JPH1163265A - 圧力式流量制御装置 - Google Patents
圧力式流量制御装置Info
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- JPH1163265A JPH1163265A JP9220367A JP22036797A JPH1163265A JP H1163265 A JPH1163265 A JP H1163265A JP 9220367 A JP9220367 A JP 9220367A JP 22036797 A JP22036797 A JP 22036797A JP H1163265 A JPH1163265 A JP H1163265A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 圧力式流量制御装置の流量制御範囲を拡大す
ると共に、装置の小形化、高ガス置換性、低発塵性、低
コスト化を達成する。 【解決手段】 オリフィスと，オリフィスの上流側に設
けたコントロール弁と，コントロール弁とオリフィス間
に設けた圧力検出器と，圧力検出器の検出圧力Ｐ 1 から
流量ＱをＱ＝ＫＰ1 （但しＫは定数）として演算すると
共に、流量指令信号Ｑｓと前記演算した流量信号Ｑとの
差を制御信号Ｑｙとして前記コントロール弁の駆動部へ
出力する制御装置とから構成され、オリフィスの上流側
圧力Ｐ1 と下流側圧力Ｐ2 との比を被制御流体の臨界圧
比以下に保持した状態で前記コントロール弁の開閉によ
りオリフィス上流側圧力Ｐ1 を調整し、オリフィス下流
側の流体流量Ｑを制御するようにした圧力式流量制御装
置に於いて、前記オリフィスをダイレクトタッチ型のメ
タルダイヤフラム弁とし、弁座とダイヤフラムとのリン
グ状の間隙を可変オリフィスとするようにする。
ると共に、装置の小形化、高ガス置換性、低発塵性、低
コスト化を達成する。 【解決手段】 オリフィスと，オリフィスの上流側に設
けたコントロール弁と，コントロール弁とオリフィス間
に設けた圧力検出器と，圧力検出器の検出圧力Ｐ 1 から
流量ＱをＱ＝ＫＰ1 （但しＫは定数）として演算すると
共に、流量指令信号Ｑｓと前記演算した流量信号Ｑとの
差を制御信号Ｑｙとして前記コントロール弁の駆動部へ
出力する制御装置とから構成され、オリフィスの上流側
圧力Ｐ1 と下流側圧力Ｐ2 との比を被制御流体の臨界圧
比以下に保持した状態で前記コントロール弁の開閉によ
りオリフィス上流側圧力Ｐ1 を調整し、オリフィス下流
側の流体流量Ｑを制御するようにした圧力式流量制御装
置に於いて、前記オリフィスをダイレクトタッチ型のメ
タルダイヤフラム弁とし、弁座とダイヤフラムとのリン
グ状の間隙を可変オリフィスとするようにする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、気体等の流体の圧
力式流量制御装置の改良に関するものであり、主として
半導体製造設備のガス供給系に於いて利用されるもので
ある。
力式流量制御装置の改良に関するものであり、主として
半導体製造設備のガス供給系に於いて利用されるもので
ある。
【０００２】
【従来の技術】半導体製造設備のガス供給系の流量制御
装置としては、従前からマスフローコントローラが多く
使用されて来たが、近年これに代わるものとして圧力式
流量制御装置が開発されている（特開平８−３３５１１
７号、特開平８−３３８５４６号等）。
装置としては、従前からマスフローコントローラが多く
使用されて来たが、近年これに代わるものとして圧力式
流量制御装置が開発されている（特開平８−３３５１１
７号、特開平８−３３８５４６号等）。
【０００３】図１１は、本願発明者が先きに公開した前
記特開平８−３３８５４６号の圧力式流量制御装置を示
すものであり、オリフィス５の上流側圧力Ｐ1 と下流側
圧力Ｐ2 との比Ｐ2 ／Ｐ1 をガスの臨界圧力比以下に保
持した状態に於いて、オリフィス下流側の流体流量Ｑを
Ｑ＝ＫＰ1 （但しＫは定数）として演算することを基本
とするものである。尚、図１１に於いて、１は圧力式流
量制御装置、２はコントロール弁、３は弁駆動部、４は
圧力検出器、５はオリフィス、７は制御装置、７ａは温
度補正回路、７ｂは流量演算回路、７ｃは比較回路、７
ｄは増幅回路、２１ａ・２１ｂは増幅回路、２２ａ・２
２ｂはＡ／Ｄ変換回路、２４は反転増幅器、２５はバル
ブ、Ｑｙは制御信号、Ｑｃは演算信号、Ｑｓは流量設定
信号である。
記特開平８−３３８５４６号の圧力式流量制御装置を示
すものであり、オリフィス５の上流側圧力Ｐ1 と下流側
圧力Ｐ2 との比Ｐ2 ／Ｐ1 をガスの臨界圧力比以下に保
持した状態に於いて、オリフィス下流側の流体流量Ｑを
Ｑ＝ＫＰ1 （但しＫは定数）として演算することを基本
とするものである。尚、図１１に於いて、１は圧力式流
量制御装置、２はコントロール弁、３は弁駆動部、４は
圧力検出器、５はオリフィス、７は制御装置、７ａは温
度補正回路、７ｂは流量演算回路、７ｃは比較回路、７
ｄは増幅回路、２１ａ・２１ｂは増幅回路、２２ａ・２
２ｂはＡ／Ｄ変換回路、２４は反転増幅器、２５はバル
ブ、Ｑｙは制御信号、Ｑｃは演算信号、Ｑｓは流量設定
信号である。
【０００４】前記圧力式流量制御装置はコントロール弁
（２）を開・閉制御してオリフィス上流側圧力Ｐ1 を調
整することにより、オリフィス下流側流量Ｑを高精度で
制御することができ、優れた実用的効用を奏するもので
ある。しかし、この圧力式流量制御装置では、オリフィ
ス５が所謂固定径のものであるため、特定の流量範囲に
しか適用することができず、流量範囲の切換変更が出来
ないと云う問題があった。また、流量範囲を変更するた
めには、オリフィス５を取換自在に挿着すると共に複数
の異なる口径のオリフィス５を準備しておく必要があ
り、オリフィス５の加工精度のバラツキがそのまま流量
制御の誤差に結びつくこととも相俟って、経済性や制御
精度の点に問題があった。
（２）を開・閉制御してオリフィス上流側圧力Ｐ1 を調
整することにより、オリフィス下流側流量Ｑを高精度で
制御することができ、優れた実用的効用を奏するもので
