CH692422A5 - Alpha-Aminoacetophenon-Photostarter. - Google Patents

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CH692422A5
CH692422A5 CH02735/97A CH273597A CH692422A5 CH 692422 A5 CH692422 A5 CH 692422A5 CH 02735/97 A CH02735/97 A CH 02735/97A CH 273597 A CH273597 A CH 273597A CH 692422 A5 CH692422 A5 CH 692422A5
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CH
Switzerland
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alkyl
phenyl
substituted
group
unsubstituted
Prior art date
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CH02735/97A
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Inventor
Jean-Luc Birbaum
Hitoshi Yamoto
Hiroko Nakashima
Original Assignee
Ciba Sc Holding Ag
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Description


  



  Die vorliegende Erfindung betrifft neue  alpha -Aminoacetophenonverbindungen, Massen, die diese Verbindungen enthalten, und die Verwendung der Verbindungen als Fotostarter. 



   alpha -Aminoacetophenonverbindungen sind als Fotostarter für radikalische Fotopolymerisationsreaktionen bekannt. Solche Verbindungen werden beispielsweise in US-A-4 582 862, 4 992 547 und 5 077 402 offenbart. In US-A-5 541 038 werden  alpha -Aminoacetophenonverbindungen beschrieben, die in Kombination mit Dialkoxyacetophenonverbindungen zur Herstellung von Druckplatten verwendbar sind. 



  In der Fotopolymerisationstechnologie gibt es noch Bedarf für reaktive, leicht herzustellende und leicht zu handhabende Fotostarterverbindungen. 



  Es wurde nun gefunden, dass Verbindungen der Formel I, II, III und IV 
EMI1.1
 
 
 



  worin
 a eine ganze Zahl von 1, 2 oder 4 darstellt;
 Ar eine Phenyl-, Biphenyl- oder Benzoylphenylgruppe darstellt, wobei die Phenyl-, Biphenyl- oder Benzoylphenylgruppe unsubstituiert oder mit 1 bis 5 der Reste Halogen, C1-C12-Alkyl, C3-C12-Alkenyl, C5-C6-Cycloalkyl, Phenyl-C1-C3-alkyl, -COON, -COO(C1-C4-Alkyl), -OR7, -SH, -SR8, -SOR8, -SO2R8, -CN,       -SO2NH2, -SO2NH(C1-C4-Alkyl), -SO2-N(C1-C4-Alkyl)2, -NR9R10, -NHCOR9 oder mit einer Gruppe der Formel V 
EMI2.1
 
 
 



  substituiert ist oder Ar eine Gruppe der Formel VI oder VII 
EMI2.2
 
 
EMI2.3
 
 



  ist;
 Ar1, wenn a 1 ist, dieselben Bedeutungen wie Ar aufweist;
 wenn a 2 ist, Ar1 einen zweiwertigen aromatischen Rest der Formel VIII oder VIIIa 
EMI2.4
 
 
 



  darstellt;
 wenn a 4 ist, Ar1 einen vierwertigen aromatischen Rest der Formel VIIIb 
EMI2.5
 
 
 



  darstellt;
 Ar2 
EMI2.6
 
 
 



  darstellt, wobei diese Gruppen unsubstituiert oder mit 1 bis 5 der Reste Halogen, C1-C12-Alkyl, C3-C12-Alkenyl, C5-C6-Cycloalkyl, Phenyl-C1-C3-alkyl, -COOH, -COO(C1-C4-Alkyl), -OR7, -SH, -SR8, -SOR8,     -SO2R8, -CN, -SO2NH2, -SO2NH(C1-C4-Alkyl) -SO2-N(C1-C4-Alkyl)2, -NR9R10, -NHCOR9 oder mit einer wie vorstehend definierten Gruppe der Formel V substituiert sind, 



  oder Ar2 eine Gruppe der Formel VIa oder VIIa 
EMI3.1
 
 
EMI3.2
 
 
 



  darstellt;
 X eine direkte Bindung, -O-, -S- oder -N(R6)- darstellt;
 Y Wasserstoff, C1-C12-Alkyl, unsubstituiert oder substituiert mit 1 bis 5 OH, OR6, COOR6, SH, N(R6)2 oder Halogen oder 1- bis 5-mal substituiert mit einer Gruppe der Formel Ia 
EMI3.3
 
 
 



  darstellt, oder Y C2-C20-Alkyl, unterbrochen durch 1 bis 9 -O-, -N(R6)-, -S-, -SS-, -X-C(=O)-, -X-C(=S)-, -C(=O)-X-, -X-C(=O)-X-, -C(=S)-X-, s 
EMI3.4
 
 
 



  wobei die unterbrochene C2-C20-Alkylgruppe zusätzlich mit 1 bis 5 SH substituiert sein kann, darstellt oder Y Benzyl, unsubstituiert oder einmal oder zweimal mit -CH2SH substituiert, darstellt und die Benzylgruppe zusätzlich mit 1 bis 4 C1-C4-Alkyl substituiert sein kann oder Y Ar (wie vorstehend definiert) oder eine Gruppe 
EMI3.5
 
 
EMI4.1
 



   oder 
EMI4.2
 
 
 darstellt, oder Y einen heterocyclischen 5- bis 7-gliedrigen aliphatischen oder aromatischen Ring, umfassend 1 bis 4 N-, O- oder/und S-Atome, darstellt oder Y ein 8- bis 12-gliedriges bicyclisches, aliphatisches oder aromatisches Ringsystem, umfassend 1 bis 6 N-, O- oder/und S-Atome, darstellt, dessen mono- oder bicyclische Ringe zusätzlich mit SH oder 1 bis 5-mal mit einer Gruppe der Formel Ia substituiert sein können, oder Y eine Gruppe 
EMI4.3
 
 
EMI4.4
 
 
EMI4.5
 
 
EMI4.6
 
 



  oder 
EMI4.7
 
 
 



  darstellt;
 q 1 oder 2 ist;
 r 1, 2 oder 3 ist;
 p 0 oder 1 ist;
 t 1 bis 6 ist;
 u 2 oder 3 ist; 
 R1 und R2 unabhängig voneinander C1-C8-Alkyl, unsubstituiert oder substituiert mit OH, C1-C4-Alkoxy, SH, CN, -COO(C1-C8-Alkyl), (C1-C4-Alkyl) -COO- oder -N(R3)(R4) darstellen oder R1 und R2 unabhängig voneinander C3-C6-Alkenyl, Phenyl, Chlorphenyl, R7-O-Phenyl, R8-S-Phenyl oder Phenyl-C1C3-alkyl, worin die C3-C6-Alkenyl-, Phenyl-, Chlorphenyl-, R7-O-Phenyl-, R8-S-Phenyl- oder Phenyl-C2-C3-alkylgruppen, unsubstituiert oder mit 1 bis 5 SH substituiert sind, darstellen oder R1 und R2 zusammen unverzweigt oder verzweigt C2-C9-Alkylen, C3-C9-Oxaalkylen oder C3-C9-Azaalkylen bedeuten, wobei die C2-C9-Alkylen-, C3-C9-Oxaalkylen- oder C3-C9-Azaalkylengruppen,

   unsubstituiert oder mit 1 bis 5 SH substituiert sind oder R1 und R2 unabhängig voneinander einen Rest der Formel IX oder X 
EMI5.1
 
 
 



  darstellen,
 R3 Wasserstoff, C1-C12-Alkyl, C2-C4-Alkyl, substituiert mit OH, SH, C1-C4-Alkoxy, CN oder -COO(C1-C4-Alkyl), darstellt oder R3 C3-C5-Alkenyl, C5-C12-Cycloalkyl oder Phenyl-C1-C3-alkyl darstellt;
 R4 C1-C12-Alkyl, C2-C4-Alkyl, substituiert mit OH, SH, C1-C4-Alkoxy, CN oder -COO(C1-C4-Alkyl), darstellt oder R4 C3-C5-Alkenyl, C5-C12-Cycloalkyl, Phenyl-C1-C3-alkyl, Phenyl, unsubstituiert oder Phenyl, substituiert mit Halogen, C1-C12-Alkyl, C1-C4-Alkoxy oder -COO(C1-C4-Alkyl), darstellt; oder
 R4 zusammen mit R2 C1-C7-Alkylen, Phenyl-C1-C4-alkylen, Phenyl-1,2-dimethylen, 2-Butenylen oder   C2-C3-Oxaalkylen oder C2-C3-Azaalkylen darstellt;

   oder
 R3 und R4 zusammen eine C3-C7-Alkylengruppe, die durch -O-, -S-, -CO- oder -N(R6)- unterbrochen sein kann und wobei die C3-C7-Alkylengruppe mit OH, SH, C1-C4-Alkoxy oder -COO(C1-C4-Alkyl) substituiert sein kann, darstellen;
 R5 C1-C6-Alkylen, Xylylen, Cyclohexylen, worin die C1-C6-Alkylen-, Xylylen-, Cyclohexylengruppen unsubstituiert oder mit 1 bis 5 SH substituiert sind, darstellt oder R5 eine direkte Bindung darstellt;

   
 R6 Wasserstoff, unsubstituiert oder mit OH, SH oder HS-(CH2)q-COO substituiert, eine C1-C12-Alkylgruppe, eine C2-C12-Alkylgruppe, die durch -O-, -NH- oder -S- unterbrochen ist, darstellt oder R6 C3-C5-Alkenyl, Phenyl-C1-C3-alkyl, CH2CH2CN, eine unsubstituierte oder mit OH oder SH substituierte Gruppe C1-C4-Alkyl-CO-CH2CH2-, eine unsubstituierte oder mit OH oder SH substituierte C2-C8-Alkanoylgruppe darstellt oder R6 Benzoyl darstellt;
 Z einen zweiwertigen Rest der Formel 
EMI6.1
 
 
 



  -N(R17)- oder -N(R17)-R18-N(R17)- darstellt;
 U eine unverzweigte oder verzweigte C1-C7-Alkylengruppe darstellt;
 V und W unabhängig voneinander eine direkte Bindung, -O-, -S- oder -N(R6)- darstellen, mit der Massgabe, dass V und W nicht beide gleichzeitig eine direkte Bindung darstellen;
 M O, S oder N(R6) darstellt;
 R7 Wasserstoff, C1-C12-Alkyl, C3-C12-Alkenyl, Cyclohexyl, Hydroxycyclohexyl darstellt oder R7 C1-C4-Alkyl, mono- oder polysubstituiert mit Cl, Br, CN, SH, -N(C1-C4-Alkyl)2, Piperidino, Morpholino, OH, C1-C4-Alkoxy, -OCH2CH2CN, -OCH2CH2COO(C1-C4-Alkyl), -OOCR19, -COOH, -COO(C1-C8-Alkyl), -CONH(C1-C4-Alkyl), -CON(C1-C4-Alkyl)2, 
EMI6.2
 



  oder 
EMI6.3
 
 
 darstellt oder R7 2,3-Epoxypropyl, -(CH2CH2O)mH, Phenyl, unsubstituiert oder Phenyl, substituiert mit Halogen, C1-C4-Alkyl, C1-C4-Alkoxy oder -COO(C1-C4-Alkyl), darstellt oder R7 Phenyl-C1-C3-alkyl, Tetrahydropyranyl, Tetrahydrofuranyl, -COOR19, -COO(C1-C8-Alkyl), -CONH(C1-C4-Alkyl), -CON(C1-C8-Alkyl)2, -Si(R20)(R21)2 oder -SO2R22 darstellt;
 R8 C1-C12-Alkyl, C3-C12-Alkenyl, Cyclohexyl, Hydroxycyclohexyl darstellt oder R8 C1-C4-Alkyl, mono- oder polysubstituiert mit Cl, Br, CN, SH, -N(C1-C4-Alkyl)2, Piperidino, Morpholino, OH, C1-C4-Alkoxy,    -OCH2CH2CN, -OCH2CH2COO(C1-C4- Alkyl), -OOCR19, -COOH, -COO(C1-C8-Alkyl), -CON(C1-C4-Alkyl)2, 
EMI7.1
 



  oder 
EMI7.2
 
 
 darstellt,
 oder R8 2,3-Epoxypropyl, Phenyl-C1-C3-alkyl, Phenyl-C1-C3-hydroxyalkyl, Phenyl, unsubstituiert oder Phenyl, mono- oder polysubstituiert mit Halogen, SH, C1-C4-Alkyl, C1-C4-Alkoxy oder -COO(C1-C4-Alkyl), darstellt oder R8 2-Benzothiazyl, 2-Benzimidazolyl, -CH2CH2-O-CH2CH2-SH oder -CH2CH2-S-CH2CH2-SH darstellt;
 R9 und R10 unabhängig voneinander Wasserstoff, C1-C12-Alkyl, C2-C4-Alkyl, substituiert mit OH, SH,   C1-C4-Alkoxy, CN oder -COO(C1-C4-Alkyl), darstellen oder R9 und R10 unabhängig voneinander C3-C5-Alkenyl, Cyclohexyl, Phenyl-C1-C3-alkyl, Phenyl, unsubstituiert oder Phenyl, mono- oder polysubstituiert mit C1-C12-Alkyl oder Halogen, darstellen oder R9 und R10 zusammen eine C2-C7-Alkylengruppe, die durch -O-, -S- oder -N(R18)- unterbrochen sein kann, darstellen;

  
 R11 und R12 unabhängig voneinander eine direkte Bindung, -CH2-, -CH2CH2-, -O-, -S-, -CO- oder -N(R6)- darstellen, mit der Massgabe, dass R11 und R12 nicht gleichzeitig eine direkte Bindung darstellen;
 R13 Wasserstoff, C1-C8-Alkyl oder Phenyl, wobei C1-C8-Alkyl oder Phenyl, unsubstituiert oder mit 1 bis 5 SH substituiert sind, darstellt;
 R14, R15 und R16 unabhängig voneinander Wasserstoff oder C1-C4-Alkyl, unsubstituiert oder mit SH substituiert darstellen;
 R17 Wasserstoff, C1-C8-Alkyl, unsubstituiert oder mit SH substituiert, oder Phenyl, unsubstituiert oder mit SH substituiert, darstellt;
 R18 eine unverzweigte oder verzweigte C2-C16-Alkylengruppe, die durch 1 bis 6 -O-, -S- oder -N(R17)- unterbrochen oder mit 1 bis 5 Gruppen SH substituiert sein kann, darstellt;
 R19 C1-C4-Alkyl, C2-C4-Alkenyl oder Phenyl darstellt;

   
 R20 und R21 unabhängig voneinander C1-C4-Alkyl oder Phenyl darstellen;
 R22 C1-C18-Alkyl, Phenyl oder Phenyl, substituiert mit C1-C14-Alkyl, darstellt;
 Ar3 Phenyl, Naphthyl, Furyl, Thienyl oder Pyridyl, worin die Reste unsubstituiert oder mit Halogen, SH, OH, C1-C12-Alkyl, C1-C4-Alkyl, substituiert mit OH, Halogen, SH, -N(R17)2, C1-C12-Alkoxy, -COO(C1-C18-Alkyl), -CO(OCH2CH2)nOCH3 oder -OCO(C1-C4-Alkyl) substituiert sind oder die Reste mit C1-C12-Alkoxy, C1-C4-Alkoxy, substituiert mit -COO(C1-C18-Alkyl) oder -CO(OCH2CH2)nOCH3, substituiert sind oder die Reste mit -(OCH2CH2)nOH, -(OCH2CH2)nOCH3, C1-C8-Alkylthio, Phenoxy, -COO(C1-C18-Alkyl),           -CO(OCH2CH2)nOCH3, Phenyl oder Benzoyl substituiert sind, darstellt;
 n 1 bis 20 ist;
 m 2 bis 20 ist;

  
 mit der Massgabe, dass mindestens einer der Reste Ar, Ar1, Ar2, Ar3, R1, R2, R3, R4, R5 oder Y mit 1 bis 5 Gruppen SH substituiert ist, oder mit der Massgabe, dass Y mindestens eine Gruppe -SS- enthält; und mit der Massgabe, dass, wenn R3 und R4 Morpholino darstellen und R1 und R2 gleichzeitig Methyl darstellen, Ar1 nicht Phenyl, substituiert mit SR8, darstellt, wobei R8 H oder -CH2CH2-O-CH2CH2SH darstellt;

   und mit der Massgabe, dass, wenn R3 und R4 Morpholino darstellen und R1 und R2 gleichzeitig Methyl darstellen und Ar2 Phenylen darstellt und X S darstellt, Y kein Wasserstoffatom oder -CH2CH2-O-CH2CH2-SH darstellt;
 oder ein Säureadditionssalz einer Verbindung der Formel I, II, III oder IV, wirksame Starter zur Photopolymerisation von ethylenisch ungesättigten Verbindungen sind.
 C1-C20-Alkyl ist linear oder verzweigt und stellt beispielsweise C1-C18-, C1-C14-, C1-C12-, C1-C8-, C1-C6- oder C1-C4-Alkyl dar.

   Beispiele sind Methyl, Ethyl, Propyl, Isopropyl, n-Butyl, sec-Butyl, Isobutyl, tert-Butyl, Pentyl, Hexyl, Heptyl, 2,4,4-Trimethylpentyl, 2-Ethylhexyl, Octyl, Nonyl, Decyl, Dodecyl, Tetradecyl, Pentadecyl, Hexadecyl, Octadecyl und Icosyl. 
 C1-C18-Alkyl, C1-C14-Alkyl, C1-C12-Alkyl, C1-C8-Alkyl, C1-C6-Alkyl und C1-C4-Alkyl haben bis zu der entsprechenden Anzahl an C-Atomen die gleichen wie vorstehend für C1-C20-Alkyl angegebenen Bedeutungen.
 Mono- oder polysubstituiertes C1-C4-Alkyl ist 1- bis 6-mal, beispielsweise 1- bis 4-mal, insbesondere einmal oder zweimal, substituiert.
 C2-C4-Hydroxyalkyl ist lineares oder verzweigtes C2-C4-Alkyl, das mit OH substituiert ist. C2-C4-Alkyl weist bis zu der entsprechenden Anzahl an C-Atomen die gleichen wie vorstehend für C1-C20-Alkyl angegebenen Bedeutungen auf.

   Beispiele sind Hydroxymethyl, 2-Hydroxyethyl, 1-Hydroxyethyl, 3-Hydroxypropyl, 2-Hydroxypropyl, 4-Hydroxybutyl.
 C2-C10-Alkoxyalkyl ist C2-C10-Alkyl, das durch ein O-Atom unterbrochen ist. C2-C10-Alkyl weist bis zu der entsprechenden Anzahl an C-Atomen die gleichen wie vorstehend für C1-C20-Alkyl angegebenen Bedeutungen auf. Beispiele sind Methoxymethyl, Methoxyethyl, Methoxypropyl, Ethoxymethyl, Ethoxyethyl, Ethoxypropyl, Propoxymethyl, Propoxyethyl, Propoxypropyl.
 C2-C20-Alkyl, unterbrochen durch 1 bis 9, 1-5, 1-3 oder 1 oder 2 -O-, -N(R6)-, -S-, -SS-, -X-C(=O)-, -X-C(=S)-, -C(=O)-X-, -X-C(=O)-X-, -C(=S)-X-, 
EMI9.1
 
 
 



  erzeugt beispielsweise Struktureinheiten, wie -CH2-O-CH2-, -CH2-S-CH2-, -CH2-N(CH3)-CH2-, -CH2CH2-O-CH2CH2-, -[CH2CH2O]y-, -[CH2CH2O]y-CH2-, worin y = 1-5, -(CH2CH2O)5CH2CH2-, -CH2-CH(CH3)-O-CH2-CH(CH3)- oder -CH2-CH(CH3)-O-CH2-CH2CH2-. 



  Wenn C2-C20-Alkyl durch -O- unterbrochen ist, ist es vorzugsweise durch mehr als ein -O-, beispielsweise 2 bis 9, 2-5, 2-3 oder 2 -O- unterbrochen.
 C2-C16-Alkylen ist lineares oder verzweigtes Alkylen, beispielsweise C1-C7-Alkylen, C1-C6-Alkylen, C1-C4-Alkylen, nämlich Methylen, Ethylen, Propylen, 1-Methylethylen, 1,1-Dimethylethylen, 2,2-Dimethylpropylen, Butylen, 1-Methylbutylen, 1-Methylpropylen, 2-Methylpropylen, Pentylen, Hexylen, Heptylen, Octylen, Nonylen, Decylen, Dodecylen, Tetradecylen oder Hexadecylen.
 C1-C7-Alkylen und C1-C6-Alkylen weisen bis zu der entsprechenden Anzahl an C-Atomen die gleichen wie vorstehend für C2-C16-Alkylen angegebenen Bedeutungen auf und sind linear sowie verzweigt. 



  Wenn R1 und R2 zusammen und zusammen mit dem C-Atom, an das sie gebunden sind, C2-C9-Alkylen darstellen, werden beispielsweise Propyl-, Pentyl-, Hexyl-, Octyl- oder Decylringe gebildet. Wenn R1 und R2 zusammen C3-C9-Oxaalkylen oder C3-C9-Azaalkylen darstellen, wobei die Ringe durch O- oder N-Atome unterbrochen sind. Somit können sie beispielsweise Piperidin-, Azolidin-, Oxolan- oder Oxanringe sein. 



  Wenn R3 und R4 zusammen C3-C7-Alkylen, gegebenenfalls unterbrochen durch -O-, -S-, -CO- oder   -N(R6)-, darstellen, werden zusammen mit dem N-Atom, an das sie gebunden sind, beispielsweise Morpholino- oder Piperidinogruppen gebildet. 



  Wenn R9 und R10 zusammen C2-C7-Alkylen, gegebenenfalls unterbrochen durch -O-, -S-, -CO- oder   -N(R18)-, darstellen, werden zusammen mit dem N-Atom, an das sie gebunden sind, beispielsweise Morpholino- oder Piperidinogruppen gebildet. 



  Wenn R27 und R28 zusammen C2-C8-Alkylen, gegebenenfalls unterbrochen durch -O-, -S- oder        -N(R6)-, darstellen, werden zusammen mit dem N-Atom, an das sie gebunden sind, beispielsweise Morpholino- oder Piperidinogruppen gebildet. 



  C3-C12-Alkenyl-, beispielsweise C3-C6-Alkenyl- oder C3-C5-Alkenylreste, können mono- oder polyungesättigt sein und sind beispielsweise Allyl, Methallyl, 1,1-Dimethylallyl, 1-Butenyl, 3-Butenyl, 2-Butenyl, 1,3-Pentadienyl, 5-Hexenyl oder 7-Octenyl, insbesondere Allyl. 



  C3-C6-Alkenyl, C3-C5-Alkenyl und C2-C4-Alkenyl weisen bis zu der entsprechenden Anzahl an C-Atomen die gleichen wie vorstehend für C3-C12-Alkenyl angegebenen Bedeutungen auf, C2-Alkenyl ist Vinyl. 



  C2-C8-Alkanoyl ist beispielsweise C2-C6-, C2-C4- oder C2-C3-Alkanoyl. Diese Reste sind linear oder verzweigt und sind beispielsweise Ethanoyl, Propanoyl, 2-Methylpropanoyl, Hexanoyl oder Octanoyl.  C2-C3-Alkanoyl weist bis zu der entsprechenden Anzahl an C-Atomen die gleichen wie für C2-C8-Alkanoyl angegebenen Bedeutungen auf. 



