JPH0853453A - 2−[1−(1,3−チアゾリン−2−イル)アゼチジン−3−イル]チオ−カルバペネム化合物 - Google Patents

2−[1−(1,3−チアゾリン−2−イル)アゼチジン−3−イル]チオ−カルバペネム化合物

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JPH0853453A JP6170496A JP17049694A JPH0853453A JP H0853453 A JPH0853453 A JP H0853453A JP 6170496 A JP6170496 A JP 6170496A JP 17049694 A JP17049694 A JP 17049694A JP H0853453 A JPH0853453 A JP H0853453A
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 強力な抗菌活性を示し、しかも、β−ラクタ
マーゼ及び腎デヒドロペプチダーゼに対する優れた耐性
を有する化合物、並びに該化合物を有効成分として含有
することを特徴とする抗菌剤の提供。 【構成】 式(I) 【化1】 で示される(1R,5S,6S)−2−[1−(1,3
−チアゾリン−2−イル)アゼチジン−3−イル]チオ
−6−[(R)−1−ヒドロキシエチル]−1−メチル
−カルバペン−2−エム−3−カルボン酸誘導体および
その薬理学的に許容し得る塩、並びに当該化合物を有効
成分として含有する抗菌剤。該化合物は、消化管から吸
収され、生体内で加水分解されることにより抗菌活性を
示し、経口投与用抗菌剤として使用される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はカルバペネム化合物に関
し、詳細には、カルバペネム骨格の1位にβ−配置のメ
チル基を有し、かつ2位に[1−(1,3−チアゾリン
−2−イル)アゼチジン−3−イル]チオ基を有するカ
ルバペネム化合物、およびそれらを有効成分として含有
する抗菌剤に関する。
【0002】
【従来の技術】チエナマイシン[アメリカ特許第3,9
50,357号;J.Am.Chem.Soc.,10
,313(1987)]の発見以来、カルバペネム系
抗生物質として種々の化合物の合成研究が精力的に行わ
れてきており、そのなかで、実用的なカルバペネム系抗
生物質としてイミペネム(imipenem:INN)
が開発・市販され、臨床的に広く使用されるまでに至っ
ている。
【0003】しかしながら、カルバペネム系抗生物質と
して最初に登場したイミペネムは、広範囲にわたるグラ
ム陽性菌、グラム陰性菌に対して優れた抗菌活性を示す
ものの、生体内において腎デヒドロペプチダーゼ(DH
P)により分解不活性化が短時間のうちに生じてしまう
という欠点を有している。そのためイミペネムは単独で
投与することができず、DHP阻害剤と併用し、その分
解不活性化を抑制してやらなければならない。したがっ
て、この化合物の実際的製剤はDHP阻害剤の一種であ
るシラスタチン(cilastatin:INN)と併
用したイミペネム/シラスタチンの配合処方となってい
る。
【0004】ところで、臨床的に使用される実用的な抗
菌剤としては抗菌剤本来の抗菌活性がそのまま発揮され
るのが好ましく、また、併用するDHP阻害剤が生体内
の他の組織において好ましからざる副作用を発揮するお
それがあることも考えられるので、配合処方は極力回避
したほうが良いことはいうまでもない。そのため、抗菌
活性と同時にDHPに対する耐性をも保有するカルバペ
ネム化合物の研究が行われ、その結果、単独投与可能な
カルバペネム系抗生剤としてメロペネム(merope
nem)、ビアペネム(biapenem)等が開発さ
れて来ている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】カルバペネム系化合物
は、幅広い菌種に対して抗菌活性を示すものであるが、
現在臨床の場で一般に用いられているβ−ラクタム系抗
生物質で問題とされている耐性菌の出現が十分予想され
る。すなわち、新規カルバペネム系抗生剤についても、
当初有効でありながら徐々に耐性菌が出現することは十
分に予想される。そのため、将来出現する耐性菌による
感染症への対策のためにも、ユニークな構造を有するカ
ルバペネム系抗生物質の開発が期待されている。一方、
これまでに提案されているカルバペネム化合物のほとん
どは、消化管からの吸収性が乏しいため、臨床上の使用
としては、いずれも注射剤として静脈注射することが考
えられているに過ぎない。しかしながら、臨床の場にお
いては、治療目的や患者の事情等から、薬物投与に際し
ていくつかの投与経路を選択し得ることが望ましい。特
に、経口抗生剤は注射剤に比べて投与が容易かつ簡便で
あり、在宅投与が可能であるという点で好ましく、臨床
上の有用性は極めて高い。したがって、幅広い抗菌スペ
クトルと強力な抗菌活性を有し、かつ経口投与が可能な
カルバペネム化合物の開発についても、臨床上強く望ま
れているところである。
【0006】最近に至り上述の目的を達成させるものと
して、カルバペネム骨格の1位にメチル基が導入され、
かつ2位に種々のヘテロシクリルチオ基を有する1−メ
チルカルバペネム化合物が提案されている。例えば特開
昭60−202886号公報(三共)は、アゼチジン環
の窒素原子にN−メチルアセトイミドイル基が置換され
たアゼチジン−3−イルチオ基をカルバペネム骨格の2
位置換基とする、下式(A):
【0007】
【化6】
【0008】で示される化合物を含め、いくつかの2−
ヘテロシクリルチオ−1−メチルカルバペネム誘導体を
提供している。該公報中には、これら2−ヘテロシクリ
ルチオカルバペネム化合物は抗菌活性が優れたものであ
るとともにDHPによる分解不活性化に対する抵抗性が
著しく改善され、有用性が高いものであると報告されて
いる。しかしながら、上記式(A)で示されるカルバペ
ネム化合物については、このものが具体的実施例により
現実に合成されたことを示す物理的、化学的データの記
載はなく、したがって抗菌活性データはもちろんのこ
と、この化合物の具体的な薬理活性はなんら明らかにさ
れていない。また2位のヘテロシクリルチオ基としてア
ゼチジニルチオ基はあるものの、アゼチジン環の窒素原
子にヘテロシクリル基が更に置換されたものについては
一切言及されておらず、本発明の特異的置換基である
[1−(1,3−チアゾリン−2−イル)アゼチジン−
3−イル]チオ基は記載も示唆もない。
【0009】また、ごく最近、特許国際公開WO93/
23,402(藤沢)は、次式(B):
【0010】
【化7】
【0011】で示される2−(3−アゼチジニルチオ)
−カルバペネム誘導体を提供しており、当該公報におい
てはその具体的カルバペネム化合物の1つとして次式
(C):
【0012】
【化8】
【0013】(式中、R4 およびR5 は一緒になって置
換基を有していてもよい、イミノ含有ヘテロシクリル
基)で示されるカルバペネム化合物を提供している。し
かしながら、藤沢が提供する上記式(C)で示されるカ
ルバペネム化合物にあっては、具体的に提供する化合物
としてはただ1つの実施例しかなく、その化合物につい
ての抗菌活性データはなんら明記されているものではな
い。したがって、上記各公報は、本明細書において開示
しかつクレームする、薬理学的に優れた特性を有する本
発明化合物について、なんら示唆を与えるものではな
い。
【0014】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、今回、カ
ルバペネム骨格の1位がβ−配置でメチル置換され、そ
して、2位置換基として[1−(1,3−チアゾリン−
2−イル)アゼチジン−3−イル]チオ基が導入された
カルバペネム化合物が、強力な抗菌活性を示し、しか
も、β−ラクタマーゼ阻害作用並びに腎デヒドロペプチ
ダーゼに対する優れた耐性を有することを見いだし、ま
た、これらカルバペネム化合物は経口投与において消化
管からの吸収性に優れ、生体内で強力な抗菌活性を示す
ことを確認し、本発明を完成するに至った。かくして、
本発明は式(I):
【0015】
【化9】
【0016】式中、Rは水素原子;非置換もしくは水酸
基、低級アルコキシ基、低級アルコキシ−低級アルコキ
シ基で置換された低級アルキル基;基:−COOR1
(R1 は水素原子または低級アルキル基を表す);また
は基:−CONR23 (R2及びR3 はそれぞれ独立
して水素原子または低級アルキル基を表す)を表し、Y
はカルボキシ基、−COO- または保護されたカルボキ
シ基を表す、で示される(1R,5S,6S)−2−
[1−(1,3−チアゾリン−2−イル)アゼチジン−
3−イル]チオ−6−[(R)−1−ヒドロキシエチ
ル]−1−メチル−カルバペン−2−エム−3−カルボ
ン酸誘導体またはその薬理学的に許容される塩を提供す
る。本発明は、その好ましい態様において、次式(I−
a):
【0017】
【化10】
【0018】(式中、Yは前記定義と同一である。)で
示される(1R,5S,6S)−2−[1−(1,3−
チアゾリン−2−イル)アゼチジン−3−イル]チオ−
6−[(R)−1−ヒドロキシエチル]−1−メチル−
カルバペン−2−エム−3−カルボン酸誘導体またはそ
の薬理学的に許容される塩を提供する。さらに本発明
は、そのひとつの具体的態様において、次式(II):
【0019】
【化11】
【0020】で示される(1R,5S,6S)−2−
[1−(1,3−チアゾリン−2−イル)アゼチジン−
3−イル]チオ−6−[(R)−1−ヒドロキシエチ
ル]−1−メチル−カルバペン−2−エム−3−カルボ
ン酸またはその薬理学的に許容される塩を提供する。
【0021】本発明の他の目的は、経口投与可能なカル
バペネム化合物の提供にある。すなわち、本発明者らは
上記式(II)で示されるカルバペネム化合物の3位の
カルボキシ基をエステル化した場合に、当該エステル化
合物は消化管からの吸収性に優れ、しかも、生体内にお
いて速やかに加水分解されることによって抗菌活性発現
化合物である上記式(II)の化合物に変換され、生体
内において優れた抗菌活性を示すこと、すなわち当該エ
ステル化合物が式(II)の化合物のプロドラッグとし
て臨床上優れた抗菌剤、特に経口投与抗菌剤となり得る
ことを見出した。しかして本発明は、他の態様において
上記式(I)で示されるカルバペネム化合物が、次式
(III):
【0022】
【化12】
【0023】(式中、R4 はカルボン酸エステルのエス
テル残基を表す)で示される、(1R,5S,6S)−
2−[1−(1,3−チアゾリン−2−イル)アゼチジ
ン−3−イル]チオ−6−[(R)−1−ヒドロキシエ
チル]−1−メチル−カルバペン−2−エム−3−カル
ボキシレートである化合物を提供し、当該化合物は特に
経口投与形態の適用に用いられるものである。上記式
(III)のなかでも、特に好適な化合物は、次式(I
V):
【0024】
【化13】
【0025】で示される1−[(シクロヘキシルオキ
シ)カルボニルオキシ]エチル (1R,5S,6S)
−2−[1−(1,3−チアゾリン−2−イル)アゼチ
