JPH0846134A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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JPH0846134A
JPH0846134A JP6193757A JP19375794A JPH0846134A JP H0846134 A JPH0846134 A JP H0846134A JP 6193757 A JP6193757 A JP 6193757A JP 19375794 A JP19375794 A JP 19375794A JP H0846134 A JPH0846134 A JP H0846134A
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heat
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 MCM(マルチチップモジュール)を大型化
することなく放熱効果を高め、これによりMCMの高集
積化を実現する。 【構成】 基板101の表面と裏面のそれぞれにチップ
105,108を搭載し、かつ表面のチップと裏面のチ
ップのそれぞれに個別の放熱構造106,110を設け
る。或いは、チップと基板との間に断熱構造を設ける。
基板101の両面に設けたチップ105,108はそれ
ぞれ個別の放熱構造106,110により放熱されるた
め、各面のチップが相互に熱の影響をおよぼすことはな
く、両面搭載チップによる熱の問題を解消し、MCMの
高集積化を可能とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体装置に関し、特に
複数の半導体素子を1つの配線基板上に実装するマルチ
チップモジュール方式の半導体装置に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、半導体装置の配線遅延の縮小によ
る高速動作が要求される分野や、半導体装置の小型、軽
量化による集積度の向上の要求に伴って、1つの配線基
板上に複数の半導体素子(以下、チップと称する)を実
装する半導体装置、即ちマルチチップモジュール(以
下、MCMと称する)技術が注目を集めている。このよ
うなMCMの1つの例として、特開平5−136323
号公報に記載されている技術がある。この例では、図6
に示すように、1つの基板301の両面に複数のチップ
302を搭載し、リードフレーム303と各チップ30
2とをボンディングワイヤ304で電気的に接続する。
そして、この構体を外部環境からの保護のために樹脂等
のパッケージ305で封入する。これにより、同一面積
内に2つのチップを実装することができ、2倍の集積度
を実現することができる。
【0003】ところで、チップの動作はその接合温度に
依存しているため、例えばCMOSトランジスタの場
合、接合温度が上昇するとそのスイッチ動作の速度が遅
くなることが知られている。通常の半導体装置では、そ
の動作速度を保証するために接合温度を制限しており、
そのために半導体装置の使用温度の制限を行っている。
【0004】しかしながら、前記した従来のMCMで
は、一方の面に搭載したチップで発生した熱が支持板を
介して他方の面に搭載したチップに伝達されると、この
チップの接合温度が上昇され、チップの動作速度を保証
することができなくなる。或いは動作保証ができなくな
る場合がある。例えば、マイクロプロセッサとキャッシ
ュメモリを搭載するMCMでは、マイクロプロセッサは
通常非常に多くの電力を消費し、その分発熱量が多くな
っている。これに対してキャッシュメモリは高速動作さ
せる必要があるため、スタティックメモリが使用される
が、スタティックメモリはマイクロプロセッサに比較す
ると発熱量は少ないが接合温度の上昇に伴ってその動作
速度が低下され、キャッシュメモリとして機能しなくな
り、MCMとして動作しなくなる場合がある。
【0005】このようなMCMの問題点を回避するた
め、特開昭59−65457号公報では、放熱構造を施
したMCMが提案されている。ここでは、図7に示すよ
うに、配線基板401上に複数のチップ402をバンプ
403により搭載し、かつチップ402の上面には接着
剤404によりヒートシンク405を接着して両者を熱
結合させている。このMCMの構造では、各チップ40
2が発生する熱は接着剤404を通してヒートシンク4
05に伝達され、そこから空気中へと放熱されることに
なる。
【0006】また、他の例として、特開昭61−476
53号公報では、MCMに実装されたチップを封入する
ためのキャップをチップに接触させて放熱を行ってい
る。図8に示すように、配線基板501に複数のチップ
502をバンプ503により搭載し、かつその上に所定