  C5-C12-Cycloalkyl ist beispielsweise C5-C8- oder C5-C6-Cycloalkyl, nämlich Cyclopentyl, Cyclohexyl, Cyclooctyl, Cyclododecyl, insbesondere Cyclopentyl und Cyclohexyl, vorzugsweise Cyclohexyl. C5-C6-Cycloalkyl ist Cyclopentyl oder Cyclohexyl. 



  C1-C12-Alkoxy ist beispielsweise C1-C8-Alkoxy, insbesondere C1-C4-Alkoxy, und ist ein linearer oder verzweigter Rest, beispielsweise Methoxy, Ethoxy, Propoxy, Isopropoxy, n-Butyloxy, sec-Butyloxy, Isobutyloxy, tert-Butyloxy, Pentyloxy, Hexyloxy, Heptyloxy, 2,4,4-Trimethylpentyloxy, 2-Ethylhexyloxy, Octyloxy, Nonyloxy, Decyloxy oder Dodecyloxy, insbesondere Methoxy, Ethoxy, Propoxy, Isopropoxy, n-Butyloxy, sec-Butyloxy, Isobutyloxy oder tert-Butyloxy, vorzugsweise Methoxy. 



  C1-C8-Alkoxy und C1-C4-Alkoxy weisen bis zu der entsprechenden Anzahl an C-Atomen die gleichen wie für C1-C12-Alkoxy angegebenen Bedeutungen auf. 



  C1-C8-Alkylthio ist beispielsweise C1-C6- oder C1-C4-Alkylthio, linear oder verzweigt, und ist beispielsweise Methylthio, Ethylthio, n-Propylthio, i-Propylthio, n-Butylthio, i-Butylthio, s-Butylthio, t-Butylthio, Pentylthio, Hexylthio oder Octylthio, vorzugsweise Methylthio oder Butylthio. 



  C3-C5-Alkenoxyreste können einmal oder zweimal ungesättigt sein und sind beispielsweise Allyloxy, Methallyloxy, 1,1-Dimethylallyloxy, 1-Butenyloxy, 3-Butenyloxy, 2-Butenyloxy oder 1,3-Pentadienyloxy, insbesondere Allyloxy. 



  Phenyl-C1-C3-alkyl ist beispielsweise Benzyl, Phenylethyl, alpha -Methylbenzyl oder  alpha , alpha -Dimethylbenzyl, insbesondere Benzyl. Substituiertes Phenyl-C1-C3-alkyl ist einmal bis viermal, beispielsweise einmal, zweimal oder dreimal, insbesondere zweimal oder dreimal, am Phenylring substituiert. 



  Ein heterocyclischer 5- bis 7-gliedriger aliphatischer oder aromatischer Ring, umfassend 1 bis 4 N-, O- oder/und S-Atome, ist beispielsweise Furyl, Thienyl, Pyrrolyl, Pyridyl, Pyrazinyl, Pyranyl, Benzoxazolyl, Dioxolanyl, Dioxanyl, Thiazolyl, Oxazolyl, 1,3,4-Thiadiazolyl, Azolyl oder Diazolyl. 



  Ein 8- bis 12-gliedriges, bicyclisches, aliphatisches oder aromatisches Ringsystem, umfassend 1 bis 6 N-, O- oder/und S-Atome, ist beispielsweise Benzofuranyl, Isobenzofuranyl, Indolyl, Indazolyl, Purinyl, Chinolinyl, Chinoxalinyl oder Isochinolinyl. 



  Chlorphenyl ist Phenyl, substituiert mit Chlor. 



  Substituiertes Phenyl ist einmal bis viermal, beispielsweise einmal, zweimal oder dreimal, insbesondere einmal oder zweimal, substituiert. Substituenten liegen beispielsweise in Stellung 2, 3, 4, 5 oder 6, insbesondere in Stellung 2, 6 oder 3 des Phenylrings, vor. 



  Eine mono- oder polysubstituierte Phenylgruppe ist einmal bis viermal, beispielsweise einmal, zweimal oder dreimal, insbesondere einmal oder zweimal, substituiert. 



  Halogen ist Fluor, Chlor, Brom und Jod, insbesondere Fluor, Chlor und Brom, vorzugsweise Brom und Chlor. 



  Beispiele für Ar, die eine Gruppe der Formel VI darstellen, sind 
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  oder 
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 worin V O darstellt, U C2-C3-Alkylen darstellt und W eine direkte Bindung darstellt. 



  Der Ausdruck "Säureadditionssalze der Formeln I-IV" umfasst alpha -Aminoketonverbindungen der Formeln I-IV, die mit einem Carbonsäurederivat oder organischem Sulfonsäurederivat umgesetzt werden. Das bedeutet, dass die Verbindungen am Stickstoffatom protoniert werden und das Gegenion das entsprechende Anion des Säurederivats darstellt. Beispiele für geeignete Säurederivate sind Trifluormethylcarbonsäure, 
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  Toluolsulfonsäure, vorzugsweise Toluolsulfonsäure. 



  Wenn Ar2 Phenylen darstellt, X S ist und Y C2-C20-Alkyl, unterbrochen durch 1 bis 9 O-Atome, ist, ist Alkylen vorzugsweise unterbrochen durch mehr als ein O-Atom, beispielsweise 2-9, 2-8, 3-5 oder 4, insbesondere 2 O-Atome. 



  R8 ist vorzugsweise C1-C12-Alkyl, C3-C12-Alkenyl, Cyclohexyl, Hydroxycyclohexyl oder R8 ist eine    C1-C4-Alkylgruppe, die mit Cl, Br, CN, SH, -N(C1-C4-Alkyl)2, Piperidino, Morpholino, OH, C1-C4-Alkoxy,   -OCH2CH2CN, -OCH2CH2COO(C1-C4-Alkyl), -OOCR19, -COOH, -COO(C1-C8-Alkyl), -CON(C1-C4-Alkyl)2, 
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   oder 
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 mono- oder polysubstituiert ist oder R8 ist 2,3-Epoxypropyl, Phenyl-C1-C3-alkyl, Phenyl-C1-C3-hydroxyalkyl, Phenyl, unsubstituiert oder Phenyl, mono- oder polysubstituiert mit Halogen, SH, C1-C4-Alkyl, C1-C4-Alkoxy oder -COO(C1-C4-Alkyl) oder R8 ist 2-Benzothiazyl, 2-Benzimidazolyl oder -CH2CH2-S-CH2CH2-SH. 



  Y ist vorzugsweise eine C1-C20-Alkylgruppe, die mit SH substituiert ist. Weiterhin bevorzugt ist Y   C2-C20-Alkyl, unterbrochen durch 1 bis 9 -S-, -O-, -N(R6)-, -SS-, -X-C(=O)-, -C(=O)-X-, vorzugsweise    -S-, worin die Alkylgruppe, wie vorstehend ausgewiesen, linear oder verzweigt und gegebenenfalls mit 1 bis 5 SH substituiert ist. 



  Die Thiolverbindungen der Formel I können aus aliphatischen Halogenphenylketonen beispielsweise durch Behandlung mit einem Überschuss des entsprechenden Dithiols oder Polythiols hergestellt werden. 



  Thiolverbindungen der Formeln I, II, III und IV können auch durch bekannte Verfahren aus den entsprechenden Vinyl-, Hydroxy-, Halogen- oder Aminovorstufen erhalten werden. Siehe beispielsweise "The Chemistry of the Thiol Group", herausgegeben von S. Patai, John Wiley & Sons, Seite 163, New York, 1974. 



  Die Vinylgruppe kann direkt durch Schwefelwasserstoffzugabe oder durch Zugabe von Thioessigsäure und anschliessende Hydrolyse in die Thiolgruppe überführt werden. 



  Halogengruppen können durch Umsetzung mit Metallhydrogensulfiden direkt zu Thiolen umgewandelt werden. Andere Wege zu Thiolgruppen schliessen die Umsetzung von Bunte-Salzen, Xanthaten, Isothiuroniumsalzen, Phosphorthioate und Thioestern ein. 



  Des Weiteren können Hydroxygruppen direkt durch die Reaktion mit Hydrogensulfid oder Phosphorpentasulfiden oder über die entsprechenden Halogene unter Verwendung eines der vorstehend beschriebenen Verfahren in die Thiolgruppen überführt werden. Die Veresterung von Alkoholen mit einer Mercaptocarbonsäure, wie Mercaptoessig- oder Mercaptopropionsäure, stellt einen weiteren zweckmässigen Zugang für Thiole bereit. 



  Amine können beispielsweise durch Amidierung mit einer Mercaptocarbonsäure, wie Mercaptoessigsäure oder Mercaptopropionsäure, zu Thiolen umgewandelt werden. 



  Erfindungsgemässe Disulfide der Formel I können ebenfalls durch bekannte Verfahren, siehe beispielsweise "Organic Functional Group Preparations", S. R. Sandler, Academic Press, Seite 586, New York, 1983, erhalten werden. Beispielsweise werden die gewünschten Disulfidverbindungen durch Reaktion der entsprechenden Halogenide mit Natriumdisulfid hergestellt. Die Oxidation der Thiole ist ebenfalls ein zweckmässiges Verfahren zur Herstellung von Disulfiden. Beispielsweise können Wasserstoffperoxid, Jod in Ethanol und eine alkalische Lösung von Jod als Oxidantien verwendet werden. Unsymmetrische Disulfide können durch Reaktion von Natriumthiolaten mit einem Alkylthiosulfat, wie n-Butylthiosulfat oder mit einem Arylthiosulfat, hergestellt werden. 



  Die Ausführung solcher Reaktionen und die Reaktionsbedingungen für solche Reaktionen sind im Stand der Technik im Allgemeinen bekannt. 



  Die Reaktion wird vorzugsweise in einem polaren Lösungsmittel, beispielsweise Dimethylformamid, Dimethylacetamid, N-Methylpyrrolidin oder Dimethylsulfoxid ausgeführt. Die Reaktion kann ebenfalls in einem gemischten Lösungsmittelgemischsystem, beispielsweise aus einem der vorstehend erwähnten polaren Lösungsmittel und einem inerten aprotischen Lösungsmittel, wie beispielsweise Benzol, Toluol, Chloroform oder Methylenchlorid, ausgeführt werden. Zur Minimierung der Bildung der dimeren Form ist für die Reaktion ein grosser Überschuss an Dithiol ratsam. Die Menge an für die Reaktion verwendetem Dithiol beträgt beispielsweise 1 bis 10 Äquivalente des Substrats, vorzugsweise 2 bis 6 Äquivalente. Die Reaktion kann beispielsweise bei Raumtemperatur (etwa 20 DEG C) bis 150 DEG C, vorzugsweise bis 100 DEG C, ausgeführt werden.

   Die Umsetzung kann mit oder ohne Rühren fortschreiten, jedoch ist eine Umsetzung unter Rühren zur Beschleunigung des Fortschreitens der Reaktion bevorzugt. 



  Verfahren zur Herstellung von aliphatisch-aromatischen  alpha -Aminketonverbindungen, die gemäss der Erfindung durch die vorstehend ausgewiesenen Verfahren in die SH-substituierten oder -SS-enthaltenden Verbindungen überführt werden können, sind beispielsweise in US-A-4 315 807, Spalte 9, Zeile 42, bis Spalte 11, Zeile 23 und Spalte 13, Zeile 53, bis Spalte 16, Zeile 54, offenbart. Die Herstellung von  alpha -Aminoketonvorstufen für die Zugabe einer Thiolgruppe, worin R1 oder R2 Alkenyl, insbesondere Allyl oder Benzyl, durch C-Allylierung oder C-Benzylierung darstellen, ist beispielsweise in US-A-5 077 402, Spalte 16, Zeile 17, bis Spalte 18, Zeile 31, offenbart. Weitere Beschreibungen der Herstellung von aliphatisch-aromatischen alpha -Aminoketonverbindungen werden in US-A-4 582 862, 4 992 547 und 5 077 402 angegeben. 



  Bevorzugt sind Verbindungen der Formel II, worin a 1 ist. 



  Weitere bevorzugte Verbindungen sind jene, worin Ar2 
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  darstellt, X S darstellt und Y Ar, substituiert mit SR8 oder OR7, darstellt. 



  Bevorzugt sind weiterhin Verbindungen, worin Y, substituiert mit 1 bis 5 SH, C1-C12-Alkyl, C2-C20-Alkyl, unterbrochen durch 1 bis 9 -S- oder -SS-, darstellt oder Y eine mit SH substituierte Phenyl-, Biphenyl- oder Benzoylphenylgruppe oder eine Gruppe 
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  oder 
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  darstellt; und q 1 oder 2 ist; r 1, 2 oder 3 ist; p 0 oder 1 ist; t 1 bis 6 ist; und u 2 oder 3 ist. 



  Von speziellem Interesse sind Verbindungen der Formel I oder II,
 worin
 a 1 ist;
 Ar1 eine Phenyl- oder Biphenylgruppe, wobei die Phenyl- oder Biphenylgruppe mit 1 bis 5 der Reste     -OR7, -SH, - SR8, -NR9R10 substituiert ist, darstellt;
 Ar2 
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   oder 
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 darstellt, 
 wobei diese Gruppen unsubstituiert oder mit 1 bis 5 der Reste -OR7, -SH, -SR8, -NR9R10 substituiert sind;
 X -O-, -S- oder -N(R6)- darstellt;
 Y Wasserstoff, eine C1-C12-Alkylgruppe, die unsubstituiert oder mit 1 bis 5 OH, SH substituiert ist, darstellt oder Y eine C2-C20-Alkylgruppe, die durch 1 bis 9 -O-, -S-, -X-C(=O)-, -C(=O)-X- unterbrochen ist, wobei die C2-C20-Alkylgruppe zusätzlich mit 1 bis 5 SH substituiert sein kann, darstellt oder Y eine Benzylgruppe, die einmal oder zweimal mit -CH2SH substituiert ist und diese Benzylgruppe zusätzlich mit 1 bis 4 C1-C4-Alkyl substituiert sein kann, darstellt;
 R1 und R2 unabhängig voneinander C1-C8-Alkyl oder Phenyl darstellen oder R1 und R2 unabhängig voneinander einen Rest der Formel IX oder X 
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  darstellen;
 R3 und R4 C1-C12-Alkyl darstellen oder R3 und R4 zusammen eine C3-C7-Alkylengruppe, die durch -O- unterbrochen sein kann und wobei die C3-C7-Alkylengruppe mit SH substituiert sein kann, darstellen;
 R7 C1-C12-Alkyl darstellt;
 R8 C1-C12-Alkyl darstellt oder R8 eine C1-C4-Alkylgruppe, die mit SH mono- oder polysubstituiert ist, darstellt oder R8 -CH2CH2-O-CH2CH2-SH oder -CH2CH2-S-CH2CH2-SH darstellt;
 R9 und R10 unabhängig voneinander Wasserstoff oder eine C2-C4-Alkylgruppe, die mit SH substituiert ist, darstellen; und
 R13, R14, R15 und R16 Wasserstoff darstellen. 



  Andere interessierende Verbindungen sind jene, worin R1 und R2 unabhängig voneinander C1-C4-Alkyl, Benzyl oder C3-C6-Alkenyl darstellen; R3 und R4 unabhängig voneinander C1-C4-Alkyl darstellen oder R3 und R4 zusammen C3-C7-Alkylen, das durch -O- unterbrochen ist, darstellen; Ar1 Phenyl, substituiert mit SR8, darstellt; R8 C1-C4-Alkyl substituiert mit SH, oder Phenyl, substituiert mit SH darstellt; Ar2 Phenylen darstellt; X S oder NH darstellt und Y C1-C10-Alkyl, substituiert mit SH und/oder 1 bis 2 OH, darstellt. 



  Gemäss der Erfindung können Verbindungen der Formel I, II, III und IV als Fotostarter für die Fotopolymerisation von ethylenisch ungesättigten Verbindungen oder Gemischen davon, die solche Verbindungen umfassen, verwendet werden. Diese Verwendung kann ebenfalls in Kombination mit weiterem Fotostarter und/oder anderen Additiven ausgeführt werden. 



  Die Erfindung betrifft deshalb fotopolymerisierbare Massen, umfassend
 (a) mindestens eine ethylenisch ungesättigte fotopolymerisierbare Verbindung und
 (b) mindestens eine Verbindung der Formel I, II, III oder IV als Fotostarter. 



  In diesem Zusammenhang kann die Masse zusätzlich zur Komponente (b) weitere Additive enthalten, und Komponente (b) kann ein Gemisch von Fotoinitiatoren der Formel I, II, III oder IV sein. 



  Die zu polymerisierenden, ethylenisch ungesättigten Verbindungen können nichtflüchtige monomere, oligomere oder polymere Verbindungen sein. Die ungesättigten Verbindungen können eine oder mehrere olefinische Doppelbindungen enthalten. Sie können von niedrigem Molekulargewicht (monomer) oder von relativ hohem Molekulargewicht (oligomer) sein. Beispiele von Monomeren, die eine Doppelbindung enthalten, sind Alkyl- oder Hydroxyalkylacrylate oder -methacrylate, beispielsweise Methyl-, Ethyl-, Butyl-, 2-Ethylhexyl- oder 2-Hydroxyethylacrylat, Isobornylacrylat, Methylmethacrylat oder Ethylmethacrylat. Siliconacrylate sind ebenfalls von Interesse.

   Weitere Beispiele sind Acrylnitril, Acrylamid, Methacrylamid, N-substituierte (Meth)acrylamide, Vinylester, wie Vinylacetat, Vinylether, wie Isobutylvinylether, Styrol, Alkylstyrole und Halogenstyrole, N-Vinylpyrrolidon, Vinylchlorid oder Vinylidenchlorid. 



  Beispiele für Monomere, die zwei oder mehrere Doppelbindungen enthalten, sind die Diacrylate von Ethylenglycol, Propylenglycol, Neopentylglycol, Hexamethylenglycol oder Bisphenol A und ebenfalls 4,4 min -Bis(2-acryloyloxyethoxy)diphe nylpropan, Trimethylolpropantriacrylat, Pentaerythrittriacrylat oder Pentaerythrittetraacrylat, Vinylacrylat, Divinylbenzol, Divinylsuccinat, Diallylphthalat, Triallylphosphat, Triallylisocyanurat oder Tris(2-acryloylethyl)isocyanurat. 



  Beispiele für polyungesättigte Verbindungen mit relativ hohem Molekulargewicht (oligomer) sind acrylisierte Epoxyharze und Polyester, Polyurethane und Polyether, die acrylisiert sind, oder Vinylether- oder Epoxygruppen enthalten. Weitere Beispiele von ungesättigten Oligomeren sind ungesättigte Polyesterharze, die meist aus Maleinsäure, Phthalsäure und einem oder mehreren Diolen hergestellt werden und Molekulargewichte von etwa 500 bis 3000 aufweisen. Zusätzlich ist es ebenfalls möglich, Vinylethermonomere und Vinyletheroligomere und ebenfalls Maleat-endständige Oligomere mit Polyester-, Polyurethan-, Polyether-, Polyvinylether- und Epoxyhauptketten anzuwenden. Kombinationen der Vinylethergruppen-enthaltenden Oligomere und Polymere, wie in WO 90/01 512 beschrieben, sind besonders gut geeignet.

   Jedoch sind Copolymere von Vinylether- und Maleinsäure-funktionalisierten Monomeren ebenfalls geeignet. Solche ungesättigten Oligomere können als Prepolymere bezeichnet werden. 



  Beispiele von besonders geeigneten Verbindungen sind Ester von ethylenisch ungesättigten Carbonsäuren und Polyolen oder Polyepoxiden und Polymeren, die ethylenisch ungesättigte Gruppen in der Kette oder in den Seitengruppen enthalten, beispielsweise ungesättigte Polyester, Polyamide und Polyurethane und Copolymere davon, Polybutadien und Butadien-Copolymere, Polyisopren und Isopren-Copolymere, Polymere und Copolymere, die (Meth)acrylgruppen in den Seitenketten enthalten, und Gemische von einem oder mehreren solcher Polymere. 



  Beispiele für ungesättigte Carbonsäuren sind Acrylsäure, Methacrylsäure, Crotonsäure, Itaconsäure, Zimtsäure und ungesättigte Fettsäuren, wie Linolensäure oder \lsäure. Acrylsäure und Methacrylsäure sind bevorzugt. 



  Geeignete Polyole sind aromatische und insbesondere aliphatische und cycloaliphatische Polyole. Beispiele für aromatische Polyole sind Hydrochinon, 4,4 min -Dihydroxybiphenyl, 2,2-Di(4-hydroxyphenyl)propan und ebenfalls Novolake und Resole. Beispiele für Polyepoxide sind jene, die auf den Polyolen, insbesondere aromatischen Polyolen und Epichlorhydrin basieren. Andere geeignete Polyole schliessen Polymere und Copolymere, die Hydroxylgruppen in der Polymerkette oder in den Seitengruppen enthalten, beispielsweise Polyvinylalkohol und Copolymere davon oder Hydroxyalkylpolymethacrylate oder Copolymere davon ein. Andere geeignete Polyole sind Oligoester, die Hydroxylendgruppen enthalten. 



  Beispiele für aliphatische und cycloaliphatische Polyole sind Alkylendiole, vorzugsweise mit 2 bis 12 Kohlenstoffatomen, wie Ethylenglycol, 1,2- oder 1,3-Propandiol, 1,2-, 1,3- oder 1,4-Butandiol, Pentandiol, Hexandiol, Octandiol, Dodecandiol, Diethylenglycol, Triethylenglycol, Polyethylenglycol mit Molekulargewichten von vorzugsweise 200 bis 1500, 1,3-Cyclopentandiol, 1,2-, 1,3- oder 1,4-Cyclohexandiol, 1,4-Dihydroxymethylcyclohexan, Glycerin, Tris( beta -hydroxyethyl)amin, Trimethylolethan, Trimethylolpropan, Pentaerythrit, Dipentaerythrit und Sorbit. 



  Die Polyole können durch eine oder mehrere ungesättigte Carbonsäuren teilweise oder vollständig verestert sein, wobei die freien Hydroxylgruppen in Teilestern modifiziert sein können, beispielsweise indem sie mit anderen Carbonsäuren verethert oder verestert sind. 



  Beispiele der Ester sind: 



  Trimethylolpropantriacrylat, Trimethylolethantriacrylat, Trimethylolpropantrimethacrylat, Trimethylolethantrimethacrylat, Tetramethylenglycoldimethacrylat, Triethylenglycoldimethacrylat, Tetraethylenglycoldiacrylat, Pentaerythritdiacrylat, Pentaerythrittriacrylat, Pentaerythrittetraacrylat, Dipentaerythritdiacrylat, Dipentaerythrittriacrylat, Dipentaerythrittetraacrylat, Dipentaerythritpentaacrylat, Dipentaerythrithexaacrylat, Tripentaerythritoctaacrylat, Pentaerythritdimethacrylat, Pentaerythrittrimethacrylat, Dipentaerythritdimethacrylat, Dipentaerythrittetramethacrylat, Tripentaerythritoctamethacrylat, Pentaerythritdiitaconat, Dipentaerythrittrisitaconat, Dipentaerythritpentaitaconat, Dipentaerythrithexaitaconat, Ethylenglycoldiacrylat, 1,3-Butandi oldiacrylat, 1,3-Butandioldimethacrylat, 1,4-Butandioldiitaconat, Sorbittriacrylat, Sorbittetraacrylat,

   Pentaerythrit-modifiziertes Triacrylat, Sorbittetramethacrylat, Sorbitpentaacrylat, Sorbithexaacrylat, Oligoesteracrylate und -methacrylate, Glycerindi- und -triacrylat, 1,4-Cyclohexandiacrylat, Bisacrylate und Bismethacrylate von Polyethylenglycol mit Molekulargewichten von 200 bis 1500 oder Gemische davon. 



