RU2009115962A - Фотолатентные основания для систем, основанных на блокированных изоцианатах - Google Patents

Фотолатентные основания для систем, основанных на блокированных изоцианатах Download PDF

Info

Publication number
RU2009115962A
RU2009115962A RU2009115962/04A RU2009115962A RU2009115962A RU 2009115962 A RU2009115962 A RU 2009115962A RU 2009115962/04 A RU2009115962/04 A RU 2009115962/04A RU 2009115962 A RU2009115962 A RU 2009115962A RU 2009115962 A RU2009115962 A RU 2009115962A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
alkyl
substituted
composition according
compound
formula
Prior art date
Application number
RU2009115962/04A
Other languages
English (en)
Inventor
Катя ШТУДЕР (FR)
Катя ШТУДЕР
Курт ДИТЛИКЕР (CH)
Курт ДИТЛИКЕР
Туня ЮНГ (DE)
Туня ЮНГ
Original Assignee
Циба Холдинг Инк. (Ch)
Циба Холдинг Инк.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Циба Холдинг Инк. (Ch), Циба Холдинг Инк. filed Critical Циба Холдинг Инк. (Ch)
Publication of RU2009115962A publication Critical patent/RU2009115962A/ru

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/70—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the isocyanates or isothiocyanates used
    • C08G18/72—Polyisocyanates or polyisothiocyanates
    • C08G18/80—Masked polyisocyanates
    • C08G18/8061—Masked polyisocyanates masked with compounds having only one group containing active hydrogen
    • C08G18/8093—Compounds containing active methylene groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/08—Processes
    • C08G18/16—Catalysts
    • C08G18/18—Catalysts containing secondary or tertiary amines or salts thereof
    • C08G18/20—Heterocyclic amines; Salts thereof
    • C08G18/2045—Heterocyclic amines; Salts thereof containing condensed heterocyclic rings
    • C08G18/2063—Heterocyclic amines; Salts thereof containing condensed heterocyclic rings having two nitrogen atoms in the condensed ring system
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/28—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
    • C08G18/40—High-molecular-weight compounds
    • C08G18/42—Polycondensates having carboxylic or carbonic ester groups in the main chain
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/28—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
    • C08G18/67—Unsaturated compounds having active hydrogen
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/70—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the isocyanates or isothiocyanates used
    • C08G18/72—Polyisocyanates or polyisothiocyanates
    • C08G18/77—Polyisocyanates or polyisothiocyanates having heteroatoms in addition to the isocyanate or isothiocyanate nitrogen and oxygen or sulfur
    • C08G18/78—Nitrogen
    • C08G18/79—Nitrogen characterised by the polyisocyanates used, these having groups formed by oligomerisation of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/791—Nitrogen characterised by the polyisocyanates used, these having groups formed by oligomerisation of isocyanates or isothiocyanates containing isocyanurate groups
    • C08G18/792—Nitrogen characterised by the polyisocyanates used, these having groups formed by oligomerisation of isocyanates or isothiocyanates containing isocyanurate groups formed by oligomerisation of aliphatic and/or cycloaliphatic isocyanates or isothiocyanates
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
    • C08K5/21—Urea; Derivatives thereof, e.g. biuret
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D11/00—Inks
    • C09D11/02—Printing inks
    • C09D11/03—Printing inks characterised by features other than the chemical nature of the binder
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D175/00—Coating compositions based on polyureas or polyurethanes; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D175/04—Polyurethanes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
    • C09D5/002—Priming paints
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
    • C09D5/03—Powdery paints
    • C09D5/033—Powdery paints characterised by the additives
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
    • C09D5/44—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes for electrophoretic applications
    • C09D5/4419—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes for electrophoretic applications with polymers obtained otherwise than by polymerisation reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • C09D5/4465—Polyurethanes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
    • C09D7/40—Additives
    • C09D7/60—Additives non-macromolecular
    • C09D7/63—Additives non-macromolecular organic
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J175/00—Adhesives based on polyureas or polyurethanes; Adhesives based on derivatives of such polymers
    • C09J175/04—Polyurethanes
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/06—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising selenium or tellurium in uncombined form other than as impurities in semiconductor bodies of other materials
    • H01L21/08—Preparation of the foundation plate