形状に整形したキャップ504を被せ、チップ502の
上面とキャップ504とを接触させることでチップ50
2の熱をキャップ504を介して放熱させている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】このような従来の放熱
構造において、前者のヒートシンクを用いる構成では、
MCM全体の発熱を接合温度の許容範囲内になるように
放熱効果が十分大きなヒートシンク等の放熱手段を採用
すると、放熱構造が大型化し、MCMが大型化するとい
う問題が生じる。また、この構成ではヒートシンクに対
向するようにチップを搭載しなければならないため、配
線基板の両面にチップを搭載する図 のような構成を採
用することができず、MCMの集積度を高めることが難
しいという問題がある。
【0008】また、後者のキャップを用いる構成では、
前者に比較すると、チップと放熱装置間に接着剤が介在
されないため、より効率的な放熱が可能となる。しか
し、この場合熱抵抗を十分小さくするためには、チップ
とキャップとの密着性が重要になり、そのために特殊な
形状に整形したキャップが必要とされるため、組み立て
が困難になるという問題がある。また、前者のものと同
様にキャップに対向するようにチップを搭載しなければ
ならないため、配線基板の両面にチップを搭載してその
集積度を高めることが難しいという問題がある。
【0009】
【発明の目的】本発明の目的は、MCMを大型化するこ
となく放熱効果を高め、これによりMCMの高集積化を
実現することが可能な半導体装置を提供することにあ
る。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明の半導体装置は、
基板の表面と裏面のそれぞれにチップを搭載し、かつ表
面のチップと裏面のチップのそれぞれに個別の放熱構造
を設けた構成とする。
【0011】また、本発明の半導体装置は、基板の表面
と裏面のそれぞれにチップを搭載し、かつ表面のチップ
と裏面のチップのそれぞれには基板との間に断熱構造を
配設する。
【0012】更に、本発明の半導体装置は、基板の表面
と裏面のそれぞれにチップを搭載し、かつ表面のチップ
と裏面のチップのそれぞれに個別の放熱構造を設け、か
つ各チップのそれぞれには基板との間に断熱構造を配設
する。
【0013】
【作用】基板の両面に設けたチップはそれぞれ個別の放
熱構造により放熱されるため、或いは各面のチップで発
生した熱は断熱構造により基板への伝達が防止されるた
め、各面のチップが相互に熱の影響をおよぼすことはな
く、両面搭載チップによる熱の問題を解消し、半導体装
置の高集積化を可能とする。
【0014】
【実施例】次に、本発明の実施例を図面を参照して説明
する。図1は本発明をMCMに適用した実施例の断面図
である。パッケージ基板101はセラミック等で形成さ
れ、その周辺部には複数本のリード102が突出形成さ
れており、このリード102に電気接続される図外の配
線がパッケージ基板101の表面の複数箇所に露呈され
ている。また、前記パッケージ基板101にはその表面
の一部、ここではパッケージ基板101の略中央位置の
表面に凹部103が形成され、かつこの凹部103内に
貫通穴104が開設されている。そして、この凹部10
3内には消費電力の高い大パワーチップ105が搭載さ
れる。また、このパッケージ基板101の裏面側には前
記貫通穴104内に臨むようにヒートシンク106が固
定されており、このヒートシンク106は貫通穴104
を通して前記大パワーチップ105の下面に接触された
状態とされる。
【0015】また、前記大パワーチップ105を含む前
記パッケージ基板101の表面上には多層配線構造をし
た配線基板107が配設され、この配線基板107の下
面に露呈される図外の電極が前記パッケージ基板101
に露呈されている配線と電気的に接続された状態で配線
基板107は導電性接着剤等によりパッケージ基板10
1に固定されている。この配線基板107の表面上には
複数個の消費電力の低い小パワーチップ108が搭載さ
れており、この小パワーチップ108を配線基板107
に搭載するための構造として、ここではTABテープ1
09が利用され、このTABテープ109によりチップ
108は機械的及び電気的に配線基板107に接続が行
なわれる。
【0016】そして、前記配線基板107及び小パワー
チップ108を覆うようにキャップ110が被せられて
おり、その周辺部が前記パッケージ基板101の表面に
接着されて前記配線基板107と小パワーチップ108
とを封止している。この場合、小パワーチップ108の
上面は熱伝導性の高い接着剤111によりキャップ11
0の内面に接着されている。
【0017】図2は図1のMCMの製造工程を工程順に
示す断面図である。先ず、図2(a)のように、略中央
位置に凹部103と貫通穴104が開設され、周辺部に