ある。しかし、この圧力式流量制御装置では、オリフィ
ス５が所謂固定径のものであるため、特定の流量範囲に
しか適用することができず、流量範囲の切換変更が出来
ないと云う問題があった。また、流量範囲を変更するた
めには、オリフィス５を取換自在に挿着すると共に複数
の異なる口径のオリフィス５を準備しておく必要があ
り、オリフィス５の加工精度のバラツキがそのまま流量
制御の誤差に結びつくこととも相俟って、経済性や制御
精度の点に問題があった。
【０００５】一方、所謂音速ノズル（又はオリフィス）
を利用した定流量制御装置に於いては、流量範囲を変更
とするために可変断面積型ノズル（又はオリフィス）が
多く開発されている（実開昭５６−４１２１０号、実公
昭６０−４２３３２号等）。しかし、これ等の可変断面
積型オリフィスは何れもニードル型バルブに類似した機
構のオリフィスであり、構造的に流体流路内にデッドス
ペースが多くなってガスの置換性に劣るうえ、発塵が多
くなって半導体製造装置用のガス供給系には適用し難い
と云う難点がある。
を利用した定流量制御装置に於いては、流量範囲を変更
とするために可変断面積型ノズル（又はオリフィス）が
多く開発されている（実開昭５６−４１２１０号、実公
昭６０−４２３３２号等）。しかし、これ等の可変断面
積型オリフィスは何れもニードル型バルブに類似した機
構のオリフィスであり、構造的に流体流路内にデッドス
ペースが多くなってガスの置換性に劣るうえ、発塵が多
くなって半導体製造装置用のガス供給系には適用し難い
と云う難点がある。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、従前の圧力
式流量制御装置に於ける上述の如き問題、即ち（イ）オ
リフィスが固定径であって流量範囲の切換変更ができな
いこと、（ロ）オリフィスの加工が困難なうえ、加工精
度のバラツキがそのまま制御流量の固体差に結びつき、
高精度で安定した流量制御ができないこと、及び（ハ）
従前の可変断面積型オリフィスでは、ガスの置換性が悪
いうえに発塵が多く、半導体製造装置用のガス供給系に
は使用が困難なこと等の問題を解決せんとするものであ
り、オリフィス断面積を簡単に調整することができ、広
い流量範囲に亘って高精度な流量制御が可能になると共
に、ガス置換性や発塵の点にも優れ、半導体製造装置の
ガス供給系にも使用可能な圧力式流量制御装置を提供す
るものである。
式流量制御装置に於ける上述の如き問題、即ち（イ）オ
リフィスが固定径であって流量範囲の切換変更ができな
いこと、（ロ）オリフィスの加工が困難なうえ、加工精
度のバラツキがそのまま制御流量の固体差に結びつき、
高精度で安定した流量制御ができないこと、及び（ハ）
従前の可変断面積型オリフィスでは、ガスの置換性が悪
いうえに発塵が多く、半導体製造装置用のガス供給系に
は使用が困難なこと等の問題を解決せんとするものであ
り、オリフィス断面積を簡単に調整することができ、広
い流量範囲に亘って高精度な流量制御が可能になると共
に、ガス置換性や発塵の点にも優れ、半導体製造装置の
ガス供給系にも使用可能な圧力式流量制御装置を提供す
るものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】先ず本願発明者等は、半
導体製造装置のガス供給系に適用する機器に不可欠な高
クリーン性と高ガス置換性の両特性を備えたダイレクト
タッチ型のメタルダイヤフラム弁を可変断面積型オリフ
ィスとして使用することを着想し、当該ダイレクトタッ
チ型メタルダイヤフラム弁の流体通路が所謂超音速オリ
フィス（又はノズル）とほぼ等価な流量制御機能を有す
るか否かを調査した。
導体製造装置のガス供給系に適用する機器に不可欠な高
クリーン性と高ガス置換性の両特性を備えたダイレクト
タッチ型のメタルダイヤフラム弁を可変断面積型オリフ
ィスとして使用することを着想し、当該ダイレクトタッ
チ型メタルダイヤフラム弁の流体通路が所謂超音速オリ
フィス（又はノズル）とほぼ等価な流量制御機能を有す
るか否かを調査した。
【０００８】図１は、前記ダイレクトタッチ型メタルダ
イヤフラム弁を可変オリフィスとして用いた流量制御試
験装置の構成を示すものであり、図１に於いて２は圧力
コントロール弁、３はコントロール弁駆動部、４は圧力
検出器、５は可変オリフィス（ダイレクトタッチ型メタ
ルダイヤフラム弁）、６はオリフィス駆動部、７′は制
御回路、８ａはガス入口、８ｂはガス出口、９は質量流
量計（マスフローメーター）、１０は真空チャンバ、１
０ａは真空計、１１は真空ポンプである。
イヤフラム弁を可変オリフィスとして用いた流量制御試
験装置の構成を示すものであり、図１に於いて２は圧力
コントロール弁、３はコントロール弁駆動部、４は圧力
検出器、５は可変オリフィス（ダイレクトタッチ型メタ
ルダイヤフラム弁）、６はオリフィス駆動部、７′は制
御回路、８ａはガス入口、８ｂはガス出口、９は質量流
量計（マスフローメーター）、１０は真空チャンバ、１
０ａは真空計、１１は真空ポンプである。
【０００９】前記コントロール弁２には、特開平８−３
３８５４６号に開示されているのと同様のダイレクトタ
ッチ型のメタルダイヤフラム弁が使用されており、また
その駆動部３には、駆動装置が使用されている。尚、コ
ントロール弁２の駆動部３としてはこの他に、磁歪素子
形駆動装置やソレノイド型駆動装置、モータ型駆動装
置、空気圧形駆動装置、熱膨張型駆動装置等の使用が可
能である。また、前記圧力検出器４には半導体歪ゲージ
が使用されており、具体的には特開平８−３３８５４６
号の場合と同様に、圧力検出器４は圧力コントロール弁
２の弁本体に一体的に組み込まれている。更に、前記可
変オリフィス５には後述するようにダイレクトタッチ型
のメタルダイヤフラム弁が使用されており、その駆動部
６にはパルスモータとボールねじ機構を利用したリニア
ーアクチエータ（以下パルスモータ型駆動部と呼ぶ）が
設けられている。
３８５４６号に開示されているのと同様のダイレクトタ
ッチ型のメタルダイヤフラム弁が使用されており、また
その駆動部３には、駆動装置が使用されている。尚、コ
ントロール弁２の駆動部３としてはこの他に、磁歪素子
