JPH0613530B2 - セフエム化合物 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は優れた抗菌作用を有する新規な抗菌性化合物お
よびその製造法ならびに医薬組成物に関するものであ
る。

（従来の技術） 従来より、３位に第４級アンモニウムメチル基、７位に
２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−ヒドロ
キシ（または置換ヒドロキシ）イミノアセトアミド基を
合わせ持つセフェム化合物またはその誘導体が種々合成
され、特許出願されている［たとえば日本国公開特許公
報昭５３−３４７９５，同昭５４−９２９６，同昭５４
−１３５７９２，同昭５４−１５４７８６，同昭５５−
１４９２８９，同昭５７−５６４８５，同昭５７−１９
２３９４，同昭５８−１５９４９８など］が、３位の第
４級アンモニウムメチル基が含窒素芳香族複素環に由来
するものとしては単環性のピリジニウム基もしくはその
環上に置換基を有するものがほとんどで、４，５−位で
縮合環を形成するチアゾール−３−イル基を有する化合
物については合成はおろか、出願明細書における開示も
全くなされていない。

（発明が解決しようとする問題点） セフェム系抗生物質は人および動物の病原性細菌により
生ずる疾病の治療に広く使用されており、たとえばペニ
シリン系抗生物質に抵抗性を示す細菌に起因する疾病の
治療およびペニシリン感受性患者の治療に特に有用であ
る。その場合グラム陽性菌およびグラム陰性菌の両者に
対して活性を示すセフェム系抗生物質を用いることが望
ましく、この理由から広い抗菌スペクトルを持つセフェ
ム系抗生物質の研究が盛んに行なわれてきた。長期にわ
たる研究の結果、セフェム環の７位に２−（２−アミノ
チアゾール−４−イル）−２−ヒドロキシ（または置換
ヒドロキシ）イミノアセトアミド基や含窒素複素環アミ
ノ基などを導入するとグラム陽性菌およびグラム陰性菌
の両者に活性を示すようになることが発見され、いわゆ
る第３世代セファロスポリン系化合物の開発へとつなが
った。現在、数種の第３世代セファロスポリン系化合物
がすでに市販されている。これら第３世代セファロスポ
リン系抗生物質のもうひとつの特徴は、かつてペニシリ
ンにおいて経験されたと同様の耐性菌、いわゆるセファ
ロスポリン耐性菌に対しても活性を示した点である。す
なわち既知のセファロスポリン類に耐性を示した一部の
エシェリヒア・コリ菌、一部のシトロバクター属および
大部分のインドール陽性のプロテウス属、エンテロバク
ター属、セラチア属あるいはシュウドモナス属などに分
類される病原性細菌に対しても臨床的に使用が可能なて
いどの抗菌力を発現した。これらの第３世代セファロス
ポリン系化合物の技術思想の中から、３位にピリジニウ
ムメチル基などの第４級アンモニウムメチル基、７位に
前記のアミノチアゾリルオキシイミノアセトアミド類や
含窒素複素環アミノ基などをあわせ持つセフェム化合物
およびそのオキサ体，カルバ体がさらに優れた抗菌作用
と独特な抗菌スペクトルを有することが示唆され、その
系統の化合物が種々合成されてきた。

（問題を解決するための手段） 本発明は一般式 ［式中、Ｒ^０は一般式 シン異性体（Ｚ配位） （式中、Ｒ^１は保護されていてもよいアミノ基を、Ｒ^３
は水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示
す）で表わされる基またはアルコキシカルボニル基を、
ＺはＳ，Ｓ→Ｏ，ＯまたはＣＨ_２を、Ｒ^４は水素原子，
メトキシ基またはホルムアミド基を、Ｒ^１３は水素原子
を、Ａは置換されていてもよい４，５−位で縮合環を形
成するチアゾール−３−イル基を、それぞれ示す］で表
わされる化合物またはその生理学的に受容される塩もし
くはエステル，およびその製造法ならびに医薬組成物に
関するものである。すなわち本発明の抗菌性化合物は一
般式［Ｉ］で表わされるセフェム化合物（Ｚ＝Ｓ，Ｓ→
Ｏ）またはそのオキサ体（Ｚ＝Ｏ），カルバ体（Ｚ＝Ｃ
Ｈ_２）である。

本明細書におけるセフェム化合物は「ザ・ジャーナル・
オブ・ジ・アメリカン・ケミカル・ソサイエティ」第８
４巻，３４００頁（１９６２年）に記載されている「セ
ファム」に基づいて命名された化合物群であり、セフェ
ム化合物はセファム化合物のうち３，４−位に二重結合
を有する化合物を意味する。

従来の技術の項で述べたように３位に第４級アンモニウ
ムメチル基，７位にアミノチアゾリルオキシイミノアセ
トアミド類や含窒素複素環アミノ基などをあわせ持つセ
フェム化合物およびそのオキサ体，カルバ体がさらに優
れた抗菌作用と独特な抗菌スペクトルを有することが次
第に明らかになってきた。３位の第４級アンモニウムメ
チル基が含窒素芳香族複素環に由来する化合物がすでに
多数合成されて特許出願されているが、それらの複素環
は単環性のピリジニウム基もしくはその環上に置換基を
有するものがほとんどで、４，５−位で縮合環を形成す
るチアゾール−３−イル基を有する化合物については全
く合成が行なわれていない。本発明者らはこのような化
学構造上の特徴を持つ一般式[I]で表わされる化合物を
合成することに成功するとともに、それらの化合物の抗
菌活性と抗菌スペクトルを調べた結果、化合物[I]が各
種の細菌に対して強い抗菌作用を示すこと、特に前述の
セファロスポリン耐性菌に対する強い抗菌作用を有する
こと、シュウドモナス属の菌に対して特異な抗菌力を示
すことなどを見出して本発明を完成した。

つぎに本明細書において使用する基名，記号について述
べる。特にことわりのない限り、本明細書における名基
名および各記号の意味は下記のとおりである。

「Ｃ_１−６アルキル基」は、たとえばメチル，エチル，
ｎ−プロピル，イソプロピル，ｎ−ブチル，イソブチ
ル，sec−ブチル，tert−ブチル，ｎ−ペンチル，ｎ−
ヘキシルなどがあげられる。

「アルケニル基」は直鎖状または分枝状の炭素数２〜６
の低級アルケニル基（以後、「Ｃ_２−６アルケニル基」
と略すこともある）が好ましく、たとえばビニル，アリ
ル，１−プロペニル，イソプロペニル，１−ブテニル，
２−ブテニル，３−ブテニル，メタリル，１，１−ジメ
チルアリルなどがあげられる。「アルキニル基」は直鎖
状または分枝状の炭素数２〜６の低級アルキニル基（以
後、「Ｃ_２−６アルキニル基」と略すこともある）が好
ましく、たとえばエチニル，１−プロピニル，プロパル
ギルなどがあげられる。

「シクロアルキル基」は炭素数３〜１０からなる３〜７
員脂環状炭化水素基（以後、「Ｃ_３−１０シクロアルキ
ル基」と略すこともある）が好ましく、たとえばシクロ
プロピル，シクロブチル，シクロペンチル，シクロヘキ
シル，シクロヘプチル，ノルボルニル，アダマンチルな
どがあげられる。

「シクロアルケニル基」は二重結合を有する５〜６員脂
環状炭化水素基（以後、「Ｃ_５−６シクロアルケニル
基」と略すこともある）が好ましく、たとえばシクロペ
ンテニル，シクロペンタジエニル，シクロヘキセニル，
シクロヘキサジエニルなどがあげられる。

「アリール基」は炭素数６〜１０の芳香族炭化水素基
（以後、「Ｃ_６−１０アリール基」と略すこともある）
が好ましく、たとえばフェニル、α−ナフチル，β−ナ
フチル，ビフェニリルなどがあげられる。

「アラルキル基」は炭素数７〜１２の芳香族置換アルキ
ル基（以後、「Ｃ_７−１２アラルキル基」と略すことも
ある）が好ましく、たとえばベンジル，１−フェニルエ
チル，２−フェニルエチル，フェニルプロピル，ナフチ
ルメチルなどがあげられる。なお、Ｃ_７−１２アラルキ
ル基と下記のジＣ_６−１０アリール−メチル基，トリＣ
_６−１０アリールメチル基とをあわせて「Ｃ_７−１９ア
ラルキル基」と記す場合もある。「ジアリールメチル
基」は上記のＣ_６−１０アリール基が２個置換したメチ
ル基（以後、「ジＣ_６−１０アリール−メチル基」と略
すこともある）を意味し、たとえばベンズヒドリルなど
があげられる。

「トリアリールメチル基」は上記のＣ_６−１０アリール
基が３個置換したメチル基（以後、「トリＣ_６−１０ア
リール−メチル基」と略すこともある）を意味し、たと
えばトリチルなどがあげられる。

「アリールメチレン基」のアリール基は上記のＣ
_６−１０アリール基がよく、したがって以後、「Ｃ
_６−１０アリール−メチレン基」と略すこともある。Ｃ
_６−１０アリール−メチレン基としてはたとえば、ベン
ジリデン（Ｃ_６Ｈ_５ＣＨ＝）などがあげられる。

「アルコキシ基」のアルキル基は上記のＣ_１−６アルキ
ル基が好ましく、したがって以後、「Ｃ_１−６アルコキ
シ基」と記すこともある。Ｃ_１−６アルコキシ基として
はたとえば、メトキシ，エトキシ，ｎ−プロポキシ，イ
ソプロポキシ，ｎ−ブトキシ，tert−ブトキシ，アシル
オキシ，ヘキシルオキシなどがあげられる。

「シクロアルキルオキシ基」のシクロアルキル基は上記
のＣ_３−１０シクロアルキル基が好ましく、したがって
以後、「Ｃ_３−１０シクロアルキルオキシ基」と記すこ
ともある。Ｃ_３−１０シクロアルキルオキシ基としては
たとえば、シクロプロピルオキシ，シクロペンチルオキ
シ，シクロヘキシルオキシ，ノルボルニルオキシなどが
あげられる。

「アリールオキシ基」のアリール基は上記のＣ_６−１０
アリール基が好ましく、したがって以後、「Ｃ_６−１０
アリールオキシ基」と記すこともある。Ｃ_６−１０アリ
ールオキシ基としてはたとえば、フェノキシ，ナフチル
オキシなどがあげられる。

「アラルキルオキシ基」のアラルキル基は上記のＣ
_７−１９アラルキル基が好ましく、したがって以後、
「Ｃ_７−１９アラルキルオキシ基」と記すこともある。
Ｃ_７−１９アラルキルオキシ基としてはたとえば、ベン
ジルオキシ，１−フェニルエチルオキシ，２−フェニル
エチルオキシ，ナフチルメチルオキシ，ベンズヒドリル
オキシ，トリチルオキシなどがあげられる。

「アルキルチオ基」のアルキル基は上記のＣ_１−６アル
キル基が好ましく、したがって以後、「Ｃ_１−６アルキ
ルチオ基」と記すこともある。Ｃ_１−６アルキルチオ基
としてはたとえば、メチルチオ，エチルチオ，ｎ−プロ
ピルチオ，ｎ−ブチルチオなどがあげられる。

「シクロアルキルチオ基」のシクロアルキル基は上記の
Ｃ_３−１０シクロアルキル基が好ましく、したがって以
後、「Ｃ_３−１０シクロアルキルチオ基」と記すことも
ある。Ｃ_３−１０シクロアルキルチオ基としてはたとえ
ば、シクロプロピルチオ，シクロヘキシルチオなどがあ
げられる。

「アリールチオ基」のアリール基は上記のＣ_６−１０ア
リール基が好ましく、したがって以後、「Ｃ_６−１０ア
リールチオ基」と記すこともある。Ｃ_６−１０アリール
チオ基としてはたとえば、フェニルチオ，ナフチルチオ
などがあげられる。

「アラルキルチオ基」のアラルキル基は上記のＣ
_７−１９アラルキル基が好ましく、したがって以後、
「Ｃ_７−１９アラルキルチオ基」と記すこともある。Ｃ
_７−１９アラルキルチオ基としてはたとえば、ベンジル
チオ，フェニルエチルチオ，ベンズヒドリルチオ，トリ
チルチオなどがあげられる。

「モノアルキルアミノ基」のアルキル基は上記のＣ
_１−６アルキル基が好ましく、したがって以後、「モノ
Ｃ_１−６アルキルアミノ基」と記すこともある。モノＣ
_１−６アルキルアミノ基としてはたとえば、メチルアミ
ノ，エチルアミノ，ｎ−プロピルアミノ，ｎ−ブチルア
ミノ，tert−ブチルアミノ，ｎ−ペンチルアミノ，ｎ−
ヘキシルアミノなどがあげられる。

「ジアルキルアミノ基」のアルキル基は上記のＣ_１−６
アルキル基が好ましく、したがって以後、「ジＣ_１−６
アルキルアミノ基」と記すこともある。ジＣ_１−６アル
キルアミノ基としてはたとえば、ジメチルアミノ，ジエ
チルアミノ，メチルエチルアミノ，ジ−（ｎ−プロピ
ル）アミノ，ジ−（ｎ−ブチル）アミノなどがあげられ
る。

「トリアルキルアンモニウム基」のアルキル基は上記の
Ｃ_１−６アルキル基が好ましく、したがって以後、「ト
リＣ_１−６アルキルアンモニウム基」と記すこともあ
る。トリＣ_１−６アルキルアンモニウム基としてはたと
えば、トリメチルアンモニウム［（ＣＨ_３）_３Ｎ
−］，トリエチルアンモニウムなどがあげられる。ト
リアルキルアンモニウム基はこれに対するアニオンを必
ず伴っている。このようなアニオンとしてはたとえば、
ハロゲンイオン（塩素イオン，臭素イオン，ヨウ素イオ
ンなど），スルフエートイオン，ナイトレートイオン，
カルボネートイオン，有機カルボキシレートイオン（た
とえばオギザレートイオン，トリフルオロアセテートイ
オンなど），有機スルホネートイオン（たとえば、メタ
ンスルホネートイオン，ｐ−トルエンスルホネートイオ
ンなど）があげられる。有機カルボキシレートイオン，
有機スルホネートイオンなどは分子内の場合もある。

「シクロアルキルアミノ基」のシクロアルキル基は上記
のＣ_３−１０シクロアルキル基が好ましく、したがって
以後、「Ｃ_３−１０シクロアルキルアミノ基」と記すこ
ともある。Ｃ_３−１０シクロアルキルアミノ基としては
たとえば、シクロプロピルアミノ，シクロペンチルアミ
ノ，シクロヘキシルアミノなどがあげられる。

「アリールアミノ基」のアリール基は上記のＣ_６−１０
アリール基が好ましく、したがって以後、「Ｃ_６−１０
アリールアミノ基」と記すこともある。Ｃ_６−１０アリ
ールアミノ基としてはたとえば、アニリノ，Ｎ−メチル
アニリノなどがあげられる。

「アラルキルアミノ基」のアラルキル基は上記のＣ
_７−１９アラルキル基が好ましく、したがって以後、
「Ｃ_７−１９アラルキルアミノ基」と記すこともある。
Ｃ_７−１９アラルキルアミノ基としてはたとえば、ベン
ジルアミノ，１−フェニルエチルアミノ，２−フェニル
エチルアミノ，ベンズヒドリルアミノ，トリチルアミノ
などがあげられる。

「環状アミノ基」は後記するような含窒素複素環または
その二重結合を飽和したものの環形成窒素原子に結合し
ている水素原子を１個とりのぞいてできる基をいい、た
とえば１Ｈ−テトラゾール−１−イル，１Ｈ−ピロール
−１−イル，ピロリノ，ピロリジノ，１Ｈ−イミダゾー
ル−１イル，イミダゾリノ，イミダゾリジノ，１Ｈ−ピ
ラゾール−１−イル，ピラゾリノ，ピラゾリジノ，ピペ
リジノ，ピペラジノ，モルホリノなどがあげられる。

「ヒドロキシアルキル基」のアルキル基は上記のＣ
_１−６アルキル基が好ましく、したがって以後、「ヒド
ロキシＣ_１−６アルキル基」と記すこともある。ヒドロ
キシＣ_１−６アルキル基としてはたとえば、ヒドロキシ
メチル，１−ヒドロキシエチル，２−ヒドロキシエチ
ル，３−ヒドロキシプロピルなどがあげられる。

「メルカプトアルキル基」のアルキル基は上記のＣ
_１−６アルキル基が好ましく、したがって以後、「メル
カプトＣ_１−６アルキル基」と記すこともある。メルカ
プトＣ_１−６アルキル基としてはたとえばメルカプトメ
チル，１−メルカプトエチル，２−メルカプトエチルな
どがあげられる。

「アルコキシアルキル基」のアルコキシ基は上記のＣ
_１−６アルコキシ基が、アルキル基は上記のＣ_１−６ア
ルキル基が好ましく、したがって以後、「 Ｃ_１−６アルコキシＣ_１−６アルキル基」と記すことも
ある。Ｃ_１−６アルコキシＣ_１−６アルキル基としては
たとえば、メトキシメチル，エトキシメチル，２−メト
キシエチルなどがあげられる。

「アルキルチオアルキル基」のアルキルチオ基は上記の
Ｃ_１−６アルキルチオ基が、アルキル基は上記のＣ
_１−６アルキル基が好ましく、したがって以後、「Ｃ
_１−６アルキルチオＣ_１−６アルキル基」と記すことも
ある。Ｃ_１−６アルキルチオＣ_１−６アルキル基として
はたとえば、メチルチオメチル，２−メチルチオエチル
などがあげられる。

「アミノアルキル基」のアルキル基は上記のＣ_１−６ア
ルキル基が好ましく、したがって以後、「アミノＣ
_１−６アルキル基」と記すこともある。アミノＣ_１−６
アルキル基としてはたとえば、アミノメチル，２−アミ
ノエチル，３−アミノプロピルなどがあげられる。

「モノアルキルアミノアルキル基」は「モノＣ_１−６ア
ルキルアミノＣ_１−６アルキル基」が好ましく、たとえ
ばメチルアミノメチル，エチルアミノメチル，２−（Ｎ
−メチルアミノ）エチル，３−（Ｎ−メチルアミノ）プ
ロピルなどがあげられる。

「ジアルキルアミノアルキル基」は「ジＣ_１−６アルキ
ルアミノＣ_１−６アルキル基」が好ましく、たとえば、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチル，Ｎ，Ｎ−ジエチエルア
ミノメチル，２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチル，
２−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）エチル，３−（Ｎ，Ｎ
−ジメチルアミノ）プロピルなどがあげられる。

「環状アミノアルキル基」の環状アミノ基は上記のもの
が好ましく、またアルキル基は上記のＣ_１−６アミノ基
が好ましいので、したがって以後、「環状アミノＣ
_１−６アルキル基」と記すこともある。環状アミノＣ
_１−６アルキル基としてはたとえば、ピロリジノメチ
ル，ピペリジノメチル，ピペラジノメチル，モルホリノ
メチル，２−（モノホリノ）エチルなどがあげられる。