ジン−3−イル]チオ−6−[(R)−1−ヒドロキシ
エチル]−1−メチル−カルバペン−2−エム−3−カ
ルボキシレート、またはその薬理学的に許容される塩で
ある。
【0026】本発明の更に別の目的は、抗菌剤の提供に
あり、具体的には前記式(I)で示されるカルバペネム
化合物を有効成分として含有する抗菌剤を提供するもの
である。なかでも本発明はその好ましい態様として、前
記式(IV)で示される1−[(シクロヘキシルオキ
シ)カルボニルオキシ]エチル (1R,5S,6S)
−2−[1−(1,3−チアゾリン−2−イル)アゼチ
ジン−3−イル]チオ−6−[(R)−1−ヒドロキシ
エチル]−1−メチル−カルバペン−2−エム−3−カ
ルボキシレートを有効成分として含有する経口投与の形
態にある抗菌剤を提供する。
【0027】本発明が提供するカルバペネム化合物は、
2位置換基として特異的な[1−(1,3−チアゾリン
−2−イル)アゼチジン−3−イル]チオ基を有する点
で先行文献にはなんら記載されていない新規な化合物で
あり、その抗菌力並びにDHP−Iに対する安定性が特
異的に優れている点に特徴を有する。
【0028】以下に本発明の化合物について更に詳細に
説明するが、本明細書中において、「低級」なる語はこ
の語が付された基または化合物の炭素原子数が1〜7
個、好ましくは1〜4個であることを意味する。
【0029】「アルキル基」は炭素原子数が1〜20個
の直鎖状または分枝鎖状のアルキル基を意味し、例えば
メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブ
チル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチ
ル、n−ペンチル、イソペンチル、n−ヘキシル、イソ
ヘキシル、n−ヘプチル、イソヘプチル、オクチル、イ
ソオクチル、ノナニル、ドデカニル、ペンタデカニル、
エイコサニル等が挙げられる。
【0030】「アルコキシ基」は、アルキル基が上記の
意味を有するアルキル置換オキシ基を意味し、例えばメ
トキシ、エトキシ、n−プロポキシ、イソプロポキシ、
n−ブトキシ、イソブトキシ、sec−ブトキシ、te
rt−ブトキシ、n−ペンチルオキシ、イソペンチルオ
キシ、n−ヘキシルオキシ、イソヘキシルオキシ、n−
ヘプチルオキシ、イソヘプチルオキシ等が挙げられる
が、好ましくはメトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、
イソプロポキシ、n−ブトキシ、イソブトキシ、sec
−ブトキシ、tert−ブトキシである。
【0031】「保護されたカルボキシ基」とは、式:−
COOR4 (R4 はカルボン酸エステルのエステル残基
を表す)で表されるエステル化されたカルボキシ基を意
味し、基「R4 」であるエステル残基の好適なものは、
少なくとも1つの置換基を有していてもよい低級アルキ
ルエステル残基であり、次式の基で表すことができる。
【0032】
【化14】
【0033】式中、R5 は水素原子またはアルキル基を
表し、R6 はアルキル基またはシクロアルキル基[これ
らの基はいずれも、アルコキシ基、式−OP(=O)
(OR72 で示される基(ここで、R7 は水素原子、
アルキル基、アリール基またはアラルキル基である)、
カルボキシル基およびプロリルグリシナミド基の中から
選択される基で置換されていてもよい]を表し、nは0
または1を表す。「アリール基」は単環式又は多環式の
いずれであってもよく、さらに環上に1個もしくはそれ
以上のアルキル基を有していてもよい芳香族基であり、
たとえばフェニル、トリル、キシリル、α−ナフチル、
β−ナフチル等を例示することができる。
【0034】「アラルキル基」はアルキル基及びアリー
ル基がそれぞれ上記の意味を有するアリール置換アルキ
ル基を意味し、たとえば、ベンジル、ベンズヒドリル、
トリチル、フェネチル、α−メチルベンジル、フェニル
プロピル、ナフチルメチル等が挙げられる。
【0035】「シクロアルキル基」は環炭素原子数が3
〜7個の飽和単環式炭化水素基を意味し、たとえばシク
ロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘ
キシル、シクロヘプチル等が挙げられる。したがって、
本発明において好適な「エステル残基」としては、例え
ば、以下のものが挙げられる。
【0036】低級アルカノイルオキシ−低級アルキルエ
ステル(例えば、アセトキシメチルエステル、プロピオ
ニルオキシメチルエステル、ブチリルオキシメチルエス
テル、バレリルオキシメチルエステル、ピバロイルオキ
シメチルエステル、ヘキサノイルオキシメチルエステ
ル、1−(または2−)アセトキシエチルエステル、1
−(または2−、または3−)アセトキシプロピルエス
テル、1−(または2−、または3−、または4−)ア
セトキシブチルエステル、1−(または2−)プロピオ
ニルオキシエチルエステル、1−(または2−、または
3−)プロピオニルオキシプロピルエステル、1−(ま
たは2−)ブチリルオキシエチルエステル、1−(また
は2−)イソブチリルオキシエチルエステル、1−(ま
たは2−)ピバロイルオキシエチルエステル、1−(ま
たは2−)ヘキサノイルオキシエチルエステル、イソブ
チリルオキシメチルエステル、2−エチルブチリルオキ
シメチルエステル、3,3−ジメチルブチリルオキシメ
チルエステル、1−(または2−)ペンタノイルオキシ
エチルエステル等)。
【0037】低級アルカンスルホニル−低級アルキルエ
ステル(例えば、2−メシルエチルエステル等);モノ
(またはジ−、またはトリ−)ハロゲン化低級アルキル
エステル(例えば、2−ヨードエチルエステル、2,
2,2−トリクロロエチルエステル等);低級アルキル
カルボニルオキシ−低級アルキルエステル(例えば、メ
トキシカルボニルオキシメチルエステル、エトキシカル
ボニルオキシメチルエステル、プロポキシカルボニルオ
キシメチルエステル、t−ブトキシカルボニルオキシメ
チルエステル、1−(または2−)メトキシカルボニル
オキシエチルエステル、1−(または2−)エトキシカ
ルボニルオキシエチルエステル、1−(または2−)イ
ソプロポキシカルボニルオキシエチルエステル等);シ
クロアルキルオキシカルボニルオキシ−低級アルキルエ
ステル(例えば、シクロヘキシルオキシカルボニルオキ
シメチルエステル、1−(または2−)シクロヘキシル
オキシカルボニルオキシエチルエステル等);フタリジ
ジエン−低級アルキルエステル;または(5−低級アル
キル−2−オキソ−1,3−ジオキソール−4−イル)
−低級アルキルエステル[例えば、(5−メチル−2−
オキソ−1,3−ジオキソール−4−イル)メチルエス
テル、(5−エチル−2−オキソ−1,3−ジオキソー
ル−4−イル)メチルエステル、(5−プロピル−2−
オキソ−1,3−ジオキソール−4−イル)エチルエス
テル等]。好適な保護されたカルボキシ基としては、ピ
バロイルオキシメチルオキシカルボニルまたは1−(シ
クロヘキシルオキシカルボニル)エチルオキシカルボニ
ル基である。
【0038】本発明により提供される式(I)の化合物
の代表例を挙げれば、下記表1乃至表6に示すとおりで
ある。
【0039】
【表1】
【0040】
【表2】
【0041】
【表3】
【0042】
【表4】
【0043】
【表5】
【0044】
【表6】
【0045】なお、上記表中の化合物に有機酸または無
機酸が付加して得られる塩のうち、薬学的に許容される
塩もまた、本発明の代表的化合物として挙げられる。
【0046】以上の本発明の化合物の2位または3位側
鎖の置換基には不斉炭素原子が存在ある場合があるが、
これらの異性体は光学的に活性な原料化合物を用いれば
容易に立体選択的に合成することができ、また、これら
の異性体の混合物から通常の単離精製手段によって分離
できるものである。したがって、これらの異性体の混合
物はもちろんのこと、各異性体それ自体もまた本発明に
包含される化合物であることはいうまでもない。
【0047】本発明により提供される式(I)の化合物
の中で特に好ましいものとしては、前記式(II)で示
される(1R,5S,6S)−2−[1−(1,3−チ
アゾリン−2−イル)アゼチジン−3−イル]チオ−6
−[(R)−1−ヒドロキシエチル]−1−メチル−カ
ルバペン−2−エム−3−カルボン酸、およびそのエス
テル化合物であるピバロイルオキシメチル (1R,5
S,6S)−2−[(1−(1,3−チアゾリン−2−
イル)アゼチジン−3−イル]チオ−6−[(R)−1
−ヒドロキシエチル]−1−メチルカルバペン−2−エ
ム−3−カルボキシレート、ならびに1−[(シクロヘ
キシルオキシ)カルボニルオキシ]エチル (1R,5
S,6S)−2−[(1−(1,3−チアゾリン−2−
イル)アゼチジン−3−イル]チオ−6−[(R)−1
−ヒドロキシエチル]−1−メチルカルバペン−2−エ
ム−3−カルボキシレートが挙げられる。本発明が提供
する経口カルバペネム化合物として特に好適な化合物
は、前記式(IV)で示される1−[(シクロヘキシル
オキシ)カルボニルオキシ]エチル(1R,5S,6
S)−2−[1−(1,3−チアゾリン−2−イル)ア
ゼチジン−3−イル]チオ−6−[(R)−1−ヒドロ
キシエチル]−1−メチル−カルバペン−2−エム−3
−カルボキシレートである。
【0048】本発明の式(I)の化合物は、たとえば模
式的に示した下記反応式に従って合成することができ
る。すなわち、式(I)の化合物において基「Y」がカ
ルボキシ基または−COO- である化合物は、下記反応
式Aに示す方法で製造することができる。
【0049】
【化15】
【0050】式中、Lは脱離基を表し、Rは前記定義の
とおりである。
【0051】上記式(VI)においてLによって表され
る「脱離基」としては、例えば、アジド基;塩素、臭
素、フッ素等のハロゲン原子;アセトキシ、プロピオニ
ルオキシ等の低級アルカノイルオキシ基;ベンゼンスル
ホニルオキシ、トシルオキシ、メタンスルホニルオキシ
等のスルホニルオキシ基;メトキシ、エトキシ等の低級
アルコキシ基;メチルチオ、エチルチオ等の低級アルキ
ルチオ基を挙げることができる。
【0052】式(V)で示される(1R,5S,6S)
−2−[(アゼチジン−3−イル)]チオ−6−
[(R)−1−ヒドロキシエチル]−1−メチル−カル
バペン−2−エム−3−カルボン酸と式(VI)で示さ
れる化合物との反応は、例えば、式(V)の化合物をp
H5〜7の緩衝液、例えばリン酸緩衝液、酢酸緩衝液、
クエン酸緩衝液、モルホリノプロパンスルホン酸緩衝
液、N−メチルモルホリン酸緩衝液に溶解させ、これに
式(VI)を加えて攪拌することにより行うことができ
る。式(VI)の化合物の使用量は特に限定されない
が、一般には式(V)の化合物1重量部に対し約1〜約
10重量部、好ましくは約1〜約5重量部の範囲内とす
ることができる。また、本反応においては、必要に応じ
て有機溶媒を併用してもよく、そのような溶媒として
は、エタノール、プロパノール、n−ブタノールなどの
アルコール系溶媒;ジエチルエタノール、テトラヒドロ