形駆動装置やソレノイド型駆動装置、モータ型駆動装
置、空気圧形駆動装置、熱膨張型駆動装置等の使用が可
能である。また、前記圧力検出器４には半導体歪ゲージ
が使用されており、具体的には特開平８−３３８５４６
号の場合と同様に、圧力検出器４は圧力コントロール弁
２の弁本体に一体的に組み込まれている。更に、前記可
変オリフィス５には後述するようにダイレクトタッチ型
のメタルダイヤフラム弁が使用されており、その駆動部
６にはパルスモータとボールねじ機構を利用したリニア
ーアクチエータ（以下パルスモータ型駆動部と呼ぶ）が
設けられている。
【００１０】前記制御回路７′は圧力検出器４からのオ
リフィス上流側の圧力検出信号Ｑｐ 1 を設定圧力Ｑｐｓ
と対比し、両者の差が零となる方向に制御信号Ｑｙをコ
ントロール弁駆動部３へ入力し、コントロール弁２を開
閉制御する。
リフィス上流側の圧力検出信号Ｑｐ 1 を設定圧力Ｑｐｓ
と対比し、両者の差が零となる方向に制御信号Ｑｙをコ
ントロール弁駆動部３へ入力し、コントロール弁２を開
閉制御する。
【００１１】前記可変オリフィス５を形成するダイレク
トタッチ型のメタルダイヤフラム弁は、図２に示す如く
流体入口１２ａ、弁座１２ｂ、弁室１２ｃ、流体出口１
２ｅ等を備えたステンレス鋼製の弁本体１２と、ステン
レス鋼やニッケル・コバルト合金製のダイヤフラム１３
と、ダイヤフラム１３を下方へ押圧するパルスモータ型
駆動部６等から形成されている。即ち、パルスモータ１
４を初期位置へセットすると、前記ダイヤフラム１３
は、ボールねじ機構１９を介してガイドスライダ１８及
びダイヤフラム押え１６によりスプリング１７、１５の
弾力に抗して下方へ押圧され、弁座１２ｂへ接当した状
態（閉弁状態）となる。次に、パルスモータ１４へオリ
フィス制御信号Ｑｚが入力されると、パルスモータ１４
はボールねじ機構１９を介してガイドスライダ１８を上
方へ引き上げる方向に回転され、スプリング１５の弾力
によりダイヤフラム押え１６が上方へ押圧されることに
なる。その結果、ダイヤフラム１３が上方へ弾性復帰
し、弁座１２ｂから離間することにより、弁座１２ｂと
ダイヤフラム１３との間にリング状の流体通路（オリフ
ィス）が形成される。
トタッチ型のメタルダイヤフラム弁は、図２に示す如く
流体入口１２ａ、弁座１２ｂ、弁室１２ｃ、流体出口１
２ｅ等を備えたステンレス鋼製の弁本体１２と、ステン
レス鋼やニッケル・コバルト合金製のダイヤフラム１３
と、ダイヤフラム１３を下方へ押圧するパルスモータ型
駆動部６等から形成されている。即ち、パルスモータ１
４を初期位置へセットすると、前記ダイヤフラム１３
は、ボールねじ機構１９を介してガイドスライダ１８及
びダイヤフラム押え１６によりスプリング１７、１５の
弾力に抗して下方へ押圧され、弁座１２ｂへ接当した状
態（閉弁状態）となる。次に、パルスモータ１４へオリ
フィス制御信号Ｑｚが入力されると、パルスモータ１４
はボールねじ機構１９を介してガイドスライダ１８を上
方へ引き上げる方向に回転され、スプリング１５の弾力
によりダイヤフラム押え１６が上方へ押圧されることに
なる。その結果、ダイヤフラム１３が上方へ弾性復帰
し、弁座１２ｂから離間することにより、弁座１２ｂと
ダイヤフラム１３との間にリング状の流体通路（オリフ
ィス）が形成される。
【００１２】尚、本実施態様では図２に示すように、パ
ルスモータ１４として５００００パルス／回転の所謂ス
テピッングモータが使用されている。また、ボールねじ
機構１９には、ねじピッチが０．５ｍｍ／回転のものが
使用されている。その結果、パルスモータ１４への入力
パルス１個当り１０ｎｍのダイヤフラム変位を得ること
ができ、極めて高精度なオリフィス開度制御が可能とな
る。尚、図２に於いて、２０はカップリング、２１はベ
アリング、２２はボールねじ機構のシャフト部である。
ルスモータ１４として５００００パルス／回転の所謂ス
テピッングモータが使用されている。また、ボールねじ
機構１９には、ねじピッチが０．５ｍｍ／回転のものが
使用されている。その結果、パルスモータ１４への入力
パルス１個当り１０ｎｍのダイヤフラム変位を得ること
ができ、極めて高精度なオリフィス開度制御が可能とな
る。尚、図２に於いて、２０はカップリング、２１はベ
アリング、２２はボールねじ機構のシャフト部である。
【００１３】前記マスフローメータ９は可変オリフィス
５の下流側のガス流量Ｑを測定するものであり、流量検
出信号Ｑｘを出力する。また、前記真空チャンバ１０、
真空圧力計１０ａ及び真空ポンプ１１等は半導体製造装
置を構成するものであり、前記真空チャンバ１０内の圧
力は通常数ｔｏｒｒ程度の真空に保持されている。
５の下流側のガス流量Ｑを測定するものであり、流量検
出信号Ｑｘを出力する。また、前記真空チャンバ１０、
真空圧力計１０ａ及び真空ポンプ１１等は半導体製造装
置を構成するものであり、前記真空チャンバ１０内の圧
力は通常数ｔｏｒｒ程度の真空に保持されている。
【００１４】可変オリフィス５の流量特性の試験に際し
ては、先ず適宜のオリフィス制御信号Ｑｚを入力して可
変オリフィス５の開度を所定値に設定し、次にガス入口
８ａへ圧力６．０ｋｇ／ｃｍ2 Ｇの窒素ガスＮ2 を供給
した。その後、設定圧力信号Ｑｐｓを０〜３（ｋｇｆ／
ｃｍ2 ａｂｓ）の間の適宜値に設定して圧力コントロー
ル弁２を開閉制御すると共に、マスフローメータ９で可
変オリフィス５の下流側のＮ2 流量を測定した。尚、チ
ャンバー１０は前記の通り９．２６ｌの容積を有してお
り、真空ポンプ１１により約１ｔｏｒｒの真空度に保持
されている。
ては、先ず適宜のオリフィス制御信号Ｑｚを入力して可
変オリフィス５の開度を所定値に設定し、次にガス入口
８ａへ圧力６．０ｋｇ／ｃｍ2 Ｇの窒素ガスＮ2 を供給
した。その後、設定圧力信号Ｑｐｓを０〜３（ｋｇｆ／
ｃｍ2 ａｂｓ）の間の適宜値に設定して圧力コントロー
ル弁２を開閉制御すると共に、マスフローメータ９で可
変オリフィス５の下流側のＮ2 流量を測定した。尚、チ
ャンバー１０は前記の通り９．２６ｌの容積を有してお
り、真空ポンプ１１により約１ｔｏｒｒの真空度に保持
されている。