リード102が配設されているパッケージ基板101に
ヒートシンク106がマウントされ、かつこのヒートシ
ンク106上の前記凹部103内に大パワーチップ10
5を熱伝導性の高い接着剤によりマウントする。
【0018】次いで、図2(b)のように、前記パッケ
ージ基板101上に配線基板107をのせ、その下面に
露呈されている電極(図示せず)をパッケージ基板10
1の表面に露呈されている配線(図示せず)に接続され
るようにして導電性接着剤により配線基板107を半導
体基板基板101上に搭載する。なお、ここでは配線基
板107は多層配線基板として予め一括形成している
が、薄膜積層技術を用いて順次積層接続する方法も採用
できる。
【0019】次に、図2(c)のように、TABテープ
109を接続した複数の小パワーチップ108を配線基
板107上に接続する。しかる上で、図2(d)のよう
に、小パワーチップ108の上面に熱伝導性の高い接着
剤111をのせ、キャップ110をパッケージ基板10
1上に被せる。チップ108はこの接着剤111により
キャップ110に接着され、かつ熱的に結合される。
【0020】この構成によれば、大パワーチップ105
で発生された熱はヒートシンク106を介して放熱され
る。この場合、熱の一部は配線基板107に向けて伝達
されるが、その殆どはヒートシンク106により放熱さ
れるため、配線基板107に向けて伝達される熱は僅か
なものとなる。一方、複数の小パワーチップ108で発
生された熱は、熱伝導性の高い接着剤111を介してキ
ャップ110に伝達され、キャップ110の表面から放
熱される。このとき、小パワーチップ108はTABテ
ープ109により配線基板107に搭載されているた
め、チップ108が配線基板107に直接接触されるこ
とはなく、チップ108で発生した熱が配線基板107
に伝達されることは極めて少なくなる。
【0021】これにより、大パワーチップ105で発生
した熱が小パワーチップ108に影響することは殆どな
く、またその逆に小パワーチップ108で発生した熱が
大パワーチップ105に影響することも殆どなく、これ
により特に大パワーチップ105におけるヒートシンク
106を大型化する必要がなくなり、MCMの小型化及
び高集積化が可能となる。
【0022】ここで、小パワーチップ108の上面には
接着剤111を設けなくとも、TABテープ109が有
する弾性力によってチップ108の上面をキャップ11
0の内面に弾接させて熱の伝達を行わせることもでき
る。この場合には、接着剤111が存在しない分、チッ
プ108からキャップ110までの熱抵抗を低減し、放
熱効果を高めることができる。
【0023】なお、図3は図1のMCMをプリント基板
に実装した状態の断面図であり、パッケージ基板101
のリード102を利用してプリント基板112に電気接
続を行っている。この例ではMCMのキャップ110側
をプリント基板側112に配設し、プリント基板112
に開設した窓113を通してキャップ110にヒートシ
ンク114を接続している。これにより、キャップ11
0からの放熱効果を更に高めることが可能となる。ま
た、プリント基板112にはその両面にそれぞれ個別チ
ップ115が搭載されている状態も示されている。
【0024】図4は本発明の第2実施例の断面図であ
る。配線基板201の表面には複数箇所に凹部202が
形成され、これらの凹部202を跨ぐように小パワーチ
ップ203がそれぞれ搭載され、バンプ204を用いた
フリップチップ法により配線基板201に機械的及び電
気的に接続されている。この場合、各チップ203で
は、図5(a)及び(b)に底面図と正面図を示すよう
に、チップ203の各電極205に対応するバンプ20
4はチップ203の両側に沿った領域に1列又は2列に
設けられており、このパンプ204に対してチップの各
電極205が導体配線206により接続されている。し
たがって、チップ203を配線基板201に搭載したと
きには、バンプ204が存在していなチップの辺領域で
はチップ203の下面と配線基板201との間に隙間が
形成されることになり、前記凹部202はこの隙間を通
して外部に連通されることになる。
【0025】また、配線基板201の裏面には断熱材2
07を介して大パワーチップ208が搭載されており、
かつこの大パワーチップ208はTABテープ209を
利用して配線基板201に機械的及び電気的に接続され
ている。そして、前記小パワーチップ203では、バン
プ204が存在するチップ辺部のみを被覆するように樹
脂210が注入され、また、大パワーチップ208では
TABテープ209部を被覆するように樹脂211が注
入されている。なお、図4ではヒートシンクやキャップ
の図示は省略しているが、例えば第1実施例の構成と同
様に、大パワーチップにはヒートシンクを接触させるよ
うに配置し、小パワーチップにはキャップを接触させる
ように設ける構成とする。
【0026】したがって、この第2実施例においては、
大パワーチップ208で発生した熱は図外のヒートシン
クによって放熱されるが、その一方で発生した熱は断熱
材207によって遮熱されるため配線基板201側、即
ち小パワーチップ203側に伝達されることはなく、小
パワーチップ203に影響を与えることはない。また、
小パワーチップ203において発生した熱は図外のキャ
ップ等により放熱されるが、その一方で発生した熱は配
線基板201に設けた凹部202により小パワーチップ
203の底面との間に画成される空間が断熱層として機
能し、配線基板201側への伝達が抑制される。このと
き、凹部202はバンプ204を設けていないチップ辺
部において外部に連通されるため、空気流によって放熱
効果を高めることが可能となる。
【0027】ここで、大パワーチップ208に設けた断
熱材207の代わりに小パワーチップ203側に設けた
凹部202による空間を利用する構成としてもよい。或
いは、逆に小パワーチップ203においては凹部202
による空間の代わりに断熱材を介在させてもよい。ま
た、第2実施例においては、配線基板の両面の各チップ
に対してヒートシンクやキャップを設けなくとも十分な
放熱効果が得られるものであれば、これらのヒートシン
クやキャップを設ける必要はない。この場合でも、配線
基板の両面の各チップ間に設けられる断熱構造によって
チップ相互の熱の影響を防止することができ、高集積な
MCMの構築が可能となる。
【0028】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、基板の表
面と裏面のそれぞれに搭載したチップのそれぞれに個別
の放熱構造を設けているので、各面のチップはそれぞれ
個別の放熱構造により放熱されることになり、各面のチ
ップが相互に熱の影響をおよぼすことはなく、両面搭載
チップによる熱の問題を解消し、半導体装置の高集積化
を実現することができる。
【0029】また、本発明の半導体装置は、基板の表面
と裏面のそれぞれに搭載したチップと基板との間に断熱
構造を配設しているので、各面のチップで発生した熱は
断熱構造により基板への伝達が防止されることになり、
各面のチップが相互に熱の影響をおよぼすことはなく、
両面搭載チップによる熱の問題を解消し、半導体装置の
高集積化を実現することができる。
【0030】更に、本発明の半導体装置は、基板の表面
と裏面のそれぞれに搭載したチップのそれぞれに個別の
放熱構造を設け、かつ各チップと基板との間に断熱構造
を配設しているので、各面のチップはそれぞれ個別の放
熱構造により放熱され、かつ各面のチップで発生した熱
は断熱構造により基板への伝達が防止されることにな
り、各面のチップが相互に熱の影響をおよぼすことはな
く、両面搭載チップによる熱の問題を解消し、半導体装
置の高集積化を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の半導体装置の第1実施例の断面図であ
る。
【図2】図1の半導体装置の製造方法を工程順に示す断
面図である。
【図3】図1の半導体装置をプリント基板に実装した状
態の断面図である。
【図4】本発明の半導体装置の第2実施例の断面図であ
る。
【図5】第2実施例において実装されるチップの底面図
と正面図である。
【図6】従来の半導体装置の一例の断面図である。
【図7】従来の半導体装置の改良された一例の断面図で
ある。
【図8】従来の半導体装置の改良された他の例の断面図
である。
【符号の説明】 101 パッケージ基板 102 リード 105 大パワーチップ 106 ヒートシンク 107 配線基板 108 小パワーチップ 109 TABテープ 110 キャップ 201 配線基板 202 凹部 203 小パワーチップ 207 断熱材 208 大パワーチップ

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板の表面と裏面のそれぞれに半導体素
    子を搭載し、かつ表面の半導体素子と裏面の半導体素子
    のそれぞれに個別の放熱構造を設けたことを特徴とする
    半導体装置。
  2. 【請求項2】 基板の表面と裏面のそれぞれに半導体素
    子を搭載し、かつ表面の半導体素子と裏面の半導体素子
    のそれぞれには基板との間に断熱構造を配設したことを
    特徴とする半導体装置。
  3. 【請求項3】 基板の表面と裏面のそれぞれに半導体素
    子を搭載し、かつ表面の半導体素子と裏面の半導体素子
    のそれぞれに個別の放熱構造を設け、かつ各半導体素子
    のそれぞれには基板との間に断熱構造を配設したことを
    特徴とする半導体装置。
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