  Weitere geeignete Komponenten (a) sind die Amide von gleichen oder unterschiedlichen ungesättigten Carbonsäuren von aromatischen, cycloaliphatischen und aliphatischen Polyaminen, vorzugsweise mit 2 bis 6, insbesondere 2 bis 4 Aminogruppen. Beispiele für Polyamine dieses Typs sind Ethylendiamin, 1,2- oder 1,3-Propylendiamin, 1,2-, 1,3- oder 1,4-Butylendiamin, 1,5-Pentylendiamin, 1,6-Hexylendiamin, Octylendiamin, Dodecylendiamin, 1,4-Diaminocyclohexan, Isophorondiamin, Phenylendiamin, Bisphenylendiamin, Di- beta -aminoethylether, Diethylentriamin, Triethylentetramin, Di( beta -aminoethoxy)- oder Di( beta -aminopropoxy)ethan. Andere geeignete Polyamine sind Polymere und Copolymere, die weitere Aminogruppen in der Seitenkette enthalten können und Oligoamide, die Aminoendgruppen enthalten.

   Beispiele für ungesättigte Amide dieses Typs sind: Methylenbisacrylamid, 1,6-Hexamethylenbisacrylamid, Diethylentriamintrismethacrylamid, Bis(methacrylamidopropoxy)ethan,  beta -Methacrylamidoethylmethacrylat und N[( beta -Hydroxyethoxy)ethyl]acrylamid. 



  Geeignete ungesättigte Polyester und Polyamide leiten sich beispielsweise von Maleinsäure und Diolen oder Diaminen ab. Ein Teil der Maleinsäure kann durch andere Dicarbonsäuren ersetzt werden. Sie können zusammen mit ethylenisch ungesättigten Comonomeren, beispielsweise Styrol, verwendet werden. Die Polyester und Polyamide können ebenfalls von Dicarbonsäuren und ethylenisch ungesättigten Diolen oder Diaminen, insbesondere von relativ langkettigen Verbindungen, die beispielsweise 6 bis 20 Kohlenstoffatome enthalten, abgeleitet sein. Beispiele für Polyurethane sind jene, die aus gesättigten oder ungesättigten Diisocyanaten und aus ungesättigten oder gesättigten Diolen aufgebaut sind. 



  Andere geeignete Komponenten (a) sind aminomodifizierte Polyetheracrylate, die durch teilweises Umsetzen der entsprechenden Acrylate mit Aminen erhalten werden. 



  Polybutadien und Polyisopren und Copolymere davon sind bekannt. Beispiele von geeigneten Comonomeren sind Olefine, wie Ethylen, Propen, Buten, Hexen, (Meth)acrylat, Acrylnitril, Styrol und Vinylchlorid. Polymere, die (Meth)acrylatgruppen in der Seitenkette enthalten, sind ebenfalls bekannt. Diese können beispielsweise Reaktionsprodukte von Epoxyharzen auf Novolakbasis mit (Meth)acrylsäure, Homopolymere oder Copolymere von Vinylalkohol oder Hydroxyalkylderivaten davon, die unter Verwendung von (Meth)acrylsäure verestert wurden oder Homopolymere und Copolymere von (Meth)acrylaten, die unter Verwendung von Hydroxyalkyl(meth)acrylaten verestert wurden, sein. 



  Die fotopolymerisierbaren Verbindungen können einzeln oder in beliebigen gewünschten Gemischen verwendet werden. Vorzug wird Gemischen von Polyol(meth)acrylaten gegeben. 



  Die Erfindung betrifft insbesondere eine fotopolymerisierbare Masse, umfassend als Komponente (a) ein Polymer oder Oligomer mit mindestens zwei ethylenisch ungesättigten Gruppen und mindestens einer Carboxylfunktion innerhalb der Molekülstruktur und (b) als Fotostarter mindestens eine Verbindung der Formel I, II, III oder IV wie vorstehend definiert. 



  Beispiele für die Komponente (a) als Polymer oder Oligomer mit mindestens zwei ethylenisch ungesättigten Gruppen und mit mindestens einer Carbonsäurefunktion in der Molekülstruktur sind säuremodifiziertes Epoxyacrylat (beispielsweise EB9696; UCB Chemicals, KAYARAD TCR1025; NIPPON KAYAKU CO., LTD.) und acryliertes Acrylcopolymer (beispielsweise ACA200M; Daicel Chemical Industries, Ltd.). 



  Bevorzugte Verbindungen der Formel I, II, III und IV sind vorstehend ausgewiesen. 



  Als Verdünnungsmittel können eine mono- oder multifunktionelle, ethylenisch ungesättigte Verbindung oder Gemische verschiedener solcher Verbindungen ebenfalls in die vorstehend genannte Masse bis zu 70 Gew.-%, bezogen auf den festen Teil der Masse, einbezogen sein. Der Anteil an (b) ist 0,5-20 Gew.-%, bezogen auf den festen Teil der Masse. 



  Es ist ebenfalls möglich, Bindemittel zu den erfindungsgemässen Massen zuzugeben; dies ist besonders zweckdienlich, wenn die fotopolymerisierbaren Verbindungen flüssige oder viskose Substanzen sind. Die Menge des Bindemittels kann beispielsweise 5-95 Gew.-%, vorzugsweise 10-90 Gew.-% und insbesondere 40-90 Gew.-%, bezogen auf den Gesamtfeststoffgehalt, sein. Das Bindemittel wird in Abhängigkeit von der Anwendungsart und den dafür erforderlichen Eigenschaften, wie leichte Entwicklung in wässerigen oder organischen Lösungsmittelsystemen, Haftkraft an Substraten und Empfindlichkeit gegen Sauerstoff, ausgewählt. 



  Beispiele für geeignete Bindemittel sind Polymere mit einem Molekulargewicht von etwa 5000-2 000 000, vorzugsweise 10 000-1 000 000. Beispiele sind homo- und copolymere Acrylate und Methacrylate, beispielsweise Copolymere von Methylmethacrylat/Ethylacrylat/Methacrylsäure, Poly(alkylmethacrylate), Poly(alkylacrylate); Celluloseester und Celluloseether, wie Celluloseacetat, Celluloseacetatbutyrat, Methylcellulose und Ethylcellulose; Polyvinylbutyral, Polyvinylformal, cyclisierter Kautschuk, Polyether, wie Polyethylenoxid, Polypropylenoxid und Polytetrahydrofuran;

   Polystyrol, Polycarbonat, Polyurethan, chlorierte Polyolefine, Polyvinylchlorid, Copolymere von Vinylchlorid/Vinylidenchlorid, Copolymere von Vinylidenchlorid mit Acrylnitril, Methylmethacrylat und Vinylacetat, Polyvinylacetat, Copoly(ethylen/vinylacetat), Polymere, wie Polycaprolactam und Poly(hexamethylenadipamid) und Polyester, wie Poly(ethylenglycolterephthalat) und Poly(hexamethylenglycolsuccinat). 



  Die ungesättigten Verbindungen können auch in Gemischen mit nichtfotopolymerisierbaren, filmbildenden Komponenten angewendet werden. Diese können beispielsweise physikalisch trocknende Polymere, beispielsweise Nitrocellulose oder Celluloseacetobutyrat, oder Lösungen davon in organischen Lösungsmitteln sein. Sie können jedoch ebenfalls chemisch härtbare oder wärmehärtbare Harze, wie beispielsweise Polyisocyanate, Polyepoxide oder Melaminharze, sein. Die wei tere Verwendung der wärmehärtbaren Harze ist für die Verwendung der so genannten Hybridsysteme bedeutsam, die in einem ersten Schritt fotopolymerisiert und durch thermische Nachbehandlung in einem zweiten Schritt vernetzt werden. 



  Die fotopolymerisierbaren Gemische können zusätzlich zu dem Fotostarter verschiedene Additive enthalten. Beispiele davon sind thermische Inhibitoren, die die vorzeitige Polymerisation verhindern sollen, beispielsweise Hydrochinon, Hydrochinonderivate, p-Methoxyphenol,  beta -Naphthol oder sterisch gehinderten Phenole, wie 2,6-Di(tert-butyl)-p-cresol. Die Standzeit im Dunkeln kann beispielsweise unter Verwendung von Kupferverbindungen, wie Kupfernaphthenat, Kupferstearat oder Kupferoctanoat, Phosphorverbindungen, beispielsweise Triphenylphosphin, Tributylphosphin, Triethylphosphit, Triphenylphosphit oder Tribenzylphosphit, quaternären Ammoniumverbindungen, beispielsweise Tetramethylammoniumchlorid oder Trimethylbenzylammoniumchlorid oder Hydroxylaminderivaten, beispielsweise N-Diethylhydroxylamin, verstärkt werden.

   Um den Atmosphärensauerstoff von der Polymerisation auszuschliessen, können Paraffin oder ähnliche wachsähnliche Substanzen zugegeben werden; diese wandern am Anfang der Polymerisation auf Grund ihrer geringen Löslichkeit in dem Polymer an die Oberfläche und bilden eine durchsichtige Oberflächenschicht, die den Eintritt von Luft verhindert. Lichtstabilisatoren, die in geringen Mengen zugegeben werden können, sind UV-Absorptionsmittel, beispielsweise jene vom Benzotriazol-, Benzophenon-, Oxalanilid- oder Hydroxyphenyl-s-triazin-Typ. Diese Verbindungen können einzeln oder als Gemische, mit oder ohne Verwendung von sterisch gehinderten Aminen (HALS), angewendet werden. 



  Beispiele für solche UV-Absorptionsmittel und Lichtstabilisatoren sind: 



  1. 2-(2 min -Hydroxyphenyl)benzotriazole, zum Beispiel 2-(2 min -Hydroxy-5 min -methylphenyl)benzotriazol, 2-(3 min ,5 min -Di-tert-butyl-2 min -hydroxyphenyl)benzotriazol, 2-(5 min -tert-Butyl-2 min -hydroxyphenyl)benzotriazol, 2-(2 min -Hydroxy-5 min -(1,1,3,3-tetramethylbutyl)phenyl)benzotriazol, 2-(3 min ,5 min -Di-tert-butyl-2 min -hydroxyphenyl)-5-chlorbenzotriazol, 2-(3 min -tert-Butyl-2 min -hydro xy-5 min -methylphenyl)-5-chlorbenzotriazol, 2-(3 min -sec-Butyl-5 min -tert-butyl-2 min -hydroxyphenyl)benzotriazol, 2-(2 min -Hydroxy-4 min -octyloxyphenyl)benzotriazol, 2-(3 min ,5 min -Di-tert-amyl-2 min -hydroxyphenyl)benzotriazol, 2-(3 min ,5 min -Bis-( alpha , alpha -dimethylbenzyl)-2 min -hydroxyphenyl)benzotriazol, Gemisch von 2-(3 min -tert-Butyl-2 min -hydroxy-5 min -(2-octyloxycarbonylethyl)phenyl)-5-chlorbenzotriazol, 2-(3 min -tert-Butyl-5 min -[2-(2-ethylhexyloxy)

  carbonylethyl]-2 min -hydroxyphenyl)-5-chlorbenzotriazol, 2-(3 min -tert-Butyl-2 min -hydroxy-5 min -(2-methoxycarbonylethyl)phenyl)-5-chlorbenzotriazol, 2-(3 min -tert-Butyl-2 min -hydroxy-5 min -(2-methoxycarbonylethyl)phenyl)benzotriazol, 2-(3 min -tert-Butyl-2 min -hydroxy-5 min -(2-octyloxycarbonylethyl)phenyl)benzotriazol, 2-(3 min -tert-Butyl-5 min -[2-(2-ethylhexyloxy)carbonylethyl]-2 min -hydroxyphenyl)benzotriazol, 2-(3 min -Dodecyl-2 min -hydroxy-5 min -methylphenyl)benzotriazol und 2-(3 min -tert-Butyl-2 min -hydroxy-5 min -(2-isooctyloxycarbonylethyl)phenylbenzotriazol, 2,2 min -Methylenbis[4-(1,1,3,3-tetramethylbutyl)-6-benzotriazol-2-ylphenol];

   Umesterungsprodukt von 2-[3 min -tert-Butyl-5 min -(2-methoxycarbonylethyl)-2 min -hydroxyphenyl]-2H-benzotriazol mit Polyethylenglycol 300; [R-CH2CH2-COO(CH2)3]-2-, wobei R = 3 min -tert-Butyl-4 min -hydroxy-5 min -2H-benzotriazol-2-ylphenyl. 



  2. 2-Hydroxybenzolphenone, zum Beispiel die 4-Hydroxy-, 4-Methoxy-, 4-Octoxy-, 4-Decyloxy-, 4-Dodecyloxy-, 4-Benzyloxy-, 4,2 min ,4 min -Trihydroxy- und 2 min -Hydroxy-4,4 min -dimethoxyderivate. 



  3. Ester von unsubstituierten oder substituierten Benzoesäuren, zum Beispiel 4-tert-Butylphenylsalicylat, Salicylsäurephenylester, Salicylsäureoctylphenylester, Dibenzoylresorcin, Bis-(4-tert-butylbenzoyl)-resorcin, Benzoylresorcin, 2,4-Di-tert-butylphenyl-3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzoat, Hexadecyl-3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzoat, Octadecyl-3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzoat, 2-Methyl-4,6-di-tert-butylphenyl-3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzoat. 



  4. Acrylate, zum Beispiel  alpha -Cyano- beta , beta -diphenyl-acrylsäureethylester, alpha -Cyano- beta , beta -diphenylacrylsäureisooctyl ester,  alpha -Carbomethoxyzimtsäuremethylester,  alpha -Cyano- beta -methyl-p-methoxyzimtsäuremethylester, alpha -Cyano- beta -methyl-p-methoxyzimtsäurebutylester,  alpha -Carboethoxy-p-methoxyzimtsäuremethylester und N-( beta -Carbomethoxy- beta -cyanovinyl)-2-methylindolin. 



  5. Sterisch gehinderte Amine, zum Beispiel Bis(2,2,6,6-tetramethylpiperidyl)sebacat, Bis(2,2,6,6-tetramethylpiperidyl)succinat, Bis(1,2,2,6,6-pentamethylpiperidyl)sebacat, Bis-(1,2,2,6,6-pentamethylpiperidyl)-n-butyl-3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzylmalonat, das Kondensationsprodukt von 1-Hydroxyethyl-2,2,6,6-tetramethyl-4-hydroxypiperidin und Bernsteinsäure, das Kondensationsprodukt von N,N min -Bis-(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)hexamethylendiamin und 4-tert-Octylamino-2,6-dichlor-1,3,5-s-triazin, Tris-(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)nitrilotriacetat, Tetrakis-(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)-1,2,3,4-butantetracarboxylat, 1,1 min -(1,2-Ethandiyl)bis-(3,3,5,5-tetramethylpiperazinon), 4-Benzoyl-2,2,6,6-tetramethylpiperidin, 4-Stearyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidin, Bis-(1,2,2,6,6-pentamethylpiperidyl)-2-n-butyl-2-(2-hydroxy-3,5-di-tert-butylbenzyl)malonat, 3-n-Octyl-7,7,9,

  9-tetramethyl-1,3,8-triazaspiro[4.5]-decan-2,4-dion, Bis(1-octyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidyl)sebacat, Bis(1-octyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidyl)succinat, das Kondensationsprodukt von N,N min -Bis-(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)hexamethylendiamin und 4-Morpholino-2,6-dichlor-1,3,5-triazin, das Kondensationsprodukt von 2-Chlor-4,6-di-(4-n-butylamino-2,2,6,6-tetramethylpiperidyl-)-1,3,5-triazin und 1,2-Bis(3-aminopropylamino)ethan, das Kondensationsprodukt von 2-Chlor-4,6-di-(4-n-butylamino-1,2,2,6,6-pentamethylpiperidyl)-1,3,5-triazin und 1,2-Bis-(3-aminopropylamino)ethan, 8-Acetyl-3-dodecyl-7,7,9,9-tetramethyl-1,3,8-triazaspiro[4.5]-decan-2,4-dion, 3-Dodecyl-1-(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)-pyrrolidin-2,5-dion, 3-Dodecyl-1-(1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl)-pyrrolidin-2,5-dion. 



  6. Oxalamide, zum Beispiel 4,4 min -Dioctyloxyoxanilid, 2,2 min -Diethoxyoxanilid, 2,2 min -Dioctyloxy-5,5 min -di-tert-butyloxanilid, 2,2 min -Didodecyloxy-5,5 min -di-tert-butyloxanilid, 2-Eth oxy-2 min -ethyloxanilid, N,N min -Bis(3-dimethylaminopropyl)oxalamid, 2-Ethoxy-5-tert-butyl-2 min -ethyloxanilid und dessen Gemische mit 2-Ethoxy-2 min -ethyl-5,4 min -di-tert-butyloxanilid und Gemische von o- und p-Methoxy- und von o- und p-Ethoxy-disubstituierten Oxaniliden. 



  7. 2-(2-Hydroxyphenyl)-1,3,5-triazine, zum Beispiel 2,4,6-Tris(2-hydroxy-4-octyloxyphenyl)-1,3,5-triazin, 2-(2-Hydroxy-4-octyloxyphenyl)-4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazin, 2-(2,4-Dihydroxyphenyl)-4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazin, 2,4-Bis(2-hydroxy-4-propyloxyphenyl)-6-(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazin, 2-(2-Hydroxy-4-octyloxyphenyl)-4,6-bis(4-methylphenyl)-1,3,5-triazin, 2-(2-Hydroxy-4-dodecyloxyphenyl)-4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazin, 2-[2-Hydroxy-4-(2-hydroxy-3-butyloxypropyl-oxy)phenyl]-4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazin, 2-[2-Hydroxy-4-(2-hydroxy-3-octyloxypropyloxy)phenyl]-4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazin und 2-[4-Dodecyl/Tridecyloxy-(2-hydroxypropyl)-oxy-2-hydroxyphenyl]-4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazin. 



  8. Phosphite und Phosphonite, zum Beispiel Triphenylphosphit, Diphenylalkylphosphite, Phenyldialkylphosphite, Tris(nonylphenyl)phosphit, Trilaurylphosphit, Trioctadecylphosphit, Distearylpentaerythrityldiphosphit, Tris(2,4-di-tert-butylphenyl)phosphit, Diisodecylpentaerythrityldiphosphit, Bis-(2,4-di-tert-butylphenyl)pentaerythrityldiphosphit, Bis(2,6-di-tert-butyl-4-methylphenyl)pentaerythrityldiphosphit, Bisisodecyloxypentaerythrityldiphosphit, Bis(2,4-di-tert-butyl-6-methylphenyl)pentaerythrityldiphosphit, Bis-(2,4,6-tri-tert-butylphenyl)pentaerythrityldiphosphit, Tristearylsorbittriphosphit, Tetrakis(2,4-di-tert-butylphenyl)-4,4 min -biphenylendiphosphonit, 6-Isooctyloxy-2,4,8,10-tetra-tert-butyl-12H-di-benz[d,g]-1,3,2-dioxaphosphocin, 6-Fluor-2,4,8,10-tetra-tert-butyl-12-methyldibenz[d,g]-1,3,2-dioxaphosphocin, Bis-(2,4-di-tert-butyl-6-methylphenyl)methylphosphit und Bis(2,

  4-di-tert-butyl-6-methylphenyl)ethylphosphit. 



  Um die Fotopolymerisation zu beschleunigen, ist es möglich, Amine, wie beispielsweise Triethanolamin, N-Methyldiethanolamin, p-Dimethylaminobenzoesäuremethylester oder Michler's Keton zuzugeben. Die Wirkung der Amine kann durch die Zugabe von aromatischen Ketonen vom Benzophenontyp verstärkt werden. Beispiele für Amine, die als Sauerstofffänger verwendet werden können, sind substituierte N,N-Dialkylaniline, wie in EP-A-339 841 beschrieben. Die Fotopolymerisation kann ebenfalls durch Zugabe von Fotosensibilisatoren oder Costartern beschleunigt werden, die die Spektralempfindlichkeit verschieben oder verbreitern.

   Diese sind insbesondere aromatische Carbonylverbindungen, wie Benzophenonderivate, Thioxanthonderivate, Anthrachinonderivate und Ketocumarinderivate, insbesondere 3-Ketocumarinderivate und 3-(Aroylmethylen)thiazoline und ebenfalls Eosin-, Rhodanin- und Erythrosinfarbstoffe. 



  Die Erfindung betrifft ebenfalls eine fotopolymerisierbare Masse, umfassend zusätzlich zu Komponenten (a) und (b) mindestens einen Costarter (c). Der Costarter ist vorzugsweise ein Thioxanthon oder Ketocumarin, insbesondere eine 3-Ketocumarinverbindung. 



  Die Menge an Komponente (c) in der erfindungsgemässen Masse schwankt von 0,01 bis 10 Gew.-%, vorzugsweise 0,05 bis 5,0 Gew.-%, bezogen auf den Gesamtfeststoff der Masse. 



  Das Härtungsverfahren kann beispielsweise insbesondere durch Massen, pigmentiert mit TiO2, unterstützt werden, jedoch ebenfalls durch Zugabe einer Komponente, die unter thermischen Bedingungen freie Radikale bildet, beispielsweise eine Azoverbindung, wie 2,2 min -Azobis(4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitril) oder eine Peroxyverbindung, wie Hydroperoxid oder Peroxycarbonat, beispielsweise t-Butylhydroperoxid, wie in EP-A-245 639 beschrieben. 



  Die erfindungsgemässen Massen können ebenfalls einen fotoreduzierbaren Farbstoff, beispielsweise einen Xanthen-, Benzoxanthen-, Benzothioxanthen-, Thiazin-, Pyronin-, Porphyrin- oder Acridinfarbstoff und/oder eine Trihalogenmethylverbindung, die durch Strahlung gespalten werden kann, enthal ten. Ähnliche Massen werden beispielsweise in EP-A-445 624 beschrieben. 



  Andere übliche Additive sind in Abhängigkeit von der Anwendung optische Aufheller, Füllstoffe, Pigmente, Farbstoffe, Netzmittel oder Egalisierhilfen. Dicke und pigmentierte Beschichtungen können geeigneterweise durch Zugabe von Glasmikrokugeln oder gepulverten Glasfasern, wie beispielsweise in US-A-5 013 768 beschrieben, gehärtet werden. 



  Die Erfindung betrifft Massen, die als Komponente (a) mindestens eine ethylenisch ungesättigte, fotopolymerisierbare Verbindung, die in Wasser emulgiert oder gelöst wird, umfassen. 



