JPH088392A - 半導体装置及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
半導体装置に関し、装置の小型、薄型化を図ると共に、
高速処理化、低コスト化を図ることを目的とする。 【構成】 機能の異なるチップユニット321 〜326
の側面に端子33が所定数形成され、各チップユニット
321 〜326 が隣接同士で側面で対向する各端子33
を接触させて突き合わされて半導体装置としてのチップ
ブロックモジュール31を構成する。
Description
で構成される半導体装置に関する。
機能化の要請に対して半導体装置の高集積化、高速化が
図られる中で、デバイスの短期間での開発、供給が望ま
れている。
として、QFP(Quad FlatPackage)
パッケージのものが使用されてきており、そのリードピ
ンの増大、リードピッチの縮小化が行われている。
装置の基板実装の説明図を示す。図18において、半導
体装置11は、パッケージ12の側部四方よりリード1
3が延出され、ガルウィング形状に形成される。
樹脂等の材料上に上記半導体装置11のリード13や他
の部品に対応したパターン15が形成され、対応するパ
ターン(パッド15)上にはんだにより半導体装置11
等が実装される。
的低温(約180℃程度)で溶けることから作業性が良
好であると共に、ガラス・エポキシ樹脂が安価であり、
広く使用されている。
ックパッケージのものはリードフレームのステージ上に
半導体チップ(チップユニット)が搭載され、インナリ
ードとの間でワイヤボンディングされて樹脂封止される
ものである。そして、さらなる高集積化を図るために、
単一のパッケージ内に複数の半導体チップを搭載するマ
ルチチップモジュールのものが出現してきている。
の側断面図を示す。図19(A)に示す半導体装置21
A は、母材(マザーボード)22a上に複数の半導体チ
ップ23が搭載されてワイヤ24により電気的接続が行
われる。母材22aはステージ25上に載置され、イン
ナリード26aと母材22a間でワイヤ24により電気
的接続が行われる。そして、樹脂封止によりパッケージ
27が形成され、アウタリード28aがJ形状に折曲さ
れたものである。
B は、母材22b上に複数の半導体チップ23が搭載さ
れてワイヤ24により電気的接続される。母材22bは
リードフレームのインナリード26bと直接に接続され
た後にパッケージ27が形成される。そして、アウタリ
ード28aがガルウィング状に折曲されたものである。
図19(B)の半導体装置21B の母材22bの裏面が
表出されるパッケージ27aが形成され、表出された母
材22bの裏面に放熱部材29が設けられたものであ
る。
1D は、図19(B)の半導体装置21B の母材22b
上に搭載された複数の半導体チップ23にバンプ23a
が形成されて、母材22bとの間でテープリード30を
用いてフリップチップ接合したものである。
ように、実装基板14上に半導体装置11を含めて複数
個の部品をレイアウトすることから、配線長が長くなっ
て基板面積が増大され、動作の高速化、コンパクト化が
阻害されると共に、不良部品の交換が困難となって基板
毎の交換となり、コスト高の原因になるという問題があ
る。
チップモジュールの半導体装置21 A 〜21D は、半導
体チップ23と母材22a,22bとの接続をワイヤ2
4又はテープリード30を用いて行われていることか
ら、配線長による高速処理が阻害されると共に、半導体
チップ23に機能追加を行う場合に設計のやり直しや製
作のための部品交換を必要として汎用性がなくなり、工
数及製造コストが増大するという問題がある。
もので、装置の小型、薄型化を図ると共に、高速処理
化、低コスト化を図る半導体装置を提供することを目的
とする。
に、請求項1では、所定数の端子が形成された所定機能
を有する所定形状のチップユニットと、前記チップユニ
ットを側面で複数突き合わせにより平面形状とされてユ
ニット間の対応する前記端子間の電気的接続を行う接続
手段と、を有する構成とする。
子が前記チップユニットの側面に形成され、前記接続手
段として隣接する前記チップユニットの側面の対応する
前記端子間を接触させる。
子が前記チップユニットの側面に形成され、前記接続手
段として前記各チップユニットの側面間に前記端子間の
接続を介在させる接続部材が設けられる。
子が前記チップユニット表面に切欠き状で形成され、前
記接続手段が前記チップユニットを側面で突き合わせた
ときに前記切欠き状の前記端子間で形成される凹部分に
導電部材を介在させて接続させる。
子が前記チップユニットの上面で形成され、前記接続手
段が前記端子間をリード部材で接続させる。
記チップユニットが、一辺が所定長さの整数倍の多角形
状に形成される。
記チップユニットが、側面に突き合わせ部分を有して曲
面形状に形成される。
続手段で突き合わされる前記チップユニットを、ベース
部材上に平面的に固定されて実装される。
ップユニットの側面に前記端子が形成されると共に、前
記ベース部材に形成された固定部に熱可塑自在に前記端
子を溶着させて固定させる。
ベース部材固定部は、スルーホールで形成される。
成された所定機能を有する所定形状のチップユニット
を、前記端子に対応する固定部が形成されたベース部材
上に所定数載置する工程と、前記チップユニットを前記
ベース部材上に載置する際に、隣接する前記チップユニ
ットの対向する端子間の電気的接続を行う工程と、前記
固定部と所定の前記端子との電気的接続を行う工程と、
を含んで半導体装置の製造方法を構成する。
記固定部と前記端子との電気的接続を光照射による溶着
により、又は熱可塑の導電接合部材を溶融させて行う。
記ベース部材の前記固定部をスルーホールで形成し、前
記スルーホールと前記チップユニットの前記端子とに、
前記ベース部材の裏面の前記スルーホールより光を照射
して溶着させて電気的接続を行う。
た所定機能を有するチップユニットと、前記端子が側面
に形成された前記チップユニットを、側面を当接させて
高さ方向に所定角度で所定数固定されて実装されるベー
ス部材と、を有して半導体装置が構成される。
記チップユニットに、他のチップユニットを搭載させ
る。
いて、前記ベース部材に実装された所定数の前記チップ
ユニット間の電気的配線を行う連結ユニットが設けられ
る。
ベース部材に又はその近傍に冷却手段が設けられる。
記冷却手段は、前記ベース部材を分割し、又は分割して
前記ベース部材間に冷却部材を流通させる流通部が設け
られる。
記冷却手段は、前記ベース部材に設けられた放熱突起部
又は冷却ファンで構成される。
て、チップユニットが所定数搭載されたベース部材を冷
却液に浸漬させる。
て、前記ベース部材を、配線部を備える積層構造とし、
前記ベース部材の片面又は表裏両面に前記チップユニッ
トが搭載される。
記ベース部材に中空部及び表裏両面に連通する通気孔が
所定数形成される。
ベース部材は、配線部を備える可撓部材で形成される。
ベース部材の所定部分に穴又は棒部材が設けられる。
て、前記ベース部材の前記チップユニットが搭載される
それぞれの領域に、前記チップユニットの交換時に取り
外すための押出し開口部が形成される。
形成のウエハ処理がなされたウエハにおける所定数のチ
ップユニットとなる領域上の端子となる部分に穿孔手段
により凹部が形成される工程と、前記凹部に導電部材が
埋め込まれて端子が形成される工程と、前記ウエハを前
記チップユニットごとに切断する工程と、を含んで半導
体装置の製造方法が構成される。
成された前記チップユニットを、隣接させて所定数配列
させる。
記所定数配列されたチップユニットをベース部材上に搭
載させる。
記穿孔手段は、光照射又はブレードで構成される。
て、前記凹部の形成前、前記凹部形成の際、前記端子形
成の際、前記チップユニットの配列後、又は前記ベース
部材上への搭載後に、前記チップユニットに形成された
前記回路パターン、前記端子の必要な切断修正を前記穿
孔手段により行う。
ベース部材と、搭載される所定数の前記チップユニット
との間に振動吸収部材が介在される。
数の前記チップユニットが搭載された前記ベース部材
に、前記チップユニットを保護する保護部材が設けられ
る。
記ベース部材が前記保護部材と一部重複する形状で形成
され、前記ベース部材と前記保護部材とが着脱自在に係
合され、又はシール部材を介在させて係合される。
が側面で、電気的接続が行われて平面的に突き合わされ
たモジュールと、所定数の前記モジュールが電気的に接
続されて積層状態又は高さ方向で搭載される所定数の基
板と、を有して半導体装置を構成する。
端子が形成された所定機能のチップユニットを複数側面
で平面的に突き合わせて接続手段で端子間の電気的接続