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Polyurethanes Or Polyureas (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Abstract

1. Композиция, включающая !(а) фотолатентное основание, ! (б) блокированный изоцианат или блокированный изотиоцианат и ! (в) соединение как донор водорода. ! 2. Композиция по п.1, в которой фотолатентное основание представляет собой соединение формулы II Z-A (II), в которой ! Z обозначает фотолабильную группу, а ! А обозначает основную группу-предшественник, ковалентно связанную с Z. ! 3. Композиция по п.1 или 2, в которой фотолатентное основание отвечает формуле (I) ! , в которой ! R1 обозначает ароматический или гетероароматический радикал, который способен к поглощению света в диапазоне длин волн от 200 до 650 нм и который не замещен или замещен одним или несколькими из С1-С18алкила, C2-С18алкенила, С2-С18алкинила, гало-С1-С18алкила, NR8R9, CN, OR10, SR10, COR11, COOR12, атома галогена и ! ! или R1 обозначает (III) ! ! R2 и R3 каждый независимо друг от друга обозначает водородный атом, C1-С18алкил, С1-С18алкенил, С3-С18алкинил или фенил, который не замещен или замещен одним или несколькими из С1-С18алкила, CN, OR12, SR12, атома галогена и гало-С1-С18алкила; ! R5 обозначает С1-С18алкил или NR10R11; ! R4, R6, R7, R8 и R9 независимо друг от друга обозначают водородный атом или C1-C18алкил; или ! R4 и R6 совместно образуют С2-С12алкиленовый мостик, который не замещен или замещен одним или несколькими С1-С4алкилами; или ! R5 и R7 независимо от R4 и R6 совместно образуют С2-С12алкиленовый мостик, который не замещен или замещен одним или несколькими С1-С4алкилами, или, если R5 обозначает NR10R11, R7 и R11 совместно образуют С2-С12алкиленовый мостик, который не замещен или замещен одним или несколькими С1-С4алкилами; ! R10, R11 и R12 каждый независимо друг от друга обозначает водородный атом или C1-C18алкил; ! R13 обозначает ароматич�

Claims (16)

