JPH08337585A - セフェム化合物、その製造法および抗菌組成物 - Google Patents

セフェム化合物、その製造法および抗菌組成物

Info

Publication number
JPH08337585A
JPH08337585A JP8012998A JP1299896A JPH08337585A JP H08337585 A JPH08337585 A JP H08337585A JP 8012998 A JP8012998 A JP 8012998A JP 1299896 A JP1299896 A JP 1299896A JP H08337585 A JPH08337585 A JP H08337585A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
amino
compound
alkyl
optionally substituted
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP8012998A
Other languages
English (en)
Inventor
Akio Miyake
昭夫 三宅
Kenji Okonogi
研二 小此木
Tomoyasu Ishikawa
智康 石川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Takeda Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Takeda Chemical Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Takeda Chemical Industries Ltd filed Critical Takeda Chemical Industries Ltd
Priority to JP8012998A priority Critical patent/JPH08337585A/ja
Publication of JPH08337585A publication Critical patent/JPH08337585A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】 【課題】新規セフェム化合物の提供。 【解決手段】式 【化1】 〔式中、R1は保護されていてもよいNH2、R2はHま
たは炭素原子を介して結合する基、 【化2】 (式中、Bはヘテロ原子が1または2個のNである6員
芳香族複素環、R3は置換されていてもよい炭化水素基
を示す)で表される基を示す。〕で表されるセフェム化
合物またはそのエステルあるいはその塩。 【効果】前記化合物は幅広く優れた抗菌活性を示し、抗
菌剤として有用である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は広範囲のグラム陽性
菌およびグラム陰性菌、特にブドウ球菌、メチシリン耐
性ブドウ球菌(MRSA)およびシュードモナス属の菌
などに優れた抗菌作用を有する新規なセフェム化合物、
その製造法および抗菌組成物に関する。
【0002】
【従来の技術】7位に2−(5−アミノ−1,2,4−チ
アジアゾール−3−イル)−2(Z)−オキシイミノアセ
トアミド基を有するセフェム化合物が種々報告されてお
り、特公昭62−17592号公報には、3位にテトラ
ゾロ〔4,5−b〕ピリダジン−6−イルチオビニル基
を有する化合物が、特開平6−206886号公報に
は、3位に縮合複素環−チオビニル基あるいは環構成原
子としてN+ を含有する単環式複素環−チオビニル基を
有する化合物が記載されているが、3位に環構成原子と
してN+ を含有する縮合複素環−チオビニル基を有する
具体的な化合物は未だ報告されていない。また、(1)
特開昭62−228092号公報には、3位にイミダゾ
ピリダジウム−チオメチル基を有する化合物が、(2)
特開昭61−246189号公報には、3位に複素環チ
オ基で置換されているアルケニル基が、および(3)特
開昭59−130292号公報には、3位に環構成原子
としてN+ を有する単環式複素環−チオビニル基を有す
る化合物が記載されているが、これらの公報には、具体
例の1つとして、それぞれ
【化16】
【化17】
【化18】 が開示されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】従来のセフェム化合物
は、抗菌活性の範囲または強さの点で、とりわけ従来の
セファロスポリン化合物に耐性を示すシュードモナス属
の菌、ブドウ球菌およびメチシリン耐性ブドウ球菌(M
RSA)などに対する抗菌作用が十分に満足できるもの
ではなく、この点を克服した新しい化合物の出現が望ま
れていた。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記事情
に鑑み、鋭意種々研究を重ねた結果、セフェム骨格の3
位に式
【化19】 (式中、Bはヘテロ原子が1または2個の窒素原子であ
る6員芳香族複素環を、R3は置換されていてもよい炭
化水素基を示す)で表される基を示す。〕で表される
基、かつ7位に式
【化20】 〔式中、R1は保護されていてもよいアミノ基を、R2
水素原子または炭素原子を介して結合する基を示す。〕
で表される基を有することに化学構造上の特徴を有する
セフェム化合物またはそのエステルあるいはその塩を初
めて合成し、さらに合成された化合物が予想外にもその
特異な化学構造に基づいてシュードモナス属を含むグラ
ム陰性菌ならびにブドウ球菌およびMRSAを含むグラ
ム陽性菌などに対して幅広く優れた抗菌作用を有するこ
とを見出し、これらに基づいて本発明を完成した。
【0005】すなわち、本発明は、(1)式
【化21】 〔式中、R1は保護されていてもよいアミノ基を、R2
水素原子または炭素原子を介して結合する基を、
【化22】 (式中、Bはヘテロ原子が1または2個の窒素原子であ
る6員芳香族複素環を、R3は置換されていてもよい炭
化水素基を示す)で表される基を示す。〕で表されるセ
フェム化合物またはそのエステルあるいはその塩、
(2)R1が置換されていてもよいC1-6アルカノイル
基,置換されていてもよいC3-5アルケノイル基,置換
されていてもよいC6-10アリール−カルボニル基,複素
環カルボニル基,置換されていてもよいC1-10アルキル
スルホニル基,置換されていてもよいC6-10アリールス
ルホニル基,置換オキシカルボニル基,置換されていて
もよいカルバモイル基,置換されていてもよいチオカル
バモイル基,置換されていてもよいC6-10アリール−メ
チル基,置換されていてもよいジC6-10アリール−メチ
ル基,置換されていてもよいトリC6-10アリール−メチ
ル基,置換されていてもよいC6-10アリール−メチレン
基,置換されていてもよいC6-10アリールチオ基,置換
シリル基,2−C1-10アルコキシ−カルボニル−1−メ
チル−1−エテニル基または式M'OCO−〔式中、M'
はアルカリ金属を示す。〕で表される基で保護されてい
てもよいアミノ基である前記(1)記載の化合物、
【0006】(3)R1がアミノ基である前記(1)記
載の化合物、(4)R2が水素原子、置換されていても
よい炭化水素基または置換されていてもよい非芳香族複
素環基である前記(1)記載の化合物、(5)R2が複
素環基,C1-6アルコキシ基,C3-7シクロアルキルオキ
シ基,C6-10アリールオキシ基,C7-19アラルキルオキ
シ基,複素環オキシ基,メルカプト基,C1-6アルキル
チオ基,C3-10シクロアルキルチオ基,C6-10アリール
チオ基,C7-19アラルキルチオ基,複素環チオ基,アミ
ノ基,モノC1-6アルキルアミノ基,ジC1-6アルキルア
ミノ基,トリC1-6アルキルアンモニウム基,C3-10
クロアルキルアミノ基,C6-10アリールアミノ基,C
7-19アラルキルアミノ基,複素環アミノ基,環状アミノ
基,アジド基,ニトロ基,ハロゲン原子,シアノ基,カ
ルボキシル基,C1-10アルコキシ−カルボニル基,C
1-10アリールオキシ−カルボニル基,C7-19アラルキル
オキシ−カルボニル基,C6-10アリール−アシル基,C
1-6アルカノイル基,C3-5アルケノイル基,C6-10アリ
ール−アシルオキシ基,C2-6アルカノイルオキシ基,
3-5アルケノイルオキシ基,カルバモイル基,チオカ
ルバモイル基,カルバモイルオキシ基,フタルイミド
基,C1-6アルカノイルアミノ基,C6-10アリール−ア
シルアミノ基,C1-10アルコキシ−カルボキサミド基,
6-10アリールオキシ−カルボキサミド基およびC7-19
アラルキルオキシ−カルボキサミド基から選ばれた1な
いし4個の置換基でそれぞれ置換されていてもよいC
1-6アルキル,C2-6アルケニルまたは3ないし7員非芳
香族環状炭化水素基である前記(1)記載の化合物、
【0007】(6)R2が水酸基,C3-7シクロアルキル
基,C1-6アルコキシ基,C1-6アルキルチオ基,アミノ
基,トリC1-6アルキルアンモニウム基,ハロゲン原
子,カルボキシル基,C1-10アルコキシ−カルボニル
基,カルバモイル基,シアノ基,アジド基および複素環
基から選ばれた1ないし3個の置換基で置換されていて
もよいC1-6アルキル基である前記(1)記載の化合
物、(7)R2が(1)C1-3アルキル基、(2)ハロゲン原
子,水酸基,C1-6アルコキシ基,カルボキシル基,C
1-10アルコキシ−カルボニル基またはシアノ基で置換さ
れたC1-3アルキル基または(3)アリル基である前記
(1)記載の化合物、(8)R2が水素原子、C1-6アル
キル基またはC3-7シクロアルキル基である前記(1)
記載の化合物、(9)R2が水素原子、C2-4アルケニル
基、シクロペンチル基、または1ないし3個のハロゲン
原子で置換されていてもよいC1-4アルキル基である前
記(1)記載の化合物、(10)R2がシクロペンチル
基である前記(1)記載の化合物、(11)R2が1な
いし3個のハロゲン原子で置換されていてもよいC1-4
アルキル基である前記(1)記載の化合物、(12)R
2がフルオロC1-4アルキル基である前記(1)記載の化
合物、
【0008】(13)
【化23】 で表される基であり、Bがヘテロ原子が1または2個の
窒素原子である6員芳香族複素環であり、R3が複素環
基,水酸基,C1-6アルコキシ基,C3-7シクロアルキル
オキシ基,C6-10アリールオキシ基,C7-19アラルキル
オキシ基,複素環オキシ基,メルカプト基,C1-6アル
キルチオ基,C3-10シクロアルキルチオ基,C6-10アリ
ールチオ基,C7-19アラルキルチオ基,複素環チオ基,
アミノ基,モノC1-6アルキルアミノ基,ジC1-6アルキ
ルアミノ基,トリC1-6アルキルアンモニウム基,C
3-10シクロアルキルアミノ基,C6-10アリールアミノ
基,C7-19アラルキルアミノ基,複素環アミノ基,環状
アミノ基,アジド基,ニトロ基,ハロゲン原子,シアノ
基,カルボキシル基,C1-10アルコキシ−カルボニル
基,C1-10アリールオキシ−カルボニル基,C7-19アラ
ルキルオキシ−カルボニル基,C6-10アリール−アシル
基,C2-6アルカノイルオキシ基,C2-5アルケノイルオ
キシ基,カルバモイル基,チオカルバモイル基,カルバ
モイルオキシ基,フタルイミド基,C1-6アルカノイル
アミノ基,C6-10アリール−アシルアミノ基,C1-10
ルコキシ−カルボキサミド基,C6-10アリールオキシ−
カルボキサミド基およびC7-19アラルキルオキシ−カル
ボキサミド基から選ばれた1ないし4個の置換基でそれ
ぞれ置換されていてもよいC1-6アルキル,C2-6アルケ
ニルまたはC2-6アルキニル基であり、式[A1]または
[A2]中のイミダゾール環および/または環B上の置
換基が水酸基,ヒドロキシC1-6アルキル基,C1-6アル
キル基,C2-6アルケニル基,C2-6アルキニル基,C
3-10シクロアルキル基,C5-6シクロアルケニル基,C
3-10シクロアルキル−C1-6アルキル基,C6-10アリー
ル基,C7-12アラルキル基,複素環基,C1-6アルコキ
シ基,C1-6アルコキシ−C1-6アルキル基,アミノC
1-6アルコキシ基,C3-10シクロアルキルオキシ基,C
6-10アリールオキシ基,C7-19アラルキルオキシ基,メ
ルカプト基,メルカプトC1-6アルキル基,スルホ基,
スルホC1-6アルキル基,C1-6アルキルチオ基,C1-6
アルキルチオ−C1-6アルキル基,C3-10シクロアルキ
ルチオ基,C6-10アリールチオ基,C7-19アラルキルチ
オ基,アミノC1-6アルキルチオ基,アミノ基,アミノ
1-6アルキル基,モノC1-6アルキルアミノ基,ジC
1-6アルキルアミノ基,モノC1-6アルキルアミノ−C
1-6アルキル基,ジC1-6アルキルアミノ−C1-6アルキ
ル基,C3-10シクロアルキルアミノ基,C6-10アリール
アミノ基,C7-19アラルキルアミノ基,環状アミノ基,
環状アミノC1-6アルキル基,環状アミノC1-6アルキル
アミノ基,アシルアミノ基,ウレイド基,C1-6アルキ
ルウレイド基,アジド基,ニトロ基,ハロゲン原子,ハ
ロゲノC1-6アルキル基,シアノ基,シアノC1-6アルキ
ル基,カルボキシル基,カルボキシC1-6アルキル基,
1-10アルコキシ−カルボニル基,C1-10アルコキシ−
カルボニルC1-6アルキル基,C6-10アリールオキシ−
カルボニル基,C7-19アラルキルオキシ−カルボニル
基,C6-10アリール−アシル基,C1-6アルカノイル
基,C2-6アルカノイル−C1-6アルキル基,C3 -5アル
ケノイル基,C6-10アリール−アシルオキシ基,C2-6
アルカノイルオキシ基,C2-6アルカノイルオキシ−C
1-6アルキル基,C3-5アルケノイルオキシ基,カルバモ
イルC1-6アルキル基,カルバモイル基,チオカルバモ
イル基,カルバモイルオキシ基,カルバモイルオキシC
1-6アルキル基,C1-6アルカノイルアミノ基,C6-10
リール−アシルアミノ基,スルホンアミド基,カルボキ
シアミノ基,C1-10アルコキシ−カルボキサミド基,C
6-10アリールオキシ−カルボキサミド基およびC7-19
ラルキルオキシ−カルボキサミド基から選ばれた1また
は2個の置換基である前記(1)記載の化合物、
【0009】(14)
【化24】 (式中の記号は前記と同意義を示す)で表される基であ
る前記(1)記載の化合物、(15)
【化25】 (16)
【化26】 (17)
【化27】
【0010】(18)R3が水酸基,C3-7シクロアルキ
ル基,C1-6アルコキシ基,C1-6アルキルチオ基,アミ
ノ基,ハロゲン原子,カルボキシル基,C1-10アルコキ
シ−カルボニル基,カルバモイル基,シアノ基,アジド
基および複素環基から選ばれた1ないし3個の置換基で
置換されていてもよいC1-6アルキル基である前記
(1)記載の化合物、(19)R3がC1-3アルキル基ま
たは水酸基,カルボキシル基またはカルバモイル基で置
換されたC1-6アルキル基である前記(1)記載の化合
物、(20)R3がメチル、エチル、カルバモイルメチ
ル、2−ヒドロキシエチル、アセトニルまたはアリルで
ある前記(1)記載の化合物、(21)R3がメチルま
たはカルバモイルメチルである前記(1)記載の化合、
(22)式
【化28】 〔式中、R1は保護されていてもよいアミノ基を、R2'
は水素原子、C2-4アルケニル基、シクロペンチル基、
または1ないし3個のハロゲン原子で置換されていても
よいC1-4アルキル基を、
【化29】 (式中、R3'はC2-4アルケニル基、または水酸基,カ
ルボキシル基またはカルバモイル基で置換されていても
よいC1-4アルキル基を、R3''は水素原子、アミノ基ま
たはカルバモイル基を示す)で表される基を示す。〕で
表されるセフェム化合物またはそのエステルあるいはそ
の塩である前記(1)記載の化合物、
【0011】(23)式
【化30】 〔式中、R1は保護されていてもよいアミノ基を、R2'
は水素原子、C2-4アルケニル基、シクロペンチル基、
または1ないし3個のハロゲン原子で置換されていても
よいC1-4アルキル基を、R3'''はC2-4アルケニル基、
またはカルバモイル基で置換されていてもよいC1-4
ルキル基を示す。〕で表されるセフェム化合物またはそ
のエステルあるいはその塩である前記(22)記載の化
合物、(24)R2'がシクロペンチル基、または1ない
し3個のハロゲン原子で置換されていてもよいC1-4
ルキル基であり、R3'''がカルバモイル基で置換されて
いてもよいC1-4アルキル基である前記(23)記載の
化合物、(25)7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4
−チアジアゾール−3−イル)−2(Z)−シクロペンチ
ルオキシイミノアセトアミド〕−3−〔(E)−2−(1
−メチルイミダゾ〔1,2−b〕ピリダジニウム−6−
イル)チオ〕ビニル−3−セフェム−4−カルボキシレ
ートまたはそのエステルあるいはその塩である前記
(1)記載の化合物、(26)7β−〔2−(5−アミ
ノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)−2(Z)−
エトキシイミノアセトアミド〕−3−〔(E)−2−(1
−メチルイミダゾ〔1,2−b〕ピリダジニウム−6−
イル)チオ〕ビニル−3−セフェム−4−カルボキシレ
ートまたはそのエステルあるいはその塩である前記
(1)記載の化合物、(27)7β−〔2−(5−アミ
ノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)−2(Z)−
フルオロメトキシイミノアセトアミド〕−3−〔(E)−
2−(1−メチルイミダゾ〔1,2−b〕ピリダジニウ
ム−6−イル)チオ〕ビニル−3−セフェム−4−カル
ボキシレートまたはそのエステルあるいはその塩である
前記(1)記載の化合物、
【0012】(28)7β−〔2−(5−アミノ−1,
2,4−チアジアゾール−3−イル)−2(Z)−フルオロ
メトキシイミノアセトアミド〕−3−〔(E)−2−(1
−カルバモイルメチルイミダゾ〔1,2−b〕ピリダジ
ニウム−6−イル)チオ〕ビニル−3−セフェム−4−
カルボキシレートまたはそのエステルあるいはその塩で
ある前記(1)記載の化合物、(29)式
【化31】 〔式中の記号は前記と同意義を示す。〕で表される化合
物またはそのエステルあるいはその塩と式
【化32】 〔式中の記号は前記と同意義を示す。〕で表されるカル
ボン酸またはその塩もしくは反応性誘導体とを反応さ
せ、必要に応じて保護基を除去することを特徴とする前
記(1)記載の化合物の製造法、
【0013】(30)式
【化33】
【化34】 その他の記号は前記と同意義を示す。〕で表される化合
物またはそのエステルあるいはその塩と、式R3−X
〔式中、Xはハロゲン原子を、R3は前記と同意義を示
す。〕で表される化合物を反応させ、必要に応じて保護
基を除去することを特徴とする前記(1)記載の化合物
の製造法、(31)式
【化35】 〔式中の記号は前記と同意義を示す。〕で表される化合
物またはそのエステルあるいはその塩を脱酸素反応に付
し、必要に応じて保護基を除去することを特徴とする前
記(1)記載の化合物の製造法、(32)前記(1)記
載の化合物を含有する医薬、(33)抗菌剤である前記
(32)記載の医薬、および(34)抗MRSA剤であ
る前記(32)記載の医薬に関する。
【0014】本明細書におけるセフェム化合物は「ザ・
ジャーナル・オブ・ジ・アメリカン・ケミカル・ソサイ
エティ」第84巻,3400頁(1962年)に記載され
ている「セファム」に基づいて命名された化合物群であ
り、セフェム化合物はセファム化合物のうち3,4−位
に二重結合を有する化合物を意味する。なお、本発明の
化合物は遊離形を表している式〔I〕の化合物またはそ
のエステルあるいはその塩(化合物〔I〕の塩または化
合物〔I〕のエステルの塩)を含む。以下本願明細書に
おいては、特別の場合を除き、遊離形を表している式
〔I〕の化合物またはそのエステルあるいはその塩を単
に、化合物〔I〕、抗菌化合物〔I〕あるいは式〔I〕で
表される化合物とのみ略称する。従って本願明細書の化
合物〔I〕は通常、遊離形のみならずそのエステルおよ
びそれらの塩を含むものとする。このことは、化合物
〔I〕のみならず、原料化合物、たとえば下記の化合物
〔II〕、〔III〕、〔V〕、〔VI〕についても同様であ
る。R1は保護されていてもよいアミノ基を表わす。β
−ラクタムおよびペプチドの分野ではアミノ基の保護基
は充分に研究されていてその保護法はすでに確立されて
おり、本発明においてもアミノ基の保護基としてはそれ
ら公知のものが適宜に採用されうる。アミノ基の保護基
としてはたとえば、置換されていてもよいC 1-6アルカ
ノイル基,置換されていてもよいC3-5アルケノイル
基,置換されていてもよいC6-10アリール−カルボニル
基,複素環カルボニル基,置換されていてもよいC1-10
アルキルスルホニル基,置換されていてもよいC6-10
リールスルホニル基,置換オキシカルボニル基,置換さ
れていてもよいカルバモイル基,置換されていてもよい
チオカルバモイル基,置換されていてもよいC6-10アリ
ール−メチル基,置換されていてもよいジC6-10アリー
ル−メチル基,置換されていてもよいトリC6-10アリー
ル−メチル基,置換されていてもよいC6-10アリール−
メチレン基,置換されていてもよいC6-10アリールチオ
基,置換シリル基,2−C1-10アルコキシ−カルボニル
−1−メチル−1−エテニル基,式M'OCO−〔式
中、M'はアルカリ金属を示す。〕で表される基などが
用いられる。
【0015】「置換されていてもよいC1-6アルカノイ
ル基」としてはたとえば、ハロゲン,オキソ,C1-6
ルコキシ,C1-6アルカノイル,C6-10アリール,ハロ
ゲノC6-10アリール,C6-10アリールオキシ,ハロゲノ
6-10アリールオキシ,C6-10アリールチオなどから選
ばれた1〜3個の置換基で置換されていてもよいC1-6
アルカノイル基が用いられ、具体的にはたとえば、ホル
ミル,アセチル,プロピオニル,ブチリル,バレリル,
ピバロイル,サクシニル,グルタリル,モノクロロアセ
チル,ジクロロアセチル,トリクロロアセチル,モノブ
ロモアセチル,モノフルオロアセチル,ジフルオロアセ
チル,トリフルオロアセチル,モノヨードアセチル,ア
セトアセチル,3−オキソブチリル,4−クロロ−3−
オキソブチリル,フェニルアセチル,p−クロロフェニ
ルアセチル,フェノキシアセチル,p−クロロフェノキ
シアセチルなど、ハロゲン,オキソ,C1-6アルコキ
シ,C6-10アリール,ハロゲノC6-10アリール,C6-10
アリールオキシ,ハロゲノC6-10アリールオキシ,C
6-10アリールチオなどが用いられる。「置換されていて
もよいC3-5アルケノイル基」としてはたとえば、ハロ
ゲン,C6-10アリールなどから選ばれた1〜3個の置換
基で置換されていてもよいC3-5アルケノイル基が用い
られ、具体的にはたとえば、アクリロイル,クロトノイ
ル,マレオイル,シンナモイル,p−クロロシンナモイ
ル,β−フェニルシンナモイルなどが用いられる。「置
換されていてもよいC6-10アリール−カルボニル基」と
してはたとえば、ハロゲン,ニトロ,ヒドロキシ,C
1-6アルキル,C1-6アルコキシなどから選ばれた1〜3
個の置換基で置換されていてもよいC6-10アリール−カ
ルボニル基が用いられ、具体的にはたとえば、ベンゾイ
ル,ナフトイル,フタロイル,p−トルオイル,p−te
rt−ブチルベンゾイル,p−ヒドロキシベンゾイル,p
−メトキシベンゾイル,p−tert−ブトキシベンゾイ
ル,p−クロロベンゾイル,p−ニトロベンゾイルなど
が用いられる。
【0016】「複素環カルボニル基」における「複素環
基」は複素環の炭素原子に結合している水素原子を1個
とりのぞいてできる基をいい、そのような複素環はたと
えば、窒素原子(オキシド化されていてもよい),酸素
原子,硫黄原子などのヘテロ原子を1〜数個、好ましく
は1〜4個含む5〜8員環またはその縮合環をいう。こ
のような複素環基としては具体的には2−または3−ピ
ロリル;3−,4−または5−ピラゾリル;2−,4−
または5−イミダゾリル;1,2,3−または1,2,4−
トリアゾリル;1H−または2H−テトラゾリル;2−
または3−フリル;2−または3−チエニル;2−,4
−または5−オキサゾリル;3−,4−または5−イソ
キサゾリル;1,2,3−オキサジアゾール−4−イルま
たは1,2,3−オキサジアゾール−5−イル;1,2,4
−オキサジアゾール−3−イルまたは1,2,4−オキサ
ジアゾール−5−イル;1,2,5−または1,3,4−オ
キサジアゾリル;2−,4−または5−チアゾリル;3
−,4−または5−イソチアゾリル;1,2,3−チアジ
アゾール−4−イルまたは1,2,3−チアジアゾール−
5−イル;1,2,4−チアジアゾール−3−イルまたは
1,2,4−チアジアゾール−5−イル;1,2,5−また
は1,3,4−チアジアゾリル;2−または3−ピロリジ
ニル;2−,3−または4−ピリジル;2−,3−また
は4−ピリジル−N−オキシド;3−または4−ピリダ
ジニル;3−または4−ピリダジニル−N−オキシド;
2−,4−または5−ピリミジニル;2−,4−または
5−ピリミジニル−N−オキシド;ピラジニル;2−,
3−または4−ピペリジニル;ピペラジニル;3H−イ
ンドール−2−イルまたは3H−インドール−3−イ
ル;2−,3−または4−ピラニル;2−,3−または
4−チオピラニル;ベンゾピラニル;キノリル;ピリド
〔2,3−d〕ピリミジル;1,5−,1,6−,1,7
−,1,8−,2,6−または2,7−ナフチリジル;チ
エノ〔2,3−d〕ピリジル;ピリミドピリジル;ピラ
ジノキノリル;ベンゾピラニルなどが用いられる。「置
換されていてもよいC1-10アルキルスルホニル基」とし
てはたとえば、ハロゲン,C6-10アリール,C6-10アリ
ールオキシなどから選ばれた1〜3個の置換基で置換さ
れていてもよいC1-10アルキルスルホニル基が用いら
れ、具体的にはたとえばメタンスルホニル,エタンスル
ホニルなどのC1-6アルキルスルホニル,カンファース
ルホニルなどが用いられる。
【0017】「置換されていてもよいC6-10アリールス
ルホニル基」としてはたとえば、ハロゲン,ニトロ,C
1-6アルキル,C1-6アルコキシなどから選ばれた1〜3
個の置換基で置換されていてもよいC6-10アリールスル
ホニル基が用いられ、具体的にはたとえば、ベンゼンス
ルホニル,ナフタレンスルホニル,p−トルエンスルホ
ニル,p−tert−ブチルベンゼンスルホニル,p−メト
キシベンゼンスルホニル,p−クロロベンゼンスルホニ
ル,p−ニトロベンゼンスルホニルなどが用いられる。
「置換オキシカルボニル基」としてはたとえば、C1-10
アルコキシ−カルボニル基(例、メトキシカルボニル,
エトキシカルボニル,n−プロポキシカルボニル,イソ
プロポキシカルボニル,n−ブトキシカルボニル,tert
−ブトキシカルボニル,シクロプロピルオキシカルボニ
ル,シクロペンチルオキシカルボニル,シクロヘキシル
オキシカルボニル,ノルボルニルオキシカルボニル
等),C6-10アリールオキシ−カルボニル基(例、フェ
ノキシカルボニル,ナフチルオキシカルボニル等)また
はC7-19アラルキルオキシ−カルボニル基(例、ベンジ
ルオキシカルボニル,ベンズヒドリルオキシカルボニル
等)のほか、それらがさらにC1-4アルコキシ基(例、
メトキシ,エトキシ等),C1-4アシル基(例、アセチ
ル,プロピオニル等),置換シリル基(後記する置換シ
リル基、例、トリメチルシリル,tert−ブチルジメチル
シリル等),C1-4アルキルスルホニル基(例、メタン
スルホニル,エタンスルホニル等),ハロゲン(例、フ
ッ素,塩素,臭素等),シアノ,C1-4アルキル基
(例、メチル,エチル等),ニトロ等から選ばれる置換
基を1〜3個有しているものも含まれる。具体的には例
えばメトキシメチルオキシカルボニル,アセチルメチル
オキシカルボニル,2−トリメチルシリルエトキシカル
ボニル,2−メタンスルホニルエトキシカルボニル,
2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル,2−シアノ
エトキシカルボニル,p−メチルフエノキシカルボニ
ル,p−メトキシフエノキシカルボニル,p−クロロフ
エノキシカルボニル,p−メチルベンジルオキシカルボ
ニル,p−メトキシベンジルオキシカルボニル,p−ク
ロロベンジルオキシカルボニル,p−ニトロベンジルオ
キシカルボニルなどが用いられる。
