JPH09321215A - マイクロ波回路用パッケージ - Google Patents

マイクロ波回路用パッケージ

Info

Publication number
JPH09321215A
JPH09321215A JP8109617A JP10961796A JPH09321215A JP H09321215 A JPH09321215 A JP H09321215A JP 8109617 A JP8109617 A JP 8109617A JP 10961796 A JP10961796 A JP 10961796A JP H09321215 A JPH09321215 A JP H09321215A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mmic
substrate
microwave circuit
package
metal substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP8109617A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3638173B2 (ja
Inventor
Hiroshi Uematsu
博 植松
Hiroshi Kudo
工藤  浩
Masanobu Urabe
正信 浦辺
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Honda Motor Co Ltd
Original Assignee
Honda Motor Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Honda Motor Co Ltd filed Critical Honda Motor Co Ltd
Priority to JP10961796A priority Critical patent/JP3638173B2/ja
Priority to DE69716498T priority patent/DE69716498T2/de
Priority to EP97104637A priority patent/EP0798782B1/en
Priority to US08/820,817 priority patent/US5847453A/en
Publication of JPH09321215A publication Critical patent/JPH09321215A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3638173B2 publication Critical patent/JP3638173B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/58Structural electrical arrangements for semiconductor devices not otherwise provided for, e.g. in combination with batteries
    • H01L23/64Impedance arrangements
    • H01L23/66High-frequency adaptations
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/02Containers; Seals
    • H01L23/04Containers; Seals characterised by the shape of the container or parts, e.g. caps, walls
    • H01L23/043Containers; Seals characterised by the shape of the container or parts, e.g. caps, walls the container being a hollow construction and having a conductive base as a mounting as well as a lead for the semiconductor body
    • H01L23/045Containers; Seals characterised by the shape of the container or parts, e.g. caps, walls the container being a hollow construction and having a conductive base as a mounting as well as a lead for the semiconductor body the other leads having an insulating passage through the base
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/552Protection against radiation, e.g. light or electromagnetic waves
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L24/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • H01L2224/0554External layer
    • H01L2224/05599Material
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/45001Core members of the connector
    • H01L2224/4501Shape
    • H01L2224/45012Cross-sectional shape
    • H01L2224/45014Ribbon connectors, e.g. rectangular cross-section
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/45001Core members of the connector
    • H01L2224/45099Material
    • H01L2224/451Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
    • H01L2224/45138Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
    • H01L2224/45144Gold (Au) as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48135Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
    • H01L2224/48137Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being arranged next to each other, e.g. on a common substrate
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48225Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • H01L2224/4823Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation connecting the wire to a pin of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/485Material
    • H01L2224/48505Material at the bonding interface
    • H01L2224/48599Principal constituent of the connecting portion of the wire connector being Gold (Au)
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • H01L2224/491Disposition
    • H01L2224/4912Layout
    • H01L2224/49175Parallel arrangements
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L24/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L24/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/00014Technical content checked by a classifier the subject-matter covered by the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group, being disclosed without further technical details
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01005Boron [B]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01006Carbon [C]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01079Gold [Au]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/102Material of the semiconductor or solid state bodies
    • H01L2924/1025Semiconducting materials
    • H01L2924/1026Compound semiconductors
    • H01L2924/1032III-V
    • H01L2924/10329Gallium arsenide [GaAs]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/13Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
    • H01L2924/1304Transistor
    • H01L2924/1306Field-effect transistor [FET]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/14Integrated circuits
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/14Integrated circuits
    • H01L2924/141Analog devices
    • H01L2924/1423Monolithic Microwave Integrated Circuit [MMIC]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/151Die mounting substrate
    • H01L2924/153Connection portion
    • H01L2924/1531Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface
    • H01L2924/15312Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface being a pin array, e.g. PGA
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/151Die mounting substrate
    • H01L2924/156Material
    • H01L2924/157Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/161Cap
    • H01L2924/1615Shape
    • H01L2924/16152Cap comprising a cavity for hosting the device, e.g. U-shaped cap
    • H01L2924/1616Cavity shape
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/161Cap
    • H01L2924/1615Shape
    • H01L2924/16195Flat cap [not enclosing an internal cavity]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/19Details of hybrid assemblies other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/1901Structure
    • H01L2924/1904Component type
    • H01L2924/19041Component type being a capacitor
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/19Details of hybrid assemblies other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/1901Structure
    • H01L2924/1904Component type
    • H01L2924/19043Component type being a resistor
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/30Technical effects
    • H01L2924/301Electrical effects
    • H01L2924/30105Capacitance
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/30Technical effects
    • H01L2924/301Electrical effects
    • H01L2924/30107Inductance