フランなどのエーテル系溶媒;アセトニトリル、ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等が挙げられ
る。反応は、式(VI)の化合物の種類によっても異な
るが、通常、約−78℃〜約50℃、好ましくは約−2
0℃〜約0℃の温度で、約5分間〜約5時間程度処理す
ることにより完了させることができる。
【0053】以上に述べた製造方法において出発原料と
して使用される前記式(V)の化合物はそれ自体既知の
ものであり、例えば特開昭63−255280号公報に
記載の方法によって製造することができる。
【0054】また、式(I)の化合物において基「Y」
がカルボキシ基または−COO- である化合物は、下記
反応式Bに示す方法で製造することもできる。
【0055】
【化16】
【0056】式中、Ra はアシル基を表し、R’はカル
ボキシル保護基を表し、Rは前記定義のとおりである。
【0057】上記Ra によって示される「アシル基」
は、単に有機カルボン酸のカルボキシル基からOH基を
除いた残りの原子団のみならず、広義に、有機スルホン
酸や有機リン酸から誘導されるアシル基をも包含し、例
えばアセチル、プロピオニル、ブチリル等の低級アルカ
ノイル基;メタンスルホニル、トリフルオロメタンスル
ホニル基等の(ハロ)低級アルキルスルホニル基;ベン
ゼンスルホニル、p−ニトロベンゼンスルホニル、p−
ブロモベンゼンスルホニル、トルエンスルホニル、2,
4,6−トリイソプロピルベンゼンスルホニル等の置換
もしくは未置換のアリールスルホニル基;ジフェニルホ
スホリル基等が挙げられる。
【0058】また、R’によって示される「カルボキシ
ル保護基」としては、例えば、エステル残基を例示する
ことができ、かかるエステル残基としてはメチル、エチ
ル、n−プロピル、イソプロピル、n−、iso−、t
ert−ブチル、n−ヘキシルエステル等の低級アルキ
ルエステル残基;アリルエステル残基;ベンジル、p−
ニトロベンジル、o−ニトロベンジル、m−ニトロベン
ジル、2,4−ジニトロベンジル、p−クロロベンジ
ル、p−ブロモベンジル、p−メトキシベンジル等のア
ラルキルエステル残基;アセトキシメチル、アセトキシ
エチル、プロピオニルオキシメチル、n−、iso−ブ
チリルオキシメチル、ピバロイルオキシメチル等の低級
脂肪族アシルオキシメチル残基等が挙げられる。
【0059】式(VIII)の化合物と式(IX)で示
される[1−(1,3−チアゾリン−2−イル)アゼチ
ジン−3−イル]チオールとの反応は、例えば、式(V
III)の化合物を、テトラヒドロフラン、ジクロルメ
タン、ジオキサン、ジメチルホルムアミド、ジメチルス
ルホキシド、アセトニトリル、ヘキサメチルホスホラミ
ド等の適当な溶媒中で、約0.5〜約5倍モル量、好ま
しくは約0.8〜約3倍モル量の式(IX)のチオール
化合物と、好ましくは炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウ
ム、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンな
どの塩基の存在下に、約−40℃〜約25℃の範囲内の
温度で約30分〜約24時間反応させることにより行う
ことができる。反応は、不活性ガス、例えば窒素ガスま
たはアルゴンガス気流中で行うことが好ましい。この反
応により式(X)の化合物が得られ、反応液はそのまま
次の工程で用いることができるが、場合によっては、反
応液を通常の精製手段に付すことにより式(X)の化合
物を単離精製することもできる。
【0060】なお、本反応においては、式(IX)の化
合物に代えてそのメルカプト基が保護されている化合物
(IX’)を原料として用いることもできる。この場合
には、当該原料化合物(IX’)のメルカプト保護基を
脱離させて式(IX)の化合物としたのち、このものを
単離することなくその反応液に式(X)の化合物を加え
て攪拌することにより実施でき、この場合の反応条件等
は上記と同様である。なお、保護基の脱離反応は、アミ
ノ酸の化学でチオール保護基を脱離させるために用いら
れる通常の条件下で行うことができる。
【0061】次いで、上記の反応により得られる式
(X)の化合物をカルボキシル保護基R’の脱離反応に
付し、式(VII)の化合物を生成せしめる。カルボキ
シル保護基R’の脱離は、ソルボリシスまたは水素添加
分解のようなそれ自体既知の脱保護基反応により行うこ
とができるが、具体的には、式(X)の化合物を、例え
ば、pH5.5の酢酸緩衝液、pH5.5のモルホリノ
プロパンスルホン酸−水酸化ナトリウム緩衝液、pH
5.5のリン酸塩緩衝液、リン酸二カリウム、重炭酸ナ
トリウム等を含むテトラヒドロフラン−水、テトラヒド
ロフラン−エタノール−水、ジオキサン−水、ジオキサ
ン−エタノール−水、n−ブタノール−水等の混合溶媒
中で、約1〜約4気圧の水素を用い、酸化白金、パラジ
ウム−活性炭、水酸化パラジウム−活性炭などの水添触
媒の存在下に、約0℃〜約50℃の範囲内の温度で約
0.25〜約5時間処理することにより行うことができ
る。
【0062】また、保護基R’の脱離は緩衝液中にて亜
鉛で処理することにより実施することもできる。例え
ば、式(X)の化合物をpH5〜7の緩衝液、例えばリ
ン酸緩衝液、酢酸緩衝液、クエン酸緩衝液、モルホリノ
プロパンスルホン酸緩衝液、N−メチルモルホリン酸緩
衝液中にて亜鉛で処理することにより行うことができ
る。使用し得る亜鉛としては、例えば亜鉛粉末、華状亜
鉛、顆粒亜鉛が挙げられ、その使用量は特に限定されな
いが、一般には式(X)の化合物1重量部に対し約1〜
約10重量部、好ましくは約1〜約5重量部の範囲内と
することができる。また、本脱離反応においては、必要
に応じ、有機溶媒を併用してもよく、そのような溶媒と
しては、エタノール、プロパノール、n−ブタノールな
どのアルコール系溶媒;ジエチルエタノール、テトラヒ
ドロフランなどのエーテル系溶媒;アセトニトリル、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等が挙げら
れる。反応は、通常、約−20℃〜約50℃、好ましく
は室温〜約30℃の温度で、約5分間〜約5時間程度処
理することにより完了させることができる。
【0063】以上に述べた製造方法において出発原料と
して使用される前記式(VIII)の化合物はそれ自体
既知のものであり、例えば特開昭56−123985号
公報に記載の方法によって製造することができ、あるい
は好適には、特開昭63−284176号公報に記載の
方法により高立体選択的に製造することができる。ま
た、上記式(IX)の[1−(1,3−チアゾリン−2
−イル)アゼチジン−3−イル]チオールは、例えば後
記製造例および実施例に示される方法、またはこの方法
に準じて、市販の入手できる化合物から容易に製造する
ことができる。
【0064】かくして、本発明の目的化合物である式
(I)中、基「Y」がカルボキシ基である(1R,5
S,6S)−2−[1−(1,3−チアゾリン−2−イ
ル)アゼチジン−3−イル]チオ−6−[(R)−1−
ヒドロキシエチル]−1−メチル−カルバペン−2−エ
ム−3−カルボン酸誘導体を高収率で得ることができ、
該化合物は、必要に応じてイオン交換樹脂または高分子
吸着樹脂を用いて精製することにより、高純度で単離す
ることができる。
【0065】本発明はまた、経口投与可能なカルバペネ
ム化合物を提供するものであり、具体的には式(I)中
基「Y」が経口投与に適するカルボキシ保護基である、
(1R,5S,6S)−2−[1−(1,3−チアゾリ
ン−2−イル)アゼチジン−3−イル]チオ−6−
[(R)−1−ヒドロキシエチル]−1−メチル−カル
バペン−2−エム−3−カルボキシレートを提供する。
このカルバペネム化合物は、前記反応式AまたはB記載
の方法により製造された式(VII)の化合物を出発化
合物として、下記反応式Cに示す方法で製造することが
できる。
【0066】
【化17】
【0067】式中、Xはハロゲン原子を表し、R、R
5 、R6 およびnは前記定義のとおりである。
【0068】上記反応式CにおいてXによって表される
「ハロゲン原子」としては、例えば塩素、ヨウ素、臭
素、フッ素等を挙げることができる。反応式Cにおい
て、式(VII)で示される(1R,5S,6S)−2
−[(1−(1,3−チアゾリン−2−イル)アゼチジ
ン−3−イル]チオ−6−[(R)−1−ヒドロキシエ
チル]−1−メチルカルバペネム−3−カルボン酸と式
(XI)で示される化合物との反応は、先ず、水中で式
(VII)の化合物をアルカリ金属化合物、たとえば水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム等;アルカリ金属炭酸
塩、たとえば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等;アルカ
リ金属炭酸水素塩;たとえば炭酸水素ナトリウム、炭酸
水素カリウム等から選択される適当な塩基で処理するこ
とによって式(VII)の化合物のアルカリ金属塩とし
たのち、次いでこの化合物を、不活性有機溶媒、たとえ
ばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン
等のエーテル類;ベンゼン、トルエン、キシレン、シク
ロヘキサン等の炭化水素類;ジクロルメタン、クロロホ
ルム等のハロゲン化炭化水素類;N,N−ジメチルホル
ムアミド、アセトニトリル、ジメチルスルホキシド等、
好ましくはジメチルホルムアミド中で上記式(XI)の
化合物とともに攪拌することによって実施することがで
きる。
【0069】式(VII)の化合物のアルカリ金属塩を
製造する反応において、式(VII)の化合物に対する
塩基の使用量は特に限定されないが、一般には式(VI
I)の化合物1モルに対して約1〜約10モル、好まし
くは約1〜約5モルの範囲内とすることができる。ま
た、反応温度は厳密に制限されるものでなく、一般に、
約0℃〜室温程度で行うことができ、かかる条件下で、
反応は数分間〜約1時間で終了させることができる。ま
た、次の、式(VII)の化合物のアルカリ金属塩と式
(XI)の化合物との反応における式(XI)の化合物
の使用量は特に限定されるものではなく、通常、式(V
II)の化合物のアルカリ金属塩1モルに対して約1〜
約3モル、好ましくは約1〜約1.5モルの割合で使用
することができる。反応温度は厳密に制限されるもので
なく、一般に、約−20℃〜約50℃、好ましくは約0
℃〜室温程度の比較的低温で行うことができ、かかる条
件下で、反応は約10分間〜数時間で終了させることが
できる。
【0070】上記の反応により本発明の式(I)中、基
「Y」が保護されたカルボキシ基である(1R,5S,
6S)−2−[1−(1,3−チアゾリン−2−イル)
アゼチジン−3−イル]チオ−6−[(R)−1−ヒド
ロキシエチル]−1−メチル−カルバペン−2−エム−
3−カルボキシレート[式(XII)で示される化合
物]を得ることができるが、必要に応じて、反応液を通
常行われる精製手段、例えばろ過、デカンテーション、
抽出、洗浄、溶媒留去、カラム又は薄層クロマトグラフ