【００１５】図３は、オリフィス制御信号Ｑｚにより、
可変オリフィス５のリング状の間隙（流体通路）面積を
φ＝０．１４ｍｍの円孔形オリフィスの断面積に等価と
した場合の、上流側圧力（即ち、圧力設定値Ｑｐｓ）と
オリフィス下流側のガス流量Ｑ（ｓｃｃｍ）との関係を
示すものである。尚、ここでｓｃｃｍとは標準状態に換
算した場合の流量ｃｃ／ｍｉｎを意味するものである。
可変オリフィス５のリング状の間隙（流体通路）面積を
φ＝０．１４ｍｍの円孔形オリフィスの断面積に等価と
した場合の、上流側圧力（即ち、圧力設定値Ｑｐｓ）と
オリフィス下流側のガス流量Ｑ（ｓｃｃｍ）との関係を
示すものである。尚、ここでｓｃｃｍとは標準状態に換
算した場合の流量ｃｃ／ｍｉｎを意味するものである。
【００１６】また、図４はオリフィス制御信号Ｑｚを変
え、可変オリフィス５のリング状の開隙面積をφ＝０．
２５ｍｍの円孔形オリフィスの断面積と等価にした場合
の、オリフィス５上流側の圧力（即ち、設定圧力信号Ｑ
ｐｓ）とオリフィス下流側のガス流量（ｓｃｃｍ）との
関係を示すものである。
え、可変オリフィス５のリング状の開隙面積をφ＝０．
２５ｍｍの円孔形オリフィスの断面積と等価にした場合
の、オリフィス５上流側の圧力（即ち、設定圧力信号Ｑ
ｐｓ）とオリフィス下流側のガス流量（ｓｃｃｍ）との
関係を示すものである。
【００１７】図３及び図４からも明らかなように、可変
オリフィス５の下流側圧力Ｐ2 が１ｔｏｒｒ≒１３３．
３Ｐａのとき、可変オリフィス上流側圧力Ｐ1 が０．５
ｋｇｆ／ｃｍ2 ａｂｓ以上の領域に於いては、流量Ｑと
上流側圧力Ｐ1 との間にはＱ＝ＫＰ1 の関係がほぼ成立
していることが認められる。換言すれば、前記図２に示
した構造のダイレクトタッチ型のメタルダイヤフラム弁
の弁座とダイヤフラム間のリング状の流体通路（間隙）
であっても、所謂固定オリフィスの場合にほぼ等しい圧
力・流量制御特性を有するものであることが判る。
オリフィス５の下流側圧力Ｐ2 が１ｔｏｒｒ≒１３３．
３Ｐａのとき、可変オリフィス上流側圧力Ｐ1 が０．５
ｋｇｆ／ｃｍ2 ａｂｓ以上の領域に於いては、流量Ｑと
上流側圧力Ｐ1 との間にはＱ＝ＫＰ1 の関係がほぼ成立
していることが認められる。換言すれば、前記図２に示
した構造のダイレクトタッチ型のメタルダイヤフラム弁
の弁座とダイヤフラム間のリング状の流体通路（間隙）
であっても、所謂固定オリフィスの場合にほぼ等しい圧
力・流量制御特性を有するものであることが判る。
【００１８】図５は、可変オリフィス５の流量特性を示
すものであり、前記図１の試験装置に於いて可変オリフ
ィス５の上流側圧力Ｐ1 を０．５ｋｇｆ／ｃｍ2 ａｂｓ
に、また下流側圧力Ｐ2 を１ｔｏｒｒの真空度に夫々保
持した状態に於いて、可変オリフィス５の作動ストロー
クＬ（ダイヤフラム１３の間隙長さ）とオリフィス下流
流量Ｑとの関係を測定したものである。作動ストローク
Ｌが０〜約０．１２ｍｍの範囲に於いては、ストローク
Ｌ（ｍｍ）と流量Ｑ（ｓｃｃｍ）とがほぼ直線状の比例
関係になっており、且つこの関係が常に再現されるもの
であることが判った。
すものであり、前記図１の試験装置に於いて可変オリフ
ィス５の上流側圧力Ｐ1 を０．５ｋｇｆ／ｃｍ2 ａｂｓ
に、また下流側圧力Ｐ2 を１ｔｏｒｒの真空度に夫々保
持した状態に於いて、可変オリフィス５の作動ストロー
クＬ（ダイヤフラム１３の間隙長さ）とオリフィス下流
流量Ｑとの関係を測定したものである。作動ストローク
Ｌが０〜約０．１２ｍｍの範囲に於いては、ストローク
Ｌ（ｍｍ）と流量Ｑ（ｓｃｃｍ）とがほぼ直線状の比例
関係になっており、且つこの関係が常に再現されるもの
であることが判った。
【００１９】図６は、可変オリフィス５のストロークＬ
（ｍｍ）と、図５の各流量値からオリフィスが円孔であ
るとして計算したオリフィス口径φｍｍとの関係を示す
線図であり、ストロークＬ（ｍｍ）とオリフィス口径φ
ｍｍとの関係は、常に再現性のある関係であることが判
った。即ち、前記図５及び図６からも明らかなように、
可変オリフィス５のストロークＬ（ｍｍ）と流量Ｑ（ｓ
ｃｃｍ）又はストロークＬ（ｍｍ）とオリフィス口径φ
（ｍｍ）は常に一定の対応関係にあるため、ストローク
Ｌ（ｍｍ）を変えることにより可変オリフィスの口径φ
（ｍｍ）又は流量Ｑ（ｓｃｃｍ）を所望の値へ正確に切
換え変更することができ、所謂可変オリフィスとして十
分に機能し得るものであることが判る。
（ｍｍ）と、図５の各流量値からオリフィスが円孔であ
るとして計算したオリフィス口径φｍｍとの関係を示す
線図であり、ストロークＬ（ｍｍ）とオリフィス口径φ
ｍｍとの関係は、常に再現性のある関係であることが判
った。即ち、前記図５及び図６からも明らかなように、
可変オリフィス５のストロークＬ（ｍｍ）と流量Ｑ（ｓ
ｃｃｍ）又はストロークＬ（ｍｍ）とオリフィス口径φ
（ｍｍ）は常に一定の対応関係にあるため、ストローク
Ｌ（ｍｍ）を変えることにより可変オリフィスの口径φ
（ｍｍ）又は流量Ｑ（ｓｃｃｍ）を所望の値へ正確に切
換え変更することができ、所謂可変オリフィスとして十
分に機能し得るものであることが判る。
【００２０】本件発明は、上述の如き図２に示したダイ
レクトタッチ型のメタルダイヤフラム弁を可変オリフィ
ス５とする圧力・流量特性試験の結果を基にして開発さ
れたものであり、請求項１の発明は、オリフィス５と，
オリフィス５の上流側に設けたコントロール弁２と，コ
ントロール弁２とオリフィス５間に設けた圧力検出器４
と、圧力検出器４の検出圧力Ｐ1 から流体の流量ＱをＱ
＝ＫＰ1 （但しＫは定数）として演算すると共に、流量
指令信号Ｑｓと前記演算した流量信号Ｑとの差を制御信
号Ｑｙとして前記コントロール弁２の駆動部１３へ出力
する制御装置７とから構成され、オリフィスの上流側圧
力Ｐ1 と下流側圧力Ｐ2 との比を被制御流体の臨界圧比
以下に保持した状態で前記コントロール弁２の開閉によ
りオリフィス上流側圧力Ｐ1 を調整し、オリフィス下流
側の流体流量Ｑを制御するようにした圧力式流量制御装
置に於いて、前記オリフィス５をダイレクトタッチ型の
メタルダイヤフラム弁とし、その弁座１２ｂとダイヤフ