「環状アミノアルキルアミノ基」の環状アミノアルキル
基は上記の環状アミノＣ_１−６アルキル基が好ましく、
したがって以後、「環状アミノＣ_１−６アルキルアミノ
基」と記すこともある。環状アミノＣ_１−６アルキルア
ミノ基としてはたとえば、ピロリジノメチルアミノ，ピ
ペリジノメチルアミノ，ピペラジノメチルアミノ，モル
ホリノメチルアミノなどがあげられる。

「ハロゲノアルキル基」のアルキル基は上記のＣ_１−６
アルキル基が好ましく、したがって以後、「ハロゲノＣ
_１−６アルキル基」と記すこともある。ハロゲノＣ
_１−６アルキル基としてはたとえば、フルオロメチル，
ジフルオロメチル，トリフルオロメチル，クロロメチ
ル，ジクロロメチル，トリクロロメチル，２−フルオロ
エチル，２，２−ジフルオロエチル，２，２，２−トリ
フルオロエチル，２−クロロエチル，２，２−ジクロロ
エチル，２，２，２−トリクロロエチル，２−ブロモエ
チル，２−ヨードエチルなどがあげられる。

「シアノアルキル基」のアルキル基は上記のＣ_１−６ア
ルキル基が好ましく、したがって以後、「シアノＣ
_１−６アルキル基」と記すこともある。シアノＣ_１−６
アルキル基としてはたとえば、シアノメチル，２−シア
ノエチルなどがあげられる。

「カルボキシアルキル基」のアルキル基は上記のＣ
_１−６アルキル基が好ましく、したがって以後、「カル
ボキシＣ_１−６アルキル基」と記すこともある。カルボ
キシＣ_１−６アルキル基としてはたとえば、カルボキシ
メチル，１−カルボキシエチル，２−カルボキシエチル
などがあげられる。

「スルホアルキル基」のアルキル基は上記のＣ_１−６ア
ルキル基が好ましく、したがって以後、「スルホＣ
_１−６アルキル基」と記すこともある。スルホＣ_１−６
アルキル基としてはたとえば、スルホメチル，２−スル
ホエチルなどがあげられる。

「アルカノイルアルキル基」のアルカノイル基は後記す
るＣ_２−６アルカノイル基が好ましく、またアルキル基
は上記のＣ_１−６アルキル基が好ましいので、以後「Ｃ
_２−６アルカノイルＣ_１−６アルキル基」と記すことも
ある。Ｃ_２−６アルカノイルＣ_１−６アルキル基として
はたとえば、アセチルメチル，１−アセチルエチル，２
−アセチルエチルなどがあげられる。

「アルカノイルオキシアルキル基」のアルカノイルオキ
シ基は後記するＣ_２−６アルカノイルオキシ基が好まし
く、またアルキル基は上記のＣ_１−６アルキル基が好ま
しいので、以後「Ｃ_２−６アルカノイルオキシＣ_１−６
アルキル基」と記すこともある。Ｃ_２−６アルカノイル
オキシＣ_１−６アルキル基としてはたとえば、アセトキ
シメチル，１−アセトキシエチル，２−アセトキシエチ
ルなどがあげられる。「アルコキシカルボニルアルキル
基」のアルコキシカルボニル基は後記するＣ_１−１０ア
ルコキシ−カルボニル基が好ましく、またアルキル基は
上記のＣ_１−６アルキル基が好ましいので、以後「Ｃ
_１−１０アルコキシ−カルボニルＣ_１−６アルキル基」
と記すこともある。Ｃ_１−１０アルコキシ−カルボニル
Ｃ_１−６アルキル基としてはたとえば、メトキシカルボ
ニルメチル，エトキシカルボニルメチル，tert−ブトキ
シカルボニルメチルなどがあげられる。

「カルバモイルアルキル基」のアルキル基はＣ_１−６ア
ルキル基が好ましく、したがって以後、「カルバモイル
Ｃ_１−６アルキル基」と記すこともある。カルバモイル
Ｃ_１−６アルキル基としてはたとえば、カルバモイルメ
チルなどがあげられる。

「カルバモイルオキシアルキル基」のアルキル基はＣ
_１−６アルキル基が好ましく、したがって以後、「カル
バモイルオキシＣ_１−６アルキル基」と記すこともあ
る。カルバモイルオキシＣ_１−６アルキル基としてはた
とえば、カルバモイルオキシメチルなどがあげられる。

「ハロゲン原子」としてはたとえば、フツ素，塩素，臭
素，ヨウ素などがあげられる。

「アルカノイル基」は炭素数１〜６の脂肪族アシル基
（以後、「Ｃ_１−６アルカノイル基」と略すこともあ
る）が好ましく、例えばホルミル，アセチル，プロピオ
ニル，ブチリル，イソブチリル，バレリル，イソバレリ
ル，ピバロイルなどがあげられる。このうちホルミルを
除いたアルカノイル基を「Ｃ_２−６アルカノイル基」と
記すこともある。

「アルケノイル基」は炭素数３〜５のアルケノイル基
（以後、「Ｃ_３−５アルケノイル基」と略すこともあ
る）が好ましく、たとえばアクリロイル，クロトノイ
ル，マレオイルなどがあげられる。

「シクロアルキルカルボニル基」のシクロアルキル基は
上記のＣ_３−１０シクロアルキル基が好ましく、したが
って以後、「Ｃ_３−１０シクロアルキル−カルボニル
基」と記すこともある。Ｃ_３−１０シクロアルキル−カ
ルボニル基としてはたとえば、シクロプロピルカルボニ
ル，シクロブチルカルボニル，シクロペンチルカルボニ
ル，シクロヘキシルカルボニル，シクロヘプチルカルボ
ニル，アダマンチルカルボニルなどがあげられる。

「シクロアルケニルカルボニル基」のシクロアルケニル
基は上記のＣ_５−６シクロアルケニル基が好ましく、し
たがって以後、「Ｃ_５−６シクロアルケニル−カルボニ
ル基」と記すこともある。Ｃ_５−６シクロアルケニル−
カルボニル基としてはたとえば、シクロペンテニルカル
ボニル，シクロペンタジエニルカルボニル，シクロヘキ
セニルカルボニル，シクロヘキサジエニルカルボニルな
どがあげられる。「アリールカルボニル基」のアリール
基は上記のＣ_６−１０アリール基が好ましく、したがっ
て以後、「Ｃ_６−１０アリール−カルボニル基と記すこ
ともある。Ｃ_６−１０アリール−カルボニル基としては
たとえば、ベンゾイル，ナフトイルなどがあげられる。

「アラルキルカルボニル基」のアラルキル基は上記のＣ
_７−１９アラルキル基が好ましく、したがって以後、
「Ｃ_７−１９アラルキル−カルボニル基」と記すことも
ある。Ｃ_７−１９アラルキル−カルボニル基としてはた
とえば、フェニルアセチル，フェニルプロピオニル，
α，α−ジフェニルアセチル，α，α，α−トリフェニ
ルアセチルなどがあげられる。

「アルコキシカルボニル基」のアルキル基はここでは炭
素数１〜８の低級アルキル基のほか、上記のＣ_３−１０
シクロアルキル基も含むものとする。したがってアルコ
キシカルボニル基は以後、「Ｃ_１−１０アルコキシ−カ
ルボニル基」と記すこともある。Ｃ_１−１０アルコキシ
−カルボニル基としてはたとえば、メトキシカルボニ
ル，エトキシカルボニル，ｎ−プロポキシカルボニル，
イソプロポキシカルボニル，ｎ−ブトキシカルボニル，
イソブトキシカルボニル，tert−ブトキシカルボニル，
シクロペンチルオキシカルボニル，シクロヘキシルオキ
シカルボニル，ノルボルニルオキシカルボニルなどがあ
げられる。

「アリールオキシカルボニル基」のアリールオキシ基は
上記のＣ_６−１０アリールオキシ基が好ましく、したが
って以後、「Ｃ_６−１０アリールオキシ−カルボニル
基」と記すこともある。Ｃ_６−１０アリールオキシ−カ
ルボニル基としてはたとえば、フェノキシカルボニル，
ナフチルオキシカルボニルなどがあげられる。

「アラルキルオキシカルボニル基」のアラルキルオキシ
基は上記のＣ_７−１９アラルキルオキシ基が好ましく、
たとえばベンジルオキシカルボニル，ベンズヒドリルオ
キシカルボニル，トリチルオキシカルボニルなどがあげ
られる。

「置換オキシカルボニル基」は上記のＣ_１−１０アルコ
キシ−カルボニル基，Ｃ_６−１０アリールオキシ−カル
ボニル基またはＣ_７−１９アラルキルオキシ−カルボニ
ル基をいう。

「アルカノイルオキシ基」のアルカノイル基は上記のＣ
_１−６アルカノイル基が好ましく、したがって以後、
「Ｃ_１−６アルカノイルオキシ基」と記すこともある。
Ｃ_１−６アルカノイルオキシ基としてはたとえば、ホル
ミルオキシ，アセトキシ，プロピオニルオキシ，ブチリ
ルオキシ，バレリルオキシ、ピバロイルオキシなどがあ
げられる。このうちホルミルオキシを除いたアルカノイ
ルオキシ基を「Ｃ_２−６アルカノイルオキシ基」と記す
こともある。

「アルケノイルオキシ基」のアルケノイル基は上記のＣ
_３−５アルケノイル基が好ましく、したがって以後、
「Ｃ_３−５アルケノイルオキシ基」と記すこともある。
Ｃ_３−５アルケノイルオキシ基としてはたとえば、アク
リロイルオキシ，クロトノイルオキシなどがあげられ
る。

「モノアルキルカルバモイル基」のアルキル基は上記の
Ｃ_１−６アルキル基が好ましく、したがって以後、「モ
ノＣ_１−６アルキルカルバモイル基」と記すこともあ
る。モノＣ_１−６アルキルカルバモイル基としてはたと
えば、Ｎ−メチルカルバモイル，Ｎ−エチルカルバモイ
ルなどがあげられる。

「ジアルキルカルバモイル基」のアルキル基は上記のＣ
_１−６アルキル基が好ましく、したがって以後、「ジＣ
_１−６アルキルカルバモイル基」と記すこともある。ジ
Ｃ_１−６アルキルカルバモイル基としてはたとえば、
Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル，Ｎ，Ｎ−ジエチルカル
バモイルなどがあげられる。

「モノアルキルカルバモイルオキシ基」のモノアルキル
カルバモイル基は上記のモノＣ_１−６アルキルカルバモ
イル基が好ましく、したがって以後、「モノＣ_１−６ア
ルキルカルバモイルオキシ基」と記すこともある。モノ
Ｃ_１−６アルキルカルバモイルオキシ基としてはたとえ
ば、Ｎ−メチルカルバモイルオキシ，Ｎ−エチルカルバ
モイルオキシなどがあげられる。

「ジアルキルカルバモイルオキシ基」のジアルキルカル
バモイル基は上記のジＣ_１−６アルキルカルバモイル基
が好ましく、したがって以後、「ジＣ_１−６アルキルカ
ルバモイルオキシ基」と記すこともある。ジＣ_１−６ア
ルキルカルバモイルオキシ基としてはたとえば、Ｎ，Ｎ
−ジメチルカルバモイルオキシ，Ｎ，Ｎ−ジエチルカル
バモイルオキシなどがあげられる。

「含窒素複素環」は１〜数個の、好ましくは１〜４個の
窒素原子（オキシド化されていてもよい）を含む５〜８
員環またはその縮合環をいう。

このような含窒素複素環は窒素原子のほかに酸素原子，
硫黄原子などのヘテロ原子を１〜数個、好ましくは１〜
２個含んでいてもよい。

「含窒素複素環基」は上記の含窒素複素環の環形成炭素
原子に結合している水素原子を１個とりのぞいてできる
基をいう。

「複素環基」は複素環の炭素原子に結合している水素原
子を１個とりのぞいてできる基をいい、そのような複素
環は窒素原子（オキシド化されていてもよい）および／
または硫黄原子を１〜数個、好ましくは１〜４個含む５
〜８員環またはその縮合環をいう。このような複素環基
としては具体的には２−または３−ピロリル，３−，４
−または５−ピラゾリル，２−，４−または５−イミダ
ゾリル，１，２，３−または１，２，４−トリアゾリ
ル，１Ｈ−または２Ｈ−テトラゾリル，２−または３−
チエニル，２−，４−または５−チアゾリル，３−，４
−または５−イソチアゾリル，１，２，３−チアジアゾ
ール−４−または５−イル，１，２，４−チアジアゾー
ル−３−または５−イル，１，２，５−または１，３，
４−チアジアゾリル，２−または３−ピロリジニル，２
−，３−または４−ピルジル，２−，３−または４−ピ
リジル−Ｎ−オキシド，３−または４−ピリダジニル，
３−または４−ピリダジニル−Ｎ−オキシド，２−，４
−または５−ピリミジニル，２−，４−または５−ピリ
ミジニル−Ｎ−オキシド，ピラジニル，２−，３−また
は４−ピペリジニル，ピペラジニル，３Ｈ−インドール
−２−または３−イル，２−，３−または４−チオピラ
ニル，キノリル，ピリド［２，３−ｄ］ピリミジル，
１，５−，１，６−，１，７−，１，８−，２，６−ま
たは２，７−ナフチリジル，チエノ［２，３−ｄ］ピリ
ジル，ピリミドピリジル，ピラジノキノリルなどがあげ
られる。

「複素環オキシ基」，「複素環チオ基」，「複素環アミ
ノ基」，「複素環カルボニル基」，「複素環アセチル
基」および「複素環カルボキサミド基」の複素環基はい
ずれも上記の「複素環基」が好ましい。

「アシル基」は上記のＣ_１−６アルカノイル基，Ｃ
_６−１０アリールカルボニル基，Ｃ_７−１９アラルキル
カルボニル基，複素環カルボニル基または複素環アセチ
ル基をいう。したがってアシル基の代表的なものをあげ
るとたとえば、ホルミル，アセチル，プロピオニル，ｎ
−ブチリル，イソブチリル，バレリル，ピバロイル，ｎ
−ヘキサノイル，クロロアセチル，ジクロロアセチル，
トリクロロアセチル，３−オキソブチリル，４−クロロ
−３−オキソブチリル，３−カルボキシプロピオニル，
４−カルボキシブチリル，３−エトキシカルバモイルプ
ロピオニル，ベンゾイル，ナフトイル，ｐ−メチルベン
ゾイル，ｐ−ヒドロキシベンゾイル，ｐ−メトキシベン
ゾイル，ｐ−クロロベンゾイル，ｐ−ニトロベンゾイ
ル，ｏ−カルボキシベンゾイル，ｏ−（エトキシカルボ
ニルカルバモイル）ベンゾイル，ｏ−（エトキシカルボ
ニルスルファモイル）ベンゾイル，フェニルアセチル，
ｐ−メチルフェニルアセチル，ｐ−ヒドロキシフェニル
アセチル，ｐ−メトキシフェニルアセチル，２，２−ジ
フェニルアセチル，２−チエニルカルボニル，２−フリ
ルカルボニル，２−，４−または５−チアゾリルアセチ
ル，２−または３−チエニルアセチル，２−または３−
フリルアセチル，２−アミノ−４−または５−チアゾリ
ルアセチル，５−アミノ−３−チアジアゾリルアセチル
などがあげられる。

右肩に記号^※を付した基は、その基が「置換基を有して
いてもよい基」であることを示す。たとえばＣ_６−１０
アリール^※基は「置換基を有していてもよいＣ_６−１０
アリール基」を表わす。この場合、置換基の数は１個だ
けに限定されず、置換される基によっては同一または異
なって２〜数個、好ましくは２〜３個存在していてもよ
い。

「Ｃ_６−１０アリール^※基」，「Ｃ_７−１２アラルキル
^※基」，「Ｃ_６−１０アリール^※オキシ基」および「Ｃ
_７−１９アラルキル^※オキシ基」としてはそれぞれ、
「フェニル^※基」，「ベンジル^※基」，「フェノキシ^※
基」および「ベンジル^※オキシ基」がより好ましい。

本発明の化合物[I]において置換基Ｒ^０は一般式 （式中、各記号は前記と同意義を示す）で表わされる基
（以後、記号Ｒ^ｂで表わす場合がある）またはアルコキ
シカルボニル基（以後、記号Ｒ^ｃで表わす場合がある）
を表わす。これらのうち置換基Ｒ^０が一般式 （式中、Ｒ^３は前記と同意義を示す）で表わされる基
（以後、記号Ｒ^ｂ′で表わす場合がある）である化合物
[I]（以後、化合物［Ｉ^ｂ′］で表わす場合がある）は
各種の細菌，特にセファロスポリン耐性菌に対する強い
抗菌作用を有し、しかもシュウドモナス属の菌に対して
特異な抗菌力を示す抗菌性化合物である。一方、置換基
Ｒ^０が一般式 （式中、Ｒ^１′は保護されたアミノ基を、Ｒ^３は前記と
同意義を示す）で表わされる基である化合物[I]または
Ｒ^０がアルコキシカルボニル基である化合物[I]（以
後、化合物[I^c]で表わす場合がある）は、上記の化合物
［Ｉ^ｂ′］を製造する際に、中間体として使用しうる有
用な化合物である。

記号Ｒ^１は保護されていてもよいアミノ基を表わす。β
−ラクタムおよびペプチドの分野ではアミノ基の保護基
は充分に研究されていてその保護法はすでに確立されて
おり、本発明においてもアミノ基の保護基としてはそれ
ら公知のものが適宜に採用されうる。アミノ基の保護基
としてはたとえば、Ｃ_１−６アルカノイル^※基，Ｃ
_３−５アルケノイル^※基，Ｃ_６−１０アリール^※カルボ
ニル基，フタロイル基，複素環^※カルボニル基，Ｃ
_１−６アルキル^※スルホニル基，カンファースルホニル
基，Ｃ_６−１０アリール^※スルホニル基，置換オキシカ
ルボニル基，カルバモイル^※基，チオカルバモイル
^※基，Ｃ_６−１０アリール^※メチル基，ジＣ_６−１０ア
リール^※メチル基，トリＣ_６−１０アリール^※メチル
基，Ｃ_６−１０アリール^※メチレン基，Ｃ_６−１０アリ
ール^※チオ基，置換シリル基，２−Ｃ_１−１０アルコキ
シ−カルボニル−１−メチル−１−エテニル基などがあ
げられる。

「Ｃ_１−６アルカノイル^※基」としてはここではたとえ
ば、ホルミル，アセチル，プロピオニル，ブチリル，バ
レリル，ピバロイル，サクシニル，グルタリル，モノク
ロロアセチル，ジクロロアセチル，トリクロロアセチ
ル，モノブロモアセチル，モノフルオロアセチル，ジフ
ルオロアセチル，トリフルオロアセチル，モノヨードア
セチル，３−オキソブチリル，４−クロロ−３−オキソ
ブチリル，フェニルアセチル，ｐ−クロロフェニルアセ
チル，フェノキシアセチル，ｐ−クロロフェノキシアセ
チルなどがあげられる。

「Ｃ_３−５アルケノイル^※基」としてはここではたとえ
ば、アクリロイル，クロトノイル，マレオイル，シンナ
モイル，ｐ−クロロシンナモイル，β−フェニルシンナ
モイルなどがあげられる。