【0018】「置換されていてもよいカルバモイル基」
としてはたとえば、C1-4アルキル基(例、メチル,エ
チル等),フェニル基,C1-7アシル基(例、アセチ
ル,プロピオニル,ベンゾイル等),C1-4アルコキシ
−フェニル基(例、メトキシフェニル等)などから選ば
れた1または2個の置換基で置換されていてもよいカル
バモイル基が用いられ、具体的にはたとえば、N−メチ
ルカルバモイル,N−エチルカルバモイル,N,N−ジ
メチルカルバモイル,N,N−ジエチルカルバモイル,
N−フェニルカルバモイル,N−アセチルカルバモイ
ル,N−ベンゾイルカルバモイル,N−(p−メトキシ
フェニル)カルバモイルなどが用いられる。 「置換されていてもよいチオカルバモイル基」としては
たとえば、C1-4アルキル基(例、メチル,エチル
等),フェニル基などから選ばれた1または2個の置換
基で置換されていてもよいチオカルバモイル基が用いら
れ、たとえば、チオカルバモイル,N−メチルチオカル
バモイル,N−フェニルチオカルバモイルなどが用いら
れる。
【0019】「置換されていてもよいC6-10アリール−
メチル基」としてはたとえば、ハロゲン,ニトロ,C
1-6アルキル,C1-6アルコキシなどから選ばれた1〜3
個の置換基で置換されていてもよいC6-10アリール−メ
チル基が用いられ、具体的にはたとえば、ベンジル,ナ
フチルメチル,p−メチルベンジル,p−メトキシベン
ジル,p−クロロベンジル,p−ニトロベンジルなどが
用いられる。「置換されていてもよいジC6-10アリール
−メチル基」としてはたとえば、ハロゲン,ニトロ,C
1-6アルキル,C1-6アルコキシなどから選ばれた1〜3
個の置換基で置換されていてもよいジC6-10アリール−
メチル基が用いられ、具体的にはたとえば、ベンズヒド
リル,ジ(p−トリル)メチルなどが用いられる。「置
換されていてもよいトリC6-10アリール−メチル基」と
してはたとえば、ハロゲン,ニトロ,C1-6アルキル,
1-6アルコキシなどから選ばれた1〜3個の置換基で
置換されていてもよいトリC6-10アリール−メチル基が
用いられ、具体的にはたとえば、トリチル,トリ(p−
トリル)メチルなどが用いられる。「置換されていても
よいC6-10アリール−メチレン基」としてはたとえば、
ハロゲン,ニトロ,C1-6アルキル,C1-6アルコキシな
どから選ばれた1〜3個の置換基で置換されていてもよ
いC6-10アリール−メチレン基が用いられ、具体的には
たとえば、ベンジリデン,p−メチルベンジリデン,p
−クロロベンジリデンなどが用いられる。「置換されて
いてもよいC6-10アリールチオ基」としてはたとえば、
ハロゲン,ニトロ,C1-6アルキル,C1-6アルコキシな
どから選ばれた1〜3個の置換基で置換されていてもよ
いC6-10アリールチオ基が用いられ、具体的にはたとえ
ば、o−ニトロフェニルチオなどが用いられる。
【0020】「置換シリル基」は保護されるアミノ基と
あわさって式R678SiNH−,(R678Si)2
−または
【化36】 〔式中、R6,R7,R8,R9,R10,R9aおよびR10aはそれ
ぞれC1-6アルキル基またはC6-10アリール基を、Za
1-3アルキレン基を示す〕で表わされるような基を形
成する。ここにおいて、「C1-6アルキル基」としては
たとえば、メチル,エチル,n−プロピル,イソプロピ
ル,n−ブチル,n−ペンチルなど直鎖状または分枝状
のC1-6アルキル基などが用いられる。「C6-10アリー
ル基」としてはたとえば、フェニル,ナフチルなどが用
いられる。「C1-3アルキレン基」としてはたとえば、
メチレン,エチレン,プロピレンなどが用いられる。
「置換シリル基」の好ましい例としてはたとえば、トリ
メチルシリル,tert−ブチルジメチルシリル,−Si(C
3)2CH2CH2Si(CH3)2−などが用いられる。「2
−C1-10アルコキシ−カルボニル−1−メチル−1−エ
テニル基」のC1-10アルコキシとしては、メトキシ,エ
トキシ,tert-ブトキシ, シクロヘキシルオキシなどの
直鎖状、分枝状または環状のC1-10アルコキシが用いら
れ、2−C1-10アルコキシ−カルボニル−1−メチル−
1−エテニル基として具体的にはたとえば、2−メトキ
シカルボニル−1−メチル−1−エテニル,2−エトキ
シカルボニル−1−メチル−1−エテニル,2−tert−
ブトキシカルボニル−1−メチル−1−エテニル,2−
シクロヘキシルオキシカルボニル−1−メチル−1−エ
テニル,2−ノルボルニルオキシカルボニル−1−メチ
ル−1−エテニルなどが用いられる。 M'で示される「アルカリ金属」としてはたとえば、ナ
トリウム,カリウムなどが好ましく、特にナトリウムな
どが好ましい。R1は抗菌活性からみてアミノ基が好ま
しい。
【0021】R2は水素原子または炭素原子を介して結
合する基を表す。R2で表される「炭素原子を介して結
合する基」としてはたとえば、置換されていてもよい炭
化水素基(例えば、置換されていてもよいアルキル基、
置換されていてもよいアルケニル基、置換されていても
よい環状炭化水素基の他、置換されていてもよいアルキ
ニル基、置換されていてもよいアラルキル基など)また
は炭素原子に結合手を有する置換されていてもよい非芳
香族複素環基などが好ましく、特に、置換されていても
よいアルキル基、置換されていてもよいアルケニル基、
置換されていてもよい環状炭化水素基などが好ましい。
「置換されていてもよいアルキル基」の「アルキル基」
としてはたとえば、メチル,エチル,n−プロピル,イ
ソプロピル,n−ブチル,イソブチル,sec−ブチル,t
ert−ブチル,n−ペンチル,n−ヘキシルなどのC1-6
アルキル基が好ましく、特にメチル,エチル,イソプロ
ピルなどが好ましい。「置換されていてもよいアルケニ
ル基」の「アルケニル基」としてはたとえば、ビニル,
アリル,イソプロペニル,メタリル,1,1−ジメチル
アリル,2−ブテニル,3−ブテニルなどのC2-6アル
ケニル基などが好ましい。「置換されていてもよいアル
キニル基」の「アルキニル基」としてはたとえば、エチ
ニル,1−プロピニル,2−プロピニル,2−プチニ
ル,2−ペンチニル,2−ヘキシニルなどのC2-6アル
キニル基などが挙げられる。「置換されていてもよいア
ラルキル基」の「アラルキル基」はたとえば、ベンジ
ル,1−フェニルエチル,2−フェニルエチル,フェニ
ルプロピル,ナフチルメチル,ベンズヒドリルなどのC
7-19アラルキル基が好ましい。「置換されていてもよい
環状炭化水素基」の「環状炭化水素基」としてはたとえ
ば、シクロプロピル,シクロブチル,シクロペンチル,
シクロヘキシル,シクロヘプチル,2−シクロペンテン
−1−イル,3−シクロペンテン−1−イル,2−シク
ロヘキセン−1−イル,3−シクロヘキセン−1−イル
などの3〜7員非芳香族環状炭化水素基などが好まし
く、特にシクロブチル、シクロペンチルなどのC3-7
クロアルキル基などが好ましい。「置換されていてもよ
い非芳香族複素環基」の「非芳香族複素環基」としては
たとえば、オキシラニル、アゼチジニル、オキセタニ
ル、チエタニル、ピロリジニル、テトラヒドロフリル、
チオラニル、ピペリジル、テトラヒドロピラニル、モル
ホリニル、チオモルホリニルなどの炭素原子以外に窒素
原子,酸素原子,硫黄原子などのヘテロ原子を1または
2個含む3ないし6員非芳香族複素環基などが好まし
い。
【0022】前記「炭化水素基」が有していてもよい置
換基としてはたとえば、複素環基,水酸基,C1-6アル
コキシ基,C3-7シクロアルキルオキシ基,C6-10アリ
ールオキシ基,C7-19アラルキルオキシ基,複素環オキ
シ基,メルカプト基,C1-6アルキルチオ基,C3-10
クロアルキルチオ基,C6-10アリールチオ基,C7-19
ラルキルチオ基,複素環チオ基,アミノ基,モノC1-6
アルキルアミノ基,ジC1-6アルキルアミノ基,トリC
1-6アルキルアンモニウム基,C3-10シクロアルキルア
ミノ基,C6-10アリールアミノ基,C7-19アラルキルア
ミノ基,複素環アミノ基,環状アミノ基,アジド基,ニ
トロ基,ハロゲン原子,シアノ基,カルボキシル基,C
1-10アルコキシ−カルボニル基,C6-10アリールオキシ
−カルボニル基,C7-19アラルキルオキシ−カルボニル
基,C6-10アリール−アシル基,C1-6アルカノイル
基,C3-5アルケノイル基,C6-10アリール−アシルオ
キシ基,C2-6アルカノイルオキシ基,C3-5アルケノイ
ルオキシ基,置換されていてもよいカルバモイル基,置
換されていてもよいチオカルバモイル基,置換されてい
てもよいカルバモイルオキシ基,フタルイミド基,C
1-6アルカノイルアミノ基,C6-10アリール−アシルア
ミノ基,C1-10アルコキシ−カルボキサミド基,C6-10
アリールオキシ−カルボキサミド基,C7-19アラルキル
オキシ−カルボキサミド基などが挙げられ、同一または
異なって1ないし4個存在していてもよい。
【0023】「炭化水素基」の置換基の具体例として
は、「C1-6アルコキシ基」としてはたとえば、メトキ
シ,エトキシ,n−プロポキシ,イソプロポキシ,n−
ブトキシ,tert−ブトキシ,n−ペンチルオキシ,n−
ヘキシルオキシなどが、「C3-10シクロアルキルオキシ
基」としてはたとえば、シクロプロピルオキシ,シクロ
ヘキシルオキシなどが、「C6-10アリールオキシ基」と
してはたとえば、フェノキシ,ナフチルオキシなどが、
「C7-19アラルキルオキシ基」としてはたとえば、ベン
ジルオキシ,1−フェニルエチルオキシ,2−フェニル
エチルオキシ,ベンズヒドリルオキシなどが、「C1-6
アルキルチオ基」としてはたとえば、メチルチオ,エチ
ルチオ,n−プロピルチオ,n−ブチルチオなどが、
「C3-10シクロアルキルチオ基」としてはたとえば、シ
クロプロピルチオ,シクロヘキシルチオなどが、「C
6-10アリールチオ基」としてはたとえば、フェニルチ
オ,ナフチルチオなどが、「C7-19アラルキルチオ基」
としてはたとえば、ベンジルチオ,フェニルエチルチ
オ,ベンズヒドリルチオなどが、「モノC1-6アルキル
アミノ基」としてはたとえば、メチルアミノ,エチルア
ミノ,n−プロピルアミノ,n−ブチルアミノなどが、
「ジC1-6アルキルアミノ基」としてはたとえば、ジメ
チルアミノ,ジエチルアミノ,メチルエチルアミノ,ジ
−(n−プロピル)アミノ,ジ−(n−ブチル)アミノ
などが、「トリC1-6アルキルアンモニウム基」として
はたとえば、トリメチルアンモニウムなどが、「C3-10
シクロアルキルアミノ基」としてはたとえば、シクロプ
ロピルアミノ,シクロペンチルアミノ,シクロヘキシル
アミノなどが、「C6-10アリールアミノ基」としてはた
とえば、アニリノ,N−メチルアニリノなどが、「C
7-19アラルキルアミノ基」としてはたとえば、ベンジル
アミノ,1−フェニルエチルアミノ,2−フェニルエチ
ルアミノ,ベンズヒドリルアミノなどが、「環状アミノ
基」としてはたとえば、ピロリジノ,ピペリジノ,ピペ
ラジノ,モルホリノ,1−ピロリルなどが、「ハロゲン
原子」としてはたとえば、フッ素,塩素,臭素,ヨウ素
などが、「C1-10アルコキシ−カルボニル基」としては
たとえば、メトキシカルボニル,エトキシカルボニル,
n−プロポキシカルボニル,イソプロポキシカルボニ
ル,n−ブトキシカルボニル,イソブトキシカルボニ
ル,tert−ブトキシカルボニル,シクロペンチルオキシ
カルボニル,シクロヘキシルオキシカルボニル,ノルボ
ルニルオキシカルボニルなどが、「C6-10アリールオキ
シ−カルボニル基」としてはたとえば、フェノキシカル
ボニル,ナフチルオキシカルボニルなどが、「C7-19
ラルキルオキシ−カルボニル基」としてはたとえば、ベ
ンジルオキシカルボニル,ベンズヒドリルオキシカルボ
ニルなどが、「C6-10アリール−アシル基」としてはた
とえば、ベンゾイル,ナフトイル,フタロイル,フェニ
ルアセチルなどのC6-10アリール−カルボニル基が、
「C1-6アルカノイル基」としてはたとえば、ホルミ
ル,アセチル,プロピオニル,ブチリル,バレリル,ピ
バロイル,サクシニル,グルタリルなどが、「C3-5
ルケノイル基」としてはたとえば、アクリロイル,クロ
トノイル,マレオイルなどが、「C6-10アリール−アシ
ルオキシ基」としてはたとえば、ベンゾイルオキシ,ナ
フトイルオキシ,フェニルアセトキシなどのC6-10アリ
ール−カルボニルオキシ基が、「C2-6アルカノイルオ
キシ基」としてはたとえば、アセトキシ,プロピオニル
オキシ,ブチリルオキシ,バレリルオキシ,ピバロイル
オキシなどが、「C3-5アルケノイルオキシ基」として
はたとえば、アクリロイルオキシ,クロトノイルオキシ
などがあげられる。「置換されていてもよいカルバモイ
ル基」としてはたとえば、C1-4アルキル基(例、メチ
ル,エチル等),フェニル基,C1-7アシル基(例、ア
セチル,プロピオニル,ベンゾイル等),C1-4アルコ
キシ−フェニル基(例、メトキシフェニル等)などから
選ばれた1または2個の置換基で置換されていてもよい
カルバモイル基および環状アミノカルボニル基などが用
いられ、具体的にはたとえば、カルバモイル,N−メチ
ルカルバモイル,N−エチルカルバモイル,N,N−ジ
メチルカルバモイル,N,N−ジエチルカルバモイル,
N−フェニルカルバモイル,N−アセチルカルバモイ
ル,N−ベンゾイルカルバモイル,N−(p−メトキシ
フェニル)カルバモイル,ピロリジノカルボニル,ピペ
リジノカルボニル,ピペラジノカルボニル,モルホリノ
カルボニルなどが用いられる。「置換されていてもよい
チオカルバモイル基」としてはたとえば、C1-4アルキ
ル基(例、メチル,エチル等),フェニル基などから選
ばれた1または2個の置換基で置換されていてもよいチ
オカルバモイル基が用いられ、たとえば、チオカルバモ
イル,N−メチルチオカルバモイル,N−フェニルチオ
カルバモイルなどが用いられる。「置換されていてもよ
いカルバモイルオキシ基」はたとえば、C1-4アルキル
基(例、メチル,エチル等),フェニル基などから選ば
れた1または2個の置換基で置換されていてもよいカル
バモイルオキシ基が用いられ、具体的にはたとえば、カ
ルバモイルオキシ,N−メチルカルバモイルオキシ,
N,N−ジメチルカルバモイルオキシ,N−エチルカル
バモイルオキシ,N−フェニルカルバモイルオキシなど
が用いられる。また、「C1-6アルカノイルアミノ基」
としてはたとえば、アセトアミド,プロピオンアミド,
ブチロアミド,バレロアミド,ピバロアミドなどが、
「C6-10アリール−アシルアミノ基」としてはたとえ
ば、ベンズアミド,ナフトイルアミド,フタルイミドな
どのC6-10アリール−カルボニルアミノ基が、「C1-10
アルコキシ−カルボキサミド基」としてはたとえば、メ
トキシカルボキサミド(CH3OCONH−),エトキ
シカルボキサミド,tert−ブトキシカルボキサミドなど
を、「C6-10アリールオキシ−カルボキサミド基」とし
てはたとえば、フェノキシカルボキサミド(C65OC
ONH−)などが、「C7-10アラルキルオキシ−カルボ
キサミド基」としてはたとえば、ベンジルオキシカルボ
キサミド(C65CH2OCONH−),ベンズヒドリ
ルオキシカルボキサミドなどがあげられる。
【0024】「炭化水素基」の置換基における複素環
基,複素環オキシ基,複素環チオ基および複素環アミノ
基の複素環基は複素環の炭素原子に結合している水素原
子を1個とりのぞいてできる基を表し、そのような複素
環は、たとえば窒素原子(オキシド化されていてもよ
い),酸素原子,硫黄原子などのヘテロ原子を1〜数
個、好ましくは1〜4個含む5〜8員環またはその縮合
環を示す。このような複素環基としては、たとえば2−
または3−ピロリル;3−,4−または5−ピラゾリ
ル;2−,4−または5−イミダゾリル;1,2,3−ま
たは1,2,4−トリアゾリル;1H−または2H−テト
ラゾリル;2−または3−フリル;2−または3−チエ
ニル;2−,4−または5−オキサゾリル;3−,4−
または5−イソキサゾリル;1,2,3−オキサジアゾー
ル−4−イルまたは1,2,3−オキサジアゾール−5−
イル;1,2,4−オキサジアゾール−3−イルまたは
1,2,4−オキサジアゾール−5−イル;1,2,5−ま
たは1,3,4−オキサジアゾリル;2−,4−または5
−チアゾリル;3−,4−または5−イソチアゾリル;
1,2,3−チアジアゾール−4−イルまたは1,2,3−
チアジアゾール−5−イル;1,2,4−チアジアゾール
−3−イルまたは1,2,4−チアジアゾール−5−イ
ル;1,2,5−または1,3,4−チアジアゾリル;2−
または3−ピロリジニル;2−,3−または4−ピリジ
ル;2−,3−または4−ピリジル−N−オキシド;3
−または4−ピリダジニル;3−または4−ピリダジニ
ル−N−オキシド;2−,4−または5−ピリミジニ
ル;2−,4−または5−ピリミジニル−N−オキシ
ド;ピラジニル;2−,3−または4−ピペリジニル;
ピペラジニル;3H−インドール−2−イルまたは3H
−インドール−3−イル;2−,3−または4−ピラニ
ル;2−,3−または4−チオピラニル;ベンゾピラニ
ル;キノリル;ピリド〔2,3−d〕ピリミジニル;1,
5−,1,6−,1,7−,1,8−,2,6−または2,
7−ナフチリジル;チエノ〔2,3−d〕ピリジル;ピ
リミドピリジル;ピラジノキノリル;ベンゾピラニルな
どが挙げられる。
【0025】前記「置換されていてもよいアルキル基」
の「アルキル基」、「置換されていてもよいアルケニル
基」の「アルケニル基」、「置換されていてもよいアラ
ルキル基」の「アラルキル基」および「置換されていて
もよい環状炭化水素基」の「環状炭化水素基」が有して
いてもよい置換基としては、たとえば前記「置換されて
いてもよい炭化水素基」の「炭化水素基」が有していて
もよい置換基と同様のものなどが用いられる。前記「置
換されていてもよい炭化水素基」の好ましいものとして
は、たとえば、水酸基,C3-7シクロアルキル基(たと
えば、前記と同様のもの),C1-6アルコキシ基(たと
えば、前記と同様のもの),C1-6アルキルチオ基(た
とえば、前記と同様のもの),アミノ基,トリC1-6
ルキルアンモニウム基(たとえば、前記と同様のも
の),ハロゲン原子(たとえば、前記と同様のもの),
カルボキシル基,C1-10アルコキシカルボニル基(たと
えば、前記と同様のもの),置換されていてもよいカル
バモイル基,シアノ基,アジド基,複素環基(たとえ
ば、前記と同様のもの)などから選ばれた1ないし3個
の置換基で置換されたC1-6アルキル基(C1-6アルキル
基としては、たとえばメチル,エチル,n−プロピル,
イソプロピルなどが用いられる)であり、それらを具体
的に挙げると、シクロプロピルメチル,メトキシメチ
ル,エトキシメチル,1−メトキシエチル,2−メトキ
シエチル,1−エトキシエチル,2−ヒドロキシエチ
ル,メチルチオメチル,2−アミノエチル,2−(トリ
メチルアンモニウム)エチル,2−(トリエチルアンモ
ニウム)エチル,フルオロメチル,ジフルオロメチル,
トリフルオロメチル,2−フルオロエチル,2,2−ジ
フルオロエチル,クロロメチル,2−クロロエチル,
2,2−ジクロロエチル,2,2,2−トリクロロエチ
ル,2−ブロモエチル,2−ヨードエチル,2,2,2−
トリフルオロエチル,カルボキシメチル,1−カルボキ
シエチル,2−カルボキシエチル,2−カルボキシプロ
ピル,3−カルボキシプロピル,1−カルボキシブチ
ル,シアノメチル,1−カルボキシ−1−メチルエチ
ル,メトキシカルボニルメチル,エトキシカルボニルメ
チル,tert−ブトキシカルボニルメチル,1−メトキシ
カルボニル−1−メチルエチル,1−エトキシカルボニ
ル−1−メチルエチル,1−tert−ブトキシカルボニル
−1−メチルエチル,1−ベンジルオキシカルボニル−
1−メチルエチル,1−ピバロイルオキシカルボニル−
1−メチルエチル,カルバモイルメチル,2−アジドエ
チル,2−(ピラゾリル)エチル,2−(イミダゾリ
ル)エチル,2−(2−オキソピロリジン−3−イル)
エチル,2−アミノ−4または5−チアゾリルメチル,
5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イルメチ
ル,1−カルボキシ−1−(2,3,4−トリヒドロキシ
フェニル)メチル,2−オキソ−3−ピロリジルなどが
挙げられる。前記した「炭化水素基」の置換基は1個に
限定されず、同一または異なって複数個(2ないし4
個)あってもよい。「置換されていてもよい炭化水素
基」のうち最も好ましいものはメチル,エチル,n−プ
ロピル,イソプロピルなどの直鎖状及び分枝状のC1-3
アルキル基およびフルオロメチル、2−フルオロエチ
ル,2−クロロエチル,2−ヒドロキシエチル,2−メ
トキシエチル,シアノメチル,カルボキシメチル,tert
−ブトキシカルボニルメチル,1−カルボキシ−1−メ
チルエチル,1−tert−ブトキシカルボニル−1−メチ
ルエチルなどのハロゲン原子,水酸基,C1-6アルコキ
シ基,カルボキシル基,C1-10アルコキシカルボニル
基,シアノ基で置換された直鎖状又は分枝状のC1-3
ルキル基およびアリル基である。
【0026】前記「炭素原子に結合手を有する置換され
ていてもよい非芳香族複素環基」の非芳香族複素環基と
しては、たとえばオキシラニル、アゼチジニル、オキセ
タニル、チエタニル、ピロリジニル、テトラヒドロフリ
ル、チオラニル、ピペリジル、テトラヒドロピラニル、
モルホリニル、チオモルホリニルなどの炭素原子以外に
窒素原子、酸素原子、硫黄原子などのヘテロ原子を1ま
たは2個含む3ないし6員非芳香族複素環基などが用い
られる。「炭素原子に結合手を有する置換されていても
よい非芳香族複素環基」の置換基としては、前記「置換
されていてもよい炭化水素基」において例示した炭化水
素基およびその置換基などがあげられる。R2の好まし
いものとしては、たとえば水素原子または置換されてい
てもよい炭化水素基であり、特にたとえばC1-6アルキ
ル基(たとえば、メチル、エチル、プロピル、イソプロ
ピルなど)、C3-7シクロアルキル基(たとえば、シク
ロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘ
キシルなど)などが挙げられる。また、R2は、水素原
子、C2-4アルケニル基(たとえば、アリルなど)、シ
クロペンチル、または1ないし3個のハロゲン原子(た
とえば、フッ素、塩素、臭素など)で置換されていても
よいC1-4アルキル基(たとえば、メチル、エチル、プ
ロピル、イソプロピルなど)など、とりわけフルオロC
1-4アルキル基(たとえば、フルオロメチル、2−フル
オロエチルなど)などが好ましい。
【0027】
【化37】 〔式中、Bはヘテロ原子が1または2個の窒素原子であ
る6員芳香族複素環、R3は置換されていてもよい炭化
水素基を示す〕で表わされる基を示す。
【0028】基〔A1〕としては具体的にはつぎのよう
なものが用いられる。
【化38】 基〔A2〕としては具体的にはつぎのようなものが用い
られる。
【化39】
【化40】
【0029】前記の式〔A1〕,〔A2〕およびそれらの
具体例においては、
【化41】 陽電荷を1位の窒素原子にあてはめれる場合もある。ま
た1価の陽電荷がイミダゾール環に非局在化している場
合、さらに縮合環全体に非局在化している場合もある。
したがってたとえば前記の
【化42】 などのようにも表される。この陽電荷の存在位置は化合
物〔I〕の状態(固体か溶液中か),溶媒の種類・液性,
温度,置換基の種類などによって流動的に変化するの
で、本発明は陽電荷が窒素原子に局在化した場合とイミ
ダゾール環または縮合環全体に非局在化した場合のすべ
てを包含するものとする。R3で表される「置換されて
いてもよい炭化水素基」としては、上記R2において例
示した「置換されていてもよい炭化水素基」と同様のも
のが用いられる。
【0030】R3で表される「置換されていてもよい炭
化水素基」でより好ましいものは、たとえば水酸基,C
3-7シクロアルキル基,C1-6アルコキシ基,C1-6アル
キルチオ基,アミノ基,ハロゲン原子,カルボキシル
基,C1-10アルコキシカルボニル基,置換されていても
よいカルバモイル基,シアノ基,アジド基,複素環基な
どから選ばれた1ないし3個の置換基で置換されていて
もよいC1-6アルキル基(C1-6アルキル基はメチル,エ
チル,n−プロピル,イソプロピルなどをいう)であ
り、それらを具体的に挙げると、シクロプロピルメチ
ル,メトキシメチル,エトキシメチル,1−メトキシエ
チル,2−メトキシエチル,1−エトキシエチル,2−
ヒドロキシエチル,メチルチオメチル,2−アミノエチ
ル,2−フルオロエチル,2,2−ジフルオロエチル,
クロロメチル,2−クロロエチル,2,2−ジクロロエ
チル,2,2,2−トリクロロエチル,2−ブロモエチ
ル,2−ヨードエチル,2,2,2−トリフルオロエチ
ル,カルボキシメチル,1−カルボキシエチル,2−カ
ルボキシエチル,2−カルボキシプロピル,3−カルボ
キシプロピル,1−カルボキシブチル,シアノメチル,
1−カルボキシ−1−メチルエチル,メトキシカルボニ
ルメチル,エトキシカルボニルメチル,tert−ブトキシ
カルボニルメチル,1−メトキシカルボニル−1−メチ
ルエチル,1−エトキシカルボニル−1−メチルエチ
ル,1−tert−ブトキシカルボニル−1−メチルエチ
ル,1−ベンジルオキシカルボニル−1−メチルエチ
ル,1−ピバロイルオキシカルボニル−1−メチルエチ
ル,カルバモイルメチル,N−メチルカルバモイルメチ
ル,N,N−ジメチルカルバモイルメチル,2−アジド
エチル,2−(ピラゾリル)エチル,2−(イミダゾリ
ル)エチル,2−(2−オキソピロリジン−3−イル)
エチル,1−カルボキシ−1−(2,3,4−トリヒドロ
キシフェニル)メチルなどが挙げられる。前記「炭化水
素基」の置換基は1個に限定されず、同一または異なっ
て複数個(2ないし4個)あってもよい。「置換されて
いてもよい炭化水素基」のうち最も好ましいものは、た
とえばメチル,エチル,n−プロピル,イソプロピルな
どの直鎖状及び分枝状のC1-3アルキル基および2−フ
ルオロエチル,2−クロロエチル,2−ヒドロキシエチ
ル,2−メトキシエチル,シアノメチル,カルボキシメ
チル,メトキシカルボニルメチル,エトキシカルボニル
メチル,カルバモイルメチル,N−メチルカルバモイル
メチル,N,N−ジメチルカルバモイルメチルなどのハ
ロゲン原子,水酸基,C1-6アルコキシ基,カルボキシ
ル基,C1-10アルコキシカルボニル基,シアノ基および
カルバモイル基から選ばれた1ないし3個の置換基(と
りわけ、水酸基,カルボキシル基およびカルバモイル基
が好ましい)で置換されていてもよい直鎖状のC1-6
ルキル基が挙げられる。R3としては、たとえばC1-3
ルキル基(たとえば、メチル、エチルなど)などが好ま
しい。
【0031】式〔A1〕または〔A2〕で表される基は、
3以外にそのイミダゾール環または/および環Bに好
ましくは1または2個置換基を有していてもよい。かか
る置換基としてはたとえば、水酸基,ヒドロキシC1-6
アルキル基,C1-6アルキル基,C2-6アルケニル基,C
2-6アルキニル基,C3-10シクロアルキル基,C5-6シク
ロアルケニル基,C3-10シクロアルキルC1-6アルキル
基,C6-10アリール基,C7-12アラルキル基,複素環
基,C1-6アルコキシ基,C1-6アルコキシ−C1-6アル
キル基,アミノC1-6アルコキシ基,C3-10シクロアル
キルオキシ基,C6-10アリールオキシ基,C7-19アラル
キルオキシ基,メルカプト基,メルカプトC1-6アルキ
ル基,スルホ基,スルホC1-6アルキル基,C1-6アルキ
ルチオ基,C1-6アルキルチオC1-6アルキル基,C3-10
シクロアルキルチオ基,C6-10アリールチオ基,C7-19
アラルキルチオ基,アミノC1-6アルキルチオ基,アミ
ノ基,アミノC1-6アルキル基,モノC1-6アルキルアミ
ノ基,ジC1-6アルキルアミノ基,モノC1-6アルキルア
ミノC1-6アルキル基,ジC1-6アルキルアミノC1-6
ルキル基,C3-10シクロアルキルアミノ基,C6-10アリ
ールアミノ基,C7-19アラルキルアミノ基,環状アミノ
基,環状アミノC1-6アルキル基,環状アミノC1-6アル
キルアミノ基,ウレイド基,C1-6アルキルウレイド
基,アジド基,ニトロ基,ハロゲン原子,ハロゲノC
1-6アルキル基,シアノ基,シアノC1-6アルキル基,カ
ルボキシル基,カルボキシC1-6アルキル基,C1-10
ルコキシ−カルボニル基,C1-10アルコキシ−カルボニ
ルC1-6アルキル基,C6-10アリールオキシ−カルボニ
ル基,C7-19アラルキルオキシ−カルボニル基,C6-10