ラム１３とのリング状の間隙を可変オリフィス５とする
ようにしたことを発明の基本構成とするものである。
レクトタッチ型のメタルダイヤフラム弁を可変オリフィ
ス５とする圧力・流量特性試験の結果を基にして開発さ
れたものであり、請求項１の発明は、オリフィス５と，
オリフィス５の上流側に設けたコントロール弁２と，コ
ントロール弁２とオリフィス５間に設けた圧力検出器４
と、圧力検出器４の検出圧力Ｐ1 から流体の流量ＱをＱ
＝ＫＰ1 （但しＫは定数）として演算すると共に、流量
指令信号Ｑｓと前記演算した流量信号Ｑとの差を制御信
号Ｑｙとして前記コントロール弁２の駆動部１３へ出力
する制御装置７とから構成され、オリフィスの上流側圧
力Ｐ1 と下流側圧力Ｐ2 との比を被制御流体の臨界圧比
以下に保持した状態で前記コントロール弁２の開閉によ
りオリフィス上流側圧力Ｐ1 を調整し、オリフィス下流
側の流体流量Ｑを制御するようにした圧力式流量制御装
置に於いて、前記オリフィス５をダイレクトタッチ型の
メタルダイヤフラム弁とし、その弁座１２ｂとダイヤフ
ラム１３とのリング状の間隙を可変オリフィス５とする
ようにしたことを発明の基本構成とするものである。
【００２１】また請求項２に記載の発明は、請求項１の
発明に於いて、可変オリフィス５を、パルスモータ型駆
動部を備えた可変オリフィスとしたことを発明の基本構
成とするものである。
発明に於いて、可変オリフィス５を、パルスモータ型駆
動部を備えた可変オリフィスとしたことを発明の基本構
成とするものである。
【００２２】
【発明の実施の形態】以下、図面に基づいて本発明の実
施態様を説明する。図７は本発明に係る圧力式流量制御
装置の構成図であり、図７に於いて１は圧力式流量制御
装置、２は圧力コントロール弁、３は弁駆動部、４は圧
力検出器、５は可変オリフィス、６はオリフィス駆動
部、７は制御装置、８ａはガス入口、８ｂはガス出口、
１０は真空チャンバー、１０ａは真空計、１１は真空ポ
ンプ、Ｑｙはコントロール弁制御信号、Ｑｐ1 は圧力検
出信号、Ｑｚはオリフィス制御信号、Ｑｓは流量設定信
号、Ｑｏｓはオリフィス開度設定信号である。
施態様を説明する。図７は本発明に係る圧力式流量制御
装置の構成図であり、図７に於いて１は圧力式流量制御
装置、２は圧力コントロール弁、３は弁駆動部、４は圧
力検出器、５は可変オリフィス、６はオリフィス駆動
部、７は制御装置、８ａはガス入口、８ｂはガス出口、
１０は真空チャンバー、１０ａは真空計、１１は真空ポ
ンプ、Ｑｙはコントロール弁制御信号、Ｑｐ1 は圧力検
出信号、Ｑｚはオリフィス制御信号、Ｑｓは流量設定信
号、Ｑｏｓはオリフィス開度設定信号である。
【００２３】図７に於いて、圧力コントロール弁２に
は、前記特開平８−３３８５４６号の場合と同様の図８
のような構造のダイレクトタッチ型のメタルダイヤフラ
ム弁が使用されている。また、圧力検出器４としては半
導体歪ゲージが使用されており、圧力コントロール弁２
の圧力検出器取付孔１２ｄ内へ挿入固定されている。更
に、可変オリフィス５及び駆動部６としては前記図２に
示したダイレクトタッチ型のメタルダイヤフラム弁とパ
ルスモータ型駆動部６が使用されている。尚、当該可変
オリフィス５及び駆動部６の構造は、前記図２の場合と
同じであるため、ここではその説明を省略する。
は、前記特開平８−３３８５４６号の場合と同様の図８
のような構造のダイレクトタッチ型のメタルダイヤフラ
ム弁が使用されている。また、圧力検出器４としては半
導体歪ゲージが使用されており、圧力コントロール弁２
の圧力検出器取付孔１２ｄ内へ挿入固定されている。更
に、可変オリフィス５及び駆動部６としては前記図２に
示したダイレクトタッチ型のメタルダイヤフラム弁とパ
ルスモータ型駆動部６が使用されている。尚、当該可変
オリフィス５及び駆動部６の構造は、前記図２の場合と
同じであるため、ここではその説明を省略する。
【００２４】次に、当該圧力式流量制御装置の作動につ
いて説明をする。先ず、流量設定信号Ｑｓ及びオリフィ
ス開度設定信号Ｑｏｓが制御装置７へ入力される。次
に、ガス入口８ａへ所定圧力Ｐ1 のガスが供給される
と、圧力検出器４により検出した上流側圧力Ｐ1 に相当
する圧力検出信号Ｑｐ1 が制御装置７へ入力され、流量
Ｑ＝ＫＰが制御装置７内で演算される。また、制御装置
７からは前記流量設定信号Ｑｓと流量Ｑとの差に相当す
るコントロール弁制御信号Ｑｙが出力され、圧力コント
ロール弁２は前記ＱｓとＱとの差が減少する方向にコン
トロール弁２を開閉制御する。
いて説明をする。先ず、流量設定信号Ｑｓ及びオリフィ
ス開度設定信号Ｑｏｓが制御装置７へ入力される。次
に、ガス入口８ａへ所定圧力Ｐ1 のガスが供給される
と、圧力検出器４により検出した上流側圧力Ｐ1 に相当
する圧力検出信号Ｑｐ1 が制御装置７へ入力され、流量
Ｑ＝ＫＰが制御装置７内で演算される。また、制御装置
７からは前記流量設定信号Ｑｓと流量Ｑとの差に相当す
るコントロール弁制御信号Ｑｙが出力され、圧力コント
ロール弁２は前記ＱｓとＱとの差が減少する方向にコン
トロール弁２を開閉制御する。
【００２５】更に、可変オリフィス５の口径を変化せし
めて制御流量の範囲を変更する場合には、オリフィス開
度信号Ｑｏｓの設定を変更する。これにより、オリフィ
ス制御信号Ｑｚが変わり、その結果オリフィス駆動部６
の作動ストロークＬが変化して、オリフィス口径φが変
わることになる。
めて制御流量の範囲を変更する場合には、オリフィス開
度信号Ｑｏｓの設定を変更する。これにより、オリフィ
ス制御信号Ｑｚが変わり、その結果オリフィス駆動部６
の作動ストロークＬが変化して、オリフィス口径φが変
わることになる。
【００２６】尚、図７の実施態様に於いては、作動スト
ロークＬの所謂フィードバック制御をしていないが、オ
リフィス駆動部６の作動ストロークＬを検出してその検
出値を制御装置７へフィードバックすることにより、ス
トロークＬのフィードバック制御を行なってもよいこと
は勿論である。また、図７の実施態様に於いては、図１
１に示した従前の圧力式流量制御装置のように、ガス温
度に基づく補正回路や、オリフィス５の下流側圧力Ｐ2