「Ｃ_６−１０アリール^※カルボニル基」としてはここで
はたとえば、ベンゾイル，ナフトイル，ｐ−トルオイ
ル，ｐ−tert−ブチルベンゾイル，ｐ−ヒドロキシベン
ゾイル，ｐ−メトキシベンゾイル，ｐ−tert−ブトキシ
ベンゾイル，ｐ−クロロベンゾイル，ｐ−ニトロベンゾ
イルなどがあげられる。

「複素環^※カルボニル基」としてはたとえば、２−また
は３−ピロリルカルボニル，３−，４−または５−ピラ
ゾリルカルボニル，２−，４−または５−イミダゾリル
カルボニル，１，２，３−または１，２，４−トリアゾ
リルカルボニル，１Ｈ−または２Ｈ−テトラゾリルカル
ボニル，２−または３−チエニルカルボニル，２−，４
−または５−チアゾリルカルボニル，２−アミノ−４−
チアゾリルカルボニル，３−，４−または５−イソチア
ゾリルカルボニル，１，２，３−チアジアゾール−４−
または５−イルカルボニル，１，２，４−チアジアゾー
ル−３−または５−イルカルボニル，５−アミノ−１，
２，４−チアジアゾール−３−イルカルボニル，１，
２，５−または１，３，４−チアジアゾリルカルボニ
ル，２−または３−ピロリジニルカルボニル，２−，３
−または４−ピリジルカルボニル，２−，３−または４
−ピリジルカルボニル−Ｎ−オキシド，３−または４−
ピリダジニルカルボニル，３−または４−ピリダジニル
カルボニル−Ｎ−オキシド，２−，４−または５−ピリ
ミジニルカルボニル，２−，４−または５−ピリミジニ
ルカルボニル−Ｎ−オキシド，ピラジニルカルボニル，
２−，３−または４−ピペリジニルカルボニル，ピペラ
ジニルカルボニル，２−，３−または４−チオピラニル
カルボニル，キノリルカルボニル，ピリド［２，３−
ｄ］ピリミジルカルボニル，１，５−，１，６−，１，
７−，１，８−，２，６−または２，７−ナフチリジル
カルボニル，チエノ［２，３−ｂ］ピリジルカルボニ
ル，ピリミドピリジルカルボニル，ピラジノキノリルカ
ルボニルなどがあげられる。

「Ｃ_１−６アルキル^※スルホニル基」としてはたとえ
ば、メタンスルホニル，エタンスルホニルなどがあげら
れる。

「Ｃ_６−１０アリール^※スルホニル基」としてはここで
はたとえば、ベンゼンスルホニル，ナフタレンスルホニ
ル，ｐ−トルエンスルホニル，ｐ−tert−ブチルベンゼ
ンスルホニル，ｐ−メトキシベンゼンスルホニル，ｐ−
クロロベンゼンスルホニル，ｐ−ニトロベンゼンスルホ
ニルなどがあげられる。

「置換オキシカルボニル基」としては前記の置換オキシ
カルボニル基すなわちＣ_１−１０アルコキシ−カルボニ
ル基、Ｃ_６−１０アリールオキシ−カルボニル基または
Ｃ_７−１９アラルキルオキシ−カルボニル基のほか、こ
こではそれらがさらに置換基を有しているものも含ま
れ、たとえばメトキシカルボニル，エトキシカルボニ
ル，ｎ−プロポキシカルボニル，イソプロポキシカルボ
ニル，ｎ−ブトキシカルボニル，tert−ブトキシカルボ
ニル，シクロヘキシルオキシカルボニル，ノルボルニル
オキシカルボニル，フェノキシカルボニル，ナフチルオ
キシカルボニル，ベンジルオキシカルボニル，メトキシ
メチルオキシカルボニル，アセチルメチルオキシカルボ
ニル，２−トリメチルシリルエトキシカルボニル，２−
メタンスルホニルエトキシカルボニル，２，２，２−ト
リクロロエトキシカルボニル，２−シアノエトキシカル
ボニル，ｐ−メチルフェノキシカルボニル，ｐ−メトキ
シフェノキシカルボニル，ｐ−クロロフェノキシカルボ
ニル，ｐ−メチルベンジルオキシカルボニル，ｐ−メト
キシベンジルオキシカルボニル，ｐ−クロロベンジルオ
キシカルボニル，ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニ
ル、ベンズヒドリルオキシカルボニル，シクロプロピル
オキシカルボニル，シクロペンチルオキシカルボニル，
シクロヘキシルオキシカルボニルなどがあげられる。
「カルバモイル^※基」としてはここではたとえば、カル
バモイル，Ｎ−メチルカルバモイル，Ｎ−エチルカルバ
モイル，Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル，Ｎ，Ｎ−ジエ
チルカルバモイル，Ｎ−フェニルカルバモイル，Ｎ−ア
セチルカルバモイル，Ｎ−ベンゾイルカルバモイル，Ｎ
−（ｐ−メトキシフェニル）カルバモイルなどがあげら
れる。

「カルバモイル^※オキシ基」としてはここではたとえ
ば、カルバモイルオキシ，Ｎ−メチルカルバモイルオキ
シ，Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ，Ｎ−エチル
カルバモイルオキシ，Ｎ−フェニルカルバモイルオキシ
などがあげられる。

「チオカルバモイル^※基」としてはここではたとえば、
チオカルバモイル，Ｎ−メチルチオカルバモイル，Ｎ−
フェニルチオカルバモイルなどがあげられる。

「Ｃ_６−１０アリール^※メチル基」としてはたとえば、
ベンジル，ナフチルメチル，ｐ−メチルベンジル，ｐ−
メトキシベンジル，ｐ−クロロベンジル，ｐ−ニトロベ
ンジルなどがあげられる。

「ジＣ_６−１０アリール^※メチル基」としてはたとえ
ば、ベンズヒドリル，ジ（ｐ−トリル）メチルなどがあ
げられる。

「トリＣ_６−１０アリール^※メチル基」としてはたとえ
ば、トリチル，トリ（ｐ−トリル）メチルなどがあげら
れる。

「Ｃ_６−１０アリール^※メチレン基」としてはたとえ
ば、ベンジリデン，ｐ−メチルベンジリデン，ｐ−クロ
ロベンジリデンなどがあげられる。

「Ｃ_６−１０アリール^※チオ基」としてはたとえば、ｏ
−ニトロフェニルチオなどがあげられる。

「置換シリル基」は保護されるアミノ基とあわさって一
般式Ｒ^６Ｒ^７Ｒ^８ＳｉＮＨ，（Ｒ^６Ｒ^７Ｒ^８Ｓｉ）_２Ｎ または ［式中、Ｒ^６，Ｒ^７，Ｒ^８，Ｒ^９，Ｒ^１０，Ｒ^９′，Ｒ
^１０′はそれぞれＣ_１−６アルキル基もしくはＣ
_６−１０アリール^※基を示し、それぞれ同一または異な
っていてもよい。またＺ′はたとえばメチレン，エチレ
ン，ピロピレンなどのＣ_１−３アルキレン基を示す］で
表わされるようなシリル基を意味し、具体的にはトリメ
チルシリル，tert−ブチルジメチルシリル，−Ｓｉ（Ｃ
Ｈ_３）_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−などがあげら
れる。

「２−Ｃ_１−１０アルコキシ−カルボニル−１−メチル
−１−エテニル基のＣ_１−１０アルコキシ−カルボニル
基は前記したものがよく、したがって２−Ｃ_１−１０ア
ルコキシ−カルボニル−１−メチル−１−エテニル基と
してはたとえば、２−メトキシカルボニル−１−メチル
−１−エテニル，２−エトキシカルボニル−１−メチル
−１−エテニル，２−tert−ブトキシカルボニル−１−
メチル−１−エテニル，２−シクロヘキシルオキシカル
ボニル−１−メチル−１−エテニル，２−ノルボルニル
オキシカルボニル−１−メチル−１−エテニルなどがあ
げられる。

記号Ｒ^３は水素原子または置換されていてもよい炭化水
素基を表わす。炭化水素基としてはたとえばＣ_１−６ア
ルキル基，Ｃ_２−６アルケニル基，Ｃ_２−６アルキニル
基，Ｃ_３−１０シクロアルキル基，Ｃ_５−６シクロアル
ケニル基などがあげられるが、とりわけＣ_１−３アルキ
ル基または置換されたＣ_１−３アルキル基が好ましい。
Ｃ_１−６アルキル基としてはここでも前記したＣ_１−６
アルキル基がよく具体的にはメチル，エチル，ｎ−プロ
ピル，イソプロピル，ｎ−ブチル，イソブチル，sec−
ブチル，tert−ブチル，ｎ−ペンチル，ｎ−ヘキシルな
どがあげられるがとりわけメチル，エチル，ｎ−プロピ
ルが好ましい。Ｃ_２−６アルケニル基としてはここでも
前記したＣ_２−６アルケニル基がよく具体的にはビニ
ル，アリル，イソプロペニル，メタリル，１，１−ジメ
チルアリル，２−ブテニル，３−ブテニルなどがあげら
れる。Ｃ_２−６アルキニル基としては具体的にはエチニ
ル，１−プロピニル，２−プロピニル，プロパルギルな
どがあげられる。Ｃ_３−１０シクロアルキル基としては
ここでも前記したＣ_３−８シクロアルキル基がよく具体
的にはシクロプロピル，シクロブチル，シクロペンチ
ル，シクロヘキシル，シクロヘプチル，アダマンチルな
どがあげられる。Ｃ_５−６シクロアルケニル基としては
具体的には２−シクロペンテニル，３−シクロペンテニ
ル，２−シクロヘキセニル，３−シクロヘキセニル，シ
クロペンタジエニル，シクロヘキサジエニルなどがあげ
られる。

これらの炭化水素基の置換基としてはたとえば水酸基，
Ｃ_１−６アルキル基，Ｃ_２−６アルケニル基，Ｃ_２−６
アルキニル基，Ｃ_３−１０シクロアルキル基，Ｃ_５−６
シクロアルケニル基，Ｃ_６−１０アリール基，Ｃ
_７−１９アラルキル基，複素環基，Ｃ_１−６アルコキシ
基，Ｃ_３−１０シクロアルキルオキシ基，Ｃ_６−１０ア
リールオキシ基，Ｃ_７−１９アラルキルオキシ基，複素
環オキシ基，メルカプト基，Ｃ_１−６アルキルチオ基，
Ｃ_３−１０シクロアルキルチオ基，Ｃ_６−１０アリール
チオ基，Ｃ_７−１９アラルキルチオ基，複素環チオ基，
アミノ基、モノＣ_１−６アルキルアミノ基，ジＣ_１−６
アルキルアミノ基、トリＣ_１−６アルキルアンモニウム
基，Ｃ_３−１０シクロアルキルアミノ基，Ｃ_６−１０ア
リールアミノ基，Ｃ_７−１９アラルキルアミノ基，複素
環アミノ基，環状アミノ基，アジド基，ニトロ基，ハロ
ゲン原子，シアノ基，カルボキシル基，Ｃ_１−１０アル
コキシ−カルボニル基，Ｃ_６−１０アリールオキシ−カ
ルボニル基，Ｃ_７−１９アラルキルオキシ−カルボニル
基，Ｃ_６−１０アリール−アシル^＋基，Ｃ_１−６アルカ
ノイル基，Ｃ_３−５アルケノイル基，Ｃ_６−１０アリー
ル−アシル^＋オキシ基，Ｃ_２−６アルカノイルオキシ
基，Ｃ_３−５アルケノイルオキシ基，カルバモイル
^※基，チオカルバモイル^※基，カルバモイル^※オキシ
基，フタルイミド基，Ｃ_１−６アルカノイルアミノ基，
Ｃ_６−１０アリール−アシル^＋アミノ基，カルボキシア
ミノ基，Ｃ_１−１０アルコキシ−カルボキサミド基，Ｃ
_６−１０アリールオキシ−カルボキサミド基，Ｃ
_７−１９アラルキルオキシ−カルボキサミド基などがあ
げられ、同一または異なって２個以上存在していてもよ
い。炭化水素基の置換基としては、具体的にはＣ_１−６
アルキル基は前記のもの、すなわちメチル，エチル，ｎ
−プロピル，イソプロピル，ｎ−ブチル，イソブチル，
sec−ブチル，tert−ブチル，ｎ−ペンチル，ｎ−ヘキ
シルなどを、Ｃ_２−６アルケニル基は前記のもの、すな
わちビニル，アリル，イソプロペニル，メタリル，１，
１−ジメチルアリル，２−ブテニル，３−ブテニルなど
を、Ｃ_２−６アルキニル基は前記のもの、すなわちエチ
ニル，１−プロピニル，２−プロピニル，プロパルギル
などを、Ｃ_３−１０シクロアルキル基は前記のもの、す
なわちシクロプロピル，シクロブチル，シクロペンチ
ル，シクロヘキシル，シクロペプチル，アダマンチルな
どを、Ｃ_５−６シクロアルケニル基は前記のもの、すな
わちシクロプロペニル，２−シクロペンテニル，３−シ
クロペンテニル，２−シクロヘキセニル，３−シクロヘ
キセニル，シクロペンタジエニル，シクヘキサジエニル
などを、Ｃ_６−１０アリール基は前記のもの、すなわち
フェニル，ナフチル，ビフェニルなどを、Ｃ_７−１９ア
ラルキル基は前記のもの、すなわちベンジル，１−フェ
ニルエチル，２−フェニルエチル，フェニルプロピル，
ナフチルメチル，ベンズヒドリルなどを、Ｃ_１−６アル
コキシ基は前記のもの、すなわちメトキシ，エトキシ，
ｎ−プロポキシ，イソプロポキシ，ｎ−ブトキシ，tert
−ブトキシ，ｎ−ペンチルオキシ，ｎ−ヘキシルオキシ
などを、Ｃ_３−１０シクロアルキルオキシ基は前記のも
の、すなわちシクロプロピルオキシ，シクロヘキシルオ
キシなどを、Ｃ_６−１０アリールオキシ基は前記のも
の、すなわちフェノキシ，ナフチルオキシなどを、Ｃ
_７−１９アラルキルオキシ基は前記のもの、すなわちベ
ンジルオキシ、１−フェニルエチルオキシ，２−フェニ
ルエチルオキシ，ベンズヒドリルオキシなどを、Ｃ
_１−６アルキルチオ基は前記のもの、すなわちメチルチ
オ，エチルチオ，ｎ−プロピルチオ，ｎ−ブチルチオな
どを、Ｃ_３−１０シクロアルキルチオ基は前記のもの、
すなわちシクロプロピルチオ，シクロヘキシルチオなど
を、Ｃ_６−１０アリールチオ基は前記のもの、すなわち
フェニルチオ、ナフチルチオなどを、Ｃ_７−１９アラル
キルチオ基は前記のもの、すなわちベンジルチオ，フェ
ニルエチルチオ，ベンズヒドリルチオなどを、モノＣ
_１−６アルキルアミノ基は前記のもの、すなわちメチル
アミノ，エチルアミノ，ｎ−プロピルアミノ，ｎ−ブチ
ルアミノなどを、ジＣ_１−６アルキルアミノ基は前記の
もの、すなわちジメチルアミノ，ジエチルアミノ，メチ
ルエチルアミノ，ジ−（ｎ−プロピル）アミノ，ジ−
（ｎ−ブチル）アミノなどを、トリＣ_１−６アルキルア
ンモニウム基は前記のもの、すなわちトリメチルアンモ
ニウム，トリエチルアンモニウムなどを、Ｃ_３−１０シ
クロアルキルアミノ基は前記のもの、すなわちシクロプ
ロピルアミノ，シクロペンチルアミノ，シクロヘキシル
アミノなどを、Ｃ_６−１０アリールアミノ基は前記のも
の、すなわちアニリノ，Ｎ−メチルアニリノなどを、Ｃ
_７−１９アラルキルアミノ基は前記のもの、すなわちベ
ンジルアミノ，１−フェニルエチルアミノ，２−フェニ
ルエチルアミノ，ベンズヒドリルアミノなどを、環状ア
ミノ基は前記のもの、すなわちピロリジノ，ピペリジ
ノ，ピペラジノ，モノホリノ，１−ピロリルなどを、ハ
ロゲン原子はここではフッ素、塩素，臭素，ヨウ素など
を、Ｃ_１−１０アルコキシ−カルボニル基は前記のも
の、すなわちメトキシカルボニル，エトキシカルボニ
ル，ｎ−プロポキシカルボニル，イソプロポキシカルボ
ニル，ｎ−ブトキシカルボニル，イソブトキシカルボニ
ル，tert−ブトキシカルボニル，シクロペンチルオキシ
カルボニル，シクロヘキシルオキシカルボニル，ノルボ
ルニルオキシカルボニルなどを、Ｃ_６−１０アリールオ
キシ−カルボニル基は前記のもの、すなわちフェノキシ
カルボニル，ナフチルオキシカルボニルなどを、Ｃ
_７−１９アラルキルオキシ−カルボニル基は前記のも
の、すなわちベンジルオキシカルボニル，ベンズヒドリ
ルオキシカルボニルなどを、Ｃ_６−１０アリール−アシ
ル^＋基はたとえばベンゾイル，ナフトイル，フタロイ
ル，フェニルアセチルなどを、Ｃ_１−６アルカノイル基
は前記のもの、すなわちホルミル，アセチル，プロピオ
ニル，ブチリル，バレリル，ピバロイル，サクシニル，
グルタリルなどを、Ｃ_３−５アルケノイル基は前記のも
の、すなわちアクリロイル，クロトノイル，マレオイル
などを、Ｃ_６−１０アリール−アシル^＋オキシ基は前記
のもの、すなわちベンゾイルオキシ，ナフトイルオキ
シ，フェニルアセトキシなどを，Ｃ_２−６アルカノイル
オキシ基は前記のもの、すなわちアセトキシ，プロピオ
ニルオキシ，ブチリルオキシ，バレリルオキシ，ピバロ
イルオキシなどを、Ｃ_３−５アルケノイルオキシは前記
のもの、すなわちアクリロイルオキシ，クロトノイルオ
キシなどを，カルバモイル^※基は前記のもの、すなわち
カルバモイル，Ｎ−メチルカルバモイル，Ｎ−エチルカ
ルバモイル，Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル，Ｎ−エチ
ルカルバモイル，Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル，Ｎ−
フェニルカルバモイル，Ｎ−アセチルカルバモイル，Ｎ
−ベンゾイルカルバモイル，Ｎ−（ｐ−メトキシフェニ
ル）カルバモイルに加えてピロリジノカルボニル，ピペ
リジノカルボニル，ピペラジノカルボニル，モルホリノ
カルボニルなどを、チオカルバモイル^※基は前記のも
の、すなわちチオカルバモイル，Ｎ−メチルチオカルバ
モイル，Ｎ−フェニルチオカルボニルなどを、カルバモ
イル^※オキシ基は前記のもの、すなわちカルバモイルオ
キシ，Ｎ−メチルカルバモイルオキシ，Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルカルバモイルオキシ，Ｎ−エチルカルバモイルオキ
シ，Ｎ−フェニルカルバモイルオキシなどを、「Ｃ
_１−６アルカノイルアミノ基」はたとえばアセトアミ
ド，プロピオンアミド、ブチロアミド，バレロアミド，
ピバロアミドなどを、「Ｃ_６−１０アリール−アシル^＋
アミノ基」はたとえばベンズアミド，ナフトイルアミ
ド，フタルイミドなどを、「Ｃ_１−１０アルコキシ−カ
ルボキサミド基」はたとえばメトキシカルボキサミド(C
H₃OCONH-)，エトキシカルボキサミド，tert−ブトキシ
カルボキシサミドなどを、「Ｃ_６−１０アリールオキシ
−カルボキサミド基」はたとえばフェノキシカルボキサ
ミド(C₆H₅OCONH-)などを、「Ｃ_７−１９アラルキルオキ
シ−カルボキサミド基」はたとえばベンジルオキシカル
ボキサミド(C₆H₅CH₂OCONH-)，ベンズヒドリルオキシカ
ルボキサミドなどを表わす。複素環基，複素環オキシ
基，複素環チオ基および複素環アミノ基の複素環基はこ
こでも複素環の炭素原子に結合している水素原子を１個
とりのぞいてできる基をいい、そのような複素環は、窒
素原子（オキシド化されていてもよい）および／または
硫黄原子などのヘテロ原子を１〜数個，好ましくは１〜
４個含む５〜８員環またはその縮合環をいう。このよう
な複素環基としてはここでも２−ピロリル以下、具体的
に前記したものがそのままあげられる。したがって「複
素環オキシ基」としてはたとえばチアゾリルオキシなど
が、「複素環チオ基」としてはたとえばチアゾリルチオ
などがあげられる。「複素環アミノ基」としてはたとえ
ばチアゾリルアミノ，チアジアゾリルアミノなどがあげ
られる。