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Waveguides (AREA)
  • Combinations Of Printed Boards (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 パッケージ内容積を小さく構成でき、安定し
た高周波特性が得られる信頼性の高いマイクロ波回路用
パッケージを提供する。 【解決手段】 金属製基板3を備え、この金属製基板3
上にモノリシックマイクロ波集積回路(MMIC)1
1,12を取り付けて封止した構造のマイクロ波回路用
パッケージにおいて、同一の金属製基板3上に複数のM
MIC11,12を取り付けると共に、各MMIC1
1,12を仕切る誘電体のスペーサ15を取り付けて封
止したことを特徴とするマイクロ波回路用パッケージ1
0。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、モノリシックマイ
クロ波集積回路(MMIC)等を使用したマイクロ波回
路を封止して回路形成するのに好適なマイクロ波回路用
パッケージの改良に関する。
【0002】
【従来の技術】特開平4−129402号公報に記載さ
れているように、一般にGaAsFET等のMMIC素
子を使用したマイクロ波回路は、MMIC素子そのもの
とこれを駆動する駆動回路とが接続されて構成される。
【0003】半導体チップで構成されたMMIC素子
は、一般には気密状態にシーリング(封止)されて使用
されるので、駆動回路とともに図10のように接続構成
されていた。
【0004】即ち、チップ状のMMIC素子1は、その
駆動回路21を形成したセラミックの回路基板2ととも
に、コバール(kovar)等の金属製基板(ベースプ
レート)3上にマウントされている。
【0005】駆動回路21は、抵抗体やコンデンサ・チ
ップ、トランジスタ・チップ等、単体部品からなる他の
回路素子21Aにより、ハイブリッド構成されている。
【0006】この駆動回路21の一端はボンディングワ
イヤ41によって前記金属製基板3に絶縁して貫通され
たバイアス供給用の直流(DC)端子31に接続されて
いる。
【0007】また、金属製基板3上にマウントされたM
MIC素子1も、同じく絶縁して貫通された高周波(R
F)端子32とボンディングワイヤ42によって接続さ
れている。
【0008】駆動回路21の出力端とMMIC素子1と
の間は、ボンディングワイヤ43によって接続構成され
ているから、DC端子31から供給の直流電力は駆動回
路21により所定のバイアス電圧に変換された後MMI
C素子1に印加され、MMIC素子1の高周波出力はボ
ンディングワイヤ42からRF端子32を経て導出され
る。なお、31A,32Aは絶縁体を示す。
【0009】また、金属製基板3にはパッケージ用のセ
ラミックからなるフレーム5を介して上蓋6が密封され
るように取付けられる。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記構成の
マイクロ波回路用パッケージ50では、金属製基板3上
の同一面にMMIC素子1及び駆動回路21がともにマ
ウントされて(取り付けられて)いるが、全体の小型化
と高集積化の観点から、MMIC素子をこれを組み合わ
せて構成されたMMICとし、複数のMMICをマウン
トする(取り付ける)ことが望まれる。
【0011】しかし、金属製基板3が広くなると、箱状
のパッケージ内空間容積が大きくなるのは避けられず、
その結果、マイクロ波帯(1〜100GHz)の不要波
モードが発生したり、異常共振回路が形成されやすくな
り、マイクロ波回路としての所望の機能が得られないお
それがある。
【0012】そこで本発明は、金属製基板3を備え、こ
の金属製基板3上にMMIC等を取り付けて封止した構
造のマイクロ波回路用パッケージにおいて、上記従来の
課題を解決し、パッケージ内容積をより小さく構成し得
て、同時に安定した高周波特性が得られる信頼性の高い
マイクロ波回路用パッケージを提供することを目的とす
る。
【0013】
【課題を解決するための手段】請求項1に係るマイクロ
波回路用パッケージは、同一の金属製基板上に複数のM
MICを取り付けると共に、各MMICを仕切る誘電体
のスペーサを取り付けて封止したことを特徴とする。
【0014】各MMICを仕切る誘電体のスペーサを取
り付けて封止することで、パッケージ内容積をより小さ
く構成でき、不要波モードや異常共振等を引き起こさな
いようにすることができる。
【0015】また、各MMICを誘電体のスペーサで仕
切りこの誘電体に対して略対称に配置することで、各M
MICを同一の共振系でパッケージングでき、不要波モ
ードや異常共振等を引き起こさないようにすることがで
きると共に、各MMICの動作特性を均一にすることが
でき、マイクロ波回路の信頼性を高めることができる。
【0016】請求項2に係るマイクロ波回路用パッケー
ジは、金属製基板上にMMICの基板と略同一の高さの
誘電体基板を取り付けて封止すると共に、この誘電体基
板上にストリップ導体を設けてマイクロストリップ線路
を形成したことを特徴とする。
【0017】金属製基板上にMMICの基板と略同一の
高さの誘電体基板を取り付けて封止することで、パッケ
ージ内容積をより小さく構成でき、不要波モードや異常
共振等を引き起こさないようにすることができる。
【0018】また、MMICの基板と略同一(同一の場
合を含む)の高さの誘電体基板上にストリップ導体を設
けてマイクロストリップ線路を形成することで、ストリ
ップ導体とMMICの回路面とをほぼ同一平面上に配置
することができると共に両者間の配線を短くすることが
でき、少なくともMMICの基板と誘電体基板の高さが
略同一でない場合に比べてこの高さの違いに基づく不要
波モードや異常共振を抑止することができ、この点でマ
イクロ波回路の動作の信頼性を高めることができる。更
に、このマイクロストリップ線路により高周波信号を低
い伝送損失で安定にMMICに供給することができる。
【0019】請求項3に係るマイクロ波回路用パッケー
ジは、同一の金属製基板上に複数のMMICを取り付け
ると共に、MMICの基板と略同一の高さで各MMIC
を仕切る誘電体基板を取り付けて封止し、この誘電体基
板上にストリップ導体を設けてマイクロストリップ線路
を形成したことを特徴とする。
【0020】金属製基板上にMMICの基板と略同一の
高さの誘電体基板を取り付けて封止することで、パッケ
ージ内容積をより小さく構成でき、不要波モードや異常
共振等を引き起こさないようにすることができる。
【0021】更に、各MMICを誘電体基板で仕切りこ
の誘電体に対して略対称に配置することで、各MMIC
を同一の共振系でパッケージングでき、不要波モードや
異常共振等を引き起こさないようにすることができると
共に、各MMICの動作特性を均一にすることができ、
マイクロ波回路の信頼性を高めることができる。
【0022】また、MMICの基板と略同一(同一の場
合を含む)の高さの誘電体基板上にストリップ導体を設
けてマイクロストリップ線路を形成することで、ストリ
ップ導体とMMICの回路面とをほぼ同一平面上に配置
することができると共に両者間の配線を短くすることが
でき、少なくともMMICの基板と誘電体基板の高さが
略同一でない場合に比べてこの高さの違いに基づく不要
波モードや異常共振を抑止することができ、この点でマ
イクロ波回路の動作の信頼性を高めることができる。更
に、このマイクロストリップ線路により高周波信号を低
い伝送損失で安定にMMICに供給することができる。
【0023】請求項4では、請求項2または請求項3記
載のマイクロ波回路用パッケージにおいて、前記マイク
ロストリップ線路で形成した回路素子を備えたことを特
徴とする。
【0024】マイクロストリップ線路でキャパシタンス
やインダクタンス等の回路素子を形成することで、回路
素子を低く小さく形成することができ、MMIC内に形
成が困難な回路素子、または、MMIC内に小さく形成
することが困難な回路素子をMMIC(のチップ)と一
緒に容易にパッケージングすることができる。
【0025】また、MMICの基板と略同一(同一の場
合を含む)の高さの誘電体基板上にストリップ導体を設
けて回路素子を形成することで、この回路素子とMMI