ィー、再結晶、蒸留、昇華等に付すことにより単離精製
することもできる。本反応において出発原料として用い
られる式(VII)の化合物は、具体的には後記実施例
に示す方法によって合成することができる。また、式
(XI)の化合物としてはそれ自体既知の化合物を使用
することができ、あるいは、後記製造例に記載した方法
に準じて、既知の化合物から容易に製造することができ
る。
【0071】本発明の目的化合物である式(I)の(1
R,5S,6S)−2−[1−(1,3−チアゾリン−
2−イル)アゼチジン−3−イル]チオ−6−[(R)
−1−ヒドロキシエチル]−1−メチル−カルバペン−
2−エム−3−カルボン酸誘導体は、必要に応じて有機
酸または無機酸で処理することにより、式(I)の化合
物の任意の酸付加塩として単離することもできる。ここ
で用いられる有機酸としては、例えば酢酸、プロピオン
酸、酪酸、トリフルオロ酢酸、トリクロロ酢酸等の低級
脂肪酸;安息香酸、p−ニトロ安息香酸等の置換または
未置換の安息香酸;メタンスルホン酸、トリフルオロメ
タンスルホン酸等の(ハロ)低級アルキルスルホン酸;
ベンゼンスルホン酸、p−ニトロベンゼンスルホン酸、
p−ブロモベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸、
2,4,6−トリイソプロピルベンゼンスルホン酸等の
置換または未置換のアリールスルホン酸;ジフェニルリ
ン酸等の有機リン酸を挙げることができ、無機酸として
は、例えば塩酸、硫酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、ホ
ウフッ化水素酸、過塩素酸、亜硝酸等が挙げられる。本
発明によって提供される式(I)のカルバペネム化合物
は、前記のとおり、従来の文献に具体的には開示されて
いない新規な化合物であって、腎酵素として知られてい
るデヒドロペプチダーゼ(DHP)に対する高い安定性
を示し、またその抗菌力が特異的に優れている。更に、
本発明によって提供される経口投与可能な式(I)のカ
ルバペネム−3−カルボン酸エステル誘導体は、消化管
からの吸収性が優れており、しかも、消化管から吸収さ
れた式(I)の化合物は、体内において直ちに活性化合
物に変換され、強力な抗菌活性を発揮する。したがっ
て、本発明の式(I)中、基「Y」が保護されたカルボ
キシ基である化合物は、経口投与するためのプロドラッ
グとして、臨床上極めて有用である。
【0072】本発明の式(I)の化合物の上記した特性
は、以下の抗菌試験および薬理試験等によって証明する
ことができる。
【0073】I:抗菌試験 1.試験方法 日本化学療法学会標準法[Chemothrapy, vol29,76
〜79(1981)]に準じた寒天平板希釈法による。
すなわち、被検菌のMueller-Hinton(MH)寒天液体培
地上での37℃、一夜培養液を約106cells/ml になる
ようにBufferedsaline gelatin (BSG)溶液で希釈
し、ミクロプランターを用い試験化合物含有MH寒天培
地に約5μl接種し、37℃で18時間培養後、被検菌
の発育が認められない最小濃度をもってMinimum inhibi
tory concentration(MIC)とした。ここで、使用菌
株は標準菌株を用いた。試験化合物としては後記実施例
2で得られた化合物(28)[実施例6で得られた化合
物(33)の活性化合物に相当する]、および実施例4
で得られた化合物(31)を用いた。 2.結果 結果を下記表7に示す。
【0074】
【表7】
【0075】上記の結果から、本発明の式(I)の化合
物は優れた抗菌力を有すること、特にStaphylococcus
属、 Streptococcus属、Klebsiella属及び Proteus属の
菌に対して極めて強力な抗菌活性を示すことが理解され
る。
【0076】II:臨床分離株に対する抗菌試験 1.試験方法 (1)被験菌株 日本において臨床的に新たに単離された下記の分離株を
使用した。 MRSA 28株S . epidermidis 23株E . faecalis 16株E . coli 20株E . Cloacae 14株K . pneumoniae 23株S . marcescens 27株 (2)日本化学療法学会標準法に準じた寒天平板希釈法
により試験を行った。最少発育阻止濃度(MIC)は試
験Iと同様に求めた。 2.結果 試験化合物は後記実施例2で得た化合物(28)を用
い、コントロールとして臨床的に広く使用されているセ
ファロスポリン系抗生剤であるセフタジディム(CA
Z)およびカルバペネム系抗生剤であるイミペネムをお
いた。結果はMIC50値として表8に示す。
【0077】
【表8】
【0078】表中の結果から明らかな様に、本発明化合
物は臨床分離株に対して、イミペネムまたはCAZに比
較し優れた抗菌活性を示すことが判明する。 III:腎デヒドロペプチダーゼ−Iに対する安定性試
験 1.試験方法 ブタ腎臓より得た精製デヒドロペプチダーゼに対する本
発明化合物の安定性を試験した。基質として、化合物の
最終濃度を35μg/mlに調整し、これに50mMの
酵素含有MOPS buffer(pH7.0)溶液を
加え、30℃にて2時間インキュベートしたのち、同量
のメタノールを添加した。反応液を1,000×gの遠
心分離(20分間)に付し、得られた上清の残存活性を
Staphylococcus aureus Terajimaを用いたバイオアッセ
イ法で求めた。不活性酵素をコントロールとし、スタン
ダードカーブを求めた。試験化合物としては、後記実施
例2で得た化合物(28)を用い、コントロールとして
イミペネムを用いた。 2.結果 表9にその結果を示した。
【0079】
【表9】
【0080】表中の結果から明らかなように、本発明化
合物はイミペネムに比較しDHP−Iに対する安定性が
すぐれていることが判明する。
【0081】IV:in situ ループ法による腸
管吸収試験 1.試験方法 一夜絶食したWistar系7週齢雄性ラットの十二指
腸下部約30cmの部位を糸で縛る。十二指腸上部から
試験化合物(20mg/kg)を0.2%生理食塩水溶
液として胃ゾンデを用いて注入した後、注入部位直下を
糸で縛り直ちに腸腔内に戻す。試験化合物注入後10、
30、60および120分経過後に、頸静脈から約0.
4ml採血して、この血漿中の試験化合物および活性代
謝物である化合物の濃度をHPLC法(日立635A
型、カラム;Wakopack)により測定した。ま
た、この測定値から、注入後2時間の試験化合物のAU
C(血中濃度曲線下面積)を求めた。ラットは2匹用
い、試験化合物としては後記実施例2、5および6で製
造された化合物(28)、(32)および(33)を用
いた。
【0082】2.結果 本試験で得られた試験化合物の最高血中濃度およびAU
Cを下記表10に示す。なお、試験化合物(32)およ
び(33)を投与した試験にあっては、いずれの場合も
ラットの血液からは当該試験化合物は一切認められず、
これらの活性本体化合物である化合物(28)のみが検
出された。したがって、表には化合物(28)の血中濃
度データをもって示すこととする。
【0083】
【表10】
【0084】以上の結果から、本発明の経口カルバペネ
ム化合物は腸管からの吸収が良好であり、しかも、吸収
されたのち化合物は直ちに活性本体化合物に変換されて
血液中に存在することが確認された。また、経口カルバ
ペネム化合物のAUC(血中濃度曲線下面積)値も活性
本体化合物を投与した場合と比較してはるかに大きく、
腸管からの吸収率が高いことが確認された。
【0085】V:経口投与試験 1.試験方法 一夜絶食した被験動物に、試験化合物を胃ゾンデを用い
て経口投与する。試験化合物投与後0.25、0.5、
1および2時間経過後に、頸静脈から約0.4ml採血
して上記試験と同様の方法で試験化合物の濃度を測定し
た。また、この測定値から、投与後一定時間の試験化合
物のAUCを求めた。被験動物としてはddY系5週齢
雄性マウスを各試験化合物毎に2匹用い、1%生理食塩
水溶液として100mg/kgの試験化合物をそれぞれ
投与した。試験化合物としては後記実施例2、5および
6で製造された化合物(28)、(32)および(3
3)を用いた。
【0086】2.結果 本試験で得られた各化合物の最高血中濃度及びAUCを
下記表11に示す。なお、試験化合物(32)および
(33)を投与した試験にあっては、前記試験と同様、
いずれの場合もマウスの血液からは当該試験化合物は一
切認められず、化合物(28)のみが検出された。した
がって、表には化合物(28)の血中濃度データをもっ
て示すこととする。
【0087】
【表11】
【0088】以上の結果から、in vivoの経口投
与においても、本発明の経口カルバペネム化合物の消化
管からの吸収が良好であることが確認された。
【0089】VI:毒性試験 Wistar系の7週齢雄性ラットを一群3匹使用し
て、後記実施例に記載の本発明のカルバペネム−3−カ
ルボン酸誘導体である化合物(28)、(31)、(3
2)および(33)の各化合物を経口投与して1週間に
わたる観察を行った。その結果、本発明のいずれの化合
物も500mg/kgの投与ですべて異常なく生存した
ことが観察された。
【0090】本発明によって提供される式(I)のカル
バペネム−3−カルボン酸誘導体は、それ自体で抗菌活
性を示すとともに、経口投与可能なものでもあり、これ
ら化合物は経口投与により消化管から良好に吸収され
て、生体内において直ちに活性化合物に変換される。変
換された活性化合物が優れた抗菌活性を示すことは上記
試験結果から明らかである。したがって、本発明の経口
カルバペネム化合物は活性本体化合物を投与するための
プロドラッグとして使用することができ、種々の病原菌
による細菌感染症の治療、予防等のための抗菌剤、特に
経口投与用抗菌剤として極めて有用である。
【0091】また、本発明のカルバペネム化合物は、従
来のセファロスポリン化合物に比較し広範囲の抗菌スペ
クトルを示すとともに、イミペネムに匹敵する優れた抗
菌活性を有し、そのうえイミペネムと比較しDHPに対
する耐性がはるかに優れている。更に、臨床分離病原菌
に対しても優れた抗菌効果を有しており、しかもマウス
における感染防御試験においても種々の試験菌に対し良
好な効果を示すことが観察された。したがって、本発明
の式(I)で示されるカルバペネム化合物およびその薬
理学的に許容される塩は、従来のイミペネムがDHP阻
害剤であるシラスタチンと組み合わせることによっては
じめて実用的な抗菌剤として臨床治療に用いられるよう
になったのとは対照的に、単独での使用が可能となり、
DHP阻害剤との併用による副作用の心配なく、種々の
病原菌による細菌感染症の治療、予防等のための抗菌剤
として極めて有用である。
【0092】本発明の式(I)のカルバペネム化合物お
よびその薬理学的に許容される塩は、それを抗菌剤とし
て使用するに際して、その抗菌的有効量を含有する経口
投与用組成物をはじめ、薬剤学的組成物の形態で人間を
初めとする哺乳動物に投与することができる。その投与
量は処置すべき患者の年齢、体重、症状、薬剤の投与形
