JPH10189845A - 半導体素子の放熱装置 - Google Patents
半導体素子の放熱装置Info
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- JPH10189845A JPH10189845A JP34438796A JP34438796A JPH10189845A JP H10189845 A JPH10189845 A JP H10189845A JP 34438796 A JP34438796 A JP 34438796A JP 34438796 A JP34438796 A JP 34438796A JP H10189845 A JPH10189845 A JP H10189845A
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- H05K3/30—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
- H05K3/32—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
- H05K3/34—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 加工工数をさほど増大させることなく、基板
と放熱板とを接合しているハンダの剥離防止が可能であ
る半導体素子の放熱装置を提供すること。 【解決手段】 本発明の半導体素子の放熱装置は、半導
体素子7が表面に搭載されておりハンダ接合用のプリン
トパターン4が裏面に形成されているセラミック基板3
と、プリントパターン4に対面している接合面21と接
合面21の外縁部に沿って所定の幅で形成されている溝
20とでプリントパターン4にハンダ付けされている放
熱板2とを有する。溝20の外縁はプリントパターン4
の外縁よりも外側に形成されており、溝20の内縁はプ
リントパターン4の外縁よりも内側に形成されている。
溝20を形成するだけで、プリントパターン4の外縁付
近に集中する熱歪みが溝20内の厚いハンダ層9に吸収
され、大きな応力集中が生じないのでハンダの剥離が防
止される。
と放熱板とを接合しているハンダの剥離防止が可能であ
る半導体素子の放熱装置を提供すること。 【解決手段】 本発明の半導体素子の放熱装置は、半導
体素子7が表面に搭載されておりハンダ接合用のプリン
トパターン4が裏面に形成されているセラミック基板3
と、プリントパターン4に対面している接合面21と接
合面21の外縁部に沿って所定の幅で形成されている溝
20とでプリントパターン4にハンダ付けされている放
熱板2とを有する。溝20の外縁はプリントパターン4
の外縁よりも外側に形成されており、溝20の内縁はプ
リントパターン4の外縁よりも内側に形成されている。
溝20を形成するだけで、プリントパターン4の外縁付
近に集中する熱歪みが溝20内の厚いハンダ層9に吸収
され、大きな応力集中が生じないのでハンダの剥離が防
止される。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、発熱量が大きく冷
却を必要とする半導体素子の放熱装置の技術分野ないし
は同素子の実装技術分野に属する。このような半導体素
子としては、IGBT、同素子に逆並列接続されるダイ
オード、パワートランジスタ、およびMOSFETを含
むFETなどがある。
却を必要とする半導体素子の放熱装置の技術分野ないし
は同素子の実装技術分野に属する。このような半導体素
子としては、IGBT、同素子に逆並列接続されるダイ
オード、パワートランジスタ、およびMOSFETを含
むFETなどがある。
【0002】
【従来の技術】大電力を扱うパワートランジスタなどの
半導体素子は、動作時に発熱量が大きくて高温となり過
熱しがちである。それゆえ、同素子の発熱を効率よく放
熱させ同素子の温度を正常領域に抑制することは、実装
技術上の重要な課題である。上記課題を解決するため、
近年では窒化アルミニウムなどの熱伝導率が高い材料か
らなる基板のプリントパターン上に直接半導体素子を実
装し、ハンダ付けで基板を放熱板に搭載する手段がとら
れるようになってきている。ところがこの手段では、基
板と放熱板との線膨張率の差に起因する熱膨張差によっ
て、基板と放熱板とを接合しているハンダが熱応力で剥
離してしまうという不具合が生じやすかった。
半導体素子は、動作時に発熱量が大きくて高温となり過
熱しがちである。それゆえ、同素子の発熱を効率よく放