Cの回路面とをほぼ同一平面上に配置することができる
と共に両者間の配線を短くすることができ、少なくとも
MMICの基板と誘電体基板の高さが略同一でない場合
に比べてこの高さの違いに基づく不要波モードや異常共
振を抑止することができ、この点でマイクロ波回路の動
作の信頼性を高めることができる。
【0026】請求項5では、請求項2〜請求項4記載の
マイクロ波回路用パッケージにおいて、マイクロストリ
ップ線路とMMICとを接続するビームリードを備えた
ことを特徴とする。
【0027】マイクロストリップ線路とMMICとをビ
ームリードで接続することで、強固なリードで少ないイ
ンダクタンスで両者を接続でき、マイクロ波回路の高周
波動作特性の向上を図ることができる。
【0028】また、誘電体基板をMMICの基板と略同
一の高さとすることでビームリードによる接続を容易に
することができる。更に、マイクロ波回路用パッケージ
自体の振動に対しても強い構造とすることができ、マイ
クロ波回路の信頼性を高めることができる。
【0029】請求項6では、請求項1記載のマイクロ波
回路用パッケージにおいて、金属製基板上にフレームを
取り付け、このフレームおよびこれに当接する上蓋でM
MICを封止すると共に、誘電体のスペーサをMMIC
の基板よりも高くし、この誘電体をフレームの材質と同
一にしたことを特徴とする。
【0030】誘電体のスペーサをMMICの基板よりも
高くし、この誘電体をフレームの材質と同一にすること
で、各MMICをあたかもフレームで仕切って取り囲む
ようにすることができ、この誘電体に対してMMICを
略対称に配置することで、各MMICを同一の共振系で
パッケージングでき、不要波モードや異常共振等を引き
起こさないようにすることができるとともに、各MMI
Cの動作特性を均一にすることができ、マイクロ波回路
の信頼性を高めることができる。
【0031】
【発明の実施の形態】以下、本発明を図面に示す実施形
態に基づいて説明する。なお、図10に示した従来の構
成と同一構成には同一符号を付して詳細な説明は省略す
る。
【0032】図1は、本発明のマイクロ波回路用パッケ
ージの説明的断面図である。図2は、本発明のマイクロ
波回路用パッケージの説明的平面図であり、図1におい
てフレーム5と上蓋6(例えば、誘電体で構成した上
蓋)を取り除いた場合の平面図に対応し、−矢視断
面図が図1に対応している。
【0033】図1と図2に示すマイクロ波回路用パッケ
ージ10は、金属製基板3を備え、この金属製基板3上
にMMIC11,12を取り付けて封止した構造をなし
ている。同一の金属製基板3上に複数のMMIC11,
12を取り付けると共に、各MMIC11,12を仕切
る誘電体のスペーサ15を取り付けて封止してある。
【0034】MMIC11の一端(電源供給端)は、金
属製基板3を絶縁して貫通し所定のバイアス電圧を供給
するバイアス供給用のDC端子34,35とボンディン
グワイヤ44,45によって接続されている。
【0035】MMIC12の一端(電源供給端)は、金
属製基板3を絶縁して貫通し所定のバイアス電圧を供給
するバイアス供給用のDC端子36,37とボンディン
グワイヤ46,47によって接続されている。
【0036】各MMICを仕切る誘電体のスペーサを取
り付けて封止することで、パッケージ内容積をより小さ
く構成し、誘電体のスペーサに対して各MMICと各D
C端子を略対称に配置している。
【0037】MMIC11の高周波入力端は、RF端子
11Aとボンディングワイヤによって接続されている。
MMIC11の2つの高周波出力端は、各々RF端子1
1B,11Cとボンディングワイヤによって接続されて
いる。
【0038】MMIC12の高周波入力端は、RF端子
12Aとボンディングワイヤによって接続されている。
MMIC12の2つの高周波出力端は、各々RF端子1
2B,12Cとボンディングワイヤによって接続されて
いる。
【0039】DC端子34〜37を金属製基板3面の垂
直方向に伸ばし、RF端子11A〜11C,12A〜1
2Cを金属製基板3の対向する辺に設けて金属製基板3
面の水平方向または略水平方向に伸ばすことで、このマ
イクロ波回路用パッケージ10の隣接配置および高密度
実装ができるようにしている。
【0040】図3は、本発明のマイクロ波回路用パッケ
ージの説明的断面図である。図4は、本発明のマイクロ
波回路用パッケージの説明的平面図であり、図3におい
てフレーム5と上蓋6を取り除いた場合の平面図に対応
し、−矢視断面図が図3に対応している。
【0041】図3と図4に示すマイクロ波回路用パッケ
ージ10は、金属製基板3を備え、この金属製基板3上
にMMIC11,12,13を取り付けて封止した構造
をなしている。同一の金属製基板3上に複数のMMIC
11,12,13を取り付けると共に、MMIC11,
12を仕切る誘電体のスペーサ15と、MMIC12,
13を仕切る誘電体のスペーサ16とを取り付けて封止
してある。
【0042】MMIC11の一端(電源供給端)は、金
属製基板3を絶縁して貫通し所定のバイアス電圧を供給
するバイアス供給用のDC端子34,35とボンディン
グワイヤ44,45によって接続されている。
【0043】MMIC12の一端(電源供給端)は、金
属製基板3を絶縁して貫通し所定のバイアス電圧を供給
するバイアス供給用のDC端子36,37とボンディン
グワイヤ46,47によって接続されている。
【0044】MMIC13の一端(電源供給端)は、金
属製基板3を絶縁して貫通し所定のバイアス電圧を供給
するバイアス供給用のDC端子38,39とボンディン
グワイヤ48,49によって接続されている。
【0045】各MMICを仕切る誘電体のスペーサを取
り付けて封止することで、パッケージ内容積をより小さ
く構成し、誘電体のスペーサに対して各MMICと各D
C端子を略対称に配置している。
【0046】MMIC11の高周波入力端は、RF端子
11Aとボンディングワイヤによって接続されている。
MMIC11の2つの高周波出力端は、各々RF端子1
1B,11Cとボンディングワイヤによって接続されて
いる。
【0047】MMIC12の高周波入力端は、RF端子
12Aとボンディングワイヤによって接続されている。
MMIC12の2つの高周波出力端は、各々RF端子1
2B,12Cとボンディングワイヤによって接続されて
いる。
【0048】MMIC13の高周波入力端は、RF端子
13Aとボンディングワイヤによって接続されている。
MMIC13の2つの高周波出力端は、各々RF端子1
3B,13Cとボンディングワイヤによって接続されて
いる。
【0049】DC端子34〜39を金属製基板3面の垂
直方向に伸ばし、RF端子11A〜11C,12A〜1
2C,13A〜13Cを金属製基板3の対向する辺に設
けて金属製基板3面の水平方向または略水平方向に伸ば
すことで、このマイクロ波回路用パッケージ10の隣接
配置および高密度実装ができるようにしている。
【0050】図5は、本発明のマイクロ波回路用パッケ
ージの説明的断面図である。図6は、本発明のマイクロ
波回路用パッケージの説明的平面図であり、図5におい
てフレーム5と上蓋6を取り除いた場合の平面図に対応
し、−矢視断面図が図5に対応している。
【0051】図5と図6に示すマイクロ波回路用パッケ
ージ10は、金属製基板3を備え、この金属製基板3上
にMMIC11,12を取り付けて封止した構造をなし
ている。金属製基板3上にMMIC11,12の基板
(MMICチップ)と略同一の高さの誘電体基板14を
取り付けて封止すると共に、この誘電体基板14上にス
トリップ導体(不図示)を設け、このストリップ導体と
誘電体基板14と金属製基板3とでマイクロストリップ
線路を形成している。例えば、ストリップ導体の幅を
0.48mmとし、ストリップ導体の高さを0.006
mmとし、誘電体基板14の高さは0.51mmとして
その材料にアルミナ磁器を使用する。
【0052】MMIC11の一端は、金属製基板3を絶
縁して貫通し所定のバイアス電圧を供給するバイアス供
給用のDC端子34,35とボンディングワイヤ44,
45によって接続されている。
【0053】MMIC12の一端は、金属製基板3を絶
縁して貫通し所定のバイアス電圧を供給するバイアス供
給用のDC端子36,37とボンディングワイヤ46,
47によって接続されている。