1. Композиция, включающая
(а) фотолатентное основание,
(б) блокированный изоцианат или блокированный изотиоцианат и
(в) соединение как донор водорода.
2. Композиция по п.1, в которой фотолатентное основание представляет собой соединение формулы II Z-A (II), в которой
Z обозначает фотолабильную группу, а
А обозначает основную группу-предшественник, ковалентно связанную с Z.
3. Композиция по п.1 или 2, в которой фотолатентное основание отвечает формуле (I)
Figure 00000001
, в которой
R1 обозначает ароматический или гетероароматический радикал, который способен к поглощению света в диапазоне длин волн от 200 до 650 нм и который не замещен или замещен одним или несколькими из С1-С18алкила, C2-С18алкенила, С2-С18алкинила, гало-С1-С18алкила, NR8R9, CN, OR10, SR10, COR11, COOR12, атома галогена и
Figure 00000002
или R1 обозначает (III)
Figure 00000003
R2 и R3 каждый независимо друг от друга обозначает водородный атом, C1-С18алкил, С1-С18алкенил, С3-С18алкинил или фенил, который не замещен или замещен одним или несколькими из С1-С18алкила, CN, OR12, SR12, атома галогена и гало-С1-С18алкила;
R5 обозначает С1-С18алкил или NR10R11;
R4, R6, R7, R8 и R9 независимо друг от друга обозначают водородный атом или C1-C18алкил; или
R4 и R6 совместно образуют С2-С12алкиленовый мостик, который не замещен или замещен одним или несколькими С1-С4алкилами; или
R5 и R7 независимо от R4 и R6 совместно образуют С2-С12алкиленовый мостик, который не замещен или замещен одним или несколькими С1-С4алкилами, или, если R5 обозначает NR10R11, R7 и R11 совместно образуют С2-С12алкиленовый мостик, который не замещен или замещен одним или несколькими С1-С4алкилами;
R10, R11 и R12 каждый независимо друг от друга обозначает водородный атом или C1-C18алкил;
R13 обозначает ароматический или гетероароматический радикал, который способен к поглощению света в диапазоне длин волн от 200 до 650 нм и который не замещен или замещен одним или несколькими заместителями С1-С18алкил, С2-С18алкенил, С2-С18алкинил, гало-С1-С18алкил, NR8R9, CN, OR10, SR10, COR11, COOR12 или атом галогена;
R14 обозначает водородный атом или С1-С18алкил;
R15 обозначает водородный атом, С1-С18алкил или фенил, который не замещен или замещен одним или несколькими из С1-С18алкила, винила, С3-С18алкенила, С3-С18алкинила, гало-C1-C18алкила, фенила, NR8R9, CN, OR10, SR10, COR11, COOR12 и атома галогена.
4. Композиция по п.1, в которой компонент (а) представляет собой
Figure 00000004
5. Композиция по п.1, в которой блокированный изоцианат выбирают из группы, включающей алифатические или ароматические полиизоцианаты, диизоцианаты, триизоцианаты и тетраизоцианаты.
6. Композиция по п.5, в которой блокирующий агент изоцианата выбирают из группы, включающей спирты, фенолы, амины, имиды, амиды, гуанидины, амидины, триазолы, пиразолы, активные метиленовые соединения, кетоксимы, оксимы, формиаты, лактамы, имидазолы, СН-кислые циклические кетоны и меркаптаны.
7. Композиция по п.5, в которой блокирующий агент представляет собой циклопентанон-2-карбоксиметиловый эфир, циклопентанон-2-карбоксиэтиловый эфир, циклопентанон-2-карбоксинитрил, циклогексанон-2-карбоксиметиловый эфир, циклогексанон-2-карбоксиэтиловый эфир или циклопентанон-2-карбонилметан.
8. Композиция по п.1, в которой компонент (в) как донор водорода представляет собой по меньшей мере одно соединение, выбранное из группы, включающей спирты, полиолы, фенолы, борные кислоты, карбоновые кислоты, сульфоновые кислоты, амины, амиды, лактамы, мочевины, уретаны, аллофанаты, биуреты, ацилмочевины, тиомочевины, гидразоны, оксимы, амидины, гидроксиламины, гидразоны, гидроксамовые кислоты, нитроамины, диазоаминовые соединения, сульфонамиды, тиолы, политиолы, тиофенолы, тиокислоты, галогенводородные кислоты и соединения, содержащие эпоксидные группы.
9. Композиция по п.1, включающая, в дополнение к компонентам (а), (б) и (в), фотосенсибилизаторное соединение (г), выбранное из группы, включающей бензофенон и его производные, тиоксантон и его производные, антрахинон и его производные, кумарин и его производные, оксазиновые красители, акридиновые красители, феназиновые красители и родаминовые красители.
10. Композиция по п.1, в которой компонент (а) содержится в количестве от 0,01 до 20 мас.%, в частности от 0,01 до 10 мас.%, в пересчете на всю композицию.
11. Применение соединения формулы II, как оно определено в п.2, или соединения формулы I, как оно определено в п.3, в качестве фотолатентного основного катализатора (а) для отверждения композиций, включающих (б) блокированный изоцианат и донор Н (в).
12. Способ сшивания блокированного изоцианата (б) и донора Н (в) смешением упомянутых компонентов с фотолатентным основным катализатором (а) формулы II, как он определен в п.2, или соединением формулы I, как оно определено в п.3, и облучением композиции светом в диапазоне длин волн от 200 до 650 нм.
13. Применение композиции по п.1 для получения клеев, покрытий, герметиков, компонентов компаунда, типографских красок, формовочных композиций или фотоструктурированных слоев.
14. Способ по п.12 получения клеев, покрытий, герметиков, компонентов компаунда, типографских красок, формовочных композиций или фотоструктурированных слоев.
15. Покрытая подложка с покрытием на по меньшей мере одной поверхности из композиции по п.1.
16. Полимеризованная или поперечно-сшитая композиция по п.1.
RU2009115962/04A 2006-09-29 2007-09-19 Фотолатентные основания для систем, основанных на блокированных изоцианатах RU2009115962A (ru)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP06121469.8 2006-09-29
EP06121469 2006-09-29