が上昇してＰ2 ／Ｐ1 の値が臨界値に近づいた場合（又
は臨界値以上となった場合）の警報回路やガス供給の停
止回路を設けていないが、これ等の各回路を設けてもよ
いことは勿論である。
ロークＬの所謂フィードバック制御をしていないが、オ
リフィス駆動部６の作動ストロークＬを検出してその検
出値を制御装置７へフィードバックすることにより、ス
トロークＬのフィードバック制御を行なってもよいこと
は勿論である。また、図７の実施態様に於いては、図１
１に示した従前の圧力式流量制御装置のように、ガス温
度に基づく補正回路や、オリフィス５の下流側圧力Ｐ2
が上昇してＰ2 ／Ｐ1 の値が臨界値に近づいた場合（又
は臨界値以上となった場合）の警報回路やガス供給の停
止回路を設けていないが、これ等の各回路を設けてもよ
いことは勿論である。
【００２７】加えて、図７の制御装置７には、流量Ｑの
演算値Ｑ＝ＫＰ1 が図３や図４等の圧力−流量曲線に合
致するように補正する回路や、これ等の補正に必要とす
るデータの記憶装置が設けられていることは勿論であ
る。
演算値Ｑ＝ＫＰ1 が図３や図４等の圧力−流量曲線に合
致するように補正する回路や、これ等の補正に必要とす
るデータの記憶装置が設けられていることは勿論であ
る。
【００２８】
【実施例】図９は、本発明で使用する可変オリフィス５
を構成するダイレクトタッチ型のメタルダイヤフラム弁
の弁本体１２の要部を示すものであり、図１０は図９の
Ｂ部の部分拡大図である。弁本体１２に設けた弁室１２
ｃの内径φ1 は１５ｍｍ、流体流入通路の内径φ 2 は
０．４ｍｍに夫々設定されており、また、弁座１２ｂの
外径は３ｍｍφ、流体流出路の内径は２．５ｍｍφに夫
々設定されている。
を構成するダイレクトタッチ型のメタルダイヤフラム弁
の弁本体１２の要部を示すものであり、図１０は図９の
Ｂ部の部分拡大図である。弁本体１２に設けた弁室１２
ｃの内径φ1 は１５ｍｍ、流体流入通路の内径φ 2 は
０．４ｍｍに夫々設定されており、また、弁座１２ｂの
外径は３ｍｍφ、流体流出路の内径は２．５ｍｍφに夫
々設定されている。
【００２９】
【発明の効果】本発明に於いては、流量圧力制御装置の
可変オリフィスとしてダイレクトタッチ型のメタルダイ
ヤフラム弁を使用し、制御流量範囲の切替えをダイヤフ
ラムの作動ストロークを変更することにより行なう構成
としている。その結果、例えば、従前のニードル式の可
変オリフィスを使用する場合に比較して、オリフィスの
構造が簡素化されると共に、摺動部が皆無となり、発塵
等もほぼ無視することができる。また、流体流路内の所
謂デッドスペースが大幅に減少すると共に、流体流路内
にガスの噛み込みを生ずる間隙が存在しなくなり、ガス
の置換性が大幅に向上する。更に、ダイヤフラムの作動
ストロークを変えることにより簡単且つ正確にオリフィ
ス口径の変更（即ち流量範囲の変更）を行なうことがで
き、従前の固定オリフィスを変換する場合に比較して圧
力流量制御装置の制御性が大幅に向上する。本発明は上
述の通り、半導体製造装置のガス供給系のように、超高
純度ガスを取り扱う圧力式流量制御装置として、特に優
れた実用的効用を奏するものである。
可変オリフィスとしてダイレクトタッチ型のメタルダイ
ヤフラム弁を使用し、制御流量範囲の切替えをダイヤフ
ラムの作動ストロークを変更することにより行なう構成
としている。その結果、例えば、従前のニードル式の可
変オリフィスを使用する場合に比較して、オリフィスの
構造が簡素化されると共に、摺動部が皆無となり、発塵
等もほぼ無視することができる。また、流体流路内の所
謂デッドスペースが大幅に減少すると共に、流体流路内
にガスの噛み込みを生ずる間隙が存在しなくなり、ガス
の置換性が大幅に向上する。更に、ダイヤフラムの作動
ストロークを変えることにより簡単且つ正確にオリフィ
ス口径の変更（即ち流量範囲の変更）を行なうことがで
き、従前の固定オリフィスを変換する場合に比較して圧
力流量制御装置の制御性が大幅に向上する。本発明は上
述の通り、半導体製造装置のガス供給系のように、超高
純度ガスを取り扱う圧力式流量制御装置として、特に優
れた実用的効用を奏するものである。
【図１】本発明で使用をする可変オリフィス（ダイレク
トタッチ型の金属ダイヤフラム弁）の流量制御試験装置
の構成図である。
トタッチ型の金属ダイヤフラム弁）の流量制御試験装置
の構成図である。
【図２】本発明で使用する可変オリフィスの縦断面図で
ある。
ある。
【図３】図１の試験装置による圧力−流量の測定値の一
例を示すものである。
例を示すものである。
【図４】図１の試験装置による圧力−流量の測定値の他
の例を示すものである。
の例を示すものである。
【図５】可変オリフィス上流側圧力Ｐ1 と下流側圧力Ｐ
2 とを一定値とした場合のオリフィスストロークＬ（ｍ
ｍ）と流量Ｑ（ｓｃｃｍ）の関係を示すものである。
2 とを一定値とした場合のオリフィスストロークＬ（ｍ
ｍ）と流量Ｑ（ｓｃｃｍ）の関係を示すものである。
【図６】可変オリフィス上流側圧力Ｐ1 と下流側圧力Ｐ
2 とを一定値とした場合のオリフィスストロークＬ（ｍ
ｍ）と、流量Ｑ（ｓｃｃｍ）より算出したオリフィス口
径φ（ｍｍ）との関係を示すものである。
2 とを一定値とした場合のオリフィスストロークＬ（ｍ
ｍ）と、流量Ｑ（ｓｃｃｍ）より算出したオリフィス口
径φ（ｍｍ）との関係を示すものである。
【図７】本発明に係る圧力式流量制御装置の構成図であ
る。
る。
【図８】圧力コントロール弁の縦断面図である。
【図９】本発明の実施例に係る可変オリフィスの要部を
示す縦断面図である。
示す縦断面図である。
【図１０】図９の部分拡大図である。
【図１１】従前の圧力式流量制御装置の構成図である。
１は流量圧力制御装置、２は圧力コントロール弁、３は
コントロール弁駆動部、４は圧力検出器、５は可変オリ
フィス、６はオリフィス駆動部、７は圧力制御装置、７
ａは制御装置、８ａはガス入口、８ｂはガス出口、９は
マスフローメータ（質量流量計）、１０は真空チャン
バ、１０ａは真空計、１１は真空ポンプ、１２は弁本
体、１２ａは流体入口、１２ｂは弁座、１２ｃは弁室、