熱させ同素子の温度を正常領域に抑制することは、実装
技術上の重要な課題である。上記課題を解決するため、
近年では窒化アルミニウムなどの熱伝導率が高い材料か
らなる基板のプリントパターン上に直接半導体素子を実
装し、ハンダ付けで基板を放熱板に搭載する手段がとら
れるようになってきている。ところがこの手段では、基
板と放熱板との線膨張率の差に起因する熱膨張差によっ
て、基板と放熱板とを接合しているハンダが熱応力で剥
離してしまうという不具合が生じやすかった。
【0003】この不具合を解決するために、特開平8−
8373号公報では、基板裏面の導体板を基板からはみ
出させて、このはみ出し部分を放熱板から離れる方向に
曲げて傾斜部を形成し、この傾斜部でハンダの厚みを増
す従来技術が開示されている。これは、基板と放熱板と
の間に形成されているハンダ接合部の厚みを、外縁部で
厚くすることにより分厚いハンダ層で熱歪みを吸収して
剥離を防ごうというものである。
8373号公報では、基板裏面の導体板を基板からはみ
出させて、このはみ出し部分を放熱板から離れる方向に
曲げて傾斜部を形成し、この傾斜部でハンダの厚みを増
す従来技術が開示されている。これは、基板と放熱板と
の間に形成されているハンダ接合部の厚みを、外縁部で
厚くすることにより分厚いハンダ層で熱歪みを吸収して
剥離を防ごうというものである。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところが上記公報の従
来技術では、基板からはみ出して導体板を基板に接合
し、さらに基板との接合部分の平面性を保ちながら基板
からはみ出している部分に傾斜角を付ける必要があり、
加工工数の増加を招いていた。また上記公報には、基板
の裏面に外縁部付近で傾斜角を付け、同裏面に導体板を
形成して同様の効果をねらったものがあるが、基板の加
工および基板の裏面への導体板の接合などを行うため
に、やはり加工工数の増加を避け得なかった。
来技術では、基板からはみ出して導体板を基板に接合
し、さらに基板との接合部分の平面性を保ちながら基板
からはみ出している部分に傾斜角を付ける必要があり、
加工工数の増加を招いていた。また上記公報には、基板
の裏面に外縁部付近で傾斜角を付け、同裏面に導体板を
形成して同様の効果をねらったものがあるが、基板の加
工および基板の裏面への導体板の接合などを行うため
に、やはり加工工数の増加を避け得なかった。
【0005】そこで本発明は、加工工数をさほど増大さ
せることなく、基板と放熱板とを接合しているハンダの
剥離防止が可能である半導体素子の放熱装置を提供する
ことを解決すべき課題とする。
せることなく、基板と放熱板とを接合しているハンダの
剥離防止が可能である半導体素子の放熱装置を提供する
ことを解決すべき課題とする。
【0006】
【課題を解決するための手段およびその作用・効果】上
記課題を解決するために、発明者は以下の手段を発明し
た。 (第1手段)本発明の第1手段は、請求項1記載の半導
体素子の放熱装置である。本手段では、不導体からなる
基板の裏面のプリントパターンと放熱板の表面の接合面
とを接合しているハンダの層の厚さが、接合面の外縁部
に沿って放熱板に形成されている溝の部分で増大してい
る。それゆえ、プリントパターンと接合面の外縁部との
間に生じる熱歪みが、溝内の厚いハンダ層の変形により
吸収されてハンダ層の外縁部での熱歪みによる応力が緩
和される。その結果、半導体素子が搭載されている基板
と放熱板との間で、両者を接合しているハンダが剥離す
る不具合は防止される。
記課題を解決するために、発明者は以下の手段を発明し
た。 (第1手段)本発明の第1手段は、請求項1記載の半導
体素子の放熱装置である。本手段では、不導体からなる
基板の裏面のプリントパターンと放熱板の表面の接合面
とを接合しているハンダの層の厚さが、接合面の外縁部
に沿って放熱板に形成されている溝の部分で増大してい
る。それゆえ、プリントパターンと接合面の外縁部との
間に生じる熱歪みが、溝内の厚いハンダ層の変形により
吸収されてハンダ層の外縁部での熱歪みによる応力が緩
和される。その結果、半導体素子が搭載されている基板
と放熱板との間で、両者を接合しているハンダが剥離す
る不具合は防止される。
【0007】したがって本手段によれば、放熱板の接合
面の周囲に溝を形成するという工数が少ない加工だけ
で、基板と放熱板とを接合しているハンダが剥離する不
具合は防止されるという効果がある。その結果、低コス
トでハンダの剥離防止がなされている半導体素子の放熱
装置を量産することが可能になるという効果もある。ま