アリール−アシル基,C1-6アルカノイル基,C2-6アル
カノイルC1-6アルキル基,C3-5アルケノイル基,C
6-10アリール−アシルオキシ基,C2-6アルカノイルオ
キシ基,C2-6アルカノイルオキシC1-6アルキル基,C
3-5アルケノイルオキシ基,カルバモイルC1-6アルキル
基,カルバモイル基,チオカルバモイル基,カルバモイ
ルオキシ基,カルバモイルオキシC1-6アルキル基,C
1-6アルカノイルアミノ基,C6-10アリール−アシルア
ミノ基,スルホンアミド基,カルボキシアミノ基,C
1-10アルコキシ−カルボキサミド基,C6-10アリールオ
キシ−カルボキサミド基,C7-19アラルキルオキシ−カ
ルボキサミド基などが用いられる。
【0032】「C1-6アルキル基」としては、たとえば直
鎖状または分枝状の炭素数1〜6のアルキル基が好まし
く、たとえばメチル,エチル,n−プロピル,イソプロ
ピル,n−ブチル,イソブチル,sec−ブチル,tert−ブ
チル,n−ペンチル,n−ヘキシルなどが用いられる。
「C2-6アルケニル基」としては、たとえば直鎖状または
分枝状の炭素数2〜6のアルケニル基が好ましく、たと
えばビニル,アリル,1−プロペニル,イソプロペニ
ル,1−ブテニル,2−ブテニル,3−ブテニル,メタ
リル,1,1−ジメチルアリルなどが用いられる。「C
2-6アルキニル基」としては、たとえば直鎖状または分枝
状の炭素数2〜6のアルキニル基が好ましく、たとえば
エチニル,1−プロピニル,プロパルギルなどが用いら
れる。「C3-10シクロアルキル基」としては、たとえば炭
素数3〜10からなる3〜7員脂環状炭化水素基が好ま
しく、たとえばシクロプロピル,シクロブチル,シクロ
ペンチル,シクロヘキシル,シクロヘプチル,ノルボル
ニル,アダマンチルなどが用いられる。「 C5-6シクロアルケニル基」としては、たとえば二重結
合を有する5〜6員脂環状炭化水素基が好ましく、たと
えばシクロペンテニル,シクロペンタジエニル,シクロ
ヘキセニル,シクロヘキサジエニルなどが用いられる。
【0033】「C6-10アリール基」としては、たとえばフ
ェニル,α−ナフチル,β−ナフチル,ビフェニリルな
どが用いられる。「 C7-12アラルキル基」としては、たとえばベンジル,1
−フェニルエチル,2−フェニルエチル,フェニルプロ
ピル,ナフチルメチルなどが用いられる。「 C1-6アルコキシ基」としては、たとえばメトキシ,エ
トキシ,n−プロポキシ,イソプロポキシ,n−ブトキ
シ,tert−ブトキシ,n−ペンチルオキシ,ヘキシルオ
キシなどが用いられる。「C3-10シクロアルキルオキシ
基」としては、たとえばシクロプロピルオキシ,シクロ
ペンチルオキシ,シクロヘキシルオキシ,ノルボルニル
オキシなどが用いられる。「アミノC1-6アルコキシ
基」としては、たとえばアミノメトキシ,2−アミノエ
トキシ,3−アミノプロポキシなどが用いられる。「C
6-10アリールオキシ基」としては、たとえばフェノキ
シ,ナフチルオキシなどが用いられる。「C7-19アラル
キルオキシ基」としては、たとえばベンジルオキシ,1
−フェニルエチルオキシ,2−フェニルエチルオキシ,
ナフチルメチルオキシ,ベンズヒドリルオキシ,トリチ
ルオキシなどが用いられる。「C1-6アルキルチオ基」と
しては、たとえばメチルチオ,エチルチオ,n−プロピ
ルチオ,n−ブチルチオなどが用いられる。
【0034】「アミノC1-6アルキルチオ基」としては、
たとえばアミノメチルチオ,2−アミノエチルチオ,3
−アミノプロピルチオなどが用いられる。「C3-10シク
ロアルキルチオ基」としては、たとえばシクロプロピル
チオ,シクロヘキシルチオなどが用いられる。「C6-10
アリールチオ基」としては、たとえばフェニルチオ,ナ
フチルチオなどが用いられる。「C7-19アラルキルチオ
基」としては、たとえばベンジルチオ,フェニルエチル
チオ,ベンズヒドリルチオ,トリチルチオなどが用いら
れる。「ヒドロキシC1-6アルキル基」としては、たとえ
ばヒドロキシメチル,1−ヒドロキシエチル,2−ヒド
ロキシエチル,3−ヒドロキシプロピルなどが用いられ
る。「C3-10シクロアルキルC1-6アルキル基」として
は、たとえばシクロプロピルメチル,シクロプロピルエ
チル,シクロブチルメチルなどが用いられる。「メルカ
プトC1-6アルキル基」としては、たとえばメルカプトメ
チル,1−メルカプトエチル,2−メルカプトエチルな
どが用いられる。
【0035】「C1-6アルコキシ−C1-6アルキル基」とし
ては、たとえばメトキシメチル,エトキシメチル,2−
メトキシエチルなどが用いられる。「C1-6アルキルチオ
1-6アルキル基」としては、たとえばメチルチオメチ
ル,2−メチルチオエチルなどが用いられる。「アミノ
1-6アルキル基」としては、たとえばアミノメチル,2
−アミノエチル,3−アミノプロピルなどが用いられ
る。「モノC1-6アルキルアミノC1-6アルキル基」として
は、たとえばメチルアミノメチル,エチルアミノメチ
ル,2−(N−メチルアミノ)エチル,3−(N−メチル
アミノ)プロピルなどが用いられる。「ジC1-6アルキル
アミノC1-6アルキル基」としては、たとえば、N,N−
ジメチルアミノメチル,N,N−ジエチルアミノメチ
ル,2−(N,N−ジメチルアミノ)エチル,2−(N,N
−ジエチルアミノ)エチル,3−(N,N−ジメチルアミ
ノ)プロピルなどが用いられる。「環状アミノC1-6アル
キル基」の環状アミノ基は後記する環状アミノ基が好ま
しい。「環状アミノC1-6アルキル基」としては、たとえ
ばピロリジノメチル,ピペリジノメチル,ピペラジノメ
チル,モルホリノメチル,2−(モルホリノ)エチルなど
が用いられる。
【0036】「環状アミノC1-6アルキルアミノ基」の環
状アミノC1-6アルキル基は上記の環状アミノC1-6アル
キル基が好ましく、「環状アミノC1-6アルキルアミノ
基」としては、たとえばピロリジノエチルアミノ,ピペ
リジノエチルアミノ,ピペラジノエチルアミノ,モルホ
リノエチルアミノなどが用いられる。「ハロゲノC1-6
ルキル基」としては、たとえばフルオロメチル,ジフル
オロメチル,トリフルオロメチル,クロロメチル,ジク
ロロメチル,トリクロロメチル,2−フルオロエチル,
2,2−ジフルオロエチル,2,2,2−トリフルオロエ
チル,2−クロロエチル,2,2−ジクロロエチル,2,
2,2−トリクロロエチル,2−ブロモエチル,2−ヨ
ードエチルなどが用いられる。「シアノC1-6アルキル
基」としては、たとえばシアノメチル,2−シアノエチ
ルなどが用いられる。「カルボキシC1-6アルキル基」と
しては、たとえばカルボキシメチル,1−カルボキシエ
チル,2−カルボキシエチルなどが用いられる。「スル
ホC1-6アルキル基」としては、たとえばスルホメチル,
2−スルホエチルなどが用いられる。「C2-6アルカノイ
ルC1-6アルキル基」のアルカノイル基は後記するC1-6
アルカノイル基が好ましい。「C2-6アルカノイルC1-6
アルキル基」としては、たとえばアセチルメチル,1−
アセチルエチル,2−アセチルエチルなどが用いられ
る。「C2-6アルカノイルオキシC1-6アルキル基」のアル
カノイルオキシ基は後記するC2-6アルカノイルオキシ
基が好ましい。「C2-6アルカノイルオキシC1-6アルキ
ル基」としては、たとえばアセトキシメチル,1−アセ
トキシエチル,2−アセトキシエチルなどが用いられ
る。
【0037】「C1-10アルコキシ−カルボニルC1-6アル
キル基」のアルコキシカルボニル基は後記するC1-10
ルコキシ−カルボニル基が好ましい。「C1-10アルコキ
シ−カルボニルC1-6アルキル基」としては、たとえば
メトキシカルボニルメチル,エトキシカルボニルメチ
ル,tert−ブトキシカルボニルメチルなどが用いられ
る。「カルバモイルオキシC1-6アルキル基」としては、
たとえばカルバモイルオキシメチルなどが用いられる。
「モノC1-6アルキルアミノ基」としては、たとえばメチ
ルアミノ,エチルアミノ,n−プロピルアミノ,n−ブチ
ルアミノ,tert−ブチルアミノ,n−ペンチルアミノ,n
−ヘキシルアミノなどが用いられる。「ジC1-6アルキル
アミノ基」としては、たとえばジメチルアミノ,ジエチ
ルアミノ,メチルエチルアミノ,ジ−(n−プロピル)ア
ミノ,ジ−(n−ブチル)アミノなどが用いられる。
【0038】「C3-10シクロアルキルアミノ基」として
は、たとえばシクロプロピルアミノ,シクロペンチルア
ミノ,シクロヘキシルアミノなどが用いられる。「C
6-10アリールアミノ基」としては、たとえばアニリノ,
N−メチルアニリノなどが用いられる。「C7-19アラル
キルアミノ基」としては、たとえばベンジルアミノ,1
−フェニルエチルアミノ,2−フェニルエチルアミノ,
ベンズヒドリルアミノ,トリチルアミノなどが用いられ
る。「環状アミノ基」は後記するような含窒素複素環また
はその二重結合を飽和したものの環形成窒素原子に結合
している水素原子を1個とりのぞいてできる基を表し、
たとえば1H−テトラゾール−1−イル,1H−ピロー
ル−1−イル,ピロリノ,ピロリジノ,1H−イミダゾ
ール−1−イル,イミダゾリノ,イミダゾリジノ,1H
−ピラゾール−1−イル,ピラゾリノ,ピラゾリジノ,
ピペリジノ,ピペラジノ,モルホリノなどが用いられ
る。
【0039】「C1-10アルコキシ−カルボニル基」のア
ルキル基は、C1-6アルキル基(たとえば、前記と同様
のものなど)のほか、C3-10シクロアルキル基(たとえ
ば、前記と同様のものなど)も含む。「C1-10アルコキ
シ−カルボニル基」としては、たとえばメトキシカルボ
ニル,エトキシカルボニル,n−プロポキシカルボニ
ル,イソプロポキシカルボニル,n−ブトキシカルボニ
ル,イソブトキシカルボニル,tert−ブトキシカルボニ
ル,シクロペンチルオキシカルボニル,シクロヘキシル
オキシカルボニル,ノルボルニルオキシカルボニルなど
が用いられる。「C6-10アリールオキシ−カルボニル
基」としては、たとえばフェノキシカルボニル,ナフチ
ルオキシカルボニルなどが用いられる。 「C7-19アラルキルオキシ−カルボニル基」としては、
たとえばベンジルオキシカルボニル,ベンズヒドリルオ
キシカルボニル,トリチルオキシカルボニルなどが用い
られる。 「スルホンアミド基」の置換スルホニル基としては、
「C1-6アルキルスルホニル基」が好ましく、たとえ
ば、メタンスルホニル,エタンスルホニルなどが用いら
れる。
【0040】「ハロゲン原子」としては、たとえばフッ
素,塩素,臭素などが用いられる。 「C1-6アルキルウレイド基」としてはた、とえばメチ
ルウレイド,エチルウレイド,n−プロピルウレイドな
どが用いられる。「C6-10アリール−アシル基」として
はたとえば、フェニルアセチルなどが用いられる。「C
1-6アルカノイル基」としては、たとえばアセチル,プ
ロピオニル,ブチリル,イソブチリル,バレリル,イソ
バレリル,ピバロイルなどが用いられる。 「C3-5アルケノイル基」としては、たとえばアクリロ
イル,クロトノイル,マレオイルなどが用いられる。
「C6-10アリール−アシルオキシ基」としては、たとえ
ばフェニルアセチルオキシなどが用いられる。「C3-5
アルケノイルオキシ基」としては、たとえばアクリロイ
ルオキシ,クロトノイルオキシ,マレオイルオキシなど
が用いられる。「カルバモイルC1-6アルキル基」とし
ては、たとえばカルバモイルメチル,2−カルバモイル
エチルなどが用いられる。「C1-6アルカノイルアミノ
基」としては、たとえばホルミルアミノ,アセチルアミ
ノなどが用いられる。「C6-10アリール−アシルアミノ
基」としては、たとえばフェニルアセチルアミノなどが
用いられる。「C1-10アルコキシ−カルボキサミド基」
としては、たとえばメトキシカルボキサミド,エトキシ
カルボキサミドなどが用いられる。「C6-10アリールオ
キシ−カルボキサミド基」としては、たとえばフェニル
オキシカルボキサミドなどが用いられる。
【0041】「C7-19アラルキルオキシ−カルボキサミ
ド基」としては、たとえばベンジルオキシカルボキサミ
ドなどが用いられる。「複素環基」は複素環の炭素原子
に結合している水素原子を1個とりのぞいてできる基を
表し、そのような複素環はたとえば、窒素原子(オキシ
ド化されていてもよい),酸素原子,硫黄原子などのヘ
テロ原子を1〜数個、好ましくは1〜4個含む5〜8員
環またはその縮合環を示す。このような複素環基として
は具体的には、2−または3−ピロリル;3−,4−ま
たは5−ピラゾリル;2−,4−または5−イミダゾリ
ル;1,2,3−または1,2,4−トリアゾリル;1H−
または2H−テトラゾリル;2−または3−フリル;2
−または3−チエニル;2−,4−または5−オキサゾ
リル;3−,4−または5−イソキサゾリル;1,2,3
−オキサジアゾール−4−イルまたは1,2,3−オキサ
ジアゾール−5−イル;1,2,4−オキサジアゾール−
3−イルまたは1,2,4−オキサジアゾール−5−イ
ル;1,2,5−または1,3,4−オキサジアゾリル;2
−,4−または5−チアゾリル;3−,4−または5−
イソチアゾリル;1,2,3−チアジアゾール−4−イル
または1,2,3−チアジアゾール−5−イル;1,2,4
−チアジアゾール−3−イルまたは1,2,4−チアジア
ゾール−5−イル;1,2,5−または1,3,4−チアジ
アゾル;2−または3−ピロリジニル;2−,3−また
は4−ピリジル;2−,3−または4−ピリジル−N−
オキシド;3−または4−ピリダジニル;3−または4
−ピリダジニル−N−オキシド;2−,4−または5−
ピリミジニル;2−,4−または5−ピリミジニル−N
−オキシド;ピラジニル;2−,3−または4−ピペリ
ジニル;ピペラジニル;3H−インドール−2−イルま
たは3H−インドール−3−イル;2−,3−または4
−ピラニル;2−,3−または4−チオピラニル;ベン
ゾピラニル;キノリル;ピリド〔2,3−d〕ピリミジ
ル;1,5−,1,6−,1,7−,1,8−,2,6−ま
たは2,7−ナフチリジル;チエノ〔2,3−d〕ピリジ
ル;ピリミドピリジル;ピラジノキノリル;ベンゾピラ
ニルなどが用いられる。化合物〔I〕としては、式〔I-
a〕
【化43】 で表される化合物またはそのエステルあるいはその塩が
好ましい。式〔I-a〕で表される化合物は、(1)R1
アミノ基、R2がC1-6アルキル基(たとえば、メチル、
エチル、プロピル、イソプロピルなど)かつR3がC1-6
アルキル基(たとえば、メチル、エチル、プロピル、イ
ソプロピルなど)または(2)R1がアミノ基、R2がC
3-6シクロアルキル基(たとえば、シクロペンチルな
ど)かつR3がC1-6アルキル基(たとえば、メチル、エ
チル、プロピル、イソプロピルなど)などのときが好ま
しい。
【0042】化合物〔I〕としては、式
【化44】 〔式中、R1は前記と同意義を、R2'は水素原子、C2-4
アルケニル基(例、アリルなど)、シクロペンチル基、
または1ないし3個のハロゲン原子(例、フッ素、塩
素、臭素など)で置換されていてもよいC1-4アルキル
基(例、メチル、エチル、プロピル、イソプロピルな
ど)を、
【化45】 (式中、R3'はC2-4アルケニル基(例、アリルな
ど)、または水酸基,カルボキシル基またはカルバモイ
ル基で置換されていてもよいC1-4アルキル基(例、メ
チル、エチル、プロピル、イソプロピルなど)を、
3''は水素原子、アミノ基またはカルバモイル基を示
す)で表される基を示す。〕で表されるセフェム化合物
またはそのエステルあるいはその塩がより好ましい。化
合物〔I−b〕としては、式
【化46】 〔式中、R1は前記と同意義を、R2'は水素原子、C2-4
アルケニル基(例、アリルなど)、シクロペンチル基、
または1ないし3個のハロゲン原子(例、フッ素、塩
素、臭素など)で置換されていてもよいC1-4アルキル
基を、R3'''はC2-4アルケニル基、またはカルバモイ
ル基で置換されていてもよいC1-4アルキル基(例、メ
チル、エチル、プロピル、イソプロピルなど)を示
す。〕で表されるセフェム化合物またはそのエステルあ
るいはその塩がさらに好ましい。R2'がシクロペンチル
基、または1ないし3個のハロゲン原子(例、フッ素、
塩素、臭素など)で置換されていてもよいC1-4アルキ
ル基(例、メチル、エチル、プロピル、イソプロピルな
ど)であり、R3'''がカルバモイル基で置換されていて
もよいC1-4アルキル基(例、メチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピルなど)であるものが最も好ましい。
【0043】
【化47】 シル基がカルボキシレートアニオンであって、置換基A
上の陽電荷と一対になって分子内塩を形成していること
を示す。一方、化合物〔I〕は薬理学的に受容されるエ
ステルまたは塩を形成してもよい。薬理学的に受容され
る塩としては無機塩基塩,アンモニウム塩,有機塩基
塩,無機酸付加塩,有機酸付加塩,塩基性アミノ酸塩な
どが用いられる。無機塩基塩を生成させうる無機塩基と
してはアルカリ金属(たとえばナトリウム,カリウムな
ど),アルカリ土類金属(たとえばカルシウムなど)など
が、有機塩基塩を生成させうる有機塩基としてはたとえ
ばプロカイン,2−フェニルエチルベンジルアミン,ジ
ベンジルエチレンジアミン,エタノールアミン,ジエタ
ノールアミン,トリスヒドロキシメチルアミノメタン,
ポリヒドロキシアルキルアミン,N−メチルグルコサミ
ンなどが、無機酸付加塩を生成させうる無機酸としては
たとえば塩酸,臭化水素酸,硫酸,硝酸,リン酸など
が、有機酸付加塩を生成させうる有機酸としてはたとえ
ばp−トルエンスルホン酸,メタンスルホン酸,ギ酸,
トリフルオロ酢酸,マレイン酸などが、塩基性アミノ酸
塩を生成させうる塩基性アミノ酸としてはたとえばリジ
ン,アルギニン,オルニチン,ヒスチジンなどが用いら
れる。これらの塩のうち塩基塩(すなわち無機塩基塩,
アンモニウム塩,有機塩基塩,塩基性アミノ酸塩)は化
合物〔I〕の置換基R1,R2,R3もしく
【化48】 ,モノアルキルアミノ基,ジアルキルアミノ基,シクロ
アルキルアミノ基,アリールアミノ基,アラルキルアミ
ノ基,環状アミノ基,含窒素複素環基などの塩基性基が
存在する場合に形成しうる酸付加塩を意味する。また酸
付加塩としては
【化49】 たとえばクロライドイオン,ブロマイドイオン,スルフ
ェートイオン,p−トルエンスルホネートイオン,メタ
ンスルホネートイオン,トリフルオロアセテートイオン
など〕となった塩も含まれる。化合物〔I〕のエステル
誘導体は分子中に含まれるカルボキシル基をエステル化
することにより生成されうるエステルを意味し、合成中
間体として利用できるエステルおよび代謝上不安定な無
毒のエステルである。合成中間体として利用できるエス
テルとしては置換されていてもよいC1-6アルキルエス
テル,C2-6アルケニルエステル,C3-10シクロアルキ
ルエステル,C3-10シクロアルキルC1-6アルキルエス
テル,置換されていてもよいC6-10アリールエステル,
置換されていてもよいC7-12アラルキルエステル,ジC
6 -10アリール−メチルエステル,トリC6-10アリール−
メチルエステル,置換シリルエステルなどが用いられ
る。
【0044】「置換されていてもよいC1-6アルキルエ
ステル」としては、たとえばメチル,エチル,n−プロ
ピル,イソプロピル,n−ブチル,イソブチル,sec−
ブチル,tert−ブチル,n−ペンチル,n−ヘキシル等
が用いられ、それらは例えば、ベンジルオキシ,C1-4
アルキルスルホニル(例、メチルスルホニル等),トリ
メチルシリル,ハロゲン(例、フッ素.塩素,臭素
等),アセチル,ニトロベンゾイル,メシルベンゾイ
ル,フタルイミド,サクシンイミド,ベンゼンスルホニ
ル,フェニルチオ,ジC1-4アルキルアミノ(例、ジメ
チルアミノ等),ピリジル,C1-4アルキルスルフィニ
ル(例、メチルスルフィニル等),シアノ等で1〜3個
置換されていてもよく、そのような基としては具体的に
は例えば、ベンジルオキシメチル,2ーメチルスルホニ
ルエチル,2−トリメチルシリルエチル,2,2,2−ト
リクロロエチル,2−ヨードエチル,アセチルメチル,
p−ニトロベンゾイルメチル,p−メシルベンゾイルメ
チル,フタルイミドメチル,サクシンイミドメチル,ベ
ンゼンスルホニルメチル,フェニルチオメチル,ジメチ
ルアミノエチル,ピリジン−1−オキシド−2−メチ
ル,メチルスルフィニルメチル,2−シアノ−1,1−
ジメチルエチルなどが用いられる。「C2-6アルケニル
エステル」を形成するC2-6アルケニル基としてはビニ
ル,アリル,1−プロペニル,イソプロペニル,1−ブ
テニル,2−ブテニル,3−ブテニル,メタリル,1,
1−ジメチルアリル,3−メチル−3−ブテニルなどが
用いられる。「C3-10シクロアルキルエステル」を形成
するC3-10シクロアルキル基としてはシクロプロピル,
シクロブチル,シクロペンチル,シクロヘキシル,シク
ロヘプチル,ノルボルニル,アダマンチルなどが用いら
れる。「C3-10シクロアルキルC1-6アルキルエステ
ル」を形成するC3-10シクロアルキルC1-6アルキル基
としてはシクロプロピルメチル,シクロペンチルメチ
ル,シクロヘキシルメチルなどが用いられる。「置換さ
れていてもよいC6-10アリールエステル」を形成する
「C6-10アリール基」としてはたとえばフェニル,α−
ナフチル,β−ナフチル,ビフェニリル等が用いられ、
それらは例えば、ニトロ,ハロゲン(例、フッ素,塩
素,臭素等)等で1〜3個置換されていてもよく、その
ような基として具体的には例えば、p−ニトロフェニ
ル,p−クロロフェニルなどが用いられる。
【0045】「置換されていてもよいC7-12アラルキル
エステル」を形成する「C7-12アラルキル基」としてはた
とえば、ベンジル,1−フェニルエチル,2−フェニル
エチル,フェニルプロピル,ナフチルメチル等が用いら
れ、それらは例えば、ニトロ,C1-4アルコキシ(例、
メトキシ等),C1-4アルキル(例、メチル,エチル
等),ヒドロキシで1〜3個置換されていてもよく、そ
のような基として具体的には例えば、p−ニトロベンジ
ル,p−メトキシベンジル,3,5−ジtert−ブチル−
4−ヒドロキシベンジルなどが用いられる。「ジC6-10
アリール−メチルエステル」を形成するジC6-10アリー
ル−メチル基としてはベンズヒドリルなどが、トリC
6-10アリール−メチルエステルを形成するトリC6-10
リール−メチル基としてはトリチルなどが、置換シリル
エステルを形成する置換シリル基としてはトリメチルシ
リル,tert−ブチルジメチルシリル,−Si(CH3)2
2CH2Si(CH3)2−などが用いられる。前記したエ
ステルには4位のエステルも含む。このように4位が前
記のエステル基であるも
【化50】 のような塩を形成している。
【0046】本発明は前記エステル誘導体のほかに、生
体内において化合物〔I〕に変換される薬理学的に受容
しうる化合物も包含する。
【化51】 場合、そのアミノ基は置換されていてもよい。このよう
なアミノ基の置換基としては、R1で示される保護され
ていてもよいアミノ基における保護基などがそのまま用
いられる。本発明の化合物〔I〕には溶媒和物も含まれ
る。そのような溶媒和物の溶媒としては、水、メタノー
ル,エタノール,プロパノール,イソプロパノールなど
のアルコール類、アセトンなどのケトン類、テトラヒド
ロフラン,ジオキサンなどのエーテル類などが用いられ
る。本発明の化合物〔I〕および原料化合物において
は、シス異性体(Z体)、トランス異性体(E体)およ
びシス、トランス混合物が包含されるものとする。本発
明の化合物〔I〕は、トランス異性体(E体)が好まし
い。化合物〔I〕については、例えばシス異性体(Z
体)は式〔VII〕で表わされる部分構造を有する幾何異
性体の1つを意味し、トランス異性体は式〔VIII〕で表
わされる部分構造を有する幾何異性体を意味する。
【化52】 化合物〔I〕の好ましい例としては、例えば (1) 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イル)−2(Z)−シクロペンチルオキシイ
ミノアセトアミド〕−3−〔(E)−2−(1−メチルイ
ミダゾ〔1,2−b〕ピリダジニウム−6−イル)チ
オ〕ビニル−3−セフェム−4−カルボキシレート (2) 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イル)−2(Z)−シクロペンチルオキシイ
ミノアセトアミド〕−3−〔(E)−2−(1−エチルイ
ミダゾ〔1,2−b〕ピリダジニウム−6−イル)チ
オ〕ビニル−3−セフェム−4−カルボキシレート (3) 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イル)−2(Z)−シクロペンチルオキシイ
ミノアセトアミド〕−3−〔(E)−2−(1−カルバモ
イルメチルイミダゾ〔1,2−b〕ピリダジニウム−6
−イル)チオ〕ビニル−3−セフェム−4−カルボキシ
レート (4) 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イル)−2(Z)−シクロペンチルオキシイ
ミノアセトアミド〕−3−〔(E)−2−(1−ヒドロキ
シエチルイミダゾ〔1,2−b〕ピリダジニウム−6−
イル)チオ〕ビニル−3−セフェム−4−カルボキシレ
ート (5) 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イル)−2(Z)−イソプロポキシイミノア
セトアミド〕−3−〔(E)−2−(1−メチルイミダゾ
〔1,2−b〕ピリダジニウム−6−イル)チオ〕ビニ
ル−3−セフェム−4−カルボキシレート (6) 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イル)−2(Z)−イソプロポキシイミノア
セトアミド〕−3−〔(E)−2−(1−エチルイミダゾ
〔1,2−b〕ピリダジニウム−6−イル)チオ〕ビニ
ル−3−セフェム−4−カルボキシレート (7) 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イル)−2(Z)−イソプロポキシイミノア
セトアミド〕−3−〔(E)−2−(1−カルバモイルメ
チルイミダゾ〔1,2−b〕ピリダジニウム−6−イ
ル)チオ〕ビニル−3−セフェム−4−カルボキシレー
ト (8) 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イル)−2(Z)−イソプロポキシイミノア
セトアミド〕−3−〔(E)−2−(1−ヒドロキシエチ
ルイミダゾ〔1,2−b〕ピリダジニウム−6−イル)
チオ〕ビニル−3−セフェム−4−カルボキシレート (9) 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イル)−2(Z)−エトキシイミノアセトア
ミド〕−3−〔(E)−2−(1−メチルイミダゾ〔1,
2−b〕ピリダジニウム−6−イル)チオ〕ビニル−3
−セフェム−4−カルボキシレート (10) 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イル)−2(Z)−エトキシイミノアセトア
ミド〕−3−〔(E)−2−(1−エチルイミダゾ〔1,
2−b〕ピリダジニウム−6−イル)チオ〕ビニル−3
−セフェム−4−カルボキシレート (11) 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イル)−2(Z)−エトキシイミノアセトア
ミド〕−3−〔(E)−2−(1−カルバモイルメチルイ
ミダゾ〔1,2−b〕ピリダジニウム−6−イル)チ
オ〕ビニル−3−セフェム−4−カルボキシレート (12) 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イル)−2(Z)−エトキシイミノアセトア
ミド〕−3−〔(E)−2−(1−ヒドロキシエチルイミ
ダゾ〔1,2−b〕ピリダジニウム−6−イル)チオ〕
ビニル−3−セフェム−4−カルボキシレート (13) 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イル)−2(Z)−フルオロメトキシイミノ
アセトアミド〕−3−〔(E)−2−(1−メチルイミダ
ゾ〔1,2−b〕ピリダジニウム−6−イル)チオ〕ビ
ニル−3−セフェム−4−カルボキシレート (14) 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イル)−2(Z)−フルオロメトキシイミノ