態、医師の診断等に応じて広い範囲にわたり変えること
ができるが、一般に、成人に対しては1日当たり約20
0〜約3,000mgの範囲内の用量が標準的であり、
通常これを1日1回または数回に分けて経口的、非経口
的または局所的に投与することができる。
【0093】しかして、上記の薬剤学的組成物は、医
薬、特に抗生物質の製剤において慣用されている無機も
しくは有機の製剤用担体または希釈剤、例えば、でんぷ
ん、乳糖、白糖、結晶セルロース、リン酸水素カルシウ
ム等の賦形剤;アカシア、ヒドロキシプロピルセルロー
ス、アルギン酸、ゼラチン、ポリビニルピロリドン等の
結合剤;ステアリン酸、ステアリン酸マグネシウム、ス
テアリン酸カルシウム、タルク、水添植物油等の滑沢
剤;加工でんぷん、カルシウムカルボキシメチルセルロ
ース、低置換ヒドロキシプロピルセルロース等の崩壊
剤;非イオン性界面活性剤、アニオン性界面活性剤等の
溶解補助剤等と共に経口的、非経口的または局所的投与
に適した剤型に製剤化することができる。具体的な経口
投与用組成物の形態としては、錠剤、コーティング剤、
カプセル剤、トローチ剤、散剤、細粒剤、顆粒剤、ドラ
イシロップ剤等の固体製剤、あるいはシロップ剤等の液
体製剤が挙げられる。非経口投与に適した剤型として
は、例えば注射剤、点滴剤、坐剤等が包含される。ま
た、局所投与に適した剤型には軟膏、チンキ、クリー
ム、ゲル等が挙げられる。これらの製剤は製剤学の分野
でそれ自体周知の方法で調整することができる。本発明
のカルバペネム化合物およびその塩は殊に経口的に投与
するのが好適である。
【0094】
【実施例】次に、製造例、実施例及び製剤例により、本
発明のカルバペネム化合物の製造についてさらに詳細に
説明するが、本発明が以下の記載によって何ら限定され
るものでないことはいうまでもない。
【0095】なお、以下の記載において、各略号はそれ
ぞれ下記の意味を有する。 Me :メチル Et :エチル i−Pr :i−プロピル t−But:t−ブチル Ac :アセチル Ph :フェニル Boc :t−ブトキシカルボニル PNB :p−ニトロベンジル PNZ :p−ニトロベンジルオキシカルボニル
【0096】製造例1
【0097】
【化18】
【0098】(a)3−ヒドロキシアゼチジン・塩酸塩
(1)109mgのエタノール5ml溶液に2−メチル
チオ−1,3−チアゾリン(2)133mg及びナトリ
ウムメトキシド(0.9モル当量)を加えて、8時間加
熱還流する。反応液の溶媒を減圧下留去して得られる残
渣をクロロホルムに溶解し、この溶液を50%炭酸カリ
ウム水溶液で洗浄する。溶媒を減圧下留去して得られる
残渣をジエチルエーテルで洗浄して、3−ヒドロキシ−
1−(1,3−チアゾリン−2−イル)アゼチジン
(3)を結晶として119mg(収率:81.5%)得
た。1 H−NMR(CDCl3 )δ:3.356(t,2
H,J=7.26Hz)、3.70〜4.00(m,4
H)、4.211(t,2H,J=8.21Hz)、
4.622〜4.705(m,1H)、4.971
(s,1H)
【0099】(b)上記反応で得られた化合物(3)1
19mg及びチオ酢酸2モル当量を、氷冷下、トリフェ
ニルホスフィン及びジエチルアゾジカルボキシレートそ
れぞれ2モル当量のテトラヒドロフラン10ml溶液に
加えて、同温度にて1時間、更に室温にて1時間攪拌す
る。反応液の溶媒を減圧下留去して得られる残渣を、シ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム:エ
タノール=19:1)に付して、3−アセチルチオ−1
−(1,3−チアゾリン−2−イル)アゼチジン(4)
を107mg(収率:65%)得た。1 H−NMR(CDCl3 )δ:2.333(s,3
H)、3.352(t,2H,J=7.26Hz)、
3.885(dd,2H,J=8.24,5.28H
z)、4.012(t,2H,J=7.26Hz)、
4.250〜4.374(m,1H)、4.426
(t,2H,J=8.25Hz)
【0100】製造例2
【0101】
【化19】
【0102】(a)4(R)−ヒドロキシメチル−2−
メルカプト−1,3−チアゾリン(5)4.88g及び
ジイソプロピルエチルアミン22.8mlを無水メタノ
ール65mlに溶解し、加熱還流下ヨウ化メチル14.
00gを滴下する。1時間還流後、溶媒を減圧下留去す
る。得られる残渣を酢酸エチルに溶解し、この溶液を飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水で順次洗
浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を減圧下
留去して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(溶出溶媒:クロロホルム−アセトン)に付し
て、4(R)−ヒドロキシメチル−2−メチルチオ−
1,3−チアゾリン(6)を3.14g(収率:59
%)得た。1 H−NMR(CDCl3 )δ:2.53(s,3
H)、3.30(dd,1H,J=8.6,10.6H
z)、3.44(dd,1H,J=7.6,10.6H
z)、3.67−3.73(m,1H)、3.86−
3.92(m,1H)、4.51−4.68(m,1
H)
【0103】(b)上記反応で得られた化合物(6)
3.14g及びジイソプロピルエチルアミン6.7ml
を無水ジクロロメタン40mlに溶解する。この溶液
に、氷冷下、クロロメチルメチルエーテル2.33gを
滴下して、同温度で1時間、更に室温まで戻して15時
間攪拌する。反応液を水、飽和重曹水、飽和食塩水で順
次洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を減
圧下留去して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー(溶出溶媒:クロロホルム−酢酸エチル)に
付して、4(R)−メトキシメチルオキシメチル−2−
メチルチオ−1,3−チアゾリン(7)を1.42g
(収率:36%)得た。1 H−NMR(CDCl3 )δ:2.55(s,3
H)、3.35(dd,1H,J=7.3,10.9H
z)、3.38(s,3H)、3.42(dd,1H,
J=8.3,10.9Hz)、3.474(dd,1
H,J=7.6,9.9Hz)3.78(dd,1H,
J=5.0,9.9Hz)、4.66−4.70(m,
1H)、4.67(s,2H)
【0104】(c)上記反応で得られた化合物(7)
0.924g、3−ヒドロキシアゼチジン・塩酸塩
(1)0.540g、炭酸水素カリウム0.490g及
び酢酸0.160gをエタノール20mlに溶解し、こ
の溶液を24時間加熱還流する。反応液の溶媒を減圧下
留去して得られる残渣をジクロロメタンに溶解した後、
この溶液を50%炭酸カリウム水溶液で洗浄する。得ら
れた溶液を硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧
下留去して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー(溶出溶媒:10%メタノール−クロロホル
ム)に付して、1−(4(R)−メトキシメチルオキシ
メチル−1,3−チアゾリン−2−イル)−3−ヒドロ
キシアゼチジン(8)を0.590g(収率:57%)
得た。1 H−NMR(CDCl3 )δ:3.25−3.32
(m,1H)、3.37(s,3H)、3.40−3.
46(m,1H)、3.47−3.52(m,1H)、
3.63(dd,1H,J=5.3,9.9Hz)、
3.79−3.89(m,2H)、4.16−4.22
(m,2H)、4.38−4.45(m,1H)、4.
61−4.68(m,3H)
【0105】(d)トリフェニルホスフィン1.40g
の無水テトラヒドロフラン15ml溶液に、氷冷下、ジ
エチルアゾジカルボキシレート0.800mlを加えて
同温度で30分間攪拌する。この溶液に、氷冷下、上記
反応で得られた化合物(8)0.588g及びチオ酢酸
0.361mlの無水テトラヒドロフラン15ml溶液
を滴下し、同温度で1時間、室温に戻して1時間攪拌す
る。反応終了後、溶媒を減圧下留去して得られる残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:クロ
ロホルム−アセトン)に付して、3−アセチルチオ−1
−(4(R)−メトキシメチルオキシメチル−1,3−
チアゾリン−2−イル)アゼチジン(9)を0.600
g(収率:82%)得た。1 H−NMR(CDCl3 )δ:2.33(s,3
H)、3.29(dd,1H,J=6.3,10.9H
z)、3.37(s,3H)、3.43(dd,1H,
J=7.6,10.9Hz)、3.50(dd,1H,
J=7.9,9.9Hz)、3.67(dd,1H,J
=4.6,9.9Hz)、3.86−3.91(m,2
H)、4.25−4.34(m,1H)、4.39−
4.51(m,3H)、4.66(s,2H)
【0106】製造例3
【0107】
【化20】
【0108】(a)ベンジルアルコール(10)64.
8gに水酸化ナトリウム0.3gを加えて0℃まで冷却
する。これにβ−ブチロラクトン12.9gを添加して
同温度にて5分間、更に室温に戻して2時間撹拌する。
反応混合物に1規定塩酸15mlを加えて中和した後、
飽和重曹水、飽和食塩水で順次洗浄する。得られる有機
層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下蒸留精製に
付して、ベンジル 3−ヒドロキシブタノエート(1
1)を油状物として23.3g(収率79%)得た。 沸点:134℃/8mmHg1 H−NMR(CDCl3 )δ:1.22(d,3H,
J=6.3Hz)、2.41〜2.58(m,2H)、
2.95(brs,1H)、4.15〜4.24(m,
1H)、5.14(s,2H)、7.30〜7.36
(m,5H)
【0109】(b)上記(a)で得られたベンジル 3
−ヒドロキシブタノエート(11)1.0g、トリエチ
ルアミン1.0ml及び4−ジメチルアミノピリジン6
3mgを塩化メチレン10mlに溶解して0℃まで冷却
する。この溶液に、窒素ガス気流下、ジフェニルリン酸
クロライド1.79gを添加して、室温に戻した後3時
間撹拌する。反応液を1規定塩酸、飽和重曹水、及び飽
和食塩水を用いて順次洗浄した後、硫酸マグネシウムで
乾燥する。溶媒を減圧下留去して得られる残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:塩化メチレ
ン)に付して、ベンジル 3−ジフェノキシホスホリル
オキシブタノエート(12)を無色油状物として1.8
5g(収率84%)得た。1 H−NMR(CDCl3 )δ:1.32(d,3H,
J=6.3Hz)、2.52(dd,1H,J=6.3
Hz,15.8Hz)、2.72(dd,1H,J=
6.3Hz,15.8Hz)、4.92(d,1H,J
=12.9Hz)、4.98(d,1H,J=12.9
Hz)、4.9〜5.1(m,1H)、7.06〜7.