置換された炭化水素基でより好ましいものは水酸基，シ
クロアルキル基，アルコキシ基，アルキルチオ基，アミ
ノ基，トリアルキルアンモニウム基，ハロゲン原子，カ
ルボキシル基，アルコキシカルボニル基，カルバモイル
基，シアノ基，アジド基，複素環基などで置換されたＣ
_１−３アルキル基（Ｃ_１−３アルキル基はメチル，エチ
ル，ｎ−プロピル，イソプロピルなどをいう）であり、
それらを具体的にあげると、シクロプロピルメチル，メ
トキシメチル，エトキシメチル，１−メトキシエチル，
２−メトキシエチル，１−エトキシエチル，２−ヒドロ
キシエチル，メチルチオメチル，２−アミノエチル，２
−（トリメチルアンモニウム）エチル，２−（トリエチ
ルアンモニウム）エチル，フルオロメチル，ジフルオロ
メチル，トリフルオロメチル，２−フルオロエチル，
２，２−ジフルオロエチル，クロロメチル，２−クロロ
エチル，２，２−ジクロロエチル，２，２，２−トリク
ロロエチル，２−ブロモエチル，２−ヨードエチル，
２，２，２−トリフルオロエチル，カルボキシメチル，
１−カルボキシエチル，２−カルボキシエチル，２−カ
ルボキシプロピル，３−カルボキシプロピル，１−カル
ボキシブチル，シアノメチル，１−カルボキシ−１−メ
チルエチル，メトキシカルボニルメチル，エトキシカル
ボニルメチル，tert−ブトキシカルボニルメチル，１−
メトキシカルボニル−１−メチルエチル，１−エトキシ
カルボニル−１−メチルエチル，１−tert−ブトキシカ
ルボニル−１−メチルエチル，１−ベンジルオキシカル
ボニル−１−メチルエチル，１−ピバロイルオキシカル
ボニル−１−メチルエチル，カルバモイルメチル，２−
アジドエチル，２−（ピラゾリル）エチル，２−（イミ
ダゾリル）エチル，２−（２−オキソピロリジン−３−
イル）エチル，２−アミノ−４−チアゾリルメチルなど
のほか多くのものがあげられる。具体的にあげた炭化水
素基のうち最も好ましいものはメチル，エチル，ｎ−プ
ロピルなどの直鎖状のＣ_１−３アルキル基および２−フ
ルオロエチル，２−クロロエチル，２−ヒドロキシエチ
ル，２−メトキシエチル，シアノメチル，カルボキシメ
チル，tert−ブトキシカルボニルメチル，１−カルボキ
シ−１−メチルエチル，１−tert−ブトキシカルボニル
−１−メチルエチルなどのハロゲン原子，水酸基，アル
コキシ基，カルボキシル基，アルコキシカルボニル基，
シアノ基で置換された直鎖状又は分枝状のＣ_１−３アル
キル基およびアリル基，プロパルギル基である。ここで
記号Ｒ^３′を上に例示した最も好ましい炭化水素基もし
くは水素原子を表わすものとすると、置換基Ｒ^０として
一般式 で表わされる基を有する本発明の化合物[I]はいずれも
抗菌活性が特に強く、特に耐性菌に対して優れた殺菌作
用をもつ。したがって化合物[I]としては、式 ［式中の記号は前記したものを示す］ の構造のものが最も好ましい。

として好ましい例をあげるとたとえば、２−（５−アミ
ノ−１，２，４−チアジアゾール−３−イル）−２(Z)
−（ヒドロキシイミノ）アセチル，２−（５−アミノ−
１，２，４−チアジアゾール−３−イル）−２(Z)−
（メトキシイミノ）アセチル，２−（５−アミノ−１，
２，４−チアジアゾール−３−イル）−２(Z)−（エト
キシイミノ）アセチル，２−（５−アミノ−１，２，４
−チアジアゾール−３−イル）−２(Z)−｛（２−フル
オロエチル）オキシミノ｝アセチル，２−（５−アミノ
−１，２，４−チアジアゾール−３−イル）−２(Z)−
｛（２−クロロエチル）オキシイミノ｝アセチル，２−
（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾール−３−イ
ル）−２(Z)−（カルボキシメチルオキシイミノ）アセ
チル，２−（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾール
−３−イル）−２(Z)−｛（１−カルボキシ−１−メチ
ルエチル）オキシイミノ｝アセチル，２−（５−アミノ
−１，２，４−チアジアゾール−３−イル−２(Z)−
｛（１−tert−ブトキシカルボニル−１−メチルエチ
ル）オキシイミノ｝アセチルなどが例示される。

置換基Ｒ^０としてのアルコキシカルボニル基はメトキシ
カルボニル，エトキシカルボニル，ｎ−プロポキシカル
ボニル，イソプロポキシカルボニル，ｎ−ブトキシカル
ボニル，tert−ブトキシカルボニル，シクロヘキシルオ
キシカルボニル，ノルボルニルオキシカルボニル，シク
ロプロピルオキシカルボニル，シクロペンチルオキシカ
ルボニル，シクロヘキシルオキシカルボニルなどがあげ
られる。

本発明の化合物[I]において置換基Ｒ^４は水素原子，メ
トキシ基またはホルムアミド基（ＨＣＯＮＨ−）を表わ
す。

本発明の化合物[I]において置換基Ｒ^１３は水素原子を
表わす。

化合物[I]において置換基Ａは置換されていてもよい4,5
-位で縮合環を形成するチアゾール−３−イル基を表わ
す。ここで縮合環はチアゾール環と脂環，ベンゼン環ま
たは5〜6員芳香族複素環が縮合した形のものを意味し、
なかでも脂環と縮合したものがより好ましい。該縮合環
はさらに別の脂環，ベンゼン環または５〜６員芳香族複
素環が縮合した形のものを意味し、なかでも脂環と縮合
したものがより好ましい。該縮合環はさらに別の脂環，
ベンゼン環または５〜６員芳香族複素環と縮合していて
もよい。また置換基Ａに付記したは置換基Ａが１価の
陽電荷をもつことを示す。脂環と縮合したチアゾール−
３−イル基は一般式 で書き表わされ、式中のｍは２〜６，好ましくは３〜５
である。上記したようにＡ^１の脂環部分はさらに別の脂
環，ベンゼン環と縮合したチアゾール−３−イル基は一
般式 で書き表わされる。上記したようにＡ^２のベンゼン環部
分はさらに別の脂環，ベンゼン環または５〜６員芳香族
複素環と縮合していてもよい。５〜６員芳香族複素環は
ヘテロ原子として窒素原子，酸素原子および／または硫
黄原子を有する５〜６員芳香族複素環を意味する。した
がって５〜６員芳香族複素環と縮合したチアゾール−３
−イル基は一般式 で書き表わされる。式中のＢは３〜４個の炭素原子，窒
素原子，酸素原子および／または硫黄原子からなり、こ
のうち炭素原子は１個の水素原子と結合するかまたは隣
接する炭素原子とともに別の縮合環を形成する。Ａ^３中
のＢを形成する５〜６員芳香族複素環としては具体的に
はたとえばピリジン，ピリダジン，ピリミジン，ピペラ
ジン，１，２，３−トリアジン，１，２，４−トリアジ
ン，フラン，チオフェン，オキサゾール，チアゾール，
イソキサゾール，イソチアゾール，ピロール，ピラゾー
ル，イミダゾールなどがあげられる。Ａ^１，Ａ^２または
Ａ^３で表される置換基Ａ上の水素原子は１個ないし２個
以上の同一または異なる置換基で置換されていてもよ
い。置換基Ａ上に置換基のある場合、その置換基の個数
は１〜３がより好ましい。そのような置換基Ａ上の置換
基としたはたとえば水酸基，ヒドロキシＣ_１−６アルキ
ル基，Ｃ_１−６アルキル基，Ｃ_２−６アルケニル基，Ｃ
_２−６アルキニル基，Ｃ_４−６アルカジエニル基，Ｃ
_３−１０シクロアルキル基，Ｃ_５−６シクロアルケニル
基，Ｃ_３−１０シクロアルキルＣ_１−６アルキル基，Ｃ
_６−１０アリール基，Ｃ_７−１２アラルキル基，ジＣ
_６−１０アリールメチル基，トリＣ_６−１０アリールメ
チル基，複素環基，Ｃ_１−６アルコキシ基，Ｃ_１−６ア
ルコキシ−Ｃ_１−６アルキル基，Ｃ_３−１０シクロアル
キルオキシ基，Ｃ_６−１０アリールオキシ基，Ｃ
_７−１９アラルキルオキシ基，メルカプト基，メルカプ
トＣ_１−６アルキル基，スルホ基，スルホＣ_１−６アル
キル基，Ｃ_１−６アルキルチオ基，Ｃ_１−６アルキルチ
オＣ_１−６アルキル基，Ｃ_３−１０シクロアルキルチオ
基，Ｃ_６−１０アリールチオ基，Ｃ_７−１９アラルキル
チオ基，アミノ基，アミノＣ_１−６アルキル基，モノＣ
_１−６アルキルアミノ基，ジＣ_１−６アルキルアミノ
基，モノＣ_１−６アルキルアミノＣ_１−６アルキル基，
ジＣ_１−６アルキルアミノＣ_１−６アルキル基，Ｃ
_３−１０シクロアルキルアミノ基，Ｃ_６−１０アリール
アミノ基，Ｃ_７−１９アラルキルアミノ基，環状アミノ
基，環状アミノＣ_１−６アルキル基，環状アミノＣ
_１−６アルキルアミノ基，アジド基，ニトロ基，ハロゲ
ン原子、ハロゲノＣ_１−６アルキル基，シアノ基，シア
ノＣ_１−６アルキル基，カルボキシル基，カルボキシＣ
_１−６アルキル基，Ｃ_１−１０アルコキシ−カルボニル
基，Ｃ_１−１０アルコキシ−カルボニルＣ_１−６アルキ
ル基，Ｃ_６−１０アリールオキシ−カルボニル基，Ｃ
_７−１９アラルキルオキシ−カルボニル基，Ｃ_６−１０
アリール−アシル^＋基，Ｃ_１−６アルカノイル基，Ｃ
_２−６アルカノイルＣ_１−６アルキル基，Ｃ_３−５アル
ケノイル基，Ｃ_６−１０アリール−アシル^＋オキシ基，
Ｃ_２−６アルカノイルオキシ基，Ｃ_２−６アルカノイル
オキシＣ_１−６アルキル基，Ｃ_３−５アルケノイルオキ
シ基，カルバモイルＣ_１−６アルキル基，カルバモイル
^※基，チオカルバモイル^※基，カルバモイル^※オキシ
基，カルバモイルオキシＣ_１−６アルキル基，Ｃ_１−６
アルカノイルアミノ基，Ｃ_６−１０アリール−アシル^＋
アミノ基，スルホンアミド基，カルボキシアミノ基，Ｃ
_１−１０アルコキシ−カルボキサミド基，Ｃ_６−１０ア
リールオキシ−カルボキサミド基，Ｃ_７−１９アラルキ
ルオキシ−カルボキサミド基などがあげられる。上記の
置換基中、「Ｃ_４−６アルカジエニル基」はたとえば、
１，３−ブタジエニルなどを、「Ｃ_３−１０シクロアル
キルＣ_１−６アルキル基」はたとえば、シクロペンチル
メチル，シクロヘキシルメチルなどを、ハロゲン原子は
ここではフッ素，塩素，臭素などをそれぞれ表わす。そ
の他の基はすべて前記のものがここでもそのままあげら
れる。これらの置換基は同一または異なって複数個置換
されていてもよいし、これらの置換基はさらに置換分を
有していてもよい。

置換基ＡのうちＡ^１を具体的に式示するとたとえば などである。置換基ＡのうちＡ^２を具体的に式示すると
たとえば などである。置換基ＡのうちＡ^３を具体的に式示すると
たとえば などである。これらのＡ^１，Ａ^２およびＡ^３のうち好ま
しいものは前記したとおりＡ^１，なかんづく である。これらの三つの基は前記したとおり置換されて
いてもよく、そのような置換基としては炭素数１ないし
６のアルキル基，アルコキシ基が好ましい。

上記の式Ａ^１，Ａ^２，Ａ^３および具体的にあげた基にお
いて置換基Ａ の陽電荷を便宜上チアゾール環の窒素原
子にあてはめたが、他に窒素原子を含む場合はその窒素
原子に陽電荷がチアゾール環に非局在化している場合も
ある。したがってたとえば上記の の場合、それぞれ などのようにも表される。この陽電荷の存在位置は化合
物[I]の状態（固体か溶液中か），溶媒の種類・液性・
温度・置換基の種類などによて流動的に変化するので、
本発明は陽電荷が窒素原子に局在化した場合とチアゾー
ル環または縮合環全体に非局在化した場合のすべてを包
含するものとする。

上記の化合物[I]において４位のカルボキシル基（−CO
O)の右肩に付記したは該カルボキシル基がカルボキシ
レートアニオンであって、置換基Ａ上の陽電荷と一対に
なって分子内塩を形成していることを示す。

一方，化合物[I]は生理学的に受容される塩もしくはエ
ステルであってもよい。生理学的に受容される塩として
は無機塩基塩，アンモニウム塩，有機塩基塩，無機酸付
加塩，有機酸付加塩，塩基性アミノ酸塩などがあげられ
る。無機塩基塩を生成させうる無機塩基としてはアルカ
リ金属（たとえばナトリウム，カリウムなど），アルカ
リ土類金属（たとえばカルシウムなど）などが、有機塩
基塩を生成させうる有機塩基としてはたとえばプロカイ
ン，２−フェニルエチルベンジルアミン，ジベンジルエ
チレンジアミン，エタノールアミン，ジエタノールアミ
ン，トリスヒドロキシメチルアミノメタン，ポリヒドロ
キシアルキルアミン，Ｎ−メチルグルコサミンなどが、
無機酸付加塩を生成させうる無機酸としてはたとえば塩
酸，臭化水素酸，硫酸，硝酸，リン酸などが、有機酸付
加塩を生成させうる有機酸としてはたとえばｐ−トルエ
ンスルホン酸，メタンスルホン酸，ギ酸，トリフルオロ
酢酸，マレイン酸などが、塩基性アミノ酸塩を生成させ
うる塩基性アミノ酸としてはたとえばリジン，アルギニ
ン，オルニチン，ヒスチジンなどがあげられる。これら
の塩のうち塩基塩（すなわち無機塩基塩，アンモニウム
塩，有機塩基塩，塩基性アミノ酸塩）は化合物[I]の置
換基Ｒ^０もしくはＡ中にカルボキシル基，スルホ基など
の酸性基が存在する場合に形成しうる塩基塩を意味し、
酸付加塩（すなわち無機酸付加塩，有機酸付加塩）は化
合物[I]の置換基Ｒ^０もしくはＡ中にアミノ基，モノア
ルキルアミノ基，ジアルキルアミノ基，シクロアルキル
アミノ基，アリールアミノ基，アラルキルアミノ基，環
状アミノ基，含窒素複素環基などの塩基性基が存在する
場合に形成しうる酸付加塩を意味する。また酸付加塩と
しては化合物[I]の分子内塩を形成している部分，すな
わち４位のカルボキシレート部分（Ｃ（ＯＯ ）と３位
のＣＨ_２Ａ 部分に酸が１モル付加して４位がカルボキ
シル基（ＣＯＯＨ），３位がＣＨ_２Ａ ・Ｍ ［式中、
Ｍ は無機酸，有機酸カらプロトンＨ をとりのぞいて
できるアニオンを示す。たとえばクロライドイオン，ブ
ロマイドイオン，スルフェートイオン，ｐ−トルエンス
ルホネートイオン，メタンスルホネートイオン，トリフ
ルオロアセテートイオンなど］となった塩も含まれる。
化合物[I]のエステル誘導体は分子中に含まれるカルボ
キシル基をエステル化することにより生成されうるエス
テルを意味し、合成中間体として利用できるエステルお
よび代謝上不安定な無毒のエステルである。合成中間体
として利用できるエステルとしてはＣ_１−６アルキル^※
エステル，Ｃ_２−６アルケニルエステル，Ｃ_３−１０シ
クロアルキルエステル，Ｃ_３−１０シクロアルキルＣ
_１−６アルキルエステル，Ｃ_６−１０アリール^※エステ
ル，Ｃ_７−１２アラルキル^※エステル，ジＣ_６−１０ア
リール−メチルエステル，トリＣ_６−１０アリール−メ
チルエステル，置換シリルエステルなどがあげられる。
Ｃ_１−６アルキル^※エステルを形成する「Ｃ_１−６アル
キル^※基」としてはたとえば、メチル，エチル，ｎ−プ
ロピル，イソプロピル，ｎ−ブチル，イソブチル，sec
−ブチル，tert−ブチル，ｎ−ペンチル，ｎ−ヘキシ
ル，ベンジルオキシメチル，２−メチルスルホニルエチ
ル，２−トリメチルシリルエチル，２，２，２−トリク
ロロエチル，２−ヨードエチル，アセチルメチル，ｐ−
ニトロベンゾイルメチル，ｐ−メシルベンゾイルメチ
ル，フタルイミドメチル，サクシンイミドメチル，ベン
ゼンスルホニルメチル，フェニルチオメチル，ジメチル
アミノエチル，ピリジン−１−オキシド−２−メチル，
メチルスルフィニルメチル，２−シアノ−１，１−ジメ
チルエチルなどを、Ｃ_２−６アルケニルエステルを形成
するＣ_２−６アルケニル基としてはここでも前記のも
の、すなわちビニル，アリル，１−プロペニル，イソプ
ロペニル，１−ブテニル，２−ブテニル，３−ブテニ
ル，メタリル，１，１−ジメチルアリル，３−メチル−
３−ブテニルなどを、Ｃ_３−１０シクロアルキルエステ
ルを形成するＣ_３−１０シクロアルキル基としてはここ
でも前記のもの、すなわちシクロプロピル，シクロブチ
ル，シクロペンチル，シクロヘキシル，シクロヘプチ
ル，ノルボルニル，アダマンチルなどを、Ｃ_３−１０シ
クロアルキルＣ_１−６アルキルエステルを形成するＣ
_３−１０シクロアルキルＣ_１−６アルキル基としてはこ
こでも前記のもの、すなわちシクロプロピルメチル，シ
クロペンチルメチル，シクヘキシルメチルなどを、Ｃ
_６−１０アリール^※エステルを形成する「Ｃ_６−１０ア
リール^※基」としてはたとえばフェニル，α−ナフチ
ル，β−ナフチル，ビフェニリル，ｐ−ニトロフェニ
ル，ｐ−クロロフェニルなどを、Ｃ_７−１２アラルキル
^※エステルを形成する「Ｃ_７−１２アラルキル^※基」と
してはたとえば、ベンジル，１−フェニルエチル，２−
フェニルエチル，フェニルプロピル，ナフチルメチル，
ｐ−ニトロベンジル，ｐ−メトキシベンジル，１−イン
ダニル，フェナシル，３，５−ジtert−ブチル−４−ヒ
ドロキシベンジルなどを、ジＣ_６−１０アリール−メチ
ルエステルを形成するジＣ_６−１０アリール−メチル基
としてはここでも前記のもの、すなわちベンズヒドリ
ル，ビス（ｐ−メトキシフェニル）メチルなどを、トリ
Ｃ_６−１０アリール−メチルエステルを形成するトリＣ
_６−１０アリール−メチル基としてはここでも前記のも
の、すなわちトリチルなどを、置換シリルエステルを形
成する置換シリル基としてはここでも前記のもの、すな
わちトリメチルシリル，tert−ブチルジメチルシリル，
−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−な
どをそれぞれ表わす。上記したエステルには４位のエス
テルも含まれる。このように４位が上記のエステル基で
あるものは３位がＣＨ_２Ａ ・Ｍ ［式中、Ｍ は前記
と同意義を示す］のような塩を形成している。