  Strahlungshärtbare, wässerige Prepolymerdispersionen dieses Typs sind in verschiedenen Variationen kommerziell erhältlich. Dieser Ausdruck wird gewählt, um eine Dispersion von Wasser und mindestens einem darin dispergierten Prepolymer zu beschreiben. Die Konzentration des Wassers in diesen Systemen ist beispielsweise 5 bis 80 Gew.-%, insbesondere 30 bis 60 Gew.-%. Das strahlungshärtbare Prepolymer oder Prepolymergemisch liegt beispielsweise in Konzentrationen von 95 bis 20 Gew.-%, insbesondere 70 bis 40 Gew.-%, vor. Die Gesamtprozentsätze, ausgewiesen für Wasser und Prepolymer in diesen Massen, sind in jedem Fall 100, wozu die Hilfsstoffe und Additive in verschiedenen Mengen in Abhängigkeit von der Anwendung gegeben werden. 



  Die strahlungshärtbaren, wasserdispergierten, filmbildenden Prepolymere, die häufig auch gelöst werden, sind, für wässerige Prepolymerdispersionen, monofunktionelle oder polyfunktionelle, ethylenisch ungesättigte Prepolymere, die an sich bekannt sind, können mithilfe von freien Radikalen gestartet werden und enthalten beispielsweise 0,01 bis 1,0 Mol polymerisierbare Doppelbindungen pro 100 g Prepolymer und weisen ein mittleres Molekulargewicht von beispielsweise mindestens 400, insbesondere 500 bis 10 000, auf. In Abhängigkeit von der beabsichtigten Anwendung können jedoch Prepolymere mit höheren Molekulargewichten ebenfalls geeignet sein.

   Beispielsweise werden Polyester, die polymerisierbare C-C-Doppelbindungen enthalten und eine maximale Säurezahl von 10 aufweisen, Polyether, die polymerisierbare C-C-Doppelbindungen enthalten, Hydroxyl-enthaltende Reaktionsprodukte eines Polyepoxids, das mindestens zwei Epoxidgruppen pro Molekül enthält, mit mindestens einer  alpha , beta -ethylenisch ungesättigten Carbonsäure, Polyurethan(meth)acrylate und  alpha , beta -ethylenisch ungesättigte Acrylcopolymere, die Acrylreste enthalten, wie in EP-A-12 339 beschrieben, verwendet. Gemische dieser Prepolymere können auch angewendet werden.

   Ebenfalls geeignet sind die polymerisierbaren Prepolymere, beschrieben in EP-A-33 896, die Thioetheraddukte von polymerisierbaren Prepolymeren mit einem mittleren Molekulargewicht von mindestens 600, einem Carboxylgruppenanteil von 0,2 bis 15% und einem Anteil von 0,01 bis 0,8 Mol polymerisierbarer C-C-Doppelbindungen pro 100 g Prepolymer, darstellen. Andere geeignete wässerige Dispersionen, basierend auf speziellen Alkyl(meth)acrylatpolymeren, werden in EP-A-41 125 beschrieben, und geeignete Wasser-dispergierbare, strahlungshärtbare Prepolymere, hergestellt aus Urethanacrylaten, werden in DE-A-2 936 039 offenbart. 



  Diese strahlungshärtbaren, wässerigen Prepolymerdispersionen können als weitere Additive Dispersionshilfsmittel, Emulgatoren, Antioxidantien, Lichtstabilisatoren, Farbstoffe, Pigmente, Füllstoffe, beispielsweise Talkum, Gips, Siliciumdioxid, Rutil, Russ, Zinkoxid und Eisenoxide, Reaktionsbeschleuniger, Egalisiermittel, Gleitmittel, Netzmittel, Verdickungsmittel, Mattierungsmittel, Antischäumer und andere Hilfsmittel, die in der Oberflächenbeschichtungstechnologie üblich sind, enthalten. Geeignete Dispersionshilfsmittel sind wasserlösliche, organische Verbindungen mit hohem Molekulargewicht, die polare Gruppen enthalten, beispielsweise Polyvinylalkohole, Polyvinylpyrrolidon und Celluloseether. Emulgatoren, die verwendet werden können, sind nichtionische Emulgatoren und gegebenenfalls auch ionische Emulgatoren. 



  Gegenstand der Erfindung ist ebenfalls eine Masse, umfassend zusätzlich zu den Komponenten (a) und (b) mindestens einen weiteren Fotostarter (d) und/oder andere Additive. 



  In bestimmten Fällen kann es von Vorteil sein, Gemische von zwei oder mehreren der Fotostarter gemäss der Erfindung anzuwenden. Es ist natürlich auch möglich, Gemische mit bekannten Fotostartern, beispielsweise Gemische mit Benzophenon-, Acetophenonderivaten, beispielsweise  alpha -Hydroxycycloalkylphenylketonen, Dialkoxyacetophenonen, alpha -Hydroxy- oder anderen  alpha -Aminoacetophenonen, 4-Aroyl-1,3-dioxolanen, Benzoinalkylethern und Benzilketalen, Monoacylphosphinoxiden, Bisacylphosphinoxiden, Xanthonen, Thioxanthonen, Anthrachinonen oder Titanocenen, zu verwenden. 



  Wenn die erfindungsgemässen Fotostarter in Hybridsystemen angewendet werden, werden kationische Fotostarter, wie aromatische Sulfonium- oder Jodoniumsalze oder Cyclopentadienylareneisen(II)komplexsalze zusätzlich zu den über freie Radikale härtenden Mitteln gemäss der Erfindung angewendet. 



  Die Erfindung ist weiterhin auf eine Masse, umfassend zusätzlich zu Komponenten (a) und (b) mindestens eine Farbstoff-Boratverbindung und/oder Boratsalz, und gegebenenfalls eine Oniumverbindung gerichtet. Geeignete Farbstoff-Boratverbindungen sind beispielsweise in US-A-4 751 102, US-A5 057 393, US-A-5 151 520 offenbart. Kombinationen von Boratsalzen mit Farbstoffboraten sind beispielsweise in US-A5 176 984 beschrieben. 



  Geeignete Oniumsalze in diesen Gemischen sind beispielsweise Diphenyljodoniumhexafluorophosphat, (p-Octyloxyphenyl)(phenyl)jodoniumhexafluorophosphat oder entsprechende andere Anionen dieser Verbindungen, beispielsweise die Halogenide; und ebenfalls Sulfoniumsalze, beispielsweise Triarylsulfoniumsalze (Cyracure< TM > UVI 6990, Cyracure< TM > UVI-6974 von Union Carbide; Degacure< TM > KI 85 von Degussa oder SP-150 und SP-170 von Asahi Denka). 



  Die fotopolymerisierbaren Massen enthalten den Fotostarter oder das Fotostartergemisch (b), vorteilhafterweise in einer Menge von 0,05 bis 15 Gew.-%, vorzugsweise 0,1 bis 5 Gew.-%, bezogen auf die Masse. Oder, falls zusätzlich eine Komponente (d) vorliegt, ist die Summe der Menge der Komponenten (b) und (d) vorteilhafterweise 0,05 bis 15 Gew.-%, vorzugsweise 0,1 bis 5 Gew.-%, bezogen auf die Masse. 



  Die fotopolymerisierbaren Massen können für verschiedenste Zwecke verwendet werden, beispielsweise als Druckfarben, Lacke für klare Deckschichten, als weisse Anstrichstoffe, beispielsweise für Holz oder Metall, als Beschichtungsstoffe, unter anderem für Papier, Holz, Metall oder Kunststoff, als bei Tageslicht härtbare Beschichtungen für Gebäude und zur Fahrbahnmarkierung, für fotografische Reproduktionsverfahren, für holografische Aufzeichnungsmaterialien, für Bildaufzeichnungsverfahren oder zur Herstellung von Druckplatten, die unter Verwendung von organischen Lösungsmitteln oder wässerigen alkalischen Medien entwickelt werden können, zur Herstellung von Masken für Siebdruck, als dentale Füllmaterialien, als Klebstoff, als Haftklebstoff, als laminierbare Harze, wie Ätzresists oder Dauerresists oder als Lötmasken für elektronische Schaltkreise,

   zur Herstellung von dreidimensionalen Gegenständen durch Massehärtung (UV-Härtung in durchsichtigen Formen) oder durch das Stereolithografieverfahren, wie beispielsweise in US-A-4 575 330 beschrieben, zur Herstellung von Verbundstoffen (beispielsweise Styrolpolyester, die Glasfasern oder andere Hilfsstoffe enthalten können) und für andere dickschichtige Massen, zur Beschichtung oder Einkapselung von elektronischen Komponenten oder als Beschichtung für optische Fasern. 



  Die erfindungsgemässen Verbindungen können ebenfalls als Starter für Emulsionspolymerisationen, als Starter zur Polymerisation zum Fixieren des geordneten Zustands von flüssigkristallinen Mono- und Oligomeren, als Starter zum Fixieren von Farbstoffen für organische Materialien und für härtende Pulverbeschichtungen verwendet werden. 



  In Beschichtungsmaterialien werden häufig Gemische von Vorpolymer mit polyungesättigten Monomeren verwendet, die ebenfalls ein monoungesättigtes Monomer enthalten. Das Vorpolymer ist hier vordringlich für die Eigenschaften des Beschichtungsfilms verantwortlich und Änderungen davon gestatten dem Fachmann die Einflussnahme auf die Eigenschaften des gehärteten Films. Das polyungesättigte Monomer dient als Ver netzungsmittel, das den Beschichtungsfilm unlöslich gestaltet. Das monoungesättigte Monomer dient als Reaktivverdünnungsmittel, auf Grund dessen die Viskosität ohne die notwendige Verwendung eines Lösungsmittels vermindert wird. 



  Ungesättigte Polyesterharze werden meist in Zwei-Komponenten-Systemen im Zusammenhang mit einem monoungesättigten Monomer, vorzugsweise Styrol, verwendet. Für Fotoresists werden häufig spezielle Ein-Komponenten-Systeme angewendet, beispielsweise Polymaleimide, Polychalcone oder Polyimide, wie in DE-A-2 308 830 beschrieben. 



  Die erfindungsgemässen Verbindungen und Gemische davon können auch als Fotostarter für freie Radikale oder als fotostartende Systeme für strahlungshärtbare Pulverbeschichtungen verwendet werden. Die Pulverbeschichtungen können auf festen Harzen und Monomeren, die reaktive Doppelbindungen enthalten, wie Maleaten, Vinylethern, Acrylaten, Acrylamiden und Gemischen davon beruhen. Eine über freie Radikale UV-härtbare Pulverbeschichtung kann durch Vermischen von ungesättigten Polyesterharzen mit festen Acrylamiden (beispielsweise Methacrylamidoglycolsäuremethylester) und mit erfindungsgemässem Fotostarter über freie Radikale, wie beispielsweise in dem Artikel "Radiation Curing of Powder Coating", Conference Proceedings, Radtech Europe 1993, von M. Wittig und Th. Gohmann beschrieben, formuliert werden.

   In ähnlicher Weise können über freie Radikale UV-härtbare Pulverbeschichtungen durch Vermischen von ungesättigten Polyesterharzen mit festen Acrylaten, Methacrylaten oder Vinylethern und mit einem Fotostarter (oder einem Gemisch von Fotostartern) gemäss der Erfindung formuliert werden. Die Pulverbeschichtungen können auch Bindemittel, wie beispielsweise in DE-A-4 228 514 oder EP-A-636 669 beschrieben, enthalten. Die UV-härtbaren Pulverbeschichtungen können auch weisse oder gefärbte Pigmente umfassen. Somit kann für eine gehärtete Pulverbeschichtung mit guter Deckkraft beispielsweise vorzugsweise Rutiltitandioxid in Konzentrationen bis zu 50 Gew.-% verwendet werden. Das Verfahren umfasst normalerweise elektrostatisches oder tribostatisches Sprühen des Pulvers auf das Substrat, z.B.

   Metall oder Holz, Schmelzen des Pulvers durch Erhitzen und nach Bildung eines glatten Films, Strahlungshärten der Beschichtung unter Verwendung von Ultraviolett- und/oder sichtbarem Licht, beispielsweise mit Mitteldruck-Quecksilberlampen, Metallhalogenidlampen oder Xenonlampen. Ein besonderer Vorteil der strahlungshärtbaren Pulverbeschichtungen gegenüber ihren wärmehärtbaren Gegenstücken besteht darin, dass die Fliesszeit nach dem Schmelzen der Pulverteilchen selektiv ausgedehnt werden kann, damit die Bildung einer glatten, stark glänzenden Oberfläche gewährleistet ist. Im Gegensatz zu wärmehärtbaren Systemen können strahlungshärtbare Pulverbeschichtungen ohne unerwünschte Wirkungen auf die Verminderung ihrer Standzeit formuliert werden, sodass sie bei relativ geringen Temperaturen schmelzen.

   Aus diesem Grund sind sie auch als Beschichtungen für wärmeempfindliche Substrate, wie Holz oder Kunststoff, geeignet. 



  Zusätzlich zu den erfindungsgemässen Fotostartern können die Pulverbeschichtungsformulierungen auch UV-Absorptionsmittel enthalten. Geeignete Beispiele wurden vorstehend unter Punkten 1-8 aufgeführt. 



  Die fotohärtbaren, erfindungsgemässen Massen sind beispielsweise als Beschichtungsstoffe für Substrate aller Art geeignet, z.B. Holz, Textilien, Papier, Keramik, Glas, Kunststoffe, wie Polyester, Polyethylenterephthalat, Polyolefine oder Celluloseacetat, insbesondere in Form von Folien und auch Metalle, wie Al, Cu, Ni, Fe, Zn, Mg oder Co und GaAs, Si oder SiO2, auf die eine Schutzbeschichtung aufgetragen werden soll oder durch bildmässige Belichtung ein Bild aufgetragen werden soll. 



  Die Substrate können durch Auftragen einer flüssigen Masse, einer Lösung oder Suspension auf das Substrat beschichtet werden. Die Wahl des Lösungsmittels und der Konzentration hängt vordringlich von der Art der Masse und der Beschichtungsverfahren ab. Das Lösungsmittel sollte inert sein: in anderen Worten, es sollte mit den Komponenten keine chemische Reaktion eingehen und sollte in der Lage sein, nach dem Beschichtungsvorgang bei dem Trockenverfahren wieder entfernt zu werden. Beispiele geeigneter Lösungsmittel sind Ketone, Ether und Ester, wie Methylethylketon, Isobutylmethylketon, Cyclopentanon, Cyclohexanon, N-Methylpyrrolidon, Dioxan, Tetrahydrofuran, 2-Methoxyethanol, 2-Ethoxyethanol, 1-Methoxy-2-propanol, 1,2-Dimethoxyethan, Essigsäureethylester, Essigsäure-n-butylester und 3-Ethoxypropionsäureethylester. 



  Unter Verwendung bekannter Beschichtungsverfahren wird die Lösung gleichmässig auf das Substrat aufgetragen, beispielsweise durch Schleuderbeschichten, Tauchbeschichten, Messerbeschichten, Fallstrombeschichten, Pinseln, Aufsprühen, insbesondere elektrostatisches Aufsprühen und Umkehrwalzenbeschichtung. Es ist auch möglich, die lichtempfindliche Schicht auf einen temporären, biegsamen Träger aufzutragen und dann das Endsubstrat durch Schichtübertragen durch Laminierung zu beschichten, beispielsweise für eine Kupfer-kaschierte Leiterplatte. 



  Die aufgetragene Menge (Schichtdicke) und die Beschaffenheit des Substrats (Schichtträger) sind Funktionen der gewünschten Anwendung. Der Bereich der Schichtdicken umfasst im Allgemeinen Werte von etwa 0,1  mu m bis mehr als 100  mu m. 



  Die strahlungsempfindlichen Massen gemäss der Erfindung finden als Negativresists, die eine sehr hohe Lichtempfindlichkeit aufweisen, Verwendung und können in einem wässerig-alkalischen Medium ohne Aufquellen entwickelt werden. Sie sind als Fotoresists für elektronische Anwendungen (Galvanoresists, Ätzresists und Lötresists), für die Herstellung von Druckplatten, wie Offsetdruckplatten oder Siebdruckformen, geeignet und können für chemisches Fräsen [chemical milling] oder als Mikroresists bei der Herstellung von integrierten Schaltkreisen verwendet werden. Es gibt einen entsprechend breiten Bereich der Variation bei den möglichen Schichtträgern und den Verfahrensbedingungen für die beschichteten Substrate. 



  Die erfindungsgemässen Verbindungen finden auch Anwendung bei der Herstellung von Ein- oder Mehrschichtstoffen für Bildaufzeichnung oder Bildreproduktion (Kopien, Reprografie), die ein- oder mehrfarbig sein können. Ausserdem sind die Materialien für Farbabzugprüfsysteme geeignet. Bei dieser Technologie können Formulierungen, die Mikrokapseln enthal ten, aufgetragen werden und für die Bilderzeugung kann Strahlungshärtung, gefolgt von Wärmebehandlung, verwendet werden. Solche Systeme und Technologien und deren Anwendungen sind beispielsweise in US-A-5 376 459 offenbart. 



  Beispiele der Schichtträger für fotografische Informationsaufzeichnung sind Filme, hergestellt aus Polyester, Celluloseacetat oder Kunststoff-überzogenen Papieren; für Offsetdruckplatten, insbesondere behandeltes Aluminium; zur Herstellung von Leiterplatten, Kupfer-kaschierte Laminate und zur Herstellung von integrierten Schaltkreisen, Siliciumwafer. Die Schichtdicken für fotografische Materialien und Offsetdruckplatten liegen im Allgemeinen bei etwa 0,5  mu m bis 10  mu m, wobei sie bei Leiterplatten 1,0  mu m bis etwa 100  mu m betragen. 



  Nach Beschichtung der Substrate wird das Lösungsmittel im Allgemeinen durch Trocknen unter Hinterlassen einer Fotoresistschicht auf dem Substrat entfernt. 



  Der Begriff "bildmässige Belichtung" betrifft sowohl die Belichtung durch eine Fotomaske, die ein vorbestimmtes Muster enthält, beispielsweise ein Lichtbild, Belichtung mit einem Laserstrahl, der computergesteuert bewegt wird, beispielsweise über die Oberfläche des beschichteten Substrats, wodurch ein Bild erzeugt wird, als auch Bestrahlung mit Computer-gesteuerten Elektronenstrahlen. 



  Nach bildmässiger Belichtung des Materials und vor der Entwicklung kann es vorteilhaft sein, eine kurze Wärmebehandlung auszuführen, bei der die belichteten Teile thermisch gehärtet werden. Die angewendeten Temperaturen betragen im Allgemeinen 50-150 DEG C und vorzugsweise 80-130 DEG C; die Dauer der Wärmebehandlung liegt im Allgemeinen zwischen 0,25 und 10 Minuten. 



  Die fotohärtbare Masse kann auch in einem Verfahren zur Herstellung von Druckplatten oder Fotoresists, wie beispielsweise in DE-A-4 013 358 beschrieben, verwendet werden. Bei diesem Verfahren wird die Masse vorher belichtet, gleichzeitig mit oder nach bildmässiger Bestrahlung belichtet, wobei die Belichtung für einen kurzen Zeitraum mit sichtbarem Licht bei einer Wellenlänge von mindestens 400 nm ohne Maske ausgeführt wird. 



  Nach der Belichtung und der optischen Wärmebehandlung werden die nichtbelichteten Bereiche des Fotoresists unter Verwendung eines Entwicklers in an sich bekannter Weise entfernt. 



  Wie bereits angeführt, können die erfindungsgemässen Massen durch wässerig-alkalische Medien entwickelt werden. Geeignete wässerig-alkalische Entwicklerlösungen sind insbesondere wässerige Lösungen von Tetraalkylammoniumhydroxiden oder von Alkalimetallsilicaten, Phosphaten, Hydroxiden und Carbonaten. Relativ geringe Mengen an Netzmittel und/oder organischen Lösungsmitteln können ebenfalls, falls erwünscht, in diese Lösungen gegeben werden. Beispiele für typische organische Lösungsmittel, die in geringen Mengen zu den Entwicklungsflüssigkeiten gegeben werden können, sind Cyclohexanon, 2-Ethoxyethanol, Toluol, Aceton und Gemische derartiger Lösungsmittel. 



  Fotohärtung ist für Druckfarben von besonderer Bedeutung, da die Trockenzeit für das Bindemittel ein ausschlaggebender Faktor für die Arbeitsproduktivität bei grafischen Produkten ist und in der Grössenordnung von Bruchteilen von Sekunden sein sollte. UV-härtbare Druckfarben sind insbesondere für Siebdruck von Bedeutung. 



  Gegenstand der Erfindung ist daher auch eine Druckfarbe, umfassend eine wie vorstehend beschriebene Masse und ein Pigment oder einen Farbstoff und gegebenenfalls einen Sensibilisator, vorzugsweise ein Thioxanthon oder ein Derivat davon. 



  Die erfindungsgemässen Druckfarben enthalten ein Pigment oder einen Farbstoff. Geeignete Pigmente oder Farbstoffe sind dem Fachmann bekannt. Das Pigment ist beispielsweise ein anorganisches Pigment, z.B. Titandioxid (Rutil oder Anatas), Eisengelb, Eisenrot, Chromgelb, Chromgrün, Nickel-Titan-gelb, Ultramarinblau, Cobaltblau, Cadmiumgelb, Cadmiumrot oder Zinkweiss. Oder das Pigment ist beispielsweise ein organisches Pigment, beispielsweise ein Monoazo- oder Bisazopigment oder ein Metallkomplex davon, ein Phthalocyaninpigment oder ein polycyclisches Pigment, beispielsweise ein Perylen-, Thioindigo-, Flavanthron-, Chinacridon-, Tetrachlorisoindolinon- oder Triphenylmethanpigment. Oder das Pigment ist Russ oder ein Metallpulver, beispielsweise Aluminium- oder Kupferpulver oder ein anderes Pigment, das in der Drucktechnologie als geeignet bekannt ist.

   Das verwendete Pigment kann auch ein Gemisch von einem oder mehreren Pigmenten sein, wie es zum Erreichen spezieller Farbschattierungen üblich ist. Das Pigment oder Pigmentgemisch wird in einer Menge vorliegen, die für die Druckfarbentechnologie üblich ist, beispielsweise eine Menge von 5 bis 60 Gew.-%, bezogen auf die Gesamtzusammensetzung; vorzugsweise liegen in einer Druckfarbe 10-30 Gew.-% Pigment vor. Geeignete Farbstoffe gehören beispielsweise zu einer breiten Vielzahl von Klassen, beispielsweise Azofarbstoffe, Methinfarbstoffe, Anthrachinonfarbstoffe oder Metallkomplexfarbstoffe. In den verwendeten Konzentrationen sind diese Farbstoffe in den betreffenden Bindemitteln löslich. Die üblichen Konzentrationen sind beispielsweise 0,1 bis 20%, vorzugsweise 1-5 Gew.-%, bezogen auf die gesamte Masse. 



  Wie bereits angeführt, sind die erfindungsgemässen Gemische zur Herstellung von Druckplatten ebenfalls sehr geeignet, wenn beispielsweise Gemische von löslichen, linearen Polyamiden oder Styrol/Butadien- oder Styrol/Isopren-Kautschuk, Polyacrylate oder Polymethylmethacrylate, die Carboxylgruppen enthalten, Polyvinylalkohole oder Urethanacrylate mit fotopolymerisierbaren Monomeren, beispielsweise Acrylamiden, Methacrylamiden, Acrylaten oder Methacrylaten und ein Fotostarter, verwendet werden. Filme und Platten, die aus diesen Systemen hergestellt werden (nass oder trocken) werden durch das Negativ (oder Positiv) des Druckoriginals belichtet und die ungehärteten Teile werden anschliessend unter Verwendung eines geeigneten Lösungsmittels ausgewaschen. 