た、放熱板の接合面の外縁部に形成されている溝の位置
がはっきりしているので、基板を放熱板に接合する際に
溝が位置決めの基準になり、位置決めが容易になるとい
う効果もある。
面の周囲に溝を形成するという工数が少ない加工だけ
で、基板と放熱板とを接合しているハンダが剥離する不
具合は防止されるという効果がある。その結果、低コス
トでハンダの剥離防止がなされている半導体素子の放熱
装置を量産することが可能になるという効果もある。ま
た、放熱板の接合面の外縁部に形成されている溝の位置
がはっきりしているので、基板を放熱板に接合する際に
溝が位置決めの基準になり、位置決めが容易になるとい
う効果もある。
【0008】(第2手段)本発明の第2手段は、請求項
2記載の半導体素子の放熱装置である。本手段では、プ
リントパターンの外縁が所定幅の溝の中間部に位置する
ので、プリントパターンの外縁は内側方向にも外側方向
にも溝内の厚いハンダ層と接合しており、プリントパタ
ーンの外縁での応力集中が生じにくい。
2記載の半導体素子の放熱装置である。本手段では、プ
リントパターンの外縁が所定幅の溝の中間部に位置する
ので、プリントパターンの外縁は内側方向にも外側方向
にも溝内の厚いハンダ層と接合しており、プリントパタ
ーンの外縁での応力集中が生じにくい。
【0009】したがって本手段によれば、よりいっそう
ハンダの剥離防止作用が有効になるという効果がある。 (第3手段)本発明の第3手段は、請求項3記載の半導
体素子の放熱装置である。本手段では、放熱板の接合面
が溝の周囲の表面と同一平面にあるので、接合面には何
も加工を加えることなく、接合面の周囲に溝を形成する
だけで、周囲の表面と隔離されている接合面が自然に形
成される。
ハンダの剥離防止作用が有効になるという効果がある。 (第3手段)本発明の第3手段は、請求項3記載の半導
体素子の放熱装置である。本手段では、放熱板の接合面
が溝の周囲の表面と同一平面にあるので、接合面には何
も加工を加えることなく、接合面の周囲に溝を形成する
だけで、周囲の表面と隔離されている接合面が自然に形
成される。
【0010】したがって本手段によれば、加工工数がい
っそう少なくて済み、コストダウンになるという効果が
ある。
っそう少なくて済み、コストダウンになるという効果が
ある。
【0011】
【発明の実施の形態および実施例】本発明の半導体素子
の放熱装置の実施の形態については、当業者に実施可能
な理解が得らえるよう、以下の実施例で明確かつ十分に
説明する。 [実施例] (実施例の構成)本発明の一実施例としての半導体素子
の放熱装置は、図1に示すように、半導体素子7が表面
に搭載されている不導体からなる基板3と、不導体基板
3の裏面と表面の接合面21で接合している放熱板2
と、放熱板2の裏面と接合されている放熱器(ヒートシ
ンク)1とから構成されている。
の放熱装置の実施の形態については、当業者に実施可能
な理解が得らえるよう、以下の実施例で明確かつ十分に
説明する。 [実施例] (実施例の構成)本発明の一実施例としての半導体素子
の放熱装置は、図1に示すように、半導体素子7が表面
に搭載されている不導体からなる基板3と、不導体基板
3の裏面と表面の接合面21で接合している放熱板2
と、放熱板2の裏面と接合されている放熱器(ヒートシ
ンク)1とから構成されている。
【0012】基板3は、窒化アルミニウムを主成分とす
る熱伝導性の高いセラミックス製の薄手の板であり、そ
の厚さは一定であって表面および裏面は平面である。基
板3の表面には銅の薄板からなるプリント配線5および
プリントパターン6が形成されており、発熱する半導体
素子7はプリントパターン6の表面にハンダ層10でハ
ンダ付けにより接合されている。プリントパターン6の
一部からは、外部取り出し用の端子11が突出してい
る。また、半導体素子7とプリント配線5とは、ボンデ
ィングワイヤ8で互いに接続されている。一方、基板3
の裏面には、銅の薄板からなるハンダ接合用のプリント
パターン4が形成されている。
る熱伝導性の高いセラミックス製の薄手の板であり、そ
の厚さは一定であって表面および裏面は平面である。基
板3の表面には銅の薄板からなるプリント配線5および
プリントパターン6が形成されており、発熱する半導体
素子7はプリントパターン6の表面にハンダ層10でハ
ンダ付けにより接合されている。プリントパターン6の
一部からは、外部取り出し用の端子11が突出してい
る。また、半導体素子7とプリント配線5とは、ボンデ
ィングワイヤ8で互いに接続されている。一方、基板3