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2009115962A true RU2009115962A (ru) 2010-11-10

Family

ID=37946367

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2009115962/04A RU2009115962A (ru) 2006-09-29 2007-09-19 Фотолатентные основания для систем, основанных на блокированных изоцианатах

Country Status (8)

Country Link
US (1) US20090298962A1 (ru)
EP (1) EP2066721B1 (ru)
JP (1) JP5345537B2 (ru)
KR (1) KR101492423B1 (ru)
CN (1) CN101522745B (ru)
BR (1) BRPI0717655B1 (ru)
RU (1) RU2009115962A (ru)
WO (1) WO2008037635A1 (ru)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2614676C2 (ru) * 2011-11-30 2017-03-28 Сикпа Холдинг Са Маркированная композиция покрытия и способ ее аутентификации

Families Citing this family (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
MX2009010309A (es) 2007-04-03 2009-10-16 Basf Se Bases nitrogenadas fotoactivables.
DE112008001404T5 (de) * 2007-06-14 2010-04-22 Sekisui Chemical Co., Ltd. Photohärtbare Haftklebstoffzusammensetzung
EP2238178B1 (en) * 2008-01-28 2014-09-10 Basf Se Photolatent amidine bases for redox curing of radically curable formulations
WO2009122664A1 (ja) * 2008-03-31 2009-10-08 サンアプロ株式会社 光塩基発生剤
US9102785B2 (en) * 2008-04-11 2015-08-11 Ppg Industries Ohio, Inc. Curable compositions based on polyuretidiones, polythiols and photoactivable bases and generation of isocyanates from uretidiones
JP5274598B2 (ja) * 2011-02-22 2013-08-28 富士フイルム株式会社 レーザー彫刻用組成物、レリーフ印刷版原版、レリーフ印刷版の製版方法、及び、レリーフ印刷版
EP2511352A1 (de) * 2011-04-13 2012-10-17 Bayer Materialscience AG Siebdruckverfahren mit zu einem Polyurethanpolymer reagierender Drucktinte
WO2014062843A1 (en) * 2012-10-16 2014-04-24 Brewer Science Inc. Silicone polymers with high refractive indices and extended pot life
JP6228599B2 (ja) * 2013-05-24 2017-11-08 株式会社ブリヂストン 接着剤、接着シート及び積層体
JP6059356B2 (ja) * 2013-10-04 2017-01-11 日本曹達株式会社 耐光性を有し、機械強度に優れるアクリル変性ｐｂ硬化性組成物
KR20170023977A (ko) 2014-06-23 2017-03-06 카본, 인크. 3차원 물체의 제조에 사용하기 위한, 다중 경화 메커니즘을 갖는 폴리우레탄 수지
US10131113B2 (en) 2015-05-13 2018-11-20 Honeywell International Inc. Multilayered carbon-carbon composite
US9944526B2 (en) 2015-05-13 2018-04-17 Honeywell International Inc. Carbon fiber preforms
US10302163B2 (en) 2015-05-13 2019-05-28 Honeywell International Inc. Carbon-carbon composite component with antioxidant coating
US10035305B2 (en) 2015-06-30 2018-07-31 Honeywell International Inc. Method of making carbon fiber preforms
US10022890B2 (en) 2015-09-15 2018-07-17 Honeywell International Inc. In situ carbonization of a resin to form a carbon-carbon composite
US10300631B2 (en) 2015-11-30 2019-05-28 Honeywell International Inc. Carbon fiber preforms
CN105567007B (zh) * 2016-02-22 2019-04-05 昆山海斯电子有限公司 液态光致阻焊油墨及其制备方法与应用
EP3363840A1 (en) * 2017-02-17 2018-08-22 Henkel AG & Co. KGaA Two-component polyurethane composition comprising a latent catalyst
WO2018160691A1 (en) * 2017-02-28 2018-09-07 Basf Se Curable sealant composition
WO2018160667A1 (en) * 2017-02-28 2018-09-07 Basf Se Curable sealant composition
JP6820429B2 (ja) 2017-08-29 2021-01-27 富士フイルム株式会社 インク組成物及びその製造方法、並びに画像形成方法
KR20210003869A (ko) * 2018-04-26 2021-01-12 헨켈 아게 운트 코. 카게아아 경화성 조성물에서 잠재성 촉매로서 사용하기 위한 4급 질소 화합물
JP7375459B2 (ja) * 2019-10-23 2023-11-08 京セラドキュメントソリューションズ株式会社 インクジェット記録用前処理液、インクジェット記録装置及び画像形成方法
EP4058500A1 (en) * 2019-11-15 2022-09-21 BASF Coatings GmbH A blocked polyisocyanate crosslinking agent, its preparation method and a coating composition comprising the same