アセトアミド〕−3−〔(E)−2−(1−エチルイミダ
ゾ〔1,2−b〕ピリダジニウム−6−イル)チオ〕ビ
ニル−3−セフェム−4−カルボキシレート (15) 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イル)−2(Z)−フルオロメトキシイミノ
アセトアミド〕−3−〔(E)−2−(1−カルバモイル
メチルイミダゾ〔1,2−b〕ピリダジニウム−6−イ
ル)チオ〕ビニル−3−セフェム−4−カルボキシレー
ト (16) 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イル)−2(Z)−フルオロメトキシイミノ
アセトアミド〕−3−〔(E)−2−(1−ヒドロキシエ
チルイミダゾ〔1,2−b〕ピリダジニウム−6−イ
ル)チオ〕ビニル−3−セフェム−4−カルボキシレー
ト (17) 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イル)−2(Z)−(2−フルオロエトキシ
イミノ)アセトアミド〕−3−〔(E)−2−(1−メチ
ルイミダゾ〔1,2−b〕ピリダジニウム−6−イル)
チオ〕ビニル−3−セフェム−4−カルボキシレート (18) 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イル)−2(Z)−メトキシイミノアセトア
ミド〕−3−〔(E)−2−(1−メチルイミダゾ〔1,
2−b〕ピリダジニウム−6−イル)チオ〕ビニル−3
−セフェム−4−カルボキシレート (19) 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イル)−2(Z)−メトキシイミノアセトア
ミド〕−3−〔(E)−2−(1−カルバモイルメチルイ
ミダゾ〔1,2−b〕ピリダジニウム−6−イル)チ
オ〕ビニル−3−セフェム−4−カルボキシレートなど
が挙げられる。
【0047】本発明の化合物〔I〕の製造法を以下に詳
しく述べる。 製造法(1):たとえば式〔II〕
【化53】 〔式中の記号は前記と同意義を示す。〕で表わされる7
−アミノ化合物またはそのエステルあるいはその塩と式
【化54】 〔式中の記号は前記と同意義を示す。〕(以下RbOH
と標記する。)で表わされるカルボン酸またはその塩あ
るいはその反応性誘導体とを反応させることにより化合
物〔I〕を合成することができる。
【0048】本法は7−アミノ化合物〔II〕をカルボン
酸RbOHまたはその塩あるいはその反応性誘導体でア
シル化する方法である。この方法においてカルボン酸R
bOHは遊離のまま、またはその塩あるいはその反応性
誘導体が7−アミノ化合物〔II〕の7位アミノ基のアシ
ル化剤として用いられる。すなわち遊離酸 RbOHまた
は遊離酸RbOHの無機塩基塩,有機塩基塩,酸ハライ
ド,酸アジド,酸無水物,混合酸無水物,活性アミド,
活性エステル,活性チオエステルなどの反応性誘導体が
アシル化反応に供される。無機塩基塩としてはアルカリ
金属塩(たとえばナトリウム塩,カリウム塩など),ア
ルカリ土類金属塩(たとえばカルシウム塩など)など
が,有機塩基塩としてはたとえばトリメチルアミン塩,
トリエチルアミン塩,tert−ブチルジメチルアミン塩,
ジベンジルメチルアミン塩,ベンジルジメチルアミン
塩,N,N−ジメチルアニリン塩,ピリジン塩,キノリ
ン塩などが,酸ハライドとしてはたとえば酸クロライ
ド,酸ブロマイドなどが,混合酸無水物としてはモノC
1-6アルキル炭酸混合酸無水物(たとえば遊離酸RbOH
とモノメチル炭酸,モノエチル炭酸,モノイソプロピル
炭酸,モノイソブチル炭酸,モノtert−ブチル炭酸,モ
ノベンジル炭酸,モノ(p−ニトロベンジル)炭酸,モ
ノアリル炭酸などとの混合酸無水物),C1-6脂肪族カ
ルボン酸混合酸無水物(たとえば遊離酸RbOHと酢
酸,トリクロロ酢酸,シアノ酢酸,プロピオン酸,酪
酸,イソ酪酸,吉草酸,イソ吉草酸,ピバル酸,トリフ
ルオロ酢酸,トリクロロ酢酸,アセト酢酸などとの混合
酸無水物),C7-12芳香族カルボン酸混合酸無水物(た
とえば遊離酸RbOHと安息香酸,p−トルイル酸,p
−クロロ安息香酸などとの混合酸無水物),有機スルホ
ン酸混合酸無水物〔たとえば遊離酸RbOHとメタンス
ルホン酸,エタンスルホン酸,ベンゼンスルホン酸,p
−トルエンスルホン酸などとの混合酸無水物)などが,
活性アミドとしては含窒素複素環化合物とのアミド(た
とえば遊離酸RbOHとピラゾール,イミダゾール,ベ
ンゾトリアゾールなどとの酸アミドで,これらの含窒素
複素環化合物はC1-6アルキル基(例、メチル,エチル
等),C1-6アルコキシ基(例、メトキシ,エトキシ
等),ハロゲン原子(例、フッ素,塩素,臭素等),オ
キソ基,チオキソ基,C1-6アルキルチオ基(例、メチ
ルチオ,エチルチオ等)などで置換されていてもよ
い。〕などがあげられる。活性エステルとしてはβ−ラ
クタムおよびペプチド合成の分野でこの目的に用いられ
るものはすべて利用でき,たとえば有機リン酸エステル
(たとえばジエトキシリン酸エステル,ジフェノキシリ
ン酸エステルなど)のほかp−ニトロフェニルエステ
ル,2,4−ジニトロフェニルエステル,シアノメチル
エステル,ペンタクロロフェニルエステル,N−ヒドロ
キシサクシンイミドエステル,N−ヒドロキシフタルイ
ミドエステル,1−ヒドロキシベンゾトリアゾールエス
テル,6−クロロ−1−ヒドロキシベンゾトリアゾール
エステル,1−ヒドロキシ−1H−2−ピリドンエステ
ルなどがあげられる。活性チオエステルとしては芳香族
複素環チオール化合物とのエステル〔たとえば2−ピリ
ジルチオールエステル,2−ベンゾチアゾリルチオール
エステルなどで,これらの複素環はC1-6 アルキル基
(例、メチル,エチル等),C1-6アルコキシ基(例、
メトキシ,エトキシ等),ハロゲン原子(例、フッ素,
塩素,臭素等),C1-6アルキルチオ基(例、メチルチ
オ,エチルチオ等)などで置換されていてもよい。〕が
挙げられる。一方、7−アミノ化合物〔II〕は遊離のま
ま,その塩あるいはエステルとして用いられる。7−ア
ミノ化合物〔II〕の塩としては無機塩基塩,アンモニウ
ム塩,有機塩基塩,無機酸付加塩,有機酸付加塩などが
あげられる。無機塩基塩としてはアルカリ金属塩(たと
えばナトリウム塩,カリウム塩など),アルカリ土類金
属塩(たとえばカルシウム塩など)などが、有機塩基塩
としてはたとえばトリメチルアミン塩,トリエチルアミ
ン塩,tert−ブチルジメチルアミン塩, ジベンジルメチ
ルアミン塩,ベンジルジメチルアミン塩,N,N−ジメ
チルアニリン塩,ピリジン塩,キノリン塩などが、無機
酸付加塩としてはたとえば塩酸塩,臭化水素酸塩,硫酸
塩,硝酸塩,リン酸塩などが、有機酸付加塩としてはギ
酸塩,酢酸塩,トリフルオロ酢酸塩,メタンスルホン酸
塩, p−トルエンスルホン酸塩などがあげられる。7−
アミノ化合物〔II〕のエステルとしては化合物〔I〕の
エステル誘導体としてすでに述べたエステルがここでも
そのままあげられる。すなわちC1-6アルキルエステル,
2-6アルケニルエステル, C3-10シクロアルキルエス
テル, C3-6シクロアルキル−C1-6アルキルエステル,
6-10アリールエステル, C7-12アラルキルエステル,
ジ−C6-10アリールメチルエステル,トリ−C6-10アリ
ールメチルエステル,C2-6アルカノイルオキシ−C1-6
アルキルエステルなどが挙げられる。原料物質Rb
H、その塩及びその反応性誘導体は公知の方法(例え
ば、特開昭60−231684号,特開昭62−149
682号等に記載の方法)またはそれに準ずる方法によ
って容易に製造できる。化合物RbOHの反応性誘導体
は反応混合物から単離された物質として7−アミノ化合
物〔II〕と反応させてもよいし、または単離前の化合物
OHの反応性誘導体を含有する反応混合物をそのま
ま7−アミノ化合物〔II〕と反応させることもでき
る。カルボン酸RbOHを遊離酸または塩の状態で使用
する場合は適当な縮合剤を用いる。縮合剤としてはたと
えばN,N'−ジシクロヘキシルカルボジイミドなどの
N,N'−ジ置換カルボジイミド類,たとえばN,N'−カ
ルボニルジイミダゾール,N,N'−チオカルボニルジイ
ミダゾ−ルなどのアゾライド類,たとえばN−エトキシ
カルボニル−2−エトキシ−1,2−ジヒドロキノリ
ン,オキシ塩化リン,アルコキシアセチレンなどの脱水
剤,たとえば2−クロロピリジニウムメチルアイオダイ
ド,2−フルオロピリジニウムメチルアイオダイドなど
の2−ハロゲノピリジニウム塩類などが用いられる。こ
れらの縮合剤を用いた場合、反応はカルボン酸RbOH
の反応性誘導体を経て進行すると考えられる。反応は一
般に溶媒中で行なわれ、反応を阻害しない溶媒が適宜に
選択される。このような溶媒としてはたとえばジオキサ
ン,テトラヒドロフラン,ジエチルエーテル,tert−ブ
チルメチルエーテル,ジイソプロピルエーテル,エチレ
ングリコール−ジメチルエーテルなどのエーテル類,た
とえばギ酸エチル,酢酸エチル,酢酸n−ブチルなどの
エステル類,たとえばジクロロメタン,クロロホルム,
四塩化炭素,トリクレン,1,2−ジクロロエタンなど
のハロゲン化炭化水素類,たとえばn−ヘキサン,ベン
ゼン,トルエンなどの炭化水素類,たとえばホルムアミ
ド,N,N−ジメチルホルムアミド,N,N−ジメチルア
セトアミドなどのアミド類,たとえばアセトン,メチル
エチルケトン,メチルイソブチルケトンなどのケトン
類,たとえばアセトニトリル,プロピオニトリルなどの
ニトリル類などのほか,ジメチルスルホキシド,スルホ
ラン,ヘキサメチルホスホルアミド,水などが単独また
は混合溶媒として用いられる。アシル化剤(RbOH)の
使用量は7−アミノ化合物〔II〕1モルに対して通常約
1〜5モル,好ましくは約1〜2モルである。反応は約
−80〜80℃,好ましくは約−40〜50℃,最も好
ましくは約−30〜30℃の温度範囲で行われる。反応
時間は7−アミノ化合物〔II〕およびカルボン酸Rb
Hの種類,溶媒の種類(混合溶媒の場合はその混合比
も),反応温度などに依存し、通常約1分〜72時間,好
ましくは約15分〜3時間である。アシル化剤として酸ハ
ライドを用いた場合は放出されるハロゲン化水素を反応
系から除去する目的で脱酸剤の存在下に反応を行うこと
ができる。このような脱酸剤としてはたとえば炭酸ナト
リウム,炭酸カリウム,炭酸カルシウム,炭酸水素ナト
リウムなどの無機塩基,たとえばトリエチルアミン,ト
リ(n−プロピル)アミン,トリ(n−ブチル)アミ
ン,ジイソプロピルエチルアミン,シクロヘキシルジメ
チルアミン,ピリジン,ルチジン,γ−コリジン,N,
N−ジメチルアニリン,N−メチルピペリジン,N−メ
チルピロリジン,N−メチルモルホリンなどの第3級ア
ミン,たとえばプロピレンオキシド,エピクロルヒドリ
ンなどのアルキレンオキシドなどが挙げられる。
【0049】本反応の原料の7−アミノ化合物〔II〕も
しくはそのエステルまたはその塩はたとえば、式
【化55】 〔式中、R4はカルボキシル基の保護基、R5はアミノ基
の保護基、その他の記号は前記と同意義を示す。〕で表
わされる化合物〔IX〕と置換されていてもよい式〔IV〕
【化56】 〔式中、Mは水素またはアルカリ金属(ナトリウム、カ
リウムなど)、その他の記号は前記と同意義を示す。〕
で表わされる2,3位または3,4位で縮合環を形成する
イミダゾール化合物またはその塩とを反応させて、式
〔X〕
【化57】 〔式中の記号は前記と同意義を示す。〕で表わされる化
合物またはその塩を製造し、ついで、例えば特開昭55
−154978などに記載されている方法によりS−オ
キシドを還元して、式〔XI〕
【化58】 〔式中の記号は前記と同意義を示す。〕で表わされる化
合物またはその塩を製造する。ついで、化合物〔XI〕に
式R3−X(Xはハロゲン原子を示す。)で示される化
合物とを反応させ式〔XII〕
【化59】 〔式中の記号は前記と同意義を示す。〕で表される化合
物から保護基を除去することにより製造できる。
【0050】ここで、R4で示されるカルボキシ基の保
護基としては、前記のエステルが挙げられる。特に、ト
リメチルシリル基等のトリ(低級)アルキルシリル基、
ベンズヒドリル基、p−メトキシベンジル基、tert−ブ
チル基、p−ニトロベンジル基、フェナシル基等通常こ
の分野で用いられ、容易に除去し得るカルボキシ基の保
護基が好ましい。
【0051】R5で示されるアミノ基の保護基として、
前記のアミノ基の保護基が挙げられる。特に、トリメチ
ルシリル基等のトリ(低級)アルキルシリル基、ホルミ
ル基、トリフルオロアセチル基、アセチル基、tert−ブ
トキシカルボニル基、メトキシアセチル基、ベンジルオ
キシカルボニル基、p−ニトロベンジルオキシカルボニ
ル基等のアシル系保護基、ベンジル基、ベンズヒドリル
基、トリチル基等のアラルキル基系の保護基が好まし
い。Xは、クロル、ブロム、ヨウ素等のハロゲン原子、
アセトキシ、プロピオニルオキシ、ブチリルオキシ、3
−オキソブチリルオキシ等のアシルオキシ基、メタンス
ルホニルオキシ、エタンスルホニルオキシ等のアルキル
スルホニルオキシ基、ベンゼンスルホニルオキシ、ナフ
タレンスルホニルオキシ、p−トルエンスルホニルオキ
シ、p−tert−ブチルベンゼンスルホニルオキシ、p−
メトキシベンゼンスルホニルオキシ、p−クロロベンゼ
ンスルホニルオキシ、p−ニトロベンゼンスルホニルオ
キシ等のアリールスルホニルオキシ基が好ましい。特に
ベンゼンスルホニルオキシ、p−トルエンスルホニルオ
キシ基が好ましい。
【0052】イミダゾール化合物〔IV〕としては具体的
には
【化60】 の置換基としてすでに挙げたもの等がここでも用いられ
る。イミダゾール化合物〔IV〕は塩としても用いられ
る。化合物〔IV〕の塩としてはたとえばリチウム塩、ナ
トリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩、トリエチ
ルアミン、ジイソプロピルアミン等のトリアルキルアミ
ンとの付加塩などがあげられる。イミダゾール化合物
〔IV〕およびその塩の一般的合成法は既知であり、例え
ば、EP−225634、EP−381132などに記
載されている方法またはそれに準ずる方法によって容易
に製造できる。化合物〔IX〕と化合物〔IV〕との本求核
置換反応は、通常アセトン等のケトン類、クロロホル
ム、ジクロロメタン、ジクロロエタン等のハロゲン炭化
水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン等のエーテル類、アセトニトリル等のニトリル
類、メタノール、エタノール、n−プロパノール等のア
ルコール類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトア
ミド等のアミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキ
シド類などの不活性溶媒中で行なうのがよい。求核試薬
〔IV〕の使用量は化合物〔IX〕1モルに対して通常1〜
5モル、好ましくは約1〜3モルである。反応温度は0
℃〜100℃、好ましくは10℃〜50℃である。反応
は30分から24時間、好ましくは1〜10時間で行な
われる。また、本反応は塩基や塩類を添加することによ
って反応を促進させることができる。これらの塩基、塩
類としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、トリ
エチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等のトリア
ルキルアミンのような有機アミンが挙げられる。また塩
類としてはテトラブチルアンモニウム塩のような第4級
アンモニウム塩等が用いられる。
【0053】化合物〔X〕と反応させるR3Xで表わされ
るハロゲン化合物としては、例えばC1-6低級アルキル
ハライド、C2-6低級アルケニルハライド、C2-6低級ア
ルキニルハライド、ヒドロキシ低級アルキルハライド、
カルボキシ低級アルキルハライド、カルバモイル低級ア
ルキルハライド、低級アルケノイル低級アルキルハライ
ド等が挙げられ、上記各種ハライドとしては、クロライ
ド、ブロマイド、ヨーダイド等が挙げられる。化合物
〔X〕とR3Xとの反応は通常ジクロロメタン、ジクロロ
エタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン炭化水
素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水
素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン等のエーテル類、アセトニトリル等のニトリル類、
メタノール、エタノール、n−プロパノール等のアルコ
ール類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド
等のアミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド
類などの不活性溶媒中で行なうのがよい。R3Xの使用
量は1〜20モル、好ましくは5〜10モルである。反
応温度は15℃〜100℃、好ましくは15〜50℃で
ある。反応は1〜48時間、好ましくは、5〜24時間
で行なわれる。前記で得られた化合物〔XI〕から保護基
を除去するには、例えば、保護基がトリ(低級)アルキ
ルシリル基である場合には、水で処理することにより行
なうことができる。また、ベンズヒドリル基、トリチル
基、p−メトキシベンジル基、tert−ブチル基、tert−
ブトキシカルボニル基、ホルミル基等の保護基である場
合には、ギ酸、塩酸、トリフルオロ酢酸、酢酸、フェノ
ール、クレゾール類等で処理すれば除去できる。前記脱
保護反応により7−アミノ体〔II〕が得られる。
【0054】製造法(2):たとえば式〔III〕
【化61】 〔式中、nは0または1、その他の記号は前記と同意義
を示す。〕で表わされる化合物と式
【化62】 〔式中の記号は前記と同意義を示す。〕で表わされる
2,3位または3,4位で縮合環を形成するイミダゾール
化合物とを反応させ、式〔V〕
【化63】 その他の記号は前記と同意義を示す。)で表わされる化
合物を製造し、ついで式:R3Xで表わされるハロゲン
化合物と反応させて、式〔VI〕
【化64】 〔式中の記号は前記と同意義を示す〕で表わされる化合
物を製造し、更に保護基を除去することによる前記
(1)記載の化合物の製造法。
【0055】化合物〔III〕と化合物〔IV〕の求核置換
反応は、製造法(1)の化合物〔IX〕と化合物〔IV〕と
の反応と同様の反応条件下に行うことができる。化合物
〔V〕とR3Xとの4級アンモニウム化は、製造法(1)
の化合物〔X〕とR3Xとの反応と同様の反応条件下に行
うことができる。かくして得られた化合物〔VI〕は、製
造法(1)で示した方法により保護基の除去を行なうこ
とができ、式〔I〕の本発明化合物が製造される。
【0056】製造法(3):たとえば式〔III〕
【化65】 〔式中の記号は前記と同意義を示す。〕で表わされる化
合物と式〔VII〕で表わされる式
【化66】 〔式中の記号は前記と同意義を示す。〕で表わされる
2,3位または3,4位で縮合環を形成するイミダゾリウ
ム化合物とを反応させ、式〔VI〕〔式中の記号は前記と
同意義を示す。〕で表わされる化合物を製造し、更に保
護基を除去することを特徴とする前記(1)記載の化合
物の製造法。化合物〔III〕と化合物〔VII〕との反応は
製造法(1)の化合物〔IX〕と化合物〔IV〕との反応と
同様の反応条件下に行なうことができる。かくして得ら
れた化合物〔VI〕は、製造法(1)で示した方法により
保護基の除去を行なうことができ、式〔I〕の本発明化
合物が製造される。
【0057】本製造法における化合物〔III〕は、式〔X
III〕
【化67】 〔式中の記号は前記と同意義を示す。〕で表される化合
物と式
【化68】 〔式中の記号は前記と同意義を示す。〕で表わされるカ
ルボン酸またはその塩あるいはその反応性誘導体とを製
造法(1)と同様に反応させることにより製造される。
更に、本製造法における化合物〔VII〕は、化合物〔I
V)〕とR3Xで表わされるハロゲン化合物とを製造法
(1)の化合物〔XI〕の4級アンモニウム化反応と同様
の反応条件下に行うことにより製造される。前記した製
造法(1)〜(3)の反応のうち、必要であれば保護基
の除去および精製を行うことにより本発明の目的化合物
〔I〕を得ることができる。以下に保護基の除去方法お
よび精製法について説明する。
【0058】保護基除去法:前記した通りβ−ラクタム
およびペプチド合成の分野ではアミノ基の保護基は充分
に研究されていてその保護法及び脱保護法はすでに確立
されている。本発明においても保護基の除去は従来の技
術をそのまま利用できる。たとえばモノハロゲノアセチ
ル基(例、クロロアセチル,ブロモアセチルなど)はチ
オ尿素により,アルコキシカルボニル基(例、メトキシ
カルボニル,エトキシカルボニル,tert−ブトキシカル
ボニルなど)は酸(例、塩酸など)により,アラルキル
オキシカルボニル基(例、ベンジルオキシカルボニル,
p−メチルベンジルオキシカルボニル,p−ニトロベン
ジルオキシカルボニルなど)は接触還元により,2,2,
2−トリクロロエトキシカルボニルは亜鉛と酸(例、酢
酸など)により除去することができる。一方、合成中間
体として化合物〔I〕がエステル化されている場合もそ
れ自体公知の方法またはそれに準ずる方法によってエス
テル残基を除去することができる。たとえば2−メチル
スルホニルエチルエステルはアルカリにより,アラルキ
ルエステル(例、ベンジルエステル,ベンズヒトリルエ
ステル,p−メトキシベンジルエステル,p−ニトロベ
ンジルエステルなど)は酸(例、トリフルオロ酢酸な
ど)または接触還元により,2,2,2−トリクロロエチ
ルエステルは亜鉛と酸(例、酢酸など)により,シリル
エステル(例、トリメチルシリルエステル,tert−ブチ
ルジメチルシリルエステルなど)は水のみにより除去す
ることができる。S−オキシドの還元は、β−ラクタム
の分野で確立されている方法が用いられ、本発明におい
ても従来の技術をそのまま利用できる。たとえば、三塩
化リン,三臭化リンが用いられる。 化合物〔I〕の精製法 : 製造法(1)〜(3)に詳記した各
種製造法により、また必要であれば前記の保護基除去法
をつづいて行うことにより反応混合物中に生成した化合
物〔I〕は抽出法,カラムクロマトグラフィー,沈澱
法,再結晶法などの公知の処理手段によって単離精製す
ることができる。一方、単離された化合物〔I〕を公知
の方法により所望の生理学的に受容される塩へと変換す
ることもできる。
【0059】本発明の化合物〔I〕はスペクトルの広い
抗菌活性を有し、人および哺乳動物(例、マウス,ラッ
ト,ウサギ,犬,ネコ,牛,豚等)における病原性細菌
により生ずる種々の疾病、たとえば気道感染,尿路感染
の予防ならびに治療のため安全に使用されうる。抗菌性
化合物〔I〕の抗菌スペクトルの特徴としてつぎのよう
な点が挙げられる。 (1) 多種のグラム陰性菌に対して非常に高い活性を示
す。 (2) グラム陽性菌(たとえばスタフィロコッカス・アウ
レウス,コリネバクテリウム・ジフテリアエ等)に対し
て高い活性を有している。 (3) メチシリン耐性ブドウ球菌(MRSA)に対して高
い活性を有している。 (4) 通常のセファロスポリン系抗生物質による治療に感
受性でないシュードモナス・エアルギノサに対して顕著
な効果を示す。 (5) 多くのβーラクタマーゼ生産性グラム陰性菌(たと
えばエシェリヒア属,エンテロバクター属,セラチア属,
プロテウス属等)に対しても高い活性を有している。 また本発明の抗菌性化合物〔I〕は、(1)優れた安定性を
有する、(2)血中濃度が高い、(3)効果の持続時間が長
い、(4)組織移行性が顕著であるなどの特徴をも有して
いる。
【0060】本発明の化合物〔I〕は公知のペニシリン
剤,セフアロスポリン剤と同様に注射剤,カプセル剤,
錠剤,顆粒剤(特に注射剤が好ましい)として非経口ま
たは経口的に投与できる。投与量は前記したような病原
性細菌に感染した人および動物の体重1kgあたり0.5
〜80mg/日,より好ましくは1〜40mg/日を1日2
〜3回に分割して投与すればよい。注射剤として用いら
れる場合の担体は、たとえば蒸留水,生理食塩水などが
用いられ、カプセル剤,粉剤,顆粒剤,錠剤として用い
られる場合は、公知の薬理学的に許容される賦形剤(た
とえばデンプン,乳糖,白糖,炭酸カルシウム,リン酸
カルシウム等),結合剤(たとえばデンプン,アラビア
ゴム,カルボキシメチルセルロース,ヒドロキシプロピ
ルセルロース,結晶セルロース等),滑沢剤(たとえば
ステアリン酸マグネシウム,タルク等),破壊剤(たと
えばカルボキシメチルカルシウム,タルク等)と混合し
て用いられる。
【0061】
【発明の実施の形態】本発明はさらに下記の参考例,実
施例で詳しく説明されるが、これらの例は単なる実例で
あって本発明を限定するものではなく、また本発明の範
囲を逸脱しない範囲で変化させてもよい。参考例,実施
例のカラムクロマトグラフィーにおける溶出はTLC
(ThinLayer Chromatography, 薄層クロマトグラ
フィー)による観察下に行なわれた。TLC観察におい
ては、TLCプレートとしてメルク(Merck)社製の6
0F254 を、展開溶媒としてはカラムクロマトグラフィ
ーで溶出溶媒として用いられた溶媒を、検出法としてU
V検出器を採用した。カラム用シリカゲルは同じくメル
ク社製のキーゼルゲル60(70〜230メッシュ)を
用いた。“セファデックス" はファルマシア・ファイン
・ケミカルズ社(Pharmacia Fine Chemicals)製
である。XAD−2樹脂はロ−ム・アンド・ハース社製
(Rohm &Haas Co.)製である。ダイアイオンC
HP−20Pは三菱化成製である。NMRスペクトルは
内部または外部基準としてテトラメチルシランを用いて
Gemini 200型スペクトロメーターで測定し、全δ値
を ppm で示した。混合溶媒において( )内に示した
数値は各溶媒の容量混合比である。また溶液における%
は溶液100ml中のg数を表わす。また参考例,実施例
中の記号は次のような意味である。 s :シングレット(singlet) d :ダブレット(doublet) t :トリプレット(triplet) q :クワルテット(quartet) ABq :AB型クワルテット(AB type quartet) dd :ダブル ダブレット(double doublet) m :マルチプレット(multiplet) bs :ブロ−ド シングレット(broad singlet) J :カップリング定数(coupling constant)
【0062】参考例1 2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イ
ル)−2(Z)−シクロペンチルオキシイミノ酢酸 3−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イ
ル)クマリン14.7gをエタノール120mlに懸濁
し、これに1N−水酸化ナトリウム120mlを加え40
℃で1時間撹拌し、均一溶液となったのち、氷冷下クロ
ロ炭酸エチル6mlを加え、5分間撹拌した。次に、塩化
メチレン180ml,1N−塩酸60mlを加えて水層を除
き、再度塩化メチレンで抽出して有機層を合わせ、ドラ
イアイスアセトン浴で冷却した。塩化メチレン溶液に3
時間オゾンを通した後、15分間窒素を通じて過剰のオ
ゾンを除いた。酢酸ナトリウム4.92g,ジメチルス
ルフィド30mlを反応液に加えて撹拌し、ヨウ化カリウ
ム−デンプン紙が陰性であることを確認した後、120
ml及び60mlの水を加えて2回抽出し、さらに水層を酢
酸エチルで洗浄した。水層にO−シクロペンチルヒドロ
キシルアミン6.7gを加え、1N−水酸化ナトリウム
でpH5とし、室温(25℃,以下同様)で一夜撹拌し
た。反応液に1N−塩酸80mlを加え、pH1とした
後、酢酸エチルで3回抽出した。抽出液を飽和食塩水で
洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮し、
残渣を酢酸エチルより結晶化させ、12.8gの標記化
合物を得た。 融点:142−143℃ IRスペクトル(KBr,cm-1):3300, 2950, 1720, 16
40, 1520, 1400, 1180. NMR(DMSO-d6,δ):1.3-1.9(8H,m), 4.74(1H,m), 8.17
(2H,bs).