【0054】金属製基板3上にMMIC11,12の基
板と略同一の高さの誘電体基板14を取り付けて封止す
ることで、パッケージ内容積をより小さく構成してい
る。
【0055】MMIC11,12とマイクロストリップ
線路とをビームリード11D,12Dで接続している。
MMIC11の高周波入力端は、誘電体基板14上のス
トリップ導体(不図示)とビームリード11Dによって
接続されている。MMIC12の高周波入力端は、誘電
体基板14上のストリップ導体(不図示)とビームリー
ド12Dによって接続されている。
【0056】MMIC11の2つの高周波出力端は、各
々RF端子11B,11Cとボンディングワイヤによっ
て接続されている。MMIC12の2つの高周波出力端
は、各々RF端子12B,12Cとボンディングワイヤ
によって接続されている。
【0057】また、誘電体基板14上のストリップ導体
(不図示)は、RF端子14Aとボンディングワイヤに
よって接続されている。誘電体基板14上のストリップ
導体(不図示)により種々の回路素子を形成してもよ
く、例えば、高周波信号を分配する分配器を形成して、
RF端子数を削減してもよい。
【0058】DC端子34〜37を金属製基板3面の垂
直方向に伸ばし、RF端子11B,11C,12B,1
2C,14Aを金属製基板3の対向する辺に設けて金属
製基板3面の水平方向または略水平方向に伸ばすこと
で、このマイクロ波回路用パッケージ10の隣接配置お
よび高密度実装ができるようにしている。
【0059】図7は、本発明のマイクロ波回路用パッケ
ージの説明的平面図であり、フレームと上蓋を取り除い
た場合の平面図に対応し、−矢視断面図は図1のよ
うになる。
【0060】図7に示すマイクロ波回路用パッケージ1
0は、金属製基板3を備え、この金属製基板3上にMM
IC11,12を取り付けて封止した構造をなしてい
る。同一の金属製基板3上に複数のMMIC11,12
を取り付けると共に、各MMIC11,12を仕切る誘
電体のスペーサ15を取り付けて封止してある。また、
金属製基板3上にMMIC11,12の基板(MMIC
チップ)と略同一の高さの誘電体基板14を取り付けて
封止すると共に、この誘電体基板14上にストリップ導
体(不図示)を設け、このストリップ導体と誘電体基板
14と金属製基板3とでマイクロストリップ線路を形成
している。
【0061】MMIC11の一端は、金属製基板3を絶
縁して貫通し所定のバイアス電圧を供給するバイアス供
給用のDC端子34,35とボンディングワイヤ44,
45によって接続されている。
【0062】MMIC12の一端は、金属製基板3を絶
縁して貫通し所定のバイアス電圧を供給するバイアス供
給用のDC端子36,37とボンディングワイヤ46,
47によって接続されている。
【0063】各MMIC11,12を仕切る誘電体のス
ペーサ15を取り付けて封止することで、パッケージ内
容積をより小さく構成し、誘電体のスペーサ15に対し
て各MMICと各DC端子を略対称に配置している。ま
た、金属製基板3上にMMIC11,12の基板と略同
一の高さの誘電体基板14を取り付けて封止すること
で、パッケージ内容積をより小さく構成している。
【0064】MMIC11,12とマイクロストリップ
線路とをビームリード11D,12Dで接続している。
MMIC11の高周波入力端は、誘電体基板14上のス
トリップ導体(不図示)とビームリード11Dによって
接続されている。MMIC12の高周波入力端は、誘電
体基板14上のストリップ導体(不図示)とビームリー
ド12Dによって接続されている。
【0065】MMIC11の2つの高周波出力端は、各
々RF端子11B,11Cとボンディングワイヤによっ
て接続されている。MMIC12の2つの高周波出力端
は、各々RF端子12B,12Cとボンディングワイヤ
によって接続されている。
【0066】また、誘電体基板14上のストリップ導体
(不図示)は、RF端子14Aとボンディングワイヤに
よって接続されている。誘電体基板14上のストリップ
導体(不図示)により種々の回路素子を形成してもよ
く、例えば、高周波信号を分配する分配器を形成して、
RF端子数を削減してもよい。
【0067】DC端子34〜37を金属製基板3面の垂
直方向に伸ばし、RF端子11B,11C,12B,1
2C,14Aを金属製基板3の対向する辺に設けて金属
製基板3面の水平方向または略水平方向に伸ばすこと
で、このマイクロ波回路用パッケージ10の隣接配置お
よび高密度実装ができるようにしている。
【0068】図8は、本発明のマイクロ波回路用パッケ
ージの説明的断面図である。図9は、本発明のマイクロ
波回路用パッケージの説明的平面図であり、図8におい
てフレーム5と上蓋6を取り除いた場合の平面図に対応
し、−矢視断面図が図8に対応している。
【0069】図8と図9に示すマイクロ波回路用パッケ
ージ10は、金属製基板3を備え、この金属製基板3上
にMMIC11,12を取り付けて封止した構造をなし
ている。また、金属製基板3上にMMIC11,12の
基板(MMICチップ)と略同一の高さの誘電体基板1
4を取り付けて封止すると共に、この誘電体基板14上
にストリップ導体(不図示)を設け、このストリップ導
体と誘電体基板14と金属製基板3とでマイクロストリ
ップ線路を形成している。更に、誘電体基板14をT字
型にして各MMIC11,12を仕切るように取り付け
て封止している。
【0070】MMIC11の一端は、金属製基板3を絶
縁して貫通し所定のバイアス電圧を供給するバイアス供
給用のDC端子34,35とボンディングワイヤ44,
45によって接続されている。
【0071】MMIC12の一端は、金属製基板3を絶
縁して貫通し所定のバイアス電圧を供給するバイアス供
給用のDC端子36,37とボンディングワイヤ46,
47によって接続されている。
【0072】各MMIC11,12を仕切る誘電体基板
14を取り付けて封止することで、パッケージ内容積を
より小さく構成し、T字型の誘電体基板14における中
央の突起部に対して各MMICと各DC端子を略対称に
配置している。また、金属製基板3上にMMIC11,
12の基板と略同一の高さの誘電体基板14を取り付け
て封止することで、パッケージ内容積をより小さく構成
している。
【0073】MMIC11,12とマイクロストリップ
線路とをビームリード11D,12Dで接続している。
MMIC11の高周波入力端は、誘電体基板14上のス
トリップ導体(不図示)とビームリード11Dによって
接続されている。MMIC12の高周波入力端は、誘電
体基板14上のストリップ導体(不図示)とビームリー
ド12Dによって接続されている。
【0074】MMIC11の2つの高周波出力端は、各
々RF端子11B,11Cとボンディングワイヤによっ
て接続されている。MMIC12の2つの高周波出力端
は、各々RF端子12B,12Cとボンディングワイヤ
によって接続されている。
【0075】また、誘電体基板14上のストリップ導体
(不図示)は、RF端子14Aとボンディングワイヤに
よって接続されている。誘電体基板14上のストリップ
導体(不図示)により種々の回路素子を形成してもよ
く、例えば、高周波信号を分配する分配器を形成して、
RF端子数を削減してもよい。
【0076】DC端子34〜37を金属製基板3面の垂
直方向に伸ばし、RF端子11B,11C,12B,1
2C,14Aを金属製基板3の対向する辺に設けて金属
製基板3面の水平方向または略水平方向に伸ばすこと
で、このマイクロ波回路用パッケージ10の隣接配置お
よび高密度実装ができるようにしている。
【0077】なお、上記の各実施形態において、誘電体
基板14上のストリップ導体(マイクロストリップ線路
のストリップ導体)とRF端子14Aとを金等のビーム
リードや帯状リボンで接続してもよい。MMIC11,
12,13の高周波入力端とRF端子11A,12A,
13Aとを金等のビームリードや帯状リボンで接続して
もよい。MMIC11,12,13の高周波出力端とR
F端子11B,11C,12B,12C,13B,13
Cとを金等のビームリードや帯状リボンで接続してもよ
い。ビームリード11D,12Dに代えて、帯状リボン
を用いてもよい。RF端子と金属製基板3との間に誘電
体を介在させてもよい。
【0078】上記の各実施形態において、ボンディング
ワイヤを用いずに金等のビームリードや帯状リボンで接