代謝上不安定な無毒のエステルとしてはペニシリン，セ
ファロスポリンの分野ですでに確立されているものが本
発明においても便宜に採用されうる。このような代謝上
不安定な無毒のエステルとしては、たとえばＣ_２−６ア
ルカノイルオキシＣ_１−６アルキルエステル，１−（Ｃ
_１−６アルコキシ）Ｃ_１−６アルキルエステル，１−
（Ｃ_１−６アルキルチオ）Ｃ_１−６アルキルエステルな
どがあげられ、Ｃ_２−６アルカノイルオキシＣ_１−６ア
ルキルエステルとしてはたとえば、アセトキシメチルエ
ステル，１−アセトキシエチルエステル，１−アセトキ
シブチルエステル，２−アセトキシエチルエステル，プ
ロピオニルオキシメチルエステル，ピバロイルオキシメ
チルエステルなどが、１−（Ｃ_１−６アルコキシ）Ｃ
_１−６アルキルエステルとしてはたとえば、メトキシメ
チルエステル，エトキシメチルエステル，イソプロポキ
シメチルエステル，１−メトキシエチルエステル，１−
エトキシエチルエステルなどが、１−（Ｃ_１−６アルキ
ルチオ）Ｃ_１−６アルキルエステルとしてはたとえば、
メチルチオメチルエステル，エチルチオメチルエステル
などがそれぞれあげられる。本発明は上記エステル誘導
体のほかに、生体内において化合物[I]に交換される生
理学的に受容しうる化合物も包含する。上記した合成中
間体として利用できるエステルおよび代謝上不安定な無
毒のエステルには４位のエステルも含まれる。このよう
に４位が上記のエステル基であるものは通常、３位がＣ
Ｈ_２Ａ ・Ｍ ［式中、Ｍ は前記と同意義を示す］の
ような塩を形成している。

また化合物[I]が水酸基を有する場合、その水酸基は保
護されていてもよい。水酸基の保護基としては、β−ラ
クタムおよび有機化学の分野で通常、水酸基の保護基と
して使用しうるものはすべて利用でき、前記のＣ_２−６
アルカノイル基，置換オキシカルボニル基，tert−ブチ
ル基，Ｃ_７−１２アラルキル^※基，ジＣ_６−１０アリー
ル−メチル基，トリＣ_６−１０アリール−メチル基，１
−（Ｃ_１−６アルコキシ）Ｃ_１６アルキル基，１−（Ｃ
_１−６アルキルチオ）Ｃ_１−６アルキル基，置換シリル
基などのほか、たとえば２−テトラヒドロピラニル，４
−メトキシ−４−テトラヒドロピラニルなどのアセター
ル残基などが用いられる。

化合物[I]が前記したアミノ基以外のアミノ基をさらに
有する場合、そのアミノ基もやはり保護されていてもよ
い。このようなアミノ基の保護基としては、前記のアミ
ノ基の保護基がここでもそのままあげられる。

本発明の化合物[I]のうち置換基Ｒ^０が一般式 （式中、Ｒ^３は前記と同意義を示す）で表わされる基で
ある化合物［Ｉ^ｂ′］はスペクトルの広い抗菌活性を有
し、人および動物における病原性細菌により生ずる種々
の疾病、たとえば気道感染，尿路感染の予防ならびに治
療のために使用されうる。抗菌性化合物［Ｉ^ｂ′］の抗
菌スペクトルの特徴としてつぎのような点があげられ
る。

(1)多種のグラム陰性菌に対して非常に高い活性を示
す。

(2)グラム陽性菌（たとえばスタフィロコッカス・アウ
レウス，コリネバクテリウム・ジフテリアエなど）に対
して高い活性を有している。

(3)通常のセファロスポリン系抗生物質による治療に感
受性でないシュウドモナス・エアルギノサに対して顕著
な効果を示す。

(4)多くのβ−ラクタマーゼ生産性グラム陰性菌（たと
えばエシェリヒア属，エンテロバクター属，セラチア
属，プロテウス属など）に対しても高い活性を有してい
る。

特にシュウドモナス属微生物に対しては従来からアミカ
シン，ゲンタマイシンなどのアミノグリコシド系抗生物
質が用いられてきたが、抗菌性化合物[I]はこれらのア
ミノグリコシド類に匹敵する抗菌力を示すばかりでな
く、人および動物に対する毒性がアミノグリコシド類よ
りも格段に低いので、大きな利点を持っている。

また本発明の抗菌性化合物［Ｉ^ｂ′］は優れた安定性を
有する、血中濃度が高い、効果の持続時間が長い、組織
移行性が顕著であるなどの特徴をも有している。

本発明の化合物[I]またはその塩もしくはエステルの製
造法を以下に詳しく述べる。以下に述べる方法は反応と
してはいずれも公知であり、それらの公知方法またはそ
れらに準ずる方法を応用することができる。

製造法(1)：化合物[I^b]（Ｒ^０は一般式 （式中、Ｒ^１およびＲ^３は前記と同意義を示す）で表わ
される基を示す）の合成法 たとえば（１−１）：７−アミノ化合物[II]またはその
塩もしくはエステルと一般式Ｒ^ｂＯＨ［式中、Ｒ^ｂは一
般式 （式中，Ｒ^１およびＲ^３は前記と同意義を示す）で表わ
される基を示す］で表わされるカルボン酸またはその塩
もしくは反応性誘導体とを反応させることにより化合物
[I^b]（Ｒ^０＝Ｒ^ｂ）を合成することができる。すなわち
次の反応式で示される。

［式中、記号Ｒ^ｂ，Ｚ，Ｒ^４，Ｒ^１３，およびＡは前記
と同意義を示す］ 本法は７−アミノ化合物[II]をカルボン酸Ｒ^ｂＯＨまた
はその塩もしくは反応性誘導体でアシル化する方法であ
る。この方法においてカルボン酸Ｒ^ｂＯＨは遊離のまま
あるいはその塩もしくは反応性誘導体が７−アミノ化合
物[II]の７位アミノ基のアシル化剤として用いられる。
すなわち遊離酸Ｒ^ｂＯＨあるいは遊離酸Ｒ^ｂＯＨの無機
塩，有機塩，酸ハライド，酸アジド，酸無水物，混合酸
無水物，活性アミド，活性エステル，活性チオエステル
などの反応性誘導体がアシル化反応に供される。無機塩
としてはアルカリ金属塩（たとえばナトリウム塩，カリ
ウム塩など），アルカリ土類金属塩（たとえばカルシウ
ム塩など）などが，有機塩としてはたとえばトリメチル
アミン塩，トリエチルアミン塩，tert−ブチルジメチル
アミン塩，ジベンジルメチルアミン塩，ベンジルジメチ
ルアミン塩，Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン塩，ピリジン
塩，キノリン塩などが、酸ハライドとしてはたとえば酸
クロライド，酸ブロマイドなどが，混合酸無水物として
はモノＣ_１−６アルキル炭酸混合酸無水物（たとえば遊
離酸Ｒ^ｂＯＨとモノメチル炭酸，モノエチル炭酸，モノ
イソプロピル炭酸，モノイソブチル炭酸，モノtert−ブ
チル炭酸，モノベンジル炭酸，モノ（Ｐ−ニトロベンジ
ル）炭酸，モノアリル炭酸などとの混合酸無水物），Ｃ
_１−６脂肪族カルボン酸混合酸無水物（たとえば遊離酸
Ｒ^ｂＯＨと酢酸，トリクロロ酢酸，シアノ酢酸，プロピ
オン酸，酪酸，イソ酪酸，吉草酸，イソ吉草酸，ピバル
酸，トリフルオロ酢酸，トリクロロ酢酸，アセト酢酸な
どとの混合酸無水物），Ｃ_７−１２芳香族カルボン酸混
合酸無水物（たとえば遊離酸Ｒ^ｂＯＨと安息香酸，ｐ−
トリイル酸，ｐ−クロロ安息香酸などとの混合酸無水
物），有機スルホン酸混合酸無水物（たとえば遊離酸Ｒ
^ｂＯＨとメタンスルホン酸，エタンスルホン酸，ベンゼ
ンスルホン酸，ｐ−トルエンスルホン酸などとの混合酸
無水物）などが，活性アミドとしては含窒素複素環化合
物とのアミド（たとえば遊離酸Ｒ^ｂＯＨとピラゾール，
イミダゾール，ベンゾトリアゾールなどとの酸アミド
で，これらの含窒素複素環化合物は前記のＣ_１−６アル
キル基，Ｃ_１−６アルコキシ基，ハロゲン原子，オキソ
基，チオキソ基，Ｃ_１−６アルキルチオ基などで置換さ
れていてもよい）などがあげられる。活性エステルとし
てはβ−ラクタムおよびペプチド合成の分野でこの目的
に用いられるものはすべて利用でき、たとえば有機リン
酸エステル（たとえばジエトキシリン酸エステル，ジフ
ェノキシリン酸エステルなど）のほかｐ−ニトロフェニ
ルエステル、２，４−ジニトロフェニルエステル，シア
ノメチルエステル，ペンタクロロフェニルエステル，Ｎ
−ヒドロキシサクシンイミドエステル，Ｎ−ヒドロキシ
フタルイミドエステル，１−ヒドロキシベンゾトリアゾ
ールエステル，６−クロロ−１−ヒドロキシベンゾトリ
アゾールエステル，１−ヒドロキシ−１Ｈ−２−ピリド
ンエステルなどがあげられる。活性チオエステルとして
は芳香族複素環チオール化合物とのエステル（たとえば
２−ピリジルチオールエステル，２−ベンゾチアゾリル
チオ−ルエステルなどで，これらの複素環は前記のＣ
_１−６アルキル基，Ｃ_１−６アルコキシ基，ハロゲン原
子，Ｃ_１−６アルキルチオ基などで置換されていてもよ
い）があげられる。一方，７−アミノ化合物[II]は遊離
のまま，その塩あるいはエステルとして用いられる。

７−アミノ化合物[II]はたとえば、一般式 ［式中、記号Ｒ^５は水酸基，アシルオキシ基，カルバモ
イルオキシ基，置換カルバモイルオキシ基またはハロゲ
ン原子を、その他の記号は前記と同意義を示す］で表わ
される化合物またはその塩もしくはエステルと一般式
Ａ′［Ａ′は置換されていてもよい４，５−位で縮合環
を形成するチアゾールを示す］で表わされるチアゾール
化合物またはその塩とを反応させることにより合成する
ことができる。すなわち次の反応式で示される。

［式中、記号Ｚ，Ｒ^４，Ｒ^１３，Ｒ^５およびＡは前記と
同意義を示す］ この反応は下記の製造法（１−２）で述べる求核置換反
応と本質的に同一の反応である。７−アミノ化合物[II]
の塩としては無機塩基塩，アンモニウム塩，有機塩基
塩，無機酸付加塩，有機酸付加塩などがあげられる。無
機塩基塩としてはアルカリ金属塩（たとえばナトリウム
塩，カリウム塩など），アルカリ土類金属塩（たとえば
カルシウム塩など）などが、有機塩基塩としてはたとえ
ばトリメチルアミン塩，トリエチルアミン塩，tert−ブ
チルジメチルアミン塩，ジベンジルメチルアミン塩，ベ
ンジルジメチルアミン塩，Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン
塩，ピリジン塩，キノリン塩などが、無機酸付加塩とし
てはたとえば塩酸塩，臭化水素酸塩，硫酸塩，硝酸塩，
リン酸塩などが、有機酸付加塩としてはギ酸塩，酢酸
塩，トリフルオロ酢酸塩，メタンスルホン酸塩，ｐ−ト
ルエンスルホン酸塩などがあげられる。７−アミノ化合
物[II]のエステルとしては化合物[I]のエステル誘導体
としてすでに述べたエステルがここでもそのままあげら
れる。すなわちＣ_１−６アルキル^※エステル，Ｃ_２−６
アルケニルエステル，Ｃ_３−１０シクロアルキルエステ
ル，Ｃ_３−６シクロアルキルＣ_１−６アルキルエステ
ル，Ｃ_６−１０アリール^※エステル，Ｃ_７−１２アラル
キル^※エステル，ジＣ_６−１０アリールメチルエステ
ル，トリＣ_６−１０アリールメチルエステル，Ｃ_２−６
アルカノイルオキシＣ_１−６アルキルエステルなどがあ
げられる。

原料物質Ｒ^ｂＯＨおよびその塩・反応性誘導体は公知の
方法またはそれに準ずる方法によって容易に製造でき
る。

化合物Ｒ^ｂＯＨの反応性誘導体は反応混合物から単離さ
れた物質として７−アミノ化合物[II]と反応させてもよ
いし、または単離前の化合物Ｒ^ｂＯＨの反応性誘導体を
含有する反応混合物をそのまま７−アミノ化合物[II]と
反応させることもできる。カルボン酸Ｒ^ｂＯＨを遊離酸
または塩の状態で使用する場合は適当な縮合剤を用い
る。縮合剤としてはたとえばＮ，Ｎ′−ジシクロヘキシ
ルカルボジイミドなどのＮ，Ｎ′−ジ置換カルボジイミ
ド類，たとえばＮ，Ｎ′−カルボニルジイミダゾール，
Ｎ，Ｎ′−チオカルボニルジイミダゾールなどのアゾラ
イド類，たとえばＮ−エトキシカルボニル−２−エトキ
シ−１，２−ジヒドロキノリン，オキシ塩化リン，アル
コキシアセチレンなどの脱水剤，たとえば２−クロロピ
リジニウムメチルアイオダイド，２−フルオロピリジニ
ウムメチルアイオダイドなどの２−ハロゲノピリジニウ
ム塩類などが用いられる。これらの縮合剤を用いた場
合、反応はカルボン酸Ｒ^ｂＯＨの反応性誘導体を経て進
行すると考えられる。反応は一般に溶媒中で行なわれ、
反応を阻害しない溶媒が適宜に選択される。このような
溶媒としてはたとえばジオキサン，テトラヒドロフラ
ン，ジエチルエーテル，tert−ブチルメチルエーテル，
ジイソプロピルエーテル，エチレングリコール−ジメチ
ルエーテルなどのエーテル類，たとえばギ酸エチル，酢
酸エチル，酢酸ｎ−ブチルなどのエステル類，たとえば
ジクロロメタン，クロロホルム，四塩化炭素，トリクレ
ン，１，２−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素
類，たとえばｎ−ヘキサン，ベンゼン，トルエンなどの
炭化水素類，たとえばホルムアミド，Ｎ，Ｎ−ジメチル
ホルムアミド，Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドなどのア
ミド類，たとえばアセトン，メチルエチルケトン，メチ
ルイソブチルケトンなどのケトン類，たとえばアセトニ
トリル，プロピオニトリルなどのニトリル類などのほ
か、ジメチルスルホキシド，スルホラン，ヘキサメチル
ホスホルアミド，水なとが単独または混合溶媒として用
いられる。アシル化剤（Ｒ^ｂＯＨ）の使用量は７−アミ
ノ化合物[II]１モルに対して通常１〜５モル，好ましく
は１〜２モルである。反応は−80〜80℃，好ましくは−
40〜50℃，最も好ましくは−30〜30℃の温度範囲で行わ
れる。反応時間は７−アミノ化合物[II]およびカルボン
酸Ｒ^ｂＯＨの種類，溶媒の種類（混合溶媒の場合はその
混合比も）、反応温度などに依存し、通常１分〜72時
間，好ましくは15〜３時間である。アシル化剤として酸
ハライドを用いた場合は放出されるハロゲン化水素を反
応系から除去する目的で脱酸剤の存在下に反応を行うこ
とができる。このような脱酸剤としてはたとえば炭酸ナ
トリウム，炭酸カリウム，炭酸カルシウム，炭酸水素ナ
トリウムなどの無機塩基，たとえばトリエチルアミン，
トリ（ｎ−プロピル）アミン，トリ（ｎ−ブチル）アミ
ン，ジイソプロピルエチルアミン，シクロヘキシルジメ
チルアミン，ピリジン，ルチジン，γ−コリジン，Ｎ，
Ｎ−ジメチルアニリン，Ｎ−メチルピペジリン，Ｎ−メ
チルピロリジン，Ｎ−メチルモルホリンなどの第３級ア
ミン，たとえばプロピレンオキシド，エピクロルヒドリ
ンなどのアルキレンオキシドなとがあげられる。

（１−２）：一般式 ［式中，Ｒ^０，Ｚ，Ｒ^４，Ｒ^１３およびＲ^５は前記と同
意義を示す］で表わされる化合物またはその塩もしくは
エステルと一般式Ａ′［Ａ′は前記と同意義を示す］で
表わされるチアゾール化合物またはその塩とを反応させ
ることにより化合物[I^b]を合成することができる。すな
わち次の反応式で示される。