１２ｄは圧力検出器取付孔、１２ｅは流体出口、１３は
金属ダイヤフラム、１４はパルスモータ、１５はスプリ
ング、１６はダイヤフラム押え、１７はスプリング、１
８はガイドスライダー、１９はボールねじ機構、２０は
カップリング、２１はベアリング、２２はシャフト部、
ＱＰ1 は圧力検出信号、ＱＰｓは設定圧力信号、Ｑｚは
オリフィス制御信号、Ｑｙはコントロール弁制御信号、
Ｑｓは流量設定信号、Ｑｏｓはオリフィス開度設定信
号。
コントロール弁駆動部、４は圧力検出器、５は可変オリ
フィス、６はオリフィス駆動部、７は圧力制御装置、７
ａは制御装置、８ａはガス入口、８ｂはガス出口、９は
マスフローメータ（質量流量計）、１０は真空チャン
バ、１０ａは真空計、１１は真空ポンプ、１２は弁本
体、１２ａは流体入口、１２ｂは弁座、１２ｃは弁室、
１２ｄは圧力検出器取付孔、１２ｅは流体出口、１３は
金属ダイヤフラム、１４はパルスモータ、１５はスプリ
ング、１６はダイヤフラム押え、１７はスプリング、１
８はガイドスライダー、１９はボールねじ機構、２０は
カップリング、２１はベアリング、２２はシャフト部、
ＱＰ1 は圧力検出信号、ＱＰｓは設定圧力信号、Ｑｚは
オリフィス制御信号、Ｑｙはコントロール弁制御信号、
Ｑｓは流量設定信号、Ｑｏｓはオリフィス開度設定信
号。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大見 忠弘 宮城県仙台市青葉区米ケ袋２丁目１番17− 301号 (72)発明者 加賀爪 哲 山梨県韮崎市藤井町北下条2381番地の１ 東京エレクトロン山梨株式会社内 (72)発明者 杉山 一彦 山梨県韮崎市藤井町北下条2381番地の１ 東京エレクトロン山梨株式会社内 (72)発明者 土肥 亮介 大阪府大阪市西区立売堀２丁目３番２号 株式会社フジキン内 (72)発明者 宇野 富雄 大阪府大阪市西区立売堀２丁目３番２号 株式会社フジキン内 (72)発明者 西野 功二 大阪府大阪市西区立売堀２丁目３番２号 株式会社フジキン内 (72)発明者 福田 浩幸 大阪府大阪市西区立売堀２丁目３番２号 株式会社フジキン内 (72)発明者 池田 信一 大阪府大阪市西区立売堀２丁目３番２号 株式会社フジキン内 (72)発明者 山路 道雄 大阪府大阪市西区立売堀２丁目３番２号 株式会社フジキン内
Claims (2)
- 【請求項１】 オリフィス（５）と，オリフィス（５）
の上流側に設けたコントロール弁（２）と，コントロー
ル弁（２）とオリフィス（５）間に設けた圧力検出器
（４）と，圧力検出器（４）の検出圧力Ｐ1 から流体の
流量をＱｃ＝ＫＰ1 （但しＫは定数）として演算すると
共に、流量指令信号Ｑｓと前記演算した流量信号Ｑｃと
の差を制御信号Ｑｙとして前記コントロール弁（２）の
駆動部（３）へ出力する制御装置（７）とから構成さ
れ、オリフィスの上流側圧力Ｐ1 と下流側圧力Ｐ2 との
比を被制御流体の臨界圧比以下に保持した状態で前記コ
ントロール弁（２）の開閉によりオリフィス上流側圧力
Ｐ1 を調整し、オリフィス下流側の流体流量Ｑを制御す
るようにした圧力式流量制御装置に於いて、前記オリフ
ィス（５）をダイレクトタッチ型のメタルダイヤフラム
弁とし、その弁座（１２ｂ）とダイヤフラム（１３）と
のリング状の間隙を可変オリフィス（５）としたことを
特徴とする圧力式流量制御装置。 - 【請求項２】 可変オリフィス（５）を、パルスモータ
型駆動部（６）を備えた可変オリフィスとした請求項１
に記載の圧力式流量制御装置。
Priority Applications (8)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22036797A JP3586075B2 (ja) | 1997-08-15 | 1997-08-15 | 圧力式流量制御装置 |
| EP98937819A EP0952505B1 (en) | 1997-08-15 | 1998-08-13 | Pressure type flow rate control apparatus |
| US09/284,352 US6152168A (en) | 1997-08-15 | 1998-08-13 | Pressure-type flow rate control apparatus |
| CN988011514A CN1216322C (zh) | 1997-08-15 | 1998-08-13 | 压力式流量控制装置 |
| PCT/JP1998/003620 WO1999009463A1 (fr) | 1997-08-15 | 1998-08-13 | Regulateur debitmetrique a pression |
| AT98937819T ATE310985T1 (de) | 1997-08-15 | 1998-08-13 | Druckabhängige durchflussregelvorrichtung |
| DE69832467T DE69832467T2 (de) | 1997-08-15 | 1998-08-13 | Druckabhängige durchflussregelvorrichtung |
| KR1019997003162A KR100313220B1 (ko) | 1997-08-15 | 1999-04-12 | 압력식 유량제어장치 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22036797A JP3586075B2 (ja) | 1997-08-15 | 1997-08-15 | 圧力式流量制御装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1163265A true JPH1163265A (ja) | 1999-03-05 |
| JP3586075B2 JP3586075B2 (ja) | 2004-11-10 |
Family
ID=16750027