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4677179A (en) * 1986-04-09 1987-06-30 W. R. Grace Storage stable, heat curable, coating composition
US5718817A (en) * 1993-07-28 1998-02-17 Elf Atochem North America, Inc. Catalyst for low temperature cure of blocked isocyanates
CA2283446C (en) * 1997-03-18 2008-05-06 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Photoactivatable nitrogen-containing bases based on .alpha.-amino alkenes
TW436491B (en) * 1997-08-22 2001-05-28 Ciba Sc Holding Ag Compositions for use in base-catalysed reactions, a process for curing said compostions and a process for photochemically generating bases in base catalysed polymeriaztion reactions
KR100728462B1 (ko) * 2000-05-26 2007-06-13 아크조 노벨 엔.브이. 광활성가능한 코팅조성물
CN100467511C (zh) * 2001-07-03 2009-03-11 拜尔公司 作为封端剂用的环酮
KR100938769B1 (ko) * 2001-10-17 2010-01-27 시바 홀딩 인크 광활성화 가능한 질소 염기
US7176254B2 (en) * 2002-06-17 2007-02-13 Bayer Aktiengesellschaft Sizing composition
RU2005106876A (ru) * 2002-08-13 2005-08-10 Акцо Нобель Коатингс Интернэшнл Б.В. (Nl) Многослойная система покрытия, включающая тиол- функциональные соединения
KR101059703B1 (ko) * 2002-10-28 2011-08-29 시바 홀딩 인크 광개시제의 저장 안정성 증진방법
WO2006008251A2 (en) * 2004-07-21 2006-01-26 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Process for the photoactivation and use of a catalyst by an inverted two-stage procedure
DE102004043537A1 (de) * 2004-09-09 2006-03-16 Bayer Materialscience Ag Herstellung von neuen strahlenhärtenden Bindemitteln
UA87704C2 (ru) * 2004-09-17 2009-08-10 Акцо Нобель Коатінгс Інтернешнл Б.В. Композиция покрытия на основе отверждения тиол-nco и ее применение
US9095878B2 (en) * 2006-08-02 2015-08-04 Ford Motor Company Coating compositions and methods of applying the same
JP5227966B2 (ja) * 2006-11-21 2013-07-03 チバ ホールディング インコーポレーテッド 機密保護製品の製造装置及び方法
MX2009010309A (es) * 2007-04-03 2009-10-16 Basf Se Bases nitrogenadas fotoactivables.