を行わせる。これにより、交換自在に低コストで必要な
チップユニットをコンパクトに構成可能であり、装置の
小型、薄型化が図られると共に、接続手段で接続長が短
縮されて高速処理化を図ることが可能となる。
トの側面に端子が形成されてチップユニットの側面で直
接又は接続部材を介在させて突き合わせて接続される。
これにより、ユニット間の配線が不要となって高速処理
化を図ることが可能となる。
き合わせることで形成される凹部分に導電部材を介在さ
せて接続させる。これにより、ユニット間の配線が不要
となって高速処理化を図ることが可能となる。
るチップユニットの上面に形成された端子をリード部材
で接続する。これにより、隣接以外のチップユニットへ
の接続が可能となって設計が容易となり低コスト化を図
ることが可能となる。
辺が所定長さの整数倍の多角形状で形成する。これによ
り、コンパクト構成で装置の小型、薄型化を図ることが
可能となる。
面に突き合わせ部分を有して曲面形状に形成される。こ
れにより、何れの形状であってもコンパクト構成で装置
の小型、薄型化を図ることが可能となる。
チップユニットが側面の端子を突き合わせてベース部材
上に載置され、所定の端子とベース部材上の固定部とが
熱可塑自在に溶着固定される。これにより、チップユニ
ットの交換が容易となり、設計変更や不良交換に容易に
対処が可能となって低コスト化を図ることが可能とな
る。
材の固定部をスルーホールで形成する。これにより、ベ
ース部材の裏面よりスルーホールを介して光照射でチッ
プユニットの接続固定を容易に確実に行うことが可能と
なる。
ップユニットがベース部材に高さ方向に所定角度で固定
実装され、適宜他のチップユニットを搭載させ、又はチ
ップユニット間の配線を連結ユニットで行わせる。これ
により、ベース部材へのチップユニットの接触面積が縮
小して冷却効果が向上されると共に、底面積の縮小より
装置の小型化を図ることが可能となる。
は分割されたベース部材又はその近傍に、流通部、放熱
突出部若しくは冷却ファンを設けて所定のチップユニッ
トを冷却させる。これにより、冷却効果が向上され、こ
れによる高速処理化を図ることが可能となる。
搭載したベース部材が冷却液に浸漬される。これによ
り、冷却性が向上して高速処理化を図ることが可能とな
る。
を積層構成又は可撓部材で構成して、片面若しくは表裏
両面にチップユニットが所定数搭載可能とする。これに
より、チップユニットの搭載個数がベース部材の狭い領
域で増大し、ひいては装置の小型化を図ることが可能と
なる。
は棒部材が設けられる。これにより、ベース部材で生じ
る効果に加えて搬送、実装、識別用に使用させることが
可能となる。
プユニットの搭載領域に押出し開口部が形成される。こ
れにより、チップユニットの交換が容易かつ低コストで
行うことが可能となる。
ップユニットとなる領域上の端子となる部分に光照射又
はブレードの穿孔手段で凹部を形成し、凹部に導電部材
を埋め込んで端子を形成してチップユニットを切断分離
し、適宜チップユニットを隣接させて配列し、これを適
宜ベース部材上に搭載する。これにより、端子の必要な
部分のみを穿孔して形成されることから不必要な部分に
開口部分が形成されず信頼性の向上、低コスト化を図る
ことが可能となる。
何れかで端子、回路パターンの必要な切断修正を行う。
これにより、回路変更やトリミングを容易に行うことが
可能となる。
プユニットとの間に振動吸収部材が介在されて外部から
の振動を吸収させる。これにより、容易に防振対策を施
すことが可能となる。
護部材が設けられて外部からの衝撃より保護する。これ
により、容易に保護対策を施すことが可能となる。
部材とが着脱自在に係合され、又はシール部材が介在さ
れて係合される。これにより、保護部材の組み立て、分
解を容易とすることが可能となる。
ニットが側面で平面的に突き合わされたモジュールを所
定数の基板上に積層状態で搭載される。これにより、装
置の小型化及びチップユニット交換容易による低コスト
化を図ることが可能となる。
す。図1(A)は、半導体装置としてのチップロックモ
ジュール31を示したもので、チップを異なる機能を有
する例えば6つの四角形状のチップユニット32(32
〜326 )の集合体として平面的に構成される。例え
ば、チップユニット32(32〜326 )を、メモリ部
32(321 ),演算回路部32(322 ),電源部3
2(323 ),クロック発生部32(324 ),抵抗部
32(325 ),コンデンサ部32(326 )とする。
なお、このような組み合わせに限らず、適宜所望の機能
のチップユニット32を形成して組み合わせることがで
きる。
数の端子33が形成され、接続手段でこれらが直接、間
接に接触することにより電気的接続が行われる。
(B)に示すように、外形サイズにおいて厚さが同一
で、縦a及び横bの整数倍の長さで形成される。ここ
で、端子33の形成を簡単に説明すると、ウエハのスク
ラブラインの部分に電極状の端子部分を通常のウエハ処
理で形成し、チップ状にダイシングカットしたときに、
チップユニットの側面(カット面)に端子33が表出す
るものである。
されても、既存のチップユニット32より必要な部分を
用意することにより、ユニット構成の検討のみで直ちに
製造可能になると共に、配線部分が存在しないことか
ら、電気的損失を回避して高速処理させることができ
る。
続の説明図を示す。図2(A)は、所定のチップユニッ
ト32の側面の端子33を対応するチップユニット32
の側面の端子33に直接に当接させて電気的接続を行う
ものである。
ニット32,32の端子33間に導電部材でパッド34
aが形成された接続部材であるシート34を介在させて
電気的接続を行う。この場合、チップユニット32,3
2の対向する端子33,33を導通させるだけでなく、
シート34にパターンを設けることにより対向しない端
子33,33をも導通させることが可能となる。なお、
シート34に接着材を塗布することによりチップユニッ
ト32,32を固定させることができる。
続の説明図を示す。図3(A)は、チップユニット32
の接続を行う側面に例えば略円形凹状に切り欠いた端子
33aを所定数形成し、2つのチップユニット32,3
2の側面を突き合わせたときに端子33a,33aで形
成される凹部分の空間に導電性の導電部材である連結ブ
ロック35を挿入させて端子32a,32a間を導通さ
せるものである。
と側面にかけて例えば切り欠き凹状に端子33bを所定
数形成し、2つのチップユニット32,32の側面を突
き合わせたときに端子33b,33bで形成される凹部
分内に、シリンジ12よりペースト状の導電部材である
例えば銀ペースト35aを注入して硬化させることで端
子32b,32b間を導通させるものである。
の上面に所定数の端子(パッド)33cを形成し、2つ
のチップユニット32,32の側面を突き合わせて、各
端子(パッド)33c,33c間をワイヤボンダにより
リード部材であるワイヤ37で電気的に接続を行うもの
である。これにより、隣接されていないチップユニット
にも配線することができる。
(A),(B)に比べて配線長が長くなるが、図20に
示すマルチチップモジュールよりは短縮されて高速処理
を可能としている。
りにテープリードを用いて複数の端子33cにも接続を
行うことができる。
外部への引き出しは、直接又はソケット等により行われ
るものである。
ット形状の説明図を示す。図4(A)は、三角形状のチ
ップユニット32aによってチップブロックユニット3
1を構成するもので、組み合わせるユニット数によって
は四角形状のチップユニット32よりコンパクト化を図
ることができる。
は、ウエハ上に三角形状のチップパターンを形成するこ
とで、従来のウエハ処理技術により実現することができ
る。
32bによりチップブロックユニット31を構成するも
ので、四角形状のチップユニット32に対して隣接ユニ
ットとの接続面が増え、他のチップユニット32bとの
接続が容易にすることができ、装置の小型、薄型化を図
ることができる。
角形状、六角形状に限らず八角形状等の多角形状で形成
してもよい。また、これらの一辺の長さは所定長さの整
数倍に設定される。
ゆるオリフラ(オリエンテーションフラット)部32c
1 を有するウエハ形状のチップユニット32cによりチ
ップブロックモジュール31を構成するものである。す
なわち、チップユニット32cのオリフラ部32c1 に
より他ユニットと面接続を可能としたものである。
合わせ部分(上記オリフラ、又は円弧状等)を有する構
成とすることで、コンパクト構成となり、装置の小型、
薄型化を図ることができる。
図を示す。図5は、母材を使用したときの半導体装置と
してのチップブロックモジュール31を示したもので、