  Ein weiterer Anwendungsbereich für die Fotohärtung ist die Beschichtung von Metallen, beispielsweise bei der Beschichtung von Metallblechen und -röhren, Dosen oder Flaschenverschlüssen und die Fotohärtung von Kunststoffbe schichtungen, beispielsweise Wand- oder Bodenbelägen auf PVC-Basis. 



  Beispiele der Fotohärtung von Papierbeschichtungen sind farblose Beschichtungen von Etiketten, Plattenhüllen oder Buchdeckeln. 



  Die Verwendung der erfindungsgemässen Verbindungen zur Härtung von Formgegenständen, die aus Verbundmassen hergestellt werden, ist ebenfalls von Interesse. Die Verbundmasse wird aus einem selbsttragenden Matrixmaterial, beispielsweise Glasfasergewebe, oder auch beispielsweise Pflanzenfasern hergestellt [vergleiche K.-P. Mieck und T. Reussmann in Kunststoffe 85 (1995), 366-370], das mit der fotohärtbaren Formulierung imprägniert wird. Formgegenstände, die aus Verbundmassen unter Verwendung der erfindungsgemässen Verbindungen hergestellt werden, sind mechanisch sehr stabil und beständig. Die erfindungsgemässen Verbindungen können auch als fotohärtende Mittel bei Form-, Imprägnier- und Beschichtungsmassen, wie beispielsweise in EP-A-7 086 beschrieben, verwendet werden.

   Beispiele solcher Massen sind feine Beschichtungsharze, an die stärkere Anforderungen hinsichtlich ihrer Härtungsaktivität und Vergilbungsbeständigkeit gestellt werden, oder faserverstärkte Formlinge, wie ebene oder längs oder quer gewellte lichtdiffuse Platten. Verfahren zur Herstellung solcher Formlinge, beispielsweise Hand-lay-up, Spray-lay-up, zentrifugales oder Filamentwickelverfahren, sind beispielsweise bei P. H. Selden in "Glasfaserverstärkte Kunststoffe", Seite 610, Springer Verlag Berlin-Heidelberg-New York, 1967, beschrieben. Beispiele für Gegenstände zur Verwendung, die durch dieses Verfahren hergestellt werden können, sind Bootskörper, Spanplatten oder Sperrholzplatten, die auf beiden Seiten mit Glasfaser-verstärkten Kunststoffen beschichtet sind, Rohre, Behälter und dergleichen.

   Ein weiteres Beispiel für Form-, Imprägnier- und Beschichtungsmassen sind UP-Harz-Feinbeschichtungen für Formlinge, die Glasfasern enthalten (GRP), beispielsweise Wellplatten und Papierlaminate. Papierlaminate können ebenfalls auf der Basis von Harnstoff- oder Melaminharzen sein. Die Feinbeschichtung wird auf einem Träger (beispielsweise einer Folie) vor der Herstellung des Laminats erzeugt. Die erfindungsgemässen, fotohärtbaren Massen können auch für Giessharze oder zum Einkapseln von Gegenständen, wie elektronische Komponenten und dergleichen, verwendet werden. Zum Härten wendet man Mitteldruck-Quecksilberlampen an, die bei UV-Härten üblich sind. Jedoch sind auch weniger intensive Lampen von besonderem Interesse, beispielsweise jene vom Typ TL40W/03 oder TL40W/05. Die Intensität dieser Lampen entspricht etwa jener von Sonnenlicht.

   Direktes Sonnenlicht kann ebenfalls zum Härten verwendet werden. Ein weiterer Vorteil besteht darin, dass die Verbundmasse von der Lichtquelle in einem teilgehärteten, plastischen Zustand entnommen werden und dann verformt werden kann. Das Härten wird anschliessend beendet. 



  Die Massen und Verbindungen gemäss der vorliegenden Erfindung können zur Herstellung von Lichtleitern und optischen Schaltern verwendet werden, wobei der Vorteil der Entwicklung einer Differenz in dem Brechungsindex zwischen bestrahlten und nichtbestrahlten Flächen hergenommen wird. 



  Ebenfalls von Bedeutung ist die Verwendung von fotohärtbaren Massen für Bilderzeugungsverfahren und für die optische Herstellung von Informationsträgern. Bei diesen Anwendungen wird die auf den Träger aufgetragene Beschichtung (nass oder trocken), wie vorstehend bereits beschrieben, mit UV- oder sichtbarem Licht durch eine Fotomaske bestrahlt und die nichtbelichteten Flächen der Beschichtung werden durch Behandlung mit einem Lösungsmittel (= Entwickler) entfernt. Die fotohärtbare Schicht kann auch durch Elektroabscheidung auf Metall aufgetragen werden. Die belichteten Flächen sind vernetzte/polymere Flächen und somit unlöslich und bleiben auf dem Träger. Wenn geeignete Färbung ausgeführt wird, werden sichtbare Bilder erzeugt.

   Wenn der Träger eine metallisierte Schicht ist, kann das Metall aus den nichtbelichteten Flächen durch Ätzen nach Belichtung und Entwicklung entfernt werden und kann in der Dicke durch Elektroplattieren verstärkt werden. Auf diese Weise können eine gedruckte elektronische Schaltung und ein Fotoresist erzeugt werden. 



  Die Lichtempfindlichkeit der erfindungsgemässen Massen liegt im Allgemeinen im Bereich des UV-Bereiches (etwa 200 nm) bis etwa 600 nm und überspannt daher einen sehr breiten Bereich. Geeignete Bestrahlung umfasst beispielsweise Sonnenlicht oder Licht aus künstlichen Quellen. Daher kann eine Vielzahl von verschiedenen Arten von Lichtquellen verwendet werden. Sowohl Punktquellen als auch flache Strahler (Lampenteppiche) sind geeignet. Beispiele sind: Kohlebogenlampen, Xenonbogenlampen, Mitteldruck-, Hochdruck- und Niederdruck-Quecksilberlampen, dotiert mit Metallhalogeniden, falls erwünscht (Metallhalogenlampen), Mikrowellen-stimulierte Metalldampflampen, Exzimerlampen, superaktinische Fluoreszenzröhren, Fluoreszenzlampen, Argonglühlampen, elektronische Blitzlichter oder Fotoflutlichtlampen.

   Auch andere Strahlungsarten, beispielsweise Elektronenstrahlen und Röntgenstrahlen, hergestellt mittels Synchrotron, oder Laserplasma, sind geeignet. Der Abstand zwischen der Lampe und dem erfindungsgemässen Substrat, das zu belichten ist, kann von der Anwendung und von der Art und/oder der Leistung der Lampe, beispielsweise von 2 cm bis 150 cm, abhängen. Von besonderer Eignung sind Laserlichtquellen, beispielsweise Exzimerlaser, wie Krypton-F-Laser, zur Belichtung bei 248 nm. Laser im sichtbaren Licht können ebenfalls verwendet werden. In diesem Fall ist die hohe Empfindlichkeit der erfindungsgemässen Materialien sehr vorteilhaft. Durch dieses Verfahren ist es möglich, gedruckte Schaltungen in der elektronischen Industrie, Offsetflachdruckplatten oder Reliefdruckplatten und fotografische Bildaufzeichnungsmaterialien herzustellen. 



  Die Erfindung betrifft ebenfalls die Verwendung von Verbindungen der Formel I, II, III und IV für die Härtung von Formgegenständen, die aus Verbundwerkstoffen hergestellt werden und betrifft ein Verfahren zur Härtung von Formgegenständen, die aus Verbundwerkstoffen unter Verwendung der vorstehend genannten Verbindungen der Formel I, II, III oder IV hergestellt wurden. 



  Die Erfindung betrifft auch die Verwendung der erfindungsgemässen Masse zur Herstellung von pigmentierten und nichtpigmentierten Anstrichstoffen und Lacken, zur Herstellung von durchsichtigen und pigmentierten, wässerigen Dispersionen, Pulverbeschichtungen, Druckfarben, Druckplatten, Klebstoffen, Dentalfüllmassen, Lichtleitern, optischen Schaltern, Farbprüfabzugssystemen, Beschichtungen für Glasfaserkabel, Siebdruckschablonen, Resistmaterialien, Verbundwerkstoffen, für fotografische Reproduktionen, für die Herstellung von Masken für Siebdruck, für Fotoresists für gedruckte elektronische Schaltkreise, zum Einkapseln von elektrischen und elektronischen Komponenten, zur Herstellung von magnetischen Aufzeichnungsmaterialien, zur Herstellung von dreidimensionalen Gegenständen durch Stereolithografie oder Massehärtung und als Bildaufzeichnungsmaterial,

   insbesondere für holografische Aufzeichnungen. 



  Die Erfindung betrifft ausserdem ein Verfahren zur Fotopolymerisation von nichtflüchtigen monomeren, oligomeren oder polymeren Verbindungen, die mindestens eine ethylenisch ungesättigte Doppelbindung enthalten, umfassend Zugabe mindestens einer Verbindung der Formel I, II, III oder IV, zu den Verbindungen und Bestrahlen der erhaltenen Masse mit einem Licht mit einer Wellenlänge im Bereich von 200 bis 600 nm. 



  Gemäss der Erfindung wird dieses Verfahren auch zur Herstellung von Beschichtungsstoffen, insbesondere für weisse Anstrichstoffe für Holzbeschichtungen und Metallbeschichtungen oder durchsichtige Beschichtungsmaterialien zur Herstellung von Beschichtungsmaterialien als bei Tageslicht härtbare Beschichtungen für Gebäude und Fahrbahnmarkierungen, zur Herstellung von Verbundwerkstoffen, zur Herstellung von Druckplatten, zur Herstellung von Masken für Siebdruck, zur Herstellung von Fotoresists für gedruckte elektronische Schaltkreise, zur Herstellung von Klebstoffen, zur Herstellung von Beschichtungen für optische Fasern, zur Herstellung von Beschichtungen und Einkapselungen von elektronischen Komponenten und in dem Verfahren zur Massehärtung oder Stereolithografie verwendet. 



  Die Erfindung betrifft ebenfalls ein beschichtetes Material, das auf mindestens einer Oberfläche mit einer wie vorstehend beschriebenen, gehärteten Masse beschichtet ist und ein Verfahren zur fotografischen Herstellung eines Reliefbildes, bei dem ein beschichtetes Substrat bildmässig belichtet wird und dann die nichtbelichteten Flächen mit einem Lösungsmittel entfernt werden oder ein beschichtetes Substrat mit einem beweglichen Laserstrahl (ohne Maske) belichtet wird und dann die unbelichteten Flächen mit einem Lösungsmittel entfernt werden. 



  Die erfindungsgemässen Massen können sehr leicht in den zu polymerisierenden Gemischen gelöst werden und sind nur sehr wenig flüchtig. Sie zeigen eine gute Empfindlichkeit, insbesondere als Starter in Lötresists und ein zufriedenstellender Gelbwert wird bei Massen erreicht, die unter Verwendung der erfindungsgemässen Verbindungen gehärtet wurden. 



  Die nachstehenden Beispiele erläutern zusätzlich die Erfindung. Wie in der übrigen Beschreibung und in den Patentansprüchen sind Teil- und Prozentangaben auf das Gewicht bezogen, sofern nicht anders ausgewiesen. 



  Wenn die Bezeichnung Alkylreste mit mehr als 3 Kohlenstoffatomen ohne spezifische Isomere angegeben ist, sind diese Reste in jedem Fall die n-Isomere. 


 Beisipiel 1: 1-[4-(3-Mercaptopropylthio)phenyl]-2-methyl-2-morpholin-4-yl-propan-1-on 
 


 1a: (4-Fluorphenyl)-3,3-dimethyl-2-methoxyoxiran 
 



  100,32 g (0,41 Mol) 2-Brom-1-(4-fluorphenyl)-2-methylpropan-1-on, hergestellt durch Bromieren von 1-(4-Fluorphenyl)-2-methylpropan-1-on (wie in EP-A-3 002 beschrieben), werden in 80 ml trockenem Methanol gelöst und 24,3 g (0,45 Mol) Natriummethoxid in einem Lösungsmittelgemisch von 60 ml trockenem Methanol und 120 ml Chlorbenzol werden tropfenweise bei 20 DEG C zugegeben. Das Methanol wird dann abdestilliert und die Chlorbenzollösung wird aufkonzentriert. Das flüssige Rohprodukt (90,8 g) wird durch Destillation bei 60 DEG C und 0,2 mmHg weiter gereinigt. 


 1b: 1-(4-Fluorphenyl)-2-methyl-2-morpholin-4-yl-propan-1-on 
 



  69,3 g (0,35 Mol) (4-Fluorphenyl)-3,3-dimethyl-2-methoxyoxiran und 200 ml trockenes Morpholin werden vermischt und auf Rückflusstemperatur (etwa 130 DEG C) erhitzt. Nach 26 Stunden wird das nichtumgesetzte überschüssige Morpholin ab destilliert. Der Rückstand wird in Toluol aufgenommen und nacheinander mit Wasser und gesättigter Natriumchloridlösung gewaschen. Die Toluollösung wird mit      MgSO4 getrocknet und aufkonzentriert. Der Rückstand, 88,1 g, kristallisiert aus Ethanol mit einem Schmelzpunkt von 63-66 DEG C. 


 1c: 1-(4-(3-Mercaptopropylthio)phenyl]-2-methyl-2-morpholin-4-yl-propan-1-on 
 



  52,8 g (0,488 Mol) 1,3-Propandithiol werden in 100 ml trockenem Dimethylacetamid gelöst, 22,0 g Kaliumcarbonat werden zugegeben und die Lösung auf etwa 40 DEG C erhitzt. 20,0 g (0,08 Mol) 1-(4-Fluorphenyl)-2-methyl-2-morpholin-4-yl-propan-1-on in 50 ml trockenem Dimethylacetamid werden tropfenweise innerhalb 14 Stunden zugegeben. Die erhaltene Suspension wird für weitere 5 Stunden gerührt, anschliessend wird der Feststoff abfiltriert und mit Toluol gewaschen. Aus dem Filtrat werden das überschüssige 1,3-Propandithiol und Toluol abdestilliert. Der Rückstand wird in Essigsäureethylester gelöst und die erhaltene Lösung mit gesättigter Ammoniumchloridlösung gewaschen, über MgSO4 getrocknet und aufkonzentriert. Der Rückstand wird aus Ethanol umkristallisiert. Das erhaltene Produkt weist einen Schmelzpunkt von 67-68 DEG C auf.

   Die Struktur wird durch das <1>H-NMR-Spektrum, gemessen in CDCl3, bestätigt. Die Signale ( delta  in ppm) sind 1,31 (s, 6H), 1,39 (t, 1H), 2,00 (m, 2H), 2,57 (t, 4H), 2,70 (q, 2H), 3,13 (t, 2H), 3,69 (t, 4H), 7,28 (d, 2H), 8,50 (d, 2H). 


 Beispiel 2: 1-[4-(Mercaptoethylthio)phenyl]-2-methyl-2-morpholin-4-yl-propan-1-on 
 



  22,5 g (0,24 Mol) 1,2-Ethandithiol werden in 70 ml trockenem Dimethylacetamid gelöst, 10,0 g Kaliumcarbonat werden zugegeben und die Lösung auf etwa 40 DEG C erhitzt. 10,1 g (0,04 Mol) 1-(4-Fluorphenyl)-2-methyl-2-morpholin-4-yl-propan-1-on (hergestellt wie in Beispiel 1b beschrieben) in 30 ml trockenem Dimethylacetamid werden tropfenweise zugegeben. Die Suspension wird 5 Stunden gerührt, danach wird der Feststoff abfiltriert und mit Toluol gewaschen. Aus dem Filtrat werden überschüssiges 1,2-Ethandithiol und Toluol abdestil liert. Der Rückstand wird durch Säulenchromatografie an Kieselgel mit Essigsäureethylester-Hexan (20:80) als Elutionsmittel gereinigt. Das erhaltene Produkt weist einen Schmelzpunkt von 92-93 DEG C auf. Die Struktur wird durch das <1>H-NMR-Spektrum, gemessen in CDCl3, bestätigt.

   Die Signale ( delta  in ppm) sind 1,31 (s, 6H), 1,75 (t, 1H), 2,57 (t, 4H), 2,80 (q, 2H), 3,21 (t, 2H), 3,70 (t, 4H), 7,29 (d, 2H), 8,51 (d, 2H). 


 Beispiel 3: 1-[4-(4-Mercaptophenylthio)phenyl]-2-methyl-2-morpholin-4-yl-propan-1-on 
 



  20,0 g (0,14 Mol) 1,3-Benzoldithiol werden in 50 ml trockenem Dimethylacetamid gelöst, 14,0 g Kaliumcarbonat werden zugegeben und die erhaltene Lösung wird auf etwa 45 DEG C erhitzt. 7,2 g (0,029 Mol) 1-(4-Fluorphenyl)-2-methyl-2-morpholin-4-yl-propan-1-on (hergestellt wie in Beispiel 1b beschrieben) in 40 ml trockenem Dimethylacetamid werden tropfenweise zugegeben. Die Suspension wird 17 Stunden gerührt, dann wird der Feststoff abfiltriert und mit Methylenchlorid gewaschen. Aus dem Filtrat werden das Lösungsmittel und das überschüssige 1,3-Benzoldithiol abdestilliert. Das zurückbleibende \l wird durch Säulenchromatografie an Kieselgel mit Essigsäureethylester-Hexan (20:80) als Elutionsmittel gereinigt. Die Struktur wird durch das <1>H-NMR-Spektrum, gemessen in CDCl3, bestätigt.

   Die Signale ( delta  in ppm) sind 1,30 (s, 6H), 2,56 (t, 4H), 3,52 (s, 1H), 3,68 (t, 4H), 7,19 (d, 2H), 7,26 (s, 3H), 7,40 (s, 1H), 8,47 (d, 2H). 


 Beisipiel 4: 1-[4-(2,3-Dihydroxy-4-mercaptobutylthio)phenyl]-2-methyl-2-morpholin-4-yl-propan-1-on 
 



  1,0 g (4,0 mMol) 1-[4-(4-Mercaptophenylthio)phenyl]-2-methyl-2-morpholin-4-yl-propan-1-on und 1,37 g (8,9 mMol) 1,4-Dimercapto-2,3-butandiol werden in 50 ml trockenem Dimethylacetamid gelöst, 1,10 g (8,0 mMol) Kaliumcarbonat werden zugegeben und das Gemisch 17 Stunden gerührt. Die erhaltene Suspension wird in Wasser gegossen und mit Essigsäureethylester extrahiert; die vereinigten organischen Phasen werden mit Wasser gewaschen. Das Lösungsmittel wird abdestilliert und das zurückbleibende \l durch Säulenchromatografie an Kieselgel mit Ethanol-Methylenchlorid (5:95) als Elutionsmittel gereinigt. Die Struktur wird durch das <1>H-NMR-Spektrum, gemessen in CDCl3, bestätigt.

   Die Signale ( delta  in ppm) sind 1,31 (s, 6H), 1,55 (t, 1H), 2,57 (m, 4H), 2,75 (m, 1H), 3,24 (m, 5H), 3,70 (m, 5H), 4,18 (s, 1H), 7,53 (d, 2H), 8,49 (d, 2H). 


 Beispiel 5: 1-[3-(Mercaptopropylthio)phenyl]-2-dimethylamino-2-benzyl-propan-1-on 
 


 5a: 1-(4-Fluorphenyl)-2-dimethylamino-2-benzylpropan-1-on 
 



  11,2 g Natriumhydrid (66%) werden mit Hexan zur Entfernung des \ls gewaschen und zu 200 ml trockenem Dimethylacetamid gegeben. 50,0 g (0,256 Mol) 1-(4-Fluorphenyl)-2-dimethylamino-propan-1-on (hergestellt durch das in US-A5 534 629 beschriebene Verfahren) werden in 50 ml trockenem Dimethylacetamid gelöst und tropfenweise zu der vorstehend beschriebenen Lösung gegeben. Schrittweise werden 48,2 g (0,282 Mol) Benzylbromid langsam tropfenweise unter Rühren zugegeben und auf 105 DEG C erwärmt. Wenn das Gemisch bei dieser Temperatur 12 Stunden gerührt wurde, wird das Reaktionsgemisch in 500 ml Eiswasser gegossen und mit Toluol extrahiert. Die organische Phase wird mit Wasser gewaschen, über MgSO4 getrocknet und eingedampft. Der Rückstand wird durch Säulenchromatografie an Kieselgel mit Essigsäureethylester-Hexan (1:20) als Elutionsmittel gereinigt.

   Die Struktur wird durch das <1>H-NMR-Spektrum, gemessen in CDCl3, bestätigt. Die Signale ( delta  in ppm) sind 1,17 (s, 3H), 2,33 (s, 6H), 2,96 (d, 1H), 3,39 (d, 1H), 6,87 (m, 2H), 7,03-7,13 (m, 5H), 8,55 (m, 2H). 


 5b: 1-[3-(Mercaptopropylthio)phenyl]-2-dimethylamino-2-benzyl-propan-1-on 
 



  22,8 g (0,21 Mol) 1,3-Propandithiol werden in 50 ml trockenem Dimethylacetamid gelöst, 4,8 g Kaliumcarbonat werden zugegeben und das Gemisch wird auf etwa 50 DEG C erhitzt. 10,0 g 1-(4-Fluorphenyl)-2-dimethylamino-2-benzyl-propan-1-on in 50 ml trockenem Dimethylacetamid werden tropfenweise zugegeben. Die Suspension wird 12 Stunden bei 50 DEG C gerührt, der Feststoff wird abfiltriert. Das überschüssige 1,3-Propandithiol und Dimethylacetamid werden abdestilliert. Zu dem Rückstand wird Toluol gegeben und der erhaltene Niederschlag wird abfiltriert. Nachdem das Toluol abdestilliert ist, wird der Rückstand durch Säulenchromatografie an Kieselgel mit Essigsäureethylester-Hexan (1:9) als Elutionsmittel gereinigt. Die Struktur wird durch das <1>H-NMR-Spektrum, gemessen in CDCl3, bestätigt.

   Die Signale ( delta  in ppm) sind 1,16 (s, 3H), 1,40 (t, 1H), 2,02 (m, 2H), 2,34 (s, 6H), 2,71 (q, 2H), 2,96 (d, 1H), 3,14 (t, 2H), 3,68 (d, 1H), 6,88 (m, 2H), 7,12 (m, 3H), 7,29 (d, 2H), 8,44 (d, 2H). 


 Beispiel 6: 1-[4-(3-(Mercaptopropylthio)phenyl]-2-dimethylamino-2-methylpent-4-en-1-on 
 


 6a: 1-(4-Fluorphenyl)-2-dimethylamino-2-methylpent-4-en-1-on 
 



  11,2 g Natriumhydrid (66%) werden mit Hexan zur Entfernung des \ls gewaschen und zu 200 ml trockenem Dimethylacetamid gegeben. 50,0 g (0,256 Mol) 1-(4-Fluorphenyl)-2-dimethylamino-propan-1-on (hergestellt durch das in US-A5 534 629 beschriebene Verfahren) werden in 50 ml trockenem Dimethylacetamid gelöst und tropfenweise zu der vorstehend beschriebenen Lösung gegeben. Schrittweise werden 34,1 g (0,282 Mol) Allylbromid langsam tropfenweise unter Rühren zugegeben und auf 105 DEG C erwärmt. Wenn das Gemisch bei dieser Temperatur 12 Stunden gerührt wurde, wird das Reaktionsgemisch in 500 ml Eiswasser gegossen und mit Toluol extrahiert. Die organische Phase wird mit Wasser gewaschen, über MgSO4 getrocknet und eingedampft. Der Rückstand wird durch Säulenchromatografie an Kieselgel mit Essigsäureethylester-Hexan (1:9) als Elutionsmittel gereinigt.