続し、上蓋を低くしてマイクロ波回路用パッケージの小
型化を図ってもよい。
【0079】また、マイクロ波回路用パッケージのフレ
ーム5の材質で誘電体のスペーサ15を形成してもよ
く、マイクロ波回路用パッケージのフレーム5の内側に
金属膜を形成してある場合は、誘電体のスペーサ15の
表面(または側面)に金属膜を形成してもよい。
【0080】RF端子11A〜11C,12A〜12
C,13A〜13C,14Aは、DC端子34〜39と
同様に、金属製基板3面の垂直方向に伸ばしてもよい。
RF端子のボンディング部は常に幅広にする必要はな
く、幅を狭くしてもよい。
【0081】本発明を特願平7−239311号にて提
案しているレーダーモジュール及びアンテナ装置に適用
してもよい。例えば、MMIC中に4個の高周波数の電
界効果トランジスタ(FET)と2個のミキサーを備
え、このMMICをマイクロ波回路用パッケージに複数
取り付けてマルチチップ回路を構成してもよい。
【0082】誘電体基板14上のストリップ導体(不図
示)により種々の回路素子を形成する場合は、ストリッ
プ導体を一部広くしたり、または狭くしたりすることに
より分布定数形回路素子を形成できる。図11にマイク
ロストリップ線路(のストリップ導体)で形成した回路
素子を例示する。なお、上記実施形態は本発明の一例で
あり、本発明は上記実施形態に限定されない。
【0083】
【発明の効果】請求項1のマイクロ波回路用パッケージ
によれば、各MMICを仕切る誘電体のスペーサを取り
付けて封止することで、パッケージ内容積をより小さく
構成でき、不要波モードや異常共振等を引き起こさない
ようにすることができる。
【0084】また、各MMICを誘電体のスペーサで仕
切りこの誘電体に対して略対称に配置することで、各M
MICを同一の共振系でパッケージングでき、不要波モ
ードや異常共振等を引き起こさないようにすることがで
きると共に、各MMICの動作特性を均一にすることが
でき、マイクロ波回路の信頼性を高めることができる。
【0085】請求項2のマイクロ波回路用パッケージに
よれば、金属製基板上にMMICの基板と略同一の高さ
の誘電体基板を取り付けて封止することで、パッケージ
内容積をより小さく構成でき、不要波モードや異常共振
等を引き起こさないようにすることができる。
【0086】また、MMICの基板と略同一(同一の場
合を含む)の高さの誘電体基板上にストリップ導体を設
けてマイクロストリップ線路を形成することで、ストリ
ップ導体とMMICの回路面とをほぼ同一平面上に配置
することができ、ストリップ導体の配線とMMICの配
線とをほぼ同一平面上に配置することができると共に両
者間の配線を短くすることができ、少なくともMMIC
の基板と誘電体基板の高さが略同一でない場合に比べて
この高さの違いに基づく不要波モードや異常共振を抑止
することができ、この点でマイクロ波回路の動作の信頼
性を高めることができる。更に、このマイクロストリッ
プ線路で高周波信号を低い伝送損失で安定にMMICに
供給することができる。
【0087】請求項3のマイクロ波回路用パッケージに
よれば、金属製基板上にMMICの基板と略同一の高さ
の誘電体基板を取り付けて封止することで、パッケージ
内容積をより小さく構成でき、不要波モードや異常共振
等を引き起こさないようにすることができる。
【0088】更に、各MMICを誘電体基板で仕切りこ
の誘電体に対して略対称に配置することで、各MMIC
を同一の共振系でパッケージングでき、不要波モードや
異常共振等を引き起こさないようにすることができると
ともに、各MMICの動作特性を均一にすることがで
き、マイクロ波回路の信頼性を高めることができる。
【0089】また、MMICの基板と略同一(同一の場
合を含む)の高さの誘電体基板上にストリップ導体を設
けてマイクロストリップ線路を形成することで、ストリ
ップ導体とMMICの回路面とをほぼ同一平面上に配置
することができ、ストリップ導体の配線とMMICの配
線とをほぼ同一平面上に配置することができると共に両
者間の配線を短くすることができ、少なくともMMIC
の基板と誘電体基板の高さが略同一でない場合に比べて
この高さの違いに基づく不要波モードや異常共振を抑止
することができ、この点でマイクロ波回路の動作の信頼
性を高めることができる。更に、このマイクロストリッ
プ線路で高周波信号を低い伝送損失で安定にMMICに
供給することができる。
【0090】請求項4のマイクロ波回路用パッケージに
よれば、マイクロストリップ線路(のストリップ導体)
でキャパシタンスやインダクタンス等の回路素子を形成
することで、誘電体基板上に回路素子を低く小さく形成
することができ、MMIC内に形成が困難な回路素子ま
たはMMIC内に小さく形成することが困難な回路素子
をMMICと一緒に容易にパッケージングすることがで
きる。
【0091】また、MMICの基板と略同一(同一の場
合を含む)の高さの誘電体基板上にストリップ導体で形
成した回路素子を備えることで、この回路素子(のスト
リップ導体)とMMICの回路面とをほぼ同一平面上に
配置することができ、回路素子の配線とMMICの配線
とをほぼ同一平面上に配置することができると共に両者
間の配線を短くすることができ、少なくともMMICの
基板と誘電体基板の高さが略同一でない場合に比べてこ
の高さの違いに基づく不要波モードや異常共振を抑止す
ることができ、この点でマイクロ波回路の動作の信頼性
を高めることができる。
【0092】請求項5のマイクロ波回路用パッケージに
よれば、マイクロストリップ線路(のストリップ導体)
とMMICとをビームリードで接続することで、強固な
リードで少ないインダクタンスで両者を接続でき、マイ
クロ波回路の高周波動作特性の向上を図ることができ
る。
【0093】また、ストリップ導体を設けた誘電体基板
をMMICの基板と略同一の高さとすることでビームリ
ードによる接続を容易にすることができる。更に、マイ
クロ波回路用パッケージ自体の振動に対しても強い構造
とすることができ、マイクロ波回路の信頼性を高めるこ
とができる。
【0094】請求項6のマイクロ波回路用パッケージに
よれば、誘電体のスペーサをMMICの基板よりも高く
し、この誘電体をフレームの材質と同一にすることで、
各MMICをあたかもフレームで仕切って取り囲むよう
にすることができ、この誘電体に対してMMICを略対
称に配置することで、各MMICを同一の共振系でパッ
ケージングでき、不要波モードや異常共振等を引き起こ
さないようにすることができるとともに、各MMICの
動作特性を均一にすることができ、マイクロ波回路の信
頼性を高めることができる。
【0095】以上から、本発明によれば、パッケージ内
容積を小さく構成でき、安定した高周波特性が得られる
信頼性の高いマイクロ波回路用パッケージを提供するこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のマイクロ波回路用パッケージの説明的
断面図
【図2】本発明のマイクロ波回路用パッケージの説明的
平面図
【図3】本発明のマイクロ波回路用パッケージの説明的
断面図
【図4】本発明のマイクロ波回路用パッケージの説明的
平面図
【図5】本発明のマイクロ波回路用パッケージの説明的
断面図
【図6】本発明のマイクロ波回路用パッケージの説明的
平面図
【図7】本発明のマイクロ波回路用パッケージの説明的
平面図
【図8】本発明のマイクロ波回路用パッケージの説明的
断面図
【図9】本発明のマイクロ波回路用パッケージの説明的
平面図
【図10】従来のマイクロ波回路用パッケージを示す断
面図
【図11】マイクロストリップ線路で形成した回路素子
の説明図
【符号の説明】
1…MMIC素子 2…回路基板 3…金属製基板 5…フレーム 6…上蓋 10,50…マイクロ波回路用パッケージ 11,12,13…MMIC 11A,11B,11C…高周波端子(RF端子) 11D…ビームリード 12A,12B,12C…高周波端子(RF端子) 12D…ビームリード 13A,13B,13C…高周波端子(RF端子) 14A…高周波端子(RF端子) 14…誘電体基板 15,16…誘電体のスペーサ 21…駆動回路 21A…回路素子 31,32,34〜39…直流端子(DC端子) 31A,32A,34A〜39A…絶縁体 41〜49…ボンディングワイヤ L…長さ λg …波長