【0063】参考例2 2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イ
ル)−2(Z)−シクロペンチルオキシイミノアセチルク
ロリド・塩酸塩 2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イ
ル)−2(Z)−シクロペンチルオキシイミノ酢酸3.8
4gをジクロロメタン30mlに懸濁し、−40℃に冷却
後、五塩化リン3.43gを加え、−20℃以下で1時
間撹拌した。反応液にイソプロピルエーテル60mlを加
え、析出した結晶を濾取、乾燥して3.26gの標記化
合物を得た。
【0064】参考例3 2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イ
ル)−2(Z)−イソプロポキシイミノ酢酸 3−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イ
ル)クマリン7.0gをエタノール56mlに懸濁し、1
N水酸化ナトリウム57.1mlを加え、40℃で1時間
かき混ぜた。ついで氷冷下にククロ炭酸エチル2.86
mlを加え、15分間かき混ぜ、1N塩酸(28.6ml)
及びジククロメタン88mlを加えた。ジクロルメタン層
を分取し水層は再度ジクロロメタンで抽出した。有機層
を合わせて、ドライアイス−アセトン浴で冷却下に1時
間オゾンを通じた後、15分間窒素を通じ過剰のオゾン
を除いた。酢酸ナトリウム2.35gとメチルスルフィ
ド14mlを加え、ヨー化カリウム−デンプン紙が陰性を
示すまで室温でかき混ぜた。反応液を水で抽出し、抽出
液は酢酸エチルで洗浄し、イソプロポキシアミン塩酸塩
3.47g、酢酸ナトリウム2.57gを加えた。室温
で1.5時間かき混ぜた後、酢酸ナトリウム0.7gを
加え再び酢酸エチルで洗浄した。氷冷下に濃塩酸でpH
1とし、食塩を加えて飽和させた後、酢酸エチルで抽出
した。抽出液は硫酸マグネシウムで乾燥後溶媒を留去し
た。残留物にヘキサンを加え標題化合物を結晶として得
た4.86g。 融点:152−154℃ IR(KBr)cm-1:3425, 2990, 1720, 1620 NMR(DMSO-d6,δ):1.23(6H,d,J=6.2Hz), 4.4
0(1H,m), 8.18(2H,s).
【0065】参考例4 2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イ
ル)−2(Z)−イソプロポキシイミノアセチルクロリド
・塩酸塩 2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イ
ル)−2(Z)−イソプロポキシイミノ酢酸2.3gをジ
クロロメタン20mlに懸濁し、−40℃に冷却後、五塩
化リン2.29gを加え、−20℃以下で1時間撹拌し
た。反応液にイソプロピルエーテル30mlを加え、析出
した結晶を濾取、乾燥して1.74gの標記化合物を得
た。
【0066】参考例5 7β−t−ブトキシカルボニルアミノ−3−〔(E)−2
−(イミダゾ〔1,2−b〕ピリダジン−6−イル)チ
オ〕ビニル−1−オキシド−3−セフェム−4−カルボ
ン酸ベンズヒドリルエステル 7β−t−ブトキシカルボニルアミノ−3−〔(E)−2
−トシルオキシ〕ビニル−1−オキシド−3−セフェム
−4−カルボン酸ベンズヒドリルエステル2.0gをジ
メチルホルムアミド20mlに溶解し、6−メルカプトイ
ミダゾ〔1,2−b〕ピリダジンナトリウム塩1.0gを
加えて室温で1時間撹拌した。反応液を酢酸エチルで希
釈し、水で2回洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減
圧下で濃縮して2gの標記化合物を得た。 NMR(CDCl3, δ):1.47(9H,s), 3.27 と 4.15(2
H,ABq,J=18Hz), 4.53(1H,d,J=3.6Hz), 5.85(2H,m), 6.7
7(1H,d,J=9.4Hz), 6.97(1H,s), 7.1-7.6(12H,m),7.68(1
H,s), 7.75(1H,d,J=9.4Hz), 7.89(1H,s).
【0067】参考例6 7β−t−ブトキシカルボニルアミノ−3−〔(E)−2
−(イミダゾ〔1,2−b〕ピリダジン−6−イル)チ
オ〕ビニル−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒド
リルエステル 7β−t−ブトキシカルボニルアミノ−3−〔(E)−2
−(イミダゾ〔1,2−b〕ピリダジン−6−イル)チ
オ〕ビニル−1−オキシド−3−セフェム−4−カルボ
ン酸ベンズヒドリルエステル2.0gを塩化メチレン3
2mlとジメチルアセトアミド1.2mlの混合液に溶解
し、−10℃冷却下三塩化リン0.51mlを加えて1時
間撹拌した。反応液を減圧下濃縮し、残渣に酢酸エチル
と重曹水を加え抽出し、酢酸エチル層を飽和食塩水で洗
浄後、硫酸マグネシウムで乾燥して減圧下濃縮し、標記
化合物を1.76g得た。 NMR(CDCl3, δ):1.48(9H,s), 3.56 と 3.70(2
H,ABq,J=17.6Hz), 4.98(1H,d,J=4.8Hz), 5.66(1H,dd,J=
4.8Hz と 9.2Hz), 6.30(1H,d,J=9.2Hz), 6.73(1H,d,J=
9.2Hz), 6.95(1H,s), 7.1-7.6(12H,m), 7.69(1H,s), 7.
78(1H,d,J=9.2Hz),7.87(1H,s).
【0068】参考例7 7β−t−ブトキシカルボニルアミノ−3−〔(Z)−2
−(イミダゾ〔1,2−b〕ピリダジン−6−イル)チ
オ〕ビニル−1−オキシド−3−セフェム−4−カルボ
ン酸ベンズヒドリルエステル 7β−t−ブトキシカルボニルアミノ−3−〔(Z)−2
−トシルオキシ〕ビニル−1−オキシド−3−セフェム
−4−カルボン酸ベンズヒドリルエステル0.3gをジ
メチルホルムアミド3mlに溶解し、6−メルカプトイミ
ダゾ〔1,2−b〕ピリダジンナトリウム塩0.15g
を加えて室温で1時間撹拌した。反応液を酢酸エチルで
希釈し、水で2回洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、
減圧下で濃縮して0.24gの標記化合物を得た。 NMR(CDCl3, δ):1.47(9H,s), 3.45 と 4.16(2
H,ABq,J=18Hz), 4.57(1H,d,J=3.6Hz), 5.86(2H,m), 6.7
8(1H,d,J=9.4Hz), 6.97(1H,s), 7.2-7.6(12H,m),7.71(1
H,s), 7.79(1H,d,J=9.4Hz), 7.89(1H,s).
【0069】参考例8 7β−t−ブトキシカルボニルアミノ−3−〔(Z)−2
−(イミダゾ〔1,2−b〕ピリダジン−6−イル)チ
オ〕ビニル−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒド
リルエステル 7β−t−ブトキシカルボニルアミノ−3−〔(Z)−2
−(イミダゾ〔1,2−b〕ピリダジン−6−イル)チ
オ〕ビニル−1−オキシド−3−セフェム−4−カルボ
ン酸ベンズヒドリルエステル0.23gを塩化メチレン
3.8mlとジメチルアセトアミド(0.15ml)の混合
液に溶解し、−10℃冷却下三塩化リン0.061mlを
加えて1時間撹拌した。反応液を減圧下濃縮し、残渣に
酢酸エチルと重曹水を加え抽出し、酢酸エチル層を飽和
食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥して減圧下濃
縮し、標記化合物を0.18g得た。 NMR(CDCl3, δ):1.47(9H,s), 3.73(2H,m),
5.04(1H,d,J=3.6Hz), 5.66(1H,m), 6.80(1H,d,J=9.4H
z), 6.96(1H,s), 7.2-7.6(12H,m), 7.72(1H,s), 7.81(1
H,d,J=9.4Hz), 7.88(1H,s).
【0070】参考例9 7β−t−ブトキシカルボニルアミノ−3−[(E)−2
−(3−t−ブトキシカルボニルアミノイミダゾ[1,
2−b]ピリダジン−6−イル)チオ]ビニル−1−オ
キシド−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリル
エステル 7β−t−ブトキシカルボニルアミノ−3−[(E)−2
−トシルオキシ]ビニル−1−オキシド−3−セフェム
−4−カルボン酸ベンズヒドリルエステル2.14gを
ジメチルホルムアミド22mlに溶解し、3−t−ブトキ
シカルボニルアミノ−6−メルカプトイミダゾ[1,2
−b]ピリダジンナトリウム塩1.0gを加えて室温で
30分間撹拌した。 反応液を酢酸エチル300mlで希釈
し、 食塩水で2回洗浄後、 硫酸マグネシウムで乾燥し、
減圧下で濃縮した。 残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー(50g)で精製して、 酢酸エチルで溶出され
る標記化合物を1.39g得た。 NMR(CDCl3,δ): 1.48(9H,s), 1.56(9H,s), 3.
31 と 4.17(2H,ABq,J=17Hz),
4.56(1H,d,J=3.8Hz), 5.80
(2H,m), 6.77(1H,d,J=9.4H
z), 6.99(1H,s), 7.1−7.6(1
3H,m), 7.74(1H,d,J=9.4H
z).
【0071】参考例10 7β−t−ブトキシカルボニルアミノ−3−[(E)−2
−(3−t−ブトキシカルボニルアミノイミダゾ[1,
2−b]ピリダジン−6−イル)チオ]ビニル−3−セ
フェム−4−カルボン酸ベンズヒドリルエステル 7β−t−ブトキシカルボニルアミノ−3−[(E)−2
−(3−t−ブトキシカルボニルアミノイミダゾ[1,
2−b]ピリダジン−6−イル)チオ]ビニル−1−オ
キシド−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリル
エステル1.38gを塩化メチレン22ml とジメチルア
セトアミド0.78mlの混合液に溶解し、 −10℃冷却
下三塩化リン0.41mlを加えて1時間撹拌した。 反応
液を減圧下濃縮し、 残渣に酢酸エチル200mlと重曹水
100mlを加え抽出し、 酢酸エチル層を飽和食塩水で洗
浄した。 硫酸マグネシウムで乾燥後減圧下で濃縮し、 標
記化合物を1.3g得た。 NMR(CDCl3,δ): 1.48(9H,s), 1.56(9H,s), 3.
62 と 3.73(2H,ABq,J=17Hz), 5.03(1H,d,J=4.8Hz), 5.3
5(1H,m), 5.63(1H,m), 6.77(1H,d,J=9.2Hz), 6.99(1H,
s), 7.1-7.6(13H,m), 7.75(1H,d,J=9.2Hz).
【0072】参考例11 7β−アミノ−3−[(E)−2−(3−アミノ−1−メ
チルイミダゾ[1,2−b]ピリダジニウム−6−イ
ル)チオ]ビニル−3−セフェム−4−カルボキシレー
ト・トリフルオロ酢酸塩 7β−t−ブトキシカルボニルアミノ−3−[(E)−2
−(3−t−ブトキシカルボニルアミノイミダゾ[1,
2−b]ピリダジン−6−イル)チオ]ビニル−3−セ
フェム−4−カルボン酸ベンズヒドリルエステル1.3
gをジメチルホルムアミド3.7mlに溶解し、 ヨードメ
タン3.2mlを加えて室温で16時間撹拌した。 反応液
を減圧下で濃縮し、 残渣にエチルエーテル−ヘキサン
(1:1)混合液200mlを加えてデカントした。 残留
物を塩化メチレン12mlに溶解してこれにアニソール2
ml、 トリフルオロ酢酸6mlを加え、 室温で2時間撹拌し
た。 反応液にエチルエーテル100mlを加え、 生じた粉
末を濾取し、 減圧下で乾燥して標記化合物を1.1g得
た。 NMR(DMSO−d6,δ): 3.89 と 4.25(2H,ABq,J
=17.2Hz), 4.01(3H,s),5.23(1H,d,J=5.4Hz), 5.29(1H,
d,J=5.4Hz), 7.37(1H,d,J=15.8z), 7.45(1H,s),7.65(1
H,d,J=15.8Hz), 7.68(1H,d,J=9.8Hz), 8.52(1H,d,J=9.8
Hz).
【0073】参考例12 7β−t−ブトキシカルボニルアミノ−3−[(E)−2
−(イミダゾ[1,2−a]ピリジン−5−イル)チ
オ]ビニル−1−オキシド−3−セフェム−4−カルボ
ン酸ベンズヒドリルエステル 7β−t−ブトキシカルボニルアミノ−3−[(E)−2
−トシルオキシ]ビニル−1−オキシド−3−セフェム
−4−カルボン酸ベンズヒドリルエステル3.0gをジ
メチルアセトアミド30mlに溶解し、氷冷下、 5−メル
カプトイミダゾ[1,2−a]ピリジンナトリウム塩0.
99gを加えて1時間撹拌した。 反応液を酢酸エチル−
テトラヒドロフラン(3:1)の混合液300mlで希釈
し、 食塩水400mlで2回洗浄後、 硫酸マグネシウムで
乾燥し、 減圧下で濃縮した。 残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(40g)で精製して、 酢酸エチルで
溶出される標記化合物を0.37g得た。 NMR(CDCl3,δ): 1.45(9H,s), 3.19 と 3.94(2
H,ABq,J=18Hz), 4.54(1H,d,J=2Hz), 5.80(2H,m), 6.47
(1H,d,J=15.8Hz), 6.93(1H,s), 7.0-7.6(16H,m).
【0074】参考例13 7β−t−ブトキシカルボニルアミノ−3−[(E)−2
−(イミダゾ[1,2−a]ピリジン−5−イル)チ
オ]ビニル−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒド
リルエステル 7β−t−ブトキシカルボニルアミノ−3−[(E)−2
−(イミダゾ[1,2−a]ピリジン−5−イル)チ
オ]ビニル−1−オキシド−3−セフェム−4−カルボ
ン酸ベンズヒドリルエステル0.35gを塩化メチレン
5.5mlとジメチルアセトアミド0.2mlの混合液に溶解
し、 −10℃冷却下三塩化リン0.09mlを加えて30
分間撹拌した。 反応液を減圧下濃縮し、 残渣に酢酸エチ
ル200mlと重曹水200mlを加え抽出し、 酢酸エチル
層を飽和食塩水200mlで洗浄後、 硫酸マグネシウムで
乾燥して減圧下で濃縮し、 標記化合物を0.285g得
た。 NMR(CDCl3,δ): 1.45(9H,s), 3.45 と 3.55(2
H,ABq,J=18Hz), 4.98(1H,d,J=4.8Hz), 5.47(1H,d,J=9.8
Hz), 5.65(1H,dd,J=4.8Hz と 9.8Hz), 6.44(1H,d,J=15.
6Hz), 6.95(1H,s), 7.0- 7.8(16H,m).
【0075】参考例14 7β−アミノ−3−[(E)−2−(1−メチルイミダゾ
[1,2−a]ピリジニウム−5−イル)チオ]ビニル−
3−セフェム−4−カルボキシレート・トリフルオロ酢
酸塩 7β−t−ブトキシカルボニルアミノ−3−[(E)−2
−(イミダゾ[1,2−a]ピリジン−5−イル)チ
オ]ビニル−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒド
リルエステル0.28gをジメチルホルムアミド0.84
mlに溶解し、 ヨードメタン0.82mlを加えて室温で1
6時間撹拌した。 反応液を減圧下で濃縮し、残渣にエチ
ルエーテル−ヘキサン(1:1)混合液100mlを加え
てデカントした。 残留物を塩化メチレン2.4mlに溶解
してこれにアニソール0.48ml、 トリフルオロ酢酸1.
2mlを加え、 室温で2時間撹拌した。 反応液にエチルエ
ーテル100mlを加え、 生じた粉末を濾取し、 減圧下で
乾燥して標記化合物を0.278g得た。 NMR(DMSO−d6,δ): 3.76 と 4.02(2H,ABq,J
=17Hz), 4.12(3H,s), 5.20(1H,d,J=5Hz), 5.26(1H,d,J=
5Hz), 7.14(2H,s), 7.84(1H,d,J=7.4Hz), 8.07(1H,m),
8.27(1H,d,J= 8.4Hz), 8.40(1H,d,J=2Hz), 8.43(1H,d,J
=2Hz).
【0076】実施例1 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール
−3−イル)−2(Z)−シクロペンチルオキシイミノア
セトアミド〕−3−〔(E)−2−(1−メチルイミダゾ
〔1,2−b〕ピリダジニウム−6−イル)チオ〕ビニ
ル−3−セフェム−4−カルボキシレート 7β−t−ブトキシカルボニルアミノ−3−〔(E)−2
−(イミダゾ〔1,2−b〕ピリダジン−6−イル)チ
オ〕ビニル−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒド
リルエステル2.1gをジメチルホルムアミド20mlに
溶解し、ヨードメタン20mlを加えて室温で16時間撹
拌した。反応液を減圧下で濃縮し、残渣にエーテル−ヘ
キサン(1:1)混合液800mlを加えてデカントし
た。残留物を塩化メチレン50mlに溶解してこれにアニ
ソール20ml、トリフルオロ酢酸25mlを加え、室温で
2時間撹拌した。反応液にエーテル800mlを加え、生
じた沈殿を濾取し、減圧下で乾燥した。濾取した沈殿を
水−テトラヒドロフラン(1:1)混合液300mlに溶
解し、氷冷下、重曹水でpHを7.5に調整した。この
溶液に2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−
3−イル)−2(Z)−シクロペンチルオキシイミノアセ
チルクロリド塩酸塩1.22gを加え、重曹水でpHを
8に調整しながら30分間撹拌した。反応液を濃縮し、
残渣をMCIゲルCHP−20Pカラムクロマトグラフ
ィーに付し、30%エタノール水で溶出してくる分画を
集め減圧下濃縮した。残渣を凍結乾燥して0.93gの
標記化合物を得た。 元素分析値:C2525953・5.5H2O 計算値:C,41.31; H,4.99; N,1
7.34 実測値:C,41.57; H,4.77; N,1
7.38 NMR(DMSO−d6, δ):1.3-2.0(8H,m), 3.60(2
H,m), 4.08(3H,s), 4.74(1H,m), 5.09(1H,d,J=5Hz), 5.
64(1H,dd,J=5Hz と 8.2Hz), 6.62(1H,d,J=16Hz),7.48(1
H,d,J=16Hz), 7.95(1H,d,J=9.8Hz), 8.15(2H,bs), 8.37
(1H,d,J=2Hz), 8.64(1H,d,J=9.8Hz), 8.69(1H,d,J=2H
z), 9.51(1H,d,J=8.2Hz).
【0077】実施例2 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール
−3−イル)−2(Z)−イソプロポキシイミノアセトア
ミド〕−3−〔(E)−2−(1−メチルイミダゾ〔1,
2−b〕ピリダジニウム−6−イル)チオ〕ビニル−3
−セフェム−4−カルボキシレート 7β−t−ブトキシカルボニルアミノ−3−〔(E)−2
−(イミダゾ〔1,2−b〕ピリダジン−6−イル)チ
オ〕ビニル−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒド
リルエステル0.6gをジメチルホルムアミド6mlに溶
解し、ヨードメタン5.8mlを加えて室温で16時間撹
拌した。反応液を減圧下で濃縮し、残渣にエーテル−ヘ
キサン(1:1)混合液200mlを加えてデカントし
た。残留物を塩化メチレン15mlに溶解してこれにアニ
ソール6ml、トリフルオロ酢酸7.5mlを加え、室温で
2時間撹拌した。反応液にエーテル200mlを加え、生
じた沈殿を濾取し、減圧下で乾燥した。濾取した沈殿を
水−テトラヒドロフラン(1:1)混合液100mlに溶
解し、氷冷下、重曹水でpHを7.5に調整した。この
溶液に2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−
3−イル)−2(Z)−イソプロポキシイミノアセチルク
ロリド塩酸塩0.4gを加え、重曹水でpHを8に調整
しながら30分間撹拌した。反応液を濃縮し、残渣をM
CIゲルCHP−20Pカラムクロマトグラフィーに付
し、25%エタノール水で溶出してくる分画を集め減圧
下濃縮した。残渣を凍結乾燥して0.29gの標記化合
物を得た。 元素分析値:C2323953・5.5H2O 計算値:C,39.42; H,4.89; N,1
7.99 実測値:C,39.41; H,4.54; N,1
8.10 NMR(DMSO−d6, δ):1.28(6H,m), 3.60(2H,
m), 4.08(3H,s), 4.42(1H,m), 5.10(1H,d,J=5Hz), 5.66
(1H,dd,J=5Hz と 8.6Hz), 6.61(1H,d,J=15.4Hz),7.48(1
H,d,J=15.4Hz), 7.94(1H,d,J=10.2Hz), 8.16(2H,bs),
8.37(1H,s), 8.65(1H,d,J=10.2Hz), 8.69(1H,s), 9.52
(1H,d,J=8.6Hz).
【0078】実施例3 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール
−3−イル)−2(Z)−メトキシイミノアセトアミド〕
−3−〔(E)−2−(1−メチルイミダゾ〔1,2−
b〕ピリダジニウム−6−イル)チオ〕ビニル−3−セ
フェム−4−カルボキシレート 7β−t−ブトキシカルボニルアミノ−3−〔(E)−2
−(イミダゾ〔1,2−b〕ピリダジン−6−イル)チ
オ〕ビニル−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒド
リルエステル0.6gをジメチルホルムアミド6mlに溶
解し、ヨードメタン5.8mlを加えて室温で16時間撹
拌した。反応液を減圧下で濃縮し、残渣にエーテル−ヘ
キサン(1:1)混合液200mlを加えてデカントし
た。残留物を塩化メチレン15mlに溶解してこれにアニ
ソール6ml、トリフルオロ酢酸7.5mlを加え、室温で
2時間撹拌した。反応液にエーテル200mlを加え、生
じた沈殿を濾取し、減圧下で乾燥した。濾取した沈殿を
水−テトラヒドロフラン(1:1)混合液100mlに溶
解し、氷冷下、重曹水でpHを7.5に調整した。この
溶液に2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−
3−イル)−2(Z)−メトキシイミノアセチルクロリド
塩酸塩0.36gを加え、重曹水でpHを8に調整しな
がら30分間撹拌した。反応液を濃縮し、残渣をMCI
ゲルCHP−20Pカラムクロマトグラフィーに付し、
15%エタノール水で溶出してくる分画を集め減圧下濃
縮した。残渣を凍結乾燥して0.26gの標記化合物を
得た。 元素分析値:C2119953・5.0H2O 計算値:C,38.00; H,4.40; N,1
8.99 実測値:C,38.03; H,4.09; N,1
9.04 NMR(DMSO−d6, δ):3.60(2H,m), 3.94(3H,
s), 4.08(3H,s), 5.08(1H,d,J=5Hz), 5.65(1H,dd,J=5Hz
と 8.6Hz), 6.61(1H,d,J=16.2Hz), 7.48(1H,d,J=16.2H
z), 7.95(1H,d,J=9.6Hz), 8.17(2H,bs), 8.37(1H,d,J=2
Hz), 8.65(1H,d,J=9.6Hz), 8.69(1H,d,J=2Hz), 9.57(1
H,d,J=8.6Hz).
【0079】実施例4 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール
−3−イル)−2(Z)−エトキシイミノアセトアミド〕
−3−〔(E)−2−(1−メチルイミダゾ〔1,2−
b〕ピリダジニウム−6−イル)チオ〕ビニル−3−セ
フェム−4−カルボキシレート 7β−t−ブトキシカルボニルアミノ−3−〔(E)−2
−(イミダゾ〔1,2−b〕ピリダジン−6−イル)チ
オ〕ビニル−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒド
リルエステル0.2gをジメチルホルムアミド2mlに溶
解し、ヨードメタン1.9mlを加えて室温で16時間撹
拌した。反応液を減圧下で濃縮し、残渣にエーテル−ヘ
キサン(1:1)混合液100mlを加えてデカントし
た。残留物を塩化メチレン5mlに溶解してこれにアニソ
ール2ml、トリフルオロ酢酸2.5mlを加え、室温で2
時間撹拌した。反応液にエーテル100mlを加え、生じ
た沈殿を濾取し、減圧下で乾燥した。濾取した沈殿を水
−テトラヒドロフラン(1:1)混合液40mlに溶解
し、氷冷下、重曹水でpHを7.5に調整した。この溶
液に2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3
−イル)−2(Z)−エトキシイミノアセチルクロリド塩
酸塩0.13gを加え、重曹水でpHを8に調整しなが
ら30分間撹拌した。反応液を濃縮し、残渣をMCIゲ
ルCHP−20Pカラムクロマトグラフィーに付し、2
0%エタノール水で溶出してくる分画を集め減圧下濃縮
した。残渣を凍結乾燥して95mgの標記化合物を得た。 元素分析値:C2221953・4.5H2O 計算値:C,39.51; H,4.52; N,1
8.85 実測値:C,39.73; H,4.58; N,1
9.19 NMR(DMSO−d6, δ):1.28(3H,t,J=6.8Hz),
3.60(2H,m), 4.08(3H,s),4.20(2H,q,J=6.8Hz), 5.09(1
H,d,J=4.8Hz), 5.66(1H,dd,J=4.8Hz と 8.4Hz), 6.61(1
H,d,J=15.4Hz), 7.46(1H,d,J=15.4Hz), 7.95(1H,d,J=10
Hz), 8.17(2H,bs),8.37(1H,d,J=2Hz), 8.64(1H,d,J=10H
z), 8.68(1H,d,J=2Hz), 9.56(1H,d,J=8.4Hz).
【0080】実施例5 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール
−3−イル)−2(Z)−ヒドロキシイミノアセトアミ
ド〕−3−〔(E)−2−(1−メチルイミダゾ〔1,2
−b〕ピリダジニウム−6−イル)チオ〕ビニル−3−
セフェム−4−カルボキシレート 7β−t−ブトキシカルボニルアミノ−3−〔(E)−2
−(イミダゾ〔1,2−b〕ピリダジン−6−イル)チ
オ〕ビニル−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒド
リルエステル0.2gをジメチルホルムアミド2mlに溶
解し、ヨードメタン1.9mlを加えて室温で16時間撹
拌した。反応液を減圧下で濃縮し、残渣にエーテル−ヘ
キサン(1:1)混合液100mlを加えてデカントし
た。残留物を塩化メチレン5mlに溶解してこれにアニソ
ール2ml、トリフルオロ酢酸2.5mlを加え、室温で2
時間撹拌した。反応液にエーテル100mlを加え、生じ
た沈殿を濾取し、減圧下で乾燥した。濾取した沈殿を水
−テトラヒドロフラン(1:1)混合液40mlに溶解
し、氷冷下、この溶液にトリ−n−ブチルアミン0.5
2ml、2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−
3−イル)−2(Z)−トリチルオキシイミノアセチルク
ロリド塩酸塩0.23gを加え、30分間撹拌した。反
応液を減圧留去し、残渣に90%ギ酸水6mlを加えて室
温で1時間撹拌した。反応液を減圧下で濃縮し、残留物
に重曹水を加えてpH7に調整し、酢酸エチルで洗浄し
た。水層を濃縮後、残渣をMCIゲルCHP−20Pカ
ラムクロマトグラフィーに付し、15%エタノール水で
溶出してくる分画を集め減圧下濃縮した。残渣を凍結乾
燥して67mgの標記化合物を得た。 元素分析値:C2017953・4.0H2O 計算値:C,38.03; H,3.99; N,1
9.96 実測値:C,38.15; H,4.25; N,1
9.69 NMR(DMSO−d6, δ):3.60(2H,m), 4.08(3H,
s), 5.09(1H,d,J=5.2Hz),5.70(1H,dd,J=5.2Hz と 8Hz),
6.62(1H,d,J=15.8Hz), 7.47(1H,d,J=15.8Hz), 7.96(1
H,d,J=9.8Hz), 8.05(2H,bs), 8.37(1H,s), 8.63(1H,d,J
=9.8Hz), 8.70(1H,s), 9.45(1H,d,J=8Hz), 11.99(1H,b
s).