20(m,15H)
【0110】(c)上記(b)で得られたベンジル 3
−ジフェノキシホスホリルオキシブタノエート(12)
1.23gを酢酸エチル8mlとエタノール8mlの混
合溶媒に溶解する。この溶液に、10%パラジウムカー
ボン61mgを加えて、水素ガス気流下室温にて1時間
撹拌する。反応液からパラジウムカーボンを濾去した
後、溶媒を減圧下留去して得られる残渣を塩化メチレン
8mlに溶解する。この溶液に、炭酸水素ナトリウム8
47mg、水8ml、硫酸テトラブチルアンモニウム9
8mg及びクロロメチル−クロロスルホン酸570mg
を加えて、室温にて2時間撹拌する。反応終了後、有機
層を分離して飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで
乾燥する。溶媒を減圧下留去して得られる残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:塩化メチレ
ン)に付して、目的とするクロロメチル 3−ジフェニ
ルホスホリルオキシブタノエート(13)を無色油状物
として1.10g(収率99%)得た。1 H−NMR(CDCl3 )δ:1.46(d,3H,
J=6.3Hz)、2.66(dd,1H,J=6.3
Hz,15.8Hz)、2.85(dd,1H,J=
6.3Hz,15.8Hz)、5.09〜5.18
(m,1H)、5.58(d,1H,J=6.0H
z)、5.61(d,1H,J=6.0Hz)、7.1
6〜7.37(m,10H)
【0111】製造例4
【0112】
【化21】
【0113】(a)ε−ヘキサノラクトン(14)1
2.0gのメタノール20ml溶液に、氷冷下水酸化カ
リウム11.78gの水溶液20mlを加えた後、40
℃にて2時間30分撹拌する。反応液に1規定塩酸を加
えてpH9に調整した後酢酸エチル20mlで洗浄す
る。水層を減圧下濃縮し、これに1規定塩酸を加えてp
H1に調整した後、酢酸エチルで6回抽出する。有機層
を硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下溶媒を留去し
て、6−ヒドロキシヘキサン酸を11.5g得た。上記
で得られた6−ヒドロキシヘキサン酸1gを水20ml
に溶解し、この溶液に炭酸水素ナトリウム0.72gを
加えて15分間撹拌する。反応終了後、溶媒を減圧下留
去して得られる白色固体をアセトニトリル10mlで洗
浄した後、減圧乾燥して6−ヒドロキシヘキサン酸ナト
リウムを1.24g得た。上記で得られた6−ヒドロキ
シヘキサン酸ナトリウム276mgをジメチルホルムア
ミド2.7mlに溶解し、この溶液にメトキシメチルク
ロライド161mgを加えて、室温下1時間30分撹拌
する。反応液に酢酸エチル10mlを加えて、飽和食塩
水、飽和重曹水、次いで飽和食塩水で順次洗浄する。得
られた有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下
溶媒を留去して、メトキシメチル6−ヒドロキシヘキサ
ノエート(15)を190mg(収率59%)得た。1 H−NMR(CDCl3 )δ:1.36〜1.72
(m,6H)、2.34(t,2H,J=7.2H
z)、3.45(s,3H)、4.07(t,2H,J
=6.7Hz)、5.16(s,2H)、5.19
(s,2H)、5.22(s,2H)、7.53(d,
4H,J=8.7Hz)、8.23(d,4H,J=
8.7Hz)
【0114】(b)トリクロロホスフィン25gのジエ
チルエーテル70ml溶液を窒素気流下で−10℃まで
冷却し、これにジイソプロピルアミン51mlのジエチ
ルエーテル60ml溶液を30分間かけて滴下する。得
られる混合液を室温下1時間撹拌して析出する不溶解物
を濾去し、得られる濾液を減圧下蒸留して、沸点57℃
/4mmHgのジイソプロピルアミノジクロロホスフィ
ンを19.8g(収率53%)得た。上記で得られたジ
イソプロピルアミノジクロロホスフィン2.06gの塩
化メチレン40ml溶液に、窒素気流下、ジイソプロピ
ルアミン4.19mlを加えて−30℃まで冷却し、こ
れにp−ニトロベンジルアルコール3.06gを添加し
て同温度にて30分間撹拌する。この反応液を0℃まで
戻してさらに30分間撹拌した後、減圧下濃縮する。得
られる濃縮液にジエチルエーテル40mlを加えて、析
出する塩を濾去する。濾液を飽和食塩水で洗浄し硫酸マ
グネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧下留去して、ジイ
ソプロピルアミノ−ジ−p−ニトロベンジルホスファイ
ト(16)を黄色固体として4.50g(収率100
%)得た。1 H−NMR(CDCl3 )δ:1.23(d,12
H,J=6.6Hz)、3.71(q,1H,J=6.
6Hz)、3.73(q,1H,J=6.6Hz)、
4.75〜4.91(m,4H)、7.51(d,4
H,J=8.2Hz)、8.21(d,4H,J=8.
2Hz)
【0115】(c)上記(a)で得られたメトキシメチ
ル 6−ヒドロキシヘキサノエート(15)100mg
の塩化メチレン10ml溶液に、窒素気流下、テトラゾ
ール87.4mg及び上記(b)で得られたジイソプロ
ピルアミノ−ジ−p−ニトロベンジルホスファイト(1
6)274mgを加えて、室温下1時間30分撹拌す
る。反応液を−40℃まで冷却した後、メタクロロ過安
息香酸215mgを加えて30分間撹拌する。反応液を
飽和食塩水、10%チオ硫酸ナトリウム水溶液、飽和重
曹水及び飽和食塩水で順次洗浄し、有機層を硫酸マグネ
シウムで乾燥した後溶媒を減圧下留去して、メトキシメ
チル 6−ジ−p−ニトロベンジルオキシホスフォリル
オキシヘキサノエート(17)を306mg(収率95
%)得た。1 H−NMR(CDCl3 )δ:1.36〜1.72
(m,6H)、2.34(t,2H,J=7.2H
z)、3.45(s,3H)、4.07(t,2H,J
=6.8Hz)、5.16(s,2H)、5.19
(s,2H)、5.22(s,2H)、7.53(d,
4H,J=8.7Hz)、8.23(d,4H,J=
8.7Hz)
【0116】(d)上記(c)で得られたメトキシメチ
ル 6−ジ−p−ニトロベンジルオキシホスフォリルオ
キシヘキサノエート(17)206mgのテトラヒドロ
フラン2ml溶液に4規定塩酸1mlを加えて、室温下
1時間30分撹拌する。反応液を1規定水酸化ナトリウ
ム水溶液でpH10に調整し、これをジエチルエーテル
で洗浄する。得られる水層を1規定塩酸でpH1に調整
し、酢酸エチルで抽出して得られる有機層を硫酸マグネ
シウムで乾燥した後、溶媒を減圧下留去して、6−ジ−
p−ニトロベンジルオキシホスフォリルオキシヘキサン
酸を96mg(収率51%)得た。上記で得られた6−
ジ−p−ニトロベンジルオキシホスフォリルオキシヘキ
サン酸96mgを塩化メチレン4.8mlに溶解し、こ
の溶液に炭酸水素ナトリウム51.3mgの水溶液4.
8ml、硫酸水素テトラn−ブチルアンモニウム6.9
mg、及びクロロメチルクロロスルホン酸40.4mg
を加えて、室温下1時間撹拌する。反応液を分層して、
得られる有機層を飽和重曹水及び飽和食塩水で順次洗浄
する。この溶液を硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒
を減圧下留去して得られる残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(溶出溶媒:塩化メチレン−アセトン)
に付して、目的とするクロロメチル 6−ジ−p−ニト
ロベンジルオキシホスフォリルオキシヘキサノエート
(18)を69mg(収率55%)得た。1 H−NMR(CDCl3 )δ:1.37〜1.71
(m,6H)、2.37(t,2H,J=7.2H
z)、4.07(t,2H,J=6.6Hz)、5.1
6(s,2H)、5.19(s,2H)、5.69
(s,2H)、7.54(d,4H,J=8.5H
z)、8.23(d,4H,J=8.5Hz)
【0117】製造例5
【0118】
【化22】
【0119】アゼライン酸(19)10gのアセトニト
リル200ml溶液を窒素気流下氷冷し、これにトリエ
チルアミン16.2ml及びp−ニトロベンジルブロマ
イド11.4gを加えて3時間撹拌する。反応液を濃縮
して水100mlを加え、1規定塩酸でpH2に調整し
た後、酢酸エチル50mlで2回抽出する。有機層を飽
和食塩水で洗浄し硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒
を減圧下留去して得られる残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(溶出溶媒:塩化メチレン−メタノー
ル)に付し、モノ−p−ニトロベンジルアゼラエートを
4.51g(収率26%)得た。上記で得られたモノ−
p−ニトロベンジルアゼラエート550mgの塩化メチ
レン10ml溶液に、炭酸水素ナトリウム428mgの
水溶液10ml、硫酸水素テトラ−n−ブチルアンモニ
ウム57mg及びクロロメチルクロロスルホン酸336
mgを加えて、室温下で2時間激しく撹拌する。反応液
を飽和重曹水及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネ
シウムで乾燥した後、溶媒を減圧下留去する。得られる
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶
媒:塩化メチレン)に付して、目的とするp−ニトロベ
ンジル クロロメチルアゼラエート(20)を450m
g(収率74%)得た。1 H−NMR(CDCl3 )δ:1.20〜1.40
(m,10H)、2.37(t,2H,J=7.3H
z)、2.39(t,2H,J=7.2Hz)、5.2
0(s,2H)、5.70(s,2H)、7.51
(d,2H,J=8.7Hz)、8.23(d,2H,
J=8.7Hz)
【0120】製造例6
【0121】
【化23】
【0122】(a)L−プロリン(21)5.0g、p
−トルエンスルホン酸・1水和物9.91g及びp−ニ
トロベンジルアルコール6.65gにベンゼン100m
lを加えて、デイーンスターク還流冷却器を用いて2日
間加熱還流する。反応液からベンゼンを減圧下留去し
て、得られる残渣をジエチルエーテルで洗浄し、L−プ
ロリンp−ニトロベンジルエステル−p−トルエンスル
ホン酸塩を油状物として21.7g得た。次に、Boc
−グリシン12.17g及び塩酸・1−エチル−3−
(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド13.
32gを塩化メチレン150mlに溶解し、この溶液
を、窒素ガス気流中、氷冷下で25分間撹拌する。反応
液に、上記で得られた化合物29.36gの塩化メチレ
ン100ml溶液を加えた後、徐々に室温まで戻しなが
ら一夜撹拌する。反応液を10%クエン酸水溶液、4%
重曹水及び飽和食塩水で順次洗浄した後、硫酸マグネシ
ウムで乾燥する。溶媒を減圧下留去し、得られる残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:クロ
ロホルム−メタノール)に付して、[N−(t−ブトキ
シカルボニル)グリシル]L−プロリン p−ニトロベ
ンジルエステル(22)を淡黄色油状物として8.00
g得た。1 H−NMR(CDCl3 )δ:1.45(s,9
H)、1.96〜2.33(m,4H)、3.43〜
3.70(m,2H)、3.93〜4.01(m,2
H)、4.59(dd,1H,J=4.0Hz,8.6
Hz)、5.23(d,1H,J=13.5Hz)、
5.30(d,1H,J=13.5Hz)、5.37
(br,1H)、7.52(d,2H,J=8.9H
z)、8.23(d,2H,J=8.9Hz)
【0123】(b)上記(a)で得られた化合物(2
2)4.10gの塩化メチレン5ml溶液に、氷冷下ト
ルフルオロ酢酸2.5mlを加えて1時間撹拌し、さら
にトリフルオロ酢酸4mlを加えて2時間撹拌する。反
応液の溶媒を減圧下留去して、グリシル−L−プロリン
p−ニトロベンジルエステル−トリフルオロアセテート
塩を淡褐色油状物として5.82g得た。上記で得られ
た化合物5.54gを塩化メチレン50mlに溶解し、
これに無水グルタル酸1.499gを加えて、窒素ガス
気流中氷冷する。この溶液にトリエチルアミン1.83
mlを加えて同温下1時間撹拌した後、さらにトリエチ
ルアミン1.83mlを加えて同温下20分間撹拌す
る。反応液に10%クエン酸水溶液60ml及び酢酸エ
チル200mlを加えて分層し、得られる有機層を4%
重曹水300mlで抽出する。得られる水溶液をpH4
に調整した後酢酸エチルで抽出し、得られる有機層の溶
媒を減圧下留去して、[N−(4−カルボキシブタノイ
ル)グリシル]−L−プロリン p−ニトロベンジルエ
ステル(23)を淡黄色油状物として3.43g得た。1 H−NMR(CDCl3 )δ:1.90〜2.20
(m,3H)、1.97(quintet,2H,J=
7.3Hz)、2.20〜2.34(m,1H)、2.