の裏面には、銅の薄板からなるハンダ接合用のプリント
パターン4が形成されている。
【0013】基板3の裏面と対面している放熱板2の表
面には、前述のプリントパターン4の外縁部と対向する
位置に、溝20が形成されている。溝20の断面形状
は、プリントパターン4と対向しており表面に平行な底
面と、プリントパターン4の外縁よりも外側で垂直に立
ち上がっている外側面と、プリントパターン4の外縁よ
りも内側から立ち上がり緩やかな傾斜面を形成している
内側面とから構成されている。溝20の内側の領域は基
板3の裏面に平行な接合面21を形成しており、接合面
21は溝20の外側の放熱板2の表面22と同一平面内
にある。
面には、前述のプリントパターン4の外縁部と対向する
位置に、溝20が形成されている。溝20の断面形状
は、プリントパターン4と対向しており表面に平行な底
面と、プリントパターン4の外縁よりも外側で垂直に立
ち上がっている外側面と、プリントパターン4の外縁よ
りも内側から立ち上がり緩やかな傾斜面を形成している
内側面とから構成されている。溝20の内側の領域は基
板3の裏面に平行な接合面21を形成しており、接合面
21は溝20の外側の放熱板2の表面22と同一平面内
にある。
【0014】すなわち放熱板2には、プリントパターン
4に対面している接合面21とその外縁部に沿って所定
の幅で形成されている溝20とが、表面に形成されてい
る。そして、放熱板2の接合面21および溝20は、プ
リントパターン4にハンダ付けされていて、放熱板2は
基板3と接合されている。また、溝20の外縁をなす上
記外側面は、プリントパターン4の外縁よりも外側に形
成されており、溝20の内縁をなす上記内側面は、プリ
ントパターン4の外縁よりも内側に形成されている。そ
して、放熱板2の接合面21は、溝20の周囲の表面2
2と同一平面にある。
4に対面している接合面21とその外縁部に沿って所定
の幅で形成されている溝20とが、表面に形成されてい
る。そして、放熱板2の接合面21および溝20は、プ
リントパターン4にハンダ付けされていて、放熱板2は
基板3と接合されている。また、溝20の外縁をなす上
記外側面は、プリントパターン4の外縁よりも外側に形
成されており、溝20の内縁をなす上記内側面は、プリ
ントパターン4の外縁よりも内側に形成されている。そ
して、放熱板2の接合面21は、溝20の周囲の表面2
2と同一平面にある。
【0015】なお、溝20を形成する加工方法は、鍛造
あるいはフライス加工等のいずれかである。放熱板2は
放熱器1にネジ止めで固定されており、放熱板2の裏面
は薄いサーマルグリス(シリコンオイル)の層を介して
全面で放熱器1の表面に当接している。放熱器1は銅合
金(またはアルミニウム合金)で形成されており、その
内部には冷媒12を通す流路10が複数本形成されて連
通している。冷媒12は水や油等の液体であり、図示し
ないポンプにより強制的に循環させられていて図示しな
いラジエータで冷却される。
あるいはフライス加工等のいずれかである。放熱板2は
放熱器1にネジ止めで固定されており、放熱板2の裏面
は薄いサーマルグリス(シリコンオイル)の層を介して
全面で放熱器1の表面に当接している。放熱器1は銅合
金(またはアルミニウム合金)で形成されており、その
内部には冷媒12を通す流路10が複数本形成されて連
通している。冷媒12は水や油等の液体であり、図示し
ないポンプにより強制的に循環させられていて図示しな
いラジエータで冷却される。
【0016】(実施例の作用効果)本実施例としての半
導体素子の放熱装置は以上のように構成されているの
で、次のようにして強力な放熱作用を発揮する。すなわ
ち、半導体素子7で発生した大量の熱量は、ハンダ層1
0、プリントパターン6、基板3、プリントパターン
4、ハンダ層9、放熱板2を順に熱伝導で伝わり、最後
に放熱器1を介して冷媒12伝わって冷媒12により外
部へ排出される。ここで、プリントパターン6,4、放
熱板2および放熱器1は、熱伝導率が極めて高い銅また
は銅合金で形成されており、ハンダ層9,10は厚さが
極めて薄いうえに熱伝導率が高い。また、放熱板2と放
熱器1との間にはサーマルグリスの薄い膜が介在してお
り、両者2,1の間の熱伝導性も極めて高い。
導体素子の放熱装置は以上のように構成されているの
で、次のようにして強力な放熱作用を発揮する。すなわ
ち、半導体素子7で発生した大量の熱量は、ハンダ層1
0、プリントパターン6、基板3、プリントパターン
4、ハンダ層9、放熱板2を順に熱伝導で伝わり、最後
に放熱器1を介して冷媒12伝わって冷媒12により外