ここではチップユニット32の側面に端子33が形成さ
れている場合を示す。
材38には、チップユニット32の端子33及び信号等
の入出のための外部端子に応じた個数及びピッチで、パ
ターン及び固定部であるパッド39が形成されており、
この母材38上に対応するチップユニット32が載置さ
れる。
ユニット32の端子33と母材38のパッド39との当
接部分にレーザ光を照射して溶着させることで電気的接
続が行われる。なお、レーザ光による溶着に限らず、導
電接合部材であるはんだ等の金属や、例えば銀ペースト
や高分子系熱可塑性樹脂等の導電性樹脂により接続を行
ってもよい。
で容易に取り外して交換可能であり、汎用的となって低
コストとすることができる。
ップユニット32は、同一平面となり、図5(C)に示
すように、吸着装置41で吸着が可能となり容易に搬送
することができるようになる。
パッド43が取り付けられ、吸着パッド43の連通部4
4より真空源に連結される。この吸着パッド43で母材
38に実装されたチップユニット32の平面的上面で真
空吸着して搬送を行うものである。
における外部との接続は、母材38のパッド39より、
コネクタやワイヤ配線等で行ってもよく、母材38の離
面にパッド39に接続されているパッドを形成して、パ
ッド上に例えばボールバンプを形成するBGA(Bal
l Grid Array)タイプとしてもよい(以下
の実施例においても同様である)。
実装説明図を示す。図6(A)に示すように、母材38
にパッド39に代えて表面及び離面のランド部間にスル
ーホール40が固定部としてマトリクス状に配列されて
形成される。スルーホール40はチップユニット32の
端子33のピッチdと同一のピッチdで形成される。そ
して、母材38上に所定数のチップユニット32が載置
される。
ホール40内からレーザ光を照射して溶着させる。すな
わち、母材38の裏面から電気的接続を行うことができ
るものである。
さ方向で実装した場合の説明図を示す。図7(A)は、
母材38上にチップユニット32を、側面を当接させて
垂直に所定数実装した場合を示している。これによれ
ば、底面積が縮小されてコンパクト化が図られると共
に、チップユニット32の母材38への接触面積が縮小
されて冷却性が向上されるものである。
たチップユニット32に、別のチップユニット327 を
例えばバンプ51により接続して追加搭載した場合を示
している。これによって、機能の拡張を図ることができ
る。例えば、メモリ機能のチップユニット32に、さら
にメモリ機能のチップユニット327 を搭載させること
で、メモリ容量を増大させることができるものである。
たチップユニット32間の信号の授受を行わせるため連
結ユニット52を、チップユニット32の側面で母材3
8に対向して設けた場合を示している。なお、チップユ
ニット32の他の側面に連結ユニットを設けてもよい。
これにより、各チップユニット32間を容易に電気的接
続を行うことができるものである。
て実装するチップユニット32を、高さ方向に対して傾
斜させて実装した場合を示している。これにより、図7
(A)〜(C)に比べて高さを抑制することができ、装
置の小型化、スペースの効率利用を図ることができる。
を示す。図8(A)に示す半導体装置としてのチップブ
ロックモジュール31は、母材38上に平面的にチップ
ユニット32が所定数(図では4個)搭載される一方
で、別のチップユニット328とを上面に形成された端
子間でワイヤ37により電気的接続を行ったものであ
る。そして、母材38と38aとの間には、空気等の気
体や液体を通した冷却手段としての流通部であるパイプ
53が位置される。
ユニットで構成されたときに、他のチップユニット32
と離隔させて熱の影響を回避させると共に、パイプ53
で効率的に冷却を行わせることができる。
も、単一の母材38よりは冷却効果が向上されるもので
ある。
ル31は、母材38に平面的にチップユニット32が搭
載された所定位置(図では中央位置)に冷却手段として
アルミニウムや銅等で形成された放熱突起部54を設け
たものである。この場合、チップユニット32は放熱突
起部54を避ける形状で形成される。これにより、発熱
の高いチップユニット32を効率よく放熱することがで
きる。
ル31は、チップユニット32が所定数平面的に搭載さ
れた母材38の裏面に冷却手段として冷却ファン55を
設けたものである。この冷却ファン55は、モータを内
蔵させてもよく、また周囲よりエアが送風されることで
回転するものであってもよい。これにより、冷却効果を
さらに向上させることができる。
突起部54,冷却ファン55)を設けることで、特に高
速処理による発熱を効率よく冷却することができ、容易
に高速処理化を図ることができるものである。
のチップユニット32が搭載(平面的又は高さ方向)さ
れたチップブロックモジュール31を、例えばLN
2 (液体窒素)の冷却液55aに浸漬したものである。
これにより、冷却性が向上し、高速処理化、モジュール
サイズの縮小化を図ることができる。
た場合の説明図を示す。
ル31は、母材38bを積層構造としたもので、その表
裏両面にチップユニット32が平面的に所定数搭載され
た場合を示している。チップユニット32間の接続は、
母材38bの積層時に形成される配線部56によって行
う。これにより、チップユニット32の搭載個数を面積
を拡大せずに増やすことができ、装置の小型化(同一個
数なら小型となる)及び低コスト化を図ることができ
る。
ル31は、母材38cを配線部56を有する積層構造か
つ中空部57が形成された中空構造にすると共に、表裏
両面に所定数の通気孔57aが形成されたもので、母材
38cの両面に所定数のチップユニット32が搭載され
る。
えば母材38cの裏面より冷却エアが吹き込まれたとき
に、裏面に搭載されたチップユニット32を冷却すると
共に、母材38cの表裏両面に形成された通気孔57a
により表面のチップユニット32が冷却されるものであ
る。すなわち、母材38cの裏面より冷却を行うことが
できる。
(B),(C)に示すような放熱突起部54や冷却ファ
ン55を併用してもよい。また、母材38b,38cの
片面のみにチップユニット32を搭載してもよい。
ル31は、配線部56aが形成された可撓部材のフィル
ムを母材38dとして、2つのブロックで所定数のチッ
プユニット32が搭載され、各チップユニット32間の
接続が配線部56aにより行う。
ルム又はポリエステルフィルムに銅箔を貼り付けて形成
される。
能となって、装置の小型化、薄型化を図ることができ
る。
モジュール31は、母材38の平面的に搭載された所定
数のチップユニット32の領域以外の部分で例えば二隅
のそれぞれに穴58を形成したものである。すなわち、
この穴58を使用して搬送時の係合、実装時の位置決め
や、位置合わせなどの識別を容易に行うことができるも
のである。
2が平面的に搭載された母材38の裏面に棒部材59が
設けられる。この棒部材59においても図10(A)の
穴58と同様に、搬送時の係合、実装時の位置決め、位
置合わせなどの識別を容易に行うものとして使用するこ
とができるものである。
31は、母材38のチップユニット32が搭載される領
域に押出し開口部60をチップユニット32の個数に応
じて形成される。
により当該チップユニット32の母材38への固定を溶
融し、この押出し開口部60より当該チップユニット3
2を押し出すことで取り外すことができる。このよう
に、容易に交換が可能となって、設計変更による交換や
不良交換が低コストで行うことができるものである。
図を示す。図12(A)は、所定のウエハ処理、例えば
メモリ回路等の回路パターンが形成されたウエハ61で
あり、破線で示すスクラブライン62上で後にダイシン
グソー等により切断分離されたものである。
正する必要があれば2点鎖線矢印で示すレーザ光で修正
箇所の切断を行う。
61の各チップユニット領域で、所定数の端子33cと
なる部分のそれぞれにレーザ光を照射して、当該部分を
削り凹部33c1 を形成する。
33c1 に導電部材33c2 である金属(例えばはん
だ)や導電性樹脂(例えば銀ペースト)を注入して、端
子33cが形成される。なお、この段階において(図1
2(A)で回路パターン修正を行わなかった場合)、必
要があれば、レーザ光を照射して切断することにより、
回路パターンの修正を行う。
シングカットしてチップユニット32を取り出し、図1
2(D)に示すように、母材38上に平面的に隣接させ
て所定数搭載するものである。
鎖線)照射による回路パターン33c3 修正を行っても
よい。また、チップユニット32のウエハ61の状態の
とき、又はウエハ61からの切断分離後に、当該チップ