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2614676C2 (ru) * 2011-11-30 2017-03-28 Сикпа Холдинг Са Маркированная композиция покрытия и способ ее аутентификации

Also Published As

Publication number Publication date
BRPI0717655B1 (pt) 2018-12-18
EP2066721B1 (en) 2017-12-27
CN101522745B (zh) 2013-06-19
BRPI0717655A2 (pt) 2014-04-29
CN101522745A (zh) 2009-09-02
JP5345537B2 (ja) 2013-11-20
KR20090077936A (ko) 2009-07-16
JP2010505013A (ja) 2010-02-18
US20090298962A1 (en) 2009-12-03
KR101492423B1 (ko) 2015-02-11
EP2066721A1 (en) 2009-06-10
WO2008037635A1 (en) 2008-04-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2009115962A (ru) Фотолатентные основания для систем, основанных на блокированных изоцианатах
JP2010505013A5 (ru)
JP4173567B2 (ja) モノおよびポリアスパルテートの製造方法
US9944821B2 (en) Polyaspartic coating compositions
FI89930C (fi) Pao omaettade olefinfoereningar och vaeteaktiva foereningar baserad haerdningsblandning och pao denna baserad haerdningsprodukt
JP4347945B2 (ja) Ｃｈ酸性エステルでブロックした熱黄変安定化ポリイソシアネート
US7851530B2 (en) Carbon-substituted methyl amine derivatives and their use as a rheology control agents
TWI417310B (zh) Block polyisocyanate compositions and coating compositions comprising the same
MXPA06004603A (es) Mezclas de aglutinante de esteres de acido poliaspartico y poliisocianatos modificados con sulfonato.
ATE524508T1 (de) Spezielle allophanate enthaltende, modifizierte polyurethane
SK308792A3 (en) Single-component paint agent and its using for production of acid-resistant coating
RU2011127009A (ru) Полиуретановая композиция, содержащая гидроксиальдимин
ATE532808T1 (de) Blockierte isocyanate und ihre verwendung in beschichtungszusammensetzungen
JPH09124657A (ja) 多環式イミノオキサジアジンジオン、その調製方法、並びにその用途
JP2002526551A5 (ru)
DE69913564D1 (de) Modifizierte polyisocyanate
JPH0931148A (ja) 脂肪族及び芳香族イソシアネート化合物からのイソシアヌレート基を含むポリイソシアネートの製造方法
DE69414533D1 (de) Überzugszusammensetzungen auf der Basis von Aldiminen und Allophanatgruppen enthaltenden Polyisocyanaten
JPS6270457A (ja) ハイソリツドのコ−テイング組成物
CA1238746A (en) Heat-curable epoxide resin compositions
US11427673B2 (en) Alternative crosslinking mechanisms for polyurethane-based systems
EP0227140A1 (en) Vapour-phase cure of a coating composition containing an aliphatic polyisocyanate and a tertiary amine polyahl
JP4011960B2 (ja) ポリウレア樹脂組成物、ポリウレア被膜の製造方法、ポリウレア樹脂用硬化剤及びポリウレア樹脂形成用の組成物セット
US20060100361A1 (en) Delayed crosslinking polycondensable composition, use thereof for producing coatings and resulting coatings
KR19990076913A (ko) 이소시아네이트의 마스킹 방법, 이소시아네이트의마스킹에서의 옥심의 용도, 마스킹된 이소시아네이트 및 그것의 코팅 재료 제조에서의 용도

Legal Events

Date Code Title Description
FA92 Acknowledgement of application withdrawn (lack of supplementary materials submitted)

Effective date: 20120625