   Die Struktur wird durch das <1>H-NMR-Spektrum, gemessen in CDCl3, bestätigt. Die Signale ( delta  in ppm) sind 1,19 (s, 3H), 2,28 (sw, 6H), 2,42 (m, 1H), 2,70 (m, 1H), 4,79-4,93 (m, 2H), 5,51 (m, 1H), 7,05 (m, 2H), 8,53 (d, 2H). 


 6b: 1-[4-(3-(Mercaptopropylthio)phenyl]-2-dimethylamino-2-methylpent-4-en-1-on 
 



  25,0 g (0,23 Mol) 1,3-Propandithiol werden in 80 ml trockenem Dimethylacetamid gelöst und 6,0 g Kaliumcarbonat werden zugegeben. 10,0 g 1-(4-Fluorphenyl)-2-dimethylamino-2-methylpent-4-en-1-on in 20 ml trockenem Dimethylacetamid werden tropfenweise zugegeben. Die Suspension wird 12 Stunden bei 50 DEG C gerührt, der Feststoff wird abfiltriert. Das überschüssige 1,3-Propandithiol und Dimethylacetamid werden abdestilliert. Zu dem Rückstand wird Toluol gegeben und der Niederschlag wird abfiltriert. Nachdem Toluol abdestilliert ist, wird der Rückstand durch Säulenchromatografie an Kieselgel mit Essigsäureethylester-Hexan (1:10) als Elutionsmittel gereinigt und ein öliges Produkt wird erhalten. Die Struktur wird durch das <1>H-NMR-Spektrum, gemessen in CDCl3, bestätigt.

   Die Signale ( delta  in ppm) sind 1,18 (s, 3H), 1,39 (t, 1H), 2,00 (m, 2H), 2,27 (s, 5H), 2,42 (m, 1H), 2,66-2,72 (m, 3H), 3,12 (t, 2H), 4,83-4,93 (m, 2H), 5,52 (m, 1H), 7,26 (d, 2H), 8,38 (d, 2H). 


 Beispiel 7: 1-[4-(3-Mercaptopropylthio)phenyl]-2-dimethylamino-2-benzyl-butan-1-on 
 



  32,5 g (0,3 Mol) 1,3-Propandithiol werden in 50 ml trockenem Dimethylacetamid gelöst und die Lösung wird zusammen mit 13,8 g (0,1 Mol) Kaliumcarbonat auf etwa 50 DEG C erwärmt. 15,0 g (0,05 Mol) 1-(4-Fluorphenyl)-2-dimethylamino-2-benzyl-butan-1-on in 30 ml trockenem Dimethylacetamid werden tropfenweise zugegeben. Die Suspension wird über Nacht (etwa 12 Stunden) bei 50 DEG C gerührt, dann wird der Feststoff abfiltriert. Das überschüssige 1,3-Propandithiol und Dimethylacetamid werden abdestilliert. Zu dem Rückstand wird Toluol gegeben, anschliessend wird der Rückstand abfiltriert. Nach Abdestillieren des Toluols wird der Niederschlag mithilfe von Säulenchromatografie an Kieselgel mit Essigsäureethylester-Hexan (1:7) als Elutionsmittel gereinigt und ein öliges Produkt wird erhalten. 



  Die Struktur wird durch das <1>H-NMR-Spektrum (CDCl3) bestätigt: 



   delta  [ppm]: 0,68 (t, 3H), 1,39 (t, 1H), 1,79-1,88 (m, 1H), 1,97-2,11 (m, 3H), 2,36 (s, 6H), 2,69 (q, 2H), 3,12 (t, 2H), 3,19 (s, 2H), 7,15-7,27 (m, 7H), 8,28 (d, 2H). 


 Beispiel 8: 1-[4-(3-Mercaptopropylamino)phenyl]-2-dimethylamino-2-benzyl-propan-1-on 
 


 8a: 1-[4-(3-Hydroxypropylamino)phenyl]-2-dimethylamino-2-benzyl-propan-1-on 
 



  10,0 g (0,035 Mol) 1-(4-Fluorphenyl)-2-dimethylamino-2-benzyl-propan-1-on und 18,4 g (0,25 Mol) 3-Amino-1-propanol werden in 20 ml trockenem Dimethylacetamid gelöst und die Lösung zusammen mit 9,7 g (0,07 Mol) Kaliumcarbonat auf 150 DEG C erhitzt und über Nacht (etwa 12 Stunden) gerührt. Nachdem die Lösung abgekühlt ist, wird sie in 300 ml Wasser gegossen und mit Toluol extrahiert. Die organische Phase wird mit Wasser und gesättigter Natriumchloridlösung gewaschen und über MgSO4 getrocknet. Nach Abdestillieren des Toluols wird der Rückstand mithilfe von Säulenchromatografie an Kieselgel mit Essigsäureethylester-Hexan (1:1) als Elutionsmittel gereinigt und ein öliges Produkt wird erhalten. 



  Die Struktur wird durch das <1>H-NMR-Spektrum (CDCl3) bestätigt: 



   delta  [ppm]: 1,14 (s, 3H), 1,50 (br, 1H), 1,93 (m, 2H), 2,33 (s, 6H), 2,96 (d, 1H), 3,37 (m, 2H), 3,42 (d, 1H), 3,85 (m, 2H), 4,45 (br, 1H), 6,56 (d, 2H), 6,89-6,91 (m, 2H), 7,10-7,12 (m, 3H), 8,45 (d, 2H). 


 8b: 1-[4-(3-Jodpropylamino)phenyl]-2-dime2H), 6,86 (d, 1H), 7,15-7,28 (m, 5H), 7,93 (d, 1H), 8,20 (dd, 1H). 


 21c: 2-Benzyl-2-dimethylamino-1-[4-(3-mercaptopropoxy)-3-methoxyphenyl]-butan-1-on 
 



  9,26 g (20,7 mMol) 2-Benzyl-1-[4-(3-brompropoxy)-3-methoxyphenyl]-2-dimethylaminobutan-1-on werden in 100 ml Dimethylacetamid gelöst und 2,60 g (22,8 mMol) Kaliumthioacetat werden zugegeben. Die Lösung wird 1 Stunde bei 50 DEG C gerührt. Danach wird die Lösung auf Raumtemperatur abgekühlt und in Wasser gegossen. Das Rohprodukt wird mit Essigsäureethylester extrahiert, mit gesättigter Natriumchloridlösung gewaschen, über MgSO4 getrocknet und zu dem Thioacetat aufkonzentriert. Dieses Produkt wird in 100 ml Ethanol gelöst und 11,4 ml 2N NaOH werden tropfenweise zugegeben. Die Reaktionslösung wird bei Raumtemperatur 20 Minuten gerührt. Danach wird die Lösung in Wasser gegossen. Das Rohprodukt wird mit Essigsäureethylester extrahiert, mit gesättigter Natriumchloridlösung gewaschen, über MgSO4 getrocknet und aufkonzentriert.

   Der Rückstand wird durch Säulenchromatografie an Kieselgel mit Essigsäureethylester-Hexan (20:80) als Elutionsmittel gereinigt. 



  Die Struktur wird durch das <1>H-NMR-Spektrum (CDCl3) bestätigt: 



   delta  [ppm]: 0,69 (t, 3H), 1,45 (t, 1H), 1,82-1,92 (m, 1H), 2,01-2,10 (m, 1H), 2,10-2,19 (m, 2H), 2,38 (s, 6H), 2,76 (dt, 2H), 3,16-3,23 (m, 2H), 3,88 (s, 3H), 4,20 (t, 3H), 6,84 (d, 1H), 7,16-7,28 (m, 5H), 7,93 (d, 1H), 8,20 (dd, 1H). 


 Beispiel 22: 2-(3-Mercaptomethylpiperidin-1-yl)-2-methyl-1-(4-methylthiophenyl)-propan-1-on 
 


 22a: 2-Brom-1-(4-methylthiophenyl)-2-methylpropan-1-on 
 



  149,2 g (0,77 Mol) 2-Methyl-1-[4-(methylthio)-phenyl]-propan-1-on, hergestellt durch Acylieren von Thioanisol (wie in EP-A-3 002 beschrieben), werden in 770 ml Methylenchlorid gelöst, 0,2 ml Chlorsulfonsäure und 123,0 g (0,77 Mol) Brom werden langsam tropfenweise unter Kühlen bei Raumtemperatur zu dieser Lösung gegeben. Nach Rühren über Nacht wird die Lösung aufkonzentriert und anschliessend wie nachstehend beschrieben weiter umgesetzt. 


 22b: 3-Dimethyl-2-methoxy-2-(4-methylthiophenyl)oxiran 
 



  47,6 g (0,88 Mol) Natriummethoxid werden in 180 ml trockenem Methanol gelöst und 201,4 g (0,74 Mol) 2-Brom-1-[4(methylthio)-Phenyl]-2-methylpropan-1-on, gelöst in einem Gemisch von 180 ml trockenem Methanol und 180 ml Chlorbenzol, werden tropfenweise zu dieser Lösung bei 20 DEG C gegeben. Das Methanol wird danach abdestilliert und die Chlorbenzollösung aufkonzentriert. Das flüssige Rohprodukt wird durch Destillation bei 90 DEG C und 0,15 mmHg weiter gereinigt. 


 22c: 2-(3-Hydroxymethylpiperidin-1-yl)-2-methyl-1-[4(methylthio)-phenyl]-propan-1-on 
 



  25,0 g (0,22 Mol) 3-Hydroxymethylpiperidin, 25,5 g (0,11 Mol) 3-Dimethyl-2-methoxy-2-[4-(methylthio)-phenyl]oxiran und 50 ml p-Xylol werden vermischt und auf Rückflusstemperatur erhitzt. Nach 20 Stunden wird das Lösungsmittel abdestilliert. Der Rückstand wird durch Säulenchromatografie an Kieselgel mit Essigsäureethylester-Hexan (20:80) als Elutionsmittel gereinigt und öliges Produkt wird erhalten. 



  Die Struktur wird durch das <1>H-NMR-Spektrum (CDCl3) bestätigt: 



   delta  [ppm]: 1,01-1,20 (m, 2H), 1,29 (s, 3H), 1,31 (s, 3H), 1,52-1,79 (m, 4H), 2,10 (m, 1H), 2,25 (m, 1H), 2,52 (s, 3H), 2,69 (m, 1H), 2,90 (m, 1H), 3,48 (m, 2H), 7,20 (d, 2H), 8,51 (d, 2H). 


 22d: 2-(3-Mercaptomethylpiperidin-1-yl)-2-methyl-1-[4(methylthio)-phenyl]-propan-1-on 
 



  10,2 g (0,33 Mol) 2-(3-Hydroxymethylpiperidin-1-yl-)2-methyl-1-[4-(methylthio)-phenyl]-propan-1-on und 10,5 g Triphenylphosphin werden in 60 ml Methylenchlorid gelöst. 13,3 g Tetrabromkohlenstoff werden in 15 ml Methylenchlorid gelöst und tropfenweise zu der vorstehend genannten Lösung bei 5 DEG C gegeben. Nach Rühren für 2 Stunden wird die erhaltene Lösung zu einer Aufschlämmung aufkonzentriert. Dieses Material wird durch Säulenchromatografie an Kieselgel mit Essigsäureethylester-Hexan (50:50) als Elutionsmittel gereinigt und ein öliges Produkt wird erhalten. Das erhaltene Material wird für die nächste Reaktion verwendet. 



  13,0 g des vorstehend genannten öligen Produkts werden in 80 ml trockenem Dimethylacetamid gelöst und 4,95 g Kaliumthioacetat werden zugegeben. Nach Rühren für 2,5 Stunden bei 50 DEG C wird das Reaktionsgemisch in Eiswasser gegossen und mit Essigsäureethylester extrahiert. Die vereinigte organische Schicht wird mit gesättigter Natriumchloridlösung gewaschen und über MgSO4 getrocknet. Das Lösungsmittel wird durch einen Verdampfer entfernt und das Rohöl wird durch Säulenchromatografie an Kieselgel mit Essigsäureethylester-Hexan (10:90) als Elutionsmittel weiter gereinigt und ein öliges Produkt wird erhalten. Das Produkt wird in 40 ml Ethanol gelöst und die Lösung wird zur Sauerstoffentfernung 10 Minuten mit Stickstoff durchblasen. Zu der Lösung werden 10 ml 2N Natriumhydroxidlösung gegeben und 1 Stunde bei 0 DEG C gerührt.

   Nachdem das Reaktionsgemisch durch Zugabe von 2N Salzsäurelösung neutralisiert wurde, wird die erhaltene Lösung in 10 ml Wasser gegossen und mit Essigsäureethylester extrahiert. Die organische Schicht wird mit Wasser und gesättigter Natriumchloridlösung gewaschen und über MgSO4 getrocknet. Nachdem Essigsäureethylester abdestilliert wurde, wird der Rückstand mithilfe von Säulenchromatografie an Kieselgel mit Essigsäureethylester-Hexan (5:95) als Elutionsmittel gereinigt und ein öliges Produkt wird erhalten. 



  Die Struktur wird durch das <1>H-NMR-Spektrum (CDCl3) bestätigt: 



   delta  [ppm]: 1,02 (m, 1H), 1,26 (t, 1H), 1,29 (s, 3H), 1,30 (s, 3H), 1,43-1,55 (m, 1H), 1,61-1,66 (m, 2H), 1,87 (m, 1H), 2,06 (m, 1H), 2,23 (m, 1H), 2,40 (t, 2H), 2,52 (s, 3H), 2,69 (m, 1H), 2,88 (d, 1H), 7,22 (d, 2H), 8,49 (d, 2H). 


 Beisipiel 23: 2-[4-(2-Mercaptoethyl)-piperidin-1-yl]-2-methyl-1-[4-(methylthio)-phenyl]-propan-1-on 
 


 23a: 2-[4-(2-Hydroxyethyl)-piperidin-1-yl]-2-methyl-1-[4-(methylthio)-phenyl]-propan-1-on 
 



  9,21 g (71,3 mMol) 4-Hydroxyethylpiperidin, 11,2 g (50,1 mMol) 3-Dimethyl-2-methoxy-2-[4-(methylthio)-phenyl]oxiran und 50 ml p-Xylol werden vermischt und auf Rückflusstemperatur erhitzt. Nach 20 Stunden wird das Lösungsmittel ab destilliert. Der Rückstand wird durch Säulenchromatografie an Kieselgel mit Essigsäureethylester-Hexan (30:70) als Elutionsmittel gereinigt und öliges Produkt wird erhalten. 



  Die Struktur wird durch das <1>H-NMR-Spektrum (CDCl3) bestätigt: 



   delta  [ppm]: 1,16-1,26 (m, 3H), 1,28 (s, 6H), 1,43 (m, 1H), 1,52 (q, 2H), 1,66 (d, 2H), 2,25 (t, 2H), 2,52 (s, 3H), 2,78 (d, 2H), 3,68 (t, 2H). 


 23b: 2-[4-(2-Mercaptoethyl)-piperidin-1-yl]-2-methyl-1-[4-(methylthio)-phenyl]-propan-1-on 
 



  9,81 g (30,5 mMol) 2-[4-(2-Hydroxyethyl)-piperidin-1-yl]-2-methyl-1-[4-(methylthio)-phenyl]-propan-1-on und 8,0 g Triphenylphosphin werden in 100 ml Methylenchlorid gelöst. 10,1 g Tetrabromkohlenstoff werden in 50 ml Methylenchlorid gelöst und tropfenweise zu der vorstehend genannten Lösung bei 5 DEG C gegeben. Nach Rühren für 1 Stunde wird die erhaltene Lösung zu einer Aufschlämmung aufkonzentriert, dieses Material wird durch Säulenchromatografie an Kieselgel mit Essigsäureethylester-Hexan (10:90) als Elutionsmittel gereinigt und ein öliges Produkt wird erhalten. Das erhaltene Material wird für die nächste Reaktion verwendet. 



  13,0 g des vorstehend genannten öligen Produkts werden in 100 ml trockenem Dimethylacetamid gelöst und 4,56 g Kaliumthioacetat werden zugegeben. Nach Rühren für 2,5 Stunden bei 50 DEG C wird das Reaktionsgemisch in Eiswasser gegossen und mit Essigsäureethylester extrahiert. Die vereinigten organischen Schichten werden mit gesättigter Natriumchloridlösung gewaschen und über MgSO4 getrocknet. Das Lösungsmittel wird durch einen Verdampfer entfernt und das Rohöl wird durch Säulenchromatografie an Kieselgel mit Essigsäureethylester-Hexan (10:90) als Elutionsmittel weiter gereinigt und ein öliges Produkt wird erhalten. Das Produkt wird in 40 ml Ethanol gelöst und die Lösung wird zur Sauerstoffentfernung für 10 Minuten mit Stickstoff durchblasen. Zu der Lösung werden 10 ml 2N Natriumhydroxidlösung gegeben und 1 Stunde bei 0 DEG C gerührt.

   Nachdem das Reaktionsgemisch durch Zugabe von 2N Salzsäurelösung neutralisiert wurde, wird die erhaltene Lö sung in 10 ml Wasser gegossen und mit Essigsäureethylester extrahiert. Die organische Schicht wird mit Wasser und gesättigter Natriumchloridlösung gewaschen und über MgSO4 getrocknet. Nachdem Essigsäureethylester abdestilliert wurde, wird der Rückstand mithilfe von Säulenchromatografie an Kieselgel mit Essigsäureethylester-Hexan (5:95) als Elutionsmittel gereinigt und ein öliges Produkt wird erhalten. 



  Die Struktur wird durch das <1>H-NMR-Spektrum (CDCl3) bestätigt: 



   delta  [ppm]: 1,16 (m, 2H), 1,28 (s, 6H), 1,31 (t, 1H), 1,42 (m, 1H), 1,56 (q, 2H), 1,63 (d, 2H), 2,24 (t, 2H), 2,52 (s, 3H), 2,53 (m, 2H), 2,79 (d, 2H), 7,21 (d, 2H), 8,53 (d, 2H). 


 Beispiel 24: 1-[4-(3-Mercaptopropoxy)-phenyl]-2-methyl-2-morpholin-4-yl-propan-1-on 
 


 24a: 1-[4-(3-Hydroxypropoxy)-phenyl]-2-methyl-2-morpholin-4-yl-propan-1-on 
 



  24,9 g (0,33 Mol) 1,3-Propanol werden in 50 ml trockenem Dimethylacetamid gelöst und 6,4 g Natriumhydrid (ca. 60% dispergiert in \l) werden portionsweise in einer solchen Geschwindigkeit zugegeben, dass die Temperatur bei 5 DEG C gehalten wird. 20,0 g (0,08 Mol) 1-(4-Fluorphenyl)-2-methyl-2-morpholin-4-yl-propan-1-on in 50 ml trockenem Dimethylacetamid werden tropfenweise über 8 Stunden zugegeben. Die Suspension wird weitere 17 Stunden gerührt, anschliessend wird das erhaltene Reaktionsgemisch in Eiswasser gegossen. Das Rohprodukt wird mit Essigsäureethylester extrahiert, mit gesättigter NaCl-Lösung gewaschen und über MgSO4 getrocknet. Danach wird Essigsäureethylester abdestilliert, der Rückstand mithilfe von Säulenchromatografie an Kieselgel mit Essigsäureethylester-Hexan (40:60) als Elutionsmittel gereinigt und ein öliges Produkt wird erhalten. 



  Die Struktur wird durch das <1>H-NMR-Spektrum (CDCl3) bestätigt: 



   delta  [ppm]: 1,31 (s, 6H), 1,85 (s, 1H), 1,87 (m, 2H), 2,57 (m, 4H), 3,69 (m, 4H), 3,87 (t, 2H), 4,19 (m, 2H), 6,90 (d, 2H), 8,59 (d, 2H). 


 24b: 1-[4-(3-Jodpropoxy)phenyl]-2-methyl-2-morpholin-4-yl-propan-1-on 
 



  16,2 g (53 mMol) 1-[4-(3-Hydroxypropoxy)phenyl]-2-methyl-2-morpholin-4-yl-propan-1-on, 8,97 g (132 mMol) Imidazol und 34,5 g (132 mMol) Triphenylphosphin werden in 150 ml Methylenchlorid gelöst. Zu der Lösung werden 27,0 g (106 mMol) Jod gegeben und 1 Stunde bei Raumtemperatur gerührt. 100 ml Methylenchlorid werden zu dem Reaktionsgemisch gegeben und mit wässeriger Natriumsulfitlösung und Wasser gewaschen und über MgSO4 getrocknet. Nach Abdestillieren des Methylenchlorids wird der Rückstand mithilfe von Säulenchromatografie an Kieselgel mit Essigsäureethylester-Hexan (1:3) als Elutionsmittel gereinigt und ein öliges Produkt wird erhalten. 



  Die Struktur wird durch das <1>H-NMR-Spektrum (CDCl3) bestätigt: 



   delta  [ppm]: 1,31 (s, 6H), 2,30 (m, 2H), 2,57 (m, 4H), 3,38 (t, 2H), 3,69 (m, 4H), 4,11 (t, 2H), 6,91 (d, 2H), 8,60 (d, 2H). 


 24c: 1-[4-(3-Mercaptopropoxy)-phenyl]-2-methyl-2-morpholin-4-yl-propan-1-on 
 



  12,5 g (29,9 mMol) 1-[4-(4-Jodpropoxy)-phenyl]-2-methyl-2-morpholin-4-yl-propan-1-on werden in 80 ml Dimethylacetamid gelöst. Zu der Lösung werden 4,47 g Kaliumthioacetat gegeben und das Gemisch wird auf 50 DEG C erwärmt. Nachdem das Reaktionsgemisch bei 50 Grad 4 Stunden gerührt wurde, wird es zu 100 ml Wasser gegossen und mit Essigsäureethylester extrahiert. Die organische Phase wird mit Wasser und gesättigter Natriumchloridlösung gewaschen, über MgSO4 getrocknet und unter Hinterlassen eines öligen Produkts aufkonzentriert. 3,71 g des erhaltenen Zwischenprodukts werden in 100 ml Ethanol gelöst und die Lösung wird zur Sauerstoffentfernung 30 Minuten mit Stickstoff durchblasen. Zu der Lösung werden 10 ml 2N Natriumhydroxidlösung gegeben und sie wird 30 Minuten bei 0 DEG C gerührt.

   Nachdem das Reaktionsgemisch durch Zugabe von 2N Salzsäurelösung neutralisiert wurde, wird die Lösung aufkonzentriert und mit Essigsäureethylester extrahiert. Die organische Phase wird mit Wasser und gesättigter Natriumchlorid lösung gewaschen und über MgSO4 getrocknet. Nachdem Essigsäureethylester abdestilliert wurde, wird der Rückstand mithilfe von Säulenchromatografie an Kieselgel mit Essigsäureethylester-Hexan (20:80) als Elutionsmittel gereinigt und ein öliges Produkt wird erhalten. 