【0081】実施例6 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール
−3−イル)−2(Z)−シクロペンチルオキシイミノア
セトアミド〕−3−〔(E)−2−(1−エチルイミダゾ
〔1,2−b〕ピリダジニウム−6−イル)チオ〕ビニ
ル−3−セフェム−4−カルボキシレート 7β−t−ブトキシカルボニルアミノ−3−〔(E)−2
−(イミダゾ〔1,2−b〕ピリダジン−6−イル)チ
オ〕ビニル−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒド
リルエステル0.1gをジメチルホルムアミド2mlに溶
解し、ヨードエタン1.25mlを加えて室温で16時
間、40℃で2日間撹拌した。反応液にエーテル−ヘキ
サン(1:1)混合液50mlを加えてデカントした。残
留物を塩化メチレン2.5mlに溶解してこれにアニソー
ル1ml、トリフルオロ酢酸1.25mlを加え、室温で2
時間撹拌した。反応液にエーテル50mlを加え、生じた
沈殿を濾取し、減圧下で乾燥した。濾取した沈殿を水−
テトラヒドロフラン(1:1)混合液20mlに溶解し、
氷冷下、重曹水でpHを7.5に調整した。この溶液に
2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イ
ル)−2(Z)−シクロペンチルオキシイミノアセチルク
ロリド塩酸塩73mgを加え、重曹水でpHを8に調整し
ながら30分間撹拌した。反応液を濃縮し、残渣をMC
IゲルCHP−20Pカラムクロマトグラフィーに付
し、30%エタノール水で溶出してくる分画を集め減圧
下濃縮した。残渣を凍結乾燥して45mgの標記化合物を
得た。 元素分析値:C2627953・4.5H2O 計算値:C,43.20; H,5.02; N,1
7.44 実測値:C,43.12; H,4.79; N,1
7.24 NMR(DMSO−d6, δ):1.47(3H,t,J=7Hz), 1.5
-2.0(8H,m), 3.60(2H,m), 4.51(2H,q,J=7Hz), 4.75(1H,
m), 5.09(1H,d,J=5.2Hz), 5.64(1H,dd,J=5.2Hzと 8Hz),
6.62(1H,d,J=15.8Hz), 7.48(1H,d,J=15.8Hz), 7.96(1
H,d,J=9.8Hz), 8.16(2H,bs), 8.47(1H,d,J=2Hz), 8.70
(1H,d,J=9.8Hz), 8.72(1H,d,J=2Hz), 9.52(1H,d,J=8H
z).
【0082】実施例7 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール
−3−イル)−2(Z)−イソプロポキシイミノアセトア
ミド〕−3−〔(E)−2−(1−エチルイミダゾ〔1,
2−b〕ピリダジニウム−6−イル)チオ〕ビニル−3
−セフェム−4−カルボキシレート 7β−t−ブトキシカルボニルアミノ−3−〔(E)−2
−(イミダゾ〔1,2−b〕ピリダジン−6−イル)チ
オ〕ビニル−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒド
リルエステル0.1gをジメチルホルムアミド2mlに溶
解し、ヨードエタン1.25mlを加えて室温で16時
間、40℃で2日間撹拌した。反応液にエーテル−ヘキ
サン(1:1)混合液50mlを加えてデカントした。残
留物を塩化メチレン2.5mlに溶解してこれにアニソー
ル1ml、トリフルオロ酢酸1.25mlを加え、室温で2
時間撹拌した。反応液にエーテル50mlを加え、生じた
沈殿を濾取し、減圧下で乾燥した。濾取した沈殿を水−
テトラヒドロフラン(1:1)混合液20mlに溶解し、
氷冷下、重曹水でpHを7.5に調整した。この溶液に
2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イ
ル)−2(Z)−イソプロポキシイミノアセチルクロリド
塩酸塩66mgを加え、重曹水でpHを8に調整しながら
30分間撹拌した。反応液を濃縮し、残渣をMCIゲル
CHP−20Pカラムクロマトグラフィーに付し、25
%エタノール水で溶出してくる分画を集め減圧下濃縮し
た。残渣を凍結乾燥して53mgの標記化合物を得た。 元素分析値:C2425953・4.5H2O 計算値:C,41.37; H,4.92; N,1
8.09 実測値:C,41.33; H,4.62; N,1
8.47 NMR(DMSO−d6, δ):1.28(6H,m), 1.47(3H,
t,J=6.8Hz), 3.61(2H,m),4.41(1H,s), 4.51(2H,q,J=6.8
Hz), 5.10(1H,d,J=5.2Hz), 5.65(1H,dd,J=5.2Hzと 8.4H
z), 6.61(1H,d,J=15.4Hz), 7.48(1H,d,J=15.4Hz), 7.96
(1H,d,J=9.8Hz),8.18(2H,bs), 8.48(1H,s), 8.71(1H,d,
J=9.8Hz), 8.73(1H,s), 9.53(1H,d,J=8.4Hz).
【0083】実施例8 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール
−3−イル)−2(Z)−シクロペンチルオキシイミノア
セトアミド〕−3−〔(E)−2−{1−(2−ヒドロキ
シエチル)イミダゾ〔1,2−b〕ピリダジニウム−6
−イル}チオ〕ビニル−3−セフェム−4−カルボキシ
レート 7β−t−ブトキシカルボニルアミノ−3−〔(E)−2
−(イミダゾ〔1,2−b〕ピリダジン−6−イル)チ
オ〕ビニル−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒド
リルエステル0.2gをジメチルホルムアミド2mlに溶
解し、2−ヨードエタノール2.43mlを加えて40℃
で2日間撹拌した。反応液にエーテル−ヘキサン(1:
1)混合液100mlを加えてデカントした。残留物を塩
化メチレン5mlに溶解してこれにアニソール2ml、トリ
フルオロ酢酸2.5mlを加え、室温で2時間撹拌した。
反応液にエーテル100mlを加え、生じた沈殿を濾取
し、減圧下で乾燥した。濾取した沈殿を水−テトラヒド
ロフラン(1:1)混合液40mlに溶解し、重曹水でp
Hを7.5に調整した。この溶液にS−(2−ベンゾチ
アゾリル)−2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾ
ール−3−イル)−2(Z)−シクロペンチルオキシイミ
ノチオアセテート0.15gを加え、室温で16時間撹
拌した。反応液を酢酸エチルで洗浄し、水層を濃縮後、
MCIゲルCHP−20Pカラムクロマトグラフィーに
付し、25%エタノール水で溶出してくる分画を集め減
圧下濃縮した。残渣を凍結乾燥して25mgの標記化合物
を得た。 元素分析値:C2627963・5.5H2O 計算値:C,41.26; H,5.06; N,1
6.66 実測値:C,41.50; H,4.97; N,1
6.47 NMR(DMSO−d6, δ):1.4-1.9(8H,m), 3.61(2
H,m), 3.79(2H,m), 4.58(2H,m), 4.74(1H,m), 5.10(1H,
d,J=5.2Hz), 5.42(1H,m), 5.65(1H,dd,J=5.2Hzと 8.4H
z), 6.65(1H,d,J=15.8Hz), 7.45(1H,d,J=15.8Hz), 7.93
(1H,d,J=9.6Hz),8.16(2H,bs), 8.40(1H,s), 8.65(1H,d,
J=9.6Hz), 8.70(1H,s), 9.52(1H,d,J=8.4Hz).
【0084】実施例9 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール
−3−イル)−2(Z)−シクロペンチルオキシイミノア
セトアミド〕−3−〔(E)−2−(1−カルバモイルメ
チルイミダゾ〔1,2−b〕ピリダジニウム−6−イ
ル)チオ〕ビニル−3−セフェム−4−カルボキシレー
ト 7β−t−ブトキシカルボニルアミノ−3−〔(E)−2
−(イミダゾ〔1,2−b〕ピリダジン−6−イル)チ
オ〕ビニル−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒド
リルエステル0.2gをジメチルホルムアミド2mlに溶
解し、ヨードアセトアミド1.73gを加えて室温で2
1.5時間撹拌した。反応液にエーテル100mlを加え
て5分間撹拌した後デカントした。残留物を塩化メチレ
ン5mlに溶解し、アニソール2ml、トリフルオロ酢酸
2.5mlを加え室温で2時間撹拌した。反応液にエーテ
ル150mlを加え、生じた沈殿を濾取した。この沈殿を
テトラヒドロフラン−水(1:1)混合液40mlに溶解
し、重曹水でpHを8に調整した。氷冷下、重曹水でp
Hを8に調整しながら2−(5−アミノ−1,2,4−チ
アジアゾール−3−イル)−2(Z)−シクロペンチルオ
キシイミノアセチルクロリド塩酸塩150mgを加え、0
℃で15分間撹拌した。反応液を濃縮し、残渣をMCI
ゲルCHP−20Pカラムクロマトグラフィーに付し、
30%エタノール水で溶出される分画を集め濃縮した。
残渣を凍結乾燥し、98mgの標記化合物を得た。 元素分析値:C26261063・7.0H2O 計算値:C,39.19; H,5.06; N,1
7.58 実測値:C,39.12; H,4.89; N,1
7.59 NMR(DMSO−d6, δ):1.4-2.0(8H,m), 3.61(2
H,m), 4.75(1H,m), 5.10(1H,d,J=4.8Hz), 5.27(2H,bs),
5.64(1H,dd,J=8.4 & 4.8Hz), 6.64 & 7.48(each1H,d,J
=16Hz), 7.61 & 7.93(each 1H,bs), 7.98 & 8.62(each
1H,d,J=9.4Hz),8.15(2H,bs), 8.39 & 8.74(each 1H,d,J
=2.2Hz), 9.52(1H,d,J=8.4Hz).
【0085】実施例10 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール
−3−イル)−2(Z)−シクロペンチルオキシイミノア
セトアミド〕−3−〔(E)−2−(1−アセトニルイミ
ダゾ〔1,2−b〕ピリダジニウム−6−イル)チオ〕
ビニル−3−セフェム−4−カルボキシレート 7β−t−ブトキシカルボニルアミノ−3−〔(E)−2
−(イミダゾ〔1,2−b〕ピリダジン−6−イル)チ
オ〕ビニル−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒド
リルエステル0.2gを塩化メチレン1.18mlとアセ
トニトリル0.46mlの混合溶媒に溶解し、クロロアセ
トン0.138ml、ヨウ化ナトリウム0.26gを加え
て室温で17.5時間撹拌した。反応液にエーテル−ヘ
キサン(1:1)混合液100mlを加えて5分間撹拌し
た後デカントした。残留物を塩化メチレン5mlに溶解
し、アニソール2ml、トリフルオロ酢酸2.5mlを加え
室温で3.5時間撹拌した。反応液にエーテル150ml
を加え、生じた沈殿を濾取した。この沈殿をテトセヒド
ロフラン−水(1:1)混合液40mlに溶解し、重曹水
でpHを8に調整した。氷冷下、重曹水でpHを8に調
整しながら2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾー
ル−3−イル)−2(Z)−シクロペンチルオキシイミノ
アセチルクロリド塩酸塩180mgを加え、0℃で40分
間撹拌した。反応液を濃縮し、残渣をMCIゲルCHP
−20Pカラムクロマトグラフィーに付し、30%エタ
ノール水で溶出される分画を集め減圧下濃縮した。残渣
を凍結乾燥し、71mgの標記化合物を得た。 元素分析値:C2727963・7.0H2O 計算値:C,40.75; H,5.19; N,1
5.84 実測値:C,40.98; H,4.96; N,1
6.28 NMR(DMSO−d6, δ):1.4-2.0(8H,m), 2.30(3
H,s), 3.60(2H,m), 4.74(1H,m), 5.10(1H,d,J=4.8Hz),
5.6-5.7(3H,m), 6.64 & 7.48(each 1H,d,J=16Hz), 8.00
& 8.58(each 1H,d,J=10.2Hz), 8.14(2H,bs), 8.24 &
8.75(each 1H,d,J=2Hz), 9.51(1H,d,J=8.2Hz).
【0086】実施例11 3−〔(E)−2−(1−アリルイミダゾ〔1,2−b〕
ピリダジニウム−6−イル)チオ〕ビニル−7β−〔2
−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イ
ル)−2(Z)−シクロペンチルオキシイミノアセトアミ
ド〕−3−セフェム−4−カルボキシレート 7β−t−ブトキシカルボニルアミノ−3−〔(E)−2
−(イミダゾ〔1,2−b〕ピリダジン−6−イル)チ
オ〕ビニル−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒド
リルエステル0.2gをジメチルホルムアミド2mlに溶
解し、臭化アリル2.70mlを加えて室温で14.5時
間、油浴中40℃で22時間撹拌した。反応液にエーテ
ル−ヘキサン(1:1)混合液100mlを加えて10分
間撹拌した後デカントした。残留物を塩化メチレン5ml
に溶解し、アニソール2ml、トリフルオロ酢酸2.5ml
を加え室温で2時間撹拌した。反応液にエーテル150
mlを加え、生じた沈殿を濾取した。この沈殿をテトラヒ
ドロフラン−水(1:1)混合液40mlに溶解し、重曹
水でpHを8に調整した。氷冷下、重曹水でpHを8に
調整しながら2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾ
ール−3−イル)−2(Z)−シクロペンチルオキシイミ
ノアセチルクロリド塩酸塩190mgを加え、0℃で20
分間撹拌した。反応液を濃縮し、残渣をMCIゲルCH
P−20Pカラムクロマトグラフィーに付し、30%エ
タノール水で溶出される分画を集め減圧下濃縮した。残
渣を凍結乾燥し、83mgの標記化合物を得た。 元素分析値:C2727953・5.0H2O 計算値:C,43.60; H,5.01; N,1
6.95 実測値:C,43.88; H,4.74; N,1
7.16 NMR(DMSO−d6, δ):1.4-2.0(8H,m), 3.61(2
H,m), 4.75(1H,m), 5.09(1H,d,J=5.2Hz), 5.16(2H,m),
5.25-5.37(2H,m), 5.64(1H,dd,J=8 & 5.2Hz), 6.06(1H,
m), 6.63 & 7.47(each 1H,d,J=15.8Hz), 7.98 & 8.62(e
ach 1H,d,J=10Hz), 8.16(2H,bs), 8.38 & 8.75(each 1
H,d,J=1.8Hz), 9.51(1H,d,J=8Hz).
【0087】実施例12 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール
−3−イル)−2(Z)−シクロペンチルオキシイミノア
セトアミド〕−3−〔(Z)−2−(1−メチルイミダゾ
〔1,2−b〕ピリダジニウム−6−イル)チオ〕ビニ
ル−3−セフェム−4−カルボキシレート 7β−t−ブトキシカルボニルアミノ−3−〔(Z)−2
−(イミダゾ〔1,2−b〕ピリダジン−6−イル)チ
オ〕ビニル−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒド
リルエステル0.12gをジメチルホルムアミド1mlに
溶解し、ヨードメタン0.12mlを加えて室温で16時
間撹拌した。反応液を減圧下で濃縮し、残渣にエーテル
−ヘキサン(1:1)混合液100mlを加えてデカント
した。残留物を塩化メチレン5mlに溶解してこれにアニ
ソール2ml、トリフルオロ酢酸2.5mlを加え、室温で
2時間撹拌した。反応液にエーテル100mlを加え、生
じた沈殿を濾取し、減圧下で乾燥した。濾取した沈殿を
水−テトラヒドロフラン(1:1)混合液40mlに溶解
し、氷冷下、重曹水でpHを7.5に調整した。この溶
液に2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3
−イル)−2(Z)−シクロペンチルオキシイミノアセチ
ルクロリド塩酸塩0.06gを加え、重曹水でpHを8
に調整しながら30分間撹拌した。反応液を濃縮し、残
渣をMCIゲルCHP−20Pカラムクロマトグラフィ
ーに付し、30%エタノール水で溶出してくる分画を集
め減圧下濃縮した。残渣を凍結乾燥して64mgの標記化
合物を得た。 元素分析値:C2525953・6.0H2O 計算値:C,40.81; H,5.07; N,1
7.13 実測値:C,40.94; H,4.87; N,1
7.49 NMR(DMSO−d6, δ):1.4-1.9(8H,m), 3.66 &
3.85(2H,ABq,J=15Hz),4.08(3H,s), 4.74(1H,m), 5.08
(1H,d,J=4.8Hz), 5.64(1H,dd,J=4.8Hz & 8.6Hz),6.56(1
H,d,J=10.8Hz), 7.36(1H,d,J=10.8Hz), 7.96(1H,d,J=9.
8Hz), 8.15(2H,bs), 8.38(1H,d,J=2Hz), 8.65(1H,d,J=
9.8Hz), 8.74(1H,d,J=2Hz), 9.49(1H,d,J=8.6Hz).
【0088】実施例13 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール
−3−イル)−2(Z)−イソプロポキシイミノアセトア
ミド〕−3−〔(E)−2−(1−カルバモイルメチルイ
ミダゾ〔1,2−b〕ピリダジニウム−6−イル)チ
オ〕ビニル−3−セフェム−4−カルボキシレート 7β−t−ブトキシカルボニルアミノ−3−〔(E)−
2−(イミダゾ〔1,2−b〕ピリダジン−6−イル)
チオ〕ビニル−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒ
ドリルエステル0.2gをジメチルホルムアミド2ml
に溶解し、ヨードアセトアミド1.73gを加えて室温
で24時間撹拌した。反応液にエーテル100mlを加
えて5分間撹拌した後、デカントした。残留物を塩化メ
チレン5mlに溶解し、アニソール2ml、トリフルオ
ロ酢酸2.5mlを加えて室温で2時間撹拌した。反応
液にエーテル150mlを加え、生じた沈殿をろ取し
た。この沈殿をテトラヒドロフラン−水(1:1)混合
溶液20mlに溶解し、重曹水でpHを8に調整した。
氷冷下、重曹水でpHを8に調整しながら2−(5−ア
ミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)−2
(Z)−イソプロポキシイミノアセチルクロリド塩酸塩
134mgを加え、0℃で30分間撹拌した。反応液を
濃縮し、残渣をMCIゲルCHP−20Pカラムクロマ
トグラフィーに付し、25%エタノール水で溶出される
分画を集めて濃縮した。残渣を凍結乾燥し、83mgの
標記化合物を得た。 元素分析値:C24241063・5.0H2O 計算値:C,39.23; H,4.66; N,1
9.06 実測値:C,39.17; H,4.45; N,1
8.94 NMR(DMSO−d6, δ):1.27(6H,m), 3.60(2H,
m), 4.41(1H,m), 5.10(1H,d,J=5.2Hz), 5.29(2H,s), 5.
65(1H,dd,J=8Hz & 5.2Hz), 6.63 & 7.47(each 1H,d,J=1
6Hz), 7.60 & 8.03(each 1H,bs), 7.97 & 8.62(each 1
H,d,J=9.8Hz), 8.17(2H,bs), 8.39 & 8.72(each 1H,s),
9.52(1H,d,J=8Hz)
【0089】実施例14 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール
−3−イル)−2(Z)−メトキシイミノアセトアミド〕
−3−〔(E)−2−(1−カルバモイルメチルイミダゾ
〔1,2−b〕ピリダジニウム−6−イル)チオ〕ビニ
ル−3−セフェム−4−カルボキシレート 7β−t−ブトキシカルボニルアミノ−3−〔(E)−
2−(イミダゾ〔1,2−b〕ピリダジン−6−イル)
チオ〕ビニル−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒ
ドリルエステル0.2gをジメチルホルムアミド2ml
に溶解し、ヨードアセトアミド1.73gを加えて室温
で24時間撹拌した。反応液にエーテル100mlを加
えて5分間撹拌した後、デカントした。残留物を塩化メ
チレン5mlに溶解し、アニソール2ml、トリフルオ
ロ酢酸2.5mlを加えて室温で2時間撹拌した。反応
液にエーテル150mlを加え、生じた沈殿をろ取し
た。この沈殿をテトラヒドロフラン−水(1:1)混合
溶液20mlに溶解し、重曹水でpHを8に調整した。
氷冷下、重曹水でpHを8に調整しながら2−(5−ア
ミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)−2
(Z)−メトキシイミノアセチルクロリド塩酸塩121
mgを加え、0℃で30分間撹拌した。反応液を濃縮
し、残渣をMCIゲルCHP−20Pカラムクロマトグ
ラフィーに付し、20%エタノール水で溶出される分画
を集めて濃縮した。残渣を凍結乾燥し、103mgの標
記化合物を得た。 元素分析値:C22201063・5.5H2O 計算値:C,36.92; H,4.37; N,1
9.57 実測値:C,36.82; H,4.01; N,1
9.45 NMR(DMSO−d6, δ):3.60(2H,m), 3.93(3H,
s), 5.09(1H,d,J=5.2Hz),5.31(2H,s), 5.65(1H,dd,J=8H
z & 5.2Hz), 6.63 & 7.49(each 1H,d,J=15.4Hz),7.58 &
8.08(each 1H,bs), 7.95 & 8.62(each 1H,d,J=9.4Hz),
8.16(2H,bs), 8.40 & 8.72(each 1H,d,J=2Hz), 9.57(1
H,d,J=8Hz)
【0090】実施例15 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール
−3−イル)−2(Z)−エトキシイミノアセトアミド〕
−3−〔(E)−2−(1−カルバモイルメチルイミダゾ
〔1,2−b〕ピリダジニウム−6−イル)チオ〕ビニ
ル−3−セフェム−4−カルボキシレート 7β−t−ブトキシカルボニルアミノ−3−〔(E)−
2−(イミダゾ〔1,2−b〕ピリダジン−6−イル)
チオ〕ビニル−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒ
ドリルエステル0.28gをジメチルホルムアミド2m
lに溶解し、ヨードアセトアミド2.42gを加えて室
温で24時間撹拌した。反応液にエーテル100mlを
加えて5分間撹拌した後、デカントした。残留物を塩化
メチレン5mlに溶解し、アニソール2ml、トリフル
オロ酢酸2.5mlを加えて室温で2時間撹拌した。反
応液にエーテル100mlを加え、生じた沈殿をろ取し
た。この沈殿をテトラヒドロフラン−水(1:1)混合
溶液40mlに溶解し、重曹水でpHを8に調整した。
氷冷下、重曹水でpHを8に調整しながら2−(5−ア
ミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)−2
(Z)−エトキシイミノアセチルクロリド塩酸塩177
mgを加え、0℃で30分間撹拌した。反応液を濃縮
し、残渣をMCIゲルCHP−20Pカラムクロマトグ
ラフィーに付し、20%エタノール水で溶出される分画
を集めて濃縮した。残渣を凍結乾燥し、146mgの標
記化合物を得た。 元素分析値:C23221063・5.5H2O 計算値:C,38.33; H,4.47; N,1
9.43 実測値:C,38.49; H,4.13; N,1
9.41 NMR(DMSO−d6, δ):1.28(3H,t,J=7Hz), 3.6
0(2H,m), 4.20(2H,q,J=7Hz), 5.10(1H,d,J=5Hz), 5.31
(2H,s), 5.67(1H,dd,J=8.2 & 5Hz), 6.64 & 7.48(each
1H,d,J=15.4Hz), 7.59 & 8.09(each 1H,bs), 7.95 & 8.
63(each 1H,d,J=9.4Hz), 8.17(2H,bs), 8.40 & 8.71(ea
ch 1H,d,J=2Hz), 9.56(1H,d,J=8.2Hz)
【0091】実施例16 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール
−3−イル)−2(Z)−イソプロポキシイミノアセトア
ミド〕−3−〔(E)−2−(1−ヒドロキシエチルイミ
ダゾ〔1,2−b〕ピリダジニウム−6−イル)チオ〕
ビニル−3−セフェム−4−カルボキシレート 7β−t−ブトキシカルボニルアミノ−3−〔(E)−2
−(イミダゾ〔1,2−b〕ピリダジン−6−イル)チ
オ〕ビニル−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒド
リルエステル0.25gをジメチルホルムアミド2.5ml
に溶解し、2−ヨードエタノール3.0mlを加えて40
℃で5日間撹拌した。反応液にエーテル:ヘキサン
(1:1)混合液100mlを加えてデカントした。残留
物を塩化メチレン5mlに溶解してこれにアニソール2m
l、トリフルオロ酢酸2.5mlを加え、室温で2時間撹拌
した。反応液にエーテル100mlを加え、生じた沈殿を
濾取し、減圧下で乾燥した。濾取した沈殿を水:テトラ
ヒドロフラン(1:1)混合液20mlに溶解し、重曹水
でpHを7.5に調整した。この溶液に2−(5−アミノ
−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)−2(Z)−イ
ソプロピルオキシイミノアセチルクロリド塩酸塩0.1
66gを加え、室温で30分間撹拌した。反応液を減圧
下で濃縮後、MCIゲルCHP−20Pカラムクロマト
グラフィーに付し、25%エタノール水で溶出してくる
分画を集め減圧下濃縮した。残渣を凍結乾燥して61mg
の標記化合物を得た。 元素分析値 : C2425963・5.0H2O 計算値 : C, 39.94 ; H, 4.89 ; N, 1
7.46 実測値 : C, 40.04 ; H, 4.68 ; N, 1
7.30 NMR(DMSO−d6,δ) : 1.26(6H,m), 3.61(2H,
m), 3.78(2H,m), 4.58(2H,m), 4.41(1H,m), 5.11(1H,d,
J=4.8Hz), 5.46(1H,m), 5.67(1H,dd,J=4.8Hz と7.8Hz),
6.64(1H,d,J=16.2Hz), 7.45(1H,d,J=16.2Hz), 7.92(1
H,d,J=10Hz), 8.18(2H,bs), 8.40(1H,s), 8.66(1H,d,J=
10Hz), 8.70(1H,s), 9.53(1H,d,J=7.8Hz).
【0092】実施例17 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール
−3−イル)−2(Z)−エトキシイミノアセトアミド〕
−3−〔(E)−2−(1−ヒドロキシエチルイミダゾ
〔1,2−b〕ピリダジニウム−6−イル)チオ〕ビニ
ル−3−セフェム−4−カルボキシレート 7β−t−ブトキシカルボニルアミノ−3−〔(E)−2
−(イミダゾ〔1,2−b〕ピリダジン−6−イル)チ
オ〕ビニル−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒド
リルエステル0.25gをジメチルホルムアミド2.5ml
に溶解し、2−ヨードエタノール3.0mlを加えて40
℃で5日間撹拌した。反応液にエーテル:ヘキサン
(1:1)混合液100mlを加えてデカントした。残留
物を塩化メチレン5mlに溶解してこれにアニソール2m
l、トリフルオロ酢酸2.5mlを加え、室温で2時間撹拌
した。反応液にエーテル100mlを加え、生じた沈殿を
濾取し、減圧下で乾燥した。濾取した沈殿を水:テトラ
ヒドロフラン(1:1)混合液20mlに溶解し、重曹水
でpHを7.5に調整した。この溶液に2−(5−アミノ
−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)−2(Z)−エ
トキシイミノアセチルクロリド塩酸塩0.158gを加
え、室温で30分間撹拌した。反応液を減圧下で濃縮
後、MCIゲルCHP−20Pカラムクロマトグラフィ
ーに付し、20%エタノール水で溶出してくる分画を集
め減圧下濃縮した。残渣を凍結乾燥して77mgの標記化
合物を得た。 元素分析値 : C2323963・5.0H2O 計算値 : C, 39.03 ; H, 4.70 ; N, 1
7.81 実測値 : C, 39.05 ; H, 4.32 ; N, 1
7.62 NMR(DMSO−d6,δ): 1.29(3H,t,J=7Hz), 3.6
1(2H,m), 3.80(2H,m), 4.59(2H,m), 4.20(2H,q,J=7Hz),
5.10(1H,d,J=4.8Hz), 5.49(1H,m), 5.67(1H,dd,J=4.8H
z と 8.8Hz), 6.65(1H,d,J=1
5.8Hz), 7.46(1H,d,J=15.8H
z), 7.92(1H,d,J=9.4Hz),
8.18(2H,bs), 8.41(1H,s),
8.67(1H,d,J=9.4Hz), 8.70
(1H,s), 9.57(1H,d,J=8.8H
z).
【0093】実施例18 ナトリウム 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−
チアジアゾール−3−イル)−2(Z)−シクロペンチル
オキシイミノアセトアミド〕−3−〔(E)−2−(1−
カルボキシメチルイミダゾ〔1,2−b〕ピリダジニウ
ム−6−イル)チオ〕ビニル−3−セフェム−4−カル
ボキシレート 7β−t−ブトキシカルボニルアミノ−3−〔(E)−2
−(イミダゾ〔1,2−b〕ピリダジン−6−イル)チ
オ〕ビニル−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒド
リルエステル0.1gをジメチルホルムアミド1mlに溶
解し、ブロモ酢酸-t−ブチルエステル2.5mlを加えて
室温で16時間撹拌した。反応液にエーテル:ヘキサン
(1:1)混合液50mlを加えてデカントした。残留物
を塩化メチレン2.5mlに溶解してこれにアニソール1m
l、トリフルオロ酢酸1.25mlを加え、室温で2時間撹
拌した。反応液にエーテル50mlを加え、生じた沈殿を
濾取し、減圧下で乾燥した。濾取した沈殿を水:テトラ
ヒドロフラン(1:1)混合液10mlに溶解し、重曹水
でpHを7.5に調整した。この溶液に2−(5−アミノ
−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)−2(Z)−シ
クロペンチルオキシイミノアセチルクロリド塩酸塩73
mgを加え、室温で30分間撹拌した。反応液を減圧下で
濃縮後、MCIゲルCHP−20Pカラムクロマトグラ
フィーに付し、10%エタノール水で溶出してくる分画
を集め減圧下濃縮した。残渣を凍結乾燥して54mgの標
記化合物を得た。 元素分析値 : C2624973Na・6.0H2O 計算値 : C, 38.95 ; H, 4.53 ; N, 1
5.72 実測値 : C, 38.87 ; H, 4.23 ; N, 1
5.52 NMR(DMSO−d6,δ): 1.4-2.0(8H,m), 3.62(2
H,m), 4.75(1H,m), 4.79(2H,s), 5.11(1H,d,J=5Hz), 5.