部へ排出される。ここで、プリントパターン6,4、放
熱板2および放熱器1は、熱伝導率が極めて高い銅また
は銅合金で形成されており、ハンダ層9,10は厚さが
極めて薄いうえに熱伝導率が高い。また、放熱板2と放
熱器1との間にはサーマルグリスの薄い膜が介在してお
り、両者2,1の間の熱伝導性も極めて高い。
【0017】それゆえ、半導体素子7で発生した大量の
熱量は、速やかに放熱器1内の冷媒12に伝導され、半
導体素子7は十分に冷却されているので半導体素子7の
過熱は防止されている。この際、セラミックス製の基板
3と放熱板2とでは線膨張係数が違うので、両者3,2
の間に熱応力が生じるが、この熱応力は、ハンダ層9と
接合しているプリントパターン4の外縁部で最も高ま
る。ところが本実施例では、基板3の裏面のプリントパ
ターン4と放熱板2の表面の接合面21とを接合してい
るハンダ層9の厚さが、接合面21の外縁部に沿って放
熱板2に形成されている溝20の部分で増大している。
熱量は、速やかに放熱器1内の冷媒12に伝導され、半
導体素子7は十分に冷却されているので半導体素子7の
過熱は防止されている。この際、セラミックス製の基板
3と放熱板2とでは線膨張係数が違うので、両者3,2
の間に熱応力が生じるが、この熱応力は、ハンダ層9と
接合しているプリントパターン4の外縁部で最も高ま
る。ところが本実施例では、基板3の裏面のプリントパ
ターン4と放熱板2の表面の接合面21とを接合してい
るハンダ層9の厚さが、接合面21の外縁部に沿って放
熱板2に形成されている溝20の部分で増大している。
【0018】すなわち、プリントパターン4の外縁が所
定幅の溝20の中間部に位置するので、プリントパター
ン4の外縁は内側方向にも外側方向にも溝20内の厚い
ハンダ層9と接合しており、プリントパターン4の外縁
での応力集中が生じにくい。それゆえ、プリントパター
ン4と接合面21の外縁部との間に生じる熱歪みが、溝
20内の厚いハンダ層9の変形により吸収されて、ハン
ダ層9の外縁部での熱歪みによる応力が緩和される。そ
の結果、半導体素子7が搭載されている基板3と放熱板
2との間で、両者を接合しているハンダ層9が剥離する
不具合は防止され、半導体素子7の冷却不良による過熱
不具合が防止されて、半導体素子7の信頼性が向上す
る。
定幅の溝20の中間部に位置するので、プリントパター
ン4の外縁は内側方向にも外側方向にも溝20内の厚い
ハンダ層9と接合しており、プリントパターン4の外縁
での応力集中が生じにくい。それゆえ、プリントパター
ン4と接合面21の外縁部との間に生じる熱歪みが、溝
20内の厚いハンダ層9の変形により吸収されて、ハン
ダ層9の外縁部での熱歪みによる応力が緩和される。そ
の結果、半導体素子7が搭載されている基板3と放熱板
2との間で、両者を接合しているハンダ層9が剥離する
不具合は防止され、半導体素子7の冷却不良による過熱
不具合が防止されて、半導体素子7の信頼性が向上す
る。
【0019】したがって本実施例によれば、放熱板2の
接合面21の周囲に溝20を形成するという工数が少な
い加工だけで、基板3と放熱板2とを接合しているハン
ダ層9が剥離する不具合は防止されるという効果があ
る。その結果、低コストでハンダ層9の剥離防止がなさ
れている半導体素子7の放熱装置を量産することが可能
になるという効果もある。
接合面21の周囲に溝20を形成するという工数が少な
い加工だけで、基板3と放熱板2とを接合しているハン
ダ層9が剥離する不具合は防止されるという効果があ
る。その結果、低コストでハンダ層9の剥離防止がなさ
れている半導体素子7の放熱装置を量産することが可能
になるという効果もある。
【0020】また、放熱板2の接合面21の外縁部に形
成されている溝20の位置がはっきりしているので、基
板3を放熱板2に接合する際に溝20が位置決めの基準
になり、基板3の放熱板2上での位置決めが容易になる
という効果もある。さらに本実施例では、放熱板2の接
合面21が溝の周囲の表面22と同一平面にあるので、
接合面21には何も加工を加えることなく、接合面21
の周囲に溝20を形成するだけで、周囲の表面22と隔
離されている接合面21が自然に形成される。したがっ
て本実施例によれば、加工工数がいっそう少なくて済
み、コストダウンになるという効果がある。
成されている溝20の位置がはっきりしているので、基
板3を放熱板2に接合する際に溝20が位置決めの基準
になり、基板3の放熱板2上での位置決めが容易になる
という効果もある。さらに本実施例では、放熱板2の接