ユニット32の機能試験を行うことができる。
法の概略断面図を示す。図13は、図12(B)の工程
で、レーザ光照射に代えて、ダイシングブレード63の
回転により端子33cとなる部分を削って凹部33c1
を形成し、凹部33c1 に導電部材33c2 を埋め込ん
で端子33cを形成するものである。
することができる。すなわち、従来のウエハ処理におけ
る端子形成はチップユニットの汎用性を持たせるために
不必要な部分まで開口させることから水の侵入などによ
り信頼性が低下するのに対して、本発明では不必要な開
口部を形成しないことから信頼性を向上させることがで
き、ひいては歩留りの向上から低コスト化を図ることが
できる。
や回路パターン33c3 の必要な切断修正を行うことが
でき、回路変更や抵抗、容量等のトリミングを容易に行
うことができるものである。
た場合の説明図を示す。図14に示すチップブロックモ
ジュール31は、母材38上に搭載される所定数のチッ
プユニット32と当該母材38との間に振動吸収部材6
4が介在される。
子33cが所定数形成され、該端子33cと母材38間
でワイヤボンディングによるワイヤ37aにより電気的
接続が行われる。なお、テープリードにより電気的接続
を行ってもよい。
等の柔軟性樹脂や板ばね形状の金属等が使用される。こ
れによって防振対策が可能となる。
ルに保護部材を設けた場合の説明図を示す。図15
(A)は概略斜視図、図15(B)はその断面図であ
る。図15(A),(B)に示すチップブロックモジュ
ール31は、チップユニット32が所定数搭載された母
材38上であって、該チップユニット32の周囲に保護
部材65aが設けられる。
部材で形成されるもので、これによりチップユニット3
2を外部からの衝撃より保護することができるものであ
る。
を設けた場合の説明図を示す。
ール31は、母材38上の所定数のチップユニット32
上に樹脂等の保護部材65bによりコーティングしたも
のである。
ール31は、母材38上でチップユニット32を空間内
で樹脂又は金属等の保護部材65cで覆ったものであ
る。
ール31は、母材38eが凹形状に形成されると共に、
その周囲に第1のネジ部38e1 が形成される。また、
母材38eの第1のネジ部38e1 に螺合するように第
2のネジ部65d1 が形成された樹脂又は金属等の保護
部材65dが用意される。
ニット32が搭載され、母材38eの第1のネジ部38
e1 に保護部材65dの第2のネジ部65d1 が螺合に
より係合状態でカバーされるものである。これにより、
組立てや分解が容易となる。
ール31は、凹形状の母材38fに所定数のチップユニ
ット32が搭載され、この母材38fに、逆凹形状に樹
脂又は金属等で形成された保護部材65eがシール部材
であるOリング66を介在させて係合状態でカバーした
ものである。これにより、シール性を向上させることが
できる。
成図を示す。図17に示す半導体装置71は、小規模の
半導体装置としてのチップブロックモジュール31を、
各モジュール間の配線等を行う2つのマザーボード72
a,72b間で所定数積層構造で実装したものである。
なお、単一のマザーボード上に高さ方向に実装してもよ
い。
示すように、チップユニット32の側面に端子33が形
成され、側面で対向する端子33を電気的に接触接続さ
せて突き合わされて形成される。そして、マザーボード
72a,72bにチップブロックモジュール31の側面
の端子33を接続させるようにして実装されるものであ
る。
従来のマルチチップモジュールとして半導体装置を構成
する場合に比べて、装置の小型化を図ることができると
共に、このようなチップブロックモジュール31を使用
することにより、チップユニットの交換等が容易に行う
ことができ、ひいては低コストとすることができるもの
である。
ば、所定数の端子が形成された所定機能のチップユニッ
トを複数側面で平面的に突き合わせて接続手段で端子間
の電気的接続を行わせることにより、交換自在に低コス
トで必要なチップユニットをコンパクトに構成可能であ
り、装置の小型、薄型化が図られると共に、接続手段で
接続長が短縮されて高速処理化を図ることができる。
ニットの側面に端子が形成されてチップユニットの側面
で直接又は接続部材を介在させて突き合わせで接続させ
ることにより、ユニット間の配線が不要となって高速処
理化を図ることができる。
を突き合わせることで形成される凹部分に導電部材を介
在させて接続させることにより、ユニット間の配線が不
要となって高速処理化を図ることができる。
されるチップユニットの上面に形成された端子をリード
部材で接続することにより、隣接以外のチップユニット
への接続が可能となって設計が容易となり低コスト化を
図ることができる。
を一辺が所定長さの整数倍の多角形状で形成することに
より、コンパクト構成で装置の小型、薄型化を図ること
ができる。
が側面に突き合わせ部分を有して曲面形状に形成される
ことにより、何れの形状であってもコンパクト構成で装
置の小型、薄型化を図ることができる。
ば、チップユニットが側面の端子を突き合わせてベース
部材上に載置され、所定の端子とベース部材上の固定部
とが熱可塑自在に溶着固定されることにより、チップユ
ニットの交換が容易となり、設計変更や不良交換に容易
に対処が可能となって低コスト化を図ることができる。
ス部材の固定部をスルーホールで形成することにより、
ベース部材の裏面よりスルーホールを介して光照射でチ
ップユニットの接続固定を容易、確実に行うことができ
る。
のチップユニットがベース部材に高さ方向に所定角度で
固定実装され、適宜他のチップユニットを搭載させ、又
はチップユニット間の配線を連結ユニットで行わせる。
これにより、ベース部材へのチップユニットの接触面積
が縮小して冷却効果が向上されると共に、底面積の縮小
より装置の小型化を図ることができる。
しくは分割されたベース部材又はその近傍に、流通部、
放熱突出部若しくは冷却ファンを設けて所定のチップユ
ニットを冷却させる。これにより、冷却効果が向上さ
れ、これによる高速処理化を図ることができる。
トを搭載したベース部材が冷却液に浸漬される。これに
より、冷却性が向上して高速処理化を図ることができ
る。
部材を積層構成又は可撓部材で構成して、片面若しくは
表裏両面にチップユニットが所定数搭載可能とする。こ
れにより、チップユニットの搭載個数がベース部材の狭
い領域で増大し、ひいては装置の小型化を図ることがで
きる。
穴又は棒部材が設けられる。これにより、ベース部材で
生じる効果に加えて搬送、実装、識別用に使用させるこ
とができる。
チップユニットの搭載領域に押出し開口部が形成され
る。これにより、チップユニットの交換が容易かつ低コ
ストで行うことができる。
のチップユニットとなる領域上の端子となる部分に光照
射又はブレードの穿孔手段で凹部を形成し、凹部に導電
部材を埋め込んで端子を形成してチップユニットを切断
分離し、適宜チップユニットを隣接させて配列し、これ
を適宜ベース部材上に搭載する。これにより、端子の必
要な部分のみを穿孔して形成されることから不必要な部
分に開口部分が形成されず信頼性の向上、低コスト化を
図ることができる。
階の何れかで端子、回路パターンの必要な切断修正を行
うことにより、回路変更やトリミングを容易に行うこと
ができる。
チップユニットとの間に振動吸収部材が介在されて外部
からの振動を吸収させる。これにより、容易に防振対策
を施すことができる。
に保護部材が設けられて外部からの衝撃より保護する。
これにより、容易に保護対策を施すことができる。
保護部材とが着脱自在に係合され、又はシール部材が介
在されて係合される。これにより、保護部材の組み立
て、分解を容易とすることができる。
プユニットが側面で平面的に突き合わされたモジュール
を所定数の基板上に積層状態で搭載される。これによ
り、装置の小型化及びチップユニット交換容易による低
コスト化を図ることができる。
る。
る。
合の説明図である。
る。
る。
る。
る。
る。
た場合の説明図である。
である。
図である。
ある。
Claims (34)
- 【請求項1】 所定数の端子(33,33a〜33c)
が形成された所定機能を有する所定形状のチップユニッ
ト(32,32a〜32c)と、 前記チップユニット(32,32a〜32c)を側面で
複数突き合わせにより平面形状とされてユニット間の対
応する前記端子(33,33a〜33c)間の電気的接
続を行う接続手段(35,37a,37)と、 を有することを特徴とする半導体装置。 - 【請求項2】 前記端子(33)が前記チップユニット
(32,32a〜32c)の側面に形成され、 前記接続手段として隣接する前記チップユニット(3
2,32a〜32c)の側面の対応する前記端子(3