［式中，記号Ｒ^０，Ｚ，Ｒ^４，Ｒ^１３，Ｒ^５およびＡは
前記と同意義を示す］ この反応は化合物[X]またはその塩もしくはエステルに
対してチアゾール化合物Ａ′またはその塩を反応させ、
求該置換反応により化合物[I^b]（Ｒ^０＝Ｒ^ｂ）を合成す
る方法である。化合物[X]においてＲ^５はここでも水酸
基，アシルオキシ基，カルバモイルオキシ基，置換カル
バモイルオキシ基またはハロゲン原子を示す。化合物
[X]は遊離のまま、その塩あるいはエステルとして用い
られる。化合物[X]の塩，エステルとしては製造法（１
−１）において７−アミノ化合物[II]の塩，エステルと
してあげたものがここでもそのままあてはめられる。化
合物[X]，その塩およびエステルは公知の方法またはそ
れに準ずる方法によって容易に製造できる。一方チアゾ
ール化合物Ａ′は置換されていてもよい４，５−位で縮
合環を形成するチアゾールを示す。ここで縮合環はチア
ゾール環と脂環，ベンゼン環または５〜６員芳香族複素
環が縮合した形のものを意味し、この縮合環はさらに別
の脂環，ベンゼン環または５〜６員芳香族複素環と縮合
していてもよい。置換されていてもよい４，５−位で縮
合環を形成するチアゾール（Ａ′）の４，５−位で縮合
環を形成するチアゾールは下記の一般式 のいずれかで書き表わせるチアゾール化合物であって、
化合物[X]とＡ^１′，Ａ^２′またはＡ^３′とを反応させ
た場合に合成できる目的化合物[I^b]のＡ 基がそれぞれ
前記のＡ^１基，Ａ^２基またはＡ^３基に対応する。したが
ってＡ^１′のｍ，Ａ^３′のＢは前記したものと同意義を
表わし、Ａ^１′，Ａ^２′およびＡ^３′はＡ^１，Ａ^２およ
びＡ^３と同様にさらに縮合していてもよいし、また
Ａ^１，Ａ^２およびＡ^３上の置換基と同様の置換基を有し
ていてもよい。Ａ^１′を具体的に示せばたとえば などである。Ａ^２′を具体的に示せばたとえば などである。Ａ^３′を具体的に示せばたとえば などである。

チアゾール化合物Ａ′は塩としても用いられる。化合物
Ａ′の塩としてはたとえば塩酸塩，臭化水素酸塩，硫酸
塩，硝酸塩，リン酸塩などの無機酸付加塩，たとえばギ
酸塩，酢酸塩，トリフルオロ酢酸塩，メタンスルホン塩
酸，ｐ−トルエンスルホン酸塩などの有機酸付加塩など
があげられる。チアゾール化合物Ａ′およびその塩の一
般的合成法は既知であり、文献記載の公知方法またはそ
れに準ずる方法によって容易に製造できる。チアゾール
化合物Ａ′による化合物[X]への本求核置換反応はそれ
自体よく知られた反応であって、通常溶媒中で行なわれ
る。この反応に用いられる溶媒としては製造法（１−
１）で使用されるエーテル類，エステル類，ハロゲン化
炭化水素類，炭化水素類，アミド類，ケトン類，ニトリ
ル類，水などの溶媒がそのままあてはめられるが、これ
らのほかにたとえばメタノール，エタノール、ｎ−プロ
パノール，イソプロパノール，エチレングリコール、２
−メトキシエタノールなどのアルコール類も用いられ
る。またチアゾール化合物Ａ′が液体の場合、この化合
物Ａ′を化合物[X]に対して大過剰（たとえば10〜200倍
モル）使用して溶媒をも兼ねさせる場合がある。この場
合、上記の溶媒を使用しなくてもよいし、または上記の
溶媒とＡ′とを混合溶媒としてもよい。

（１−２−１）：Ｒ^５がアシルオキシ基，カルバモイル
オキシ基，置換カルバモイルオキシ基の場合 より好ましい溶媒は水もしくは水と混合しうる有機溶媒
と水との混合溶媒で、水と混合しうる有機溶媒のうち、
より好ましいものはアセトン，メチルエチルケトン，ア
セトニトリルなどである。求核試薬Ａ′の使用量は化合
物[X]１モルに対して通常１〜５モル，好ましくは１〜
３モルである。反応は10〜100℃，好ましくは30〜80℃
の温度範囲で行なわれる。反応時間は化合物[X]および
化合物Ａ′の種類，溶媒の種類（混合溶媒の場合はその
混合比），反応温度などに依存し、通常30分〜５日間，
好ましくは１〜５時間である。反応はpH２〜８，好まし
くは中性付近すなわちpH５〜８で行なうのが有利であ
る。また本反応は通常２〜30当量のヨウ化物またはチオ
シアン酸塩の存在下でより容易に進行する。このような
塩としてはヨウ化ナトリウム，ヨウ化カリウム，チオシ
アン酸ナトリウム，チオシアン酸カリウムなどがあげら
れる。上記の塩のほか、たとえばトリメチルベンジルア
ンモニウムブロマイド，トリエチルベンジルアンモニウ
ムブロマイド，トリエチルベンジルアンモニウムヒドロ
キサイドのような界面活性作用を有する第４級アンモニ
ウム塩を添加することによって反応を円滑に進行させう
る場合もある。

（１−２−２）：Ｒ^５が水酸基の場合 たとえば日本国公開特許公報昭58-43979などに記載され
た方法にしたがって有機リン化合物の存在下に行う。こ
こで用いられる有機リン化合物としてはたとえばｏ−フ
ェニレンホスホロクロリデエイト、ｏ−フェニレンホス
ホロフロリデエイト、メチル ｏ−フェニレンホスフェ
イト、エチル ｏ−フェニレンホスフェイト、プロピル
ｏ−フェニレンホスフェイト、イソプロピル ｏ−フ
ェニレンホスフェイト、ブチル ｏ−フェニレンホスフ
ェイト、イソブチル ｏ−フェニレンホスフェイト、se
c−ブチル ｏ−フェニレンホスフェイト、シクロヘキ
シル ｏ−フェニレンホスフェイト、フェニル ｏ−フ
ェニレンホスフェイト、ｐ−クロロフェニル ｏ−フェ
ニレンホスフェイト、ｐ−アセチル ｏ−フェニレンホ
スフェイト、２−クロロエチル ｏ−フェニレンホスフ
ェイト、２，２，２−トリクロロエチル ｏ−フェニレ
ンホスフェイト、エトキシカルボニルメチル ｏ−フェ
ニレンホスフェイト、カルバモイルメチル ｏ−フェニ
レンホスフェイト、２−シアノエチル ｏ−フェニレン
ホスフェイト、２−メチルスルホニルエチル ｏ−フェ
ニレンホスフェイト、ベンジル ｏ−フェニレンホスフ
ェイト、１，１−ジメチル−２−プロペニル ｏ−フェ
ニレンホスフェイト、２−プロペニル ｏ−フェニレン
ホスフェイト、３−メチル−２−ブテニル ｏ−フェニ
レンホスフェイト、２−チエニルメチル ｏ−フェニレ
ンホスフェイト、２−フルフリルメチル ｏ−フェニレ
ンホスフェイト、ビス−ｏ−フェニレンピロホスフェイ
ト、２−フェニル−１，３−２−ベンゾジオキサホスホ
ール−２−オキシド、２−（ｐ−クロロフェニル）−
１，３，２−ベンゾジオキサホスホール−２−オキシ
ド、２−ブチル−１，３，２−ベンゾジオキサホスホー
ル−２−オキシド、２−アニリノ−１，３，２−ベンゾ
ジオキサホスホール−２−オキシド、２−フェニルチオ
−１，３，２−ベンゾジオキサホスホール−２−オキシ
ド、２−メトキシ−５−メチル−１，３，２−ベンゾジ
オキサホスホール−２−オキシド，２−クロロ−５−エ
トキシカルボニル−１，３，２−ベンゾジオキサホスホ
ール−２−オキシド、２−メトキシ−５−エトキシカル
ボニル−１，３，２−ベンゾジオキサホスホール−２−
オキシド、５−エトキシカルボニル−２−フェニル−
１，３，２−ベンゾジオキサホスホール−２−オキシ
ド、２，５−ジクロロ−１，３，２−ベンゾジオキサホ
スホール−２−オキシド、４−クロロ−２−メトキシ−
１，３，２−ベンゾジオキサホスホール−２−オキシ
ド、２−メトキシ−４−メチル−１，３，２−ベンゾジ
オキサホスホール−２−オキシド、２，３−ナフタレン
メチルホスフェイト、５，６−ジメチル−２−メトキシ
−１，３，２−ベンゾジオキサホスホール−２−オキシ
ド、２，２−ジヒドロ−４，５，６，７−テトラクロロ
−２，２，２−トリメトキシ−１，３，２−ベンゾジオ
キサホスホール、２，２−ジヒドロ−４，５，６，７−
テトラクロロ−２，２，２−トリフェノキシ−１，３，
２−ベンゾジオキサホスホール、２，２−ジヒドロ−
２，２−エチレンジオキシ−２−メトキシ−１，３，２
−ベンゾジオキサホスホール、２，２−ジヒドロ−２−
ベンジル−２，２−ジメトキシ−１，３，２−ベンゾジ
オキサホスホール、２，２−ジヒドロ−４，５−ベンゾ
−２，２，２−トリメトキシ−１，３，２−ベンゾジオ
キサホスホール、２，２−ジヒドロ−２，２，２−トリ
フェノキシ−１，３，２−ベンゾジオキサホスホール、
２，２−ジヒドロ−２，２−（ｏ−フェニレンジオキ
シ）−２−フェノキシ−１，３，２−ベンゾジオキサホ
スホール、２−クロロ−２，２−ジヒドロ−２，２−
（ｏ−フェニレンジオキシ）−１，３，２−ベンゾジオ
キサホスホール、２，２−ジヒドロ−２−メトキシ−2,
2−（ｏ−フェニレンジオキシ）−1,3,2−ベンゾジオキ
サホスホール、2,2−ジヒドロ−2,2,2−トリクロロ−1,
3,2−ベンゾジオキサホスホール、9,10,−フェナンスレ
ンジオキシロトリメトキシホスホラス、ｏ−フェニレン
ホスホロクロリダイト、ｏ−フェニレンホスホロブロミ
ダイト、ｏ−フェニレンホスホロフロリダイト、メチル
ｏ−フェニレンホスファイト、ブチル ｏ−フェニレ
ンホスファイト、メトキシカルボニルメチル ｏ−フェ
ニレンホスファイト、フェニル ｏ−フェニレンホスフ
ァイト、ｐ−クロロ（またはｐ−ニトロ）フェニル ｏ
−フェニレンホスファイト、２−フェニル−1,3,2−ベ
ンゾジオキサホスホール、ビス−ｏ−フェニレンピロホ
スファイト、２−メトキシ−５−メチル−1,3,2−ベン
ゾジオキサホスホール、５−アセチル−２−フェノキシ
−1,3,2−ベンゾジオキサホスホール、9,10,−フェナン
スレンホスホロクロリダイト、２−クロロ−４−メチル
−1,3,2−ベンゾジオキサホスホール、２−クロロ−２
−チオキソ−1,3,2−ベンゾジオキサホスホール、２−
フェノキシ−２−オキソ−1,3,2−ベンゾジアザホスホ
ール、２−フェノキシ−1,3,2−ベンゾジオキサアザホ
スホール、2,2−ジヒドロ−２−オキソ−２−メトキシ
−4,5−ジメチル−1,3,2−ジオキサホスホール、2,2−
ジヒドロ−２−オキソ−２−クロロ−4,5−ジメチル−
1,3,2−ジオキサホスホール、2,2−ジヒドロ−２−オキ
ソ−２−（１−イミダゾリル）−4,5−ジメチル−1,3,2
−ジオキサホスホール、2,2−ジヒドロ−2,2−エチレン
ジオキシ−２−メトキシ−4,5−ジメチル−1,3,2−ジオ
キサホスホール、2,2−ジヒドロ−2,2−ジメトキシ−２
−フェノキシ−4,5−ジメチル−1,3,2−ジオキサホスホ
ール、2,2−ジヒドロ−2,2,2−トリメトキシ−4,5−ジ
メチル−1,3,2−ジオキサホスホール、2,2−ジヒドロ−
2,2,2−トリフェノキシ−4,5−ジメチル−1,3,2−ジオ
キサホスホール、2,2−ジヒドロ−2,2,2−トリエトキシ
−4,5−ジフェニル−1,3,2−ジオキサホスホール、2,2
−ジヒドロ−2,2,2−トリメトキシ−4,5−ジフェニル−
1,3,2−ジオキサホスホール、2,2−ジヒドロ−２−オキ
ソ−２−メトキシ−4,5−ジフェニル−1,3,2−ジオキサ
ホスホール、2,2−ジヒドロ−2,2,2−トリメトキシ−1,
3,2−ジオキサホスホール、2,2−ジヒドロ−2,2,2−ト
リメトキシ−４−フェニル−1,3,2−ジオキサホスホー
ル，2,2−ジヒドロ−2,2,2−トリメトキシ−４−メチル
−1,3,2−ジオキサホスホール、2,2−ジヒドロ−2,2,2
−トリメトキシ−４−メチル−５−フェニルカルバモイ
ル−1,3,2−ジオキサホスホール、2,2,4,5,6,7−ヘキサ
ヒドロ−2,2,2−トリメトキシ−1,3,2−ベンゾジオキサ
ホスホール、2,2′−オキシビス（4,5−ジメチル−2,2
−ジヒドロ−1,3,2−ジオキサホスホール）、2,2′−オ
キシビス（4,5−ジメチル−2,2−ジヒドロ−1,3,2−ジ
オキサホスホール−２−オキシド）などがあげられる。
反応に用いる溶媒は反応を阻害しないものであればよ
く、好ましくは前記したエーテル類，エステル類，ハロ
ゲン化炭化水素類，炭化水素類，アミド類，ケトン類，
ニトリル類などが単独または混合溶媒として用いられ
る。とりわけ、たとえばジクロロメタン，アセトニトリ
ル，ホルムアミド，ホルムアミドとアセトニトリルの混
合溶媒，ジクロロメタンとアセトニトリルの混合溶媒な
どを使用すると好効果が得られる。求核試薬Ａ′および
有機リン化合物の使用量は化合物[X]１モルに対してそ
れぞれ１〜５モル，１〜10モル，より好ましくはそれぞ
れ１〜３モル，１〜６モルである。反応は−80〜50℃，
好ましくは−40〜40℃の温度範囲で行なわれる。反応時
間は通常１分〜15時間，好ましくは５分〜２時間であ
る。反応系に有機塩基を添加してもよい。このような有
機塩基としてはたとえばトリエチルアミン，トリ（ｎ−
ブチル）アミン，ジ（ｎ−ブチル）アミン，ジイソブチ
ルアミン，ジシクロヘキシルアミン，2,6−ルチジンな
どのアミン類があげられる。塩基の添加量は化合物[X]
１モルに対して１〜５モルがよい。

（１−２−３）：Ｒ^５がハロゲン原子の場合 好ましい溶媒は前記のエーテル類，エステル類，ハロゲ
ン化炭化水素類，炭化水素類，アミド類，ケトン類，ニ
トリル類，アルコール類，水などである。求核試薬Ａ′
の使用量は化合物[X]１モルに対して通常１〜５モル，
好ましくは１〜３モルである。反応は０〜80℃，好まし
くは20〜60℃の温度範囲で行なわれる。反応時間は通常
30分〜15時間，好ましくは１〜５時間である。反応を促
進するため脱ハロゲン剤の存在下に反応を行うこともで
きる。このような脱ハロゲン剤としては製造法（２−
１）の項で述べた無機塩基，第３級アミン，アルキレン
オキシド類などの脱酸剤がここでもあげられるが、求核
試薬Ａ′自身を脱ハロゲン剤として働かせてもよい。こ
の場合には化合物Ａ′を化合物[X]１モルに対して２モ
ル以上使用する。Ｒ^５で示されるハロゲン原子は塩素，
臭素，ヨウ素などであるが、好ましくはヨウ素である。
Ｒ^５がヨウ素である化合物[X]はたとえば日本国公開特
許公報昭58-57390に記載の方法またはそれに準ずる方法
などを用いて容易に製造できる。

ここにあげた方法により前記した化合物[I^b]を合成する
ことができる。反応式は次の示すとおりである。

化合物[IV]は公知の方法もしくはそれに準ずる方法によ
り容易に製造することができる。

また化合物[I^b]を含む下記の化合物[XI]は上記の製造法
（１−１）または（１−２）の方法のほか、下記の製造
法（１−３）の方法によっても製造することができる。

（１−３）：反応式は次のとおりである。

［式中、記号Ｒ^１，Ｚ，Ｒ^４，Ｒ^１３，ＡおよびＲ^３は
前記と同意義を示す］ 本法はヒドロキシイミノ化合物[V]に対して一般式Ｒ
^３″ＯＨで示される化合物またはその反応性誘導体を反
応させて化合物[XI]を合成する方法であり、よく知られ
たエーテル化反応である。

Ｒ^３″は置換されていてもよい炭化水素基を示し、この
ような炭化水素基としてはＲ^３における置換されていて
もよい炭化水素基としてすでにあげたものがここでもそ
のままあてはめられる。Ｒ^３″ＯＨはそのままあるいは
その反応性誘導体として用いられる。Ｒ^３″ＯＨの反応
性誘導体はヒドロキシイミノ化合物[V]の水素原子とと
もに離脱する基を有するＲ^３″ＯＨの誘導体、すなわち
一般式Ｒ^３″Ｙで表わされる化合物を意味する。ここで
水素原子とともに離脱する基Ｙはハロゲン原子，スルホ
基，モノ置換スルホニルオキシ基などを示す。ハロゲン
原子としては塩素，臭素，ヨウ素などがあげられる。モ
ノ置換スルホニルオキシ基としてはたとえばメタンスル
ホニルオキシ，エタンスルホニルオキシ，ベンゼンスル
ホニルオキシ，ｐ−トルエンスルホニルオキシなどのＣ
_１−６アルキルスルホニルオキシ基，Ｃ_６−１０アリー
ルスルホニルオキシ基などがあげられる。また特に化合
物[V]のＣ_１−４アルキルエーテル体を製造する場合に
は上記の反応性誘導体のほか、たとえばジアゾメタン，
ジアゾエタンなどのＣ_１−４ジアゾアルカン，たとえば
ジメチル硫酸，ジエチル硫酸などのジＣ_１−４アルキル
硫酸なども用いられる。

化合物[V]は製造法（１−１）で述べたアシル化反応ま
たは製造法（１−２）で述べた求核置換反応にしたがっ
て合成することができる。すなわち、それぞれ次の反応
式で示される。

また原料化合物[XII]および[X′]も公知の方法またはそ
れに準ずる方法により容易に合成することができる。化
合物Ｒ^３″ＯＨおよびその反応性誘導体も公知の方法ま
たはそれに準ずる方法により容易に合成することができ
る。