64(1H,dd,J=5Hz と 8.4Hz), 6.68(1H,d,J=16.2Hz), 7.4
9(1H,d,J=16.2Hz), 7.86(1H,d,J=9.6Hz), 8.17(2H,bs),
8.31(1H,d,J=2Hz), 8.48(1H,d,J=9.6 Hz), 8.63(1H,d,
J=2Hz), 9.52(1H,d,J=8.4Hz).
【0094】実施例19 ナトリウム 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チ
アジアゾール−3−イル)−2(Z)−イソプロポキシイ
ミノアセトアミド〕−3−〔(E)−2−(1−カルボキ
シメチルイミダゾ〔1,2−b〕ピリダジニウム−6−
イル)チオ〕ビニル−3−セフェム−4−カルボキシレ
ート 7β−t−ブトキシカルボニルアミノ−3−〔(E)−2
−(イミダゾ〔1,2−b〕ピリダジン−6−イル)チ
オ〕ビニル−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒド
リルエステル0.1gをジメチルホルムアミド1mlに溶
解し、ブロモ酢酸−t−ブチルエステル2.5mlを加えて
室温で16時間撹拌した。反応液にエーテル:ヘキサン
(1:1)混合液50mlを加えてデカントした。残留物
を塩化メチレン2.5mlに溶解してこれにアニソール1m
l、トリフルオロ酢酸1.25mlを加え、室温で2時間撹
拌した。反応液にエーテル50mlを加え、生じた沈殿を
濾取し、減圧下で乾燥した。濾取した沈殿を水:テトラ
ヒドロフラン(1:1)混合液10mlに溶解し、重曹水
でpHを7.5に調整した。この溶液に2−(5−アミノ
−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)−2(Z)−イ
ソプロピルオキシイミノアセチルクロリド塩酸塩67mg
を加え、室温で30分間撹拌した。反応液を減圧下で濃
縮後、MCIゲルCHP−20Pカラムクロマトグラフ
ィーに付し、5%エタノール水で溶出してくる分画を集
め減圧下濃縮した。残渣を凍結乾燥して42mgの標記化
合物を得た。 元素分析値 : C2422973Na・5.5H2O 計算値 : C, 37.59 ; H, 4.34 ; N, 1
6.44 実測値 : C, 37.62 ; H, 4.24 ; N, 1
6.24 NMR(DMSO−d6,δ): 1.28(6H,m), 3.62(2H,
m), 4.41(1H,m), 4.80(2H,s), 5.11(1H,d,J=5.2Hz), 5.
67(1H,dd,J=5.2Hz と 9.2Hz), 6.67(1H,d,J=16Hz), 7.5
0(1H,d,J=16Hz), 7.85(1H,d,J=9.6Hz), 8.17(2H,bs),
8.31(1H,d,J=2Hz),8.47(1H,d,J=9.6Hz), 8.62(1H,d,J=2
Hz), 9.53(1H,d,J=9.2Hz).
【0095】実施例20 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール
−3−イル)−2(Z)−イソプロポキシイミノアセタミ
ド〕−3−〔(E)−2−(2−カルバモイル−1−メチ
ルイミダゾ〔1,2−b〕ピリダジニウム−6−イル)
チオ〕ビニル−3−セフェム−4−カルボキシレート 7β−t−ブトキシカルボニルアミノ−3−〔(E)−2
−(2−カルバモイルイミダゾ〔1,2−b〕ピリダジ
ン−6−イル)チオ〕ビニル−3−セフェム−4−カル
ボン酸ベンズヒドリルエステル0.1gをジメチルホル
ムアミド1mlに溶解し、ヨードメタン1mlを加えて室温
で3日間撹拌した。反応液を減圧下で濃縮し、残渣にエ
ーテル:ヘキサン(1:1)混合液50mlを加えてデカ
ントした。残留物を塩化メチレン2.5mlに溶解し、ア
ニソール1ml、トリフルオロ酢酸1.25mlを加え室温
で2時間撹拌した。反応液にエーテル50mlを加え、生
じた沈殿を濾取した。この沈殿をテトラヒドロフラン:
水(1:1)混合液20mlに溶解し、重曹水でpHを8
に調整した。氷冷下、重曹水でpHを8に調整しながら
2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イ
ル)−2(Z)−イソプロポキシイミノアセチルクロリド
塩酸塩64mgを加え、0゜Cで30分間撹拌した。反応液
を濃縮し、残渣をMCIゲルCHP−20Pカラムクロ
マトグラフィーに付し、25%エタノール水で溶出され
る分画を集め濃縮した。残渣を凍結乾燥し、40mgの標
記化合物を得た。 元素分析値 : C24241063・4.5H2O 計算値 : C, 39.72 ; H, 4.58 ; N, 1
9.30 実測値 : C, 39.65 ; H, 4.56 ; N, 1
9.22 NMR(DMSO−d6,δ): 1.25(6H,m), 3.61(2H,
m), 4.22(3H,s), 4.42(1H,m), 5.11(1H,d,J=4.8Hz), 5.
67(1H,dd,J=7.8Hz と 4.8Hz), 6.62 と 7.47(each1H,d,
J=15Hz), 8.03 と 8.73(each 1H,d,J=10Hz), 8.21 と
8.75(each 1H,bs),8.16(2H,bs), 9.20(1H,s), 9.53(1H,
d,J=7.8Hz).
【0096】実施例21 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール
−3−イル)−2(Z)−エトキシイミノアセトアミド〕
−3−〔(E)−2−(2−カルバモイル−1−メチル−
イミダゾ〔1,2−b〕ピリダジニウム−6−イル)チ
オ〕ビニル−3−セフェム−4−カルボキシレート 7β−t−ブトキシカルボニルアミノ−3−〔(E)−2
−(2−カルバモイルイミダゾ〔1,2−b〕ピリダジ
ン−6−イル)チオ〕ビニル−3−セフェム−4−カル
ボン酸ベンズヒドリルエステル0.1gをジメチルホル
ムアミド1mlに溶解し、ヨードメタン1mlを加えて室温
で3日間撹拌した。反応液を減圧下で濃縮し、残渣にエ
ーテル:ヘキサン(1:1)混合液50mlを加えてデカ
ントした。残留物を塩化メチレン2.5mlに溶解し、ア
ニソール1ml、トリフルオロ酢酸1.25mlを加え室温
で2時間撹拌した。反応液にエーテル50mlを加え、生
じた沈殿を濾取した。この沈殿をテトラヒドロフラン:
水(1:1)混合液20mlに溶解し、重曹水でpHを8
に調整した。氷冷下、重曹水でpHを8に調整しながら
2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イ
ル)−2(Z)−エトキシイミノアセチルクロリド塩酸塩
61mgを加え、0℃で30分間撹拌した。反応液を濃縮
し、残渣をMCIゲルCHP−20Pカラムクロマトグ
ラフィーに付し、20%エタノール水で溶出される分画
を集め濃縮した。残渣を凍結乾燥し、40mgの標記化合
物を得た。 元素分析値 : C23221063・5.5H2O 計算値 : C, 37.85 ; H, 4.56 ; N, 1
9.19 実測値 : C, 37.78 ; H, 4.34 ; N, 1
9.01 NMR(DMSO−d6,δ): 1.24(3H,t,J=7Hz), 3.6
1(2H,m), 4.19(2H,q,J=7Hz), 4.22(3H,s), 5.11(1H,d,J
=5Hz), 5.67(1H,dd,J=8.2Hz と 5Hz), 6.63 と 7.47(ea
ch 1H,d,J=15.8 Hz), 8.03 と 8.73(each 1H,d,J=9.4H
z), 8.21 と 8.75(each 1H,bs), 8.18(2H,bs), 9.20(1
H,s), 9.57(1H,d,J=8.2Hz).
【0097】実施例22 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール
−3−イル)−2(Z)−シクロペンチルオキシイミノア
セトアミド〕−3−〔(E)−2−(2−カルバモイル−
1−メチルイミダゾ〔1,2−b〕ピリダジニウム−6
−イル)チオ〕ビニル−3−セフェム−4−カルボキシ
レート 7β−t−ブトキシカルボニルアミノ−3−〔(E)−2
−(2−カルバモイルイミダゾ〔1,2−b〕ピリダジ
ン−6−イル)チオ〕ビニル−3−セフェム−4−カル
ボン酸ベンズヒドリルエステル0.22gをジメチルホ
ルムアミド2mlに溶解し、ヨードメタン2mlを加えて室
温で3日間撹拌した。反応液を減圧下で濃縮し、残渣に
エーテル:ヘキサン(1:1)混合液100mlを加えて
デカントした。残留物を塩化メチレン5mlに溶解し、ア
ニソール2ml、トリフルオロ酢酸2.5mlを加え室温で
2時間撹拌した。反応液にエーテル100mlを加え、生
じた沈殿を濾取した。この沈殿をテトラヒドロフラン:
水(1:1)混合液40mlに溶解し、重曹水でpHを8
に調整した。氷冷下、重曹水でpHを8に調整しながら
2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イ
ル)−2(Z)−シクロペンチルオキシイミノアセチルク
ロリド塩酸塩141mgを加え、0℃で30分間撹拌し
た。反応液を濃縮し、残渣をMCIゲルCHP−20P
カラムクロマトグラフィーに付し、35%エタノール水
で溶出される分画を集め濃縮した。残渣を凍結乾燥し、
63mgの標記化合物を得た。 元素分析値 : C26261063・4.5H2O 計算値 : C, 41.54 ; H, 4.69 ; N, 1
8.63 実測値 : C, 41.35 ; H, 4.34 ; N, 1
8.46 NMR(DMSO−d6,δ): 1.4-2.0(8H,m), 3.60(2
H,m), 4.23(3H,s), 4.74(1H,m), 5.11(1H,d,J=4.8Hz),
5.66(1H,dd,J=8.6Hz と 4.8Hz), 6.65 と 7.46(each 1
H,d,J=15.6Hz), 8.03 と 8.74(each 1H,d,J=8Hz), 8.22
と 8.82(each 1H,bs), 8.18(2H,bs), 9.22(1H,s), 9.5
4(1H,d,J=8.6Hz).
【0098】実施例23 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール
−3−イル)−2(Z)−エトキシイミノアセトアミド〕
−3−〔(E)−2−(1−エチルイミダゾ〔1,2−
b〕ピリダジニウム−6−イル)チオ〕ビニル−3−セ
フェム−4−カルボキシレート 7β−t−ブトキシカルボニルアミノ−3−〔(E)−2
−(イミダゾ〔1,2−b〕ピリダジン−6−イル)チ
オ〕ビニル−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒド
リルエステル0.2gをジメチルホルムアミド2mlに溶
解し、ヨードエタン2.5mlを加えて40℃で2日間撹
拌した。反応液にエーテル:ヘキサン(1:1)混合液
100mlを加えてデカントした。残留物を塩化メチレン
5mlに溶解し、アニソール2ml、トリフルオロ酢酸2.
5mlを加え室温で2時間撹拌した。反応液にエーテル1
00mlを加え、生じた沈殿を濾取した。この沈殿をテト
ラヒドロフラン:水(1:1)混合液40mlに溶解し、
重曹水でpHを8に調整した。氷冷下、重曹水でpHを8
に調整しながら2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イル)−2(Z)−エトキシイミノアセチル
クロリド塩酸塩127mgを加え、0℃で30分間撹拌し
た。反応液を濃縮し、残渣をMCIゲルCHP−20P
カラムクロマトグラフィーに付し、20%エタノール水
で溶出される分画を集め濃縮した。残渣を凍結乾燥し、
96mgの標記化合物を得た。 元素分析値 : C2323953・4.5H2O 計算値 : C, 40.46 ; H, 4.72 ; N, 1
8.46 実測値 : C, 40.36 ; H, 4.35 ; N, 1
8.62 NMR(DMSOd6−,δ): 1.28(3H,t,J=7Hz), 1.4
7(3H,t,J=7Hz), 3.60(2H,m), 4.20(2H,q,J=7Hz), 4.51
(2H,q,J=7Hz), 5.10(1H,d,J=5Hz), 5.66(1H,dd,J=8.6Hz
と 5Hz), 6.61 と 7.48(each 1H,d,J=15.8Hz), 7.97
と 8.71(each 1H,d,J=9.8Hz), 8.48 と 8.73(each 1H,
d,J=2Hz), 8.18(2H,bs), 9.56(1H,d,J=8.6Hz).
【0099】実施例24 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール
−3−イル)−2(Z)−メトキシイミノアセトアミド〕
−3−〔(E)−2−(1−エチルイミダゾ〔1,2−
b〕ピリダジニウム−6−イル)チオ〕ビニル−3−セ
フェム−4−カルボキシレート 7β−t−ブトキシカルボニルアミノ−3−〔(E)−2
−(イミダゾ〔1,2−b〕ピリダジン−6−イル)チ
オ〕ビニル−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒド
リルエステル0.2gをジメチルホルムアミド2mlに溶
解し、ヨードエタン2.5mlを加えて40℃で2日間撹
拌した。反応液にエーテル:ヘキサン(1:1)混合液
100mlを加えてデカントした。残留物を塩化メチレン
5mlに溶解し、アニソール2ml、トリフルオロ酢酸2.
5mlを加え室温で2時間撹拌した。反応液にエーテル1
00mlを加え、生じた沈殿を濾取した。この沈殿をテト
ラヒドロフラン:水(1:1)混合液40mlに溶解し、
重曹水でpHを8に調整した。氷冷下、重曹水でpHを8
に調整しながら2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イル)−2(Z)−メトキシイミノアセチル
クロリド塩酸塩120mgを加え、0℃で30分間撹拌し
た。反応液を濃縮し、残渣をMCIゲルCHP−20P
カラムクロマトグラフィーに付し、20%エタノール水
で溶出される分画を集め濃縮した。残渣を凍結乾燥し、
98mgの標記化合物を得た。 元素分析値 : C2221953・3.0H2O 計算値 : C, 41.18 ; H, 4.24 ; N, 1
9.64 実測値 : C, 41.05 ; H, 4.13 ; N, 1
9.79 NMR(DMSO−d6,δ): 1.47(3H,t,J=7Hz), 3.6
0(2H,m), 3.94(3H,s), 4.52(2H,q,J=7Hz), 5.09(1H,d,J
=4.8Hz), 5.66(1H,dd,J=8.4Hz と 4.8Hz), 6.61と 7.49
(each 1H,d,J=15.8Hz), 7.96 と 8.74(each 1H,d,J=10H
z), 8.49 と 8.73(each 1H,s), 8.20(2H,bs), 9.59(1H,
d,J=8.4Hz).
【0100】実施例25 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール
−3−イル)−2(Z)−アリルオキシイミノアセトアミ
ド〕−3−〔(E)−2−(1−メチルイミダゾ〔1,2
−b〕ピリダジニウム−6−イル)チオ〕ビニル−3−
セフェム−4−カルボキシレート 7β−アミノ−3−〔(E)−2−(1−メチルイミダゾ
〔1,2−b〕ピリダジニウム−6−イル)チオ〕ビニ
ル−3−セフェム−4−カルボン酸・トリフルオロ酢酸
塩0.23gをテトラヒドロフラン:水(1:1)混合
液40mlに溶解し、重曹水でpHを8に調整した。氷冷
下、重曹水でpHを8に調整しながら2−(5−アミノ
−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)−2(Z)−ア
リルオキシイミノアセチルクロリド塩酸塩300mgを加
え、0℃で30分間撹拌した。反応液を濃縮し、残渣を
MCIゲルCHP−20Pカラムクロマトグラフィーに
付し、25%エタノール水で溶出される分画を集め濃縮
した。残渣を凍結乾燥し、130mgの標記化合物を得
た。 元素分析値 : C2321953・4.0H2O 計算値 : C, 41.13 ; H, 4.35 ; N, 1
8.77 実測値 : C, 40.96 ; H, 4.06 ; N, 1
8.56 NMR(DMSO−d6,δ): 3.59(2H,m), 4.08(3H,
s), 4.68(2H,d,J=5.4Hz),5.09(1H,d,J=5.2Hz), 5.30(2
H,m), 5.67(1H,dd,J=8.4Hz と 5.2Hz), 5.99(1H,m), 6.
61 と 7.46(each 1H,d,J=16.2Hz), 7.95 と 8.66(each
1H,d,J=10Hz), 8.38 と 8.69(each 1H,d,J=2Hz), 8.20
(2H,bs), 9.61(1H,d,J=8.4Hz).
【0101】実施例26 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール
−3−イル)−2(Z)−(2−フルオロエトキシ)イミ
ノアセトアミド〕−3−〔(E)−2−(1−メチルイミ
ダゾ〔1,2−b〕ピリダジニウム−6−イル)チオ〕
ビニル−3−セフェム−4−カルボキシレート 7β−アミノ−3−〔(E)−2−(1−メチルイミダゾ
〔1,2−b〕ピリダジニウム−6−イル)チオ〕ビニ
ル−3−セフェム−4−カルボン酸・トリフルオロ酢酸
塩0.2gをテトラヒドロフラン:水(1:1)混合液
40mlに溶解し、重曹水でpHを8に調整した。氷冷
下、重曹水でpHを8に調整しながら2−(5−アミノ
−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)−2(Z)−
(2−フルオロエトキシ)イミノアセチルクロリド塩酸
塩140mgを加え、0℃で30分間撹拌した。反応液を
濃縮し、残渣をMCIゲルCHP−20Pカラムクロマ
トグラフィーに付し、25%エタノール水で溶出される
分画を集め濃縮した。残渣を凍結乾燥し、89mgの標記
化合物を得た。 元素分析値 : C2220FN953・3.5H2O 計算値 : C, 39.52 ; H, 4.07 ; N, 1
8.85 実測値 : C, 39.84 ; H, 3.80 ; N, 1
8.74 NMR(DMSO−d6,δ): 3.59(2H,m), 4.08(3H,
s), 4.40(2H,dt,J=28Hzと3.4Hz), 4.69(2H,dt,J=48Hzと
3.4Hz), 5.10(1H,d,J=4.8Hz), 5.66(1H,dd,J=8.8Hz と
4.8Hz), 6.61 と 7.46(each 1H,d,J=15.8Hz), 7.95 と
8.64(each 1H,d,J=9.6Hz), 8.37 と 8.70(eac
h 1H,d,J=2Hz), 8.21(2H,b
s), 9.63(1H,d,J=8.8Hz).
【0102】実施例27 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾー
ル−3−イル)−2(Z)−フルオロメトキシイミノアセ
トアミド〕−3−〔(E)−2−(1−メチルイミダゾ
〔1,2−b〕ピリダジニウム−6−イル)チオ〕ビニ
ル−3−セフェム−4−カルボキシレート 7β−アミノ−3−〔(E)−2−(1−メチルイミダゾ
〔1,2−b〕ピリダジニウム−6−イル)チオ〕ビニ
ル−3−セフェム−4−カルボン酸・トリフルオロ酢酸
塩1.6gをテトラヒドロフラン:水(1:1)混合液
160mlに溶解し、重曹水でpHを8に調整した。氷冷
下、重曹水でpHを8に調整しながら2−(5−アミノ
−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)−2(Z)−フ
ルオロメトキシイミノアセチルクロリド塩酸塩1.07
gを加え、0℃で30分間撹拌した。反応液を濃縮し、
残渣をMCIゲルCHP−20Pカラムクロマトグラフ
ィーに付し、20%エタノール水で溶出される分画を集
め濃縮した。残渣を凍結乾燥し、483mgの標記化合物
を得た。 元素分析値 : C2118FN953・3.0H2O 計算値 : C, 39.06 ; H, 3.75 ; N, 1
9.52 実測値 : C, 39.15 ; H, 3.69 ; N, 1
9.27 NMR(DMSO−d6,δ): 3.60(2H,m), 4.08(3H,
s), 5.11(1H,d,J=5Hz), 5.67(1H,dd,J=8Hz と 5Hz), 5.
80(2H,d,J=55Hz), 6.61 と 7.47(each 1H,d,J=15.8 H
z), 7.95 と 8.66(each 1H,d,J=9.6Hz), 8.37 と 8.69
(each 1H,d,J=2Hz), 8.26(2H,bs), 9.78(1H,d,J=8Hz).
【0103】実施例28 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール
−3−イル)−2(Z)−フルオロメトキシイミノアセト
アミド〕−3−〔(E)−2−(1−カルバモイルメチル
イミダゾ〔1,2−b〕ピリダジニウム−6−イル)チ
オ〕ビニル−3−セフェム−4−カルボキシレート 7β−アミノ−3−〔(E)−2−(1−カルバモイルメ
チルイミダゾ〔1,2−b〕ピリダジニウム−6−イ
ル)チオ〕ビニル−3−セフェム−4−カルボン酸・ト
リフルオロ酢酸塩0.19gをテトラヒドロフラン:水
(1:1)混合液40mlに溶解し、重曹水でpHを8に
調整した。氷冷下、重曹水でpHを8に調整しながら2
−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イ
ル)−2(Z)−フルオロメトキシイミノアセチルクロリ
ド塩酸塩119mgを加え、0℃で30分間撹拌した。反
応液を濃縮し、残渣をMCIゲルCHP−20Pカラム
クロマトグラフィーに付し、20%エタノール水で溶出
される分画を集め濃縮した。残渣を凍結乾燥し、80mg
の標記化合物を得た。 元素分析値 : C2219FN1063・3.5H2O 計算値 : C, 37.87 ; H, 3.76 ; N, 2
0.08 実測値 : C, 37.98 ; H, 3.63 ; N, 2
0.18 NMR(DMSO−d6,δ): 3.61(2H,m), 5.12(1H,
d,J=4.8Hz), 5.30(2H,s),5.67(1H,dd,J=8Hz と 4.8Hz),
5.81(2H,d,J=56Hz), 6.64 と 7.49(each 1H,d,J=15.6H
z), 7.62 と 8.00(each 1H,bs), 7.98 と 8.63(each 1
H,d,J=9.6Hz), 8.40 と 8.74(each 1H,d,J=2Hz), 8.26
(2H,bs), 9.79(1H,d,J=8Hz).
【0104】実施例29 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール
−3−イル)−2(Z)−フルオロメトキシイミノアセト
アミド〕−3−〔(E)−2−(1−エチルイミダゾ
〔1,2−b〕ピリダジニウム−6−イル)チオ〕ビニ
ル−3−セフェム−4−カルボキシレート 7β−アミノ−3−〔(E)−2−(1−エチルイミダゾ
〔1,2−b〕ピリダジニウム−6−イル)チオ〕ビニ
ル−3−セフェム−4−カルボン酸・トリフルオロ酢酸
塩0.2gをテトラヒドロフラン:水(1:1)混合液
40mlに溶解し、重曹水でpHを8に調整した。氷冷
下、重曹水でpHを8に調整しながら2−(5−アミノ
−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)−2(Z)−フ
ルオロメトキシイミノアセチルクロリド塩酸塩131mg
を加え、0℃で30分間撹拌した。反応液を濃縮し、残
渣をMCIゲルCHP−20Pカラムクロマトグラフィ
ーに付し、20%エタノール水で溶出される分画を集め
濃縮した。残渣を凍結乾燥し、67mgの標記化合物を得
た。 元素分析値 : C2220FN953・5.0H2O 計算値 : C, 37.98 ; H, 4.35 ; N, 1
8.12 実測値 : C, 38.07 ; H, 3.90 ; N, 1
8.46 NMR(DMSO−d6,δ): 1.47(3H,t,J=7.4Hz),
3.61(2H,m), 4.51(2H,q,J=7.4Hz), 5.11(1H,d,J=5Hz),
5.65(1H,dd,J=8.4Hz と 5Hz), 5.80(2H,d,J=56Hz), 6.6
1 と 7.49(each 1H,d,J=15.4Hz), 7.96 と 8.71(each 1
H,d,J=10Hz), 8.47と 8.73(each 1H,d,J=2Hz), 8.25(2
H,bs), 9.78(1H,d,J=8.4Hz).
【0105】実施例30 7β−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール
−3−イル)−2(Z)−(2,2,2−トリフルオロエト
キシ)イミノアセトアミド]−3−[(E)−2−(1−
メチルイミダゾ[1,2−b]ピリダジニウム−6−イ
ル)チオ]ビニル−3−セフェム−4−カルボキシレー
ト 7β−アミノ−3−[(E)−2−(1−メチルイミダゾ
[1,2−b]ピリダジニウム−6−イル)チオ]ビニ
ル−3−セフェム−4−カルボン酸・トリフルオロ酢酸
塩0.2gをテトラヒドロフラン:水(1:1)混合液
40mlに溶解し、重曹水でpHを8に調整した。 氷冷下、
重曹水でpHを8に調整しながら2−(5−アミノ−
1,2,4−チアジアゾール−3−イル)−2(Z)−
(2,2,2−トリフルオロエトキシ)イミノ酢酸270
mg と五塩化リン229mgから調製した2−(5−アミ
ノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)−2(Z)−
(2,2,2−トリフルオロエトキシ)イミノアセチルク
ロリドのテトラヒドロフラン5ml溶液を加え、 0℃で3
0分間撹拌した。 反応液を濃縮し、 残渣をMCIゲルC
HP−20Pカラムクロマトグラフィーに付し、 25%
エタノール水で溶出される画分を集め濃縮した。 残渣を
凍結乾燥し、 15mgの標記化合物を得た。 元素分析値 : C22183953・5.0H2O 計算値 : C, 36.11 ; H, 3.86 ; N, 1
7.23 実測値 : C, 36.03 ; H, 3.86 ; N, 1
7.02 IR(KBr,cm-1): 3400, 1770, 1680, 1605, 1520,
1380. NMR(DMSO-d6,δ): 3.59(2H,m), 4.08(3H,s), 4.80(2
H,m), 5.10(1H,d,J=5.2Hz), 5.67(1H,dd,J=8Hz と 5.2H
z), 6.62 と 7.47(each 1H,d,J=15.8Hz), 7.95 と 8.66
(each 1H,d,J=9.4Hz), 8.38 と 8.69(each 1H,s), 8.25
(2H,bs), 9.73(1H,d,J=8Hz).
【0106】実施例31 7β−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール
−3−イル)−2(Z)−フルオロメトキシイミノアセト
アミド]−3−[(Z)−2−(1−メチルイミダゾ
[1,2−b]ピリダジニウム−6−イル)チオ]ビニル
−3−セフェム−4−カルボキシレート 7β−アミノ−3−[(Z)−2−(1−メチルイミダゾ
[1,2−b]ピリダジニウム−6−イル)チオ]ビニ
ル−3−セフェム−4−カルボン酸・トリフルオロ酢酸
塩0.4gをテトラヒドロフラン:水(1:1)混合液2
0mlに溶解し、重曹水でpHを8に調整した。 氷冷下、 重
曹水でpHを8に調整しながら2−(5−アミノ−1,
2,4−チアジアゾール−3−イル)−2(Z)−フルオ
ロメトキシイミノアセチルクロリド塩酸塩0.23g を
加え、 0℃で30分間撹拌した。 反応液を濃縮し、 残渣
をMCIゲルCHP−20Pカラムクロマトグラフィー
に付し、 15%エタノール水で溶出される画分を集め濃
縮した。 残渣を凍結乾燥し、113mgの標記化合物を得
た。 元素分析値 : C2118FN953・4.0H2O 計算値 : C, 38.00 ; H, 3.95 ; N, 1
8.99 実測値 : C, 38.16 ; H, 4.21 ; N, 1
8.83 IR(KBr,cm-1): 3400, 1760, 1670, 1600, 1520,
1390, 1130. NMR(DMSO−d6,δ) : 3.68 と 3.84(2H,ABq,J=
16.2Hz), 4.09(3H,s), 5.09(1H,d,J=5Hz), 5.67(1H,dd,
J=8.4Hz と 5Hz), 5.79(2H,d,J=55Hz), 6.56 と7.35(ea
ch 1H,d,J=10.8Hz), 7.95 と 8.66(each 1H,d,J=9.8H
z), 8.39 と 8.74(each 1H,d,J=2Hz), 8.24(2H,bs), 9.
75(1H,d,J=8.4Hz).
【0107】実施例32 7β−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール
−3−イル)−2(Z)−エトキシイミノアセトアミド]
−3−[(Z)−2−(1−メチルイミダゾ[1,2−
b]ピリダジニウム−6−イル)チオ]ビニル−3−セ
フェム−4−カルボキシレート 7β−アミノ−3−[(Z)−2−(1−メチルイミダゾ
[1,2−b]ピリダジニウム−6−イル)チオ]ビニ
ル-3-セフェム−4−カルボン酸・トリフルオロ酢酸塩
0.25gをテトラヒドロフラン:水(1:1)混合液
20mlに溶解し、重曹水でpHを8に調整した。 氷冷下、
重曹水でpHを8に調整しながら2−(5−アミノ−1,
2,4−チアジアゾール−3−イル)−2(Z)−エトキ
シイミノアセチルクロリド塩酸塩0.16gを加え、 0
℃で30分間撹拌した。 反応液を濃縮し、 残渣をMCI
ゲルCHP−20Pカラムクロマトグラフィーに付し、
20%エタノール水で溶出される画分を集め濃縮した。
残渣を凍結乾燥し、 117mgの標記化合物を得た。 元素分析値 : C2221953・3.5H2O 計算値 : C, 40.61 ; H, 4.34 ; N, 1
9.37 実測値 : C, 40.81 ; H, 4.20 ; N, 1
9.27 IR(KBr,cm-1): 3400, 1760, 1670, 1600, 1520,
1380, 1130. NMR(DMSO−d6,δ): 1.27(3H,t,J=7Hz), 3.67
と 3.83(2H,ABq,J=16Hz), 4.09(3H,s), 4.19(2H,q,J=7
Hz), 5.08(1H,d,J=5Hz), 5.67(1H,dd,J=8.4Hz と5Hz),
6.56 と 7.32(each 1H,d,J=11Hz), 7.95 と 8.66(each
1H,d,J=9.2Hz),8.40 と 8.73(each 1H,s), 8.20(2H,b
s), 9.55(1H,d,J=8.4Hz).