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 金属製基板を備え、この金属製基板上に
    MMICを取り付けて封止した構造のマイクロ波回路用
    パッケージにおいて、 同一の金属製基板上に複数のMMICを取り付けると共
    に、各MMICを仕切る誘電体のスペーサを取り付けて
    封止したことを特徴とするマイクロ波回路用パッケー
    ジ。
  2. 【請求項2】 金属製基板を備え、この金属製基板上に
    MMICを取り付けて封止した構造のマイクロ波回路用
    パッケージにおいて、 前記金属製基板上にMMICの基板と略同一の高さの誘
    電体基板を取り付けて封止すると共に、この誘電体基板
    上にストリップ導体を設けてマイクロストリップ線路を
    形成したことを特徴とするマイクロ波回路用パッケー
    ジ。
  3. 【請求項3】 金属製基板を備え、この金属製基板上に
    MMICを取り付けて封止した構造のマイクロ波回路用
    パッケージにおいて、 同一の金属製基板上に複数のMMICを取り付けると共
    に、MMICの基板と略同一の高さで各MMICを仕切
    る誘電体基板を取り付けて封止し、この誘電体基板上に
    ストリップ導体を設けてマイクロストリップ線路を形成
    したことを特徴とするマイクロ波回路用パッケージ。
  4. 【請求項4】 前記マイクロストリップ線路で形成した
    回路素子を備えたことを特徴とする請求項2〜3記載の
    マイクロ波回路用パッケージ。
  5. 【請求項5】 前記マイクロストリップ線路と前記MM
    ICとを接続するビームリードを備えたことを特徴とす
    る請求項2〜4記載のマイクロ波回路用パッケージ。
  6. 【請求項6】 前記金属製基板上にフレームを取り付
    け、このフレームおよびこれに当接する上蓋でMMIC
    を封止すると共に、前記誘電体のスペーサをMMICの
    基板よりも高くし、前記誘電体を前記フレームの材質と
    同一にしたことを特徴とする請求項1記載のマイクロ波
    回路用パッケージ。
JP10961796A 1996-03-27 1996-04-30 マイクロ波回路用パッケージ Expired - Fee Related JP3638173B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10961796A JP3638173B2 (ja) 1996-03-27 1996-04-30 マイクロ波回路用パッケージ
DE69716498T DE69716498T2 (de) 1996-03-27 1997-03-18 Packung für Mikrowellenschaltung
EP97104637A EP0798782B1 (en) 1996-03-27 1997-03-18 Microwave circuit package
US08/820,817 US5847453A (en) 1996-03-27 1997-03-19 Microwave circuit package