（１−３−１）：Ｒ^３″ＯＨを使用する場合 適当な脱水剤を用いてヒドロキシイミノ化合物[V]と反
応させ化合物[XI]を合成する。このような目的に使用さ
れる脱水剤としてはたとえばオキシ塩化リン，塩化チオ
ニル，アゾジカルボン酸ジアルキル（通常、ホスフィン
との共存で使用される）、Ｎ，Ｎ′−ジシクロロヘキシ
ルカルボジイミドなどがあげられ、好ましくはトリフェ
ニルホスフィン共存下のアゾジカルボン酸ジエチルであ
る。トリフェニルホスフィン共存下でアゾジカルボン酸
ジエチルを用いる反応は通常、無水の溶媒中で行なわ
れ、前記のエーテル類，炭化水素類などが使用される。
ヒドロキシイミノ化合物[V]１モルに対して化合物Ｒ
^３″ＯＨ，アゾジカルボン酸エチル，トリフェニルホス
フィンはいずれも１〜1.5モル用いられる。０〜50℃の
温度範囲で１〜４日間を要する。

（１−３−２）：Ｒ^３″Ｙを使用する場合 Ｒ^３″Ｙとヒドロキシイミノ化合物[V]との反応は通常
のエーテル化反応であって、溶媒中で行なわれる。溶媒
としては製造法（１−１）の項であげたエーテル類，エ
ステル類，ハロゲン化炭化水素類，炭化水素類，アミド
類，ケトン類，ニトリル類，アルコール類，水などの溶
媒もしくは混合溶媒がここでもあげられ、好ましくは水
と混合しうる溶媒と水との混合溶媒（たとえば含水メタ
ノール，含水エタノール，含水アセトン，含水ジメチル
スルホキシドなど）である。本反応は適当な塩基の存在
下に円滑に進行させることもできる。このような塩基と
してはたとえば炭酸ナトリウム，炭酸水素ナトリウム，
炭酸カリウムなどのアルカリ金属塩，たとえば水酸化ナ
トリウム，水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物
などの無機塩基があげられる。また本反応をpH7.5〜8.5
の緩衝溶液中で行なってもよい。原料化合物[V]１モル
に対して使用する試薬Ｒ^３″Ｙおよび塩基のモル数はそ
れぞれ１〜5,1〜10，好ましくはそれぞれ１〜３，１〜
５である。反応温度は−30〜100℃，好ましくは０〜80
℃の範囲である。反応時間は10分〜15時間，好ましくは
30〜５時間である。

（１−３−３）：Ｃ_１−４ジアゾアルカンを使用する場
合 反応は通常溶液中で行なわれる。溶液としては前記のエ
ーテル類，炭化水素類などが用いられる。ヒドロキシイ
ミノ化合物[V]を溶液に溶解したのち、ジアゾアルカン
化合物の溶液を加えると反応は信号する。試薬は化合物
[V]１モルに対して１〜10モル，好ましくは１〜５モル
使用する。反応は比較的低温で行なわれ−50〜20℃，好
ましくは−30〜０℃である。反応時間は１分〜５時間，
好ましくは10分〜１時間である。

（１−３−４）：ジＣ_１−４アルキル硫酸を使用する場
合 反応は通常、水もしくは水と混合しうる溶媒と水との混
合溶媒中で行なわれる。混合溶媒としては製造法（１−
３−２）であげた含水溶媒がここでもあげられる。この
反応は通常、たとえば水酸化ナトリウム，水酸化カリウ
ムなどのアルカリ金属水酸化物などの無機塩基の存在下
に行なわれる。試薬は化合物[V]１モルに対して0.5〜10
モル，好ましくは１〜２モル使用する。反応温度は20〜
100℃，好ましくは50〜100℃の範囲である。反応時間は
10分〜５時間，好ましくは30〜３時間である。

また上記した製造法（１−１）〜（１−３）により製造
される化合物[I^b]は、シン[Z]−，アンチ[E]−異性体の
混合物として得られる場合がある。混合物から所望のシ
ン異性体を分離するには自体公知の方法またはそれに準
ずる方法が適用される。それらの方法としてはたとえば
溶解性，結晶性などの差を利用した分別法，クロマトグ
ラフィーによる分離，エステル誘導体の加水分解速度の
差を利用した分離法などがあげられる。

製造法(2)：化合物[I^c]（Ｒ^０はアルコキシカルボニル
基を示す）の合成法 たとえば、７−アミノ化合物[II]またはその塩もしくは
エステルとオキシカルボニル化試薬とを反応させること
により合成することができる。オキシカルボニル化試薬
としてはたとえば、置換オキシカルボニルハライド（ハ
ロゲンとしては塩素，臭素，ヨウ素など），置換オキシ
カルボニルアジド，置換オキシカルボニック アンヒド
リド，置換オキシカルボニルスルフィド、置換オキシカ
ルボニアゾライド（アゾールとしてはイミダゾール，Ｎ
−メチルイミダゾール，トリアゾール，２−チオオキサ
ゾリジン，２−オキソオキサゾリジンなど）などが用い
られる。反応は一般に溶媒中で行なわれ、無水の溶媒が
より好ましい。このような溶媒としてはたとえば、ジオ
キサン，テトラヒドロフラン，ジエチルエーテル、tert
−ブチルメチルエーテル，ジイソプロピルエーテル，エ
チレングリコール−ジメチルエーテルなどのエーテル
類，たとえばジクロロエタン，クロロホルム，四塩化炭
素，トリクレン，1,2−ジクロロエタンなどのハロゲン
化炭化水素類，たとえばアセトニトリルなどのニトリル
類，たとえばメタノール，エタノール，プロパノール，
ブタノールなどのアルコール類，たとえばｎ−ヘキサ
ン，ベンゼン，トルエンなどの炭化水素類たとえばジメ
チルホルムアミド，ジメチルアセトアミド，ヘキサメチ
ルホスホラストリアミドなどのアミド類，たとえばジメ
チルスルホキシドなどのスルホキシド類などが繁用さ
れ、単独または混合溶媒として用いられる。オキシカル
ボニル化試薬の使用量は７−アミノ化合物[II]１モルに
対して通常１〜５モル，好ましくは１〜２モルである。
反応は−80〜80℃，好ましくは−40〜50℃，最も好まし
くは−30〜30℃の温度範囲で行なわれる。反応時間は７
−アミノ化合物[II]およびオキシカルボニル化試薬の種
類，溶媒の種類，反応温度などに依存し、通常１分〜48
時間，好ましくは10分〜２時間である。オキシカルボニ
ル化試薬として置換オキシカルボニルハライドを用いた
場合は放出されるハロゲン化水素を反応系から除去する
目的で脱酸剤の存在下に反応を行うことができる。この
ような脱酸剤としてはたとえば炭酸ナトリウム，炭酸カ
リウム，炭酸カルシウム，炭酸水素ナトリウムなどの無
機塩基，たとえばトリエチルアミン，トリ（ｎ−プロピ
ル）アミン，トリ（ｎ−ブチル）アミン，ジイソプロピ
ルエチルアミン，シクロヘキシルジメチルアミン，ピリ
ジン，ルチジン，γ−コリジン，Ｎ，Ｎ−ジメチルアニ
リン，Ｎ−メチルピペジリン，Ｎ−メチルピロリジン，
Ｎ−メチルモルホリンなどの第３級アミン，たとえばプ
ロピレンオキシド，エピクロルヒドリンなどのアルキレ
ンオキシド類などがあげられる。上記した製造法(1)〜
(2)の反応ののち、要すれば保護基の除去および精製を
行うことにより本発明の目的化合物[I]を得ることがで
きる。以下に保護基の除去法および精製法について説明
する。

保護基除去法：前記した通りβ−ラクタムおよびペプチ
ド合成の分野ではアミノ基の保護基は充分に研究されて
いてその保護法はすでに確立されている。また、アミノ
保護基の除去法も同様に確立されており、本発明におい
ても保護基の除去は従来の技術をそのまま利用できる。
たとえばモノハロゲノアセチル基（クロロアセチル，ブ
ロモアセチルなど）はチオ尿素により，アルコキシカル
ボニル基（メトキシカルボニル，エトキシカルボニル，
tert−ブトキシカルボニルなど）は酸（たとえば塩酸な
ど）により，アラルキルオキシカルボニル基（ベンジル
オキシカルボニル，ｐ−メチルベンジルオキシカルボニ
ル，ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルなど）は接触
還元により，2,2,2−トリクロロエトキシカルボニルは
亜鉛と酸（たとえば酢酸など）により除去することがで
きる。一方、合成中間体として化合物[I]がエステル化
されている場合もそれ自体公知の方法またはそれに準ず
る方法によってエステル残基を除去することができる。
たとえば２−メチルスルホニルエチルエステルはアルカ
リにより，アラルキルエステル（ベンジルエステル，ｐ
−メトキシベンジルエステル、ｐ−ニトロベンジルエス
テルなど）は酸（たとえばトリフルオロ酢酸など）また
は接触還元により，2,2,2−トリクロロエチルエステル
は亜鉛と酸（たとえば酢酸など）により，シリルエステ
ル（トリメチルシリルエステル，tert−ブチルジメチル
シリルエステルなど）は水のみにより除去することがで
きる。

化合物[I]の精製法：製造法(1)〜(2)に詳記した各種製
造法により，また要すれば上記の保護基除去法をつづい
て行うことにより反応混合物中に生成した化合物[I]は
抽出法、カラムクロマトグラフィー，沈澱法，再結晶法
などの公知の処理手段によって単離精製することができ
る。一方、単離された化合物[I]を公知の方法により所
望の生理学的に受容される塩または代謝上不安定な無毒
のエステルへと変換することもできる。

セフェム化合物（[I]，Ｚ＝Ｓ）のスルホキシド（[I]，
Ｚ＝Ｓ→Ｏ）は化合物（[I]，Ｚ＝Ｓ）の酸化反応によ
り得られる。このような酸化反応はよく知られた反応で
ある。セフェム環中の硫黄原子の酸化に適した酸化剤と
してはたとえば酸素，過酸，ヒドロパーオキシド，過酸
化水素なとがあげられ、過酸はその場で酸と過酸化物の
混和によって製造することもできる。過酸としては過酢
酸，過安息香酸，ｐ−クロル過安息香酸などが繁用され
る。反応は通常、溶媒中で行なわれる。この反応に用い
られる溶媒としてはたとえばジオキサン，テトラヒドロ
フランなどのエーテル類，たとえばジクロロメタン，ク
ロロホルム，クロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素
類，たとえばギ酸，酢酸，トリフルオロ酢酸などの有機
酸類，たとえばジメチルホルムアミド，ジメチルアセト
アミドなどのアミド類などがあげられる。反応温度は−
20〜80℃の範囲で行なわれるが、なるべく低い温度，好
ましくは−20〜20℃で行なわれる。セフェム化合物
（[I]，Ｚ＝Ｓ）の酸化に際してはＳ−立体配位をもつ
スルホキシドが主に生成することが一般に知られてい
る。Ｒ−およびＳ−スルホキシドはそれらの異なる溶解
性およびクロマトグラフィー分離に際しての異なる移動
速度によって分離される。スルホキシドを得るための上
記の酸化反応は前記製造法(1)〜(2)の反応の前に行なっ
てもよいし、また(1)〜(2)の反応の後に行なってもよ
い。

（作用，効果） 本発明の化合物[I^b′]は公知のペニシリン剤，セファロ
スポリン剤と同様に注射剤，カプセル剤，錠剤，顆粒剤
として非経口または経口的に投与できる。投与量は前記
したような病原性細菌に感染した人および動物の体重１
Kgあたり0.5〜80mg／日，より好ましくは１〜20mg／日
を１日３〜４回に分割して投与すればよい。注射剤とし
て用いられる場合の担体は、たとえば蒸留水，生理食塩
水などが用いられ、カプセル剤，粉剤，顆粒剤，錠剤と
して用いられる場合は、公知の薬学的に許容される賦形
剤（たとえばデンプン，乳糖，白糖，炭酸カルシウム，
リン酸カルシウムなど），結合剤（たとえばデンプン，
アラビアゴム，カルボキシメチルセルロース，ヒドロキ
シプロピルセルロース，結晶セルロースなど），滑沢剤
（たとえばステアリン酸マグネシウム，タルクなど），
破壊剤（たとえばカルボキシメチルカルシウム，タルク
など）と混合して用いられる。

（実施例，参考例） 本発明はさらに下記の参考例，実施例で詳しく説明され
るが、これらの例は単なる実例であって本発明を限定す
るものではなく、また本発明の範囲を逸脱しない範囲で
変化させてもよい。

参考例，実施例のカラムクロマトグラフィにおける溶出
はＴＬＣ（Ｔhin Ｌayer Ｃhromatog-raphy，薄層ク
ロマトグラフィ）による観察下に行なわれた。ＴＬＣ観
察においては、ＴＬＣプレートとしてメルク（Ｍerck）
社製のＢＯＦ_２５４を、展開溶媒としてはカラムクロマ
トグラフィで溶出溶媒として用いられた溶媒を、検出法
としてＵＶ検出器を採用した。カラム用シリカゲルは同
じくメルク社製のキーゼルゲル60(230〜400メッシュ）
を用いた。“セファデックス”はファルマシア・ファイ
ン・ケミカルズ社（Ｐharmacia Ｆine Ｃhemicals）
製である。ＸＡＤ−II樹脂はローム・アンド・ハース社
製（Ｒohm ＆ Ｈaas Ｃｏ．）製である。ＮＭＲスペ
クトルは内部または外部基準としてテトラメチルシラン
を用いてＸＬ−100Ａ(100ＭHz),ＥＭ360(60ＭHz)、ＥＭ3
90(90ＭHz)またはＴ_６０(60ＭHz)型スペクトロメーター
で測定し、全δ値をppmで示した。混合溶媒において
（ ）内に示した数値は各溶媒の容量混合比である。ま
た溶液における％は溶液100ml中のｇ数を表わす。また
参考例，実施例中の記号は次のような意味である。

ｓ ：シングレット(singlet) ｄ ：ダブレット(doublet) ｔ ：トリプレット(triplet) ｑ ：クワルテット(quartet) ＡＢｑ ：ＡＢ型クワルテット（ＡＢ type quartet) ｄ．ｄ ：ダブル ダブレット(double doublet) ｍ ：マルチプレット(multiplet) br. ：ブロード(broad) Ｊ ：カップリング定数coupling constant) Hz：ヘルツ(Hertz) mg：ミリグラム(milligram) ｇ ：グラム(gram) ml：ミリリーター(milliliter) ：リーター(liter) ％ ：パーセント(percent) ＤＭＳＯ：ジメチルスルホキシド (dimethylsulfoxide) Ｄ_２Ｏ：重水 ＣＤＣｌ_３：重クロロホルム 参考例１ ７β−［２−（５−tert−ブトキシカルボニルアミノ−
1,2,4−チアジアゾール−３−イル）−２(Z)−メトキシ
イミノアセトアミド］−３−（３−オキソブチリルオキ
シメチル）−３−セフェム−４−カルボン酸。

２−（５−tert−ブトキシカルボニルアミノ−1,2,4−
チアジアゾール−３−イル）−２(Z)−メトキシイミノ
酢酸302mgを４mlのジクロロメタンに加え、ついで208mg
の五塩化リンを加えて氷冷下で15分間かきまぜる。溶媒
を減圧下に留去し、残留物にヘキサンを加える。再び減
圧下に乾固し、残留物をジクロロメタンに溶かす。この
液を７β−アミノ−３−（３−オキソブチリルオキシメ
チル）−３−セフェム−４−カルボン酸300mgおよびト
リエチルアミン0.6mlを５mlのジメチルアセトアミドに
溶かした後に加え、氷冷下に30分間かきまぜる。反応液
にリン酸１ｇを水10mlに溶かして加え、メチルエチルケ
トン(10ml)で抽出したのち抽出液を水洗し無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥する。溶媒を減圧下に留去して残留物に
酢酸エチルを加え、再び留去すると390mgの標記の化合
物を得る。

参考例２ ７β−［２−（５−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−
３−イル）−２(Z)−エトキシイミノアセトアミド］−
３−（３−オキソブチリルオキシメチル）−３−セフェ
ム−４−カルボン酸。

７β−アミノ−３−（３−オキソブチリルオキシメチ
ル）−３−セフェム−４−カルボン酸11gを２００mlの
ジクロロメタンに懸濁し、これにビストリメチルシリル
アセトアミド１４ｇを加えて室温で溶液となるまでかき
まぜる。ついで氷冷し、２−（５−アミノ−1,2,4−チ
アジアゾール−３−イル）−２(Z)−エトキシイミノア
セチルクロリド14gを加え、しばらくかきまぜたのちジ
メチルアセトアミド６ｇを加え、氷冷下に60分間かきま
ぜる。ジクロロメタンを留去し、残留物をメチルエチル
ケトンに溶かす。水洗・乾燥したのち溶媒を留去し、残
留物にジエチルエーテルを加えて粉末としてろ取し、1
2.5gの標記の化合物を得る。

参考例３ ６−メチル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾチアゾー
ル。

４−メチルシクロヘキサノン24g，イソプロペニルアセ
テート63mlおよびパラトルエンスルホン酸0.4gからなる
混合物を7.5時間，加熱下に還流したのち減圧下にイソ
プロペニルアセテートを留去する。残留物に重曹0.5gを
加えて減圧下に蒸留しエノールアセテート30.7g(pb₄₀10
0-105゜)を得る。このものをジクロロメタン100mlに溶か
して−40℃に冷却し、臭素32gを滴下する。ついでメタ
ノール100mlを添加したのち室温に２日間放置する。減
圧下に溶媒を留去し、残渣にジメチルアセトアミド60ml
およびチオホルムアミド12gを加えて70℃で３時間加温
する。反応液に水100mlおよび酢酸エチル100mlを加えた
のち重曹で中和し、有機層を分液して乾燥（無水硫酸マ
グネシウム）したのち減圧下に溶媒を留去する。残留物
を減圧蒸留に付し、13gの標記の化合物を得る。bp₃₀125
℃。

ＮＭＲスペクトル(CDCl₃)δ：1.10(3H,d,J＝6Hz)，1.58
-3.33(7H,m),8.53(1H,s)。

参考例４ ５−（または７−）メチル−4,5,6,7−テトラヒドロベ
ンゾチアゾール。

参考例３と同様にして、３−メチルシクロヘキサノン25
ml，イソプロペニルアセテート63ml，パラトルエンスル
ホン酸0.4gからエノールアセテート29.89g(bp₃₀95℃）
を得、さらにこのものを臭素31gついでチオホルムアミ
ド11.6gと反応させ標記の化合物13.7g(bp₇75-90℃）を
得る。

ＮＭＲスペクトル(CDCl₃)δ：1.10(3H,d,J＝6Hz)，1.40
-3.30(7H,m)，8.53(1H,s)。

参考例５ ７−メトキシ−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾチアゾー
ル。

２−シクロヘキセノン19g，Ｎ−ブロムコハク酸31g，メ
タノール100mlの混合物に氷冷下に濃硫酸９滴を加える
と激しい反応が起り均一の溶液が得られる。結晶性物質
が析出してくるがそのまゝ60分間氷冷下に撹拌を続け、
ついで減圧下にメタノールを留去して残留物をヘキサン
に溶かす。水洗・乾燥（無水硫酸マグネシウム）したの
ち溶媒を減圧留去する。残留物にジメチルアセトアミド
100ml，チオホルムアミド12gを加えて50℃の油浴中で30
時間加温し、反応液に水100mlおよび酢酸エチル300mlを
加えたのち重炭酸ナトリウムで中和する。有機層をとっ
て減圧下に濃縮し、残留物をシリカゲルクロマト(SiO₂1
50g,溶媒は酢酸エチル：ヘキサン＝1:4(V/V))に付す。
目的化合物を含む分画を合わせて濃縮乾固し、3.7gの標
記の化合物を油状物として得る。