3)間を接触させることを特徴とする請求項1記載の半
導体装置。 - 【請求項3】 前記端子(33)が前記チップユニット
(32,32a〜32c)の側面に形成され、 前記接続手段として前記各チップユニット(32,32
a〜32c)の側面間に前記端子(33)間の接続を介
在させる接続部材(34)が設けられることを特徴とす
る請求項1記載の半導体装置。 - 【請求項4】 前記端子(33a,33b)が前記チッ
プユニット(32,32a〜32c)表面に切欠き状で
形成され、 前記接続手段が前記チップユニット(32,32a〜3
2c)を側面で突き合わせたときに前記切欠き状の前記
端子(33a,33b)間で形成される凹部分に導電部
材(35)を介在させて接続させることを特徴とする請
求項1記載の半導体装置。 - 【請求項5】 前記端子(33c)が前記チップユニッ
ト(32,32a〜32c)の上面で形成され、 前記接続手段が前記端子(33c)間をリード部材(3
7)で接続させることを特徴とする請求項1記載の半導
体装置。 - 【請求項6】 前記チップユニット(32a,32b)
が、一辺が所定長さの整数倍の多角形状に形成されるこ
とを特徴とする請求項1〜5の何れか一項に記載の半導
体装置。 - 【請求項7】 前記チップユニット(32c)が、側面
に突き合わせ部分を有して曲面形状に形成されることを
特徴とする請求項1〜5の何れか一項に記載の半導体装
置。 - 【請求項8】 前記接続手段(35,37a,37)で
突き合わされる前記チップユニット(32,32a〜3
2c)を、ベース部材(38)上に平面的に固定されて
実装されることを特徴とする請求項1記載の半導体装
置。 - 【請求項9】 前記チップユニット(32,32a〜3
2c)の側面に前記端子(33)が形成されると共に、
前記ベース部材(38)に形成された固定部(39,4
0)に熱可塑自在に前記端子(33)を溶着させて固定
させることを特徴とする請求項8記載の半導体装置。 - 【請求項10】 前記ベース部材(38)の固定部は、
スルーホール(40)で形成されることを特徴とする請
求項9記載の半導体装置。 - 【請求項11】 所定数の端子(33)が側面に形成さ
れた所定機能を有する所定形状のチップユニット(3
2,32a〜32c)を、前記端子(33)に対応する
固定部(39,40)が形成されたベース部材(38)
上に所定数載置する工程と、 前記チップユニット(32,32a〜32c)を前記ベ
ース部材(38)上に載置する際に、隣接する前記チッ
プユニット(32,32a〜32c)の対向する端子間
の電気的接続を行う工程と、 前記固定部(39,40)と所定の前記端子(33)と
の電気的接続を行う工程と、 を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 【請求項12】 前記固定部(39)と前記端子(3
3)との電気的接続を光照射による溶着により、又は熱
可塑自在の導電接合部材を溶融させて行うことを特徴と
する請求項11記載の半導体装置の製造方法。 - 【請求項13】 前記ベース部材(38)の前記固定部
をスルーホール(40)で形成し、前記スルーホール
(40)と前記チップユニット(32,32a〜32
c)の前記端子(33)とに、前記ベース部材(38)
の裏面の前記スルーホール(40)より光を照射して溶
着させて電気的接続を行うことを特徴とする請求項11
記載の半導体装置の製造方法。 - 【請求項14】 所定数の端子(33)が形成された所
定機能を有するチップユニット(32,32a〜32
c)と、 前記端子(33)が側面に形成された前記チップユニッ
ト(32)を、側面を当接させて高さ方向に所定角度で
所定数固定されて実装されるベース部材(38)と、を
有することを特徴とする半導体装置。 - 【請求項15】 前記チップユニット(32)に、他の
チップユニット(327 )を搭載させることを特徴とす
る請求項14記載の半導体装置。 - 【請求項16】 前記ベース部材(38)に実装された
所定数の前記チップユニット(32)間の電気的配線を
行う連結ユニット(52)が設けられることを特徴とす
る請求項14又は15記載の半導体装置。 - 【請求項17】 前記ベース部材(38,38a)に又
はその近傍に冷却手段(53〜55)が設けられること
を特徴とする請求項8記載の半導体装置。 - 【請求項18】 前記冷却手段は、前記ベース部材(3
8,38a)を分割し、又は分割して前記ベース部材
(38,38a)間に冷却部材を流通させる流通部(5
3)が設けられることを特徴とする請求項17記載の半
導体装置。 - 【請求項19】 前記冷却手段は、前記ベース部材(3
8)に設けられた放熱突起部(54)又は冷却ファン
(55)で構成されることを特徴とする請求項17記載
の半導体装置。 - 【請求項20】 前記チップユニット(32)が所定数
搭載されたベース部材(38)を冷却液(55a)に浸
漬させることを特徴とする請求項8又は14記載の半導
体装置。 - 【請求項21】 前記ベース部材(38b,38c)
を、配線部(56)を備える積層構造とし、前記ベース
部材(38b,38c)の片面又は表裏両面に前記チッ
プユニット(32)が搭載されることを特徴とする請求
項8又は19記載の半導体装置。 - 【請求項22】 前記ベース部材(38)に中空部(5
7)及び表裏両面に連通する通気孔(57a)が所定数
形成されることを特徴とする請求項21記載の半導体装
置。 - 【請求項23】 前記ベース部材(38d)は、配線部
を備える可撓部材で形成されることを特徴とする請求項
8記載の半導体装置。 - 【請求項24】 前記ベース部材(38)の所定部分に
穴(58)又は棒部材(58)が設けられることを特徴
とする請求項8記載の半導体装置。 - 【請求項25】 前記ベース部材(38)の前記チップ
ユニット(32)が搭載されるそれぞれの領域に、前記
チップユニット(32)の交換時に取り外すための押出
し開口部(60)が形成されることを特徴とする請求項
8又は24記載の半導体装置。 - 【請求項26】 所定機能の回路パターン(33c3 )
形成のウエハ処理がなされたウエハ(61)における所
定数のチップユニット(32)となる領域上の端子(3
3c)となる部分に穿孔手段(63)により凹部(33
c1 )が形成される工程と、 前記凹部(33c1 )に導電部材(33c2 )が埋め込
まれて端子(33c)が形成される工程と、 前記ウエハ(61)を前記チップユニット(32)ごと
に切断する工程と、 を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 【請求項27】 形成された前記チップユニット(3
2)を、隣接させて所定数配列させることを特徴とする
請求項26記載の半導体装置の製造方法。 - 【請求項28】 前記所定数配列されたチップユニット
(32)をベース部材(38)上に搭載させることを特
徴とする請求項27記載の半導体装置の製造方法。 - 【請求項29】 前記穿孔手段は、光照射又はブレード
(63)で構成されることを特徴とする請求項26記載
の半導体装置の製造方法。 - 【請求項30】 前記凹部(33c1 )の形成前、前記
凹部(33c1 )形成の際、前記端子(33c)形成の
際、前記チップユニット(32)の配列後、又は前記ベ
ース部材(38)上への搭載後に、前記チップユニット
(32)に形成された前記回路パターン(33c3 ),
前記端子(33c)の必要な切断修正を前記穿孔手段
(63)により行うことを特徴とする請求項26〜29
の何れか一項に記載の半導体装置の製造方法。 - 【請求項31】 前記ベース部材(38)と、搭載され
る所定数の前記チップユニット(32)との間に振動吸
収部材(64)が介在されることを特徴とする請求項8
記載の半導体装置。 - 【請求項32】 所定数の前記チップユニット(32)
が搭載された前記ベース部材(38)に、前記チップユ
ニット(32)を保護する保護部材(65a〜65e)
が設けられることを特徴とする請求項8記載の半導体装
置。 - 【請求項33】 前記ベース部材(38e,38f)が
前記保護部材(65d,65e)と一部重複する形状で
形成され、前記ベース部材(38e,38f)と前記保
護部材(65d,65e)とが着脱自在に係合され、又
はシール部材(66)を介在させて係合されることを特
徴とする請求項32記載の半導体装置。 - 【請求項34】 所定数のチップユニット(32)が側
面で、電気的接続が行われて平面的に突き合わされたモ
ジュール(31)と、 所定数の前記モジュール(31)が電気的に接続されて
積層状態又は高さ方向で搭載される所定数の基板(72