  *Die Struktur wird durch das <1>H-NMR-Spektrum (CDCl3) bestätigt: 



   delta  [ppm]: 1,31 (s, 6H), 1,39 (t, 1H), 2,11 (m, 2H), 2,57 (m, 4H), 2,57 (m, 4H), 2,75 (q, 2H), 3,69 (m, 4H), 4,15 (m, 2H), 6,91 (d, 2H), 8,58 (d, 2H). 


 Beispiel 25: 1-[4-(3-Mercaptopropylthio)-phenyl]-2(3-mercaptomethylpiperidin-1-yl)-2-methyl-propan-1-on 
 


 25a: 1-(4-Chlorphenyl)-2-(3-hydroxymethylpiperidin-1-yl)-2-methyl-propan-1-on 
 



  24,3 g (0,22 Mol) 3-Hydroxymethylpiperidin, 23,2 g (0,11 Mol) 3-Dimethyl-2-methoxy-2-[4-chlorphenyl]oxiran und 50 ml p-Xylol werden vermischt und auf Rückflusstemperatur erhitzt. Nach 20 Stunden wird das Gemisch mit Wasser, gesättigter Natriumchloridlösung schrittweise gewaschen und anschliessend über MgSO4 getrocknet. Nach Abdestillieren des Lösungsmittels wird das Rohöl durch Säulenchromatografie an Kieselgel mit Essigsäureethylester-Hexan (30:80) als Elutionsmittel gereinigt und ein öliges Produkt wird erhalten. 



  Die Struktur wird durch das <1>H-NMR-Spektrum (CDCl3) bestätigt: 



   delta  [ppm]: 1,03 (m, 1H), 1,28 (m, 4H), 1,30 (s, 3H), 1,50 (m, 1H), 1,63 (m, 1H), 1,74 (m, 2H), 2,04 (t, 1H), 2,24 (m, 1H), 2,68 (d, 1H), 2,88 (d, 1H), 3,46 (m, 2H), 7,34 (d, 2H), 8,51 (d, 2H). 


 25b: 1-[4-(3-Hydroxypropylthio)-phenyl]-2-(3-hydroxymethylpiperidin-1-yl)-2-methyl-propan-1-on 
 



  22,4 g 1-(4-Chlorphenyl)-2-(3-hydroxymethylpiperidin-1-yl)-2-methylpropan-1-on, 8,39 g 3-Mercaptopropanol und 21,0 g Kaliumcarbonat werden in 75 ml trockenem Dimethylacetamid vermischt. Nach Rühren bei 80 DEG C für 18 Stunden wird das Gemisch zur Entfernung der Feststoffe filtriert und in Eiswas ser gegossen. Das Rohprodukt wird mit Essigsäureethylester extrahiert, mit gesättigter NaCl-Lösung gewaschen und über MgSO4 getrocknet. Nachdem Essigsäureethylester abdestilliert wurde, wird der Rückstand mithilfe von Säulenchromatografie an Kieselgel mit Essigsäureethylester-Hexan (40:60) als Elutionsmittel gereinigt und ein öliges Produkt wird erhalten. 



  Die Struktur wird durch das <1>H-NMR-Spektrum (CDCl3) bestätigt: 



   delta  [ppm]: 1,02 (m, 1H), 1,29 (s, 3H), 1,30 (s, 3H), 1,52-1,77 (m, 6H), 1,95 (m, 2H), 2,05 (t, 1H), 2,27 (t, 1H), 2,67 (d, 1H), 2,86 (d, 1H), 3,12 (t, 2H), 3,44 (m, 2H), 3,78 (m, 2H), 7,28 (d, 2H), 8,48 (d, 2H). 


 25c: Thioessigsäure-S-(1- 2-[4-(3-acetylthio-propylthio)-phenyl]-1,1-dimethyl-2-oxo-ethylÜ-piperidin-3-yl-
 methyl)ester 
 



  10,2 g (32,0 mMol) 1-[4-(3-Hydroxypropylthio)-phenyl -2-(3-hydroxymethylpiperidin-1-yl)-2-methylpropan-1-on und 20,1 g (76,8 mMol) Triphenylphosphin werden in 100 ml Methylenchlorid gelöst. 25,5 g Tetrabromkohlenstoff werden in 30 ml Methylenchlorid gelöst und tropfenweise zu der vorstehend genannten Lösung bei 5 DEG C gegeben. Nach Rühren für 1,5 Stunden wird die erhaltene Lösung zu einer Aufschlämmung aufkonzentriert, die durch Säulenchromatografie an Kieselgel mit Essigsäureethylester-Hexan (5:95) als Elutionsmittel gereinigt wird, und ein öliges Produkt wird erhalten. Das erhaltene Material wird für die nächste Reaktion verwendet. 11,1 g des vorstehend genannten, öligen Produkts werden in 90 ml trockenem Dimethylacetamid gelöst und 6,92 g Kaliumthioacetat werden in Portionen zugegeben.

   Nach Rühren bei 50 DEG C für 1 Stunde wird das Reaktionsgemisch in Eiswasser gegossen und mit Essigsäureethylester extrahiert. Die vereinigten organischen Schichten werden mit gesättigter Natriumchloridlösung gewaschen und über MgSO4 getrocknet. Das Lösungsmittel wird durch einen Verdampfer entfernt und das Rohöl durch Säulenchromatografie an Kieselgel mit Essigsäureethylester-Hexan (10:90) als Elutionsmittel gereinigt und ein öliges Produkt wird erhalten. 



  Die Struktur wird durch das <1>H-NMR-Spektrum (CDCl3) bestätigt: 



   delta  ÄppmÜ: 1,06 (m, 1H), 1,27 (s, 3H), 1,29 (s, 3H), 1,47 (m, 1H), 1,59 (m, 1H), 1,75 (m, 2H), 1,98 (m, 3H), 2,23 (m, 1H), 2,30 (s, 3H), 2,35 (s, 3H), 2,62 (d, 1H), 2,79 (m, 3H), 3,04 (m, 4H), 7,25 (d, 2H), 8,44 (d, 2H). 


 25d: 1-[4-(3-Mercaptopropylthio)-phenyl]-2-(3-mercaptomethylpiperidin-1-yl)-2-methylpropan-1-on 
 



  6,97 g (14,9 mMol) des Produkts von Beispiel 25c werden in einem Gemisch von 60 ml Ethanol und 10 ml Dimethylacetamid gelöst und die erhaltene Lösung wird zur Sauerstoffentfernung 10 Minuten mit Stickstoff durchblasen. Zu der Lösung werden 15 ml 2N Natriumhydroxidlösung gegeben und 15 Minuten bei 0 DEG C gerührt. Nachdem das Reaktionsgemisch durch Zugabe von 2N Salzsäurelösung neutralisiert wurde, wird Ethanol durch Destillation entfernt. Das Rohprodukt wird mit Essigsäureethylester extrahiert und die vereinigten organischen Schichten werden mit Wasser und gesättigter Natriumchloridlösung gewaschen und über MgSO4 getrocknet. Nachdem Essigsäureethylester abdestilliert wurde, wird der Rückstand mithilfe von Säulenchromatografie an Kieselgel mit Essigsäureethylester-Hexan (5:95) als Elutionsmittel gereinigt und ein öliges Produkt wird erhalten. 



  Die Struktur wird durch das <1>H-NMR-Spektrum (CDCl3) bestätigt: 



   delta  [ppm]: 1,02 (m, 1H), 1,21 (m, 1H), 1,28 (s, 3H), 1,30 (s,3H), 1,39 (t, 1H), 1,48 (m, 1H), 1,64 (m, 2H), 1,88 (m, 1H), 2,02 (m, 3H), 2,23 (m, 1H), 2,40 (t, 2H), 2,68 (m, 3H), 2,90 (d, 1H), 3,11 (t, 2H), 7,26 (2H, d), 8,48 (d, 2H). 


 Beispiel 26: 1-[4 min -(3-Mercaptopropylthio)-biphenyl-4yl]-2-methyl-2-morpholin-4-yl-propan-1-on 
 



  3,5 g (9,0 mMol) 1-(4 min -Brombiphenyl-4-yl)-2-methyl-2-morpholin-4-yl-propan-1-on (hergestellt durch das in EP-A-3002 beschriebene Verfahren) und 5,4 ml (54 mMol) 1,3-Propandithiol werden 50 ml Dimethylacetamid gelöst und die Lösung wird bei rund 140 DEG C zusammen mit 2,5 g Kaliumcarbonat für 2,5 Stunden gerührt. Danach wird die Lösung auf Raumtemperatur abgekühlt und in Wasser gegossen. Das Rohprodukt wird mit Methylenchlorid extrahiert, mit gesättigter Natriumchloridlösung gewaschen, über MgSO4 getrocknet und aufkonzentriert. Der Rückstand wird durch Säulenchromatografie an Kieselgel mit Essigsäureethylester-Hexan (10:90) als Elutionsmittel gereinigt. 



  Die Struktur wird durch das <1>H-NMR-Spektrum (CDCl3) bestätigt: 



   delta  [ppm]: 1,35 (s, 6H), 1,38 (t, 1H), 1,98 (tt, 2H), 2,61 (t, 4H), 2,69 (dt, 2H), 3,11 (t, 2H), 3,72 (t, 4H), 7,42 (d, 2H), 7,51 (d, 2H), 7,62 (d, 2H), 8,63 (d, 2H). 


 Beisipiel 27: 2-Benzyl-2-dimethylamino-1-[4 min -(3-mercaptopropylthio)-biphenyl-4-yl]-butan-1-on 
 



  9,2 mMol Natriumhydrid werden in 40 ml trockenem Dimethylformamid suspendiert und 2,3 ml (23 mMol) 1,3-Propandithiol werden tropfenweise zugegeben. Dann werden 2,0 g (4,6 mMol) 2-Benzyl-1-(4 min -brombiphenyl-4-yl)-2-dimethylaminobutan-1-on (hergestellt durch das in US-A-5 534 629 beschriebene Verfahren) in 60 ml Dimethylformamid tropfenweise zugegeben. Nach Rühren der Lösung bei 100 DEG C für 2 Stunden wird die Lösung in Wasser gegossen. Das Rohprodukt wird mit Methylenchlorid extrahiert, mit Wasser gewaschen, über MgSO4 getrocknet und aufkonzentriert. Der Rückstand wird durch Säulenchromatografie an Kieselgel mit Essigsäureethylester-Hexan (10:90) als Elutionsmittel gereinigt. 



  Die Struktur des Produkts wird durch das <1>H-NMR-Spektrum (CDCl3) bestätigt: 



   delta  [ppm]: 0,72 (t, 3H), 1,37 (t, 1H), 1, 84-2,01 (m, 3H), 2,09 (dq, 1H), 2,40 (s, 6H), 2,68 (dt, 2H), 3,10 (t, 2H), 3,23 (s, 2H), 7,15-7,29 (m, 5H), 7,41 (d, 2H), 7,55-7,62 (m, 4H), 8,41 (d, 2H). 


 Beispiel 28: 
 



  Eine fotohärtbare Formulierung wird durch Mischen nachstehender Komponenten hergestellt: 
<tb><TABLE> Columns=2 
<tb><SEP>10,0 g<SEP>Dipentaerythritmonohydroxypentaacrylat, < TM >SR 399, Sartomer Co., Berkshire, GB
<tb><CEL AL=L>15,0 g<SEP>Tripropylenglycoldiacrylat, Sartomer Co., Berkshire, GB
<tb><SEP>15,0 g<SEP>N-Vinylpyrrolidon, Fluka
<tb><SEP>10,0 g<SEP>Trimethylolpropantriacrylat, Degussa
<tb><SEP>50,0 g<SEP>Urethanacrylat < TM >Actylan AJ20, Société Nationale des Poudres et Explosifs
<tb><SEP>0,3 g<SEP>Egalisierhilfe < TM >Byk 300, Byk-Mallinckrodt 
<tb></TABLE> 



  Teile dieser Zusammensetzung werden, bezogen auf die Gesamtmenge der Formulierung, mit 2% Fotostarter von Beispiel 1 vermischt. 



  Alle Vorgänge werden unter rotem Licht ausgeführt. Die Proben, zu denen der Fotostarter gegeben wurde, werden auf eine 300 mu m dicke Aluminiumfolie aufgetragen. Die Dicke des trockenen Films beträgt 60  mu m. Auf diesen Film wird eine 76  mu m dicke Polyesterfolie aufgelegt, auf der ein standardisiertes Testnegativ mit 21 Stufen unterschiedlicher optischer Dichte/Schwärzung (Stouffer-Keil) angeordnet wird. Die Probe wird mit einem zweiten UV-durchlässigen Film bedeckt und durch Vakuum an eine Metallplatte angedrückt. Die Belichtung wird in einer ersten Versuchsreihe für 5 Sekunden, in einer zweiten Versuchsreihe für 10 Sekunden und in einer dritten Versuchsreihe für 20 Sekunden unter Verwendung einer Xenonlampe mit 4 kW bei einem Abstand von 30 cm ausgeführt.

   Nach der Belichtung werden die Abdeckfolien und die Maske entfernt und der belichtete Film wird in Ethanol im Ultraschallbad bei 23 DEG C 10 Sekunden entwickelt. Trocknen wird bei 40 DEG C in einem Konvektionsofen für 5 Minuten ausgeführt. Die Empfindlichkeit des verwendeten Startersystems wird durch Angabe der letzten Keilstufe, die ohne Klebrigkeit reproduziert (das heisst polymerisiert) wurde, charakterisiert. Je höher die Zahl der Stufen, desto empfindlicher ist das geprüfte System. 



  Ein weiterer Test wird unter Verwendung derselben Formulierung, jedoch unter Zugabe von zusätzlichen 0,2% eines Gemisches von 2-Isopropylthioxanthon und 4-Isopropylthioxanthon (< TM >Quantacure ITX, International Biosynthetics) ausgeführt. 



  Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 zusammengefasst. 
<tb><TABLE> Columns=4 Tabelle 1 
<tb>Head Col 1: Verbindung von Beispiel 
<tb>Head Col 2 to 4 AL=L: Zahl der Stufen, reproduziert nach Belichtungszeit von 
<tb>Head Col 2 AL=L: 5 s 
<tb>Head Col 2: 10 s 
<tb>Head Col 3: 20 s
<tb><SEP>1<SEP>8<SEP>8<SEP>13
<tb><SEP>1 + ITX<SEP>12<SEP>13<SEP>14 
<tb></TABLE> 


 Beispiel 29 
 



  Eine fotohärtbare Formulierung wird durch Vermischen der nachstehenden Komponenten hergestellt: 
<tb><TABLE> Columns=3 
<tb><SEP>150,30 g<SEP>< TM >Scripset 540 (30%-ige Lösung eines Polystyrol-Maleinsäureanhydrid-
 Copolymers in Aceton); Monsanto<SEP>45,1 g
<tb><SEP>48,30 g<SEP>Trimethylolpropantriacrylat<SEP>48,3 g
<tb><CEL AL=L>6,60 g<SEP>Polyethylenglycoldiacrylat<SEP>6,6 g
<tb><SEP>100,0 g
<tb><SEP>feste Bestandteile 
<tb></TABLE> 



  Teile dieser Zusammensetzung werden, bezogen auf die Gesamtmenge der Formulierung, mit 2% Fotostarter von Beispiel 1 vermischt. 



  Alle Vorgänge werden unter rotem Licht ausgeführt. Die Proben, zu denen der Fotostarter gegeben wurde, werden auf eine 200 mu m dicke Aluminiumfolie aufgetragen (10 x 15 cm). Das Lösungsmittel wird unter Erwärmen auf 60 DEG C für 15 Minuten in einem Konvektionsofen verdampft. Auf den so hergestellten Film wird eine 76  mu m dicke Polyesterfolie aufgelegt, auf der ein standardisiertes Testnegativ mit 21 Stufen unterschiedlicher optischer Dichte/Schwärzung (Stouffer-Keil) angeordnet wird. Die Probe wird mit einem zweiten, UV-durchlässigen Film bedeckt und durch Vakuum an eine Metallplatte angedrückt. Die Belichtung wird 40 Sekunden unter Verwendung einer MO61/5-KW-Lampe bei einem Abstand von 30 cm ausgeführt.

   Nach der Belichtung werden die Abdeckfolien und die Maske entfernt und der belichtete Film wird in einer wässerigen 0,85%igen Na2CO3-Lösung in einem Ultraschallbad 120 Sekunden entwickelt. Trocknen wird bei 40 DEG C in einem Konvektionsofen für 5 Minuten ausgeführt. Die Empfindlichkeit des verwendeten Startersystems wird durch Angabe der letzten Keilstufe, die ohne Klebrigkeit reproduziert (das heisst polymerisiert) wurde, charakterisiert. Je höher die Zahl der Stufen, desto empfindlicher ist das geprüfte System. Mit dem Fotostarter von Beispiel 1 wird eine Stufenzahl von 11 in dem vorstehend beschriebenen Test erreicht. 


 Beispiel 30 
 



  Eine fotohärtbare Masse wird durch Vermischen der nachstehenden Komponenten hergestellt: 
<tb><TABLE> Columns=2 
<tb><SEP>37,64 g<SEP>< TM >Sartomer SR 444, Pentaerythrittriacrylat, (Sartomer Company, Westchester)
<tb><SEP>10,76 g<SEP>< TM >Cymel 301, Hexamethoxymethylmelamin (American Cyanamid, USA)
<tb><CEL AL=L>47,30 g<SEP>< TM >Carboset 525, thermoplastisches Polyacrylat, das Carboxylgruppen enthält (B. F. Goodrich)
<tb><SEP>4,30 g<SEP>Polyvinylpyrrolidon PVP (GAF, USA)
<tb><SEP>100,00 g<SEP>dieser Masse werden vermischt mit
<tb><SEP>319,00 g<SEP>Methylenchlorid und
<tb><SEP>30,00 g<SEP>Methanol. 
<tb></TABLE> 



  Proben dieser Zusammensetzung werden durch Rühren bei Raumtemperatur für eine Stunde mit 2% Fotostarter von Beispiel 1, bezogen auf den Feststoffgehalt, vermischt. Alle Vorgänge werden unter rotem Licht ausgeführt. Die Proben, zu denen der Starter zugegeben wurde, werden auf eine 300  mu m dicke Aluminiumfolie aufgetragen (10 x 15 cm). Das Lösungsmittel wird durch zunächst Trocknen bei Raumtemperatur für 5 Minuten und dann Erhitzen auf 60 DEG C für 15 Minuten in einem Konvektionsofen entfernt, zu einer Trockenfilmdicke von 35  mu m. Eine 76 mu m dicke Polyesterfolie wird auf dem flüssigen Film angeordnet und ein standardisiertes Testnegativ mit 21 Stufen unterschiedlicher optischer Dichte/Schwärzung (Stouffer-Keil) wird darüber angeordnet. Die Probe wird mit einem zweiten UV-durchlässigen Film bedeckt und wird durch Vakuum an eine Metallplatte angedrückt.

   Die Probe wird dann 10 Sekunden in der ersten Testreihe, 20 Sekunden in der zweiten, Reihe und 40 Sekunden in der dritten Reihe unter Verwendung einer Xenonlampe mit 4 kW und bei einem Abstand von 30 cm belichtet. Nach der Belichtung werden die Abdeckfolien und die Maske entfernt und der belichtete Film wird 240 Sekunden mit 1%iger wässeriger Natriumcarbonatlösung in einem Ultraschallbad entwickelt und dann bei 60 DEG C in einem Konvektionsofen für 15 Minuten getrocknet. Die Empfindlichkeit des verwendeten Startersystems wird durch Angabe der letzten Keilstufe, die ohne Klebrigkeit reproduziert wurde, charakterisiert. Je höher die Zahl der Stufen, desto empfindlicher ist das System. 



  Eine weitere Testreihe wird bereitgestellt, unter Anwendung derselben Formulierung, jedoch durch Zugabe von, zusätzlichen 0,2% eines Gemisches von 2-Isopropylthioxanthon und 4-Isopropylthioxanthon (< TM >Quantacure ITX, International Biosynthetics). 



  Die Ergebnisse sind in Tabelle 2 zusammengefasst. 
<tb><TABLE> Columns=4 Tabelle 2 
<tb>Head Col 1: Verbindung von Beispiel 
<tb>Head Col 2 to 4 AL=L: Zahl der Stufen, reproduziert nach Belichtungszeit von 
<tb>Head Col 2 AL=L: 10 s 
<tb>Head Col 2: 20 s 
<tb>Head Col 3: 40 s
<tb><SEP>1<SEP>10<SEP>13<SEP>15
<tb><SEP>1 + ITX<SEP>14<SEP>15<CEL AL=L>17 
<tb></TABLE> 


 Beispiel 31 
 



  Eine fotohärtbare Formulierung für Sensibilitätstests wird durch Vermischen der nachstehenden Komponenten hergestellt. 
<tb><TABLE> Columns=2 
<tb><SEP>200 Gewichtsteile<SEP>acryliertes Acrylcopolymer ACA200M, hergestellt von Daicel Industries, Ltd. 
<tb><SEP>15 Gewichtsteile<SEP>Dipentaerythrithexaacrylat (DPHA), bereitgestellt von UCB Chemicals
<tb><SEP>15 Gewichtsteile<SEP>des zu prüfenden Fotostarters 
<tb></TABLE> 



  Alle Vorgänge werden unter gelbem Licht ausgeführt. Die Formulierungen werden auf eine Aluminiumplatte aufgetragen. Das Lösungsmittel wird durch Erhitzen auf 80 DEG C für 15 Minuten in einem Konvektionsofen entfernt. Die Dicke des trockenen Films ist 25  mu m. Auf diese Beschichtung wird eine Acetatfolie aufgelegt, über die ein standardisiertes Testnegativ mit 21 Stufen unterschiedlicher optischer Dichte/Schwärzung (Stouffer-Keil) angeordnet wird. Die Probe wird mit einem zweiten UV-durchlässigen Film bedeckt und durch Vakuum an eine Metallplatte angedrückt. Die Belichtung wird.in einer ersten Testserie für 10 Sekunden, in einer zweiten Serie für 20 Sekunden und in einer dritten Serie für 40 Sekunden unter Verwendung einer Metallhalogenidlampe mit 3 kW bei einem Abstand von 60 cm ausgeführt.

   Nach der Belichtung werden die Bedeckungsfilme und die Maske entfernt und der belichtete Film wird in 1%iger wässeriger Natriumcarbonatlösung für 240 Sekunden bei 30 DEG C in einem Ultraschallbad entwickelt. Die Empfindlichkeit des verwendeten Startersystems wird durch Angabe der letzten Keilstufe, die ohne Klebrigkeit reproduziert (das heisst polymerisiert) wurde, charakterisiert. Je höher die Zahl der Stufen, desto empfindlicher ist das geprüfte System. 



