカノイル基、炭素原子数３ないし１２のア
   ルケニル基、シクロヘキシル基、ヒドロキシシクロヘキ
   シル基；未置換であるかまたはハロゲン原子、炭素原子
   数１ないし１２のアルキル基もしくは炭素原子数１ない
   し４のアルコキシ基で置換されたフェニル基を表すか、
   あるいはＲ₁₇はフェニル−炭素原子数１ないし３のアル
   キル基または−Ｓｉ（炭素原子数１ないし８のアルキル
   基 )_r (フェニル)_3-r（式中、ｒは１、２または３を表
   す。）を表し；Ｒ₁₈は水素原子、炭素原子数１ないし１
   ２のアルキル基、炭素原子数３ないし１２のアルケニル
   基、シクロヘキシル基；−ＳＨ、−ＯＨ、−ＣＮ、−Ｃ
   ＯＯＨ、−ＣＯＯ（炭素原子数１ないし４のアルキ
   ル）、炭素原子数１ないし４のアルコキシ基、−ＯＣＨ
   ₂ ＣＨ₂ ＣＮもしくは、未置換であるかもしくはＳＨで
   置換された−Ｏ−ＣＯ−炭素原子数１ないし４のアルキ
   ル基によって置換された炭素原子数２ないし１２のアル
   キル基を表すか、あるいはＲ₁₈は−ＯＣＨ₂ ＣＨ₂ −Ｃ
   ＯＯ（炭素原子数１ないし４のアルキル）を表すか、あ
   るいはＲ₁₈は−Ｓ−もしくは−Ｏ−で中断された炭素原
   子数１ないし１２のアルキル基を表すか、あるいはＲ₁₈
   は未置換であるかまたはハロゲン原子、ＳＨ、炭素原子
   数１ないし１２のアルキル基もしくは炭素原子数１ない
   し４のアルコキシ基で置換されたフェニル基を表すか、
   あるいはＲ₁₈はフェニル−炭素原子数１ないし３のアル
   キル基を表し；Ｒ₁₉およびＲ₂₀は各々互いに独立して、
   炭素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子数２な
   いし４のヒドロキシアルキル基、炭素原子数２ないし１
   ０のアルコキシアルキル基、炭素原子数３ないし５のア
   ルケニル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル
   基、フェニル−炭素原子数１ないし３のアルキル基；未
   置換のもしくはハロゲン原子、炭素原子数１ないし１２
   のアルキル基もしくは炭素原子数１ないし４のアルコキ
   シ基で置換されたフェニル基を表すか、あるいはＲ₁₉お
   よびＲ₂₀は炭素原子数２ないし３のアルカノイル基また
   はベンゾイル基を表すか；あるいはＲ₁₉およびＲ₂₀は一
   緒になって−Ｏ−もしくは−Ｓ−により中断され得る炭
   素原子数２ないし８のアルキレン基を表すか；あるいは
   Ｒ₁₉およびＲ₂₀は一緒になってヒドロキシル基、炭素原
   子数１ないし４のアルコキシ基もしくは−ＣＯＯ（炭素
   原子数１ないし４のアルキル）により置換され得る炭素
   原子数２ないし８のアルキレン基を表し；およびＲ₂₁は
   炭素原子数１ないし１８のアルキル基；未置換であるか
   またはハロゲン原子、炭素原子数１ないし１２のアルキ
   ル基もしくは炭素原子数１ないし８のアルコキシ基によ
   り置換されたフェニル基を表すか、あるいはＲ₂₁はナフ
   チル基を表す。｝で表される化合物の少なくとも１種； （Ｂ）塩基で触媒される反応中で反応可能な有機化合物
   の少なくとも１種；ならびに （Ｃ）所望により、増感剤からなる組成物。
2. 【請求項２】 成分（Ｂ）がエポキシド化合物の少なく
   とも１種と、塩基の存在下でエポキシドと反応可能なの
   化合物少なくとも１種との混合物からなる請求項１記載
   の組成物。
3. 【請求項３】 塩基の存在下でエポキシドと反応可能な
   化合物がカルボキシル化合物またはチオールである請求
   項２記載の組成物。
4. 【請求項４】 成分（Ａ）が、式Ｉで表される化合物で
   あり；Ａｒ₁ が、式IVで表される基を表し；Ｒ₅ が基−
   ＯＲ₁₇、−ＳＲ₁₈またはＮ（Ｒ₁₉）（Ｒ₂₀）を表し；Ｒ
   ₆ が水素原子、クロロ基もしくは炭素原子数１ないし４
   のアルキル基を表すか、またはＲ₅ に対して与えられた
   意味の一つをもち；Ｒ₇ およびＲ₈ が水素原子またはク
   ロロ基を表し；Ｒ₉ が水素原子または炭素原子数１ない
   し４のアルキル基を表し；Ｒ₁ が（ａ）式 【化１０】 で表される基または（ｂ）−ＣＨ₂ −Ａｒ₂ （基中、Ａ
   ｒ₂ は未置換であるかまたはハロゲン原子、炭素原子数
   １ないし４のアルキル基、ＣＨ₃ Ｓ−、ＣＨ₃ Ｏ−もし
   くはベンジル基で置換されたフェニル基を表す。）で表