41(t,2H,J=7.3Hz)、2.44(t,2
H,J=7.3Hz)、3.53〜3.75(m,2
H)、4.04(dd,1H,J=4.3Hz,17.
5Hz)、4.22(dd,1H,J=4.9Hz,1
7.5Hz)、4.58(dd,1H,J=4.0H
z,8.9Hz)、5.20(d,1H,J=13.5
Hz)、5.32(d,1H,J=13.5Hz)、
6.85(br,1H)、7.50(d,2H,J=
8.6Hz)、8.22(d,2H,J=8.6Hz)
【0124】(c)上記(b)で得られた化合物(2
3)3.09gの塩化メチレン70ml溶液に、炭酸水
素ナトリウム1.85gの水溶液70ml、硫酸・テト
ラ−n−ブチルアンモニウム塩249mg及びClCH
2 SO3 Cl 1.57gを加えて、室温にて140分
間撹拌する。反応液に酢酸エチルを加えて分層し、有機
層を4%重曹水及び飽和食塩水で順次洗浄した後、硫酸
マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去して、[N−
(4−クロロメチルオキシカルボニルブタノイル)グリ
シル]−L−プロリン p−ニトロベンジルエステルを
淡黄色油状物として3.00g得た。上記で得られた化
合物2.86g及びヨウ化ナトリウム1.83gをアセ
トニトリル20mlに加えて、2時間加熱還流する。溶
媒を留去して得られた残渣を酢酸エチル70mlに溶解
し、これを0.1規定チオ硫酸ナトリウム水溶液及び飽
和食塩水で順次洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥す
る。溶媒を減圧下留去して、得られた残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:塩化メチレン−
アセトン)に付して、[N−(4−ヨードメチルオキシ
カルボニルブタノイル)グリシル]−L−プロリン p
−ニトロベンジルエステル(24)を黄色油状物として
2.35g得た。1 H−NMR(CDCl3 )δ:1.92〜2.17
(m,5H)、2.17〜2.37(m,1H)、2.
33(t,2H,J=7.3Hz)、2.42(t,2
H,J=7.3Hz)、3.46〜3.74(m,2
H)、4.02(dd,1H,J=4.0Hz,17.
8Hz)、4.12(dd,1H,J=4.3Hz,1
7.8Hz)、4.59(dd,1H,J=4.0H
z,8.9Hz)、5.24(d,1H,J=13.5
Hz)、5.32(d,1H,J=13.5Hz)、
5.91(s,2H)、6.45(br,1H)、7.
53(d,2H,J=8.9Hz)、8.24(d,2
H,J=8.9Hz)
【0125】実施例1
【0126】
【化24】
【0127】上記製造例1(b)で得られた化合物
(4)862mgの無水メタノール20ml溶液に、窒
素気流中氷冷下にて、28%ナトリウムメトキシド−メ
タノール溶液770mgを加える。同温度にて10分間
攪拌した後、2規定塩酸4mlを加え溶媒を減圧下留去
して、3−メルカプト−1−(チアゾリン−2−イル)
アゼチジン(25)の粗生成物を得た。次に、得られた
化合物(25)を無水アセトニトリル及びクロロホルム
の混合溶媒15mlに溶解し、p−ニトロベンジル(1
R,5R,6S)−2−(ジフェニルフォスフォリルオ
キシ)−6−[(R)−1−ヒドロキシエチル]−1−
メチル−カルバペン−2−エム−3−カルボキシレート
(26)2430mgを加える。この溶液に、窒素気流
中氷冷下にて、ジイソプロピルエチルアミン2.8ml
を加えて、同温度にて2時間攪拌する。反応液に酢酸エ
チルを加えて飽和重曹水及び飽和食塩水で洗浄した後、
溶媒を減圧下留去して、得られた残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(クロロホルム:アセトン=1:
2)に付して、p−ニトロベンジル (1R,5S,6
S)−2−[1−(1,3−チアゾリン−2−イル)ア
ゼチジン−3−イル]チオ−6−[(R)−1−ヒドロ
キシエチル]−1−メチル−カルバペン−2−エム−3
−カルボキシレート(27)を1339mg(化合物
(4)からの収率:65%)得た。1 H−NMR(CDCl3 )δ:1.235(d,3
H,J=7.26Hz)、1.349(d,3H,J=
6.27Hz)、3.160(quintet,1H,
J=7.26Hz)、3.265(dd,1H,J=
2.3,6.26Hz)、3.367(t,2H,J=
7.26Hz)、3.898〜4.038(m,4
H)、4.071〜4.147(m,1H)、4.21
2〜4.278(m,2H)、4.372(2H,J=
7.92Hz)、5.255及び5.517(d(A
B),2H,J=13.85Hz)、7.665(d,
2H,J=8.58Hz)、8.226(d,2H,J
=8.58Hz)
【0128】実施例2
【0129】
【化25】
【0130】上記実施例1で得られた化合物(27)1
339mgのテトラヒドロフラン20ml溶液に、0.
38Mリン酸緩衝液(pH6.0)60ml及び亜鉛末
11.2gを加えて2時間激しく攪拌する。反応液をセ
ライトで濾過して不溶物を除去し、濾液を酢酸エチルで
洗浄した後、pHを5.5に調整する。得られた溶液を
減圧下濃縮し、この濃縮液をDiaion HP−40
R(三菱化成工業株式会社製)によるカラムクロマトグ
ラフィー(5%イソプロピルアルコール水)に付して、
本発明の(1R,5S,6S)−2−[1−(1,3−
チアゾリン−2−イル)アゼチジン−3−イル]チオ−
6−[(R)−1−ヒドロキシエチル]−1−メチル−
カルバペン−2−エム−3−カルボン酸(28)を63
0mg(収率:64%)得た。1 H−NMR(D2 O)δ:1.093(d,3H,J
=6.93Hz)、1.207(d,3H,J=6.2
7Hz)、3.05〜3.20(m,1H)、3.35
7(dd,1H,J=2.3,5.94Hz)、3.5
58(t,2H,J=7.26Hz)、3.920
(t,2H,J=7.26Hz)、4.00〜4.20
(m,5H)、4.20〜4.30(m,1H)、4.
60〜4.70(m,1H) IR(KBr):1740,1640,1590cm-1
【0131】実施例3
【0132】
【化26】
【0133】上記製造例2(d)で得られた化合物
(9)600mgの無水エタノール10ml溶液に、窒
素気流中氷冷下にて、28%ナトリウムメトキシド−メ
タノール溶液400mgを加え、この溶液を同温度にて
5分間攪拌する。反応液に酢酸0.355mlを加えた
後、溶媒を減圧下留去して得られる残渣を無水アセトニ
トリル5mlに溶解し、不溶物を濾去する。得られる溶
液を、p−ニトロベンジル(1R,5R,6S)−2−
(ジフェニルフォスフォリルオキシ)−6−[(R)−
1−ヒドロキシエチル]−1−メチル−カルバペン−2
−エム−3−カルボキシレート(26)1.230gの
無水アセトニトリル5ml溶液に加えて、氷冷下、この
溶液にジイソプロピルエチルアミン2.2mlを滴下し
て、同温度にて1.5時間攪拌する。反応液の溶媒を減
圧下留去して得られる残渣を酢酸エチルに溶解して、こ
の溶液を飽和重曹水で洗浄する。得られる有機層を飽和
食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒
を減圧下留去して得られる残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(溶出溶媒:クロロホルム−アセトン)
に付して、p−ニトロベンジル (1R,5S,6S)
−2−[1−(4(R)−メトキシメチルオキシメチル
−1,3−チアゾリン−2−イル)アゼチジン−3−イ
ル]チオ−6−[(R)−1−ヒドロキシエチル]−1
−メチル−カルバペン−2−エム−3−カルボキシレー
ト(30)を0.788g(化合物(12)からの収
率:64%)得た。1 H−NMR(CDCl3 )δ:1.24(d,3H,
J=7.3Hz)、1.36(d,3H,J=6.3H
z)、3.16(dq,1H,J=7.3,9.2H
z)、3.25−3.34(m,2H)、3.37
(m,2H)、3.43−3.47(m,1H)、3.
51(dd,1H,J=7.9,9.9Hz)、3.6
7(dd,1H,J=5.0,9.9Hz)、2.94
−4.00(m,2H)、4.07−4.17(m,1
H)、4.23(dd,1H,J=2.6,9.2H
z)、4.20−4.30(m,1H)、4.30−
4.51(m,3H)、4.66(s,2H)、5.2
5(d,1H,J=13.9Hz)、5.51(d,1
H,J=13.9Hz)、7.66(d,2H,J=
8.6Hz),8.23(d,2H,J=8.6Hz)
【0134】実施例4
【0135】
【化27】
【0136】上記実施例3で得られた化合物(30)7
56mgをテトラヒドロフラン10ml及び0.35M
リン酸緩衝液(pH6.0)30mlの混合溶媒に溶解
し、この溶液に亜鉛末6.0gを加えて、室温にて2時
間攪拌する。亜鉛末を濾去して得られた濾液を酢酸エチ
ルで洗浄し、pHを5.5に調整した後、減圧下濃縮す
る。濃縮液をDiaion HP−40R(三菱化成工
業株式会社製)によるクロマトグラフィー(溶出溶媒:
10%イソプロパノール−水)に付して、本発明の(1
R,5S,6S)−2−[1−((4R)−メトキシメ
チルオキシメチル−1,3−チアゾリン−2−イル)ア
ゼチジン−3−イル]チオ−6−[(R)−1−ヒドロ
キシエチル]−1−メチル−カルバペン−2−エム−3
−カルボン酸(31)を415mg(収率:71%)得
た。1 H−NMR(D2 O)δ:1.10(d,3H,J=
7.3Hz)、1.21(d,3H,J=6.6H
z)、3.06−3.18(m,1H)、3.22−
3.33(m,1H)、3.33(s,3H)、3.3
6−3.47(m,1H)、3.61−3.75(m,
3H)、4.09−4.31(m,6H)、4.33−
4.56(m,1H)、4.60−4.68(m,3
H) IR(KBr):1735,1640,1580cm-1
【0137】実施例5
【0138】
【化28】
【0139】実施例2で得られた化合物(28)430
mg(1.12mmol)及び炭酸水素ナトリウム9
4.1mg(1.12mmol)を水15mlに溶解
し、この溶液を凍結乾燥する。得られた非晶性固体をジ
メチルホルムアミド5mlに溶解し、この溶液に、氷冷
下ピバル酸ヨウ化メチル285mg(1.18mmo
l)を加え、室温で1時間撹拌する。反応液に酢酸エチ
ルを加え、飽和重曹水、飽和食塩水で順次洗浄する。有
機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧下留
去して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(溶出溶媒:10%メタノール−クロロホルム)に
付して、本発明のピバロイルオキシメチル (1R,5
S,6S)−2−[(1−(1,3−チアゾリン−2−
イル)アゼチジン−3−イル]チオ−6−[(R)−1
−ヒドロキシエチル]−1−メチル−カルバペン−2−
エム−3−カルボキシレート(32)415mg(収
率:74.6%)を得た。1 H−NMR(CDCl3 )δ:1.229(s,9
H)、1.229(d,3H,J=7.3Hz)、1.