【0108】実施例33 7β−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール
−3−イル)−2(Z)−シクロペンチルオキシイミノア
セトアミド]−3−[(E)−2−(3−アミノ−1−メ
チルイミダゾ[1,2−b]ピリダジニウム−6−イ
ル)チオ]ビニル−3−セフェム−4−カルボキシレー
ト 7β−アミノ−3−[(E)−2−(3−アミノ−1−メ
チルイミダゾ[1,2−b]ピリダジニウム−6−イ
ル)チオ]ビニル−3−セフェム−4−カルボン酸・ト
リフルオロ酢酸塩0.3gをテトラヒドロフラン:水
(1:1)混合液40mlに溶解し、 重曹水でpHを8に
調整した。 氷冷下、 重曹水でpHを8に調整しながら2
−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イ
ル)−2(Z)−シクロペンチルオキシイミノアセチルク
ロリド塩酸塩0.19gを加え、 0℃で30分間撹拌し
た。 反応液を濃縮し、 残渣をMCIゲル CHP−20
Pカラムクロマトグラフィーに付し、 35%エタノール
水で溶出される画分を集め濃縮した。 残渣を凍結乾燥
し、 95mgの標記化合物を得た。 元素分析値 : C25261053・4.0H2O 計算値 : C, 42.01 ; H, 4.79 ; N, 1
9.60 実測値 : C, 41.98 ; H, 4.69 ; N, 1
9.39 IR(KBr,cm-1): 3350, 1760, 1650, 1600, 1540,
1390, 1360. NMR(DMSO−d6,δ): 1.4-2.0(8H,m), 3.56
と 3.77(2H,ABq,J=17Hz),3.98(3H,s), 4.75(1H,m), 5.0
8(1H,d,J=5.2Hz), 5.64(1H,dd,J=8.4Hz と 5.2Hz), 6.6
2(2H,bs), 6.79 と 7.49(each 1H,d,J=16.2Hz), 7.38(1
H,s), 7.57 と 8.43(each 1H,d,J=9.4Hz), 8.17(2H,b
s), 9.52(1H,d,J=8.4Hz).
【0109】実施例34 7β−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール
−3−イル)−2(Z)−フルオロメトキシイミノアセト
アミド]−3−[(E)−2−(3−アミノ−1−メチル
イミダゾ[1,2−b]ピリダジニウム−6−イル)チ
オ]ビニル−3−セフェム−4−カルボキシレート 7β−アミノ−3−[(E)−2−(3−アミノ−1−メ
チルイミダゾ[1,2−b]ピリダジニウム−6−イ
ル)チオ]ビニル−3−セフェム−4−カルボン酸・ト
リフルオロ酢酸塩0.3gをテトラヒドロフラン:水
(1:1)混合液40mlに溶解し、 重曹水でpHを8に
調整した。 氷冷下、 重曹水でpHを8に調整しながら2
−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イ
ル)-2(Z)−フルオロメトキシイミノアセチルクロリ
ド塩酸塩0.2gを加え、 0℃で30分間撹拌した。 反
応液を濃縮し、 残渣をMCIゲルCHP−20カラムク
ロマトグラフィーに付し、 20%エタノール水で溶出さ
れる画分を集め濃縮した。 残渣を凍結乾燥し、 83mgの
標記化合物を得た。 元素分析値 : C2119FN1053・4.0H2O 計算値 : C, 37.16 ; H, 4.01 ; N, 2
0.64 実測値 : C, 37.05 ; H, 4.20 ; N, 2
0.36 IR(KBr,cm-1): 3350, 1760, 1650, 1600, 1540,
1390, 1360, 1130, 1060. NMR(DMSO−d6,δ): 3.54 と 3.87(2H,ABq,J
=17Hz), 3.98(3H,s), 5.09(1H,d,J=4.8Hz), 5.66(1H,d
d,J=8.2Hz と 4.8Hz), 5.81(2H,d,J=56Hz), 6.62(2H,b
s), 6.78 と 7.51(each 1H,d,J=15.8Hz), 7.38(1H,s),
7.58 と 8.43(each1H,d,J=9.6Hz), 8.26(2H,bs), 9.77
(1H,d,J=8.2Hz).
【0110】実施例35 7β−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール
−3−イル)−2(Z)−フルオロメトキシイミノアセト
アミド]−3−[(E)−2−(1−メチルイミダゾ
[1,2−a]ピリジニウム-5-イル)チオ]ビニル−3
−セフェム−4−カルボキシレート 7β−アミノ−3−[(E)−2−(1−メチルイミダゾ
[1,2−a]ピリジニウム−5−イル)チオ]ビニル
−3−セフェム−4−カルボキシレート・トリフルオロ
酢酸塩0.2gをテトラヒドロフラン:水(1:1)混
合液40mlに溶解し、 重曹水でpHを8に調整した。 氷
冷下、 重曹水でpHを8に調整しながら2−(5−アミ
ノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)−2(Z)−
フルオロメトキシイミノアセチルクロリド塩酸塩0.1
16gを加え、 0℃で30分間撹拌した。 反応液を濃縮
し、 残渣をMCIゲルCHP−20Pカラムクロマトグ
ラフィーに付し、 30%エタノール水で溶出される画分
を集め濃縮した。 残渣を凍結乾燥し、 69mgの標記化合
物を得た。 元素分析値 : C2219FN853・3.0H2O 計算値 : C, 40.99 ; H, 3.91 ; N, 1
7.38 実測値 : C, 41.17 ; H, 3.65 ; N, 1
6.96 IR(KBr,cm-1): 3400, 1760, 1670, 1610, 1510,
1380, 1350. NMR(DMSO-d6,δ): 3.52 と 3.70(2H,ABq,J=17Hz), 4.
07(3H,s), 5.10(1H,d,J=5.2Hz), 5.67(1H,dd,J=8.8Hz
と 5.2Hz), 5.80(2H,d,J=55Hz), 6.42と 7.58(each 1H,
d,J=15Hz), 7.57(1H,m), 7.9-8.1(2H,m), 8.26(2H,bs),
8.37(1H,d,J=2Hz), 8.40(1H,d,J=2Hz), 9.77(1H,d,J=
8.8Hz).
【0111】実施例36 7β−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール
−3−イル)−2(Z)−シクロペンチルオキシイミノア
セトアミド]−3−[(E)−2−(1−メチルイミダゾ
[1,2−a]ピリジニウム−5−イル)チオ]ビニル
−3−セフェム−4−カルボキシレート 7β−アミノ−3−[(E)−2−(1−メチルイミダゾ
[1,2−a]ピリジニウム−5−イル)チオ]ビニル
−3−セフェム−4−カルボキシレート・トリフルオロ
酢酸塩0.2gをテトラヒドロフラン:水(1:1)混
合液40mlに溶解し、 重曹水でpHを8に調整した。 氷
冷下、 重曹水でpHを8に調整しながら2−(5−アミ
ノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)−2(Z)−
シクロペンチルオキシイミノアセチルクロリド塩酸塩
0.131gを加え、 0℃で30分間撹拌した。 反応液
を濃縮し、 残渣をMCIゲルCHP−20Pカラムクロ
マトグラフィーに付し、 35%エタノール水で溶出され
る画分を集め濃縮した。 残渣を凍結乾燥し、 72mgの標
記化合物を得た。 元素分析値 : C2626853・3.0H2O 計算値 : C, 41.79 ; H, 4.09 ; N, 1
8.28 実測値 : C, 41.77 ; H, 4.23 ; N, 1
7.96 IR(KBr,cm-1): 3400, 1760, 1630, 1610, 1510,
1380, 1350. NMR(DMSO−d6,δ): 1.6-1.9(8H,m), 3.60(2
H,m), 4.07(3H,s), 4.73(1H,m), 5.08(1H,d,J=5Hz), 5.
64(1H,dd,J=8.4Hz と 5Hz), 6.43 と 7.57(each1H,d,J=
15Hz), 7.60(1H,m), 7.9-8.2(2H,m), 8.15(2H,bs), 8.3
7(1H,d,J=2Hz),8.39(1H,d,J=2Hz), 9.50(1H,d,J=8.4H
z).
【0112】実施例37 ナトリウム 7β−[2−(5−カルボキシラートアミ
ノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)−2(Z)
−フルオロメトキシイミノアセトアミド]−3−[(E)
−2−(1−メチルイミダゾ[1,2−b]ピリダジニ
ウム−6−イル)チオ]ビニル−3−セフェム−4−カ
ルボキシレート 7β−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール
−3−イル)−2(Z)−フルオロメトキシイミノアセト
アミド]−3−[(E)−2−(1−メチルイミダゾ
[1,2−b]ピリダジニウム−6−イル)チオ]ビニ
ル−3−セフェム−4−カルボキシレート591mgを5
0%エタノール水60ml、 1N塩酸1mlの混合液に溶か
し、 これに1N重曹水5mlを加えて室温で6時間反応し
た。 次いで、反応液を減圧下で濃縮し、 セファデックス
LH−20Pカラムクロマトグラフィー(1000ml)
に付し、 水で溶出される画分を集め濃縮した。 残渣を凍
結乾燥し、 96mgの標記化合物を得た。 NMR(DMSO−d6,δ): 3.55 と 3.68(2H,ABq,J
=17Hz), 4.08(3H,s), 5.12(1H,d,J=5Hz), 5.69(1H,dd,J
=8Hz と 5Hz), 5.80(2H,d,J=57Hz), 6.64 と 7.50(each
1H,d,J=15.8Hz), 7.96 と 8.66(each 1H,d,J=9.8Hz),
8.38 と 8.71(each 1H,d,J=2Hz), 9.74(1H,d,J= 8Hz),
9.99(1H,bs).
【0113】実施例化合物の化学構造式は次の通り。
【化69】
【0114】
【発明の効果】本発明のセフェム化合物〔I〕またはそ
のエステルあるいはその塩は、シュードモナス属の菌を
含むグラム陰性菌ならびにブドウ球菌あよびMRSAを
含むグラム陽性菌などに対して広範囲の抗菌スペクトル
と優れた抗菌作用を有しており、これらの菌に基づく感
染症に対し有効な抗菌剤を提供することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07D 237:00 233:00)

Claims (34)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】式 【化1】 〔式中、R1は保護されていてもよいアミノ基を、R2
    水素原子または炭素原子を介して結合する基を、 【化2】 (式中、Bはヘテロ原子が1または2個の窒素原子であ
    る6員芳香族複素環を、R3は置換されていてもよい炭
    化水素基を示す)で表される基を示す。〕で表されるセ
    フェム化合物またはそのエステルあるいはその塩。
  2. 【請求項2】R1が置換されていてもよいC1-6アルカノ
    イル基,置換されていてもよいC3-5アルケノイル基,
    置換されていてもよいC6-10アリール−カルボニル基,
    複素環カルボニル基,置換されていてもよいC1-10アル
    キルスルホニル基,置換されていてもよいC6-10アリー
    ルスルホニル基,置換オキシカルボニル基,置換されて
    いてもよいカルバモイル基,置換されていてもよいチオ
    カルバモイル基,置換されていてもよいC6-10アリール
    −メチル基,置換されていてもよいジC6-10アリール−
    メチル基,置換されていてもよいトリC6-10アリール−
    メチル基,置換されていてもよいC6-10アリール−メチ
    レン基,置換されていてもよいC6-10アリールチオ基,
    置換シリル基,2−C1-10アルコキシ−カルボニル−1
    −メチル−1−エテニル基または式M'OCO−〔式
    中、M'はアルカリ金属を示す。〕で表される基で保護
    されていてもよいアミノ基である請求項1記載の化合
    物。
  3. 【請求項3】R1がアミノ基である請求項1記載の化合
    物。
  4. 【請求項4】R2が水素原子、置換されていてもよい炭
    化水素基または置換されていてもよい非芳香族複素環基
    である請求項1記載の化合物。
  5. 【請求項5】R2が複素環基,C1-6アルコキシ基,C
    3-7シクロアルキルオキシ基,C6-10アリールオキシ
    基,C7-19アラルキルオキシ基,複素環オキシ基,メル
    カプト基,C1-6アルキルチオ基,C3-10シクロアルキ
    ルチオ基,C6-10アリールチオ基,C7-19アラルキルチ
    オ基,複素環チオ基,アミノ基,モノC1-6アルキルア
    ミノ基,ジC1-6アルキルアミノ基,トリC1-6アルキル
    アンモニウム基,C3-10シクロアルキルアミノ基,C
    6-10アリールアミノ基,C7-19アラルキルアミノ基,複
    素環アミノ基,環状アミノ基,アジド基,ニトロ基,ハ
    ロゲン原子,シアノ基,カルボキシル基,C1-10アルコ
    キシ−カルボニル基,C1-10アリールオキシ−カルボニ
    ル基,C7-19アラルキルオキシ−カルボニル基,C6-10
    アリール−アシル基,C1-6アルカノイル基,C3-5アル
    ケノイル基,C6-10アリール−アシルオキシ基,C2-6
    アルカノイルオキシ基,C3-5アルケノイルオキシ基,
    カルバモイル基,チオカルバモイル基,カルバモイルオ
    キシ基,フタルイミド基,C1-6アルカノイルアミノ
    基,C6-10アリール−アシルアミノ基,C1-10アルコキ
    シ−カルボキサミド基,C6-10アリールオキシ−カルボ
    キサミド基およびC7-19アラルキルオキシ−カルボキサ
    ミド基から選ばれた1ないし4個の置換基でそれぞれ置
    換されていてもよいC1-6アルキル,C2-6アルケニルま
    たは3ないし7員非芳香族環状炭化水素基である請求項
    1記載の化合物。
  6. 【請求項6】R2が水酸基,C3-7シクロアルキル基,C
    1-6アルコキシ基,C1-6アルキルチオ基,アミノ基,ト
    リC1-6アルキルアンモニウム基,ハロゲン原子,カル
    ボキシル基,C1-10アルコキシ−カルボニル基,カルバ
    モイル基,シアノ基,アジド基および複素環基から選ば
    れた1ないし3個の置換基で置換されていてもよいC
    1-6アルキル基である請求項1記載の化合物。
  7. 【請求項7】R2が(1)C1-3アルキル基、(2)ハロゲン原
    子,水酸基,C1-6アルコキシ基,カルボキシル基,C
    1-10アルコキシ−カルボニル基またはシアノ基で置換さ
    れたC1-3アルキル基または(3)アリル基である請求項1
    記載の化合物。
  8. 【請求項8】R2が水素原子、C1-6アルキル基またはC
    3-7シクロアルキル基である請求項1記載の化合物。
  9. 【請求項9】R2が水素原子、C2-4アルケニル基、シク
    ロペンチル基、または1ないし3個のハロゲン原子で置
    換されていてもよいC1-4アルキル基である請求項1記
    載の化合物。
  10. 【請求項10】R2がシクロペンチル基である請求項1
    記載の化合物。
  11. 【請求項11】R2が1ないし3個のハロゲン原子で置
    換されていてもよいC1-4アルキル基である請求項1記
    載の化合物。
  12. 【請求項12】R2がフルオロC1-4アルキル基である請
    求項1記載の化合物。
  13. 【請求項13】 【化3】 で表される基であり、Bがヘテロ原子が1または2個の
    窒素原子である6員芳香族複素環であり、R3が複素環
    基,水酸基,C1-6アルコキシ基,C3-7シクロアルキル
    オキシ基,C6-10アリールオキシ基,C7-19アラルキル
    オキシ基,複素環オキシ基,メルカプト基,C1-6アル
    キルチオ基,C3-10シクロアルキルチオ基,C6-10アリ
    ールチオ基,C7-19アラルキルチオ基,複素環チオ基,
    アミノ基,モノC1-6アルキルアミノ基,ジC1-6アルキ
    ルアミノ基,トリC1-6アルキルアンモニウム基,C
    3-10シクロアルキルアミノ基,C6-10アリールアミノ
    基,C7-19アラルキルアミノ基,複素環アミノ基,環状
    アミノ基,アジド基,ニトロ基,ハロゲン原子,シアノ
    基,カルボキシル基,C1-10アルコキシ−カルボニル
    基,C1-10アリールオキシ−カルボニル基,C7-19アラ
    ルキルオキシ−カルボニル基,C6-10アリール−アシル
    基,C2-6アルカノイルオキシ基,C2-5アルケノイルオ
    キシ基,カルバモイル基,チオカルバモイル基,カルバ
    モイルオキシ基,フタルイミド基,C1-6アルカノイル
    アミノ基,C6-10アリール−アシルアミノ基,C1-10
    ルコキシ−カルボキサミド基,C6-10アリールオキシ−
    カルボキサミド基およびC7-19アラルキルオキシ−カル
    ボキサミド基から選ばれた1ないし4個の置換基でそれ
    ぞれ置換されていてもよいC1-6アルキル,C2-6アルケ
    ニルまたはC2-6アルキニル基であり、式[A1]または
    [A2]中のイミダゾール環および/または環B上の置
    換基が水酸基,ヒドロキシC1-6アルキル基,C1-6アル
    キル基,C2-6アルケニル基,C2-6アルキニル基,C
    3-10シクロアルキル基,C5-6シクロアルケニル基,C
    3-10シクロアルキル−C1-6アルキル基,C6-10アリー
    ル基,C7-12アラルキル基,複素環基,C1-6アルコキ
    シ基,C1-6アルコキシ−C1-6アルキル基,アミノC1
    -6アルコキシ基,C3-10シクロアルキルオキシ基,C
    6-10アリールオキシ基,C7-19アラルキルオキシ基,メ
    ルカプト基,メルカプトC1-6アルキル基,スルホ基,
    スルホC1-6アルキル基,C1-6アルキルチオ基,C1-6
    アルキルチオ−C1-6アルキル基,C3-10シクロアルキ
    ルチオ基,C6-10アリールチオ基,C7-19アラルキルチ
    オ基,アミノC1-6アルキルチオ基,アミノ基,アミノ
    1-6アルキル基,モノC1-6アルキルアミノ基,ジC
    1-6アルキルアミノ基,モノC1-6アルキルアミノ−C
    1-6アルキル基,ジC1-6アルキルアミノ−C1-6アルキ
    ル基,C3-10シクロアルキルアミノ基,C6-10アリール
    アミノ基,C7-19アラルキルアミノ基,環状アミノ基,
    環状アミノC1-6アルキル基,環状アミノC1-6アルキル
    アミノ基,アシルアミノ基,ウレイド基,C1-6アルキ
    ルウレイド基,アジド基,ニトロ基,ハロゲン原子,ハ
    ロゲノC1-6アルキル基,シアノ基,シアノC1-6アルキ
    ル基,カルボキシル基,カルボキシC1-6アルキル基,
    1-10アルコキシ−カルボニル基,C1-10アルコキシ−
    カルボニルC1-6アルキル基,C6-10アリールオキシ−
    カルボニル基,C7-19アラルキルオキシ−カルボニル
    基,C6-10アリール−アシル基,C1-6アルカノイル
    基,C2-6アルカノイル−C1-6アルキル基,C3-5アル
    ケノイル基,C6-10アリール−アシルオキシ基,C2-6
    アルカノイルオキシ基,C2-6アルカノイルオキシ−C
    1-6アルキル基,C3-5アルケノイルオキシ基,カルバモ
    イルC1-6アルキル基,カルバモイル基,チオカルバモ
    イル基,カルバモイルオキシ基,カルバモイルオキシC
    1-6アルキル基,C1-6アルカノイルアミノ基,C6-10
    リール−アシルアミノ基,スルホンアミド基,カルボキ
    シアミノ基,C1-10アルコキシ−カルボキサミド基,C
    6-10アリールオキシ−カルボキサミド基およびC7-19
    ラルキルオキシ−カルボキサミド基から選ばれた1また
    は2個の置換基である請求項1記載の化合物。
  14. 【請求項14】 【化4】 (式中の記号は請求項1記載と同意義を示す)で表され
    る基である請求項1記載の化合物。
  15. 【請求項15】 【化5】
  16. 【請求項16】 【化6】
  17. 【請求項17】 【化7】
  18. 【請求項18】R3が水酸基,C3-7シクロアルキル基,
    1-6アルコキシ基,C1-6アルキルチオ基,アミノ基,
    ハロゲン原子,カルボキシル基,C1-10アルコキシ−カ
    ルボニル基,カルバモイル基,シアノ基,アジド基およ
    び複素環基から選ばれた1ないし3個の置換基で置換さ
    れていてもよいC1-6アルキル基である請求項1記載の
    化合物。
  19. 【請求項19】R3がC1-3アルキル基または水酸基,カ
    ルボキシル基またはカルバモイル基で置換されたC1-6
    アルキル基である請求項1記載の化合物。
  20. 【請求項20】R3がメチル、エチル、カルバモイルメ
    チル、2−ヒドロキシエチル、アセトニルまたはアリル
    である請求項1記載の化合物。
  21. 【請求項21】R3がメチルまたはカルバモイルメチル
    である請求項1記載の化合物。
  22. 【請求項22】式 【化8】 〔式中、R1は保護されていてもよいアミノ基を、R2'
    は水素原子、C2-4アルケニル基、シクロペンチル基、
    または1ないし3個のハロゲン原子で置換されていても
    よいC1-4アルキル基を、 【化9】 (式中、R3'はC2-4アルケニル基、または水酸基,カ
    ルボキシル基またはカルバモイル基で置換されていても
    よいC1-4アルキル基を、R3''は水素原子、アミノ基ま
    たはカルバモイル基を示す)で表される基を示す。〕で
    表されるセフェム化合物またはそのエステルあるいはそ
    の塩である請求項1記載の化合物。
  23. 【請求項23】式 【化10】 〔式中、R1は保護されていてもよいアミノ基を、R2'
    は水素原子、C2-4アルケニル基、シクロペンチル基、
    または1ないし3個のハロゲン原子で置換されていても
    よいC1-4アルキル基を、R3'''はC2-4アルケニル基、
    またはカルバモイル基で置換されていてもよいC1-4
    ルキル基を示す。〕で表されるセフェム化合物またはそ
    のエステルあるいはその塩である請求項22記載の化合
    物。
  24. 【請求項24】R2'がシクロペンチル基、または1ない
    し3個のハロゲン原子で置換されていてもよいC1-4
    ルキル基であり、R3'''がカルバモイル基で置換されて
    いてもよいC1-4アルキル基である請求項23記載の化
    合物。
  25. 【請求項25】7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−
    チアジアゾール−3−イル)−2(Z)−シクロペンチル
    オキシイミノアセトアミド〕−3−〔(E)−2−(1−
    メチルイミダゾ〔1,2−b〕ピリダジニウム−6−イ
    ル)チオ〕ビニル−3−セフェム−4−カルボキシレー
    トまたはそのエステルあるいはその塩である請求項1記
    載の化合物。
  26. 【請求項26】7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−
    チアジアゾール−3−イル)−2(Z)−エトキシイミノ
    アセトアミド〕−3−〔(E)−2−(1−メチルイミダ
    ゾ〔1,2−b〕ピリダジニウム−6−イル)チオ〕ビ
    ニル−3−セフェム−4−カルボキシレートまたはその
    エステルあるいはその塩である請求項1記載の化合物。
  27. 【請求項27】7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−
    チアジアゾール−3−イル)−2(Z)−フルオロメトキ
    シイミノアセトアミド〕−3−〔(E)−2−(1−メチ
    ルイミダゾ〔1,2−b〕ピリダジニウム−6−イル)
    チオ〕ビニル−3−セフェム−4−カルボキシレートま
    たはそのエステルあるいはその塩である請求項1記載の
    化合物。
  28. 【請求項28】7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−
    チアジアゾール−3−イル)−2(Z)−フルオロメトキ
    シイミノアセトアミド〕−3−〔(E)−2−(1−カル
    バモイルメチルイミダゾ〔1,2−b〕ピリダジニウム
    −6−イル)チオ〕ビニル−3−セフェム−4−カルボ
    キシレートまたはそのエステルあるいはその塩である請
    求項1記載の化合物。
  29. 【請求項29】式 【化11】 〔式中の記号は請求項1記載と同意義を示す。〕で表さ
    れる化合物またはそのエステルあるいはその塩と式 【化12】 〔式中の記号は請求項1記載と同意義を示す。〕で表さ
    れるカルボン酸またはその塩もしくは反応性誘導体とを
    反応させ、必要に応じて保護基を除去することを特徴と
    する請求項1記載の化合物の製造法。
  30. 【請求項30】式 【化13】 【化14】 その他の記号は請求項1記載と同意義を示す。〕で表さ
    れる化合物またはそのエステルあるいはその塩と、式R
    3−X〔式中、Xはハロゲン原子を、R3は請求項1記載
    と同意義を示す。〕で表される化合物を反応させ、必要
    に応じて保護基を除去することを特徴とする請求項1記
    載の化合物の製造法。
  31. 【請求項31】式 【化15】 〔式中の記号は請求項1記載と同意義を示す。〕で表さ
    れる化合物またはそのエステルあるいはその塩を脱酸素
    反応に付し、必要に応じて保護基を除去することを特徴
    とする請求項1記載の化合物の製造法。
  32. 【請求項32】請求項1記載の化合物を含有する医薬。
  33. 【請求項33】抗菌剤である請求項32記載の医薬。
  34. 【請求項34】抗MRSA剤である請求項32記載の医
    薬。
JP8012998A 1995-01-30 1996-01-29 セフェム化合物、その製造法および抗菌組成物 Withdrawn JPH08337585A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8012998A JPH08337585A (ja) 1995-01-30 1996-01-29 セフェム化合物、その製造法および抗菌組成物

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1273995 1995-01-30
JP7-12739 1995-01-30
JP8551795 1995-04-11
JP7-85517 1995-04-11
JP8012998A JPH08337585A (ja) 1995-01-30 1996-01-29 セフェム化合物、その製造法および抗菌組成物

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH08337585A true JPH08337585A (ja) 1996-12-24

Family

ID=27279968

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP8012998A Withdrawn JPH08337585A (ja) 1995-01-30 1996-01-29 セフェム化合物、その製造法および抗菌組成物

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH08337585A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1999019330A1 (fr) * 1997-10-10 1999-04-22 Fujisawa Pharmaceutical Co., Ltd. Nouveaux composes de cephem
WO2000023450A1 (fr) * 1998-10-21 2000-04-27 Takeda Chemical Industries, Ltd. Derives fusionnes de pyridazine, procede de preparation correspondant et utilisation de ces derives

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1999019330A1 (fr) * 1997-10-10 1999-04-22 Fujisawa Pharmaceutical Co., Ltd. Nouveaux composes de cephem
WO2000023450A1 (fr) * 1998-10-21 2000-04-27 Takeda Chemical Industries, Ltd. Derives fusionnes de pyridazine, procede de preparation correspondant et utilisation de ces derives

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0203271B1 (en) Antibacterial compounds, their production and use
JPH07133280A (ja) セフェム化合物、その製造法および抗菌組成物
KR920008953B1 (ko) 항균 화합물의 제조방법
EP0164113B1 (en) 3-pyrazolo(1,5-a)pyridinium cephem compounds, their production and use
US4826834A (en) Cephem compounds
US4864022A (en) 3-Condensed imidazolium-cephem compounds
KR920004837B1 (ko) 세펨화합물의 제조방법
JP3927262B2 (ja) セフェム化合物、その製造法および抗菌組成物
EP0225634B1 (en) Antibacterial compounds, their production and use
WO1996023798A1 (en) Cephem compounds, their production and use
JPH08337585A (ja) セフェム化合物、その製造法および抗菌組成物
JPH07101958A (ja) セフェム化合物、その製造法および抗菌組成物
JPH0859669A (ja) セフェム化合物、その製造法及び剤
JPH06128268A (ja) セフェム化合物、その製造法および抗菌組成物
JPH07101960A (ja) セフェム化合物、その製造法および抗菌組成物
JPH0830070B2 (ja) 抗菌性化合物
KR930007265B1 (ko) 항균 화합물의 제조방법
JPH0761987A (ja) セフェム化合物、その製造法および抗菌組成物
KR920004836B1 (ko) 항균 화합물의 제조방법
JPH0948785A (ja) セフェム化合物、その製造法および抗菌組成物
WO1996038451A1 (en) Cephem compounds, their production and use
EP0160969A2 (en) Cephem compounds
JPH08311072A (ja) セフェム化合物、その製造法および抗菌組成物
JPH0830069B2 (ja) 抗菌性化合物
EP0229369A2 (en) Cephalosporins, process for their preparation and pharmaceutical compositions containing them

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20030401