a,72b)と、 を有することを特徴とする半導体装置。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008047802A (ja) * | 2006-08-21 | 2008-02-28 | Nec Electronics Corp | 半導体装置およびその製造方法 |
JP2010219514A (ja) * | 2009-03-14 | 2010-09-30 | Palo Alto Research Center Inc | 層間接続基板形成方法 |
Families Citing this family (73)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6262434B1 (en) * | 1996-08-23 | 2001-07-17 | California Micro Devices Corporation | Integrated circuit structures and methods to facilitate accurate measurement of the IC devices |
US7634529B2 (en) * | 1996-11-29 | 2009-12-15 | Ellis Iii Frampton E | Personal and server computers having microchips with multiple processing units and internal firewalls |
US6725250B1 (en) * | 1996-11-29 | 2004-04-20 | Ellis, Iii Frampton E. | Global network computers |
US8312529B2 (en) | 1996-11-29 | 2012-11-13 | Ellis Frampton E | Global network computers |
US8225003B2 (en) | 1996-11-29 | 2012-07-17 | Ellis Iii Frampton E | Computers and microchips with a portion protected by an internal hardware firewall |
US7926097B2 (en) | 1996-11-29 | 2011-04-12 | Ellis Iii Frampton E | Computer or microchip protected from the internet by internal hardware |
US6167428A (en) | 1996-11-29 | 2000-12-26 | Ellis; Frampton E. | Personal computer microprocessor firewalls for internet distributed processing |
US7506020B2 (en) | 1996-11-29 | 2009-03-17 | Frampton E Ellis | Global network computers |
US7024449B1 (en) * | 1996-11-29 | 2006-04-04 | Ellis Iii Frampton E | Global network computers |
US7805756B2 (en) | 1996-11-29 | 2010-09-28 | Frampton E Ellis | Microchips with inner firewalls, faraday cages, and/or photovoltaic cells |
US20050180095A1 (en) * | 1996-11-29 | 2005-08-18 | Ellis Frampton E. | Global network computers |
US6127245A (en) * | 1997-02-04 | 2000-10-03 | Micron Technology, Inc. | Grinding technique for integrated circuits |
JP2000031461A (ja) * | 1998-07-09 | 2000-01-28 | Asahi Optical Co Ltd | 半導体デバイスおよび半導体組立装置 |
US6664628B2 (en) * | 1998-07-13 | 2003-12-16 | Formfactor, Inc. | Electronic component overlapping dice of unsingulated semiconductor wafer |
US6465858B2 (en) * | 2000-03-24 | 2002-10-15 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Semiconductor device package for optical communication device |
US6469901B1 (en) * | 2000-05-15 | 2002-10-22 | 3C Interactive, Inc. | System and method for cartridge-based, geometry-variant scalable electronic systems |
US6717245B1 (en) | 2000-06-02 | 2004-04-06 | Micron Technology, Inc. | Chip scale packages performed by wafer level processing |
TW492114B (en) | 2000-06-19 | 2002-06-21 | Advantest Corp | Method and apparatus for edge connection between elements of an integrated circuit |
US6343940B1 (en) * | 2000-06-19 | 2002-02-05 | Advantest Corp | Contact structure and assembly mechanism thereof |
US6696765B2 (en) | 2001-11-19 | 2004-02-24 | Hitachi, Ltd. | Multi-chip module |
JP4606567B2 (ja) * | 2000-11-02 | 2011-01-05 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体集積装置 |
US20020117753A1 (en) * | 2001-02-23 | 2002-08-29 | Lee Michael G. | Three dimensional packaging |
US6610560B2 (en) * | 2001-05-11 | 2003-08-26 | Siliconware Precision Industries Co., Ltd. | Chip-on-chip based multi-chip module with molded underfill and method of fabricating the same |
US6512293B1 (en) * | 2001-06-05 | 2003-01-28 | Lsi Logic Corporation | Mechanically interlocking ball grid array packages and method of making |
JP3631445B2 (ja) * | 2001-06-06 | 2005-03-23 | 東芝三菱電機産業システム株式会社 | 平型半導体スタック装置 |
US20030002267A1 (en) * | 2001-06-15 | 2003-01-02 | Mantz Frank E. | I/O interface structure |
US20020190367A1 (en) * | 2001-06-15 | 2002-12-19 | Mantz Frank E. | Slice interconnect structure |
DE10130592C1 (de) * | 2001-06-27 | 2002-10-24 | Infineon Technologies Ag | Modulbaugruppe für Speicher-Module und Verfahren zu ihrer Herstellung |