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22036797A Expired - Lifetime JP3586075B2 (ja) | 1997-08-15 | 1997-08-15 | 圧力式流量制御装置 |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6152168A (ja) |
| EP (1) | EP0952505B1 (ja) |
| JP (1) | JP3586075B2 (ja) |
| KR (1) | KR100313220B1 (ja) |
| CN (1) | CN1216322C (ja) |
| AT (1) | ATE310985T1 (ja) |
| DE (1) | DE69832467T2 (ja) |
| WO (1) | WO1999009463A1 (ja) |
Cited By (13)
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| JPH11265217A (ja) * | 1998-03-17 | 1999-09-28 | Omi Tadahiro | 圧力式流量制御装置 |
| WO2001013191A1 (en) * | 1999-08-10 | 2001-02-22 | Tokyo Electron Ltd. | Method for detecting abnormal flow rate for pressure flow rate controller |
| WO2004114038A1 (ja) * | 2003-06-20 | 2004-12-29 | Fujikin Incorporated | 流量制御装置を備えたガス供給設備からチャンバーへのガス分流供給装置及びガス分流供給方法 |
| US7059363B2 (en) | 2002-06-03 | 2006-06-13 | Fujikin Incorporated | Method of supplying divided gas to a chamber from a gas supply apparatus equipped with a flow-rate control system |
| WO2009141947A1 (ja) * | 2008-05-21 | 2009-11-26 | 株式会社フジキン | 圧力式流量制御装置を用いた流体の非連続式流量切替制御方法 |
| US8210022B2 (en) | 2007-12-11 | 2012-07-03 | Fujikin Incorporated | Pressure type flow rate control reference and corrosion resistant pressure type flow rate controller used for the same |
| JP2014013461A (ja) * | 2012-07-03 | 2014-01-23 | Horiba Ltd | 圧力制御装置、流量制御装置、及び、圧力制御装置用プログラム、流量制御装置用プログラム |
| KR20140116534A (ko) * | 2012-04-26 | 2014-10-02 | 가부시키가이샤 후지킨 | 가변 오리피스형 압력 제어식 유량 제어기 |
| CN104246642A (zh) * | 2012-04-27 | 2014-12-24 | 株式会社富士金 | 半导体制造装置的气体分流供给装置 |
| JP2015049569A (ja) * | 2013-08-30 | 2015-03-16 | 株式会社フジキン | ガス分流供給装置及びガス分流供給方法 |
| JP2016020791A (ja) * | 2014-07-15 | 2016-02-04 | 三浦工業株式会社 | ボイラ装置 |
| JP2016151433A (ja) * | 2015-02-16 | 2016-08-22 | 大陽日酸株式会社 | ガス分析方法、ガス分析装置、及びヘリウム液化システム |
| CN111342086A (zh) * | 2020-02-29 | 2020-06-26 | 同济大学 | 一种燃料电池空气过氧比与流量压力协同控制方法及系统 |
Families Citing this family (73)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6302130B1 (en) * | 1998-08-24 | 2001-10-16 | Fujikin Incorporated | Method and apparatus for detection of orifice clogging in pressure-type flow rate controllers |
| US6581623B1 (en) * | 1999-07-16 | 2003-06-24 | Advanced Technology Materials, Inc. | Auto-switching gas delivery system utilizing sub-atmospheric pressure gas supply vessels |
| US7061595B2 (en) * | 2000-08-02 | 2006-06-13 | Honeywell International Inc. | Miniaturized flow controller with closed loop regulation |
| JP2002143751A (ja) * | 2000-10-17 | 2002-05-21 | L'air Liquide Sa Pour L'etude & L'exploitation Des Procede S Georges Claude | 処理液分配装置及び方法 |
| KR20040024854A (ko) * | 2001-04-24 | 2004-03-22 | 셀레리티 그룹 아이엔씨 | 질량유량 제어장치를 위한 시스템 및 방법 |
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