ＮＭＲスペクトル(CDCl₃)δ：1.70-2.30(4H,m),2.70-3.
00(2H,m),4.33-4.67(2H,m),8.60(1H,s)。

参考例６ ７β−［２−（５−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−
３−イル）−２(Z)−メトキシイミノアセトアミド］−
３−（３−オキソブチリルオキシメチル）−３−セフェ
ム−４−カルボン酸。

トリフルオロ酢酸50mlを氷冷下にかきまぜながら、７β
−［２−（５−tert−ブトキシカルボニルアミノ−1,2,
4−チアジアゾール−３−イル）−２(Z)−メトキシイミ
ノアセトアミド］−３−（３−オキソブチリルオキシメ
チル）−３−セフェム−４−カルボン酸13gを添加す
る。冷浴を外し30分間かきまぜたのち減圧下にトリフル
オロ酢酸を留去する。残渣に酢酸エチル100mlを加え、
減圧下に酢酸エチルを留去したのち、ジエチルエーテル
100mlを加え、粉末をほぐしてろ取し標記化合物10gを得
る。

参考例７ ７β−tert−ブトキシカルボニルアミノ−３−（３−オ
キソブチリルオキシメチル）−３−セフェム−４−カル
ボン酸。

７β−アミノ−３−（３−オキソブチリルオキシメチ
ル）−３−セフェム−４−カルボン酸200gを500mlのジ
メチルスルホキシドに加え、室温でジ−tert−ブチル
ジカーボネート200g, 水２，酢酸エチル１を加え
てかきまぜたのち分配して上層をすてる。水層に酢酸エ
チル１を加え、かきまぜながらリン酸129gを滴下する
(pH4)。充分にかきまぜたのち分配して上層をとり、下
層を酢酸エチル１ｌで抽出する。有機層を合わせて氷水
各２で２回，ついで飽和食塩水１ｌで洗浄する。硫酸マ
グネシウムで脱水ののち濃縮，塩化メチレン100mlを加
えて濃縮，乾燥し、グラス状固体として194g(収率74
％）の標記化合物が得られる。

元素分析値：Ｃ_１７Ｈ_２２Ｎ_２Ｏ_８Ｓ・1/2Ｈ_２Ｏとし
て、 計算値(%)：Ｃ，48.22；Ｈ，5.47；Ｎ、6.62。

実測値(%)：Ｃ，48.16；Ｈ，5.30；Ｎ、6.32。

参考例８ ２−（５−tert−ブトキシカルボニルアミノ−1,2,4−
チアジアゾール−３−イル）−２(Z)−tert−ブトキシ
カルボニルメトキシイミノ酢酸。

２−（５−tert−ブトキシカルボニルアミノ−1,2,4−
チアジアゾール−３−イル）酢酸13g，二酸化セレン10.
9gおよびジオキサン200mlからなる溶液を、かきまぜな
がら80℃の油浴上で40分間加熱する。減圧下にジオキサ
ンを留去し、残渣に酢酸エチル200mlを加えて不溶物を
ろ去する。減圧下に酢酸エチルを留去したのち残渣をエ
タノール100mlに溶解し、氷冷下にＯ−（tert−ブトキ
シカルボニルメチル）ヒドロキシルアミン6.2gを加え
る。室温で４時間かきまぜたのち減圧下にエタノールを
留去する。残渣に酢酸エチル100ml、水200mlを加えて不
溶物をろ去したのち有機層を分液し、重炭酸ナトリウム
５ｇおよび水300mlとよく振りまぜる。水層をとって酢
酸エチル100mlを上置し、１Ｎ−塩酸で酸性としたのち
酢酸エチル層を分け取り、無水硫酸マグネシウムで乾燥
したのち酢酸エチルを留去すると標記化合物の結晶11g
が得られる。

融点128℃（分解） ＮＭＲスペクトル(CDCl₃)δ：1.43(9H,s),1.55(9H,s),
4.73(2H,s)。

参考例９ ７β−［２−（５−tert−ブトキシカルボニルアミノ−
1,2,4−チアジアゾール−３−イル）−２(Z)-(tert−ブ
トキシカルボニルメトキシイミノ）アセトアミド］−３
−（３−オキソブチリルオキシメチル）−３−セフェム
−４−カルボン酸。

２−（５−tert−ブトキシカルボニルアミノ−1,2,4−
チアジアゾール−３−イル）−２(Z)−(tert−ブトキシ
カルボニルメトキシイミノ）酢酸13gを100mlのジクロロ
メタンに溶かし、氷冷下にかきまぜながら五塩化リン７
ｇを加える。氷冷下に20分間かきまぜたのち、溶媒を減
圧下に留去する。残渣をヘキサンに溶かし、減圧下にヘ
キサンを留去したのち、残渣を１０mlのジクロロメタン
に溶かす。この液を７β−アミノ−３−（３−オキソブ
チリルオキシメチル）−３−セフェム−４−カルボン酸
10g,ビス（トリメチルシリル）アセトアミド16gおよび
ジクロロメタン１００mlからなる溶液に加える。氷冷下
に１時間かきまぜたのち、減圧下にジクロロメタンを留
去し、残渣を酢酸エチル300mlに溶かし、水で２回洗浄
したのち無水硫酸マグネシウムで乾燥して減圧下に溶媒
を留去する。残渣にヘキサンを加えて得られる沈澱をろ
取して23gの標記化合物を得る。

参考例１０ ７β−［２−（５−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−
３−イル）−２(Z)−カルボキシメトキシイミノアセト
アミド］−３−（３−オキソブチリルオキシメチル）−
３−セフェム−４−カルボン酸。

トリフルオロ酢酸50mlに、氷冷下でかきまぜながら７β
−［２−（５−tert−ブトキシカルボニルアミノ−1,2,
4−チアジアゾール−３−イル）−２(Z)-(tert−ブトキ
シカルボニルメトキシイミノ）アセトアミド］−３−
（３−オキソブチリルオキシメチル）−３−セフェム−
４−カルボン酸23gを加え、冷浴を外して1.5時間かきま
ぜたのち酢酸エチルを加えて減圧下に溶媒を留去する。
残渣に酢酸エチルを加え、沈澱をほぐしてろ取して標記
化合物17gを得る。

参考例１１ ７β−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
(Z)−メトキシイミノアセトアミド］−３−［（4,5,6,7
−テトラヒドロベンゾチアゾリウム−３−イル）メチ
ル］−３−セフェム−４−カルボキシレート。

７β−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
(Z)−メトキシイミノアセトアミド］−３−（３−オキ
ソブチリルオキシメチル）−３−セフェム−４−カルボ
ン酸10g,4,5,6,7−テトラヒドロベンゾチアゾール10gお
よびヨウ化カリウム10gをアセトニトリルと水（１：
１）の混合液２００mlに溶解させ７０℃で1.5時間加熱
撹拌する。反応液に酢酸エチル２００mlに加えて有機層
を除去し、ついで水層をＸＡＤ−IIカラムクロマトグラ
フィーに付す。２０％エタノール水で溶出し、目的物を
含む分画を集め凍結乾燥し得られた固型物をＬＨ−２０
カラムクロマトグラフィーに付し、水で溶出する。目的
物の分画を凍結乾燥すると標記化合物2.0gが得られる。

元素分析値：Ｃ_２１Ｈ_２２Ｎ_６Ｏ_５Ｓ_３・５／２Ｈ_２Ｏ
と して 計算値(%)：Ｃ，43.51；Ｈ，4.69；Ｎ、14.50。

実測値(%)：Ｃ，43.66；Ｈ，4.55；Ｎ、14.25。

参考例１１に記載した方法と同じ方法を用いて７β−
［２−（５−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−３−イ
ル）−２(Z)−（置換オキシイミノ）アセトアミド］−
３−（３−オキソブチリルオキシメチル）−３−セフェ
ム−４−カルボン酸と各種チアゾール誘導体との反応か
ら一般式 で表わされる以下の実施例１−６の化合物を製造するこ
とができる。

実施例１ ７β−［２−（５−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−
３−イル）−２(Z)−エトキシイミノアセトアミド］−
３−［（4,5,6,7−テトラヒドロベンゾチアゾリウム−
３−イル）メチル］−３−セフェム−４−カルボキシレ
ート。

元素分析値：Ｃ_２１Ｈ_２３Ｎ_７Ｏ_５Ｓ_３・３Ｈ_２Ｏとし
て、 計算値(%)：Ｃ，41.78；Ｈ，4.84；Ｎ、16.24。

実測値(%)：Ｃ，41.60；Ｈ，4.86；Ｎ、16.01。

実施例２ ７β−［２−（５−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−
３−イル）−２(Z)−エトキシイミノアセトアミド］−
３−［（６−メチル−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾチ
アゾリウム−３−イル）メチル］−３−セフェム−４−
カルボキシレート。

元素分析値：Ｃ_２２Ｈ_２５Ｎ_７Ｏ_５Ｓ_３・5/2Ｈ_２
Ｏとして、 計算値(%)：Ｃ，43.41；Ｈ，4.97；Ｎ、16.11。

実測値(%)：Ｃ，43.46；Ｈ，4.61；Ｎ、16.17。

実施例３ ７β−［２−（５−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−
３−イル）−２(Z)−エトキシイミノアセトアミド］−
３−［（５−（または７−）メチル−4,5,6,7−テトラ
ヒドロベンゾチアゾリウム−３−イル）メチル］−３−
セフェム−４−カルボキシレート。

元素分析値：Ｃ_２２Ｈ_２５Ｎ_７Ｏ_５Ｓ_３・５／２Ｈ_２Ｏ
と して、 計算値(%)：Ｃ，43.41；Ｈ，4.97；Ｎ、16.11。

実測値(%)：Ｃ，43.39；Ｈ，4.49；Ｎ、16.43。

実施例４ ７β−［２−（５−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−
３−イル）−２(Z)−エトキシイミノアセトアミド］−
３−［（４，５−シクロペンテノチアゾリウム−３−イ
ル）メチル］−３−セフェム−４−カルボキシレート。

元素分析値：Ｃ_２０Ｈ_２１Ｎ_７Ｏ_５Ｓ_３・３Ｈ_２Ｏとし
て 、 計算値(%)：Ｃ，40.74；Ｈ，4.62；Ｎ、16.63。

実測値(%)：Ｃ，40.53；Ｈ，4.39；Ｎ、16.36。

実施例５ ７β−［２−（５−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−
３−イル）−２(Z)−エトキシイミノアセトアミド］−
３−［（６，７−ジヒドロ−４Ｈ−ピラノ［４，３−
ｄ］チアゾリウム−３−イル）メチル］−３−セフェム
−４−カルボキシレート。

元素分析値：Ｃ_２０Ｈ_２１Ｎ_７Ｏ_６Ｓ_３・４Ｈ_２Ｏとし
て 、 計算値(%)：Ｃ，38.52；Ｈ，4.69；Ｎ、15.72。

実測値(%)：Ｃ，38.45；Ｈ，3.82；Ｎ、15.29。

実施例６ ７β−［２−（５−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−
３−イル）−２(Z)−エトキシイミノアセトアミド］−
３−［（７−メトキシ−4,5,6,7−テトラヒドロベンゾ
チアゾリウム−３−イル）−３−セフェム−４−カルボ
キシレート。

実施例７ ７β−［２−（５−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−
３−イル）−２(Z)−メトキシイミノアセトアミド］−
３−［（4,5,6,7−テトラヒドロベンゾチアゾリウム−
１−イル）メチル］−３−セフェム−４−カルボキシレ
ート。

７β−［２−（５−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−
３−イル）−２(Z)−メトキシイミノアセトアミド］−
３−（３−オキソブチリルオキシメチル）−３−セフェ
ム−４−カルボン酸1g,ヨウ化カリウム1g,4,5,6,7−テ
トラヒドロベンゾチアゾール1g,水10ml，アセトニトリ
ル10mlからなる混合物を70〜75℃の油浴に浸し、1.5時
間かきまぜる。冷却後、30mlの酢酸エチルとよくふりま
ぜ、静置したのち有機層をすてて水層を分取する。濃縮
したのちシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、
アセトンで展開したのちアセトン−水(7:3)で展開す
る。目的分画液を濃縮し、凍結乾燥して標記化合物0.12
gを得る。

元素分析値：Ｃ_２０Ｈ_２１Ｎ_７Ｏ_５Ｓ_３・３Ｈ_２Ｏとし
て 、 計算値(%)：Ｃ，40.74；Ｈ，4.62；Ｎ、16.63。

実測値(%)：Ｃ，41.06；Ｈ，3.84；Ｎ、16.34。

実施例８ ７β−［２−（５−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−
３−イル）−２(Z)−カルボキシメトキシイミノアセト
アミド］−３−［（4,5,6,7−テトラヒドロベンゾチア
ゾリウム−３−イル）メチル］−３−セフェム−４−カ
ルボキシレート モノナトリウム塩。

７β−［２−（５−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−
３−イル）− ２(Z)−カルボキシメトキシイミノアセトアミド］−３
−（３−オキソブチリルオキシメチル）−３−セフェム
−４−カルボン酸2g,ヨウ化ナトリウム2g,4,5,6,7−テ
トラヒドロベンゾチアゾール2g,アセトニトリル20mlお
よび水20mlからなる混合物を、70〜75℃の油浴中で加温
しつつ1.5時間かきまぜる。冷却後、反応液に酢酸エチ
ル50mlを加えて振りまぜたのち有機層をすてて水層を分
け取り、XAD-2カラムクロマトグラフィーに付し、20％
エタノール水にて展開・溶出する。目的物を含む分画を
合わせて濃縮し、ついでシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーに付し、アセトンついでアセトン−水(7:3)で展
開・溶出する。目的物を含む分画を合わせて濃縮し、凍
結乾燥して0.38gの標記化合物を得る。

元素分析値：Ｃ_２０Ｈ_１９Ｎ_７Ｏ_７Ｓ_３Ｎａ・Ｈ_２Ｏと
し て、 計算値(%)：Ｃ，39.60；Ｈ，3.49；Ｎ、16.16。

実測値(%)：Ｃ，39.53；Ｈ，3.80；Ｎ、15.10。

実施例９ ７β−tert−ブトキシカルボニルアミノ−３−［（4,5,
6,7−テトラヒドロベンゾチアゾリウム−３−イル）メ
チル］−３−セフェム−４−カルボキシレート。

７β−tert−ブトキシカルボニルアミノ−３−（３−オ
キソブチリルオキシメチル）−３−セフェム−４−カル
ボン酸4.0g4,5,6,7−テトラヒドロベンゾチアゾール3.0
g,ヨウ化ナトリウム４ｇをアセトニトリル10ml,水10ml
に溶解し、70℃で1.5時間かきまぜる。

反応後、酢酸エチル30mlを加えてかきまぜ、静置したの
ち上層を傾斜により除く。下層に酢酸エチル30mlを加え
同様の操作を２回繰り返す。下層を70gのシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーを用いアセトン２００mlついで
アセトン：水＝20:1の溶媒２００mlで洗浄後、アセト
ン：水＝3:1の溶媒で展開，該当分画を濃縮、凍結乾燥
すると0.71g（収率15％）の標記化合物が得られる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁵ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｄ 501/06 9284−4Ｃ 519/00 ３８１ 8415−4Ｃ // Ａ６１Ｋ 31/435 9360−4Ｃ 31/535 9360−4Ｃ 31/545 ＡＤＺ

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】(1)一般式 ［式中、Ｒ^０は一般式 （式中、Ｒ^１は保護されていてもよいアミノ基を、Ｒ^３
   は水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示
   す）で表わされる基またはアルコキシカルボニル基を、
   ＺはＳ，Ｓ→Ｏ，ＯまたはＣＨ_２を、Ｒ^４は水素原子，
   メトキシ基またはホルムアミド基を、Ｒ^１３は水素原子
   を、Ａは置換されていてもよい４，５−位で縮合環を形
   成するチアゾール−３−イル基を、それぞれ示す］で表
   わされる化合物またはその塩もしくはエステル。 (2)Ｒ^０が一般式 ［式中、Ｒ^２３はハロゲン原子，水酸基，アルコキシ
   基，カルボキシル基，アルコキシカルボニル基またはシ
   アノ基で置換されていてもよい炭素数１ないし３のアル
   キル基を示す］で表わされる基，ＺがＳ，Ｒ^４が水素原
   子である特許請求の範囲第(1)項記載の化合物。 (3)Ｒ^０が一般式 ［式中、Ｒ^２３′はカルボキシル基で置換されていても
   よい炭素数１ないし３のアルキル基を示す］で表わされ
   る基，ＺがＳ，Ｒ^４で水素原子である特許請求の範囲第
   (1)項記載の化合物。 (4)Ａが炭素数１ないし６のアルキル基またはアルコキ
   シ基で置換されていてもよい式、 ［式中、ｍは３〜５を示す］で表わされる基である特許
   請求の範囲第(1)項記載の化合物。 (5)Ａが式 で表わされる基である特許請求の範囲第(1)項記載の化
   合物。 (6)一般式 ［式中、Ｒ^０は一般式 （式中、Ｒ^１は保護されていてもよいアミノ基を、Ｒ^３
   は水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示
   す）で表わされる基またはアルコキシカルボニル基を、
   ＺはＳ，Ｓ→Ｏ，ＯまたはＣＨ_２を、Ｒ^４は水素原子，
   メトキシ基またはホルムアミド基を、Ｒ^１３は水素原子
   を、Ｒ^５は水酸基，アシルオキシ基，カルバモイルオキ
   シ基，置換されたカルバモイルオキシ基またはハロゲン
   原子を、それぞれ示す］で表わされる化合物またはその
   塩もしくはエステルと、置換されていてもよい４，５−
   位で縮合環を形成するチアゾール化合物またはその塩と
   を反応させることを特徴とする一般式 ［式中、Ａは置換されていてもよい４，５−位で縮合環
   を形成するチアゾール−３−イル基を、他の記号は前記
   と同意義を示す］で表わされる化合物またはその塩もし
   くはエステルの製造法。 (7)Ｒ^０が一般式 ［式中、Ｒ^２３はハロゲン原子，水酸基，アルコキシ
   基，カルボキシル基，アルコキシカルボニル基またはシ
   アノ基で置換されていてもよい炭素数１ないし３のアル
   キル基を示す］で表わされる基，ＺがＳ，Ｒ^４が水素原
   子である特許請求の範囲第(6)項記載の製造法。 (8)Ｒ^０が一般式 ［式中、Ｒ^２３′はカルボキシル基で置換されていても
   よい炭素数１ないし３のアルキル基を示す］で表わされ
   る基，ＺがＳ，Ｒ^４が水素原子である特許請求の範囲第
   (6)項記載の製造法。