US6573460B2 (en) * | 2001-09-20 | 2003-06-03 | Dpac Technologies Corp | Post in ring interconnect using for 3-D stacking |
US6573461B2 (en) | 2001-09-20 | 2003-06-03 | Dpac Technologies Corp | Retaining ring interconnect used for 3-D stacking |
US6989295B1 (en) | 2002-01-09 | 2006-01-24 | Bridge Semiconductor Corporation | Method of making a semiconductor package device that includes an insulative housing with first and second housing portions |
US7190060B1 (en) | 2002-01-09 | 2007-03-13 | Bridge Semiconductor Corporation | Three-dimensional stacked semiconductor package device with bent and flat leads and method of making same |
US6891276B1 (en) | 2002-01-09 | 2005-05-10 | Bridge Semiconductor Corporation | Semiconductor package device |
US6936495B1 (en) | 2002-01-09 | 2005-08-30 | Bridge Semiconductor Corporation | Method of making an optoelectronic semiconductor package device |
US6791035B2 (en) * | 2002-02-21 | 2004-09-14 | Intel Corporation | Interposer to couple a microelectronic device package to a circuit board |
US6856010B2 (en) * | 2002-12-05 | 2005-02-15 | Staktek Group L.P. | Thin scale outline package |
US20040207990A1 (en) * | 2003-04-21 | 2004-10-21 | Rose Andrew C. | Stair-step signal routing |
TWI234867B (en) * | 2003-06-03 | 2005-06-21 | Gigno Technology Co Ltd | Flip-chip attach structure and method |
JP4263953B2 (ja) * | 2003-06-23 | 2009-05-13 | 三洋電機株式会社 | 半導体装置及びその製造方法 |
US7203074B1 (en) * | 2003-07-28 | 2007-04-10 | Intellect Lab, Llc | Electronic circuit building block |
US7612443B1 (en) | 2003-09-04 | 2009-11-03 | University Of Notre Dame Du Lac | Inter-chip communication |
GB2409072B (en) * | 2003-12-09 | 2005-11-23 | Optimum Care Int Tech Inc | Memory module |
US7705464B2 (en) * | 2004-09-13 | 2010-04-27 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Connection structure for semiconductor devices |
US7327006B2 (en) * | 2005-06-23 | 2008-02-05 | Nokia Corporation | Semiconductor package |
KR100652549B1 (ko) * | 2005-07-11 | 2006-12-01 | 삼성전기주식회사 | 다각형, 라운드 및 원형 플립칩 볼 그리드 어레이 기판 |
KR100771862B1 (ko) * | 2005-08-12 | 2007-11-01 | 삼성전자주식회사 | 메모리 모듈을 위한 인쇄회로기판, 그 제조 방법 및 메모리모듈-소켓 어셈블리 |
US7750441B2 (en) * | 2006-06-29 | 2010-07-06 | Intel Corporation | Conductive interconnects along the edge of a microelectronic device |
DE102006033870B4 (de) * | 2006-07-21 | 2009-02-26 | Infineon Technologies Ag | Elektronisches Bauteil mit mehreren Substraten sowie ein Verfahren zur Herstellung desselben |
US7999383B2 (en) | 2006-07-21 | 2011-08-16 | Bae Systems Information And Electronic Systems Integration Inc. | High speed, high density, low power die interconnect system |
US7791173B2 (en) * | 2007-01-23 | 2010-09-07 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Chip having side pad, method of fabricating the same and package using the same |
US8193613B2 (en) * | 2007-03-06 | 2012-06-05 | Broadcom Corporation | Semiconductor die having increased usable area |
US7892176B2 (en) * | 2007-05-02 | 2011-02-22 | General Electric Company | Monitoring or imaging system with interconnect structure for large area sensor array |
US20080315331A1 (en) * | 2007-06-25 | 2008-12-25 | Robert Gideon Wodnicki | Ultrasound system with through via interconnect structure |
US8125796B2 (en) | 2007-11-21 | 2012-02-28 | Frampton E. Ellis | Devices with faraday cages and internal flexibility sipes |
US8546930B2 (en) * | 2008-05-28 | 2013-10-01 | Georgia Tech Research Corporation | 3-D ICs equipped with double sided power, coolant, and data features |
US7928563B2 (en) * | 2008-05-28 | 2011-04-19 | Georgia Tech Research Corporation | 3-D ICs with microfluidic interconnects and methods of constructing same |
US8429735B2 (en) | 2010-01-26 | 2013-04-23 | Frampton E. Ellis | Method of using one or more secure private networks to actively configure the hardware of a computer or microchip |