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7296896 1996-03-27
JP8-72968 1996-03-27
JP10961796A JP3638173B2 (ja) 1996-03-27 1996-04-30 マイクロ波回路用パッケージ

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH09321215A true JPH09321215A (ja) 1997-12-12
JP3638173B2 JP3638173B2 (ja) 2005-04-13

Family

ID=26414104

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10961796A Expired - Fee Related JP3638173B2 (ja) 1996-03-27 1996-04-30 マイクロ波回路用パッケージ

Country Status (4)

Country Link
US (1) US5847453A (ja)
EP (1) EP0798782B1 (ja)
JP (1) JP3638173B2 (ja)
DE (1) DE69716498T2 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011029346A (ja) * 2009-07-23 2011-02-10 Nec Toshiba Space Systems Ltd マイクロ波用ハイブリッド集積回路
JP2013187839A (ja) * 2012-03-09 2013-09-19 Mitsubishi Electric Corp マイクロ波終端器

Families Citing this family (70)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4329696C2 (de) * 1993-09-02 1995-07-06 Siemens Ag Auf Leiterplatten oberflächenmontierbares Multichip-Modul mit SMD-fähigen Anschlußelementen
US6064286A (en) * 1998-07-31 2000-05-16 The Whitaker Corporation Millimeter wave module with an interconnect from an interior cavity
AU2502300A (en) * 1999-01-12 2000-08-01 Teledyne Technologies Incorporated Micromachined device and method of forming the micromachined device
US6507110B1 (en) 2000-03-08 2003-01-14 Teledyne Technologies Incorporated Microwave device and method for making same
US6930256B1 (en) 2002-05-01 2005-08-16 Amkor Technology, Inc. Integrated circuit substrate having laser-embedded conductive patterns and method therefor
US7334326B1 (en) 2001-06-19 2008-02-26 Amkor Technology, Inc. Method for making an integrated circuit substrate having embedded passive components
US6770822B2 (en) * 2002-02-22 2004-08-03 Bridgewave Communications, Inc. High frequency device packages and methods
US6831371B1 (en) * 2002-03-16 2004-12-14 Amkor Technology, Inc. Integrated circuit substrate having embedded wire conductors and method therefor
US7633765B1 (en) 2004-03-23 2009-12-15 Amkor Technology, Inc. Semiconductor package including a top-surface metal layer for implementing circuit features
US6930257B1 (en) 2002-05-01 2005-08-16 Amkor Technology, Inc. Integrated circuit substrate having laminated laser-embedded circuit layers
US7670962B2 (en) 2002-05-01 2010-03-02 Amkor Technology, Inc. Substrate having stiffener fabrication method
US7028400B1 (en) 2002-05-01 2006-04-18 Amkor Technology, Inc. Integrated circuit substrate having laser-exposed terminals
US7548430B1 (en) 2002-05-01 2009-06-16 Amkor Technology, Inc. Buildup dielectric and metallization process and semiconductor package
US7399661B2 (en) 2002-05-01 2008-07-15 Amkor Technology, Inc. Method for making an integrated circuit substrate having embedded back-side access conductors and vias
US9691635B1 (en) 2002-05-01 2017-06-27 Amkor Technology, Inc. Buildup dielectric layer having metallization pattern semiconductor package fabrication method
US6933603B2 (en) * 2002-07-11 2005-08-23 Teledyne Technologies Incorporated Multi-substrate layer semiconductor packages and method for making same
DE10317018A1 (de) * 2003-04-11 2004-11-18 Infineon Technologies Ag Multichipmodul mit mehreren Halbleiterchips sowie Leiterplatte mit mehreren Komponenten
US11081370B2 (en) 2004-03-23 2021-08-03 Amkor Technology Singapore Holding Pte. Ltd. Methods of manufacturing an encapsulated semiconductor device
US10811277B2 (en) 2004-03-23 2020-10-20 Amkor Technology, Inc. Encapsulated semiconductor package
US7145238B1 (en) 2004-05-05 2006-12-05 Amkor Technology, Inc. Semiconductor package and substrate having multi-level vias
US8826531B1 (en) 2005-04-05 2014-09-09 Amkor Technology, Inc. Method for making an integrated circuit substrate having laminated laser-embedded circuit layers
US7141989B1 (en) * 2006-04-10 2006-11-28 Freescale Semiconductor, Inc. Methods and apparatus for a MEMS varactor
US7589398B1 (en) 2006-10-04 2009-09-15 Amkor Technology, Inc. Embedded metal features structure
US7550857B1 (en) 2006-11-16 2009-06-23 Amkor Technology, Inc. Stacked redistribution layer (RDL) die assembly package
US7750250B1 (en) 2006-12-22 2010-07-06 Amkor Technology, Inc. Blind via capture pad structure
US7752752B1 (en) 2007-01-09 2010-07-13 Amkor Technology, Inc. Method of fabricating an embedded circuit pattern
US7656236B2 (en) 2007-05-15 2010-02-02 Teledyne Wireless, Llc Noise canceling technique for frequency synthesizer
GB0714894D0 (en) * 2007-07-31 2008-07-30 Bae Systems Plc Flexible Joint
US8323771B1 (en) 2007-08-15 2012-12-04 Amkor Technology, Inc. Straight conductor blind via capture pad structure and fabrication method
US8581113B2 (en) 2007-12-19 2013-11-12 Bridgewave Communications, Inc. Low cost high frequency device package and methods
US8179045B2 (en) 2008-04-22 2012-05-15 Teledyne Wireless, Llc Slow wave structure having offset projections comprised of a metal-dielectric composite stack
US8035994B2 (en) * 2008-05-12 2011-10-11 Mitsubishi Electric Corporation High frequency storing case and high frequency module
US8872329B1 (en) 2009-01-09 2014-10-28 Amkor Technology, Inc. Extended landing pad substrate package structure and method
US7960827B1 (en) 2009-04-09 2011-06-14 Amkor Technology, Inc. Thermal via heat spreader package and method
US8623753B1 (en) 2009-05-28 2014-01-07 Amkor Technology, Inc. Stackable protruding via package and method
US8222538B1 (en) 2009-06-12 2012-07-17 Amkor Technology, Inc. Stackable via package and method
US8471154B1 (en) 2009-08-06 2013-06-25 Amkor Technology, Inc. Stackable variable height via package and method
US8796561B1 (en) 2009-10-05 2014-08-05 Amkor Technology, Inc. Fan out build up substrate stackable package and method
US8937381B1 (en) 2009-12-03 2015-01-20 Amkor Technology, Inc. Thin stackable package and method
US9691734B1 (en) 2009-12-07 2017-06-27 Amkor Technology, Inc. Method of forming a plurality of electronic component packages
US8536462B1 (en) 2010-01-22 2013-09-17 Amkor Technology, Inc. Flex circuit package and method
US8300423B1 (en) 2010-05-25 2012-10-30 Amkor Technology, Inc. Stackable treated via package and method
US8294276B1 (en) 2010-05-27 2012-10-23 Amkor Technology, Inc. Semiconductor device and fabricating method thereof
US8552311B2 (en) * 2010-07-15 2013-10-08 Advanced Bionics Electrical feedthrough assembly
US8338229B1 (en) 2010-07-30 2012-12-25 Amkor Technology, Inc. Stackable plasma cleaned via package and method
US8717775B1 (en) 2010-08-02 2014-05-06 Amkor Technology, Inc. Fingerprint sensor package and method
US8337657B1 (en) 2010-10-27 2012-12-25 Amkor Technology, Inc. Mechanical tape separation package and method
US8482134B1 (en) 2010-11-01 2013-07-09 Amkor Technology, Inc. Stackable package and method
US9748154B1 (en) 2010-11-04 2017-08-29 Amkor Technology, Inc. Wafer level fan out semiconductor device and manufacturing method thereof
US8525318B1 (en) 2010-11-10 2013-09-03 Amkor Technology, Inc. Semiconductor device and fabricating method thereof
US8557629B1 (en) 2010-12-03 2013-10-15 Amkor Technology, Inc. Semiconductor device having overlapped via apertures
US8535961B1 (en) 2010-12-09 2013-09-17 Amkor Technology, Inc. Light emitting diode (LED) package and method
US9398694B2 (en) * 2011-01-18 2016-07-19 Sony Corporation Method of manufacturing a package for embedding one or more electronic components
US9721872B1 (en) 2011-02-18 2017-08-01 Amkor Technology, Inc. Methods and structures for increasing the allowable die size in TMV packages
US9013011B1 (en) 2011-03-11 2015-04-21 Amkor Technology, Inc. Stacked and staggered die MEMS package and method
KR101140113B1 (ko) 2011-04-26 2012-04-30 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 반도체 디바이스
US8653674B1 (en) 2011-09-15 2014-02-18 Amkor Technology, Inc. Electronic component package fabrication method and structure
US8633598B1 (en) 2011-09-20 2014-01-21 Amkor Technology, Inc. Underfill contacting stacking balls package fabrication method and structure
GB2496835B (en) 2011-09-23 2015-12-30 Radio Physics Solutions Ltd Package for high frequency circuits
US9029962B1 (en) 2011-10-12 2015-05-12 Amkor Technology, Inc. Molded cavity substrate MEMS package fabrication method and structure
US9799592B2 (en) 2013-11-19 2017-10-24 Amkor Technology, Inc. Semicondutor device with through-silicon via-less deep wells
KR101366461B1 (ko) 2012-11-20 2014-02-26 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 반도체 디바이스 및 그 제조 방법
JP5851439B2 (ja) * 2013-03-07 2016-02-03 株式会社東芝 高周波半導体用パッケージ
US9202660B2 (en) 2013-03-13 2015-12-01 Teledyne Wireless, Llc Asymmetrical slow wave structures to eliminate backward wave oscillations in wideband traveling wave tubes
KR101488590B1 (ko) 2013-03-29 2015-01-30 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 반도체 디바이스 및 그 제조 방법
KR101607981B1 (ko) 2013-11-04 2016-03-31 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 반도체 패키지용 인터포저 및 이의 제조 방법, 제조된 인터포저를 이용한 반도체 패키지
US9559038B2 (en) * 2015-04-30 2017-01-31 Deere & Company Package for a semiconductor device
US9960328B2 (en) 2016-09-06 2018-05-01 Amkor Technology, Inc. Semiconductor device and manufacturing method thereof
JP6319490B1 (ja) * 2017-03-23 2018-05-09 住友大阪セメント株式会社 光変調器
US10319654B1 (en) * 2017-12-01 2019-06-11 Cubic Corporation Integrated chip scale packages