合面21が溝の周囲の表面22と同一平面にあるので、
接合面21には何も加工を加えることなく、接合面21
の周囲に溝20を形成するだけで、周囲の表面22と隔
離されている接合面21が自然に形成される。したがっ
て本実施例によれば、加工工数がいっそう少なくて済
み、コストダウンになるという効果がある。
【0021】(実施例の変形態様)本実施例では、前述
のように放熱板2の溝20を鍛造により形成していた
が、その他にもケミカルミーリング、フライス加工等の
加工方法で溝を形成することも可能である。また、放熱
板2の接合面21を周囲の表面22よりも低く形成し、
基板3の位置決め精度を高めることができる変形態様も
可能である。
のように放熱板2の溝20を鍛造により形成していた
が、その他にもケミカルミーリング、フライス加工等の
加工方法で溝を形成することも可能である。また、放熱
板2の接合面21を周囲の表面22よりも低く形成し、
基板3の位置決め精度を高めることができる変形態様も
可能である。
【図1】 実施例としての半導体素子の放熱装置の構成
を示す断面図
を示す断面図
1:放熱器(ヒートシンク) 10:冷媒の流路
12:冷媒 2:放熱板 20:溝 21:接合面 22:表
面 3:セラミック基板 4,6:プリントパターン
5:プリント配線 7:半導体素子 8:ボンディングワイヤ 9:ハンダ層 11:外部取り出し端子
12:冷媒 2:放熱板 20:溝 21:接合面 22:表
面 3:セラミック基板 4,6:プリントパターン
5:プリント配線 7:半導体素子 8:ボンディングワイヤ 9:ハンダ層 11:外部取り出し端子
Claims (3)
- 【請求項1】発熱する半導体素子が表面に搭載されてお
り、ハンダ接合用のプリントパターンが裏面に形成され
ている不導体からなる基板と、 該プリントパターンに対面している接合面と該接合面の
外縁部に沿って所定の幅で形成されている溝とが表面に
形成されており、該接合面および該溝は該プリントパタ
ーンにハンダ付けされていて該不導体基板と接合されて
いる放熱板と、を有することを特徴とする、半導体素子
の放熱装置。 - 【請求項2】前記溝の外縁は、前記プリントパターンの
外縁よりも外側に形成されており、 該溝の内縁は、該プリントパターンの該外縁よりも内側
に形成されている、 請求項1記載の半導体素子の放熱装置。 - 【請求項3】前記放熱板の前記接合面は、前記溝の周囲
の前記表面と同一平面にある、 請求項1記載の半導体素子の放熱装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP34438796A JPH10189845A (ja) | 1996-12-25 | 1996-12-25 | 半導体素子の放熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP34438796A JPH10189845A (ja) | 1996-12-25 | 1996-12-25 | 半導体素子の放熱装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10189845A true JPH10189845A (ja) | 1998-07-21 |
Family
ID=18368863
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP34438796A Pending JPH10189845A (ja) | 1996-12-25 | 1996-12-25 | 半導体素子の放熱装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH10189845A (ja) |
Cited By (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6762491B1 (en) | 2003-01-23 | 2004-07-13 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Power semiconductor device |
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-
1996
- 1996-12-25 JP JP34438796A patent/JPH10189845A/ja active Pending
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