US8541262B2 (en) | 2010-09-02 | 2013-09-24 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Die edge contacts for semiconductor devices |
US9190371B2 (en) * | 2010-12-21 | 2015-11-17 | Moon J. Kim | Self-organizing network with chip package having multiple interconnection configurations |
CN102779760B (zh) * | 2011-05-13 | 2015-06-03 | 力成科技股份有限公司 | 基板镶接式多晶片封装制程与构造 |
USD668658S1 (en) * | 2011-11-15 | 2012-10-09 | Connectblue Ab | Module |
USD689053S1 (en) * | 2011-11-15 | 2013-09-03 | Connectblue Ab | Module |
USD680119S1 (en) * | 2011-11-15 | 2013-04-16 | Connectblue Ab | Module |
USD668659S1 (en) * | 2011-11-15 | 2012-10-09 | Connectblue Ab | Module |
USD680545S1 (en) * | 2011-11-15 | 2013-04-23 | Connectblue Ab | Module |
USD692896S1 (en) * | 2011-11-15 | 2013-11-05 | Connectblue Ab | Module |
US9620473B1 (en) | 2013-01-18 | 2017-04-11 | University Of Notre Dame Du Lac | Quilt packaging system with interdigitated interconnecting nodules for inter-chip alignment |
US9099363B1 (en) * | 2014-02-12 | 2015-08-04 | Freescale Semiconductor, Inc. | Substrate with corner cut-outs and semiconductor device assembled therewith |
KR20160006032A (ko) * | 2014-07-08 | 2016-01-18 | 삼성전자주식회사 | 칩, 이를 이용하는 칩 적층 패키지 및 그 제조방법 |
US9911716B2 (en) | 2015-01-29 | 2018-03-06 | International Business Machines Corporation | Polygon die packaging |
US10923456B2 (en) * | 2018-12-20 | 2021-02-16 | Cerebras Systems Inc. | Systems and methods for hierarchical exposure of an integrated circuit having multiple interconnected die |
CN112448561B (zh) * | 2019-08-30 | 2022-04-15 | 台达电子企业管理(上海)有限公司 | 电源模块及电源模块的制备方法 |
US11410894B2 (en) | 2019-09-06 | 2022-08-09 | International Business Machines Corporation | Polygon integrated circuit (IC) packaging |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6379998B1 (en) * | 1986-03-12 | 2002-04-30 | Hitachi, Ltd. | Semiconductor device and method for fabricating the same |
US4860444A (en) * | 1986-03-31 | 1989-08-29 | Microelectronics And Computer Technology Corporation | Method of assembling a fluid-cooled integrated circuit package |
JPS6427420A (en) | 1987-07-22 | 1989-01-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Hydroponic culture apparatus |
US4990462A (en) * | 1989-04-12 | 1991-02-05 | Advanced Micro Devices, Inc. | Method for coplanar integration of semiconductor ic devices |
US5126286A (en) * | 1990-10-05 | 1992-06-30 | Micron Technology, Inc. | Method of manufacturing edge connected semiconductor die |
JP2821262B2 (ja) * | 1990-11-26 | 1998-11-05 | 株式会社日立製作所 | 電子装置 |
US5272113A (en) * | 1992-11-12 | 1993-12-21 | Xerox Corporation | Method for minimizing stress between semiconductor chips having a coefficient of thermal expansion different from that of a mounting substrate |
KR100245257B1 (ko) * | 1993-01-13 | 2000-02-15 | 윤종용 | 웨이퍼 수준의 반도체 패키지의 제조방법 |
JP3147666B2 (ja) * | 1994-07-21 | 2001-03-19 | 株式会社村田製作所 | 積層電子部品およびその製造方法 |
MY114888A (en) * | 1994-08-22 | 2003-02-28 | Ibm | Method for forming a monolithic electronic module by stacking planar arrays of integrated circuit chips |
-
1994
- 1994-06-20 JP JP13760894A patent/JP3519453B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1995
- 1995-04-21 US US08/427,111 patent/US5834843A/en not_active Expired - Lifetime
-
1998
- 1998-09-01 US US09/145,027 patent/US6287949B1/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008047802A (ja) * | 2006-08-21 | 2008-02-28 | Nec Electronics Corp | 半導体装置およびその製造方法 |
JP2010219514A (ja) * | 2009-03-14 | 2010-09-30 | Palo Alto Research Center Inc | 層間接続基板形成方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US6287949B1 (en) | 2001-09-11 |
US5834843A (en) | 1998-11-10 |
JP3519453B2 (ja) | 2004-04-12 |
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