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0732227B2 (ja) * 1987-02-09 1995-04-10 富士通株式会社 マイクロ波回路
JPH0738568B2 (ja) * 1987-10-20 1995-04-26 株式会社富士通ゼネラル 衛星放送テレビ受信機のチューナ回路
JP2701348B2 (ja) * 1988-08-23 1998-01-21 日本電気株式会社 半導体装置
JP2845482B2 (ja) * 1989-03-24 1999-01-13 株式会社東芝 ワイヤラップ用ワイヤの製作方法
JPH07105608B2 (ja) * 1990-03-01 1995-11-13 三菱電機株式会社 マイクロ波集積回路収納ケース
JPH03297201A (ja) * 1990-04-16 1991-12-27 Mitsubishi Electric Corp 高周波半導体装置
JPH04129402A (ja) * 1990-09-20 1992-04-30 Toshiba Corp マイクロ波回路用パッケージ
JPH04183001A (ja) * 1990-11-16 1992-06-30 Mitsubishi Electric Corp マイクロ波ic用パッケージ
JPH04213863A (ja) * 1990-12-11 1992-08-04 Fujitsu Ltd Ic実装用パッケージ/キャリア
US5422513A (en) * 1992-10-16 1995-06-06 Martin Marietta Corporation Integrated circuit chip placement in a high density interconnect structure
JP2823461B2 (ja) * 1992-12-11 1998-11-11 三菱電機株式会社 高周波帯ic用パッケージ
US5559363A (en) * 1995-06-06 1996-09-24 Martin Marietta Corporation Off-chip impedance matching utilizing a dielectric element and high density interconnect technology

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011029346A (ja) * 2009-07-23 2011-02-10 Nec Toshiba Space Systems Ltd マイクロ波用ハイブリッド集積回路
JP2013187839A (ja) * 2012-03-09 2013-09-19 Mitsubishi Electric Corp マイクロ波終端器

Also Published As

Publication number Publication date
DE69716498D1 (de) 2002-11-28
JP3638173B2 (ja) 2005-04-13
EP0798782B1 (en) 2002-10-23
DE69716498T2 (de) 2003-02-27
US5847453A (en) 1998-12-08
EP0798782A2 (en) 1997-10-01
EP0798782A3 (en) 1999-07-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH09321215A (ja) マイクロ波回路用パッケージ
EP0503200B1 (en) Package for microwave integrated circuit
US7164905B2 (en) High frequency module
JPH02280502A (ja) Vhf集積回路用パッケージ
US4996588A (en) Device for interconnection and protection of a bare microwave component chip
JP2609634B2 (ja) チップ化モジュール
JPH11330298A (ja) 信号端子付パッケージおよびそれを用いた電子装置
US5258646A (en) Package for microwave IC
CN113130429A (zh) 半导体装置
JPH11204690A (ja) 表面実装型パッケージ及び半導体装置
WO2023053228A1 (en) Semiconductor device
JP2000243877A (ja) 半導体装置用パッケージとその実装構造
JPS6255721B2 (ja)
JP2002050733A (ja) 高周波用パッケージ、配線ボードおよび高周波モジュール
JPH0427170Y2 (ja)
JPH0744023Y2 (ja) マイクロ波集積回路用パツケ−ジ
JPS61168939A (ja) マイクロ波集積回路用外囲器
JP2000151222A (ja) 高周波モジュール
JP2000323595A (ja) 半導体装置
JP2001210752A (ja) 高周波半導体装置
JP2977519B2 (ja) マイクロ波パッケージ
JPH0445247Y2 (ja)
JPH01108745A (ja) 半導体装置
JPS5910075B2 (ja) 電界効果型トランジスタ
JPH07231051A (ja) マイクロ波集積回路用外囲器

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20040324

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20041007

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20041206

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20050106

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20050107

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080121

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090121

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100121

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100121

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110121

Year of fee payment: 6

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees