JPH0639476B2 - 3‐アルキルオキシ又は3‐アルキルチオメチル‐7‐アミノチアゾリルアセトアミドセフアロスポラン酸の新規なオキシム誘導体 - Google Patents

3‐アルキルオキシ又は3‐アルキルチオメチル‐7‐アミノチアゾリルアセトアミドセフアロスポラン酸の新規なオキシム誘導体

Info

Publication number
JPH0639476B2
JPH0639476B2 JP63051810A JP5181088A JPH0639476B2 JP H0639476 B2 JPH0639476 B2 JP H0639476B2 JP 63051810 A JP63051810 A JP 63051810A JP 5181088 A JP5181088 A JP 5181088A JP H0639476 B2 JPH0639476 B2 JP H0639476B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
acid
cef
formula
carboxylic acid
radical
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP63051810A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS6452784A (en
Inventor
ルネ・エーム
デイデイエ・プロニーヌ
Original Assignee
ルセル−ユクラフ
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by ルセル−ユクラフ filed Critical ルセル−ユクラフ
Publication of JPS6452784A publication Critical patent/JPS6452784A/ja
Publication of JPH0639476B2 publication Critical patent/JPH0639476B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D277/00Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings
    • C07D277/02Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings not condensed with other rings
    • C07D277/20Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D277/587Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with aliphatic hydrocarbon radicals substituted by carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms, said aliphatic radicals being substituted in the alpha-position to the ring by a hetero atom, e.g. with m >= 0, Z being a singly or a doubly bound hetero atom
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61PSPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P31/00Antiinfectives, i.e. antibiotics, antiseptics, chemotherapeutics
    • A61P31/04Antibacterial agents
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D501/00Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
    • C07D501/14Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7
    • C07D501/16Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7 with a double bond between positions 2 and 3
    • C07D501/207-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids
    • C07D501/247-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids with hydrocarbon radicals, substituted by hetero atoms or hetero rings, attached in position 3
    • C07D501/26Methylene radicals, substituted by oxygen atoms; Lactones thereof with the 2-carboxyl group
    • C07D501/34Methylene radicals, substituted by oxygen atoms; Lactones thereof with the 2-carboxyl group with the 7-amino radical acylated by carboxylic acids containing hetero rings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D501/00Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
    • C07D501/14Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7
    • C07D501/16Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7 with a double bond between positions 2 and 3
    • C07D501/207-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids
    • C07D501/247-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids with hydrocarbon radicals, substituted by hetero atoms or hetero rings, attached in position 3
    • C07D501/36Methylene radicals, substituted by sulfur atoms
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
  • Pharmacology & Pharmacy (AREA)
  • Communicable Diseases (AREA)
  • Animal Behavior & Ethology (AREA)
  • Oncology (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Veterinary Medicine (AREA)
  • Cephalosporin Compounds (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Nitrogen- Or Sulfur-Containing Heterocyclic Ring Compounds With Rings Of Six Or More Members (AREA)
  • Thiazole And Isothizaole Compounds (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、3−アルキルオキシ又は3−アルキルチオメ
チル−7−アミノチアゾリルアセトアミドセファロスポ
ラン酸の新規なオキシム誘導体の製造中間体に関する。
しかして、本発明の主題は、次の一般式(I′) syn異性体 (ここで、Rは水素原子又は多くとも6個の炭素原子を
有する直鎖若しくは分岐鎖状のアルキル、アルケニル、
アルキニル若しくはシクロアルキル基或いはアシル基を
表わし、これらの基のそれぞれは置換されていてもよ
く、或いはRはアルコキシカルボニル基を表わし、 Aは水素原子、等価のアルカリ金属、アルカリ土金属、
マグネシウム、アンモニウム又は有機アミノ塩基を表わ
し、或いはAは容易に解裂できるエステル基の残基を表
わし、 R′aは多くとも6個の炭素原子を有する直鎖若しくは
分岐鎖状のアルキル基(ヘテロ原子で中断されていても
よい)を表わし、 nは0又は1に等しく、 X′はスルホキシドの形で酸化されていてもよい硫黄原
子又は酸素原子を表わす) の化合物並びに式(I′)の化合物の無機又は有機酸と
の塩を製造するのに有用な中間体にある。
syn異性体形を有するものとして定義される前記一般
式(I′)の化合物が広くグラム陽性及び陰性菌、その
他の細菌に対して高い抗菌力を示すことを知り、本発明
を完成した。
しかして、本発明の主題は、次の一般式(I) (ここで Aは水素原子、等価のアルカリ金属、アルカリ土金属、
マグネシウム、アンモニウム又は有機アミノ塩基を表わ
し、或るいはAは容易に解裂できるエステル基の残基を
表わし、 R′aは多くとも6個の炭素原子を有する直鎖若しくは
分岐鎖状のアルキル基を表わし、 nは0又は1に等しく、 X′はスルホキシドの形で酸化されていてもよい硫黄原
子又は酸素原子を表わし、 R′は水素原子又はアミノ基の保護基を表わす) の化合物、 そして特に次式(IV′) (これらの式でR′a、X′及びnは上で記載の意味を
有し、R″はアミノ基の保護基を表わし、A′は水素
原子又は容易に解裂できるエステル基の残基を表わす) の化合物にある。
前記の一般式(I)においてAの基の意味としては、等
価のナトリウム、カリウム、リチウム、カルシウム、マ
グネシウム又はアンモニウムをあげることができる。有
機塩基としては、メチルアミン、プロピルアミン、トリ
メチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、
N,N−ジメチルエタノールアミン、トリス(ヒドロキ
シメチル)アミノメタン、エタノールアミン、ピリジ
ン、ピコリン、ジクロヘキシルアミン、モルホリン、ベ
ンジルアミン、プロカイン、リジン、アルギニン、ヒス
チジン及びN−メチルグルカミンをあげるとができる。
A及びA′が表わすことのできる容易に解裂できるエス
テル基の残基としては、他にもあるが、メトキシメチ
ル、エトキシメチル、イソプロピルオキシメチル、α−
メトキシエチル、α−エトキシエチル、メチルチオメチ
ル、エチルチオメチル、イソプロピルチオメチル、ピバ
ロイルオキシメチル、アセトキシメチル、プロピオニル
オキシメチル、ブチリルオキシメチル、イソブチリルオ
キシメチル、バレリルオキシメチル、イソバレリルオキ
シメチル、t−ブチルカルボニルオキシメチル、ヘキサ
デカノイルオキシメチル、プロピオニルオキシエチル、
イソバレリルオキシエチル、1−アセチルオキシエチ
ル、1−プロピオニルオキシエチル、1−ブチリルオキ
シエチル、1−t−ブチルカルボニルオキシエチル、1
−アセチルオキシプロピル、1−ヘキサデカノイルオキ
シエチル、1−プロピオニルオキシプロピル、1−メト
キシカルボニルオキシエチル、メトキシカルボニルオキ
シメチル、1−アセチルオキシブチル、1−アセチルオ
キシヘキシル、1−アセチルオキシヘプチル、フタリジ
ル、5,6−ジメトキシフタリジル、t−ブチルカルボ
ニルメチル、アリル、2−クロルアリル、メトキシカル
ボニルメチル、ベンジル又はt−ブチル基などをあげる
ことができる。
また、A及びA′が表わすことができるエステル基の残
基としては、他にもあるが、メトキシエトキシメチル、
ジメチルアミノエチル、シアノメチル、t−ブチルオキ
シカルボニルメチル、2,2−エチレンジオキシエチ
ル、シアノエチル、2,2−ジメトキシエチル、2−ク
ロルエトキシメチル、2−ヒドロキシエトキシエチル、
2,3−エポキシプロピル、3−ジメチルアミノ、2−
ヒドロキシプロピル、2−ヒドロキシエチル、2−メチ
ルアミノエトキシメチル、2−アミノエトキシメチル、
3−メトキシ−2,4−チアジアゾール−5−イル、2
−テトラヒドロピラニル、2−メトキシ−2−プロピ
ル、1−ヒドロキシ−2−プロピル、イソプロピル、カ
ルバモイルメチル、クロルメチル、2−クロルエチル、
アセチルメチル、2−メチルチオエチル又はチオシアナ
トメチル基をあげることができる。
また、A及びA′が表わすことができるエステル基の残
基としては、2−クロル−1−アセチルオキシエチル、
2−ブロム−1−アセチルオキシエチル、2−フルオル
−1−アセチルオキシエチル、2−メトキシ−1−アセ
チルオキシエチル、2−メチル−1−アセチルオキシプ
ロピル、2−アセチルオキシ−2−プロピル、1−メト
キシアセチルオキシエチル、1−アセチルカルボニルオ
キシエチル、1−ヒドロキシアセチルオキシエチル、1
−ホルミルカルボニルオキシエチル、1−(2−チエニ
ル)カルボニルオキシエチル、1−(2−フリル)カル
ボニルオキシエチル、1−(5−ニトロ−2−フリル)
カルボニルオキシエチル、1−(2−ピロリル)カルボ
ニルオキシエチル、1−(プロピオニルオキシカルボニ
ルオキシ)エチル、1−(プロピルオキシカルボニルオ
キシ)エチル、1−(イソプロピルオキシカルボニルオ
キシ)エチル、1−(メトキシエトキシカルボニルオキ
シ)エチル、1−(アリルオキシカルボニルオキシ)エ
チル、1−(2,3−エポキシ)プロピルオキシカルボ
ニルオキシエチル、1−(2−フリル)メチルオキシカ
ルボニルオキシエチル、1−(2−フルオル)エチルオ
キシカルボニルオキシエチル、1−(メトキシカルボニ
ルオキシ)プロピル、(2−メトキシカルボニルオキ
シ)プロパン−2−イル、(メトキシカルボニルオキ
シ)クロルメチル、1−(メトキシカルボニルオキシ)
−2−クロルエチル、1−(メトキシカルボニルオキ
シ)−2−メトキシエチル又は1−(メトキシカルボニ
ルオキシ)−1−アリル基をあげることができる。
前記の基以外に、A′が表わすことができる容易に除去
できるエステル基は、例えば、ブチル、イソブチル、t
−ブチル、ペンチル、ヘキシル、アセトキシメチル、プ
ロピオニルオキシメチル、ブチリルオキシメチル、バレ
リルオキシメチル、ピバロイルオキシメチル、2−アセ
トキシエチル、2−プロピオニルオキシエチル又は2−
ブチリルオキシエチル基であり得る。
また、2−ヨードエチル、β,β,β−トリクロルエチ
ル、ビニル、アリル、エチニル、プロピニル、ベンジ
ル、4−メトキシベンジル、4−ニトロベンジル、フェ
ニルエチル、トリチル、ジフェニルメチル及び3,4−
ジメトキシフェニル基をあげることができる。
さらに、フェニル、4−クロルフェニル、トリル及びt
−ブチルフェニル基もあげることができる。
R′aは、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、
ブチル、sec−ブチル、t−ブチル、ペンチル、イソペ
ンチル、sec−ペンチル、t−ペンチル、ネオペンチ
ル、ヘキシル、イソヘキシル、sec−ヘキシル及びt−
ヘキシル基のようなアルキル基、特にメチル、エチル、
プロピル、イソプロピルを表わすことができる。また、
R′aはメトキシメチル又はエトキシメチル基を表わす
ことができる。
R′及びR″が表わすことができるアミノ基の保護
基は、例えば、1〜6個の炭素原子を持つアルキル基、
好ましくはt−ブチル又はt−アミルであってよい。ま
た、R′及びR″は脂肪族、芳香族又は複素環式ア
シル基或いはカルバモイル基を表わすことができる。
アシル基としては、低級アルカノイル基、例えばホルミ
ル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリ
ル、バレリル、イソバレリル、オキザリル、スクシニル
及びピバロイルをあげることができる。また、R′
びR″はアルコキシ基又は低級シクロアルコキシカル
ボニル基、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボ
ニル、プロポキシカルボニル、1−シクロプロピルエト
キシカルボニル、イソプロピルオキシカルボニル、ブチ
ルオキシカルボニル、t−ブチルオキシカルボニル、ペ
ンチルオキシカルボニル又はヘキシルオキシカルボニ
ル;ベンゾイル、トルオイル、ナフトイル、フタロイ
ル、メシル、フェニルアセチル又はフェニルプロピオニ
ル基、或いはベンジルオキシカルボニルのようなアラー
ルコキシカルボニル基を表わすことができる。
アシル基は、例えば塩素、臭素、よう素又はふっ素原子
により置換されていてよい。例えば、クロルアセチル、
ジクロルアセチル、トリクロルアセチル、ブロムアセチ
ル又はトリフルオルアセチル基をあげることができる。
また、R′及びR″は、ベンジル、4−メトキシベ
ンジル、フェニルエチル、トリチル、3,4−ジメトキ
シベンジル又はベンズヒドリルのような低級アラールキ
ル基を表わすことができる。
また、R′及びR″は、トリクロルエチルのような
ハロアルキル基を表わすことができる。
また、R′及びR″は、クロルベンゾイル、p−ニ
トロベンゾイル、p−t−ブチルベンゾイル、フェノキ
シアセチル、カブリリル、n−デカノイル、アクリロイ
ル又はトリクロルエトキシカルボニル基を表わすことが
できる。
また、R′及びR″は、メチルカルバモイル、フェ
ニルカルバモイル又はナフチルカルバモイル基並びにこ
れらに対応するチオカルバモイル基を表わすことができ
る。
上記の列挙は何ら限定的なものではない。特にペプチド
の化学において周知の基であるその他のアミノ保護基も
用いることができることは明らかである。
本発明の一般式(I)の化合物は、 A)次式(II) (ここでn、X′及びR′aは前記の通りであり、A′
は水素原子又は容易に解裂できるエステル基の残基を表
わす) の化合物を次式(III) (ここでR′は水素原子又はアミノ基の保護基を表わ
す) の化合物又はこの酸の官能性誘導体と反応させるか、或
いは B)次式(V) (ここでR′、A′及びnは前記の意味を有する) の化合物を次式 R′a−SH (ここでR′aは前記の意味を有する) の化合物で処理するか、或いはまず2−メルカプトピリ
ジンN−オキシドで、次いで次式 R′a−OH (ここでR′aは前記の意味を有する) の化合物で処理して対応する式(I)の化合物を得、所
望ならば、nが0に等しく且つX′が硫黄又は酸素原子
を表わす場合には上記式(I)の化合物を酸化剤で処理
してnが1に等しく且つX′がスルホキシドの形で酸化
された硫黄原子又は酸素原子を表わす式(I)の化合物
を得、さらに必要ならば又は所望ならばこの式(I)の
化合物に下記の反応、即ち a)エステル基又はアミノ基の保護基の全部又は一部の加
水分解、水添分解又はチオ尿素による解裂、 b)カルボキシル基のエステル化又は塩基による塩形成、
及び(又は) c)アミノ基の酸による塩形成、 の一つ又はそれ以上の反応に任意の順序で付すことから
なる方法によって製造することができる。
上記の製造法を実施する好ましい方法において、式(II)
の化合物は式(III)の化合物の官能性誘導体で処理され
る。この官能性誘導体は、例えば、ハロゲン化物、対称
又は混成無水物、アミド、アジド又は活性化エステルで
あってよい。
混成無水物の例としては、例えば、クロルぎ酸イソブチ
ルで形成されたもの及び塩化ピバロイルで形成されたも
の、そして例えば塩化p−トルエンスルホニルで形成さ
れた混成カルボン酸/スルホン酸無水物をあげることが
できる。
活性化エステルの例としては、2,4−ジニトロフェノ
ールで形成されたもの及びヒドロキシベンゾチアゾール
で形成されたものをあげることができる。
ハロゲン化物の例としては、塩化物又は臭化物をあげる
ことができる。
無水物は、N,N′−ジ置換カルボジイミド、例えば
N,N′−ジシクロヘキシルカルボジイミドを作用させ
ることによって現場で形成させることができる。
アシル化反応は、好ましくは、塩化メチレンのような有
機溶媒中で行なわれる。しかしながら、テトラヒドロフ
ラン、クロロホルム又はジメチルホルムアミドのような
その他の溶媒も用いることができる。
酸ハロゲン化物が用いられるときは、そして一般的にい
って、ハロゲン化水素の分子が反応中に遊離するとき
は、反応は好ましくは水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、ナトリウム又はカリウムの炭酸塩又は酸性炭酸塩、
酢酸ナトリウム、トリエチルアミン、ピリジン、モルホ
リン又はN−メチルモルホリンのような塩基の存在下で
行なわれる。
反応温度は、一般に周囲温度に等しいか又はそれよりも
低い。
R′が水素原子を表わすときは、好ましくは混成カル
ボン酸/スルホン酸無水物が用いられる。
式(V)の化合物に対する式R′a−SHの化合物の作
用は、好ましくはフランス国特許第2,379,540
号に記載の条件下で行なわれる。そして、酢酸又はニト
ロメタン中で三ふっ化ほう素エーテラートの存在下で行
なわれる。
式(V)の化合物への、まず2−メルカプトピリジンN
−オキシド、次いで式R′a−OHのアルコールの作用
は、フランス国特許第2,119,074号に記載の条
件下で行なわれる。
エーテルの形成は、好ましくは塩化第二銅のような第二
銅塩の存在下に行なわれる。
式(I)の化合物の酸化は、過酸、例えば過酢酸、過フ
タル酸、m−クロル過安息香酸又は過安息香酸、或いは
過酸化水素によって行なうことができる。
その他の場合に、式(I)の化合物に1種又はそれ以上
の加水分解若しくは水添分解剤又はチオ尿素を作用させ
る目的は、基R′がアミノ基の保護基を表わすときは
これを除去すること、及び(又は)基A′が除去しよう
と望む基の一つ(容易に解裂できるエステル基のうち
で)を表わすときはこれを除去することである。
さらに、もちろんであるが、置換基A′を保持しなけれ
ばならないときはこの基に触れることなくR′を除去
することも可能である。例えば、A′が保持したいエス
テル基、例えばプロピオニルオキシメチル基を表わすと
きに上記と同じことがいえる。
そのような場合に役立つ薬剤の性質は当業者に周知であ
る。このような反応の例は、実験の部でさらに示す。
以下に、各種の基を除去するのに用いることのできる手
段を列挙するが、これらに限定されない。
基R′の除去は、酸又は塩基加水分解により又はヒド
ラジンを用いて行なわれる。
酸加水分解は、置換されていてもよくアルコキシ及びシ
クロアルコキシカルボニル基、例えばt−ペンチルオキ
シカルボニル又はt−ブチルオキシカルボニル;置換さ
れていてもよいアラールコキシカルボニル基、例えばベ
ンジルオキシカルボニル基;そしてトリチル、ベンズヒ
ドリル、t−ブチル又は4−メトキシベンジル基を除去
するために好ましくは用いられる。
好ましくは用いられる酸は、塩酸、ベンゼンスルホン酸
又はp−トルエンスルホン酸、ぎ酸又はトリフルオル酢
酸のような群から選ぶことができる。しかしながら、そ
の他の無機又は有機酸も用いることができる。
塩基加水分解は、トリフルオルアセチルのようなアシル
基を除去するために好ましくは用いられる。
用いられる塩基は、好ましくは水酸化ナトリウム又はカ
リウムのような無機塩基である。マグネシウム、バリタ
又はアルカリ金属の炭酸塩若しくは酸性炭酸塩、例えば
ナトリウム若しくはカリウムの炭酸塩及び酸性炭酸塩又
はその他の塩基も用いることができる。
酢酸ナトリウム又はカリウムも用いることができる。
ヒドラジンを用いる加水分解は、好ましくは、フタロイ
ルのような基を除去することが好ましい。
また、基R′は、トリクロルエチル基については亜鉛
−酢酸系で除去することができる。ベンズヒドリル及び
ベンジルオキシカルボニル基は、好ましくは、触媒の存
在下での水素により除去される。
クロルアセチル基は、アサキ氏によりJ.A.C.
S.、90、4508(1968)に記載の反応形式に
より中性又は酸性媒体中でチオ尿素を作用させることに
よって除去される。
文献で知られる保護基をはずす他の方法も用いることが
できる。
好ましい基としては、ホルミル、アセチル、エトキシカ
ルボニル、メシル、トリフルオルアセチル、クロルアセ
チル及びトリチル基をあげることができる。
用いられる酸は、好ましくはトリフルオル酢酸である。
基A′の除去は、その必要があるときは、R′の除去
について前記した条件と類似の条件下で行なわれる。
中でも、置換されていてもよいアルキル又はアラールキ
ル基を除去するには酸加水分解を用いることができる。
好ましくは、塩酸、ぎ酸、トリフルオル酢酸及びp−ト
ルエンスルホン酸よりなる群から選ばれる酸が用いられ
る。
基A′は、望ましいときは、当業者に周知の方法によっ
て除去される。これは、好ましくは、温和な条件下で、
即ち周囲温度で又はわずかに加熱して行なわれる。
もちろん、例えばR′及びA′が異なる種類に属する
除去できる基であるときは、式(I)の化合物を前記の
列挙で考慮されるいくつかの試剤と反応させることがで
きる。
化合物の塩形成は、通常の方法によって実施することが
できる。
塩形成は、例えば酸形の化合物又は溶媒和物、例えばこ
の酸のエタノール溶媒和物又は水和物に水酸化ナトリウ
ム又はカリウム、或いはナトリウム又はカリウムの炭酸
塩又は酸性炭酸塩のような無機塩基を作用させることに
よって達成することができる。りん酸トリナトリウムの
ような無機酸の塩も用いることができる。また、有機酸
の塩も用いることができる。
有機酸の塩としては、例えば、1〜18個、好ましくは
2〜10個の炭素原子を有する飽和又は不飽和の、直鎖
又は分岐鎖状の脂肪族カルボン酸のナトリウム塩をあげ
ることができる。これらの酸の脂肪属鎖は、酸素又は硫
黄のような1個又はそれ以上のヘテロ原子により中断さ
れていてもよく、或いは例えばフェニル、チエニル又は
フリルのようなアリール基で、1個又はそれ以上のヒド
ロキシル基で、ふっ素、塩素又は臭素、好ましくは塩素
のような1個又はそれ以上のハロゲン原子で、1個又は
それ以上のカルボン酸又は低級アルコキシカルボニル
基、好ましくはメトキシカルボニル、エトキシカルボニ
ル又はプロピルオキシカルボニル基で、或いは1個又は
それ以上のアリールオキシ基、好ましくはフェノキシ基
で置換されていてもよい。
さらに、有機酸としては、十分に可溶性の芳香族酸、例
えば安息香酸、好ましくは低級アルキル基で置換された
安息香酸を用いることができる。
このような有機酸の例としては、ぎ酸、酢酸、アクリル
酸、酪酸、アジピン酸、イソ酪酸、n−カプロン酸、イ
ソカプロン酸、クロルプロピオン酸、クロトン酸、フェ
ニル酢酸、2−チエニル酢酸、3−チエニル酢酸、4−
エチルフェニル酢酸、グルタル酸、アジピン酸のモノエ
チルエステル、ヘキサン酸、ヘプタン酸、デカン酸、オ
レイン酸、ステアリン酸、パルミチン酸、3−ヒドロキ
シプロピオン酸、3−メトキシプロピオン酸、3−メチ
ルチオ酪酸、4−クロル酪酸、4−フェニル酪酸、3−
フェノキシ酪酸、4−エチル安息香酸及び1−プロピル
安息香酸をあげることができる。
しかしながら、好ましくはナトリウム塩としては、酢酸
ナトリウム、2−エチルヘキサン酸ナトリウム又はジエ
チル酢酸ナトリウムが用いられる。
また、塩形成は、トリエチルアミン、ジエチルアミン、
トリメチルアミン、プロピルアミン、N,N−ジメチル
エタノールアミン、トリス(ヒドロキシメチル)アミノ
メタン、メチルアミン、エタノールアミン、ピリジン、
ピコリン、ジシクロヘキシルアミン、モルホリン及びベ
ンジルアミンのような有機塩基の作用により達成するこ
とができる。
また、これはアルギニン、リジン、プロカイン、ヒスチ
ジン又はN−メチルグルカミンの作用により達成するこ
ともできる。
この塩形成は、好ましくは水、エチルエーテル、メタノ
ール、エタノール又はアセトンのような溶媒又は溶媒混
合物中で行なわれる。
塩は、使用する反応条件に従って無定形又は結晶系で得
られる。
結晶性の塩は、好ましくは、遊離酸は上述の脂肪族カル
ボン酸の塩の一つ、好ましくは酢酸ナトリウムと反応さ
せることによって製造される。
無機又は有機酸による化合物の塩形成は、通常の条件下
で行なわれる。
本発明の化合物の場合により行うエステル化は、標準的
条件下で行なわれる。
したがって、本発明の前記のような製造法を実施するに
あたっては、Rがアミノ基の保護基を表わす式(III)
の化合物が用いられ、そして式(III)の酸の官能性誘導
体としてスルホン酸との混成無水物が用いられる。
用いるカルボン酸/スルホン酸無水物は、好ましくは、
p−トルエンスルホン酸によって形成される。
が表わす保護基は、好ましくはトリチル基である。
特に、本発明の式(IV′)の化合物は、次式(II′) (ここでR′a、n、X′及びA′は前記の意味を有す
る) の化合物を次式(III′) (ここでR″はアミノ基の保護基を表わす) の化合物又はこの酸の官能性誘導体で処理して製造され
る。
上記の製造法は、先に説明した製造法と全く同様にして
実施することができる。
本発明の式(I)の化合物は、その1−メチル−1−メ
トキシエチルオキシイミノ基を酸処理して対応するヒド
ロキシイミノ基を有する式(I′)の化合物を与えるこ
とができる。特に、式(IV′)の化合物については、下
記の反応により対応する式(I′)の化合物を得ること
ができる。
即ち、式(IV′)の化合物を温和な条件下に酸で処理し
て次式(VI) の化合物を得、所望ならばこの化合物をエステル化し、
又は塩形成し、塩基の存在下に次式 Rd−Hal (ここでRdは多くとも6個の炭素原子を有する直鎖若
しくは分岐鎖状のアルキル、アルケニル、アルキニル若
しくはシクロアルキル基又はアシル若しくはアルコキシ
カルボニル基を表わし、そしてこれらの基のそれぞれは
置換されていてもよく、Halはハロゲン原子を表わす) の官能性誘導体で処理して次式(VII) (ここでR″、R′a、Rd、A′、X′及びnは前
記の意味を有する) の化合物を得、式(VI)及び(VII)の化合物を加水分解、
水添分解又はチオ尿素による作用に付してアミノ基の保
護基R″を除去し、所望ならば又は必要ならば下記の
反応、即ち a)エステル基の除去、 b)カルボキシル基のエステル化又は塩基による塩形成、
及び(又は) c)アミノ基の酸による塩形成、 の一つ又はそれ以上の反応に任意の順序で付すことによ
って式(I′)の化合物を得ることができる。
式(III′)の化合物の官能性誘導体は、式(III)の化合
物について前記したようなものの一つである。
式(IV′)の化合物より出発して式(VI)の化合物を得る
のに用いられる酸は、好ましくは塩酸水溶液である。
式(VI)の化合物を試剤Rd−Halで処理する際の塩基
は、好ましくはトリエチルアミン又はピリジンである。
式(VI)及び(VII)の化合物の処理は、前記したような条
件で行われる。
前記したように、一般式(I′)の化合物は、ぶどう球
菌や連鎖球菌のようなグラム陽性細菌に対して、特にペ
ニシリン耐性ぶどう球菌属細菌に対して非常に良好な抗
生物質活性を持っている。また、グラム陰性細菌、特に
大腸菌群、グレブシェラ属、サルモネラ属及びプロテウ
ム属細菌に対して特に顕著である。
これらの性質は、該化合物を、感応性微生物により引起
される感染症の治療、特に、例えばぶどう球菌性敗血
症、悪性顔面又は皮膚ぶどう球菌性感染症、化膿性皮膚
炎、腐敗性又は化膿性潰瘍、炭疽、蜂巣織炎、丹毒、急
性インフルエンザ初期又はインフルエンザ後ぶどう球菌
性感染症、気管支肺炎及び肺化膿のようなぶどう球菌性
感染症の治療に薬剤として使用するのを好適ならしめる
ものである。
また、これらの化合物は、大腸菌症及び関連感染症、プ
ロテウス属、クレブシェラ属及びサルモネラ属により起
された感染症、グラム陰性細菌により起されたその他の
疾病の治療に薬剤として用いることができる。
式(II)の化合物は、既知であって、フランス国特許第
2,379,540号及び2,119,074号に記載
の方法によって製造することができる。式(III)及び
(V)の化合物は、例えば、フランス国特許第2,34
6,014号及び2,385,722号に記載されてい
る。
下記の実施例は、本発明を例示するものであって、これ
を何ら制限するものではない。
例1:3−メトキシメチル−7−[2−(2−トリチル
アミノチアゾール−4−イル)−2−[(1−メチル−
1−メトキシ)エトキシイミノ]アセトアミド]セフ−
3−エム−4−カルボン酸、syn異性体 工程A:2−(2−トリチルアミノチアゾール−4−イ
ル)−2−[(1−メチル−1−メトキシ)エトキシ)
エトキシイミノ]酢酸のsyn異性体とp−トルエンス
ルホン酸との無水物 3.01gの2−(2−トリチルアミノチアゾール−4
−イル)−2−(1−メチル−1−メトキシエトキシイ
ミノ)酢酸のトリエチルアミン塩、syn異性体を15
ccのアセトンに懸濁させる。1.05gの塩化トシルを
加え、全体を1時間30分かきまぜる。20ccのエチル
エーテルを混合物に導入し、これを−10℃に冷却し、
分離し、エーテルで洗い、2.90gの所期の無水物と
トリエチルアミン塩酸塩を含む生成物を得る。
工程B:3−メトキシメチル−7−[2−(2−トリチ
ルアミノチアゾール−4−イル)−2−[(1−メチル
−1−メトキシ)エトキシイミノ]アセトアミド]セフ
−3−エム−4−カルボン酸、syn異性体 0.732gの7−アミノ−3−メトキシメチルセフ−
3−エム−4−カルボン酸を10ccの塩化メチレンと
0.84ccのトリエチルアミンに溶解し、全体を−20
℃に冷却し、2.4gの工程Aで得た混合物を加え、全
体を周囲温度に戻し、0.5ccの酢酸を加え、全体を水
洗し、乾燥し、濃縮乾固し、エチルエーテルでペースト
状とし、分離し、3.07gの粗生成物を得、これをメ
タノールから再結晶して1.21gの所期化合物を得
る。
NMRスペクトル(CDCl)ppm 参考例1:3−メトキシメチル−7−[2−(2−アミ
ノチアゾール−4−イル)−2−ヒドロキシイミノアセ
トアミド]セフ−3−エム−4−カルボン酸、syn異
性体 1.1gの例1の工程Bで得た化合物を5ccのぎ酸水溶
液と共に45〜50℃で10分間かきまぜ、2ccの水を
加え、全体を分離し、濾液を30℃で減圧下に濃縮乾固
し、同時に水をエタノールと共に追出す。その残留物を
水中で結晶化させ、分離し、0.54gの粗生成物を
得、これをトリエチルアミンを用いて5ccの50%エタ
ノール水溶液に溶解する。全体をぎ酸によりpH2〜3に
酸性化し、結晶生成物を分離し、エタノール、次いでエ
ーテルで洗い、0.44gの溶媒和した生成物を得る。
IRスペクトル(ヌジョール) C=O β−ラクタム:1757cm-1 C=C,C=N:1637〜1638cm-1 芳香族:1605〜1572〜1488cm-1 UVスペクトル(EtOH,HCl N/10) NMRスペクトル(DMSO)ppm 例2:3−メトキシメチル−7−[2−(2−トリチル
アミノチアゾール−4−イル)−2−[(1−メチル−
1−メトキシ)エトキシイミノ]アセトアミド]セフ−
3−エム−4−カルボン酸1−オキソプロポキシメチ
ル、syn異性体 4.15gの3−メトキシメチル−7−[2−(2−ト
リチルアミノチアゾール−4−イル)−2−[(1−メ
トキシ−1−メチル)エトキシイミノ]アセトアミド]
セフ−3−エム−4−カルボン酸、syn異性体と0.
456gの乾燥炭酸カリウムを14ccの無水ジメチルホ
ルムアミドに周囲温度で溶解する。全体を0℃に冷却
し、下記のように調製したプロピオン酸ヨードメチル懸
濁液を10分間で導入し、全体を0℃で30分間、次い
で20℃で30分間かきまぜる。反応媒体を340ccの
水、17ccの1N重炭酸ナトリウム水溶液及び50ccの
酢酸エチルよりなる混合物中に注ぐ。全体をかきまぜ、
デカンテーションし、酢酸エチルで抽出し、水洗し、乾
燥し、35℃以下で減圧下に濃縮乾固する。その残留物
を25ccのイソプロピルエーテルで溶解し、4.42g
の所期化合物を分離する。
NMRスペクトル(CDCl)ppm プロピオン酸ヨードメチルの調製 1.4gのプロピオン酸クロルメチル、1.71gのよ
う化ナトリウム及び23ccの無水アセトンを10分間還
流させる。溶液が得られるので、これを直ちに用いる。
参考例2:3−メトキシメチル−7−[2−(2−アミ
ノチアゾール−4−イル)−2−ヒドロキシイミノアセ
トアミド]セフ−3−エム−4−カルボン酸1−オキソ
プロポキシメチル、syn異性体 4.37gの例2で得た化合物を22ccの65%ぎ酸水
溶液中で45〜50℃で15分間かきまぜる。全体を温
いうちに90ccの水で希釈し、分離し、濾液を35℃以
下で減圧蒸留する。その残留物を100ccの塩化メチレ
ンで溶解し、1/10に希釈した塩化ナトリウム飽和溶
液、7ccの1N重炭酸ナトリウム溶液、次いで1/10
に希釈した塩化ナトリウム飽和溶液で洗う。有機相を乾
燥し、減圧下に蒸留乾固し、その残留物を100ccのエ
チルエーテルで溶解し、分離し、2.10gの粗生成物
を得る。これを15ccの酢酸エチルで溶解し、30分間
かきまぜ、分離し、酢酸エチル、次いでエチルエーテル
で洗い、1.69gの生成物を得る。その1.57gを
15ccの塩化メチレンに溶解し、濾過し、減圧下に蒸留
乾固し、その残留物を10ccの酢酸エチルで溶解し、3
0分間かきまぜ、分離し、酢酸エチル、次いでエーテル
で洗い、1.29gの所期化合物を得る。
[α]=+52゜±1 C=1.5% DMSO NMRスペクトル(CDCl)ppm 例3:3−メチルチオメチル−7−[2−(2−トリチ
ルアミノチアゾール−4−イル)−2−[(1−メチル
−1−メトキシ)エトキシイミノ]アセトアミド]セフ
−3−エム−4−カルボン酸、syn異性体 2.60gの3−メチルチオメチル−7−アミノセフ−
3−エム−4−カルボン酸、37.5ccの塩化メチレン
及び2.8ccのトリエチルアミンを混合し、−20℃に
冷却し、例1の工程Aにおけるように調製した9.5g
の2−(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル)2
−[(1−メチル−1−メトキシ)エトキシイミノ]酢
酸のp−トルエンスルホン酸無水物を導入する。全体を
0℃で2時間かきまぜ、1.75ccの酢酸で酸性化し、
有機相を水洗し、乾燥し、減圧下に濃縮乾固する。その
残留物を50ccのエチルエーテルで溶解し、分離し、エ
ーテルで洗い、8.45gの粗生成物を得る。これを4
5ccのメタノールで溶解し、30分間かきまぜる。結晶
化が開始し、分離し、メタノール、次いでエチルエーテ
ルで洗い、5.2gの所期化合物を得る。
NMRスペクトル(CDCl)ppm 1.85:CHS 5.05:(d;J=5):H 5.70(d,d;J=5,J=8):H 6.71:チアゾールのH(syn) 7.28:トリチル 参考例3:3−メチルチオメチル−7−[2−(2−ア
ミノチアゾール−4−イル)−2−(ヒドロキシイミ
ノ)アセトアミド]セフ−3−エム−4−カルボン酸、
syn異性体 3.72gの例3で得た化合物と18.6ccのぎ酸水溶
液を50℃で10分間かきまぜる。7.4ccの水を加
え、分離を直ちに行なう。濾液を最高30℃で減圧下に
蒸留し、エタノール/水混合物(2:1)で2回行な
い、その残留物を10ccの水で溶解し、分離し、水洗
し、エチルエーテルで洗い、1.945gの粗生成物を
得る。これを136ccの50%エタノール水溶液で溶解
し、0.63ccのトリエチルアミンをゆっくりと加え
る。不溶物を分離し、濾液を0.45ccの50%ぎ酸水
溶液でpH3〜4まで酸性化する。分離し、50%エタ
ノール水溶液で、無水エタノールで、次いでエチルエー
テルで洗い、1.392gの精製された所期化合物を得
る。
IRスペクトル(ヌジョール) UVスペクトル(EtOH−HCl N/10) infl:220nm ▲E ▼=320 λmax:262nm ▲E ▼=444 ε=19100 NMRスペクトル(DMSO)ppm 例4:3−メチルチオメチル−7−[2−(2−トリチ
ルアミノチアゾール−4−イル)−2−[(1−メチル
−1−メトキシ)エトキシイミノ]アセトアミド]セフ
−3−エム−4−カルボン酸1−オキソプロポキシメチ
ル、syn異性体 5.2gの3−メチルチオメチル−7−[2−(2−ト
リチルアミノチアゾール−4−イル)−2−[(1−メ
チル−1−メトキシ)エトキシイミノ]アセトアミド]
セフ−3−エム−4−カルボン酸、syn異性体と0.
56gの炭酸カリウムを20ccの無水ジメチルホルムア
ミド中で20℃でかきまぜ、次いで+5℃に冷却し、次
いで例2に記載のようにして1.715gのプロピオン
酸クロルメチルから即座に調製した28ccのプロピオン
酸ヨードメチルのアセトン懸濁液を+5〜+10℃で加
える。全体を5℃で30分間、次いで20℃で30分間
かきまぜる。反応混合物を+10〜15℃の260ccの
水、20ccの1N重炭酸ナトリウム溶液及び50ccの酢
酸エチルよりなる溶液中に注ぎ、全体をかきまぜ、デカ
ンテーションし、酢酸エチルで抽出し、水洗し、乾燥
し、減圧下に蒸留乾固する。その残留物を50ccのイソ
プロピルエーテルで溶解し、分離し、5.53gの所期
化合物を得る。
参考例4:3−メチルチオメチル−7−[2−(2−ア
ミノチアゾール−4−イル)−2−ヒドロキシイミノア
セトアミド]セフ−3−エム−4−カルボン酸1−オキ
ソプロポキシメチル、syn異性体 3.75gの例4で得た化合物を18.7ccの66%ぎ
酸水溶液中で50℃で10分間かきまぜる。7.5ccの
水を加え、分離し、濾液を最高30℃で減圧蒸留し、こ
れをメタノール/水混合物(2:1)で2回行なう。そ
の残留物を10ccの水で溶解し、分離し、水洗し、次い
でエチルエーテルで洗い、2.17gの粗生成物を得
る。これをシリカでクロマトグラフィーし、酢酸エチル
/アセトン混合物(3:1)で溶離し、乾燥残留物を1
0ccのイソプロピルエーテルで溶離し、1.55gの生
成物を分離し、4.5ccの酢酸エチルで溶解し、7.5
ccの酢酸エチルを加え、分離し、酢酸エチル、次いでイ
ソプロピルエーテルで洗い、0.536gの所期化合物
を得る。
UVスペクトル (EtOH) λmax 222nm ▲E ▼=384 ε=19800 λmax 262nm ▲E ▼=271 ε=14000 (EtOH,HCl N/10) infl 218nm ▲E ▼=293 λmax 263nm ▲E ▼=382 ε=19700 NMRスペクトル(CDCl)ppm IRスペクトル(ヌジョール) C=O β−ラクタム 1779cm-1 エステル+プロピオネート 1738cm-11759cm-1 アミド 1664cm-1 NH(形成) 1613cm-1 チアゾール+アミドII 1528cm-1 参考例5:3−エチルチオメチル−7−[2−(2−ア
ミノチアゾール−4−イル)−2−ヒドロキシイミノア
セトアミド]セフ−3−エム−4−カルボン酸、syn
異性体 工程A:3−エチルチオメチル−7−[2−(2−トリ
チルアミノチアゾール−4−イル)−2−ヒドロキシイ
ミノアセトアミド]セフ−3−エム−4−カルボン酸、
syn異性体 不活性雰囲気下に周囲温度で1.37gの3−エチルチ
オメチル−7−アミノセフ−3−エム−4−カルボン酸
を15ccの塩化メチレンと1.75ccのトリエチルアミ
ンに溶解する。この溶液を−30℃に冷却して3.97
gの2−(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル)
−2−[(1−メチル−1−メトキシ)エトキシイミ
ノ]酢酸の混成トシル無水物、syn異性体を全部一度
に導入する。全体を0℃に戻し、この温度で2時間かき
まぜ、次いで0.75ccの酢酸で中和する。これを塩化
メチレンで抽出し、有機相を水洗し、乾燥し、30℃
で減圧下に濃縮乾固させる。その残留物を20ccのエー
テル中ですり砕き、3.55gの粗生成物を分離する。
メタノールから再結晶した後、2.17gの所期化合物
を得る。
工程B:3−エチルチオメチル−7−[2−(2−アミ
ノチアゾール−4−イル)−2−ヒドロキシイミノアセ
トアミド]セフ−3−エム−4−カルボン酸、syn異
性体 2.16gの上で得た化合物を10.8ccのぎ酸水溶液
(66%)に溶解し、その溶液を50℃で10分間かき
まぜ、4.3ccの水を加える。不溶物を分離し、濾液を
35℃以下で減圧下に濃縮乾固し、その残留物を6ccの
水で溶解して生成物を固化させる。分離し、乾燥し、
1.168gの粗生成物を得る。これを6ccの水と0.
4ccのトリエチルアミンに溶解して精製する。トリエチ
ルアミン塩が晶出する。10ccの水を加え、不溶物を濾
過し、5ccのメタノールで洗い、濾液に11ccのエタノ
ールを加え、全体を50%の水を含む1ccのぎ酸でpH3
〜4まで酸性化する。20℃で30分間放置した後、結
晶生成物を分離し、無水エタノールで、そして最後にエ
チルエーテルで洗う。0.885gの所期化合物を得
る。
UVスペクトル(EtOH,HCl N/10) infl:218nm ▲E ▼=320 max:263nm ▲E ▼=448 ε=19900 NMRスペクトル(DMSO)ppm この参考例5の出発時で用いた3−エチルチオメチル−
7−アミノセフ−3−エム−4−カルボン酸は、次のよ
うに製造した。
54.4gの7−アミノセフアロスポラン酸と544cc
の酢酸を混合する。170ccの三ふっ化ほう素エーテラ
ート、次いで45ccのエタンジオールを加え、全体を4
5〜55℃で2時間かきまぜる。これを20〜30℃に
冷却し、170ccのトリエチルアミンを加え、生じた沈
殿を分離する。これを酢酸、次いでアセトン、エチルエ
ーテルで洗い、32.45gの所期生成物を得る。
UVスペクトル(EtOH,HCl N/10) max:262nm ▲E ▼=217 ε=5950 NMRスペクトル(DMSO)ppm 例5:3−エトキシメチル−7−[2(2−トリチルア
ミノチアゾール−4−イル)−2−(1−メトキシ−1
−メチルエトキシ)イミノアセトアミド]セフ−3−エ
ム−4−カルボン酸、syn異性体 1.29gの3−エトキシメチル−7−アミノセフ−3
−エム−4−カルボン酸より参考例5の工程Aにおける
ように実施して3.74gの粗生成物を得、これを酢酸
エチルより再結晶して1.791gの所期化合物を単離
する。
UVスペクトル 1/(EtOH) infl:230nm ▲E ▼=370 infl:260nm ▲E ▼=233 ε=17300 infl:300nm ▲E ▼=80 ε=5900 2/(EtOH,HCl N/10) max:271nm ▲E ▼=256 ε=19000 NMRスペクトル(CDCl)ppm 1.05〜1.13〜1.21:3.23〜3.31〜3.38〜3.47: OCH−CH 1.54:CHgem 3.24:OCH 3.51:−S−CH 4.15:−CHO 4.98〜5.05:H from 5.68〜5.87:H 6.75:チアゾールのH 参考例6:3−エトキシメチル−7−[2−(2−アミ
ノチアゾール−4−イル)−2−ヒドロキシイミノアセ
トアミド]セフ−3−エム−4−カルボン酸、syn異
性体 1.735gの3−エトキシメチル−7−[2−(2−
トリチルアミノチアゾール−4−イル)−2−(1−メ
トキシ−1−メチル)エトキシイミノアセトアミド]セ
フ−3−エム−4−カルボン酸、syn異性体と8.6
ccのぎ酸水溶液(66%)をかきまぜながら溶解する。
この溶液を50℃に10分間加熱し、熱いうちに3.5
ccの水を加える。生じたトリフェニルカルビノールを分
離し、濾液を減圧下にほとんど濃縮乾固し、50%の水
を含む5ccのエタノールを加え、全体を35℃以下に濃
縮乾固する。その残留物を6ccの水で溶解し、すり砕
き、生成物を固化させ、分離し、水洗し、次いでエーテ
ルで洗い、0.915gの粗生成物を得る。この0.8
13gを50ccの水を含む10ccのエタノールと0.4
5ccのトリエチルアミンに溶解する。濾過し、6ccの含
水エタノールで洗い、濾液を0.7ccの50%ぎ酸を加
えてpH3〜4まで酸性化する。結晶化を開始させ、結晶
を分離し、含水エタノール、次いでエーテルで洗い、
0.688gの所期化合物を得る。
UVスペクトル(EtOH,HCl N/10) infl:219nm ▲E ▼=288 ε=12300 max:261nm ▲E ▼=409 ε=17500 NMRスペクトル(DMSO)ppm 前記の例5の出発時で用いた3−エトキシメチル−7−
アミノセフ−3−エム−4−カルボン酸は、次の方法で
製造することができる。
27.2gの7−アミノセフアロスポラン酸と272cc
の無水アセトニトリルをかきまぜ、128ccの三ふっ化
ほう素エーテラート、次いで71ccのエタノールを加
え、全体を不活性雰囲気下に45〜50℃で16時間加
熱する。反応混合物を15〜20℃に冷却し、98ccの
トリエチルアミンを15分間で加える。沈殿を分離し、
アセトニトリル、次いでアセトン、エチルエーテルで洗
って19.25gの粗生成物を得る。この18gを54
ccの2N塩酸に溶解し、45℃に加熱し、活性炭で処理
し、濾過し、濾液を熱いうちに11ccのアンモニアを加
えて中和する。得られた沈殿を20℃で分離し、水洗
し、アセトン、次いでエーテルで洗い、8.6gの生成
物を得る。5.86gの生成物を24ccの2N塩酸で溶
解し、45℃で1時間かきまぜ、熱いうちに4ccのアン
モニアを加える。分離を20℃で行ない、水洗し、アセ
トン、次いでエチルエーテルで洗い、4.75gの所期
化合物を得る。
UVスペクトル(EtOH,HCl N/10) max:259nm ▲E ▼=239 ε=6200 NMRスペクトル(DMSO)ppm 例6:3−メトキシメチル−S−オキシド−7−[2−
(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル)−2−
[1−メチル−1−メトキシ)エトキシイミノ]アセト
アミド]セフ−3−エム−4−カルボン酸、syn異性
体 周囲温度で1.45gの3−メトキシメチル−7−[2
−(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル)−2−
[(1−メチル−1−メトキシ)エトキシイミノ]アセ
トアミド]セフ−3−エム−4−カルボン酸、syn異
性体を14ccの塩化メチレンに溶解し、−20℃に冷却
し、440mgのm−クロル過安息香酸を加え、全体を1
5分間かきまぜ、周囲温度に上昇せしめる。10ccのイ
ソプロピルエーテルを加え、塩化メチレンを追出し、1
0ccのイソプロピルエーテルを再び加え、1.47gの
粗化合物を分離する。
参考例7:3−メトキシメチル−S−オキシド−7−
[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−ヒド
ロキシイミノアセトアミド]セフ−3−エム−4−カル
ボン酸、syn異性体 1.47gの例6で得た化合物と5ccの66%ぎ酸水溶
液を混合する。50ccのエチルエーテルを加え、沈殿を
分離し、0.785gの粗生成物を得、これを1ccの水
と2滴のピリジンで溶解し、10ccのエタノールを加
え、全体を分離し、エタノール、次いでエーテルで洗
い、0.51gの所期化合物を得る。
UVスペクトル(EtOH,HCl N/10) infl:281nm ▲E ▼=303 max:261nm ▲E ▼=423 ε=18200 infl:375nm ▲E ▼=2 NMRスペクトル(DMSO)ppm 3.25:OCH 4.3〜4.5,4〜4.21:CH−O 4.98〜5.06:H 6.83:チアゾールのH 5.95〜5.98,6.05〜6.13:H 例7:3−メチルスルフィニルメチル−S−オキシド−
7−[2−(2−トリチルアミノチアゾール−4−イ
ル)−2−[(1−メチル−1−メトキシ)エトキシイ
ミノ]アセトアミド]セフ−3−エム−4−カルボン
酸、syn異性体 例6におけるようにし、そして0.744gの3−メチ
ルチオメチル−7−[2−(2−トリチルアミノチアゾ
ール−4−イル)−2−[(1−メチル−1−メトキ
シ)エトキシイミノ]アセトアミド]セフ−3−エム−
4−カルボン酸、syn異性体と0.404gのm−ク
ロル過安息香酸を用いて実施し、所期化合物を得た。
参考例8:3−メチルスルフィニルメチル−S−オキシ
ド−7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−
2−ヒドロキシイミノアセトアミド]セフ−3−エム−
4−カルボン酸、syn異性体 参考例7におけるようにし、そして例7の化合物を用い
て実施し、0.250gの所期生成物を得る。
UVスペクトル(EtOH,HCl N/10) max:269nm ▲E ▼=396 ε=18300 NMRスペクトル(DMSO)ppm 例8:3−メチルチオメチル−7−[2−(2−トリチ
ルアミノチアゾール−4−イル)−2−[(1−メチル
−1−メトキシ)エトキシイミノ]アセトアミド]セフ
−3−エム−4−カルボン酸1−[(1−オキソプロピ
ル)オキシ]プロピル、syn異性体 不活性雰囲気下に5gの3−メチルチオメチル−7−
[2−(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル)−
2−[(1−メチル−1−メトキシ)エトキシイミノ]
アセトアミド]セフ−3−エム−4−カルボン酸、sy
n異性体を16.5ccのジメチルホルムアミド及び0.
49gの炭酸カリウムと混合する。下記するように調製
した3ccのプロピオン酸ブロムプロピルを滴下し、全体
を15分間かきまぜる。反応混合物を200ccの水に注
加し、次いで酢酸エチルで抽出する。有機相を塩化ナト
リウム飽和水溶液を用いて洗浄し、乾燥し、40℃以下
の温度で減圧下に濃縮乾固し、6.3gの粗化合物を得
る。
参考例9:3−メチルチオメチル−7−[2−(2−ア
ミノチアゾール−4−イル)−2−ヒドロキシイミノア
セトアミド]セフ−3−エム−4−カルボン酸1−
[(1−オキソプロピル)オキシ]プロピル、syn異
性体 6.3gの上記例8で得た化合物を53ccの90%ぎ酸
溶液中で1時間45分間かきまぜ、全体を濾過し、濾液
に500ccの水を加え、全体を5分間かきまぜ、酢酸エ
チルで抽出する。有機相を塩化ナトリウム飽和水溶液を
用いて洗い、乾燥し、減圧下に濃縮乾固し、2.66g
の所期生成物を得、シリカでクロマトグラフィー(溶離
液は塩化メチレン/メタノール92:8)することによ
り精製する。これを蒸発乾固し、その残留物をメタノー
ルに溶解し、イソプロピルエーテルから再結晶する。
1.11gの純所期化合物を得る。
MP=140℃(分解)。
UVスペクトル(EtOH,HCl N/10) max:264nm ▲E ▼=347 ε=18800 NMRスペクトル(CDCl)ppm 2.06:SCH 1.03〜1.26及び2.21〜2.56: 6.83〜7.08:CO−CH− 0.85〜1.83:Et 上記の例8で用いたプロピオン酸ブロムプロピルは、次
のように製造した。
180mgの塩化亜鉛と30ccの臭化プロピオニルをかき
まぜながら混合し、+5℃に冷却し、26.4ccのプロ
ピオンアルデヒドを25分間で加える。全体を周囲温度
でかきまぜながら15時間放置し、次いで減圧下に蒸留
し、14.27gの所期生成物を得、そのまま次の工程
に用いる。
参考例10:3−メチルチオメチル−7−[2−(2−
アミノチアゾール−4−イル)−2−ヒドロキシイミノ
アセトアミド]セフ−3−エム−4−カルボン酸シアノ
メチル、syn異性体 例8及び参考例9におけるようにし、5gの3−メチル
チオメチル−7−[2−(2−トリチルアミノチアゾー
ル−4−イル)−2−[(1−メチル−1−メトキシ)
エトキシイミノ]アセトアミド]セフ−3−エム−4−
カルボン酸、syn異性体と2.2ccの臭化アセトニト
リルを用いて実施する。0.767gの結晶質生成物を
得、イソプロピルエーテルを加えて精製する。
MP145℃。
UVスペクトル(EtOH,HCl N/10) max:265nm ▲E ▼=367 ε=17200 NMRスペクトル(DMSO)ppm 2.01:SCH 5.23:COOCH 6.75:チアゾールのH 参考例11:3−メチルチオメチル−7−[2−(2−
アミノチアゾール−4−イル)−2−ヒドロキシイミノ
アセトアミド]セフ−3−エム−4−カルボン酸1−
[(1−オキソエチルオキシ)]プロピル、syn異性
体 例8及び参考例9におけるようにし、5gの3−メチル
チオメチル−7−[2−(2−トリチルアミノチアゾー
ル−4−イル)−2−[(1−メチル−1−メトキシ)
エトキシイミノ]アセトアミド]セフ−3−エム−4−
カルボン酸、syn異性体と7ccの酢酸3−ブロムプロ
ピルのクロロホルム溶液を用いて実施する。0.965
gの純化合物を得る。MP=130℃(分解)。
UVスペクトル(EtOH,HCl N/10) max:264nm ▲E ▼=347 ε=18400 NMRスペクトル(CDCl)ppm 0.85〜1.08:CH−CH 1.88及び1.93:SCH及び 7.01:チアゾールのH 6.83〜7.16:COOCH−O 参考例11で用いた酢酸3−ブロムプロピルは次のよう
に用いた。
37ccの臭化アセチルと0.242gの塩化亜鉛を混合
し、次いで40ccのプロピオンアルデヒドを15℃で1
2分間にわたり添加する。全体を周囲温度でかきまぜな
がら15時間放置し、次いで53〜58℃(80/90
mmHg)で蒸留する。5ccの回収した生成物と5ccのクロ
ロホルムを周囲温度でかきまぜながら混合し、840mg
のヘキサメチレンテトラミンを少量づつ加え、全体を1
0分間かきまぜ、酢酸3−ブロムプロピルのクロロホル
ム溶液を得、これは直ちに使用する。
参考例12:3−メチルチオメチル−7−[2−(2−
アミノチアゾール−4−イル)−2−ヒドロキシイミノ
アセトアミド]セフ−3−エム−4−カルボン酸1−ア
セチルオキシエチル、syn異性体 例8及び参考例9におけるようにし、5gの3−メチル
チオメチル−7−[2−(2−トリチルアミノチアゾー
ル−4−イル)−2−[(1−メチル−1−メトキシ)
エトキシイミノ]アセトアミド]セフ−3−エム−4−
カルボン酸、syn異性体と1.55ccの酢酸ブロムエ
チルを用いて実施し、0.867gの所期化合物を得
る。
MP150℃(分解)。
UVスペクトル(EtOH,HCl N/10) max:265nm ▲E ▼=347 ε=17800 NMRスペクトル(CDCl)ppm 2.26〜2.35:CH−CH 3.06〜3.12:S−CH及びOAc 5.38:CHS 10.4:チアゾール及び 例9:3−メチルチオメチル−7−[2−(2−トリチ
ルアミノチアゾール−4−イル)−2−[(1−メチル
−1−メトキシ)エトキシイミノ]アセトアミド]セフ
−3−エム−4−カルボン酸2−クロル−2−プロペニ
ル、syn異性体 不活性雰囲気下に5gの3−メチルチオメチル−7−
[2−(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル)−
2−[(1−メチル−1−メトキシ)エトキシイミノ]
アセトアミド]セフ−3−エム−4−カルボン酸、sy
n異性体を16ccのジメチルホルムアミドに溶解し、
0.477gの炭酸カリウムを加える。以下に記載のよ
うに製造した3−ヨード−2−クロル−1−プロペンの
アセトン溶液を加える。30分後にアセトンを40℃以
下の温度で減圧下に蒸留する。ジメチルホルムアミド溶
液を250mのイソプロピルエーテルと混合し、デカ
ンテーションし、その残留物を減圧乾燥し、7.8gの
粗生成物を回収する。
参考例13:3−メチルチオメチル−7−[2−(2−
アミノチアゾール−4−イル)−2−ヒドロキシイミノ
アセトアミド]セフ−3−エム−4−カルボン酸2−ク
ロル−2−プロペニル、syn異性体 参考例9におけるようにし、7.8gの例9で得た生成
物を用いて実施し、1.18gの所期化合物を回収す
る。MP146℃(分解)。
UVスペクトル(EtOH,HCl N/10) max:265nm ▲E ▼=377 ε=19000 NMRスペクトル(CDCl)ppm 2.03:S−CH 3.63:S−CH 4.83及び5.6:COCH及びCH=5.1〜5.
18:H 上記の例9で用いた3−ヨード−2−クロル−1−プロ
ペンのアセトン溶液は、次のように製造した。
不活性雰囲気下に6.1ccの2,3−ジクロル−1−プ
ロペンと10gのよう化ナトリウムを43mのアセト
ン中で混合する。この混合物を40分間還流させ、周囲
温度に戻し、生じた塩化ナトリウムを分離する。この3
−ヨード−2−クロル−1−プロペンのアセトン溶液は
直ちに用いる。
例10:3−メチルチオメチル−7−[2−(2−トリ
チルアミノチアゾール−4−イル)−2−[(1−メチ
ル−1−メトキシ)エトキシイミノ]アセトアミド]セ
フ−3−エム−4−カルボン酸メチルチオメチル、sy
n異性体 不活性雰囲気下に5gの3−メチルチオメチル−7−
[2−(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル)−
2−[(1−メチル−1−メトキシ)エトキシイミノ]
アセトアミド]セフ−3−エム−4−カルボン酸、sy
n異性体を16ccのジメチルホルムアミドに溶解し、4
80mgの炭酸カリウムを加える。3.4ccのクロルメチ
ルメチルスルフィドを滴下し、全体を25分間かきまぜ
る。この混合物を200ccの塩化ナトリウム飽和水溶液
に注加し、生じた沈殿を分離し、これをクロロホルムに
溶解し、塩化ナトリウム飽和溶液で洗い、乾燥し、40
℃以下の温度で減圧下に濃縮乾固する。その残留物を石
油エーテル(BP=60〜80℃)で溶解し、所期生成
物を固まらせる。5.2gの化合物を得、そのまま次の
工程で用いる。
参考例14:3−メチルチオメチル−7−[2−(2−
アミノチアゾール−4−イル)−2−ヒドロキシイミノ
アセトアミド]セフ−3−エム−4−カルボン酸メチル
チオメチル、syn異性体 5.05gの例10で得た化合物を50ccのメタノール
に溶解し、全体を周囲温度で3日間放置する。これを4
0℃以下の温度で減圧下に濃縮し、その残留物を15cc
のイソプロピルエーテルで溶解し、周囲温度で20分間
かきまぜる。生じた沈殿を分離し、イソプロピルエーテ
ルで洗い、4.5gの生成物を得、シリカでクロマトグ
ラフィー(溶離液は塩化メチレン/メタノール92:
8)することにより精製する。これを濃縮乾固し、その
残留物をクロロホルムで溶解し、イソプロピルエーテル
を加えて沈殿させ、分離し、乾燥し、0.969gの所
期化合物を得る。
MP=140℃(分解)。
UVスペクトル(EtOH,HCl N/10) max:265nm ▲E ▼=379 ε=18600 NMRスペクトル(CDCl)ppm 2.08:S−CH(3位) 2.3:S−CH(4位) 5.51:CO−CH−S 例11:3−メチルチオメチル−7−[2−(2−トリ
チルアミノチアゾール−4−イル)−2−[(1−メチ
ル−1−メトキシ)エトキシイミノ]アセトアミド]セ
フ−3−エム−4−カルボン酸1−[(2,2−ジメチ
ル−1−オキソプロピル)オキシ]エチル、syn異性
体 不活性雰囲気下に3.72gの3−メチルチオメチル−
7−[2−(2−トリチルアミノチアゾール−4−イ
ル)−2−[(1−メチルメトキシ)エトキシイミノ]
アセトアミド]セフ−3−エム−4−カルボン酸、sy
n異性体を7.5ccのテトラメチル尿素にゆっくりと導
入する。0.375gの炭酸カリウム、次いで下記のよ
うに製造したt−ブチルカルボン酸1−ヨードエチルを
加え、再び1時間10分で1.125gの炭酸カリウム
を加える。全体を10分間かきまぜ、次いで反応混合物
を500ccの水、250gの氷及び25ccのN/10塩
酸からなる混合物に注加する。全体を15分間かきま
ぜ、酢酸エチルで抽出する。有機相を水洗し、次いで塩
化ナトリウム飽和水溶液で洗い、乾燥し、30℃以下の
温度で濃縮乾固する。8.69gの粗生成物を得、石油
エーテル(60〜80℃)で溶解し、固まらせる。5.
42gの所期化合物を回収する。
参考例15:3−メチルチオメチル−7−[2−(2−
アミノチアゾール−4−イル)−2−ヒドロキシイミノ
アセトアミド]セフ−3−エム−4−カルボン酸1−
[(2,2−ジメチル−1−オキソプロピル)オキシ]
エチル、syn異性体 例11で得た化合物を55ccの88%ぎ酸に溶解し、1
時間30分間かきまぜ、濾過し、濾液に650ccの氷冷
水を加え、全体をクロロホルムで抽出する。有機相を水
洗し、次いで塩化ナトリウム飽和水溶液で洗い、乾燥
し、35℃以下の温度で減圧下に濃縮乾固する。3.0
4gの生成物を回収し、シリカでクロマトグラフィーす
る(溶離液は塩化メチレン/メタノール98:2)。こ
れを濃縮乾固し、残留物をクロロホルムで溶解し、イソ
プロピルエーテルを加えて沈殿させ、乾燥し、0.73
3gの所期化合物を得る。MP140℃。
UVスペクトル(EtOH,HCl N/10) infl:219nm ▲E ▼=265 max:265nm ▲E ▼=337 ε=18800 NMRスペクトル(CDCl)ppm 上記この例11で用いたt−ブチルカルボン酸1−ヨー
ドエチルは、次のように製造した。
工程a:ピバリン酸2−クロルエチル 61.4ccの塩化ピバロイルと250mgの塩化亜鉛を混
合し、5分間かきまぜ、+15℃に冷却し、1時間で4
0ccのアセトアルデヒドを加える。周囲温度で15時間
後に、全体を減圧蒸留し、29.01g(56〜58℃
/27mmHgで留出する)の生成物を回収する。
工程b:t−ブチルカルボン酸1−ヨードエチル 7.45gのよう化ナトリウムを20ccのテトラメチル
尿素にゆっくりと導入し、全体を10分間かきまぜ、5
ccのピバリン酸2−クロルエチルを加える。全体を18
0℃で30分間かきまぜ、この試剤を直ちに用いる。
参考例16:3−メチルチオメチル−7−[2−(2−
アミノチアゾール−4−イル)−2−ヒドロキシイミノ
アセトアミド]セフ−3−エム−4−カルボン酸1−
(オキソヘキサデカノキシ)メチル、syn異性体 例8及び参考例9におけるようにし、5gの3−メチル
チオメチル−7−[2−(2−トリチルアミノチアゾー
ル−4−イル)−2−[(1−メチル−1−メトキシ)
エトキシイミノ]アセトアミド]セフ−3−エム−4−
カルボン酸、syn異性体と20ccの以下のように製造
したパルミチン酸ヨードメチルのアセトン溶液を用いて
実施する。石油エーテル(60〜80℃)から再結晶し
た後、2.02gの化合物を得る。MP=125℃。
UVスペクトル(EtOH,HCl N/10) max:264nm ▲E ▼=268 ε=18700 NMRスペクトル(CDCl) 0.89:エステルのCH 2.37:エステルのCH 2.04:S−CH この参考例で用いたパルミチン酸ヨードメチルは、次の
ように製造した。
工程a:パルミチン酸クロルメチル 33ccの塩化パルミトイル、3gのパラホルムアルデヒ
ド及び50mgの塩化亜鉛を不活性雰囲気下に80℃に2
0分間加熱する。これを周囲温度に戻し、沈殿を分離
し、10ccのクロロホルムに溶解し、100ccのエタノ
ールを加え、分離し、5gの結晶生成物を得る。
工程b:パルミチン酸ヨードメチル 4.116gの工程aで得た生成物及び2.025gの
よう化ナトリウムと20ccのアセトンの混合を不活性雰
囲気下に20分間還流させる。これを周囲温度に戻し、
不溶物を濾過し、アセトン溶液を回収し、直ちに用い
る。
例12:3−メチルチオメチル−7−[2−(2−トリ
チルアミノチアゾール−4−イル)−2−[(1−メチ
ル−1−メトキシ)エトキシイミノ]アセトアミド]セ
フ−3−エム−4−カルボン酸(2,2−ジメチル−1
−オキソプロポキシ)メチル、syn異性体 例8におけるようにし、5gの3−メチルチオメチル−
7−[2−(2−トリチルアミノチアゾール−4−イ
ル)−2−[(1−メチル−1−メトキシ)エトキシイ
ミノ]アセトアミド]セフ−3−エム−4−カルボン
酸、syn異性体及びピバリン酸クロルメチルとよう化
ナトリウムから製造したピバリン酸ヨードメチルのアセ
トン溶液を用いて実施する。イソプロピルエーテルで固
まらせた後、4.1gの所期化合物を得、これは合成を
続けるために用いる。
参考例17:3−メチルチオメチル−7−[2−(2−
アミノチアゾール−4−イル)−2−ヒドロキシイミノ
アセトアミド]セフ−3−エム−4−カルボン酸(2,
2−ジメチル−1−オキソプロポキシ)メチル、syn
異性体 例12で得た化合物を使用し、そして参考例9における
ように実施し、1.98gの所期化合物を得る。MP=
140℃。
UVスペクトル(EtOH,HCl N/10) max:264nm ▲E ▼=325 ε=17700 NMRスペクトル(CDCl)ppm 2.02:CH−S 3.61:CH−S 6.93:チアゾールのH 1.24:t.Bu 例13:3−メチルチオメチル−7−[2−(2−トリ
チルアミノチアゾール−4−イル)−2−[(1−メチ
ル−1−メトキシ)エトキシイミノ]アセトアミド]セ
フ−3−エム−4−カルボン酸1−オキソペントキシメ
チル、syn異性体 例8におけるようにし、3.72gの3−メチルチオメ
チル−7−[2−(2−トリチルアミノチアゾール−4
−イル)2−[(1−メチル−1−メトキシ)エトキシ
イミノ]アセトアミド]セフ−3−エム−4−カルボン
酸、syn異性体と下記のように製造したn−吉草酸ヨ
ードメチル溶液を用いて実施する。反応混合物をクロロ
ホルムで抽出する。有機相を塩化ナトリウム飽和水溶液
で洗い、濃縮乾固する。これを石油エーテル(BP=6
0〜80℃)で溶解し、濃縮乾固し、石油エーテルで溶
解し、固まらせ、4.8gの所期化合物を回収する。
参考例18:3−メチルチオメチル−7−[2−(2−
アミノチアゾール−4−イル)−2−ヒドロキシイミノ
アセトアミド]セフ−3−エム−4−カルボン酸1−オ
キソペントキシメチル、syn異性体 参考例9におけるようにし、4.7gの例13で得た生
成物と28.2ccの90%ぎ酸水溶液を用いて実施す
る。クロロホルムで抽出し、イソプロピルエーテルから
結晶化した後、0.6gの所期化合物を得る。MP1
58℃(分解)。
UVスペクトル(EtOH,HCl N/10) max:265nm ▲E ▼=360 ε=19600 NMRスペクトル(CDCl)ppm 上記の例13で用いたn−吉草酸ヨードメチルは、次の
ように製造した。
12gのパラホルムアルデヒドと48.2g、n−吉草
酸クロリドとの混合物に0.3gの塩化亜鉛を加えて、
90℃で4時間かきまぜる。これを27.1〜73℃で
減圧下(20mmHg)に蒸留する。2.94ccの生成物を
回収し、2.25gのよう化ナトリウムを15ccのアセ
トンに溶解してなる溶液を導入し、全体を20分間還流
し、周囲温度に戻し、不溶物を分離し、n−吉草酸ヨー
ドメチルのアセトン溶液を回収し、直ちに用いる。
例14:3−メチルチオメチル−7−[2−(2−アミ
ノチアゾール−4−イル)−2−ヒドロキシイミノアセ
トアミド]セフ−3−エム−4−カルボン酸1−オキソ
ブトキシメチル、syn異性体 例11におけるようにし、3.72gの3−メチルチオ
メチル−7−[2−(2−トリチルアミノチアゾール−
4−イル)−2−(1−メチル−1−メトキシ)エトキ
シイミノ]アセトアミド]セフ−3−エム−4−カルボ
ン酸、syn異性体と下記のように製造したn−酪酸ヨ
ードメチルの溶液を用いて実施する。4.52gの所期
化合物を得た。
参考例19:3−メチルチオメチル−7−[2−(2−
アミノチアゾール−4−イル)−2−ヒドロキシイミノ
アセトアミド]セフ−3−エム−4−カルボン酸1−オ
キソブトキシメチル、syn異性体 例14で得た化合物を45ccの90%ぎ酸と混合する。
参考例15におけるように合成を続け、0.627gの
所期生成物を回収する。MP=160℃(分解)。
UVスペクトル(EtOH,HCl N/10) infl:261nm ▲E ▼=290 ε=15300 max:264nm ▲E ▼=355 ε=18800 NMRスペクトル(ppm) 0.86〜1.02:プロピルのCH 2.27〜2.43:CO−CH 5.88: 6.94:チアゾールのH 例14で使用したn−酪酸ヨードメチルは次のように製
造した。12gのパラホルムアルデヒドと42.6gの
塩化n−ブチリルを混合し、1gの塩化亜鉛を加え、全
体を周囲温度で3時間、次いで90℃で4時間かきまぜ
る。これを蒸留し(180〜190mmHg圧で)、沸点が
104〜107℃の間である画分を回収する。2.8cc
の回収生成物を6ccのテトラメチル尿素と3.4gのよ
う化ナトリウムとの混合物に導入し、全体を2時間かき
まぜ、分離し、濾液を直ちに用いる。
参考例20:3−メチルチオメチル−7−[2−(2−
アミノチアゾール−4−イル)−2−ヒドロキシイミノ
アセトアミド]セフ−3−エム−4−カルボン酸アセチ
ルオキシメチル、syn異性体 例8及び参考例9におけるようにし、5gの3−メチル
チオメチル−7−[2−(2−トリチルアミノチアゾー
ル−4−イル)−2−[(1−メチル−1−メトキシ)
エトキシイミノ]アセトアミド]セフ−3−エム−4−
カルボン酸、syn異性体と、即座に調製した1.92
gの酢酸クロルメチル及び2.67gのよう化ナトリウ
ムから製造した20ccの酢酸ヨードメチルのアセトン溶
液とを用いて実施する。クロマトグラフィーにより精製
する前に、残留ぎ酸はニトロメタンで連行することによ
って除去する。1.677gの純所期化合物を得る。M
P120℃(分解)。
UVスペクトル(EtOH,HCl N/10) max:263nm ▲E ▼=354 ε=17800 NMRスペクトル(DMSO)ppm 2:CHS 2.04:OAc 5.86:COOCHO 6.72:チアゾールのH 例15:3−(メチルチオ)メチル−7−[2−(2−
トリチルアミノチアゾール−4−イル)−2−[(1−
メチル−1−メトキシ)エトキシイミノ]アセトアミ
ド]セフ−3−エム−4−カルボン酸3,3−ジメチル
−2−オキソブチル、syn異性体 例11におけるようにし、そして5gの3−メチルチオ
メチル−7−[2−(2−トリチルアミノチアゾール−
4−イル)−2−[(1−メチル−1−メトキシ)エト
キシイミノ]アセトアミド]セフ−3−エム−4−カル
ボン酸、syn異性体、0.47gの炭酸カリウム、2
7ccのテトラメチル尿素及び0.95ccのブロムピナコ
ロンを用いて実施する。7.5gの所期化合物を得、そ
のまま次の製造に用いる。
参考例21:3−メチルチオメチル−7−[2−(2−
アミノチアゾール−4−イル)−2−ヒドロキシイミノ
アセトアミド]セフ−3−エム−4−カルボン酸3,3
−ジメチル−2−オキソブチル、syn異性体 参考例15におけるようにし、例15で得た化合物と5
3ccの90%ぎ酸を用いて実施する。クロマトグラフィ
ーにより精製する前に、残留ぎ酸をニトロメタンで同伴
させて除去する。1.392gの所期生成物を得る。M
P160℃(分解)。
UVスペクトル(EtOH,HCl N/10) max:264nm ▲E ▼=388 ε=20500 NMRスペクトル(CDCl)ppm 1.23:t.Bu 4.82〜5.1及び5.13〜5.41:COO-CH2CO 参考例22:3−メチルチオメチル−7−[2−(2−
アミノチアゾール−4−イル)−2−ヒドロキシイミノ
アセトアミド]セフ−3−エム−4−カルボン酸1−
(1−オキソプロピルオキシ)エチル、syn異性体 例8及び参考例9におけるようにし、10gの3−メチ
ルチオメチル−7−[2−(2−トリチルアミノチアゾ
ール−4−イル)−2−[(1−メチル−1−メトキ
シ)エトキシイミノ]アセトアミド]セフ−3−エム−
4−カルボン酸、syn異性体と5.4ccの即座に調製
したプロピオン酸ブロムエチルを用いて実施する。ぎ酸
で処理した後、残留ぎ酸をニトロメタンにより同伴除去
する。1.5gの所期化合物を得、これを再びシリカで
クロマトグラフィー(溶離液は塩化メチレン/メタノー
ル92.5:7.5)することにより精製する。0.5
66gの純生成物を回収する。MP130℃。
UVスペクトル(EtOH,HCl N/10) max:264nm ▲E ▼=364 ε=19300 NMRスペクトル(CDCl)ppm このプロピオン酸ブロムエチルは、次のように製造し
た。
9ccの臭化プロピオニルと50mgの塩化亜鉛を減圧下に
混合し、その溶液を−15℃に冷却し、5.4ccのアセ
トアルデヒドを滴下し、次いで全体を周囲温度に戻す。
参考例23:3−メチルチオメチル−7−[2−(2−
アミノチアゾール−4−イル)−2−ヒドロキシイミノ
アセトアミド]セフ−3−エム−4−カルボン酸1−
[1−(オキソブチル)オキシ]エチル、syn異性体 例8及び参考例9におけるようにし、5gの3−メチル
チオメチル−7−[2−(2−トリチルアミノチアゾー
ル−4−イル)−2−[(1−メチル−1−メトキシ)
エトキシイミノ)アセトアミド]セフ−3−エム−4−
カルボン酸、syn異性体と下記のように調製した酪酸
ヨードエチルを、ジメチルホルムアミドに代えてジメチ
ルアセトアミド中で、用いて実施する。クロマトグラフ
ィーにより精製する前に、残留ぎ酸をニトロメタンで同
伴することにより除去する。0.530gの純所期化合
物を得る。MP=127℃。
UVスペクトル(EtOH,HCl N/10) max:264nm ▲E ▼=353 ε=19200 NMRスペクトル(CDCl)ppm この参考例で用いた酪酸ヨードエチルは次のように製造
した。
工程a:酪酸クロルエチル 52ccの塩化ブチリルと31ccのアセトアルデヒドを不
活性雰囲気下に16℃で混合し、フラスコに注加し、
0.11gの塩化第二鉄を加え、フラスコを密封する。
周囲温度で18時間放置した後、反応混合物を200cc
の石油エーテル(BP=60〜80℃)に注加し、活性
炭で処理し、濾過し、濾液を30℃以下の温度で減圧蒸
留する。64〜68℃/34mmHgで留出する画分を回収
する。
工程b:酪酸ヨードエチル 4gの酪酸クロルエチルを16ccのジメチルアセトアミ
ドと混合し、4gのよう化ナトリウムを徐々に加える。
全体を15分間かきまぜ、その混合物を直ちに用いる。
参考例24:3−メチルチオメチル−7−[2−(2−
アミノチアゾール−4−イル)−2−ヒドロキシイミノ
アセトアミド]セフ−3−エム−4−カルボン酸1−
[(1−オキソヘキサデシル)オキシ]エチル、syn
異性体 例11及び参考例15におけるようにし、744mgの3
−メチルチオメチル−7−[2−(2−トリチルアミノ
チアゾール−4−イル)−2−[(1−メチル−1−メ
トキシ)エトキシイミノ]アセトアミド]セフ−3−エ
ム−4−カルボン酸、syn異性体、1.5ccのテトラ
メチル尿素、78mgの炭酸カリウム及び即座に調製した
パルミチン酸ヨードエチルのテトラメチル尿素溶液、そ
して再び210mgの炭酸カリウムを用いて実施する。ク
ロロホルムで抽出した後、回収した生成物を45ccの9
8%ぎ酸で溶解する。クロロホルムで抽出し、石油エー
テル(BP=60〜80℃)中で固化させ、0.353
gの所期化合物を得る。MP=108℃。
UVスペクトル(EtOH,HCl N/10) infl:218nm ▲E ▼=215 max:265nm ▲E ▼=266 ε=18900 NMRスペクトル(CDCl)ppm 参考例25:3−メチルチオメチル−7−[2−(2−
アミノチアゾール−4−イル)−2−ヒドロキシイミノ
アセトアミド]セフ−3−エム−4−カルボン酸2−プ
ロペニル、syn異性体 例8及び参考例9におけるようにし、3.72gの3−
メチルチオメチル−7−[2−(2−トリチルアミノチ
アゾール−4−イル)−2−[(1−メチル−1−メト
キシ)エトキシアミノ]アセトアミド]セフ−3−エム
−4−カルボン酸、syn異性体と1.85gのよう化
アリルをジメチルホルムアミドに代えてジメチルアセト
アミド中で、用いて実施する。1.128gの純化合物
を得る。MP137℃(分解)。
UVスペクトル(EtOH,HCl N/10) max:262nm ▲E ▼=393 ε=18500 NMRスペクトル(CDCl)ppm 2.08:CHS 4.73〜4.83:COO−CH 5.08〜6.5:CH=CH2及びβ−ラクタムのH 7.08:チアゾールのH 例16:3−メチルチオメチル−7−[2−(2−トリ
チルアミノチアゾール−4−イル)−2−[(1−メチ
ル−1−メトキシ)エトキシアミノ]アセトアミド]セ
フ−3−エム−4−カルボン酸2,2−ジメチルエチ
ル、syn異性体 1.49gの3−メチルチオメチル−7−[2−(2−
トリチルアミノチアゾール−4−イル)−2−[(1−
メチル−1−メトキシ)エトキシイミノ]アセトアミ
ド]セフ−3−エム−4−カルボン酸を30ccの酢酸エ
チルに溶解してなる溶液と0.8gのO−(t−ブチ
ル)−N,N−ジイソプロピル尿素を還流させる。これ
を冷却し、分離し、濾液を減圧下に濃縮乾固する。
参考例26:3−メチルチオメチル−7−[2−(2−
アミノチアゾール−4−イル)−2−ヒドロキシイミノ
アセトアミド]セフ−3−エム−4−カルボン酸2,2
−ジメチルエチル、syn異性体 例16の残留物を7.5ccの67%ぎ酸で溶解し、45
℃で15時間かきまぜ、3ccの水を加え、分離して不溶
物を除去する。濾液から35℃で減圧下に溶媒を追出
し、その残留物をエタノール水溶液(1:1)で溶解
し、水洗し、乾燥し、1.237gの粗生成物を得、シ
リカでクロマトグラフィー(溶離液は塩化メチレン/メ
タノール9:1)して精製する。0.47gの純化合物
を得る。MP=107℃(分解)。
UVスペクトル(EtOH) max:223nm ε=18100 max:260nm ε=13500(EtOH,HCl N/1
0) infl:220nm max:264nm ε=18600 NMRスペクトル(CDCl)ppm 例17:3−メチルチオメチル−7−[2−(2−トリ
チルアミノチアゾール−4−イル)−2−[(1−メチ
ル−1−メトキシ)エトキシイミノ]アセトアミド]セ
フ−3−エム−4−カルボン酸2−メトキシ−2−オキ
ソエチル、syn異性体 例8におけるようにし、3.44gの3−メチルチオメ
チル−7−[2−(2−トリチルアミノチアゾール−4
−イル)−2−[(1−メチル−1−メトキシ)エトキ
シイミノ]アセトアミド]セフ−3−エム−4−カルボ
ン酸、syn異性体と10ccの下記のように製造した酢
酸ヨードメチルのアセトン溶液を用いて実施する。2.
8gの所期化合物を得た。
参考例27:3−メチルチオメチル−7−[2−(2−
アミノチアゾール−4−イル)−2−ヒドロキシイミノ
アセトアミド]セフ−3−エム−4−カルボン酸2−メ
トキシ−2−オキソエチル、syn異性体 参考例9におけるようにし、2.8gの例17で得た化
合物を5.6ccの純ぎ酸と16.8ccの50%ぎ酸とと
もに60℃で10分間処理し、沈殿を除去し、濾液につ
いてニトロメタンによる同伴を行ない、全体を濃縮乾固
する。その残留物をクロロホルムで溶解し、イソプロピ
ルエーテルで沈殿させ、乾燥し1.65gの粗生成物を
回収する。残留物を90ccの酢酸エチルと90ccの0.
1N塩酸で溶解し、全体を酢酸エチルで抽出し、一緒に
した有機相を濃縮乾固し、その残留物をクロロホルムで
溶解し、イソプロピルエーテルを加えて沈殿する。これ
を再びシリカでクロマトグラフィー(溶離液は塩化メチ
レン/メタノール92.5:7.5)して精製し、0.
4gの純所期化合物を得る。MP=156℃(分解)。
UVスペクトル(EtOH,HCl N/10) max:264nm ▲E ▼=383 ε=19200 NMRスペクトル(CDCl)ppm 酢酸ヨードメチルは次のように製造した。
1.6ccのモノクロル酢酸メチルと2.72gのよう化
ナトリウムを20ccのアセトン中で不活性雰囲気下に混
合し、20分間加熱還流し、次いで分離し、濾液を回収
し、直ちに用いる。
例18:3−メトキシメチル−7−[2−(2−トリチ
ルアミノチアゾール−4−イル)−2−[(1−メチル
−1−メトキシエトキシ)イミノ]アセトアミド]セフ
−3−エム−4−カルボン酸1−(アセチルオキシエチ
ル)、syn異性体 10.92gの3−メトキシメチル−7−[2−(2−
トリチルアミノチアゾール−4−イル)−2−[(1−
メチル−1−メトキシエトキシ)イミノ]アセトアミ
ド]セフ−3−エム−4−カルボン酸、syn異性体、
55ccのジメチルホルムアミド及び1.28gの炭酸カ
リウムの混合物を20℃で15分間かきまぜる。この溶
液を+5℃にかきまぜ、3.4ccの酢酸1−ブロムエチ
ルを加え、全体を20分間かきまぜ、0.1gの炭酸カ
リウムと0.3ccの酢酸1−ブロムエチルを加え、全体
を25分間かきまぜ、550ccの水、150ccの酢酸エ
チルと25ccの重炭酸ナトリウム水溶液(1M)を加
え、全体をデカンテーションし、酢酸エチルで抽出し、
乾燥し、30℃以下の温度で減圧下に濃縮乾固し、1
4.3gの所期化合物を回収する。
参考例28:3−メトキシメチル−7−[2−(2−ア
ミノチアゾール−4−イル)−2−ヒドロキシイミノア
セトアミド]セフ−3−エム−4−カルボン酸1−(ア
セチルオキシ)エチル、syn異性体 14.3gの例18の生成物を61ccの66%ぎ酸に溶
解し、全体を50℃で10分間かきまぜ、24ccの水を
加え、沈殿は除去し、濾液を減圧下に濃縮し、50ccの
塩化メチレン、350ccの水及び10ccの重炭酸ナトリ
ウム水溶液で溶解し、デカンテーションし、塩化メチレ
ンで抽出し、水洗し、乾燥し、減圧下に蒸留乾固し、酢
酸エチルで溶解し、分離し、4.87gの所期化合物を
乾燥する。
UVスペクトル(EtOH) max:223nm ▲E ▼=387 ε=19300 max:259nm ▲E ▼=285 ε=14200 UVスペクトル(EtOH,HCl N/10) infl:219nm ▲E ▼=286 max:261〜262nm ▲E ▼=390 ε=19500 NMRスペクトル(DMSO)ppm 参考例29:3−(エトキシ)メチル−7−[2−(2
−アミノチアゾール−4−イル)−2−ヒドロキシイミ
ノアセトアミド]セフ−3−エム−4−カルボン酸1
[(1−オキソエチルオキシ]エチル、syn異性体 例18及び参考例28におけるように実施し、6gの3
−(エトキシ)メチル−7−[2−(2−トリチルアミ
ノチアゾール−4−イル)−2−[(1−メチル−1−
メトキシ)エトキシイミノ]アセトアミド]セフ−3−
エム−4−カルボン酸(例5で製造)及び2.1ccの酢
酸1−ブロムエチルを用いて実施する。1.76gの所
期化合物を得る。
UVスペクトル(EtOH) infl:220nm ▲E ▼=268 max:264nm ▲E ▼=369 ε=18900(EtOH,
HCl N/10) infl:219nm ▲E ▼=286 max:261nm ▲E ▼=390 ε=19500 NMRスペクトル(DMSO)ppm 参考例30:3−メチルチオメチル−7−[2−(2−
アミノチアゾール−4−イル)−2−ヒドロキシイミノ
アセトアミド]セフ−3−エム−4−カルボン酸1−
[(メトキシカルボニル)オキシ]エチル、syn異性
体 例8及び参考例9におけるようにし、3.72gの3−
メチルチオメチル−7−[2−(2−トリチルアミノ)
チアゾール−4−イル−2−[1−メチル−1−メトキ
シエトキシ)イミノ]アセトアミド]セフ−3−エム−
4−カルボン酸、syn異性体と3.2gの下記のよう
に製造したメチルヨードエチルカーボネートを用いて実
施し、1.12gの純所期化合物を得る。
UVスペクトル(EtOH,HCl N/10) max:265nm ▲E ▼=365 ε=19400 NMRスペクトル(CDCl)ppm この参考例で用いたメチルヨードエチルカーボネート
は、次のように製造した。
a)クロルぎ酸1−クロルエチル 200ccのクロルぎ酸エチルに塩素を8時間吹き込み、
容器を密封し、5日間放置する。反応混合物を減圧(5
0mmHg)下に濃縮し、42〜46℃で留出する画分を回
収する。
b)メチルクロルエチルカーボネート 5ccのクロルぎ酸エチルと16ccのメタノールを不活性
雰囲気下に混合し、周囲温度で1時間かきまぜる。
c)メチルヨードエチルカーボネート 上記混合物を38ccのアセトンで溶解し、10.9gの
よう化ナトリウムを加え、全体を5時間還流させ、次い
で周囲温度に戻す。これを40℃以下の温度で減圧蒸留
し、残留物を100ccのエーテルと75ccの水で溶解す
る。全体をデカンテーションし、水性相をエーテルで抽
出し、有機相を水洗し、次いでメタ重亜硫酸ナトリウム
水溶液(0.25M)で洗い、水洗し、最後に塩化ナト
リウム飽和水溶液で洗う。これを乾燥し、最高40℃の
温度で減圧下に濃縮乾固し、この混合物は直ちに用い
る。
参考例31:3−メチルチオメチル−7−[2−(2−
アミノチアゾール−4−イル)−2−ヒドロキシイミノ
アセトアミド]セフ−3−エム−4−カルボン酸1
[(エトキシカルボニル)オキシ]エチル、syn異性
体 例8及び参考例9におけるようにし、3−メチルチオメ
チル−7−[2−(2−トリチルアミノ)チアゾール−
4−イル−2−[(1−メチル−1−メトキシ)エトキ
シイミノ]アセトアミド]セフ−3−エム−4−カルボ
ン酸、syn異性体とエチルヨードエチルカーボネート
を用いて実施する。
エチルヨードエチルカーボネートは、メチルヨードエチ
ルカーボネートの製造のために参考例30に示した方法
と類似の方法により製造した。
NMRスペクトル(CDCl)ppm 参考例32:3−メチルチオメチル−7−[2−(2−
アミノチアゾール−4−イル)−2−ヒドロキシイミノ
アセトアミド]セフ−3−エム−4−カルボン酸[(メ
トキシカルボニル)オキシ]メチル、syn異性体 例8及び参考例9におけるようにし、5gの3−メチル
チオメチル−7−[2−(2−トリチルアミノチアゾー
ル−4−イル)−2−[(1−メチル−1−メトキシ)
エトキシイミノ]アセトアミド]セフ−3−エム−4−
カルボン酸、syn異性体と7.93gの下記のように
製造した一よう素化カーボネートを用いて実施する。
0.537gの純化合物を得る。
UVスペクトル(EtOH,HCl N/10) max:265nm ▲E ▼=371 ε=19200 NMRスペクトル(CDCl)ppm 2.03:S−CH 3.85:COCH 6.96:チアゾールのH 5.91:COCH 一よう素化カーボネートは次のように製造した。
a)一塩素化カーボネート 不活性雰囲気下に30ccの炭酸ジメチルを65℃に加熱
し、塩素を5時間吹き込み、次いで全体を56時間放置
する。これを減圧下に濃縮し、59〜60℃(50mmH
g)で留出する7.8ccの生成物を回収する。
b)一よう素化カーボネート 5ccの上で得た生成物、7.8gのよう化ナトリウム及
び30ccのアセトンを30℃で1時間30分加熱する。
全体を濃縮乾固し、その残留物を100ccのエーテルと
100ccの水で溶解し、5分間かきまぜ、デカンテーシ
ョンし、水性相をエーテルで抽出する。有機相をメタ重
亜硫酸ナトリウム水溶液(0.25M)で洗い、次いで
水洗し、最後に塩化ナトリウム飽和水溶液で洗う。これ
を乾燥し、最高40℃の温度で減圧下に蒸留乾固し、
7.93gの試薬を回収し、これは直ちに用いる。
例19:3−メチルチオメチル−7−[2−(2−トリ
チルアミノ−4−チアゾリル)−2−(1−メチル−1
−メトキシエトキシイミノ)アセトアミド]セフ−3−
エム−4−カルボン酸フェニルアセトキシメチル、sy
n異性体 3.72gの3−メチルチオメチル−7−[2−(2−
トリチルアミノ−4−チアゾリル)−2−(1−メチル
−1−メトキシエトキシイミノ)アセトアミド]セフ−
3−エム−4−カルボン酸のsyn異性体、0.43g
の炭酸カリウム及び18mのジメチルホルムアミドの
混合物を室温で15分間放置し、次いで5℃に冷却し、
そして5.6gのフェニル酢酸クロルメチルと4.5g
のよう化ナトリウムとの混合物を20mのアセトン中
で不活性雰囲気下に15分間還流し、これを室温に冷却
することによって即刻作ったフェニル酢酸ヨードメチル
懸濁液をゆっくりと加えた。この混合物を5〜10℃で
30分間かきまぜ、この混合物にさらに0.215gの
炭酸カリウムを加えた。9分間かきまぜた後よう化物の
残部を反応させ、混合物を15分間かきまぜ、室温に戻
した。この混合物を水と酢酸エチルとの混合物にかきま
ぜながら注ぎ、これに塩化ナトリウム水溶液を加えた。
デカンテーションした水性相を酢酸エチルで抽出し、一
緒にした有機相を塩化ナトリウム水溶液で洗い、乾燥
し、減圧下に蒸発乾固した。その残留物をエーテルで溶
解し、混合物を真空濾過して4.6gの3−メチルチオ
メチル−7−[2−(2−トリチルアミノ−4−チアゾ
リル)−2−(1−メチル−1−メトキシエトキシイミ
ノ)アセトアミド]セフ−3−エム−4−カルボン酸フ
ェニルアセトキシメチルのsyn異性体を得、これはそ
のまま次の製造に用いる。
参考例33:3−メチルチオメチル−7−[2−(2−
アミノ−4−チアゾリル)−2−ヒドロキシイミノアセ
トアミド]セフ−3−エム−4−カルボン酸フェニルア
セトキシメチル、syn異性体 例19の化合物を33%の水を含む23mのぎ酸に加
えてなる混合物を50〜55℃に25分間加熱し、減圧
下に蒸発乾固させた。その残留物を200mの水−酢
酸エチル1−1混合物で溶解し、12.5mの1M重
炭酸ナトリウム水溶液を加えた。デカンテーションした
水性相を酢酸エチルで抽出し、一緒にした有機相を乾燥
し、減圧下に蒸発乾固した。残留物をエーテルで溶解
し、この混合物を真空濾過した。生成物の2.14gを
シリカゲルでクロマトグラフィーし、塩化メチレン−メ
タノール93−7混合物で溶離した。生成物をイソプロ
ピルエーテルから結晶化して0.67gの3−メチルチ
オメチル−7−[2−(2−アミノ−4−チアゾリル)
−2−ヒドロキシイミノアセトアミド]セフ−3−エム
−4−カルボン酸フェニルアセトキシメチルのsyn異
性体を得た。
NMRスペクトル(ジューテロクロロホルム) 7.07ppm(チアゾールの5−水素)、2.05ppm
(−SCHの水素)、5.08〜5.17ppm(6−
水素)、5.97ppm(7−水素)のピーク。
例20:3−メチルチオメチル−7−[2−(2−トリ
チルアミノ−4−チアゾリル)−2−(1−メチル−1
−メトキシ)エトキシイミノアセトアミド]セフ−3−
エム−4−カルボン酸1−(2−プロペニルオキシ)カ
ルボニルオキシエチル、syn異性体 200mgの炭酸カリウムを10mのジメチルホルムア
ミドに加えてなる混合物を不活性雰囲気下に室温で1時
間かきまぜ、1.05gの3−メチルチオメチル−7−
[2−(2−トリチルアミノ−4−チアゾリル)−2−
(1−メチル−1−メトキシ)エトキシイミノアセトア
ミド]セフ−3−エム−4−カルボン酸のsyn異性体
を加えた。2.1gの炭酸1−クロルエチルアリルと
1.92gのよう化ナトリウムとの混合物を20mの
アセトン中で30分間加熱することにより即刻作った炭
酸1−ヨードエチルアリルの懸濁液を上記混合物に加
え、次いでこれを室温で30分間かきまぜ、300m
の氷水と3mの1N塩酸を含む100mの酢酸エチ
ルとの混合物中に注いだ。デカンテーションした水性相
を酢酸エチルで抽出し、一緒にした有機相を塩化ナトリ
ウム飽和水溶液、0.5Mチオ硫酸ナトリウム溶液、次
いで塩化ナトリウム水溶液で洗い、乾燥し、減圧下に蒸
発乾固した。その残留物をシリカゲルでクロマトグラフ
ィーし、酢酸エチル−エタノール−水7−2−1混合物
で溶離間した。生成物をイソプロピルエーテルから再結
晶して1.19gの3−メチルチオメチル−7−[2−
(2−トリチルアミノ−4−チアゾリル)−2−(1−
メチル−1−メトキシ)エトキシイミノアセトアミド]
セフ−3−エム−4−カルボン酸1−(2−プロペニル
オキシ)カルボニルオキシエチルのsyn異性体を得
た。MP200〜210℃。
参考例34:3−メチルチオメチル−7−[2−(2−
アミノ−4−チアゾリル)−2−ヒドロキシイミノアセ
トアミド]セフ−3−エム−4−カルボン酸1−(2−
プロペニルオキシ)カルボニルオキシエチル、syn異
性体 920mgの例20の化合物を11mのメタノールに溶
解してなる溶液に1.3mの1N塩酸を加え、その混
合物を室温で18時間かきまぜ、加熱することなく減圧
下に半分まで濃縮した。この混合物を氷水中に注ぎ、次
いで重炭酸ナトリウム水溶液で中和した。この混合物を
酢酸エチルで抽出し、有機相を塩化ナトリウム飽和水溶
液で洗い、乾燥し、減圧下に蒸発乾固した。その残留物
をイソプロピルエーテルで溶解し、その混合物を真空濾
過した。生成物を乾燥して437mgの3−メチルチオメ
チル−7−[2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2
−ヒドロキシイミノアセトアミド]セフ−3−エム−4
−カルボン酸1−(2−プロペニルオキシ)カルボニル
オキシエチルのsyn異性体を得た。MP=120〜1
30℃、 (c=0.5%クロロホルム)。
参考例35〜41 例1及び参考例1に記載の方法を用いて3−メチルチオ
メチル−7−[2−(2−トリチルアミノ−4−チアゾ
リル)−2−(1−メチル−1−メトキシ)エトキシイ
ミノアセトアミド]セフ−3−エム−4−カルボン酸s
yn異性体と適当なハロゲン化物を反応させ、所定の除
去剤を使用して下記の表に示す3−メチルチオメチル−
7−[2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−ヒド
ロキシイミノアセトアミド]セフ−3−エム−4−カル
ボン酸のsyn異性体の対応エステルを得た。
参考例42〜69 例1及び参考例1に記載の方法を用いて、3−メトキシ
メチル−7−[2−(2−トリチルアミノ−4−チアゾ
リル)−2−(1−メチル−1−メトキシ)エトキシイ
ミノアセトアミド]セフ−3−エム−4−カルボン酸の
syn異性体と適当なハロゲン化物を反応させ、所定の
除去剤を使用して下記の表に示す3−メトキシメチル−
7−[2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−ヒド
ロキシイミノアセトアミド]セフ−3−エム−4−カル
ボン酸のsyn異性体の対応エステルを得た。
例21:3−メトキシメチル−7−[2−(2−トリチ
ルアミノ−4−チアゾリル)−2−(1−メトキシ−1
−メチルエトキシイミノ)アセトアミド]セフ−3−エ
ム−4−カルボン酸(ジメトキシホスフィニル)オキシ
メチル、syn異性体 工程A:3−メトキシメチル−7−[2−(2−トリチ
ルアミノ−4−チアゾリル)−2−(1−メトキシ−1
−メチルエトキシイミノ)アセトアミド]セフ−3−エ
ム−4−カルボン酸(ジメトキシホスフィニル)オキシ
メチルのsyn異性体及びその3−エン異性体 7.28gの3−メトキシメチル−7−[2−(2−ト
リチルアミノ−4−チアゾリル)−2−(1−メトキシ
−1−メチルエトキシイミノ)アセトアミド]セフ−3
−エム−4−カルボン酸、2gの炭酸カリウム及び35
mのジメチルホルムアミドの混合物を30分間かきま
ぜ、5.32gのモノクロルりん酸トリメチル(英国特
許第806,238号の方法により製造)を加えた後、
混合物を20℃で3時間かきまぜた。その混合物にさら
に0.4gの炭酸カリウムを加え、これを10分間かき
まぜ、その後さらに1.4gのモノクロルりん酸トリメ
チルを加えた。混合物を20℃で1時間かきまぜ、2.
5mの酢酸を加えた後、混合物を水に注ぐ。混合物を
真空濾過し、生成物を水洗し、200mの塩化メチレ
ンで溶解した。有機相を乾燥し、減圧下に蒸発乾固し
た。残留物をシリカゲルでクロマトグラフィーし、酢酸
エチルで溶離した。均質画分を蒸発乾固し、残留物を5
0mの塩化メチレンに加えた。その混合物に数mgのp
−トリエンスルホン酸と10mのイソプロペニルメチ
ルエーテルを加え、これを20℃で1時間かきまぜ、次
いで30℃以下で減圧下に蒸発乾固して4.9gの3−
メトキシメチル−7−[2−(2−トリチルアミノ−4
−チアゾリル)−2−(1−メトキシ−1−メチルエト
キシイミノ)アセトアミド]セフ−3−エム−4−カル
ボン酸のsyn異性体及びその3−エン異性体を得た。
工程B:3−メトキシメチル−7−[2−(2−トリチ
ルアミノ−4−チアゾリル)−2−(1−メトキシ−1
−メチルエトキシイミノ)アセトアミド]セフ−3−エ
ム−4−カルボン酸(ジメトキシホスフィニル)オキシ
メチルの5α及び5β−スルホキシドのsyn異性体 2gのm−クロル過安息香酸を25mの塩化メチレン
に溶解してなる溶液を、工程Aの生成物を45mの塩
化メチレンに溶解してなる溶液に5℃で15分間にわた
り加え、混合物を5℃で45分間かきまぜ、その後50
mの酢酸エチルを加えた。塩化メチレンを30℃以下
で減圧下に蒸発させ、次いで25mの酢酸エチルを加
えた。その混合物を重炭酸ナトリウムを含む水酸化ナト
リウム水溶液で洗い、次いで水酸化ナトリウム水溶液で
洗浄水が中性となるまで洗い、乾燥し、減圧下に蒸発乾
固させて5.42gの3−メトキシメチル−7−[2−
(2−トリチルアミノ−4−チアゾリル)−2−(1−
メトキシ−1−メチルエトキシイミノ)アセトアミド]
セフ−3−エム−4−カルボン酸(ジメトキシホスフィ
ニル)オキシメチルの5α及び5β−スルホキシドのs
yn異性体を得た。
工程C:3−メトキシメチル−7−[2−(2−トリチ
ルアミノ−4−チアゾリル)−2−(1−メトキシ−1
−メチルエトキシイミノ)アセトアミド]セフ−3−エ
ム−4−カルボン酸(ジメトキシホスフィニル)オキシ
メチルのsyn異性体 工程Bの生成物を27mのジメチルホルムアミドに溶
解してなる溶液に−20〜−25℃で2.7mの三塩
化りんを加え、混合物を10分間かきまぜ、氷冷した重
炭酸ナトリウム溶液に注いだ。混合物を真空濾過し、生
成物を酢酸エチルに溶解した。有機相を40℃以下で減
圧下に蒸発乾固し、残留物を100mの石油エーテル
(BP=60〜80℃)で溶解し、真空濾過して4.1
0gの3−メトキシメチル−7−[2−(2−トリチル
アミノ−4−チアゾリル−2−(1−メトキシ−1−メ
チルエトキシイミノ)アセトアミド]セフ−3−エム−
4−カルボン酸(ジメトキシホスフィニル)オキシメチ
ルのsyn異性体を得た。
参考例70:3−メトキシメチル−7−[2−(2−ア
ミノ−4−チアゾリル)−2−ヒドロキシイミノアセト
アミド]セフ−3−エム−4−カルボン酸(ジメトキシ
ホスフィニル)オキシメチルのsyn異性体 3.8gの例21の化合物と19mの67%ぎ酸水溶
液との混合物を50〜55℃で10分間かきまぜ、次い
で40℃以下で減圧下に蒸発乾固させて水を連行させ
た。その残留物を30mの酢酸エチルと20mの水
で洗い、デカンテーションした水性相を酢酸エチルで抽
出した。一緒にした有機相を重炭酸ナトリウム水溶液で
洗い、水洗し、乾燥し、蒸発乾固させた。残留物を20
mのエーテルで溶解し、混合物を真空濾過し、乾燥し
て0.91gの生成物を得た。この生成物を酢酸エチル
ですり砕き、真空濾過し、乾燥した。生成物をメタノー
ルでペースト状となし、真空濾過し、酢酸エチル、次い
でエーテルで洗い、乾燥して0.35gの3−メトキシ
メチル−7−[2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−
2−ヒドロキシイミノアセトアミド]セフ−3−エム−
4−カルボン酸(ジメトキシホスフィニル)オキシメチ
ルのsyn異性体を得た。
NMRスペクトル(DMSO):Δは観察されず。
6.67ppm(チアゾールの5−水素)、5.5ppm(7
−水素及び−COO−CHO−の水素)、5.16〜
5.23ppm(6−水素)、4.2ppm(CH−OMe
の水素)、3.23ppm(−CH−OCHの水
素)、3.6〜3.8ppm のピーク。
例22:3−メトキシメチル−7−[2−(2−トリチ
ルアミノ−4−チアゾリル)−2−(1−メチル−1−
メトキシエトキシイミノ)アセトアミド]セフ−3−エ
ム−4−カルボン酸2−(1,3−ビスアセチルオキ
シ)プロピル、syn異性体 工程A:3−メトキシメチル−7−[2−(2−トリチ
ルアミノ−4−チアゾリル)−2−(1−メチル−1−
メトキシエトキシイミノ)アセトアミド]セフ−3−エ
ム−4−カルボン酸2−(1,3−ビスアセチルオキ
シ)プロピルのsyn異性体及びその3−エン異性体 3.63gの3−メトキシメチル−7−[2−(2−ト
リチルアミノ−4−チアゾリル)−2−(1−メトキシ
−1−メチルエトキシイミノ)アセトアミド]セフ−3
−エム−4−カルボン酸、1.55gのグリセリン1,
3−ジアセテート、30mgの4−ジメチルアミノピリジ
ン及び36mの塩化メチレンの混合物に5〜10℃で
1.2gのジシクロヘキシルカルボジイミドを加え、温
度を上昇させた。混合物を30分間かきまぜ、濾過し
た。有機濾液を水洗し、乾燥し、減圧下に蒸発乾固して
4.5gの3−メトキシメチル−7−[2−(2−トリ
チルアミノ−4−チアゾリル)−2−[1−メチル−1
−メトキシエトキシイミノ)アセトアミド]セフ−3−
エム−4−カルボン酸2−(1,3−ビスアセチルオキ
シ)プロピルのsyn異性体を得た。
工程B:3−メトキシメチル−7−[2−(2−トリチ
ルアミノ−4−チアゾリル)−2−(1−メチル−1−
メトキシエトキシイミノ)アセトアミド]セフ−3−エ
ム−4−カルボン酸2−(1,3−ビスアセチルオキ
シ)プロピルの5α及び5β−オキシドのsyn異性体 例21の工程Bの方法を用いて、4.5gの工程Aの生
成物を反応させて4.3gの3−メトキシメチル−7−
[2−(2−トリチルアミノ−4−チアゾリル)−2−
(1−メチル−1−メトキシエトキシイミノ)アセトア
ミド]セフ−3−エム−4−カルボン酸2−(1,3−
ビスアセチルオキシ)プロピルの5α及び5β−オキシ
ドのsyn異性体を得た。
工程C:3−メトキシメチル−7−[2−(2−トリチ
ルアミノ−4−チアゾリル)−2−(1−メチル−1−
メトキシエトキシイミノ)アセトアミド]セフ−3−エ
ム−4−カルボン酸2−(1,3−ビスアセトキシ)プ
ロピルのsyn異性体 例21の工程Cの方法を用いて、4.3gの工程Bの化
合物を反応させて4.4gの3−メトキシメチル−7−
[2−(2−トリチルアミノ−4−チアゾリル)−2−
(1−メチル−1−メトキシエトキシイミノ)アセトア
ミド]セフ−3−エム−4−カルボン酸2−(1,3−
ビスアセチルオキシ)プロピルのsyn異性体を得た。
参考例71:3−メトキシメチル−7−[2−(2−ア
ミノ−4−チアゾリル)−2−ヒドロキシイミノ)アセ
トアミド]セフ−3−エム−4−カルボン酸2−(1,
3−ビスアセトキシ)プロピルのsyn異性体 参考例70の方法を用いて(ただし、酢酸エチルを塩化
メチレンで代えた)、上記例22の化合物を反応させて
2.65gの粗生成物を得た。後者をシリカゲルでクロ
マトグラフィーし、酢酸エチルを得た。溶離物を減圧下
に蒸発乾固し、その残留物をイソプロピルエーテルで溶
解した。混合物を真空濾過し、生成物を乾燥して0.9
7gの3−メトキシメチル−7−[2−(2−アミノ−
4−チアゾリル)−2−ヒドロキシイミノアセトアミ
ド]セフ−3−エム−4−カルボン酸2−(1,3−ビ
スアセトキシ)プロピルのsyn異性体を得た。
NMRスペクトル(DMSO) 6.69ppm(チアゾールの5−水素)、5.83ppm
(7−水素)、5.2〜5.25ppm(6−水素)、
4.22ppm(−CH−OCHの水素)、3.21p
pm(−OCHの水素)、2.02ppm のピーク。
例23:3−メトキシメチル−7−[2−(2−トリチ
ルアミノ−4−チアゾリル)−2−(1−メチル−1−
メトキシエトキシイミノ)アセトアミド]セフ−3−エ
ム−4−カルボン酸(1,1−ジメチルカルボニルオキ
シ)エチル、syn異性体 76.8mのアセトンを74.6mの塩化アセチル
に不活性雰囲気下に0℃で滴下し、これに数mgの塩化亜
鉛を加えた。混合物を0℃で2時間かきまぜ、1mの
トリエチルアミンを加えた後、混合物を続けて2回蒸留
して46gの酢酸(1−クロル−1−メチル)エチルを
得た。BP=32℃/15mmHg。
例21の工程A,B及びCの方法を用いて、5.82g
の3−メトキシメチル−7−[2−(2−トリチルアミ
ノ−4−チアゾリル)−2−(1−メチル−1−メトキ
シエトキシイミノ)アセトアミド]セフ−3−エム−4
−カルボン酸のsyn異性体と12gの酢酸(1−クロ
ル−1−メチル)エチルを反応させて3gのΔ及びΔ
異性体の対応エステルの混合物を得、これをスルホキ
シドに変換し、三塩化りんで還元して1.64gの対応
Δエステルを得た。
参考例72:3−メトキシメチル−7−[2−(2−ア
ミノ−4−チアゾリル)−2−ヒドロキシイミノアセト
アミド]セフ−3−エム−4−カルボン酸(1,1−ジ
メチルカルボニルオキシ)エチル、syn異性体 1.60gの例23のエステル、48mのメタノール
及び3mの1N塩酸の混合物を20時間かきまぜ、3
0℃以下で減圧下に濃縮し、氷冷水−塩化メチレン1−
1混合物に注いだ。混合物を重炭酸ナトリウム飽和水溶
液で中和し、デカンテーションした水性相を塩化メチレ
ンで抽出した。一緒にした有機相を重炭酸ナトリウム水
溶液で洗い、水洗し、乾燥し、蒸発乾固した。1.1g
の残留物をジイソプロピルオキシドで精製して0.46
gの3−メトキシメチル−7−[2−(2−アミノ−4
−チアゾリル)−2−ヒドロキシイミノアセトアミド]
セフ−3−エム−4−カルボン酸(1,1−ジメチルカ
ルボニルオキシ)エチルのsyn異性体を得た。
NMRスペクトル(ジューテロクロロホルム) 7.02ppm(チアゾールの5−水素)、5.02〜
5.07ppm(5−水素)、5.89ppm(7−水素)、
4.28ppm(−CH−OCHの水素)、3.32p
pm(−CH−OCHの水素)、2.07ppm(−C
−OCHの水素)、1.87〜1.93ppm のピーク。
例24:3−メチルチオメチル−7−[2−(2−トリ
チルアミノ−4−チアゾリル)−2−(1−メチル−1
−メトキシエトキシイミノ)アセトアミド]セフ−3−
エム−4−カルボン酸2−(2−エトキシエトキシ)エ
チル、syn異性体 例19の方法を用いて、5gの3−メチルチオメチル−
7−[2−(2−トリチルアミノ−4−チアゾリル)−
2−(1−メチル−1−メトキシエトキシイミノ)アセ
トアミド]セフ−3−エム−4−カルボン酸のsyn異
性体、0.49gの炭酸カリウム、15mジメチルホ
ルムアミド及び7.04gのよう化2−(2−エトキシ
エトキシ)エチルを反応させて、3−メチルチオメチル
−7−[2−(2−トリチルアミノ−4−チアゾリル)
−2−(1−メチル−1−メトキシエトキシイミノ)ア
セトアミド]セフ−3−エム−4−カルボン酸2−(2
−エトキシエトキシ)エチルのsyn異性体を得た。
参考例73:3−メチルチオメチル−7−[2−(2−
アミノ−4−チアゾリル)−2−ヒドロキシイミノアセ
トアミド]セフ−3−エム−4−カルボン酸2−(2−
エトキシエトキシ)エチル、syn異性体 例19の工程Bの方法を用いて、例24の化合物を室温
で105分間かきまぜて328mgの3−メチルチオメチ
ル−7−[2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−
ヒドロキシイミノアセトアミド]セフ−3−エム−4−
カルボン酸2−(2−エトキシエトキシ)エチルのsy
n異性体を得た。MP=110℃、Rf=0.29(塩
化メチレン−メタノール9−1混合物)。
参考例で得た化合物の薬理学的研究 インビトロでの活性 液体媒質中での希釈法 同一量の無菌栄養媒質を配分してある一組の試験管を用
意する。各試験管に量を増加させて研究化合物を分配
し、次いで各試験管に菌株を接種する。インキュベータ
ーで37℃において24時間(24H)又は48時間
(48H)インキュベーションした後、増殖の抑止を光
線透過により評価する。これは最小抑止濃度M.I.C.(μ
g/cm3で表わされる)を決定せしめる。
下記の結果が得られた。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】次の一般式 (ここで、 Aは水素原子、等価のアルカリ金属、アルカリ土金属、
    マグネシウム、アンモニウム又は有機アミノ塩基を表わ
    し、或るいは Aは容易に解裂できるエステル基の残基を表わし、 R′aは多くとも6個の炭素原子を有する直鎖若しくは
    分岐鎖状のアルキル基を表わし、 nは0又は1に等しく、 X′はスルホキシドの形で酸化されていてもよい硫黄原
    子又は酸素原子を表わし、 R′は水素原子又はアミノ基の保護基を表わす) の化合物。
  2. 【請求項2】次式(IV′) (ここで、R′a、X′及びnは特許請求の範囲第1項
    記載の意味を有し、R″はアミノ基の保護基を表し、
    A′は水素原子又は容易に解裂できるるエステルの残基
    を表す) の化合物である特許請求の範囲第1項記載の化合物。
JP63051810A 1980-02-18 1988-03-07 3‐アルキルオキシ又は3‐アルキルチオメチル‐7‐アミノチアゾリルアセトアミドセフアロスポラン酸の新規なオキシム誘導体 Expired - Lifetime JPH0639476B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR8003479A FR2476087A1 (fr) 1980-02-18 1980-02-18 Nouvelles oximes derivees de l'acide 3-alkyloxy ou 3-alkyl-thiomethyl 7-amino thiazolyl acetamido cephalosporanique, leur procede de preparation et leur application comme medicaments
FR80-3479 1980-02-18
FR8214575A FR2532313A2 (fr) 1980-02-18 1982-08-25 Nouvelles oximes derivees de l'acide 3-alkyloxy ou 3-alkylthio-methyl 7-aminothiazolyl acetamido cephalosporanique, leur procede de preparation et leur application comme medicaments

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6452784A JPS6452784A (en) 1989-02-28
JPH0639476B2 true JPH0639476B2 (ja) 1994-05-25

Family

ID=26221608

Family Applications (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2160081A Granted JPS56128786A (en) 1980-02-18 1981-02-18 Novel oxime derivatives of 3-alkyloxy or 3-alkylthiomethyl-7-aminothiazolylacetamidocephalosporanic acid, their manufacture, their use as drug, drug containing them and novel intermediate
JP58019848A Expired - Lifetime JPH0794462B2 (ja) 1980-02-18 1983-02-10 3−アルキルオキシ又は3−アルキルチオメチル−7−アミノチアゾリルアセトアミドセファロスポラン酸の新規なオキシム誘導体、それらの製造法及びそれらを含む薬剤
JP63051810A Expired - Lifetime JPH0639476B2 (ja) 1980-02-18 1988-03-07 3‐アルキルオキシ又は3‐アルキルチオメチル‐7‐アミノチアゾリルアセトアミドセフアロスポラン酸の新規なオキシム誘導体

Family Applications Before (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2160081A Granted JPS56128786A (en) 1980-02-18 1981-02-18 Novel oxime derivatives of 3-alkyloxy or 3-alkylthiomethyl-7-aminothiazolylacetamidocephalosporanic acid, their manufacture, their use as drug, drug containing them and novel intermediate
JP58019848A Expired - Lifetime JPH0794462B2 (ja) 1980-02-18 1983-02-10 3−アルキルオキシ又は3−アルキルチオメチル−7−アミノチアゾリルアセトアミドセファロスポラン酸の新規なオキシム誘導体、それらの製造法及びそれらを含む薬剤

Country Status (14)

Country Link
US (1) US4992431A (ja)
EP (1) EP0034536B1 (ja)
JP (3) JPS56128786A (ja)
AT (1) ATE10941T1 (ja)
AU (1) AU542325B2 (ja)
CA (1) CA1181740A (ja)
DE (3) DE3177185D1 (ja)
ES (2) ES499487A0 (ja)
FR (2) FR2476087A1 (ja)
GR (1) GR73815B (ja)
HU (1) HU185628B (ja)
PT (1) PT72512B (ja)
SU (1) SU1194279A3 (ja)
ZA (1) ZA81800B (ja)

Families Citing this family (45)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4409215A (en) * 1979-11-19 1983-10-11 Fujisawa Pharmaceutical Co., Ltd. 7-Acylamino-3-substituted cephalosporanic acid derivatives and processes for the preparation thereof
US5243043A (en) * 1980-02-18 1993-09-07 Roussel Uclaf Cephalosporins
FR2482587A1 (fr) * 1980-05-14 1981-11-20 Poudres & Explosifs Ste Nale Procede de synthese de chloroformiates a-chlores et nouveaux chloroformiates a-chlores
US4486425A (en) * 1980-09-30 1984-12-04 Sankyo Company Limited 7-[2-(2-Aminothiazol-4-yl)-2-(syn)-methoxyiminoacetamido]-3-methoxymethyl-3-cephem-4-carboxylates
JPS5759894A (en) * 1980-09-30 1982-04-10 Sankyo Co Ltd Cephalosporin for oral administration
FR2499995A1 (fr) * 1981-02-13 1982-08-20 Roussel Uclaf Nouvelles oximes derivees de l'acide 3-alkyloxy ou 3-alkylthiomethyl 7-amino thiazolylacetamido cephalosporanique, leur preparation, leur application comme medicaments, les compositions les renfermant et les nouveaux intermediaires obtenus.
JPS5896091A (ja) * 1981-12-01 1983-06-07 Sankyo Co Ltd 3−アルコキシメチルセフアロスポリン類の製造法
JPS5965094A (ja) * 1982-10-06 1984-04-13 Sumitomo Chem Co Ltd セフアロスポリン化合物の製造法
JPS5984889A (ja) * 1982-11-05 1984-05-16 Sumitomo Chem Co Ltd セフアロスポリン誘導体およびその製造方法
US4499088A (en) * 1983-01-04 1985-02-12 Fujisawa Pharmaceutical Co., Ltd. Cephem compounds
JPS58159496A (ja) * 1983-03-02 1983-09-21 Kyoto Yakuhin Kogyo Kk セフエム系化合物
FR2551058B1 (fr) * 1983-08-26 1986-09-26 Poudres & Explosifs Ste Nale Procede de preparation de chloroformiates a-chlores
GB8329030D0 (en) * 1983-10-31 1983-11-30 Fujisawa Pharmaceutical Co Cephem compounds
GB8400024D0 (en) * 1984-01-03 1984-02-08 Glaxo Group Ltd Cephalosporin antibiotics
JPH0631259B2 (ja) * 1984-02-17 1994-04-27 三共株式会社 経口用セフアロスポリン化合物
JPH0613530B2 (ja) * 1984-06-08 1994-02-23 武田薬品工業株式会社 セフエム化合物
JPS6140291A (ja) * 1984-07-31 1986-02-26 Shionogi & Co Ltd ヒドロキシアルキルチオセフアロスポリン
JPS63269027A (ja) * 1987-04-25 1988-11-07 Sukegawa Denki Kogyo Kk シース型測温ケーブルの接続端子
DK637888A (da) * 1987-11-24 1989-05-25 Hoffmann La Roche Carboxylsyreestere
DE3804841A1 (de) * 1988-02-17 1989-08-31 Hoechst Ag Cephalosporinderivate und verfahren zu ihrer herstellung
IT1224252B (it) * 1988-04-08 1990-09-26 Sclavo Spa Metodo di protezione del gruppo carbossilico nella chimica dei composti beta lattamici
NO175152C (no) * 1988-10-07 1994-09-07 Sankyo Co Analogifremgangsmåte for fremstilling av terapeutisk aktive 3-aryloksymetyl-cefalosporinderivater
DE3901405A1 (de) * 1989-01-19 1990-07-26 Hoechst Ag Cephalosporinderivate und verfahren zu ihrer herstellung
DE3910093A1 (de) * 1989-03-29 1990-10-04 Hoechst Ag Cephalosporinderivate und verfahren zu ihrer herstellung
DE3919259A1 (de) * 1989-06-13 1990-12-20 Hoechst Ag Kristalline cephem-saeureadditionssalze und verfahren zu ihrer herstellung
YU48484B (sh) * 1991-05-24 1998-09-18 Hoechst Aktiengesellschaft Kristalne kiselinske adicione soli diastereomerno čistih 1-(2,2-dimetilpropioniloksi)-etilestara 3-cefem-4-karbonske kiseline
DK0531875T3 (da) * 1991-09-07 2004-06-21 Aventis Pharma Gmbh Diastereomer af 3-cephem-4-carboxylsyre-1-(-isopropoxycarbonyloxy)-ethylester og fremgangsmåde til dens fremstilling
TW212181B (ja) * 1992-02-14 1993-09-01 Hoechst Ag
DK0570849T3 (da) * 1992-05-21 1998-09-28 Hoechst Ag Fremgangsmåde til spaltning af cephalosporin-prodrugestere til dannelse af 7-amino-3-methoxymethyl-ceph-3-em-4-carboxylsyre
FR2716110B1 (fr) 1994-02-16 1996-04-05 Roussel Uclaf Compositions cosmétiques ou pharmaceutiques comprenant des liposomes.
EP1178992A2 (en) * 1999-05-07 2002-02-13 Ranbaxy Laboratories, Limited Process for the preparation of cefpodoxime acid
WO2001010866A1 (en) 1999-08-06 2001-02-15 Janssen Pharmaceutica N.V. Interleukin-5 inhibiting 6-azauracil derivatives
US7186855B2 (en) 2001-06-11 2007-03-06 Xenoport, Inc. Prodrugs of GABA analogs, compositions and uses thereof
US8048917B2 (en) 2005-04-06 2011-11-01 Xenoport, Inc. Prodrugs of GABA analogs, compositions and uses thereof
US6818787B2 (en) 2001-06-11 2004-11-16 Xenoport, Inc. Prodrugs of GABA analogs, compositions and uses thereof
AU2002310409C1 (en) * 2001-06-11 2008-04-17 Xenoport, Inc. Orally administered dosage forms of GABA analog prodrugs having reduced toxicity
US7232924B2 (en) 2001-06-11 2007-06-19 Xenoport, Inc. Methods for synthesis of acyloxyalkyl derivatives of GABA analogs
JP2007503447A (ja) * 2003-08-25 2007-02-22 リヴァアックス ファーマスーティカルズ,エルエルシー 神経治療セファゾリン経口投与組成物
EP1621536A1 (en) 2004-07-27 2006-02-01 Aventis Pharma S.A. Amino cyclic urea derivatives, preparation thereof and pharmaceutical use thereof as kinase inhibitors
FR2896504B1 (fr) 2006-01-23 2012-07-13 Aventis Pharma Sa Nouveaux derives d'uree cyclique, leur preparation et leur utilisation pharmaceutique comme inhibiteurs de kinases
JP5013795B2 (ja) * 2006-09-25 2012-08-29 Meiji Seikaファルマ株式会社 経口投与用カルバペネム
FR2907453B1 (fr) 2006-10-24 2008-12-26 Sanofi Aventis Sa Nouveaux derives du fluorene,compositions les contenant et utilisation
AR077405A1 (es) 2009-07-10 2011-08-24 Sanofi Aventis Derivados del indol inhibidores de hsp90, composiciones que los contienen y utilizacion de los mismos para el tratamiento del cancer
FR2949467B1 (fr) 2009-09-03 2011-11-25 Sanofi Aventis Nouveaux derives de 5,6,7,8-tetrahydroindolizine inhibiteurs d'hsp90, compositions les contenant et utilisation
CN102417451B (zh) * 2011-12-20 2013-12-04 浙江国邦药业有限公司 一种合成(r,s)1-溴代乙基乙酸酯的制备方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5686188A (en) * 1979-11-19 1981-07-13 Fujisawa Pharmaceut Co Ltd 7-acylamino-3-substituted cephalosporanic acid derivative and its preparation

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS502518B1 (ja) * 1970-12-24 1975-01-27
GB1399086A (en) * 1971-05-14 1975-06-25 Glaxo Lab Ltd Cephalosporin compounds
DE2715385A1 (de) * 1976-04-14 1977-11-10 Takeda Chemical Industries Ltd Cephalosporinderivate, verfahren zu ihrer herstellung und sie enthaltende arzneimittel
JPS6011713B2 (ja) * 1976-09-08 1985-03-27 武田薬品工業株式会社 セフアロスポリン誘導体およびその製造法
GB1565941A (en) * 1977-02-08 1980-04-23 Toyama Chemical Co Ltd Process for producing 7-(substituted)amino-3-substituted thiomethyl cephem carboxylic acids
JPS53103493A (en) * 1977-02-18 1978-09-08 Takeda Chem Ind Ltd Cephalosporin derivatives and process for their preparation
PH17188A (en) * 1977-03-14 1984-06-14 Fujisawa Pharmaceutical Co New cephem and cepham compounds and their pharmaceutical compositions and method of use
DE2716677C2 (de) * 1977-04-15 1985-10-10 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Cephemderivate und Verfahren zu ihrer Herstellung
DE2714880A1 (de) * 1977-04-02 1978-10-26 Hoechst Ag Cephemderivate und verfahren zu ihrer herstellung
FR2410655A1 (fr) * 1977-12-05 1979-06-29 Roussel Uclaf Nouvelles oximes derivees de l'acide 3-substitue 7-amino thiazolyl acetamido cephalosporanique, leur procede de preparation et leur application comme medicaments
US4409215A (en) * 1979-11-19 1983-10-11 Fujisawa Pharmaceutical Co., Ltd. 7-Acylamino-3-substituted cephalosporanic acid derivatives and processes for the preparation thereof
JPS5759894A (en) * 1980-09-30 1982-04-10 Sankyo Co Ltd Cephalosporin for oral administration

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5686188A (en) * 1979-11-19 1981-07-13 Fujisawa Pharmaceut Co Ltd 7-acylamino-3-substituted cephalosporanic acid derivative and its preparation

Also Published As

Publication number Publication date
GR73815B (ja) 1984-04-18
PT72512B (fr) 1982-10-21
AU542325B2 (en) 1985-02-21
JPH0143757B2 (ja) 1989-09-22
US4992431A (en) 1991-02-12
ZA81800B (en) 1982-02-24
JPS56128786A (en) 1981-10-08
DE3177186D1 (de) 1990-06-28
FR2476087B1 (ja) 1983-07-18
DE3177185D1 (de) 1990-06-28
FR2476087A1 (fr) 1981-08-21
SU1194279A3 (ru) 1985-11-23
HU185628B (en) 1985-03-28
JPS58170789A (ja) 1983-10-07
AU6738181A (en) 1981-08-27
ATE10941T1 (de) 1985-01-15
ES509128A0 (es) 1983-01-01
FR2532313B2 (ja) 1985-03-22
JPS6452784A (en) 1989-02-28
ES8206520A1 (es) 1982-08-16
DE3167891D1 (en) 1985-02-07
EP0034536B1 (fr) 1984-12-27
ES8302003A1 (es) 1983-01-01
ES499487A0 (es) 1982-08-16
EP0034536A3 (en) 1981-11-04
FR2532313A2 (fr) 1984-03-02
JPH0794462B2 (ja) 1995-10-11
CA1181740A (fr) 1985-01-29
PT72512A (fr) 1981-03-01
EP0034536A2 (fr) 1981-08-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0639476B2 (ja) 3‐アルキルオキシ又は3‐アルキルチオメチル‐7‐アミノチアゾリルアセトアミドセフアロスポラン酸の新規なオキシム誘導体
KR870000848B1 (ko) 세팔로스포린 유도체의 제조방법
FR2474034A2 (fr) Nouvelles oximes 0-substituees derivees de l'acide 7-aminothiazolyl acetamido cephalosporanique, leur procede de preparation et leur application comme medicaments
EP0462009A1 (fr) Céphalosporines comportant en position 3 un radical propényle substitué par un ammonium quaternaire, leur procédé de préparation, leur application comme médicaments, les compositions les renfermant et les intermédiaires obtenus
US4245088A (en) Novel 3-acyloxymethyl-cephem compounds useful as intermediates for preparing cephalosporin antibiotics
JPH05132488A (ja) 新規セフアロスポリン誘導体
LU86488A1 (fr) Acides propenylaminothiazolylcephalosporaniques 3-substitues et leurs esters
EP0153229B1 (fr) Nouveaux dérivés de l'acide 1-déthia 2-thia céphalosporanique, leur procédé et leurs intermédiaires de préparation, leur application comme médicaments et les compositions les renfermant
US4287193A (en) Syn isomers of 7-[2-(2-amino-4-thiazolyl)-2-(carboxymethyloxyimino)-acetamido]-ceph-3-eme-4-carboxylic acid compounds
HU184805B (en) Process for preparing new substituted alkyl-oximes derived from 7-/2-amino-4-thazolyl/-acetamido-cephalosporanic acid
US5621095A (en) Cephalosporins
US4282220A (en) Cephem derivatives
CA1072949A (en) Cephem compounds
US5243043A (en) Cephalosporins
FR2475046A1 (fr) Nouveaux derives (2-imino-4-thiazolyl)-substitues d'oximinocephalosporines, utiles notamment comme agents antibacteriens, et leur procede de preparation
EP0104671B1 (fr) Nouvelles oximes dérivées de l'acide 3-alkyloxy ou 3-alkylthiométhyl-7 amino thiazolylacétamido céphalosporaniques, leur préparation, leur application comme médicaments et les compositions les renfermant
FR2499995A1 (fr) Nouvelles oximes derivees de l'acide 3-alkyloxy ou 3-alkylthiomethyl 7-amino thiazolylacetamido cephalosporanique, leur preparation, leur application comme medicaments, les compositions les renfermant et les nouveaux intermediaires obtenus.
JPH0255435B2 (ja)
JPH0358351B2 (ja)
KR870000613B1 (ko) 3-브로모-3-메틸세팜 화합물의 제조방법
KR810000455B1 (ko) 3-헤테로 치환 세펨화합물의 제조방법
KR810000635B1 (ko) 세팔로스포린 화합물의 제조법
WO1998058933A1 (fr) Composes de cephalosporine, utilisation de ces derniers et composes intermediaires de ces derniers
FR2467854A1 (fr) Derives imidazoliques et tetrazoliques de 7-((2-(amino-4-thiazolyl)-oximino)cephalosporines a action antimicrobienne et antibacterienne
KR800000996B1 (ko) 세팔로스포린 화합물의 제조법