   される基の何れかを表し；Ｒ₂ はＲ₁ に対して与えられ
   た意味の一つを表すか、または炭素原子数１ないし４の
   アルキル基を表し；Ｒ₃ およびＲ₄ は各々互いに独立し
   て炭素原子数１ないし６のアルキル基、２−メトキシエ
   チル基、アリル基またはベンジル基を表すか、またはＲ
   ₃ およびＲ₄ は一緒になって、テトラメチレン基、ペン
   タメチレン基または３−オキサペンタメチレン基を表
   し；Ｒ₁₄およびＲ₁₅は水素原子またはメチルを表し；Ｒ
   ₁₇は未置換のもしくはＳＨで置換された炭素原子数１な
   いし４のアルキル基、２−ヒドロキシエチル基、２−メ
   トキシエチル基またはフェニル基を表し；Ｒ₁₈は未置換
   のもしくはＳＨで置換された炭素原子数１ないし１２の
   アルキル基、２−ヒドロキシエチル基、２−メトキシエ
   チル基または未置換のもしくはＳＨで置換されたフェニ
   ル基を表すかまたはｐ−トリル基を表し；ならびにＲ₁₉
   およびＲ₂₀は水素原子、炭素原子数１ないし４のアルキ
   ル基、２−メトキシエチル基、アセチル基またはアリル
   基を表すか、またはＲ₁₉およびＲ₂₀は一緒になって−Ｏ
   −により中断され得る炭素原子数４ないし５のアルキレ
   ン基を表す請求項１記載の組成物。
5. 【請求項５】 成分（Ａ）が、式Ｉで表される化合物で
   あり；Ａｒ₁ が、式IVで表される基であり；Ｒ₁ および
   Ｒ₂ が各々互いに独立して炭素原子数１ないし４のアル
   キル基またはベンジル基を表し；Ｒ₃ およびＲ₄ は各々
   互いに独立して炭素原子数１ないし４のアルキル基を表
   すかまたは一緒になってモルホリノ基を表し；Ｒ₅ がモ
   ルホリノ基または炭素原子数１ないし４のアルキルチオ
   基を表し；ならびにＲ₆ 、Ｒ₇ 、Ｒ₈ およびＲ₉ が水素
   原子を表す請求項１記載の組成物。
6. 【請求項６】 請求項１で定義された式Ｉ、式IIまたは
   式III で表される化合物を潜在性塩基として重合される
   混合物に添加しそして２００ないし７００ｎｍの波長の
   光で照射して塩基を発生させることを特徴とする、塩基
   で触媒される重合反応において塩基を光化学的に発生さ
   せる方法。
7. 【請求項７】 潜在性塩基に加えて、２２５ないし３１
   ０ｋＪ／ｍｏｌの三重項エネルギーをもつカルボニル化
   合物の群から選択される三重項エネルギー増感剤を添加
   する請求項６記載の方法。
8. 【請求項８】 （Ａ）請求項１で定義された式Ｉ、式II
   または式III で表される化合物； （Ｂ）塩基で触媒される付加反応または置換反応におい
   て反応可能な有機化合物の少なくとも１種；ならびに （Ｃ）所望により、増感剤からなる組成物を硬化させる
   方法であって （１）前記組成物を波長２００ないし７００ｎｍを持つ
   光で照射して、式Ｉ、式IIまたは式III の感光性前駆体
   から塩基触媒を発生させ、および （２）次いで段階（１）において光発生した塩基を触媒
   として使用して、熱硬化させる方法。
9. 【請求項９】 熱硬化段階（２）の後に現像段階（３）
   が続く請求項８記載の方法。
10. 【請求項１０】 他の塩基触媒またはその前駆体が熱処
    理段階（２）のための補助触媒として組成物に添加され
    る請求項８記載の方法。
11. 【請求項１１】 光化学的段階（１）の後、熱硬化段階
    （２）の前に現像段階（３）が続く請求項９記載の方
    法。
12. 【請求項１２】 段階（１）、（２）および（３）の後
    に第二熱硬化段階（４）が続く請求項９記載の方法。
13. 【請求項１３】 組成物が、ラジカル重合可能なモノマ
    ー、オリゴマーまたはポリマー（Ｄ）をさらに含む請求
    項８記載の方法。
14. 【請求項１４】 レジスト材料、ソルダーマスク、相似
    被覆、保護被覆、粉体被覆、オーバープリント用ワニ
    ス、ガラス繊維被覆、導波管、印刷版、接着剤、イン
    ク、スクリーン印刷ステンシル、強化複合材料、光学ス
    イッチ、褪色防止系(color proofing system) 、磁気記
    録媒体、歯科用材料を製造するための、ステレオリソグ
    ラフィー法またはホログラフィー法として行われる方法
    のための請求項８記載の方法。
15. 【請求項１５】 輻射線硬化性系における光塩基発生剤
    としての請求項１で定義された式Ｉ、IIおよびIII で表
    される化合物。