  Eine weitere Testreihe wird bereitgestellt durch Zugabe eines Gemisches von 2-Isopropylthioxanthon und 4-Isopropylthioxanthon (< TM >Quantacure ITX, International Biosynthetics) zu der vorstehend beschriebenen Formulierung. 
<tb><TABLE> Columns=2 
<tb><SEP>200 Gewichtsteile<SEP>acryliertes Acrylcopolymer ACA200M, hergestellt von Daicel Industries, Ltd.
<tb><SEP>15 Gewichtsteile<SEP>Dipentaerythrithexaacrylat (DPHA), bereit gestellt von UCB Chemicals
<tb><SEP>15 Gewichtsteile<SEP>des zu prüfenden Fotostarters
<tb><SEP>1 Gewichtsteil<CEL AL=L>< TM >Quantacure ITX, bereitgestellt von International Biosynthetics. 
<tb></TABLE> 



  Die Testergebnisse sind in Tabelle 3 zusammengefasst. 
<tb><TABLE> Columns=4 Tabelle 3 
<tb>Head Col 1: Photostarter von Beispiel 
<tb>Head Col 2 to 4 AL=L: Zahl der Stufen, reproduziert nach Belichtungszeit von 
<tb>Head Col 2 AL=L: 10 s 
<tb>Head Col 2: 20 s 
<tb>Head Col 3: 40 s
<tb><SEP>11<SEP>8<SEP>11<SEP>13
<tb><SEP>11 + ITX<SEP>10<SEP>13<CEL AL=L>15
<tb><SEP>12<SEP>9<SEP>11<SEP>13
<tb><SEP>12 + ITX<SEP>10<SEP>12<SEP>14
<tb><CEL AL=L>21<SEP>9<SEP>11<SEP>13
<tb><SEP>21 + ITX<SEP>10<SEP> 12<SEP>14
<tb><SEP>A<CEL AL=L>7<SEP>10<SEP>12
<tb><SEP>A + ITX<SEP>10<SEP>12<SEP>14
<tb><SEP>B<SEP>4<SEP>6<CEL AL=L>8
<tb><SEP>B + ITX<SEP>7<SEP>9<SEP>11 
<tb></TABLE> 


 Verbindung A: 
 
EMI76.1
 
 


 Verbindung B: 
 
EMI76.2

Claims (18)

1. Verbindungen der Formeln I, II, III und IV EMI77.1 EMI77.2 worin a eine ganze Zahl von 1, 2 oder 4 darstellt; Ar eine Phenyl-, Biphenyl- oder Benzoylphenylgruppe darstellt, wobei die Phenyl-, Biphenyl- oder Benzoylphenylgruppe unsubstituiert oder mit 1 bis 5 der Reste Halogen, C1C12-Alkyl, C3-C12-Alkenyl, C5-C6-Cycloalkyl, Phenyl-C1-C3-alkyl, -COOH, -COO(C1-C4-Alkyl), -OR7, -SH, -SR8, -SOR8, -SO2R8, -CN, -SO2NH2, -SO2NH(C1-C4-Alkyl), -SO2-N(C1-C4-Alkyl)2, -NR9R10, -NHCOR9 oder mit einer Gruppe der Formel V EMI77.3 substituiert ist oder Ar eine Gruppe der Formel VI oder VII EMI77.4 EMI77.5 ist; Ar1, wenn a 1 ist, dieselben Bedeutungen wie Ar aufweist;
wenn a 2 ist, Ar1 einen zweiwertigen aromatischen Rest der Formel VIII oder VIIIa EMI78.1 darstellt; wenn a 4 ist, Ar1 einen vierwertigen aromatischen Rest der Formel VIIIb EMI78.2 darstellt; Ar2 EMI78.3 darstellt, wobei diese Gruppen unsubstituiert oder mit 1 bis 5 der Reste Halogen, C1-C12-Alkyl, C3-C12-Alkenyl, C5-C6-Cycloalkyl, Phenyl-C1-C3-alkyl, -COOH, -COO(C1-C4-Alkyl), -OR7, -SH, -SR8, -SOR8, -SO2R8, -CN, -SO2NH2, -SO2NH(C1-C4-Alkyl), -SO2-N(C1-C4-Alkyl)2, -NR9R10, -NHCOR9 oder mit einer wie vorstehend definierten Gruppe der Formel V substituiert sind, oder Ar2 eine Gruppe der Formel VIa oder Vlla EMI78.4 EMI78.5 darstellt; X eine direkte Bindung, -O-, -S- oder -N(R6)- darstellt;
Y Wasserstoff, C1-C12-Alkyl, unsubstituiert oder substituiert mit 1 bis 5 OH, OR6, COOR6, SH, N(R6)2 oder Halogen oder 1- bis 5-mal substituiert mit einer Gruppe der Formel Ia EMI79.1 darstellt, oder Y C2-C20-Alkyl, unterbrochen durch 1 bis 9-O-, -N(R6)-, -S-, -SS-, -X-C(=O)-, -X-C(=S), -C(=O)-X-, -X-C(=O)-X-, -C(=S)-X-, EMI79.2 wobei die unterbrochene C2-C21-Alkylgruppe zusätzlich mit 1 bis 5 SH substituiert sein kann, darstellt oder Y Benzyl, unsubstituiert oder einmal oder zweimal mit -CH2SH substituiert, darstellt und die Benzylgruppe zusätzlich mit 1 bis 4 C1-C4-Alkyl substituiert sein kann oder Y Ar (wie vorstehend definiert) oder eine Gruppe EMI79.3 oder EMI79.4 darstellt oder Y einen heterocyclischen 5- bis 7-gliedrigen aliphatischen oder aromatischen Ring, umfassend 1 bis 4 N-, O- oder/und S-Atome,
darstellt oder Y ein 8- bis 12-gliedriges bicyclisches, aliphatisches oder aromatisches Ringsystem, umfassend 1 bis 6 N-, O- oder/und S-Atome, darstellt, dessen mono- oder bicyclische Ringe zusätzlich mit SH oder 1- bis 5-mal mit einer Gruppe der Formel Ia substituiert sein können, oder Y eine Gruppe EMI80.1 EMI80.2 EMI80.3 EMI80.4 oder EMI80.5 darstellt; q 1 oder 2 ist; r 1, 2 oder 3 ist; p 0 oder 1 ist; t 1 bis 6 ist; u 2 oder 3 ist;
R1 und R2 unabhängig voneinander C1-C8-Alkyl, unsubstituiert oder substituiert mit OH, C1-C4-Alkoxy, SH, CN, -COO(C1-C8-Alkyl), (C1-C4-Alkyl)-COO- oder -N(R3)(R4), darstellen oder R1 und R2 unabhängig voneinander C3-C6-Alkenyl, Phenyl, Chlorphenyl, R7-O-Phenyl, R8-S-Phenyl oder Phenyl-C1C3-alkyl, worin die C3-C6-Alkenyl-, Phenyl-, Chlorphenyl-, R7-O-Phenyl-, R8-S-Phenyl- oder Phenyl-C2-C3-alkylgruppen, unsubstituiert oder mit 1 bis 5 SH substituiert sind, darstellen oder R1 und R2 zusammen unverzweigt oder verzweigt C2-C9-Alkylen, C3-C9-Oxaalkylen oder C3-C9-Azaalkylen bedeuten, wobei die C2-C9-Alkylen-, C3-C9-Oxaalkylen- oder C3-C9-Azaalkylengruppen, unsubstituiert oder mit 1 bis 5 SH substi tuiert sind oder R1 und R2 unabhängig voneinander einen Rest der Formel IX oder X EMI81.1 darstellen, R3 Wasserstoff, C1-C12-Alkyl, C2-C4-Alkyl, substituiert mit OH, SH,
C1-C4-Alkoxy, CN oder -COO(C1-C4-Alkyl), darstellt oder R3 C3-C5-Alkenyl, C5-C12-Cycloalkyl oder Phenyl-C1-C3-alkyl darstellt; R4 C1-C12-Alkyl, C2-C4-Alkyl, substituiert mit OH, SH, C1-C4-Alkoxy, CN oder -COO(C1-C4-Alkyl), darstellt oder R4 C3-C5-Alkenyl, C5-C12-Cycloalkyl, Phenyl-C1-C3-alkyl, Phenyl, unsubstituiert oder Phenyl, substituiert mit Halogen, C1-C12-Alkyl, C1-C4-Alkoxy oder -COO(C1-C4-Alkyl), darstellt; oder R4 zusammen mit R2 C1-C7-Alkylen, Phenyl-C1-C4-alkylen, Phenyl-1,2-dimethylen, 2-Butenylen oder C2-C3-Oxaalkylen oder C2-C3-Azaalkylen darstellt; oder R3 und R4 zusammen eine C3-C7-Alkylengruppe, die durch -O-, -S-, -CO- oder -N(R6)- unterbrochen sein kann und wobei die C3-C-7-Alkylengruppe mit OH, SH, C1-C4-Alkoxy oder -COO(C1-C4-Alkyl) substituiert sein kann, darstellen;
R5 C1-C6-Alkylen, Xylylen, Cyclohexylen, worin die C1-C6-Alkylen-, Xylylen-, Cyclohexylengruppen unsubstituiert oder mit 1 bis 5 SH substituiert sind, darstellt oder R5 eine direkte Bindung darstellt; R6 Wasserstoff, eine unsubstituierte oder mit OH, SH oder HS-(CH2)q-COO substituierte C1-C12-Alkylgruppe, eine C2C12-Alkylgruppe, die durch -O-, -NH- oder -S- unterbrochen ist, darstellt oder R6 C3-C5-Alkenyl, Phenyl-C1-C3-alkyl, CH2CH2CN, eine unsubstituierte oder mit OH oder SH substituierte Gruppe C1-C4-Alkyl-CO-CH2CH2-, eine unsubstituierte oder mit OH oder SH substituierte C2-C8-Alkanoylgruppe darstellt oder R6 Benzoyl darstellt; Z einen zweiwertigen Rest der Formel EMI81.2 -N(R17)- oder -N(R17)-R18-N(R17)- darstellt;
U eine unverzweigte oder verzweigte C1-C7-Alkylengruppe darstellt; V und W unabhängig voneinander eine direkte Bindung, -O-, -S- oder -N(R6)- darstellen, mit der Massgabe, dass V und W nicht beide gleichzeitig eine direkte Bindung darstellen; M O, S oder N(R6) darstellt; R7 Wasserstoff, C1-C12-Alkyl, C3-C12-Alkenyl, Cyclohexyl, Hydroxycyclohexyl darstellt oder R7 C1-C4-Alkyl, mono- oder polysubstituiert mit Cl, Br, CN, SH, -N(C1-C4-Alkyl)2, Piperidino, Morpholino, OH, C1-C4-Alkoxy, -OCH2CH2CN, -OCH2CH2COO(C1-C4-Alkyl), -OOCR19, -COOH, -COO(C1-C8-Alkyl), -CONH(C1-C4-Alkyl) -CON(C1-C4-Alkyl)2, EMI82.1 -CO(C1-C4-Alkyl) oder EMI82.2 darstellt oder R7 2,3-Epoxypropyl, -(CH2CH2O)mH, Phenyl, unsubstituiert oder Phenyl, substituiert mit Halogen, C1-C4-Alkyl, C1-C4-Alkoxy oder -COO(C1-C4-Alkyl), darstellt oder R7 Phenyl-C1-C3-alkyl, Tetrahydropyranyl, Tetrahydrofuranyl,
-COOR19, -COO(C1-C8-Alkyl), -CONH(C1-C4-Alkyl), -CON(C1-C8-Alkyl)2, -Si(R20)(R21)2 oder -SO2R22 darstellt; R8 C1-C12-Alkyl, C3-C12-Alkenyl, Cyclohexyl, Hydroxycyclohexyl darstellt oder R8 C1-C4-Alkyl, mono- oder polysubstituiert mit Cl, Br, CN, SH, -N(C1-C4-Alkyl)2, Piperidino, Morpholino, OH, C1-C4-Alkoxy, -OCH2CH2CN, -OCH2CH2COO(C1-C4-Alkyl), -OOCR19, -COOH, -COO(C1-C8-Alkyl), -CON(C1-C4-Alkyl)2, EMI82.3 -CO(C1-C4-Alkyl) oder EMI82.4 darstellt, oder R8 2,3-Epoxypropyl, Phenyl-C1-C3-alkyl, Phenyl-C1-C3-hydroxyalkyl, Phenyl, unsubstituiert oder Phenyl, mono- oder polysubstituiert mit Halogen, SH, C1-C4-Alkyl, C1-C4-Alkoxy oder -COO(C1-C4-Alkyl), darstellt oder R8 2-Benzothiazyl, 2-Benzimidazolyl, -CH2CH2-O-CH2CH2-SH oder -CH2CH2-S-CH2CH2-SH darstellt;
R9 und R10 unabhängig voneinander Wasserstoff, C1-C12-Alkyl, C2-C4-Alkyl, substituiert mit OH, SH, C1-C4-Alk oxy, CN oder -COO(C1-C4-Alkyl), darstellen oder R9 und R10 unabhängig voneinander C3-C5-Alkenyl, Cyclohexyl, Phenyl-C1-C3-alkyl, Phenyl, unsubstituiert oder Phenyl, mono- oder polysubstituiert mit C1-C12-Alkyl oder Halogen, darstellen oder R9 und R10 zusammen eine C2-C7-Alkylengruppe, die durch -O-, -S- oder -N(R18)- unterbrochen sein kann, darstellen; R11 und R12 unabhängig voneinander eine direkte Bindung, -CH2-, -CH2CH2-, -O-, -S-, -CO- oder -N(R6)- darstellen, mit der Massgabe, dass R11 und R12 nicht gleichzeitig eine direkte Bindung darstellen; R13 Wasserstoff, C1-C8-Alkyl oder Phenyl, wobei C1-C8-Alkyl oder Phenyl, unsubstituiert oder mit 1 bis 5 SH substituiert sind, darstellt;
R14, R15 und R16 unabhängig voneinander Wasserstoff oder C1-C4-Alkyl, unsubstituiert oder mit SH substituiert, darstellen; R17 Wasserstoff, C1-C8-Alkyl, unsubstituiert oder mit SH substituiert oder Phenyl, unsubstituiert oder mit SH substituiert, darstellt; R18 eine unverzweigte oder verzweigte C2-C16-Alkylengruppe, die durch 1 bis 6 -O-, -S- oder -N(R17)- unterbrochen oder mit 1 bis 5 Gruppen SH substituiert sein kann, darstellt; R19 C1-C4-Alkyl, C2-C4-Alkenyl oder Phenyl darstellt; R20 und R21 unabhängig voneinander C1-C4-Alkyl oder Phenyl darstellen; R22 C1-C18-Alkyl, Phenyl oder Phenyl, substituiert mit C1-C14-Alkyl, darstellt;
Ar3 Phenyl, Naphthyl, Furyl, Thienyl oder Pyridyl, worin die Reste unsubstituiert oder mit Halogen, SH, OH, C1-C12-Alkyl, C1-C4-Alkyl, substituiert mit OH, Halogen, SH, -N(R17)2, C1-C12-Alkoxy, -COO(C1-C18-Alkyl), -CO(OCH2CH2)nOCH3 oder -OCO(C1-C4-Alkyl) substituiert sind oder die Reste mit C1- C12-Alkoxy, C1-C4-Alkoxy, substituiert mit -COO(C1-C18-Alkyl) oder -CO(OCH2CH2)nOCH3, substituiert sind oder die Reste mit -(OCH2CH2)nOH, -(OCH2CH2)nOCH3, C1-C8-Alkylthio, Phenoxy, -COO(C1-C18-Alkyl), -CO(OCH2CH2)nOCH3, Phenyl oder Benzoyl substituiert sind, darstellt; n 1 bis 20 ist; m 2 bis 20 ist; mit der Massgabe, dass mindestens einer der Reste Ar, Ar1, Ar2, Ar3, R1, R2, R3, R4, R5 oder Y mit 1 bis 5 Gruppen SH substituiert ist, oder mit der Massgabe, dass Y mindestens eine Gruppe -SS- enthält;
und mit der Massgabe, dass, wenn R3 und R4 Morpholino darstellen und R1 und R2 gleichzeitig Methyl darstellen, Ar1 nicht Phenyl, substituiert mit SR8 darstellt, wobei R8 -CH2CH2-O-CH2CH2SH darstellt; und mit der Massgabe, dass, wenn R3 und R4 Morpholino darstellen und R1 und R2 gleichzeitig Methyl darstellen und Ar2 Phenylen darstellt und X S darstellt, Y kein Wasserstoffatom oder -CH2CH2-O-CH2CH2-SH darstellt; oder ein Säureadditionssalz einer Verbindung der Formel I, II, III oder IV.
2. Verbindung nach Anspruch 1 der Formel II, worin a 1 ist.
3. Verbindung nach Anspruch 1, worin Ar2 EMI84.1 darstellt, X S darstellt und Y Ar, substituiert mit SR8 oder OR7, darstellt.
4.
Verbindung nach Anspruch 1, worin Y, substituiert mit 1 bis 5 SH, C1-C12-Alkyl, C2-C20-Alkyl, unterbrochen durch 1 bis 9 -S- oder -SS-, darstellt oder Y eine mit SH substituierte Phenyl-, Biphenyl- oder Benzoylphenylgruppe oder eine Gruppe EMI84.2 EMI84.3 oder EMI85.1 darstellt; und q 1 oder 2 ist; r 1, 2 oder 3 ist; p 0 oder 1 ist; t 1 bis 6 ist; und u 2 oder 3 ist.
5.
Verbindung der Formel I oder II nach Anspruch 1, worin a 1 ist; Ar1 eine Phenyl- oder Biphenylgruppe, wobei die Phenyl- oder Biphenylgruppe mit 1 bis 5 der Reste -OR7, -SH, -SR8, -NR9R10 substituiert ist, darstellt; Ar2 EMI85.2 oder EMI85.3 darstellt, wobei diese Gruppen unsubstituiert oder mit 1 bis 5 der Reste -OR7, -SH, -SR8, -NR9R10 substituiert sind; X -O-, -S- oder -N(R6)- darstellt; Y Wasserstoff, eine C1-C12-Alkylgruppe, unsubstituiert oder substituiert mit 1 bis 5 OH, SH, darstellt oder Y eine C2-C20-Alkylgruppe, die durch 1 bis 9 -O-, -S-, -X-C(=O)-, -C(=O)-X- unterbrochen ist, wobei die C2-C20-Alkylgruppe zusätzlich mit 1 bis 5 SH substituiert sein kann, darstellt oder Y eine Benzylgruppe, die einmal oder zweimal mit -CH2SH substituiert ist und diese Benzylgruppe zusätzlich mit 1 bis 4 C1-C4-Alkyl substituiert sein kann, darstellt;
R1 und R2 unabhängig voneinander C1-C8-Alkyl oder Phenyl darstellen oder R1 und R2 unabhängig voneinander einen Rest der Formel IX oder X EMI85.4 darstellen; R3 und R4 C1-C12-Alkyl darstellen oder R3 und R4 zusammen eine C3- C7-Alkylengruppe, die durch -O- unterbrochen sein kann und wobei die C3-C7-Alkylengruppe mit SH substituiert sein kann, darstellen; R7 C1-C12-Alkyl darstellt; R8 C1-C12-Alkyl darstellt oder R8 C1-C4-Alkyl, mono- oder polysubstituiert mit SH, darstellt oder R8 -CH2CH2-O-CH2CH2-SH oder -CH2CH2-S-CH2CH2-SH darstellt; R9 und R10 unabhängig voneinander Wasserstoff oder C2-C4-Alkyl, substituiert mit SH, darstellen; und R13, R14, R15 und R16 Wasserstoff darstellen.
6.
Masse, umfassend (a) mindestens eine ethylenisch ungesättigte fotopolymerisierbare Verbindung und (b) mindestens eine Verbindung der Formel I, II, III oder IV, wie in Anspruch 1 definiert.
7. Masse, umfassend (a) ein Polymer oder Oligomer mit mindestens ethylenisch ungesättigten Gruppen und mindestens einer Carboxylfunktion innerhalb der Molekülstruktur und (b) als Fotostarter mindestens eine Verbindung der Formel I, II, III oder IV, wie in Anspruch 1 definiert.
8. Masse nach Anspruch 6 oder 7, umfassend zusätzlich zu Komponenten (a) und (b) mindestens einen Costarter (c), insbesondere eine Thioxanthon- oder Ketocumarinverbindung.
9. Masse nach einem der Ansprüche 6 bis 8, umfassend zusätzlich zu Komponenten (a) und (b) und gegebenenfalls (c), mindestens einen weiteren Fotostarter (d) und/oder andere Additive.
10.
Masse nach Anspruch 9, umfassend als Fotostarter (d) ein Titanocen, ein Ferrocen, ein Benzophenon, einen Benzoinalkylether, ein Benzilketal, ein 4-Aroyl-1,3-dioxolan, ein Dialkoxyacetophenon, ein alpha -Hydroxy- oder ein weiteres alpha -Aminoacetophenon, ein alpha -Hydroxycycloalkylphenylketon, ein Xanthon, ein Thioxanthon, ein Anthrachinon oder ein Mono- oder Bisacylphosphinoxid oder Gemische davon.
11. Masse nach Anspruch 6 oder 7, umfassend zusätzlich zu Komponenten (a) und (b) mindestens eine Farbstoffboratverbindung und/oder ein Boratsalz und gegebenenfalls eine Oniumverbindung.
12. Masse nach einem der Ansprüche 6 bis 11, die, basierend auf der Masse, 0,05 bis 15 Gew.-%, insbesondere 0,2 bis 5 Gew.-% Komponente (b) oder wenn eine Komponente (d) vorliegt, Komponenten (b) und (d) zusammengenommen enthält.
13.
Druckfarbe, umfassend eine Masse nach Anspruch 6 oder 7 und ein Pigment oder einen Farbstoff.
14. Druckfarbe nach Anspruch 13, zusätzlich umfassend einen Sensibilisator, vorzugsweise ein Thioxanthon oder ein Derivat davon.
15. Verwendung einer Verbindung der Formel I, II, III oder IV, definiert in Anspruch 1, als Fotostarter zur Fotopolymerisation von ethylenisch ungesättigten Verbindungen.
16. Verfahren zur Fotopolymerisation von nichtflüchtigen monomeren, oligomeren oder polymeren Verbindungen, die mindestens eine ethylenisch ungesättigte Doppelbindung enthalten, das die Zugabe mindestens einer Verbindung der Formel I, II, III oder IV nach Anspruch 1 zu den Verbindungen und Bestrahlen der erhaltenen Masse mit Licht mit einer Wellenlänge im Bereich von 200 nm bis 600 nm umfasst.
17.
Verwendung einer Masse nach einem der Ansprüche 6 bis 12, zur Herstellung pigmentierter und nicht pigmentierter Anstrichstoffe und Lacke, zur Herstellung von durchsichtigen und pigmentierten wässerigen Dispersionen, Pulverbeschichtungen, Druckfarben, Druckplatten, Klebstoffen, Dentalfüllmassen, Lichtleitern, optischen Schaltern, Farbprüfabzugssystemen, Beschichtungen für Glasfaserkabel, Siebdruckschablonen, Resistmaterialien, Verbundwerkstoffe, für fotografische Reproduktionen, zur Herstellung von Masken für Siebdruck, für Fotoresists für gedruckte elektronische Schaltungen, zum Einkapseln von elektrischen und elektronischen Komponenten, zur Herstellung magnetischer Aufzeichnungsmaterialien, zur Herstellung dreidimensionaler Gegenstände durch Stereolithografie oder Massehärtung und als Bildaufzeichnungsmaterial, insbesondere für holografische Aufzeichnungen.
18.
Beschichtetes Substrat, das auf mindestens einer Oberfläche mit einer Masse nach einem der Ansprüche 6 bis 12 beschichtet ist.
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