339(d,3H,6.3Hz)、3.165(dd,
1H,J=7.3Hz,9.2Hz)、3.227(d
d,1H,J=2.6Hz,6.9Hz)、3.369
(t,2H,7.3Hz)、3.952(dd,2H,
5.6Hz,8.6Hz)、3.988〜4.043
(m,2H)、4.085〜4.162(m,1H)、
4.183〜4.274(m,2H)、4.346〜
4.426(m,2H)、5.842(d,1H,J=
5.6Hz)、5.972(d,1H,J=5.6H
z)
【0140】実施例6
【0141】
【化29】
【0142】実施例2で得られた化合物(28)500
mg(1.30mmol)及び炭酸水素ナトリウム10
9.4mg(1.30mmol)を水15mlに溶解
し、この溶液を凍結乾燥する。得られた非晶性固体をジ
メチルホルムアミド5mlに溶解し、この溶液に、氷冷
下1−ヨウ化エチルシクロヘキシルカーボネート[J.
Antibiotics.volXL, No.1,8
1ページに記載の方法に準じ製造した]379.5mg
(1.30mmol)を加えて、室温で2時間撹拌す
る。反応液に酢酸エチルを加えて、飽和重曹水、飽和食
塩水で順次洗浄する。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥
した後、溶媒を減圧下留去して得られる残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:10%メタノ
ール−クロロホルム)に付して、本発明の1−[(シク
ロヘキシルオキシ)カルボニルオキシ]エチル (1
R,5S,6S)−2−[(1−(1,3−チアゾリン
−2−イル)アゼチジン−3−イル]チオ−6−
[(R)−1−ヒドロキシエチル]−1−メチル−カル
バペン−2−エム−3−カルボキシレート(33)30
9mg(収率:43%)を得た。1 H−NMR(CDCl3 )δ:1.219(d,3
H,J=7.3Hz)、1.323(d,3H,J=
6.3Hz)、1.37〜1.50(m,2H)、1.
563(d,1.5H,J=5.3Hz)、1.611
(d,1.5H,J=5.3Hz)、1.67〜1.8
2(m,4H)、1.90〜2.05(m,4H)、
3.20(m,1H)、3.216(dd,1H,J=
2.7Hz,6.9Hz)、3.367(t,2H,J
=7.6Hz)、3.92〜4.04(m,4H)、
4.08〜4.25(m,3H)、4.34〜4.43
(m,2H)、4.59〜4.71(m,1H)、6.
880(q,0.5H,J=5.3Hz)、6.890
(q,0.5H,J=5.3Hz)
【0143】実施例7
【0144】
【化30】
【0145】R4 として他の置換基を有する本発明化合
物である(1R,5S,6S)−2−[1−(1,3−
チアゾリン−2−イル)アゼチジン−3−イル]チオ−
6−[(R)−1−ヒドロキシエチル]−1−メチル−
カルバペン−2−エム−3−カルボキシレートを、実施
例2で得た化合物(28)と、対応する化合物(18)
[製造例4]、化合物(20)[製造例5]および化合
物(24)[製造例6]とを反応させ、ついで必要によ
り保護基を脱離することにより得た。
【0146】実施例8
【0147】
【化31】
【0148】実施例1および実施例2と同様の方法によ
り、上記式で示される化合物(34)を得た。1 H−NMR(D2 O)δ:1.16(d,3H,J=
6.9Hz)、1.27(d,3H,J=6.3H
z)、2.95(s,3H)、3.11(s,3H)、
3.19(m,1H)、3.41(dd,1H,J=
2.5Hz,6.1Hz)、3.57(dd,1H,J
=5.9Hz,11.5Hz)、3.89(dd,1
H,J=8.6Hz,11.5Hz)、4.11〜4.
37(m,5H)、4.62〜4.80(m,2H)、
5.37(dd,1H,J=5.9Hz,8.6Hz)
【0149】次に、本発明のカルバペネム化合物を用い
た製剤例を示すと以下のとおりである。
【0150】製剤例1(注射剤) 上記成分を混合し、総容積100mlの懸濁注射剤とす
る。
【0151】(2)凍結乾燥する場合 化合物(28)20gに蒸留水を適量加えて、容積10
0mlとする。1バイアル中に上記水溶液2.5ml
(化合物500mgを含有する)を充填し、凍結乾燥す
る。用時、蒸留水約3〜4mlを添加して注射剤とす
る。
【0152】(3)粉末充填する場合 1バイアル中に化合物(28)250mgを粉末のまま
充填する。用時、蒸留水約3〜4mlを添加して注射剤
とする。
【0153】製剤例2(錠剤) 化合物(33) 25g 乳糖 130g 結晶セルロ−ス 20g とうもろこし澱粉 20g 3%ヒドロキシプロピルセルロ−ス水溶液 100ml ステアリン酸マグネシウム 2g 化合物(33)、乳糖、結晶セルロ−ス及びとうもろこ
し澱粉を、60メッシュふるいで篩過し均一に混合した
のち練合機にいれ、3%ヒドロキシプロピルセルロ−ス
水溶液を注加して練合した。次いで16メッシュふるい
で篩過造粒し、50℃で送風乾燥した。乾燥後、16メ
ッシュふるいを通して整粒を行い、ステアリン酸マグネ
シウムを混合し、打錠機で直径8mm、重量200mgの錠
剤にした。
【0154】製剤例3 (カプセル剤) 化合物(33) 25.0g 乳糖 125.0g コ−ンスタ−チ 48.5g ステアリン酸マグネシウム 1.5g 上記成分を細かく粉末にし、均一な混合物になるよう十
分攪拌したのち、これを0.2gずつゼラチンカプセル
に充填し、経口投与用のカプセル剤を得た。
【0155】製剤例4(錠剤) 化合物(32) 25g 乳糖 130g 結晶セルロ−ス 20g とうもろこし澱粉 20g 3%ヒドロコシプロピルセルロ−ス水溶液 100ml ステアリン酸マグネシウム 2g 化合物(32)に乳糖、結晶セルロ−ス及びとうもろこ
し澱粉を60メッシュふるいで篩過し、均一に混合した
のち練合機にいれ、3%ヒドロキシプロピルセルロ−ス
水溶液を注加して練合した。次いで16メッシュふるい
で篩過造粒し、50℃で送風乾燥した。乾燥後、16メ
ッシュふるいを通して整粒を行い、ステアリン酸マグネ
シウムを混合し、打錠機で直径8mm、重量200mgの錠
剤にした。
【0156】 上記の成分を混合し、常法により打錠してトローチ剤と
する。
【0157】 上記の成分を混合し、これを通常の硬ゼラチンカプセル
に充填してカプセル剤とする。
【0158】 上記の成分を混合してドライシロップ剤とする。
【0159】 上記の成分を混合して散剤とする。
【0160】 上記の成分を混合し、これを常法により坐剤とする。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 玉井 聖 神奈川県川崎市麻生区白山3丁目1番3− 104 (72)発明者 熊谷 年夫 埼玉県川越市小仙波町3−15−37

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 次式(I) 【化1】 式中、Rは水素原子;非置換もしくは水酸基、低級アル
    コキシ基、低級アルコキシ−低級アルコキシ基で置換さ
    れた低級アルキル基;基:−COOR1 (R1 は水素原
    子または低級アルキル基を表す);または基:−CON
    23 (R2及びR3 はそれぞれ独立して水素原子ま
    たは低級アルキル基を表す)を表し、Yはカルボキシ
    基、−COO- または保護されたカルボキシ基を表す、
    で示される(1R,5S,6S)−2−[1−(1,3
    −チアゾリン−2−イル)アゼチジン−3−イル]チオ
    −6−[(R)−1−ヒドロキシエチル]−1−メチル
    −カルバペン−2−エム−3−カルボン酸誘導体または
    その薬理学的に許容される塩。
  2. 【請求項2】 次式(I−a) 【化2】 (式中、Yは前記定義と同一である)で示される(1
    R,5S,6S)−2−[1−(1,3−チアゾリン−
    2−イル)アゼチジン−3−イル]チオ−6−[(R)
    −1−ヒドロキシエチル]−1−メチル−カルバペン−
    2−エム−3−カルボン酸誘導体またはその薬理学的に
    許容される塩である、請求項1記載の化合物。
  3. 【請求項3】 次式(II) 【化3】 で示される(1R,5S,6S)−2−[1−(1,3
    −チアゾリン−2−イル)アゼチジン−3−イル]チオ
    −6−[(R)−1−ヒドロキシエチル]−1−メチル
    −カルバペン−2−エム−3−カルボン酸またはその薬
    理学的に許容される塩である、請求項1記載の化合物。
  4. 【請求項4】 次式(III) 【化4】 (式中、R4 はカルボン酸エステルのエステル残基を表
    す)で示される(1R,5S,6S)−2−[1−
    (1,3−チアゾリン−2−イル)アゼチジン−3−イ
    ル]チオ−6−[(R)−1−ヒドロキシエチル]−1
    −メチル−カルバペン−2−エム−3−カルボキシレー
    トまたはその薬理学的に許容される塩である、請求項2
    記載の化合物。
  5. 【請求項5】 R4 が、少なくとも1つの置換基を有し
    ていてもよい低級アルキルエステル残基である請求項4
    記載の化合物。
  6. 【請求項6】 R4 がピバロイルオキシメチルまたは1
    −[(シクロヘキシルオキシ)カルボニルオキシ]エチ
    ルである請求項4記載の化合物。
  7. 【請求項7】 次式(IV) 【化5】 で示される1−[(シクロヘキシルオキシ)カルボニル
    オキシ]エチル (1R,5S,6S)−2−[1−
    (1,3−チアゾリン−2−イル)アゼチジン−3−イ
    ル]チオ−6−[(R)−1−ヒドロキシエチル]−1
    −メチル−カルバペン−2−エム−3−カルボキシレー
    トまたはその薬理学的に許容される塩である、請求項4
    記載の化合物。
  8. 【請求項8】 請求項1ないし7のいずれかに記載の化
    合物を有効成分として含有する抗菌剤。
  9. 【請求項9】 請求項3に記載の式(II)で示される
    (1R,5S,6S)−2−[1−(1,3−チアゾリ
    ン−2−イル)アゼチジン−3−イル]チオ−6−
    [(R)−1−ヒドロキシエチル]−1−メチル−カル
    バペン−2−エム−3−カルボン酸またはその薬理学的
    に許容される塩を有効成分として含有する抗菌剤。
  10. 【請求項10】 請求項7に記載の式(IV)で示され
    る1−[(シクロヘキシルオキシ)カルボニルオキシ]
    エチル (1R,5S,6S)−2−[(1−(1,3
    −チアゾリン−2−イル)アゼチジン−3−イル)チ
    オ]−6−[(R)−1−ヒドロキシエチル]−1−メ
    チル−カルバペン−2−エム−3−カルボキシレートま
    たはその薬理学的に許容される塩を有効成分として含有
    する抗菌剤。
  11. 【請求項11】 経口投与製剤の形態にある請求項10
    記載の抗菌剤。
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